JP4329440B2 - マスク、カラーフィルタ基板、カラーフィルタ基板の製造方法、電気光学装置、電気光学装置の製造方法、及び電子機器 - Google Patents

Description

本発明は、露光装置等に用いられるマスク、そのマスクを用いて製造されるカラーフィルタ基板、そのカラーフィルタ基板の製造方法、カラーフィルタ基板を用いて構成される電気光学装置、その電気光学装置の製造方法、及びカラーフィルタ基板を用いて構成される電子機器に関する。

携帯情報端末機、携帯電話機等といった電子機器において液晶装置、エレクトロルミネッセンス装置等といった電気光学装置が広く使用されている。例えば、電子機器に関する各種情報を映像として表示するために電気光学装置が使用されている。電気光学装置においては、液晶、有機ＥＬ等といった電気光学物質の層の片側に光反射層を設け、太陽光、室内光等といった外部光をその光反射層によって反射させて、その反射光を用いて表示を行うことがある。このような表示形態は、反射型表示を呼ばれることがある。また、反射光の進行経路上にカラーフィルタ基板を設けることにより、カラー表示を行うことも従来から行われている。

上記の反射型表示を行う電気光学装置において、従来、例えば図１４に示すように、光反射層２００の表面に複数の凹部２０１又は複数の凸部２０１を形成し、この光反射層２００で反射する光を適度に散乱させることにより、表示品質を向上させたものがある。この場合、複数の凹部２０１又は複数の凸部２０１の平面パターンは、カラーフィルタ基板２０２内のカラーフィルタ２０３を構成する着色要素２０４の色の組み合わせ単位ごとに決められている。

例えば、カラーフィルタがＲ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）やＣ（シアン）、Ｍ（マゼンタ）、Ｙ（イエロー）等といった３色の着色要素２０４によって構成され、各着色要素によって構成される表示用ドットＤの３つの集まりによって１つの画素Ｅが構成される場合には、それら３つの表示用ドットＤに相当する面積が凹部又は凸部の平面パターンの単位面積Ａ０として設定され、その単位面積Ａ０の平面パターンを平面的につなぎ合わせることによって光反射層２００上の全体の凹凸パターンが決定されている。

また、単位面積Ａ０内において、複数の凹部２０１又は複数の凸部２０１の平面パターンの形状は各着色要素２０４に対応する領域間で同一であった。すなわち、複数の凹部２０１又は複数の凸部２０１の平面的な径及び平面内での面積密度は、各着色要素２０４に対応する領域間で同一であった（例えば、特許文献１参照）。

なお、光反射層２００上において、複数の凹部２０１又は複数の凸部２０１の平面内での面積密度とは、凹部又は凸部２０１の１つの平面的な面積を「ａ」とし、１つの着色要素２０４に対応する領域内に存在する凹部又は凸部２０１の数を「ｎ」とし、１つの着色要素２０４に対応する領域の面積を「Ａ」とするとき、
ａ×ｎ／Ａ
によって表わされる数値である。なお、「面積密度」は、一つの着色要素だけでなく、Ｒ、Ｇ、Ｂの３つの着色要素で構成される領域で定義することも可能である。

特開２００３−７５９８７（図２）

しかしながら、上記従来の電気光学装置では、光反射層２００上に形成された複数の凹部２０１又は複数の凸部２０１がＲ，Ｇ，Ｂの各色着色要素２０４に対応する各領域間で同じ径及び同じ面積密度で形成されていた。そのため、光反射層２００で反射して各色着色要素２０４を透過した散乱光の強度が、Ｒ，Ｇ，Ｂの各色色剤の屈折率の違いに起因して、見る角度に応じて散乱特性が着色要素２０４ごとに変化する。すなわち、散乱光強度の角度依存性が色によって変わってしまう。これにより、観察者が電気光学装置の表示部を見る場合に、視角を変化させると表示の色が変化するという現象、例えば、玉虫状の色彩変化、あるいは色味の段階的変化が発生するという問題があった。

本発明は、このような問題点を解消するために成されたものであって、光反射層の表面に複数の凹部又は凸部を形成して反射光を散乱させた上でカラー表示を行う場合に、見る角度に応じて色の見え方が変化する現象を軽減することを目的とする。

上記の目的を達成するため、本発明に係るマスクは、Ｒ，Ｇ，Ｂの３種類からなる着色要素を含む着色層に対向して設けられる光反射層の表面に複数の凸部又は複数の凹部を形成するための複数の開口を有するマスクにおいて、Ｒ着色要素及びＧ着色要素に対応する領域の開口の径は同じ又は略同じであり、Ｂ着色要素に対応する領域の開口の径はＲ着色要素及びＧ着色要素に対応する領域の開口の径よりも大きいことを特徴とする。

一般に、カラーフィルタ基板上の光散乱膜の凹凸パターンは、フォトリソグラフィ法等を用いて形成される。本発明のマスクは、そのフォトリソグラフィ法を実施するための１つの工程、例えば露光工程において用いられる。

上記の本発明に係るマスクによれば、露光光を透過させるための複数の開口の形状及び面積密度が、着色要素の色ごとに変化することになるので、このマスクを用いて凹凸パターンを形成した反射層で光を反射させて表示を行ったとき、各色着色要素を透過した散乱光の角度依存性が各色着色要素間で同じになるように補正できる。そのため、その補正により、見る角度に応じて色の見え方が変化する現象を軽減することができる。一般に、Ｂ着色要素は、Ｒ着色要素及びＧ着色要素に比べて反射時の散乱角度が狭い。従って、Ｂ着色要素に対応する開口の径を大きくして対応する凹部又は凸部の面積を大きくすることにより、Ｂ着色要素に関する光の散乱角度を広くして、他色着色要素に関する散乱角度に近づけることができるからである。

なお、上記構成の本発明に係るマスクにおいては、色が異なる着色要素を透過する光の散乱特性が互いに同じ又は略同じになるように、前記開口の大きさ及び／又は前記面積密度を着色要素に対応する領域ごとに変えることが望ましい。こうすれば、当該マスクを用いて凹凸パターンを形成して成る反射層で光を反射させて表示を行ったとき、各色着色要素を透過した散乱光の角度依存性が各色着色要素間で同じになるので、見る角度に応じて色の見え方が変化する現象を軽減することができる。

また、本発明に係るマスクにおいては、Ｒ着色要素及びＧ着色要素に対応する領域の開口の径は９μｍであり、Ｂ着色要素に対応する領域の開口の径は１０μｍであり、さらに、開口の面積密度はＲ着色要素、Ｇ着色要素及びＢ着色要素に対応する各領域間で同じ又は略同じにすることが望ましい。こうすれば、このマスクを用いて反射層の表面に凹凸パターンを形成し、その反射層で反射する反射光を用いて表示を行ったとき、見る角度に応じて色の見え方が変化する現象を軽減することができる。

次に、本発明に係るカラーフィルタ基板は、表面に複数の凸部又は複数の凹部が形成された光反射層と、該光反射層に重ねて設けられると共にＲ，Ｇ，Ｂの３種類の着色要素を含む着色層とを有するカラーフィルタ基板において、Ｒ着色要素及びＧ着色要素に対応する領域に存在する前記凸部又は前記凹部の径は同じ又は略同じであり、Ｂ着色要素に対応する領域の前記凸部又は前記凹部の径は、Ｒ着色要素及びＧ着色要素に対応する領域の前記凸部又は前記凹部の径よりも大きいことを特徴とする。

この構成のカラーフィルタ基板によれば、光反射層上の凹凸パターンが着色要素の色ごとに変化するので、この光反射層で光を反射させて表示を行ったとき、各色着色要素を透過した散乱光の角度依存性が各色着色要素間で同じになるように補正できる。そして、その補正により、見る角度に応じて色の見え方が変化する現象を軽減することができる。一般に、Ｂ着色要素は、Ｒ着色要素及びＧ着色要素に比べて狭い角度範囲で強い散乱強度を持つ。従って、Ｂ着色要素に対応する前記凸部又は前記凹部の径を大きくすることにより、Ｂ着色要素に関する光の散乱角度を広くして、他色着色要素に関する散乱角度に近づけることができるからである。

上記構成のカラーフィルタ基板においては、色が異なる着色要素を透過する光の散乱特性が互いに同じ又は略同じになるように、前記凸部又は前記凹部の平面的な大きさ及び／又は前記凸部又は前記凹部の平面的な面積密度を着色要素に対応する領域ごとに変えることが望ましい。こうすれば、光反射層で光を反射させて表示を行ったとき、各色着色要素を透過した散乱光の角度依存性が各色着色要素間で同じになるので、見る角度に応じて色の見え方が変化する現象を軽減することができる。

次に、本発明に係るカラーフィルタ基板の製造方法は、表面に複数の凸部又は複数の凹部を有する樹脂膜を形成する工程と、
前記樹脂膜上に光反射層を形成する工程と、Ｒ，Ｇ，Ｂの３種類の着色要素を前記光反射層上に所定の平面パターンで形成する工程とを有し、
Ｒ着色要素及びＧ着色要素に対応する領域に存在する前記凸部又は前記凹部の径は同じ又は略同じであり、
Ｂ着色要素に対応する領域の前記凸部又は前記凹部の径は、Ｒ着色要素及びＧ着色要素に対応する領域の前記凸部又は前記凹部の径よりも大きいことを特徴とする。

この製造方法によって製造されたカラーフィルタ基板によれば、光反射層上の凹凸パターンが着色要素の色ごとに変化するので、この光反射層で光を反射させて表示を行ったとき、各色着色要素を透過した散乱光の角度依存性が各色着色要素間で同じになるように補正できる。そして、その補正により、見る角度に応じて色の見え方が変化する現象を軽減することができる。一般に、Ｂ着色要素は、Ｒ着色要素及びＧ着色要素に比べて反射時の散乱角度が狭い。従って、Ｂ着色要素に対応する前記凸部又は前記凹部の径を大きくすることにより、Ｂ着色要素に関する光の散乱角度を広くして他色着色要素に関する散乱角度に近づけることができるからである。

上記構成のカラーフィルタ基板の製造方法においては、色が異なる着色要素を透過する光の散乱特性が互いに同じ又は略同じになるように、前記凸部又は前記凹部の平面的な大きさ及び／又は前記凸部又は前記凹部の平面的な面積密度を着色要素に対応する領域ごとに変えることが望ましい。こうすれば、この製造方法によって製造されたカラーフィルタ基板の光反射層で光を反射させて表示を行ったとき、各色着色要素を透過した散乱光の角度依存性が各色着色要素間で同じになるので、見る角度に応じて色の見え方が変化する現象を軽減することができる。

次に、本発明に係る電気光学装置は、以上に記載した構成のカラーフィルタ基板と、該カラーフィルタ基板上に設けられた電気光学物質層とを有することを特徴とする。この電気光学装置によれば、視角を変えても表示色に変化が生じない表示を行うことができる。電気光学物質としては液晶、有機ＥＬ、プラズマガス等を用いることができる。液晶を用いる電気光学装置は液晶装置であり、有機ＥＬを用いる電気光学装置はＥＬ装置であり、プラズマガスを用いる電気光学装置はＰＤＰ（Plasma Display）である。

次に、本発明に係る電気光学装置の製造方法は、以上に記載した構成のカラーフィルタ基板の製造方法を実施する工程を有することを特徴とする。この製造方法によれば、視角を変えても表示色に変化が生じない表示を行うことができる電気光学装置を製造できる。

次に、本発明に係る電子機器は、以上に記載した構成の電気光学装置と、該電気光学装置の動作を制御する制御装置とを有することを特徴とする。この電子機器によれば、視角を変えても表示色に変化が生じない表示を行うことができる。このような電子機器としては、携帯電話機、携帯情報端末機、ＰＤＡ（Personal Digital Assistant）等がある。

（マスクの実施形態）
以下、本発明に係るマスクを一実施形態を挙げて説明する。図１（ａ）及び図１（ｂ）は、マスクの一実施形態を示している。図１（ａ）は平面図であり、図１（ｂ）はＡ−Ａ線に従った断面図である。ここに示すマスク１は、透光性を有するガラスや透光性を有するプラスチック等によって形成された基材２と、その基材２の上に形成された遮光膜３とを有する。遮光膜３には、複数の透光用の開口４が設けられている。このマスク１を使って露光対象物、例えばレジストを露光する場合を考えれば、露光光は図１（ｂ）において矢印Ｂで示すように基材２側から照射されて開口４を通過する。なお、マスク１の全面領域の大きさＬ１×Ｌ２は、露光装置の構造に対応して決められるものであり、例えば、４５０ｍｍ×５５０ｍｍ程度である。

開口４を通過した光は露光対象物、例えばレジストに照射される。このレジストがポジ型であれば、その露光部分が可溶性となって現像後に穴すなわち凹部になる。一方、レジストがネガ型であれば、その露光部分が不溶性となって現像後に実在部として突状に残って凸部となる。

上記複数の開口４は、図１（ａ）において平面的に不規則、すなわちランダムに並べられている。図では、開口４を分かり易く示すために、実際よりも大きく且つ少ない数で描いてあるが、実際のところ、開口４は、例えば最大外径が７〜１０μｍ程度という非常に小さいものであり、その数も図示の状態より多数であって、より高い面積密度となっている。また、図１（ａ）では、開口４が円形となっているが、図２に示すような６角形、あるいはその他の多角形とすることができる。なお、上記のように最大外径といったときには、円形ならばその直径を示し、多角形ならば図２における対角径Ｄ１を示すものとする。

図１（ａ）において、複数の開口４の配列パターンが平面的にランダムであることは既述の通りであるが、複数の開口４の配列パターンは、まず初めに単位領域Ａ０の中に存在する複数の開口４に関してその配列がランダムに設定された後、その単位領域Ａ０を平面的につなぎ合せてマスク１の全面領域に複数の開口４を配列するという方法によって形成される。つまり、マスク１の全面領域における開口４の配列は、単位面積Ａ０内の開口４のランダムな配列の繰り返しによって形成される。

表示装置における光反射層の表面に凹凸パターン、すなわち凹凸模様を形成するためにマスク１を用いる場合を考えれば、この単位面積Ａ０は、表示の最小単位である表示用ドットと関連させて設定することが望ましい。図３は、単位面積Ａ０の設定の仕方の一例を示している。図３において、符号Ｄは液晶装置、ＥＬ装置等といった表示装置における表示の最小単位である表示用ドットの大きさを示している。また、符号６は、Ｒ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）の３色によってカラーフィルタを構成する場合の各色の着色要素を示している。各着色要素６は、１つの表示用ドットと略同じ面積である。図３では、横方向ＹにＲ−Ｇ−Ｂの順に着色要素６が配列された状態を示している。一般に、カラー表示を行う場合にはＲ色着色層、Ｇ色着色層、Ｂ色着色層の３つの着色層によって１画素が形成される。つまり、３つの表示用ドットＤによって１画素が形成される。図３では、符号Ｅによって１画素を示している。

マスク１において複数の開口４を形成するにあたって必要となる単位面積Ａ０は、本実施形態では、Ｒ着色要素６及びＧ着色要素６のそれぞれに対応する領域に存在する開口４ａに関しては、それらの穴径が同じ大きさに設定され、さらに面積密度が同じ値に設定されている。ここで、面積密度とは、１つの開口４の面積を「ａ」とし、１つの着色要素６に相当する面積内の開口４の数を「ｎ」とし、１つの着色要素６に相当する面積を「Ａ」とするとき、
ａ×ｎ／Ａ
によって表される値である。例えば、開口４は直径９μｍに設定される。

一方、Ｂ着色要素６に対応する領域に存在する開口４ｂに関しては、その開口径はＲ着色要素６及びＧ着色要素６の開口４ａよりも大きく、例えば直径１０μｍに設定される。さらに、Ｂ着色要素６の開口４ｂの面積密度は、Ｒ着色要素６及びＧ着色要素６の開口４ａの面積密度と同じに設定されている。

マスク１の全面の開口パターンは単位面積Ａ０を、例えば図４（ａ）又は図４（ｂ）のようにつなぎ合わせることによって決められる。また、着色要素６は、例えば、図７に示すような縦ストライプ配列で並べられる。つまり、本実施形態では、Ｒ，Ｇ，Ｂのうち同色の着色要素６に対応する領域に存在する開口４の個々の大きさ及び各領域内での面積密度は互いに同じであり、しかし、色が異なる着色要素６に対応する領域に存在する開口４の個々の大きさ及び／又は各領域内での面積密度は、それらの領域間で互いに異なっている。

なお、複数の開口４の中心点を単位領域Ａ０内でランダムに配置する方法は種々考えられるが、例えば、乱数を発生するコンピュータソフトを用いてコンピュータの演算によって決める方法や、ランダム関数に従ってコンピュータの演算によって決める方法や、人為的に決める方法等がある。人為的に決める方法というのは、例えば、内径５ｍｍ程度の多数、例えば２０００個程度のリング部材をＸＹ座標が描かれた平面上にばら撒くことにより、それらのリング部材をＸＹ座標上にランダムに配置させた上で、各リング部材のＸＹ座標を読み取ることにより、ランダムな配列のデータをＸＹ座標によって規定するという方法である。

複数の開口４がランダムに配列されて成るマスク１を製造する方法としては、例えば、露光装置を用いた次のような方法が考えられる。まず、上記のようにして複数の開口４についてランダムな配列状態が座標情報として決められた後、その座標情報を露光装置に入力する。ここで入力するデータは単位面積Ａ０内におけるランダムデータである。この露光装置は、入力された単位面積Ａ０に関するデータを、例えば図４（ａ）又は図４（ｂ）に示すように平面的につなぎ合わせてマスク１の全面にわたってのランダムデータを作成する。

一方、遮光性を有する感光性樹脂、例えばレジストを図１（ｂ）の基材２上に一様な厚さで形成する。次に、上記の露光装置により、マスク１の全面にわたるランダムデータに基づいてレジストの表面を露光する。このとき、Ｒ着色要素６及びＧ着色要素６の開口４ａの径、例えば直径は同じ大きさに形成される。そして、Ｂ着色要素６の開口４ｂの径はＲ着色要素６及びＧ着色要素６の開口４ａよりも大きく形成される。なお、発明者等の実験によれば、開口４ａ及び４ｂの中心点を単位領域Ａ０内でランダムに配列すれば、開口４ａ及び開口４ｂの面積密度は各着色要素６の間で同じ又は略同じになることが分かった。しかしながら、複数の開口４を単位領域Ａ０内でランダムに並べる際に、各着色要素６に対応する領域内で開口４の面積密度が同じになるようにコンピュータソフトを構成しても良い。次に、露光後のレジストを現像することにより、ランダムに並べられた複数の開口４が基材２上に形成される。

以上のように、本実施形態では、図３において、露光光を透過させるための複数の開口４の形状を、Ｒ，Ｇ着色要素６とＢ着色要素６との間で変化させたので、このマスク１を用いて反射層の表面に凹凸パターンを形成し、さらにその反射層で光を反射させて表示を行ったとき、各色着色要素６を透過した散乱光の角度依存性が各色着色要素間で同じになるように補正できた。そして、その補正により、見る角度に応じて色の見え方が変化する現象、例えば表示が玉虫状態で見える現象、を軽減することができた。

（変形例）
以上の実施形態では、Ｒ，Ｇ着色要素６とＢ着色要素６との間で開口４の大きさを変化させ、面積密度は各着色要素６間で同じにした。しかしながら、面積密度を各着色要素６間で変化させることもできる。また、上記実施形態では、Ｒ着色要素６とＧ着色要素６との間では開口４の大きさを同じにしたが、これらの着色要素６間でも開口４の大きさを変えることもできる。また、上記実施形態では、Ｒ，Ｇ着色要素６の開口４ａの直径を９μｍに設定し、Ｂ着色要素６の開口４ｂの直径を１０μｍに設定したが、必要に応じて他の寸法を選択することもできる。

（電気光学装置及びカラーフィルタ基板の実施形態）
次に、本発明に係る電気光学装置及びカラーフィルタ基板のそれぞれの一実施形態を説明する。本実施形態では、反射型表示と透過型表示の両方を実現できる、いわゆる半透過反射型の液晶装置であって、アクティブ素子としてＴＦＤ（Thin Film Diode）素子を用いるアクティブマトリクス方式の液晶装置を電気光学装置の一例として挙げるものとする。しかしながら、本発明を適用できる液晶装置はその実施形態に限定されるものでないことは、もちろんである。

図５において、液晶装置１１は、液晶パネル１２と、それに組みつけられる照明装置１３とを有する。液晶パネル１２は、第１基板１４ａと第２基板１４ｂとを環状のシール材１６によって貼り合わせることによって形成されている。第１基板１４ａと第２基板１４ｂとの間には、図６に示すように、スペーサ２４によって維持される隙間、いわゆるセルギャップ２２が形成され、このセルギャップ２２内に液晶が封入されて液晶層２３が形成されている。

図６において、第１基板１４ａは、透光性のガラス、透光性のプラスチック等によって形成された第１基材２１ａを有する。その第１基材２１ａの液晶側表面には樹脂層２５が形成され、その上に反射層２６が形成される。また、反射層２６の上には遮光層２７が形成され、カラー表示の３原色であるＲ（赤），Ｇ（緑），Ｂ（青）の３色の着色要素６がその遮光層２７の間に形成されている。これらの各色の着色要素６は、矢印Ｃ方向から見たときに所定の平面配列、例えば図７に示す縦ストライプ配置に形成されている。この縦ストライプ配置は、図の縦方向Ｘに同じ色の着色要素６が並べられ、横方向Ｙに異なる色の着色要素６が並べられる配列である。なお、必要に応じてその他公知の平面配列を選択することもできる。

このように、Ｒ，Ｇ，Ｂの各色着色要素６が平面内で所定のパターンに並べられることにより着色層２８が構成されている。図９に示すように、個々の着色要素６は１つの表示用ドットＤに対応し、Ｒ，Ｇ，Ｂの３つの着色要素６の集まりによって１つの画素Ｅが形成される。この画素Ｅが多数個、平面上でマトリクス状に並べられることによって表示領域が形成され、複数の画素Ｅを選択的に点灯することにより、その表示領域内に文字、数字、図形等といった像が表示される。

図６において、遮光層２７及び着色要素６から成る着色層２８の上にはオーバーコート層２９が形成され、その上に帯状の透明電極３１ａが形成され、その上に配向膜３２ａが形成される。配向膜３２ａには配向処理、例えばラビング処理が施され、これにより、その配向膜３２ａの近傍の液晶分子の配向が決められる。また、第１基材２１ａの外側表面には、図５において偏光板３３ａが貼着等によって装着されている。

図６において、樹脂層２５は第１層２５ａ及びその上に積層された第２層２５ｂを有する。これらの層は同じ材料によって形成できる。第１層２５ａの表面には複数の凹部３４が矢印Ｃ方向から見て平面的に不規則、すなわちランダムに配置されている。このため、第１層２５ａの上に積層された第２層２５ｂの表面には、これらの凹部３４及びそれに隣接する凸部に対応して凹凸が形成されている。第１層２５ａの表面に形成される凹凸は粗い状態であり、これに第２層２５ｂを積層することにより滑らかな凹凸が得られる。第２層２５ｂの表面、すなわち樹脂層２５の表面に凹凸を設けたことにより、その樹脂層２５に積層された反射層２６の表面にも凹凸が形成される。この凹凸の存在により、反射層２６に入射した光は散乱光となって反射する。また、第１層のみで凹凸の形成を完了することも可能である。

１本の帯状の透明電極３１ａは、図６の紙面垂直方向へ延びており、隣り合う電極３１ａの間には遮光層２７の幅にほぼ一致する間隔が設けられている。これにより、複数の電極３１ａは、矢印Ｃ方向から見てストライプ状に形成されている。

図６において、第１基板１４ａに対向する第２基板１４ｂは、透光性のガラス、透光性のプラスチック等によって形成された第２基材２１ｂを有する。その第２基材２１ｂの液晶側表面には、線状のライン配線３６、アクティブ素子としてのＴＦＤ素子３７及び透明なドット電極３１ｂが形成される。さらに、それらの要素の上に配向膜３２ｂが形成され、その配向膜３２ｂに配向処理、例えばラビング処理が施され、これにより、その配向膜３２ｂの近傍の液晶分子の配向が決められる。第１基板１４ａ側の配向膜３２ａのラビング方向と第２基板１４ｂ側の配向膜３２ｂのラビング方向は、液晶の特性に応じて適宜の角度で交差するようになっている。また、第２基材２１ｂの外側表面には、図５において偏光板３３ｂが貼着等によって装着されている。

図６のドット電極３１ｂは、図５（ａ）に示すように、正方形又は長方形に近いドット形状に形成されており、ＴＦＤ素子３７を介してライン配線３６に接続されている。なお、図５（ａ）では、第２基板１４ｂ側に形成されるドット電極３１ｂ等を実線で示し、第１基板１４ａ側に形成される帯状電極３１ａを鎖線で示している。また、図６は、図５（ａ）のＥ−Ｅ線に従った断面図に相当する。

図５（ａ）に示すように、第１基板１４ａ側の帯状電極３１ａは、第２基板１４ｂ側のライン配線３６と直角の方向に延在し、且つそれと直角な方向に互いに間隔をおいて平行に、すなわち全体としてストライプ状に形成されている。また、個々の帯状電極３１ａは、ライン配線３６と直角の方向に列状に並ぶ複数のドット電極３１ｂに対向するように形成される。そして、ドット電極３１ｂと帯状電極３１ａとが重なる領域が、表示の最小単位である表示用ドットＤを構成する。

図６において、反射層２６には、個々の表示用ドットＤに対応して光通過用の開口３８が設けられている。これらの開口３８は、反射層２６に光を透過させる機能を持たせるための構成であるが、この開口３８を設ける代わりに反射層２６の厚さを薄くして、光を反射する機能と光を透過させる機能の両方を持たせるようにすることもできる。

また、個々の着色要素６は表示用ドットＤに対応して設けられている。着色要素６を用いない白黒表示の場合は１つの表示用ドットＤによって１つの画素が形成されるが、本実施形態のように３色の着色要素６を用いてカラー表示を行う構造の場合には、Ｒ，Ｇ，Ｂの３色の着色要素６の集まりによって１つの画素が形成される。

ＴＦＤ素子３７は、図８に示すように、第１ＴＦＤ要素３７ａと第２ＴＦＤ要素３７ｂとを直列に接続することによって形成されている。このＴＦＤ素子３７は、例えば、次のようにして形成される。すなわち、まず、Ｔａ（タンタル）によってライン配線３６の第１層３６ａ及びＴＦＤ素子３７の第１金属４１を形成する。次に、陽極酸化処理によってライン配線３６の第２層３６ｂ及びＴＦＤ素子３７の絶縁膜４２を形成する。次に、例えばＣｒ（クロム）によってライン配線３６の第３層３６ｃ及びＴＦＤ素子３７の第２金属４３を形成する。

第１ＴＦＤ要素３７ａの第２金属４３はライン配線３６の第３層３６ｃから延びている。また、第２ＴＦＤ要素３７ｂの第２金属４３の先端に重なるように、ドット電極３１ｂが形成される。ライン配線３６からドット電極３１ｂへ向けて電気信号が流れることを考えれば、その電流方向に沿って、第１ＴＦＤ要素３７ａでは第２電極４３→絶縁膜４２→第１金属４１の順に電気信号が流れ、一方、第２ＴＦＤ要素３７ｂでは第１金属４１→絶縁膜４２→第２金属４３の順に電気信号が流れる。

つまり、第１ＴＦＤ要素３７ａと第２ＴＦＤ要素３７ｂとの間では電気的に逆向きの一対のＴＦＤ要素が互いに直列に接続されている。このような構造は、一般に、バック・ツー・バック（Back-to-Back）構造と呼ばれており、この構造のＴＦＤ素子は、ＴＦＤ素子を１個のＴＦＤ要素だけによって構成する場合に比べて、安定した特性を得られることが知られている。

図５において、第２基板１４ｂは第１基板１４ａの外側に張り出す張出し部１７を有し、その張出し部１７の第１基板１４ａ側の表面には配線９及び端子８が形成されている。これらの配線９及び端子８が集まる領域に１つの駆動用ＩＣ７ａ及び２つの駆動用ＩＣ７ｂが図示しないＡＣＦ（Anisotropic Conductive Film：異方性導電膜）によって実装されている。

配線９及び端子８は第２基板１４ｂ上にライン配線３６やドット電極３１ｂを形成するときに同時に形成される。なお、ライン配線３６は張出し部１７の上にそのまま延び出て配線９となって、駆動用ＩＣ７ａに接続されている。また、第１基板１４ａと第２基板１４ｂとを接着するシール材１６の内部には球形又は円筒形の導通材（図示せず）が混入されている。第１基板１４ａ上に形成された帯状電極３１ａは第１基板１４ａの上でシール材１６の所まで引き回された後、シール材１６中の導通材を介して第２基板１４ｂ上の配線９に接続されている。これにより、第１基板１４ａ上の帯状電極３１ａは第２基板１４ｂ上の駆動用ＩＣ７ｂに接続されている。

図５において、液晶パネル１２を構成する第１基板１４ａの外側表面に対向して配設された照明装置１３は、例えば、透明なプラスチックによって形成された方形状で板状の導光体５１と、点状光源としてのＬＥＤ５２とを有する。導光体５１のうち液晶パネル１２と反対側の面には光反射シート（図示せず）を装着することができる。また、導光体５１のうち液晶パネル１２に対向する面には光拡散シート（図示せず）を装着することができる。また、光拡散シートの上に、さらに、プリズムシート（図示せず）を装着することもできる。ＬＥＤ５２は本実施形態では３個使用されているが、ＬＥＤ５２は必要に応じて１個とすることもでき、あるいは、３個以外の複数個とすることもできる。また、ＬＥＤ等といった点状光源に代えて、冷陰極管等といった線状光源を用いることも出来る。

以下、上記構成より成る液晶装置に関してその動作を説明する。太陽光、室内光等といった外部光が十分な場合、図６に矢印Ｆで示すように、外部光が第２基板１４ｂを通して液晶パネル１２の内部へ取り込まれ、この外部光が液晶層２３を通過した後に光反射層２６で反射して液晶層２３へ供給される。

他方、外部光が不十分である場合には、照明装置１３を構成するＬＥＤ５２（図５参照）を点灯する。このとき、ＬＥＤ５２から点状に出た光は導光体５１の入光面５１ａから該導光体５１の内部へ導入され、その後、液晶パネル１２に対向する面、すなわち光出射面５１ｂから面状に出射する。このようにして光出射面５１ｂの各所から出射する光が、図６において矢印Ｇで示すように光反射層２６に形成した開口３８を通って面状の光として液晶層２３へ供給される。

以上のようにして液晶層２３へ光が供給される間、液晶パネル１２に関しては、駆動用ＩＣ７ａ及び７ｂ（図５参照）によって制御されて、ライン配線３６に例えば走査信号が供給され、同時に、帯状電極３１ａに例えばデータ信号が供給される。このとき、走査信号とデータ信号との電位差に応じて特定の表示用ドットに付属するＴＦＤ素子３７が選択状態（すなわち、オン状態）になると、その表示用ドット内の液晶容量に映像信号が書き込まれ、その後、当該ＴＦＤ素子３７が非選択状態（すなわち、オフ状態）になると、その信号は当該表示用ドットに蓄えられて当該表示用ドット内の液晶層を駆動する。

こうして、液晶層２３内の液晶分子が表示用ドットごとに制御され、それ故、液晶層２３を通過する光が表示用ドットＤごとに変調される。そして、このように変調された光が第２基板１４ｂ側の偏光板３３ｂを通過することにより、液晶パネル１２の有効表示領域内に文字、数字、図形等といった像が表示される。反射層２６で反射する外部光を利用して行われる表示が反射型表示である。また、照明装置１３からの光を利用して行われる表示が透過型表示である。本実施形態では、それらの反射型表示及び透過型表示を使用者の希望に応じて、あるいは外部環境の変化に応じて自動的に選択する。

図６の反射層２６を用いて上記の反射型表示を行うとき、反射層２６の表面に設けられた凹凸パターンは矢印Ｃ方向から見て平面的に十分にランダムに配置されていることが望ましい。何故ならば、この凹凸の配置に関して配列の規則性が増すと、反射光に干渉縞が発生して、表示が見難くなるおそれがあるからである。

また、反射層２６の表面に設けられた凹凸パターンのうち凹部同士間の距離は狭過ぎないことが望ましい。すなわち、樹脂層２５の凹凸のうち凹部同士間の距離は狭過ぎないことが望ましい。何故ならば，凹部同士間の距離が狭過ぎると、現像時にその部分において樹脂層２５が基材２１ａから剥がれ易くなるからである。

図９に示すように、反射層２６すなわち樹脂層２５に形成される凹部３４は、単位領域Ａ０内で一定のランダムパターンで並べられる。そして、この単位面積Ａ０を複数個、例えば図４（ａ）又は図４（ｂ）に示すように平面的につなぎ合わせることにより、反射層２６すなわち樹脂層２５の全面にわたる凹凸パターンが決められている。

反射層２６の単位面積Ａ０に関して、本実施形態では、Ｒ着色要素６及びＧ着色要素６のそれぞれに対応する領域に存在する凹部３４ａの径が同じ大きさに設定され、さらに面積密度も同じ値に設定されている。ここで、面積密度とは、凹部３４の1個の面積を「ａ」とし、着色要素６の1個に相当する面積内の凹部３４の数を「ｎ」とし、着色要素６の1個に相当する面積を「Ａ」とするとき、
ａ×ｎ／Ａ
によって表される値である。

一方、Ｂ着色要素６に対応する領域に存在する凹部３４ｂの径はＲ着色要素６及びＧ着色要素６の凹部３４ａよりも大きく、例えば直径１０μｍに設定される。さらに、Ｂ着色要素６の凹部３４ｂの面積密度は、Ｒ着色要素６及びＧ着色要素６の凹部３４ａの面積密度と同じに設定されている。

以上のように、本実施形態では、図９において、凹部３４の平面パターンをＲ，Ｇ着色要素６とＢ着色要素６との間で変化させたので、反射層２６で光を反射させて表示を行ったとき、各色着色要素６を透過した散乱光の角度依存性が各色着色要素間で同じになるように補正できた。そして、その補正により、見る角度に応じて色の見え方が変化する現象、例えば表示が玉虫状態で見える現象、を軽減することができた。

（変形例）
上記の実施形態では、光反射層２６の表面に複数の凹部３４を形成して凹凸パターンを形成したが、これに代えて、複数の凸部３４を形成することによって凹凸パターンを形成することもできる。また、上記の実施形態では、Ｒ，Ｇ着色要素６とＢ着色要素６との間で凹部３４の平面的な大きさを変化させ、面積密度は各着色要素６間で同じにした。しかしながら、面積密度を各着色要素６間で変化させることもできる。また、上記実施形態では、Ｒ着色要素６とＧ着色要素６との間では凹部３４の平面的な大きさを同じにしたが、これらの着色要素６間でも凹部３４の大きさを変えることもできる。

（電気光学装置の製造方法及びカラーフィルタ基板の製造方法の実施形態）
次に、本発明に係る電気光学装置の製造方法及びカラーフィルタ基板の製造方法を実施形態を挙げて説明する。なお、電気光学装置として図５に示した液晶装置を製造する場合を考え、その液晶装置で用いられる図６の第１基板１４ａをカラーフィルタ基板として製造する場合を考えるものとする。なお、図６において、着色層２８が形成される基板はカラーフィルタ基板と呼ばれ、ＴＦＤ素子３７が形成される第２基板１４ｂは素子基板と呼ばれることがある。

図１０は、液晶装置の製造方法の一例を工程図として示している。図１０において、工程Ｐ１から工程Ｐ４が図６の第２基板１４ｂ、すなわち素子基板１４ｂを形成するための工程である。また、工程Ｐ１１から工程Ｐ１８が図６の第１基板１４ａ、すなわちカラーフィルタ基板を形成するための工程である。また、工程Ｐ２１から工程Ｐ２８がそれらの基板を組み合わせて液晶装置を完成させるための工程である。

なお、本実施形態の製造方法では、図５に示す第１基板１４ａ及び第２基板１４ｂを１つずつ形成するのではなく、第１基板１４ａに関しては、複数の第１基板１４ａを形成できる大きさの面積を有する第１マザー基材を用いて複数の第１基板１４ａを同時に形成する。また、第２基板１４ｂに関しては、複数の第２基板１４ｂを形成できる大きさの面積を有する第２マザー基材を用いて複数の第２基板１４ｂを同時に形成する。第１マザー基材及び第２マザー基材は、例えば、透明なガラス、透明なプラスチック等によって形成される。

まず、図１０の工程Ｐ１において、第２マザー基材の表面に図５（ａ）のＴＦＤ素子３７及びライン配線３６を形成する。次に、工程Ｐ２において、図５（ａ）のドット電極３１ｂをＩＴＯを材料としてフォトリソグラフィ処理及びエッチング処理によって形成する。次に、工程Ｐ３において、図６の配向膜３２ｂを塗布や印刷等によって形成し、さらに工程Ｐ４において、その配向膜３２ｂに配向処理、例えばラビング処理を施す。以上により、第２マザー基材の上に複数の第２基板１４ｂが形成されて第２マザー基板が形成される。

次に、図１０の工程Ｐ１１において、第１マザー基材の表面上に図６の樹脂層２５の第１層２５ａを、例えば感光性樹脂を材料としてフォトリソグラフィ処理によって形成する。その第１層２５ａの表面には微細な凹凸パターンが形成される。この凹凸パターンは、例えば、図３に示したマスク１を介して感光性樹脂を露光し、さらに現像することによって得られる。マスク１に形成された露光光を通過させるための複数の開口４は平面内でランダムに並べられているので、これらの開口４に対応して形成される第１層２５ａ上の凹部又は凸部も同様にランダムな配置で形成される。

その後、図６において、第１層２５ａの上に同じ材料の第２層２５ｂを薄く塗布して、樹脂層２５を形成する。第２層２５ｂを積層するのは、凹部又は凸部の表面を滑らかにするためである。次に、図１０の工程Ｐ１２において、図６の反射層２６を、例えばＡｌやＡｌ合金等を材料としてフォトリソグラフィ処理及びエッチング処理によって形成する。このとき、表示用ドットＤごとに開口３８を形成することにより、光反射部Ｒと透光部Ｔを形成する。樹脂層２５の表面には凹凸パターンが形成されているので、その上に積層された反射層２６にも同様の凹凸パターンが形成される。この凹凸パターンを有する反射層２６に光が当って反射する場合には、その反射光は散乱光となる。

次に、工程Ｐ１３において、図６の遮光層２７を、例えばＣｒを材料としてフォトリソグラフィ処理及びエッチング処理によって所定のパターン（例えば、複数の表示用ドットＤの周りを埋めるような格子状パターン）に形成する。次に、図１０の工程Ｐ１４において、図６の着色要素６をＲ，Ｇ，Ｂの各色ごとに順々に形成する。例えば、各色の顔料や染料を感光性樹脂に分散させて成る着色材料をフォトリソグラフィ処理によって所定の配列に形成する。次に、工程Ｐ１５において、図６のオーバーコート層２９を、例えばアクリル樹脂、ポリイミド樹脂等といった感光性樹脂を材料としてフォトリソグラフィ処理によって形成する。

次に、図１０の工程Ｐ１６において、図６の帯状電極３１ａをＩＴＯを材料としてフォトリソグラフィ処理及びエッチング処理によって形成し、さらに工程Ｐ１７において図６の配向膜３２ａを形成し、さらに工程Ｐ１８において配向処理としてのラビング処理を行う。以上により、第１マザー基材の上に複数の第１基板１４ａが形成されて第１マザー基板が形成される。

その後、図１０の工程Ｐ２１において、第１マザー基板と第２マザー基板とを貼り合わせる。これにより、第１マザー基板と第２マザー基板とが個々の液晶装置の領域において図５のシール材１６を挟んで貼り合わされた構造の大面積のパネル構造体が形成される。

次に、以上のようにして形成された大面積のパネル構造体に含まれるシール材１６（図５参照）を、工程Ｐ２２において硬化させて両マザー基板を接着する。次に、工程Ｐ２３において、パネル構造体を１次切断、すなわち１次ブレイクして、図５の液晶パネル１２の複数が１列に並んだ状態で含まれる中面積のパネル構造体、いわゆる短冊状のパネル構造体を複数形成する。シール材１６には予め適所に開口１６ａが形成されており、上記の１次ブレイクによって短冊状のパネル構造体が形成されると、そのシール材１６の開口１６ａが外部に露出する。

次に、図１０の工程Ｐ２４において、上記のシール材の開口１６ａを通して各液晶パネル部分の内部へ液晶を注入し、その注入の完了後、その開口１６ａを樹脂によって封止する。次に、工程Ｐ２５において、２回目の切断、すなわち２次ブレイクを行い、短冊状のパネル構造体から図５に示す個々の液晶パネル１２を切り出す。

次に、図１０の工程Ｐ２６において、図５の液晶パネル１２に偏光板３３ａ及び３３ｂを貼着によって装着する。次に、工程Ｐ２７において、図５の駆動用ＩＣ７ａ及び７ｂを実装し、さらに工程Ｐ２８において、図５の照明装置１３を取り付ける。これにより、液晶装置１１が完成する。

以上のような液晶装置の製造方法において、工程Ｐ１１の樹脂層形成工程では、図６の樹脂層２５の第１層２５ａの表面に複数の凹部３４を平面的にランダムな配置で形成するために、図１及び図３に示す露光用マスク１を用いて第１層２５ａを露光及び現像する。このとき、マスク１の複数の開口４に対応して第１層２５ａの表面に複数の凹部３４が形成される。これらの凹部３４の平面パターンは、図９に示すように、Ｒ，Ｇ着色要素６とＢ着色要素６との間で変化を持たせてあるので、反射層２６で光を反射させて表示を行ったとき、各色着色要素６を透過した散乱光の角度依存性が各色着色要素間で同じになるように補正できた。そして、その補正により、見る角度に応じて色の見え方が変化する現象、例えば表示が玉虫状態で見える現象、を軽減することができた。

（変形例）
以上の実施形態では半透過反射型の液晶装置を例示したが、本発明は透過型の機能を持たない反射型の液晶装置にも適用できる。また、以上の実施形態ではスイッチング素子としてＴＦＤ素子を用いたアクティブマトリクス方式の液晶装置を例示したが、本発明はＴＦＴ（Thin Film Transister）素子をスイッチング素子として用いるアクティブマトリクス方式の液晶装置や、スイッチング素子を用いないパッシブマトリクス方式の液晶装置にも適用できる。

また、本発明は、例えば、有機エレクトロルミネッセンス装置、無機エレクトロルミネッセンス装置、プラズマディスプレイ装置、ＥＰＤ（Electrophoretic Display：電気泳動ディスプレイ装置）、ＦＥＤ（Field Emission Display：電界放出表示装置）等が考えられる。

（電子機器の実施形態）
以下、本発明に係る電子機器を実施形態を挙げて説明する。なお、この実施形態は本発明の一例を示すものであり、本発明はこの実施形態に限定されるものではない。

図１１は、本発明に係る電子機器の一実施形態を示している。ここに示す電子機器は、表示情報出力源１０１、表示情報処理回路１０２、電源回路１０３、タイミングジェネレータ１０４及び液晶装置１０５によって構成される。そして、液晶装置１０５は液晶パネル１０７及び駆動回路１０６を有する。

表示情報出力源１０１は、ＲＡＭ(Random Access Memory)等といったメモリや、各種ディスク等といったストレージユニットや、ディジタル画像信号を同調出力する同調回路等を備え、タイミングジェネレータ１０４により生成される各種のクロック信号に基づいて、所定フォーマットの画像信号等といった表示情報を表示情報処理回路１０２に供給する。

次に、表示情報処理回路１０２は、増幅・反転回路や、ローテーション回路や、ガンマ補正回路や、クランプ回路等といった周知の回路を多数備え、入力した表示情報の処理を実行して、画像信号をクロック信号ＣＬＫと共に駆動回路１０６へ供給する。ここで、駆動回路１０６は、走査線駆動回路（図示せず）やデータ線駆動回路（図示せず）と共に、検査回路等を総称したものである。また、電源回路１０３は、上記の各構成要素に所定の電源電圧を供給する。液晶装置１０５は、例えば、図５に示した液晶装置１１と同様に構成できる。

図１２は、本発明を電子機器の一例である携帯電話機に適用した場合の一実施形態を示している。ここに示す携帯電話機１２０は、本体部１２１と、これに開閉可能に設けられた表示体部１２２とを有する。液晶装置等といった電気光学装置によって構成された表示装置１２３は、表示体部１２２の内部に配置され、電話通信に関する各種表示は、表示体部１２２にて表示画面１２４によって視認できる。本体部１２１の前面には操作ボタン１２６が配列して設けられる。

表示体部１２２の一端部からアンテナ１２７が出没自在に取付けられている。受話部１２８の内部にはスピーカが配置され、送話部１２９の内部にはマイクが内蔵されている。表示装置１２３の動作を制御するための制御部は、携帯電話機の全体の制御を司る制御部の一部として、又はその制御部とは別に、本体部１２１又は表示体部１２２の内部に格納される。

図１３は、本発明に係る電子機器のさらに他の実施形態であるデジタルスチルカメラであって、液晶装置をファインダとして用いるものを示している。このデジタルスチルカメラ１３０におけるケース１３１の背面には液晶表示ユニット１３２が設けられる。この液晶表示ユニット１３２は、被写体を表示するファインダとして機能する。この液晶表示ユニット１３２は、例えば図５に示した液晶装置１１を用いて構成できる。

ケース１３１の前面側（図においては裏面側）には、光学レンズやＣＣＤ等を含んだ受光ユニット１３３が設けられている。撮影者が液晶表示ユニット１３２に表示された被写体像を確認して、シャッタボタン１３４を押下すると、その時点におけるＣＣＤの撮像信号が、回路基板１３５のメモリに転送されてそこに格納される。

ケース１３１の側面には、ビデオ信号出力端子１３６と、データ通信用の入出力端子１３７とが設けられている。ビデオ信号出力端子１３６にはテレビモニタ１３８が必要に応じて接続され、また、データ通信用の入出力端子１３７にはパーソナルコンピュータ１３９が必要に応じて接続される。回路基板１３５のメモリに格納された撮像信号は、所定の操作によって、テレビモニタ１３８や、パーソナルコンピュータ１３９に出力される。

以上の各電子機器においては、各種情報を表示するために液晶装置等といった電気光学装置が用いられる。そして、その電気光学装置においては、図９に示すように、反射層２６すなわち樹脂層２５に形成される凹部又は凸部３４は、単位領域Ａ０内で一定のランダムパターンで並べられる。そして、この単位面積Ａ０を複数個、図４（ａ）又は図４（ｂ）に示すように平面上でつなぎ合わせることにより、反射層２６すなわち樹脂層２５の全面にわたる凹凸パターンが決められている。

反射層２６の単位面積Ａ０に関して、本実施形態では、Ｒ着色要素６及びＧ着色要素６のそれぞれに対応する領域に存在する凹部又は凸部３４ａの径が同じ大きさに設定され、さらに面積密度も同じ値に設定される。一方、Ｂ着色要素６に対応する領域に存在する凹部又は凸部３４ｂの径はＲ着色要素６及びＧ着色要素６の凹部又は凸部３４ａよりも大きく設定される。さらに、Ｂ着色要素６の凹部又は凸部３４ｂの面積密度は、Ｒ着色要素６及びＧ着色要素６の凹部又は凸部３４ａの面積密度と同じに設定されている。このように、凹部又は凸部３４の平面パターンをＲ，Ｇ着色要素６とＢ着色要素６との間で変化させたので、反射層２６で光を反射させて表示を行ったとき、各色着色要素６を透過した散乱光の角度依存性が各色着色要素間で同じになるように補正できた。そして、その補正により、見る角度に応じて色の見え方が変化する現象、例えば表示が玉虫状態で見える現象、を軽減することができた。

（変形例）
電子機器としては、以上に説明した携帯電話機や、デジタルスチルカメラの他に、パーソナルコンピュータや、腕時計型電子機器や、ＰＤＡ（Personal Digital Assistant）や、液晶テレビや、ビューファインダ型又はモニタ直視型のビデオテープレコーダや、カーナビゲーション装置や、ページャや、電子手帳や、電卓や、ワードプロセッサや、ワークステーションや、テレビ電話機や、ＰＯＳ端末器等が挙げられる。

（その他の実施形態）
以上、好ましい実施形態を挙げて本発明を説明したが、本発明はそれらの実施形態に限定されるものでなく、請求の範囲に記載した発明の範囲内で種々に改変できる。

本発明に係るマスクは、露光装置による露光処理時に好適に用いられる。また、本発明に係るカラーフィルタ基板は、液晶装置や有機ＥＬ装置等によってカラー表示を行う際に好適に用いられる。また、本発明に係るカラーフィルタ基板の製造方法は、カラー表示を行うことのできる液晶装置等を製造する際に好適に用いられる。また、本発明に係る電気光学装置は、例えば液晶装置や、有機ＥＬ装置として実現されるものであり、この電気光学装置は、例えば携帯電話機、携帯情報端末機等といった電子機器の表示部として好適に用いられる。また、本発明に係る電気光学装置の製造方法は、液晶装置、有機ＥＬ装置等を製造する際に好適に用いられる。また、本発明に係る電子機器は、例えば、携帯電話機、携帯情報端末機等として実現されるものであり、この電子機器は通信データを使用者に映像的に表示したり、通信データに基づいて種々の演算処理を行う。

本発明に係るマスクの一実施形態を示す図であり、（ａ）は平面図を示し、（ｂ）は断面図を示している。 マスクに設けられる開口の一例を示す図である。 マスクに形成される開口パターンの単位領域を示す斜視図である。 開口パターンの単位領域のつなぎ合わせ方を示す図である。 本発明に係る電気光学装置の一実施形態である液晶装置を示す斜視図であり、（ａ）は内部の微小部分の平面図である。 図５（ａ）のＥ−Ｅ線に従った断面図であり、本発明に係るカラーフィルタ基板の一実施形態を示す断面図である。 図５の液晶装置で用いられるカラーフィルタの一例を示す平面図である。 図５の液晶装置で用いられるＴＦＤ素子の一例を示す斜視図である。 図５の液晶装置で用いられる光反射層に形成される凹凸パターンを示す斜視図である。 本発明に係る電気光学装置の製造方法及びカラーフィルタ基板の製造方法の一実施形態を示す工程図である。 本発明に係る電子機器の一実施形態を示すブロック図である。 本発明に係る電子機器の他の一実施形態を示す斜視図である。 本発明に係る電子機器のさらに他の一実施形態を示す斜視図である。 従来のカラーフィルタ基板における反射層の表面に設けられる凹凸パターンの一例を示す斜視図である。

符号の説明

１．マスク、 ２．基材、 ３．遮光膜、 ４．開口、 ６．着色要素、
７ａ，７ｂ．駆動用ＩＣ、 ８．端子、 ９．配線、
１１．液晶装置（電気光学装置）、 １２．液晶パネル、 １４ａ，１４ｂ．基板、
２１ａ，２１ｂ．基材、 ２２．セルギャップ、 ２３．液晶層（電気光学物質層）、
２５．樹脂層、 ２５ａ．第１層、 ２５ｂ．第２層、 ２６．光反射層、
２７．遮光層、 ２８．着色層、 ２９．オーバーコート層、 ３１ａ，３１ｂ．電極、
３２ａ，３２ｂ．配向膜、 ３３ａ，３３ｂ．偏光板、 ３４．凹部又は凸部、
３７．ＴＦＤ素子、 ３８．開口、 １０５．液晶装置、 １０６．駆動回路、
１０７．液晶パネル、 １２０．携帯電話機（電子機器）、 １２３．表示装置、
１２４．表示画面、 １３０．デジタルスチルカメラ（電子機器）、
１３２．液晶表示ユニット、 Ａ０．単位領域、 Ｄ．表示用ドット、 Ｅ．画素、
Ｒ．光反射部、 Ｔ透光部

Claims (10)

1. Ｒ，Ｇ，Ｂの３種類からなる着色要素を含む着色層に対向して設けられる光反射層の表面に複数の凸部又は複数の凹部を形成するための複数の開口を有するマスクにおいて、Ｒ着色要素及びＧ着色要素に対応する領域の開口の径は同じ又は略同じであり、Ｂ着色要素に対応する領域の開口の径はＲ着色要素及びＧ着色要素に対応する領域の開口の径よりも大きいことを特徴とするマスク。
2. 請求項１において、色が異なる着色要素を透過する光の散乱特性が互いに同じ又は略同じになるように、前記開口の大きさ及び／又は前記面積密度を着色要素に対応する領域ごとに変えることを特徴とするマスク。
3. 請求項１において、Ｒ着色要素及びＧ着色要素に対応する領域の開口の径は９μｍであり、Ｂ着色要素に対応する領域の開口の径は１０μｍであり、開口の面積密度はＲ着色要素、Ｇ着色要素及びＢ着色要素に対応する各領域間で同じ又は略同じであることを特徴とするマスク。
4. 表面に複数の凸部又は複数の凹部が形成された光反射層と、該光反射層に重ねて設けられると共にＲ，Ｇ，Ｂの３種類の着色要素を含む着色層とを有するカラーフィルタ基板において、
   Ｒ着色要素及びＧ着色要素に対応する領域に存在する前記凸部又は前記凹部の径は同じ又は略同じであり、Ｂ着色要素に対応する領域の前記凸部又は前記凹部の径は、Ｒ着色要素及びＧ着色要素に対応する領域の前記凸部又は前記凹部の径よりも大きいことを特徴とするカラーフィルタ基板。
5. 請求項４において、色が異なる着色要素を透過する光の散乱特性が互いに同じ又は略同じになるように、前記凸部又は前記凹部の平面的な大きさ及び／又は前記凸部又は前記凹部の平面的な面積密度を着色要素に対応する領域ごとに変えることを特徴とするカラーフィルタ基板。
6. 表面に複数の凸部又は複数の凹部を有する樹脂膜を形成する工程と、
   前記樹脂膜上に光反射層を形成する工程と、Ｒ，Ｇ，Ｂの３種類の着色要素を前記光反射層上に所定の平面パターンで形成する工程とを有し、
   Ｒ着色要素及びＧ着色要素に対応する領域に存在する前記凸部又は前記凹部の径は同じ又は略同じであり、
   Ｂ着色要素に対応する領域の前記凸部又は前記凹部の径は、Ｒ着色要素及びＧ着色要素に対応する領域の前記凸部又は前記凹部の径よりも大きいことを特徴とするカラーフィルタ基板の製造方法。
7. 請求項６において、色が異なる着色要素を透過する光の散乱特性が互いに同じ又は略同じになるように、前記凸部又は前記凹部の平面的な大きさ及び／又は前記凸部又は前記凹部の平面的な面積密度を着色要素に対応する領域ごとに変えることを特徴とするカラーフィルタ基板の製造方法。
8. 請求項４または請求項５に記載のカラーフィルタ基板と、該カラーフィルタ基板上に設けられた電気光学物質層とを有することを特徴とする電気光学装置。
9. 請求項６または請求項７に記載のカラーフィルタ基板の製造方法を実施する工程を有することを特徴とする電気光学装置の製造方法。
10. 請求項８記載の電気光学装置と、該電気光学装置の動作を制御する制御装置とを有することを特徴とする電子機器。

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