JP2006221022A - 電気光学装置、および電気光学装置の製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】 基板上に形成する樹脂層の数を減らすことができ、さらに、フォトリソグラフィ技術を利用せずに、凹凸を備えた樹脂層を形成することにより、生産性を向上し、かつ、凹凸の形状についての精度や自由度を高めることのできる電気光学装置およびその製造方法を提供すること。
【解決手段】 電気光学装置において、対向基板２０の内面側（液晶層８の側）に、表面に凹凸２３０を備えた透過表示用カラーフィルタ２３１（Ｒ、Ｇ、Ｂ）が透過表示領域５１（Ｒ、Ｇ、Ｂ）、および反射表示領域５２（Ｒ、Ｇ、Ｂ）の双方に形成され、反射表示領域５２（Ｒ、ＧＢ）では、透過表示用カラーフィルタ２３１（Ｒ、Ｇ、Ｂ）の上層側に反射層２２、反射表示用カラーフィルタ２３２（Ｒ、Ｇ、Ｂ）、および層厚調整層２５が形成されている。凹凸２３０は、型部材３００の凹凸３２０を転写したものである。
【選択図】 図４

Description

本発明は、透過モードおよび反射モードの双方で使用可能な電気光学装置、およびこの電気光学装置の製造方法に関するものである。

各種の電気光学装置のうち、半透過反射型の電気光学装置では、観察面側に位置する第１の基板と観察面側とは反対側に位置する第２の基板との間に液晶層が保持され、複数の画素の各々には、観察面とは反対側から入射した光を観察面側に出射する透過表示領域と、観察面側から入射した光を反射層で観察面側に反射する反射表示領域とが形成されている。

ここで、反射層が平滑面であると、正反射が大きすぎて背景の写りこみなどの問題が発生するため、フォトリソグラフィ技術を利用して、表面に凹凸を備えた透光性樹脂層からなる凹凸形成層を形成した後、この凹凸形成層の上層側に反射層を積層することにより、反射層の表面に光散乱用の凹凸を付与している。また、反射表示領域から観察面側に出射される光は、液晶層を２回透過するのに対して、透過表示領域から観察面側に出射される光は液晶層を１回だけ透過するため、透過表示光と反射表示光との間ではリタデーション（Δｎ・ｄ）が相違する。そこで、反射表示領域には、反射層の上層側に透光性樹脂によって層厚調整層を形成して、透過表示領域における液晶層の厚さを反射表示領域における液晶層の厚さよりも厚くし、透過表示光と反射表示光との間におけるリタデーション（Δｎ・ｄ）の差を解消している。さらに、カラー表示用の電気光学装置では、各画素に所定色のカラーフィルタが形成されるが、反射表示領域から観察面側に出射される光は、カラーフィルタを２回透過するのに対して、透過表示領域から観察面側に出射される光は、カラーフィルタを１回だけ透過するため、透過モードで画像を表示する際に充分な色再現性と明るさが得られるようにカラーフィルタの厚さや着色性を高めると、反射モードで画像を表示したときの表示が暗くなってしまう。そこで、透過表示領域および反射表示領域の各々に着色性（色純度）が相違する透過表示用カラーフィルタおよび反射表示用カラーフィルタを各々、形成している（例えば、特許文献１参照）。
特開２００３−２１５５６１号公報

しかしながら、特許文献１に開示の構成では、それを製造する際、第２の基板に対して、樹脂層だけで凹凸形成層、カラーフィルタ、および層厚調整層といった多数の層を形成する必要があるので、生産性が低いという問題点がある。

また、特許文献１に開示の構成では、フォトリソグラフィ技術を利用して、表面に凹凸を備えた凹凸形成層を形成するため、生産性が低いとともに、凹凸の形状についての精度や自由度が低いため、良好な散乱特性が得られないという問題点がある。

以上の問題点に鑑みて、本発明の課題は、基板上に形成する樹脂層の数を減らすことにより、生産性を向上することのできる電気光学装置およびその製造方法を提供することにある。

また、本発明の課題は、フォトリソグラフィ技術を利用しなくても表面に凹凸を備えた凹凸形成層を形成することにより、生産性を向上し、かつ、凹凸の形状についての精度や自由度を高めることのできる電気光学装置およびその製造方法を提供することにある。

上記課題を解決するために、本発明では、観察面側に位置する第１の基板と観察面側とは反対側に位置する第２の基板との間に保持された液晶層を有するとともに、観察面とは反対側から入射した光を観察面側に出射する透過表示領域、および観察面側から入射した光を観察面側に反射する反射表示領域を各色に対応する複数の画素の各々に備えた電気光学装置において、前記複数の画素の各々は、前記第２の基板の内面側における前記透過表示領域および前記反射表示領域に凹凸が表面に形成された所定色の透過表示用カラーフィルタを備えているとともに、前記反射表示領域の前記透過表示用カラーフィルタの上層に反射層を備え、前記第１の基板の内面および前記第２の基板の内面のうちの一方側には、前記反射表示領域における前記液晶層の厚さを前記透過表示領域における前記液晶層の厚さよりも薄くする層厚調整層を備えていることを特徴とする。

本発明では、複数の画素の各々において、透過表示領域に透過表示用カラーフィルタを備えているとともに、反射表示領域にも、反射層の下層側に凹凸が表面に形成された透過表示用カラーフィルタを備えており、この透過表示用カラーフィルタが凹凸形成層としての機能を担っている。このため、凹凸形成層を省略できるため、基板上に形成する樹脂層の数を減らすことができ、生産性を向上することができる。また、層厚調整層によって、反射表示領域における液晶層の厚さが透過表示領域における液晶層の厚さよりも薄くなっているので、透過表示光と反射表示光との間におけるリタデーション（Δｎ・ｄ）の差を解消でき、透過表示光および反射表示光の双方を好適に光変調することができる。さらに、本発明では、層厚調整層によって液晶層の層厚を調整する際、透過表示領域に形成された透過表示用カラーフィルタが反射表示領域にも形成されているので、透過表示用カラーフィルタが反射表示領域に形成されていない場合と比較して、透過表示用カラーフィルタの厚さ分だけ、層厚調整層を薄くできる。従って、フォトリソグラフィ技術などを利用して層厚調整層を形成する際、層厚調整層の膜厚や形成領域に対する精度が高いという利点がある。

本発明においては、例えば、前記層厚調整層が前記反射層の上層側に形成されている構成を採用することができる。

本発明は、透過モードおよび反射モードのいずれにおいてもカラー表示を行う電気光学装置、および透過モードでカラー表示を行い、反射モードでモノクロ表示を行う電気光学装置の双方に適用することができる。このような電気光学装置のうち、前者の場合には、前記複数の画素の各々に対して、前記反射層の上層側、および前記第１の基板の内面のうち少なくとも一方に、前記反射表示領域に形成された所定色の反射表示用カラーフィルタを設ければよい。これに対して、後者の場合には、反射表示用カラーフィルタを設ける必要がない。

本発明においては、例えば、前記反射表示用カラーフィルタが前記反射層の上層側に形成されている構成を採用することができる。

本発明において、前記反射表示用カラーフィルタは、前記反射表示領域のみに形成されている構成、および前記透過表示領域にも形成されている構成を採用することができる。前者の場合、透過表示用カラーフィルタとして、反射表示用カラーフィルタより着色性の高いものを用いれば、透過モードと反射モードとにおいて略同様の品位をもった画像を表示することができる。また、後者の場合には、反射表示光は反射表示用カラーフィルタのみを２回透過する一方、透過表示光は、透過表示用カラーフィルタおよび反射表示用カラーフィルタの双方を透過するので、透過モードと反射モードとにおいて略同様の品位をもった画像を表示することができる。

本発明において、前記層厚調整層については、所定色の反射表示用カラーフィルタとして、前記反射層の上層側、および前記第１の基板の内面のうち少なくとも一方に形成されている構成を採用してもよい。このように構成すると、層厚調整層と反射表示用カラーフィルタとを別々に形成する必要がないので、基板上に形成する樹脂層の数を減らすことができ、生産性を向上することができる。このような層厚調整層は、例えば、前記第２の基板側において前記反射層の上層側に形成されている構成を採用することができる。

本発明において、前記凹凸は、前記透過表示用カラーフィルタの表面に対して型部材の凹凸を転写してなることが好ましい。すなわち、本発明では、観察面側に位置する第１の基板と観察面側とは反対側に位置する第２の基板との間に保持された液晶層を有するとともに、観察面とは反対側から入射した光を観察面側に出射する透過表示領域、および観察面側から入射した光を観察面側に反射する反射表示領域を各色に対応する複数の画素の各々に備えた電気光学装置の製造方法において、前記第２の基板に対し、前記複数の画素の前記透過表示領域および前記反射表示領域の双方に所定色のカラー樹脂層を形成するカラー樹脂層形成工程と、前記カラー樹脂層の表面に型部材の凹凸を転写して、凹凸を表面に備えた所定色の透過表示用カラーフィルタを前記複数の画素の各々に形成する凹凸転写工程と、前記透過表示用カラーフィルタの上層のうち、前記反射表示領域に反射層を選択的に形成する反射層形成工程とを有することを特徴とする。

本発明では、転写法によって、透過表示用カラーフィルタ用樹脂の表面に凹凸を付与するため、フォトリソグラフィ技術を利用して、表面に凹凸を備えた凹凸形成層を形成する方法と違って、生産性が高い。また、転写法によれば、フォトリソグラフィ技術と比較して、凹凸の形状についての精度や自由度が高いため、良好な散乱特性を得ることができる。

本発明において、前記凹凸転写工程では、前記カラー樹脂層の表面に選択的に前記型部材の凹凸を転写してもよい。

本発明に係る電気光学装置は、携帯電話機やモバイルコンピュータなどといった電子機器に用いることができる。

図面を参照して、本発明の実施の形態を説明する。なお、以下の説明では、観察面側に位置する側を第１の基板と、観察面とは反対側に位置する基板を第２の基板と定義する。また、以下の説明に用いた各図では、各層や各部材を図面上で認識可能な程度の大きさとするため、各層や各部材毎に縮尺を相違させてある。

［実施の形態１］
（全体構成）
図１は、本発明を適用した電気光学装置の電気的構成を示すブロック図である。図２（ａ）、（ｂ）は、本発明を適用した電気光学装置を斜め下方（対向基板）の側からみた概略斜視図、および電気光学装置をＹ方向に切断したときの断面を模式的に示す説明図である。なお、以下の説明においては、便宜上、互いに直交する方向をＸ方向およびＹ方向とし、液晶層に対して素子基板側を表示画像を視認する観察者が位置する側という意味で「観察面側」と表記する。また、本形態では、素子基板が観察面側に位置する第１の基板に相当し、対向基板が観察面とは反対側に位置する第２の基板に相当する。

図１に示す電気光学装置１ａは、画素スイッチング素子としてＴＦＤ（Ｔｈｉｎ Ｆｉｌｍ Ｄｉｏｄｅ）を用いた半透過反射型のアクティブマトリクス型液晶装置であり、交差する２方向をＸ方向およびＹ方向としたとき、複数の走査線３がＸ方向（行方向）に延びており、複数のデータ線６がＹ方向（列方向）に延びている。走査線３とデータ線６との各交差点に対応する位置には画素５０Ｒ、５０Ｇ、５０Ｂが各々形成され、これらの画素５０Ｒ、５０Ｇ、５０Ｂのいずれにおいても、液晶層８と、画素スイッチング用のＴＦＤ素子７とが直列に接続されている。各走査線３は走査線駆動回路３ａによって駆動され、各データ線６はデータ線駆動回路６ａによって駆動される。

画素５０Ｒ、５０Ｇ、５０Ｂは、後述するカラーフィルタの色によって、赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、青色（Ｂ）に各々対応しており、これら３つの画素５０Ｒ、５０Ｇ、５０Ｂは各々がサブドットとして機能し、かつ、３つの画素５０Ｒ、５０Ｇ、５０Ｂ（サブドット）によって１つのドット５が構成されている。従って、本形態では、これら３つの画素５０Ｒ、５０Ｇ、５０Ｂを備えたドット５が多数、マトリクス状に配置されている。

図２（ａ）、（ｂ）に示すように、電気光学装置１ａを構成するにあたって、本形態では、観察面側に位置する第１の基板としての素子基板１０と、観察面側とは反対側に位置する第２の基板としての対向基板２０とをシール材３０によって貼り合わせるとともに、両基板とシール材３０とによって囲まれた領域内に電気光学物質としての液晶を封入し、液晶層８を構成してある。素子基板１０および対向基板２０は、ガラスや石英などの光透過性を有する板状部材である。シール材３０は、対向基板２０の縁辺に沿って略長方形の枠状に形成されるが、液晶を封入するために一部が開口している。このため、液晶の封入後にその開口部分が封止材３１によって封止される。

素子基板１０は、対向基板２０とシール材３０によって貼り合わされた状態で対向基板２０の端縁から一方の側に張り出した張り出し領域１０ａを有しており、この張り出し領域１０ａに向けて、走査線３およびデータ線６に接続する配線パターンが延びている。シール材３０には導電性を有する多数の導通粒子が分散されている。この導通粒子は、例えば金属のメッキが施されたプラスチックの粒子や、導電性を有する樹脂の粒子であり、素子基板１０および対向基板２０の各々に形成された所定の配線パターン同士を基板間導通させる機能を備えている。このため、本形態では、走査線３およびデータ線６に信号を出力するＩＣ４１が素子基板１０の張り出し領域１０ａにＣＯＧ実装され、かつ、この素子基板１０の張り出し領域１０ａの端縁に対して可撓性基板４２が接続されている。

本形態の電気光学装置１ａでは、対向基板２０の側（背面側）にバックライト装置９が配置され、このバックライト装置９は、光源としての複数のＬＥＤ９１（発光素子）と、これらのＬＥＤ９１から出射された光が側端面から入射して出射面から対向基板２０に向けて出射される透明樹脂製の導光板９２とを備えている。導光板９２と対向基板２０との間には、位相差板や偏光板などの他、光散乱シートやプリズムシートが対向配置され、素子基板１０の側にも、位相差板や偏光板が対向配置されるが、本発明とは直接の関係がないため、それらの図示および説明を省略する。

（画素の構成）
図３は、本発明を適用した電気光学装置の画素構成を模式的に示す平面図である。図４は、本発明の実施の形態１に係る電気光学装置に形成されている多数の画素のうちの３つを拡大して示す断面図である。なお、図３には、素子基板に形成される要素を実線で示し、対向基板に形成される要素を一点鎖線で示してあり、図４は、概ね図３のＡ−Ａ′線での断面図に相当する。

図３および図４に示すように、素子基板１０の内面側（液晶層８の側）には、下地膜１１、上述した複数のデータ線６、このデータ線６に電気的に接続するＴＦＤ素子７、このＴＦＤ素子７を介してデータ線６に電気的に接続するＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ）などからなる画素電極１２、および配向膜１３などが形成されており、画素電極１２と、対向基板２０の内面に帯状に形成されたＩＴＯなどからなる走査線３との対向領域によって各画素５０Ｒ、５０Ｇ、５０Ｂが構成されている。ＴＦＤ素子７は、２つのＴＦＤ素子からなり、データ線６の側からみても、あるいはその反対側からみても順番に、第１金属膜／酸化膜／第２金属膜となっている。このため、１つのダイオードを用いる場合と比べると、電流−電圧の非線形特性が正負の双方向にわたって対称化されることになる。

このような構成の電気光学装置１ａにおいて、各画素５０Ｒ、５０Ｇ、５０Ｂには、後述する対向基板２０側の反射層２２によって反射モードで画像を表示するための反射表示領域５２（Ｒ）、５２（Ｇ）、５２（Ｂ）が構成され、反射層２２の除去部分からなる光透過部２２１によって透過モードで画像を表示する透過表示領域５１（Ｒ）、５１（Ｇ）、５１（Ｂ）が構成されている。

本形態において、複数の画素５０Ｒ、５０Ｇ、５０Ｂの各々には、対向基板２０の内面側（液晶層８の側）に、赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、青色（Ｂ）の光透過性カラー樹脂からなる透過表示用カラーフィルタ２３１（Ｒ）、２３１（Ｇ）、２３１（Ｂ）が形成されている。すなわち、画素に赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、青色（Ｂ）のいずれの色のカラーカラーフィルタを形成するかによって、各画素が赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、あるいは青色（Ｂ）のいずれに対応するかが決定される結果、３つの色に対応する画素５０Ｒ、５０Ｇ、５０Ｂが構成されている。ここで、透過表示用カラーフィルタ２３１（Ｒ）、２３１（Ｇ）、２３１（Ｂ）は、厚さ、色材の種類や配合量などが透過モードでカラー画像を表示するのに最適な条件に設定されている。なお、対向基板２０の側には、画素電極１２と対向する領域を避けるようにブラックマトリクスあるいはブラックストライプと称せられる遮光層が形成される場合があるが、その図示を省略してある。

本形態において、透過表示用カラーフィルタ２３１（Ｒ）、２３１（Ｇ）、２３１（Ｂ）は、いずれの画素５０Ｒ、５０Ｇ、５０Ｂにおいても、その全体にわたって形成され、透過表示領域５１（Ｒ）、５１（Ｇ）、５１（Ｂ）、および反射表示領域５２（Ｒ）、５２（Ｇ）、５２（Ｂ）の双方に形成されている。また、透過表示用カラーフィルタ２３１（Ｒ）、２３１（Ｇ）、２３１（Ｂ）の表面には、微小な凹凸２３０多数、形成されている。このような凹凸２３０は、透過表示用カラーフィルタ２３１（Ｒ）、２３１（Ｇ）、２３１（Ｂ）の表面において各種形状の小突起や小孔として形成されるが、図４には模式的に表してある。

また、複数の画素５０Ｒ、５０Ｇ、５０Ｂの各々において、反射表示領域５２（Ｒ）、５２（Ｇ）、５２（Ｂ）では、透過表示用カラーフィルタ２３１（Ｒ）、２３１（Ｇ）、２３１（Ｂ）の上層側にアルミニウム合金や銀合金などからなる反射層２２が積層され、この反射層２２の表面には、透過表示用カラーフィルタ２３１（Ｒ）、２３１（Ｇ）、２３１（Ｂ）の凹凸２３０が光散乱用の凹凸２２０として反映されている。

反射層２２には、画素電極１２と対向する領域の一部が部分的に除去されて光透過部２２１が形成されており、光透過部２２１が形成されている領域が透過表示領域５１（Ｒ）、５１（Ｇ）、５１（Ｂ）であり、反射層２２が残っている領域が反射表示領域５２（Ｒ）、５２（Ｇ）、５２（Ｂ）である。

反射層２２の上層側には、赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、青色（Ｂ）の透光性カラー樹脂からなる反射表示用カラーフィルタ２３２（Ｒ）、２３２（Ｇ）、２３２（Ｂ）が形成されている。反射表示用カラーフィルタ２３２（Ｒ）、２３２（Ｇ）、２３２（Ｂ）は、反射表示領域５２（Ｒ）、５２（Ｇ）、５２（Ｂ）のみに形成され、透過表示領域５１（Ｒ）、５１（Ｇ）、５１（Ｂ）には形成されていない。ここで、反射表示用カラーフィルタ２３２（Ｒ）、２３２（Ｇ）、２３２（Ｂ）は、厚さ、色材の種類や配合量などが反射モードでカラー画像を表示するのに最適な条件に設定されている。

さらに、本形態では、反射表示用カラーフィルタ２３２（Ｒ）、２３２（Ｇ）、２３２（Ｂ）の上層側には、透明な感光性樹脂からなる層厚調整層２５が形成されている。本形態において、層厚調整層２５は、反射表示領域５２（Ｒ）、５２（Ｇ）、５２（Ｂ）のみに形成され、透過表示領域５１（Ｒ）、５１（Ｇ）、５１（Ｂ）には形成されていない。ここで、層厚調整層２５は、反射表示領域５２（Ｒ）、５２（Ｇ）、５２（Ｂ）における液晶層８の厚さｄＲを透過表示領域５１（Ｒ）、５１（Ｇ）、５１（Ｂ）における液晶層８の厚さｄＴよりも薄くしており、層厚調整層２５の厚さと反射表示用カラーフィルタ２３２（Ｒ）、２３２（Ｇ）、２３２（Ｂ）の厚さとの和は、反射表示領域５２（Ｒ）、５２（Ｇ）、５２（Ｂ）における液晶層８の厚さｄＲを透過表示領域５１（Ｒ）、５１（Ｇ）、５１（Ｂ）における液晶層８の厚さｄＴの約１／２とする寸法になっている。

なお、層厚調整層２５の上層側には、ＩＴＯからなる帯状の走査線３が形成され、さらに、それらの表面に配向膜２６が形成されている。

（製造方法）
図５を参照して、本形態の電気光学装置の製造方法を説明する。図５（ａ）〜（ｅ）は、本形態の電気光学装置１に用いた対向基板２０に透過表示用カラーフィルタ、反射層、反射表示用カラーフィルタおよび層厚調整層を形成する工程を示す工程断面図である。

まず、図５（ａ）に示すカラー樹脂層形成工程では、対向基板２０の表面に対して、フォトリソグラフィ技術あるいは印刷技術を用いて、複数の画素５０（Ｒ）、５０（Ｇ）、５０（Ｂ）の各々に所定色の透光性のカラー樹脂層２４１（Ｒ）、２４１（Ｇ）、２４１（Ｂ）を塗布した後、加熱して半硬化させる。その際、カラー樹脂層２４１（Ｒ）、２４１（Ｇ）、２４１（Ｂ）については、各画素５０（Ｒ）、５０（Ｇ）、５０（Ｂ）の透過表示領域５１（Ｒ）、５１（Ｇ）、５１（Ｂ）、および反射表示領域５２（Ｒ）、５２（Ｇ）、５２（Ｂ）の双方に形成する。

次に、図５（ｂ）に示す凹凸転写工程では、押圧面３１０に凹凸３２０を備えた型部材３００を準備しておき、この型部材３００の押圧面３１０をカラー樹脂層２４１（Ｒ）、２４１（Ｇ）、２４１（Ｂ）に押し付け、型部材３００の凹凸３２０をカラー樹脂層２４１（Ｒ）、２４１（Ｇ）、２４１（Ｂ）の表面に直接、転写する。次に、カラー樹脂層２４１（Ｒ）、２４１（Ｇ）、２４１（Ｂ）を加熱して硬化させる。その結果、表面に微小な凹凸２３０を多数、備えた透過表示用カラーフィルタ２３２（Ｒ）、２３２（Ｇ）、２３２（Ｂ）が複数の画素５０（Ｒ）、５０（Ｇ）、５０（Ｂ）の各々に形成される。ここで、型部材３００としては、押圧面３１０（ローラ面）に凹凸３２０を備えたローラや、スタンプなどを用いることができる。また、型部材３００の凹凸３２０をカラー樹脂層２４１（Ｒ）、２４１（Ｇ）、２４１（Ｂ）における反射表示領域５２（Ｒ）、５２（Ｇ）、５２（Ｂ）の表面に選択的に転写してもよい。

次に、図５（ｃ）に示す反射層形成工程では、対向基板２０の全面にアルミニウム合金などの金属膜を形成した後、フォトリソグラフィ技術を用いてパターニングし、透過表示用カラーフィルタ２３２（Ｒ）、２３２（Ｇ）、２３２（Ｂ）の上層のうち、反射表示領域５２（Ｒ）、５２（Ｇ）、５２（Ｂ）の上層に反射層２２を選択的に形成する。その際、反射層２２には光透過部２２１を形成する。このようにして形成した反射層２２の表面には、透過表示用カラーフィルタ２３２（Ｒ）、２３２（Ｇ）、２３２（Ｂ）の凹凸２３０が光散乱用の凹凸２２０として反映される。

次に、図５（ｄ）に示す反射表示用カラーフィルタ形成工程では、フォトリソグラフィ技術あるいは印刷技術を用いて、複数の画素５０（Ｒ）、５０（Ｇ）、５０（Ｂ）の各々に所定色の反射表示用カラーフィルタ２３２（Ｒ）、２３２（Ｇ）、２３２（Ｂ）を形成する。その際、反射表示用カラーフィルタ２３２（Ｒ）、２３２（Ｇ）、２３２（Ｂ）については、反射表示領域５２（Ｒ）、５２（Ｇ）、５２（Ｂ）のみに選択的に形成する。

次に、図５（ｅ）に示す層厚調整層形成工程では、フォトリソグラフィ技術あるいは印刷技術を用いて、複数の画素５０（Ｒ）、５０（Ｇ）、５０（Ｂ）の各々に層厚調整層２５を形成する。その際、層厚調整層２５については、反射表示領域５２（Ｒ）、５２（Ｇ）、５２（Ｂ）のみに選択的に形成する。

次に、図４に示すように、対向電極としての走査線３や、配向膜２６を形成した後、配向膜２６にラビング処理を行う。このようにして対向基板２０が完成する。

一方、素子基板１０については、下地膜１１、データ線６、ＴＦＤ素子７、画素電極１２、および配向膜１３をこの順に形成した後、ラビング処理を行う。

そして、素子基板１０と対向基板２０とをシール材３０によって貼り合わせるとともに、両基板とシール材３０とによって囲まれた領域内に電気光学物質としての液晶を封入し、液晶層８を構成する。しかる後には、シール材３０の液晶注入口を封止材３１によって封止する。

（表示動作、および本形態の主な効果）
本形態の電気光学装置１ａでは、いずれの画素５０Ｒ、５０Ｇ、５０Ｂにおいても、光反射層２２の光透過部２２１が形成されている領域は、矢印Ｌ１で示すように、観察面とは反対側から入射した光（図２（ｂ）に示すバックライト装置９０から出射された光）を観察面側に出射して透過モードでカラー表示を行う透過表示領域５１（Ｒ）、５１（Ｇ）、５１（Ｂ）として機能する。また、光反射層２２が形成されている領域は、矢印Ｌ２で示すように、観察面側から入射した外光を観察面側に反射して反射モードでカラー表示を行う反射表示領域５２（Ｒ）、５２（Ｇ）、５２（Ｂ）として機能する。なお、反射層２２の表面には、透過表示用カラーフィルタ２３１（Ｒ）、２３１（Ｇ）、２３１（Ｂ）の凹凸２３０が光散乱用の凹凸２２０として反映されているため、画像をみる角度で明るさが異なるなどの視野角依存性や背景の写り込みなどが発生しない。

このような表示を行う際、反射表示領域５２（Ｒ）、５２（Ｇ）、５２（Ｂ）から観察面側に出射される光は、液晶層８を２回透過するのに対して、透過表示領域５１（Ｒ）、５１（Ｇ）、５１（Ｂ）から観察面側に出射される光は液晶層８を１回だけしか透過しないが、本形態では、層厚調整層２５が、反射表示領域５２（Ｒ）、５２（Ｇ）、５２（Ｂ）における液晶層８の厚さｄＲを透過表示領域５１（Ｒ）、５１（Ｇ）、５１（Ｂ）における液晶層８の厚さｄＴよりも薄くしているため、透過表示光と反射表示光との間でのリタデーション（Δｎ・ｄ）の差が解消されている。従って、透過表示光および反射表示光の双方が液晶層８によって好適に光変調されるので、透過モードおよび反射モードの双方において、コントラストなどの面で品位の高い画像を表示することができる。

また、反射表示領域５２（Ｒ）、５２（Ｇ）、５２（Ｂ）から観察面側に出射される光は、反射表示用カラーフィルタ２３２（Ｒ）、２３２（Ｇ）、２３２（Ｂ）を２回透過するのに対して、透過表示領域５１（Ｒ）、５１（Ｇ）、５１（Ｂ）から観察面側に出射される光は、透過表示用カラーフィルタ２３１（Ｒ）、２３１（Ｇ）、２３１（Ｂ）を１回だけしか透過しないが、本形態では、透過表示用カラーフィルタ２３１（Ｒ）、２３１（Ｇ）、２３１（Ｂ）については、反射表示用カラーフィルタ２３２（Ｒ）、２３２（Ｇ）、２３２（Ｂ）よりも着色性を高くしてあるので、透過モードおよび反射モードの双方において、色再現性に優れ、かつ、明るい画像を表示することができる。

さらに本形態では、透過表示領域５１（Ｒ）、５１（Ｇ）、５１（Ｂ）だけでなく、反射表示領域５２（Ｒ）、５２（Ｇ）、５２（Ｂ）において反射層２２の下層側にも、透過表示用カラーフィルタ２３１（Ｒ）、２３１（Ｇ）、２３１（Ｂ）が形成され、かつ、透過表示用カラーフィルタ２３１（Ｒ）、２３１（Ｇ）、２３１（Ｂ）の表面には凹凸２３０が形成されている。このため、透過表示用カラーフィルタ２３１（Ｒ）、２３１（Ｇ）、２３１（Ｂ）は、反射層２２に凹凸２２０を付すための凹凸形成層としての機能も担っている。このため、本形態では、凹凸形成層を省略できるため、基板上に形成する樹脂層の数を減らすことができ、生産性を向上することができる。

さらにまた、層厚調整層２５によって液晶層８の層厚を調整する際、透過表示領域５１（Ｒ）、５１（Ｇ）、５１（Ｂ）に形成された透過表示用カラーフィルタ２３１（Ｒ）、２３１（Ｇ）、２３１（Ｂ）が反射表示領域５２（Ｒ）、５２（Ｇ）、５２（Ｂ）にも形成されているので、透過表示用カラーフィルタ２３１（Ｒ）、２３１（Ｇ）、２３１（Ｂ）が反射表示領域５２（Ｒ）、５２（Ｇ）、５２（Ｂ）に形成されていない場合と比較して、透過表示用カラーフィルタ２３１（Ｒ）、２３１（Ｇ）、２３１（Ｂ）の厚さ分だけ、層厚調整層２５を薄くできる。従って、フォトリソグラフィ技術などを利用して層厚調整層２５を形成する際、層厚調整層２５の膜厚や形成領域に対する精度が高いという利点がある。

しかも、凹凸２３０は、型部材３００の凹凸３２０を直接転写したものであるため、フォトリソグラフィ技術を利用しなくてもよいので、生産性が高く、かつ、凹凸２３０の形状についての精度や自由度を高めることができる。

［実施の形態２］
図６は、本発明の実施の形態２に係る電気光学装置に形成されている多数の画素のうちの３つを拡大して示す断面図である。なお、本形態、および以下に説明する形態の基本的な構成は、実施の形態１と同様であるため、共通する部分には同一の符号を付して図示することにしてそれらの説明を省略する。また、本形態、および以下に説明する形態の電気光学装置の製造方法についても、図５を参照して説明した方法を採用できるので、説明を省略する。

図６に示すように、本形態の電気光学装置１ａでも、実施の形態１と同様、対向基板２０の内面側（液晶層８の側）に、表面に凹凸２３０を備えた透過表示用カラーフィルタ２３１（Ｒ）、２３１（Ｇ）、２３１（Ｂ）が形成され、透過表示用カラーフィルタ２３１（Ｒ）、２３１（Ｇ）、２３１（Ｂ）は、透過表示領域５１（Ｒ）、５１（Ｇ）、５１（Ｂ）、および反射表示領域５２（Ｒ）、５２（Ｇ）、５２（Ｂ）の双方に形成されている。凹凸２３０は、図５（ｂ）を参照して説明したように、型部材３００の凹凸３２０を転写したものである。

また、本形態でも、実施の形態１と同様、反射表示領域５２（Ｒ）、５２（Ｇ）、５２（Ｂ）では、透過表示用カラーフィルタ２３１（Ｒ）、２３１（Ｇ）、２３１（Ｂ）の上層側に反射層２２が積層され、この反射層２２の上層側には、反射表示用カラーフィルタ２３２（Ｒ）、２３２（Ｇ）、２３２（Ｂ）が形成されている。

さらに、反射表示用カラーフィルタ２３２（Ｒ）、２３２（Ｇ）、２３２（Ｂ）の上層側には層厚調整層２５が形成されている。ここで、層厚調整層２５は、反射表示領域５２（Ｒ）、５２（Ｇ）、５２（Ｂ）に厚く形成され、透過表示領域５１（Ｒ）、５１（Ｇ）、５１（Ｂ）には薄く形成されている。例えば、透過表示領域５１（Ｒ）、５１（Ｇ）、５１（Ｂ）における層厚調整層２５の厚さは、反射表示用カラーフィルタ２３２（Ｒ）、２３２（Ｇ）、２３２（Ｂ）の厚さと略等しい。従って、反射表示領域５２（Ｒ）、５２（Ｇ）、５２（Ｂ）における層厚調整層２５の厚さは、反射表示領域５２（Ｒ）、５２（Ｇ）、５２（Ｂ）における液晶層８の厚さｄＲを透過表示領域５１（Ｒ）、５１（Ｇ）、５１（Ｂ）における液晶層８の厚さｄＴの約１／２とする寸法になっている。

このように構成した電気光学装置１ａでも、透過表示用カラーフィルタ２３１（Ｒ）、２３１（Ｇ）、２３１（Ｂ）が、反射層２２に凹凸２２０を付すための凹凸形成層としての機能も担っているため、凹凸形成層を省略できるなど、実施の形態１と同様な効果を奏する。

［実施の形態３］
図７は、本発明の実施の形態３に係る電気光学装置に形成されている多数の画素のうちの３つを拡大して示す断面図である。

図７に示すように、本形態の電気光学装置１ａでも、実施の形態１と同様、対向基板２０の内面側（液晶層８の側）には、表面に凹凸２３０を備えた透過表示用カラーフィルタ２３１（Ｒ）、２３１（Ｇ）、２３１（Ｂ）が形成され、透過表示用カラーフィルタ２３１（Ｒ）、２３１（Ｇ）、２３１（Ｂ）は、透過表示領域５１（Ｒ）、５１（Ｇ）、５１（Ｂ）、および反射表示領域５２（Ｒ）、５２（Ｇ）、５２（Ｂ）の双方に形成されている。また、反射表示領域５２（Ｒ）、５２（Ｇ）、５２（Ｂ）では、透過表示用カラーフィルタ２３１（Ｒ）、２３１（Ｇ）、２３１（Ｂ）の上層側に反射層２２が積層され、この反射層２２の上層側には、反射表示用カラーフィルタ２３２（Ｒ）、２３２（Ｇ）、２３２（Ｂ）が形成されている。

ここで、反射表示用カラーフィルタ２３２（Ｒ）、２３２（Ｇ）、２３２（Ｂ）は、実施の形態１、２における層厚調整層２５として機能するほど、厚い。言い換えれば、反射層２２の上層側に層厚調整層２５を形成する際、層厚調整層２５については、各画素５０Ｒ、５０Ｇ、５０Ｂ毎に所定の透光性カラー樹脂を用い、反射表示用カラーフィルタ２３２（Ｒ）、２３２（Ｇ）、２３２（Ｂ）としての機能を担わせている。なお、層厚調整層２５（反射表示用カラーフィルタ２３２（Ｒ）、２３２（Ｇ）、２３２（Ｂ））の厚さは、反射表示領域５２（Ｒ）、５２（Ｇ）、５２（Ｂ）における液晶層８の厚さｄＲを透過表示領域５１（Ｒ）、５１（Ｇ）、５１（Ｂ）における液晶層８の厚さｄＴの約１／２とする寸法になっている。

このように構成した電気光学装置１ａでも、実施の形態１と同様に、透過表示用カラーフィルタ２３１（Ｒ）、２３１（Ｇ）、２３１（Ｂ）が、反射層２２に凹凸２２０を付すための凹凸形成層としての機能も担っているため、凹凸形成層を省略でき、基板上に形成する樹脂層の数を減らすことができるので、生産性を向上することができるなど、実施の形態１と同様な効果を奏する。

また、層厚調整層２５が反射表示用カラーフィルタ２３２（Ｒ）、２３２（Ｇ）、２３２（Ｂ）としての機能を担っているので、反射表示用カラーフィルタ２３２（Ｒ）、２３２（Ｇ）、２３２（Ｂ）を別途、形成する必要がない。言い換えれば、反射表示用カラーフィルタ２３２（Ｒ）、２３２（Ｇ）、２３２（Ｂ）が層厚調整層２５としての機能を担っているので、層厚調整層２５を別途、形成する必要がない。それ故、基板上に形成する樹脂層の数をさらに減らすことができるので、生産性をさらに向上することができる。

［実施の形態４］
図８は、本発明の実施の形態４に係る電気光学装置に形成されている多数の画素のうちの３つを拡大して示す断面図である。

図８に示すように、本形態の電気光学装置１ａでも、実施の形態１と同様に、対向基板２０の内面側（液晶層８の側）に、表面に凹凸２３０を備えた透過表示用カラーフィルタ２３１（Ｒ）、２３１（Ｇ）、２３１（Ｂ）が形成され、透過表示用カラーフィルタ２３１（Ｒ）、２３１（Ｇ）、２３１（Ｂ）は、透過表示領域５１（Ｒ）、５１（Ｇ）、５１（Ｂ）、および反射表示領域５２（Ｒ）、５２（Ｇ）、５２（Ｂ）の双方に形成されている。また、反射表示領域５２（Ｒ）、５２（Ｇ）、５２（Ｂ）では、透過表示用カラーフィルタ２３１（Ｒ）、２３１（Ｇ）、２３１（Ｂ）の上層側に反射層２２が積層されている。

本形態では、反射層２２の上層側に反射表示用カラーフィルタ２３２（Ｒ）、２３２（Ｇ）、２３２（Ｂ）が形成され、反射表示用カラーフィルタ２３２（Ｒ）、２３２（Ｇ）、２３２（Ｂ）は、透過表示領域５１（Ｒ）、５１（Ｇ）、５１（Ｂ）、および反射表示領域５２（Ｒ）、５２（Ｇ）、５２（Ｂ）の双方に形成されている。

反射表示用カラーフィルタ２３２（Ｒ）、２３２（Ｇ）、２３２（Ｂ）の上層側には、透明な感光性からなる層厚調整層２５が形成されている。ここで、層厚調整層２５の厚さは、反射表示領域５２（Ｒ）、５２（Ｇ）、５２（Ｂ）における液晶層８の厚さｄＲを透過表示領域５１（Ｒ）、５１（Ｇ）、５１（Ｂ）における液晶層８の厚さｄＴの約１／２とする寸法になっている。

このように構成した電気光学装置１ａでも、実施の形態１と同様に、透過表示用カラーフィルタ２３１（Ｒ）、２３１（Ｇ）、２３１（Ｂ）が、反射層２２に凹凸２２０を付すための凹凸形成層としての機能も担っているため、凹凸形成層を省略でき、基板上に形成する樹脂層の数を減らすことができるので、生産性を向上することができるなど、実施の形態１と同様な効果を奏する。

また、本形態において、透過表示領域５１（Ｒ）、５１（Ｇ）、５１（Ｂ）から観察面側に出射される光は、透過表示用カラーフィルタ２３１（Ｒ）、２３１（Ｇ）、２３１（Ｂ）、および反射表示用カラーフィルタ２３２（Ｒ）、２３２（Ｇ）、２３２（Ｂ）の双方を透過するので、透過表示用カラーフィルタ２３１（Ｒ）、２３１（Ｇ）、２３１（Ｂ）については、反射表示用カラーフィルタ２３２（Ｒ）、２３２（Ｇ）、２３２（Ｂ）よりもわずかに着色性を高くすれば、透過モードおよび反射モードの双方において、色再現性に優れ、かつ、明るい画像を表示することができる。

［実施の形態５］
図９は、本発明の実施の形態５に係る電気光学装置に形成されている多数の画素のうちの３つを拡大して示す断面図である。

図９に示すように、本形態の電気光学装置１ａでも、実施の形態１と同様に、対向基板２０の内面側（液晶層８の側）に、表面に凹凸２３０を備えた透過表示用カラーフィルタ２３１（Ｒ）、２３１（Ｇ）、２３１（Ｂ）が形成され、透過表示用カラーフィルタ２３１（Ｒ）、２３１（Ｇ）、２３１（Ｂ）は、透過表示領域５１（Ｒ）、５１（Ｇ）、５１（Ｂ）、および反射表示領域５２（Ｒ）、５２（Ｇ）、５２（Ｂ）の双方に形成されている。また、反射表示領域５２（Ｒ）、５２（Ｇ）、５２（Ｂ）では、透過表示用カラーフィルタ２３１（Ｒ）、２３１（Ｇ）、２３１（Ｂ）の上層側に反射層２２が積層されている。

本形態では、反射層２２の上層側には、透明樹脂からなる平坦化膜２７が形成され、この平坦化膜２７は、透過表示領域５１（Ｒ）、５１（Ｇ）、５１（Ｂ）、および反射表示領域５２（Ｒ）、５２（Ｇ）、５２（Ｂ）の双方に形成されている。

また、平坦化膜２７の上層には、反射表示用カラーフィルタ２３２（Ｒ）、２３２（Ｇ）、２３２（Ｂ）が形成され、反射表示用カラーフィルタ２３２（Ｒ）、２３２（Ｇ）、２３２（Ｂ）は、反射表示領域５２（Ｒ）、５２（Ｇ）、５２（Ｂ）のみに形成されている。

ここで、反射表示用カラーフィルタ２３２（Ｒ）、２３２（Ｇ）、２３２（Ｂ）は、実施の形態３と同様、実施の形態１、２における層厚調整層２５として機能するほど、厚い。言い換えれば、反射層２２の上層側に層厚調整層２５を形成する際、層厚調整層２５については、各画素５０Ｒ、５０Ｇ、５０Ｂ毎に所定の透光性カラー樹脂を用い、反射表示用カラーフィルタ２３２（Ｒ）、２３２（Ｇ）、２３２（Ｂ）としての機能を担わせている。なお、層厚調整層２５（反射表示用カラーフィルタ２３２（Ｒ）、２３２（Ｇ）、２３２（Ｂ））の厚さは、反射表示領域５２（Ｒ）、５２（Ｇ）、５２（Ｂ）における液晶層８の厚さｄＲを透過表示領域５１（Ｒ）、５１（Ｇ）、５１（Ｂ）における液晶層８の厚さｄＴの約１／２とする寸法になっている。

このように構成した電気光学装置１ａでも、実施の形態１と同様に、透過表示用カラーフィルタ２３１（Ｒ）、２３１（Ｇ）、２３１（Ｂ）が、反射層２２に凹凸２２０を付すための凹凸形成層としての機能も担っているため、凹凸形成層を省略でき、基板上に形成する樹脂層の数を減らすことができるので、生産性を向上することができるなど、実施の形態１と同様な効果を奏する。

また、実施の形態３と同様、層厚調整層２５が反射表示用カラーフィルタ２３２（Ｒ）、２３２（Ｇ）、２３２（Ｂ）としての機能を担っているので、反射表示用カラーフィルタ２３２（Ｒ）、２３２（Ｇ）、２３２（Ｂ）を別途、形成する必要がない。言い換えれば、反射表示用カラーフィルタ２３２（Ｒ）、２３２（Ｇ）、２３２（Ｂ）が層厚調整層２５としての機能を担っているので、層厚調整層２５を別途、形成する必要がない。それ故、基板上に形成する樹脂層の数をさらに減らすことができるので、生産性をさらに向上することができる。

［実施の形態６］
図１０は、本発明の実施の形態６に係る電気光学装置に形成されている多数の画素のうちの３つを拡大して示す断面図である。

図１０に示すように、本形態の電気光学装置１ａでも、実施の形態１と同様に、対向基板２０の内面側（液晶層８の側）に、表面に凹凸２３０を備えた透過表示用カラーフィルタ２３１（Ｒ）、２３１（Ｇ）、２３１（Ｂ）が形成され、透過表示用カラーフィルタ２３１（Ｒ）、２３１（Ｇ）、２３１（Ｂ）は、透過表示領域５１（Ｒ）、５１（Ｇ）、５１（Ｂ）、および反射表示領域５２（Ｒ）、５２（Ｇ）、５２（Ｂ）の双方に形成されている。また、反射表示領域５２（Ｒ）、５２（Ｇ）、５２（Ｂ）では、透過表示用カラーフィルタ２３１（Ｒ）、２３１（Ｇ）、２３１（Ｂ）の上層側に反射層２２が積層されている。

本形態では、実施の形態１〜５と違って、反射層２２の上層側には、反射表示用カラーフィルタが形成されておらず、反射層２２の上層側には、透明な感光性からなる層厚調整層２５が形成されている。従って、透過モードではカラー画像を表示するが、反射モードではモノクロ画像を表示することになる。

このように構成した電気光学装置１ａでも、実施の形態１と同様に、透過表示用カラーフィルタ２３１（Ｒ）、２３１（Ｇ）、２３１（Ｂ）が、反射層２２に凹凸２２０を付すための凹凸形成層としての機能も担っているため、凹凸形成層を省略でき、基板上に形成する樹脂層の数を減らすことができるので、生産性を向上することができる。

また、層厚調整層２５によって液晶層８の層厚を調整する際、透過表示領域５１（Ｒ）、５１（Ｇ）、５１（Ｂ）に形成された透過表示用カラーフィルタ２３１（Ｒ）、２３１（Ｇ）、２３１（Ｂ）が反射表示領域５２（Ｒ）、５２（Ｇ）、５２（Ｂ）にも形成されているので、透過表示用カラーフィルタ２３１（Ｒ）、２３１（Ｇ）、２３１（Ｂ）が反射表示領域５２（Ｒ）、５２（Ｇ）、５２（Ｂ）に形成されていない場合と比較して、透過表示用カラーフィルタ２３１（Ｒ）、２３１（Ｇ）、２３１（Ｂ）の厚さ分だけ、層厚調整層２５を薄くできる。従って、フォトリソグラフィ技術を利用して層厚調整層２５を形成する際、層厚調整層２５の膜厚や形成領域に対する精度が高いという利点があるなど、実施の形態１と同様な効果を奏する。

さらに、本形態では、透過モードではカラー画像を表示し、反射モードではモノクロ画像を表示するが、反射モードでモノクロ画像を表示する際、表示光がカラーフォルタを透過しないので、明るいモノクロ画像を表示することができる。

［実施の形態７］
上記実施の形態１〜６では、対向基板２０の側に透過表示用カラーフィルタ２３１（Ｒ）、２３１（Ｇ）、２３１（Ｂ）、および反射層２２が形成されているとともに、反射表示用カラーフィルタ２３２（Ｒ）、２３２（Ｇ）、２３２（Ｂ）、および層厚調整層２５も対向基板２０の側に形成されていたが、反射表示用カラーフィルタ２３２（Ｒ）、２３２（Ｇ）、２３２（Ｂ）、あるいは層厚調整層２５については、素子基板１０の側に形成してもよい。

［実施の形態８］
図１１は、本発明の実施の形態８に係る電気光学装置に形成されている多数の画素のうちの１つを拡大して示す断面図である。

上記実施の形態１〜６では、対向基板２０の側に反射層２２が形成されている構成であったが、図１１に示すように、素子基板側に反射層が形成されている電気光学装置に本発明を適用してもよい。この場合、対向基板が観察面側に位置する第１の基板に相当し、素子基板が観察面とは反対側に位置する第２の基板に相当する。なお、本形態でも、実施の形態１〜６と同様、赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、青色（Ｂ）の画素（サブドット）の基本的な構造が共通しているので、図１１には、１つ分の画素のみを示してある。

図１１に示すように、本形態の電気光学装置１ｂでは、観察面側に位置する第１の基板としての対向基板２０と、観察面側とは反対側に位置する第２の基板としての素子基板１０との間に液晶層８が保持されている。素子基板１０には下地膜１１が形成され、この下地膜１１の表面には、複数本のデータ線６と、それらのデータ線６に接続された複数のＴＦＤ素子７とが形成されている。データ線６およびＴＦＤ素子７の表面側には、透光性の層間絶縁膜１４が形成されている。また、層間絶縁膜１４の上層には反射層２２が積層され、この反射層２２の除去部分によって光透過部２２１が構成されている。

本形態でも、反射層２２によって、反射表示領域５２（Ｒ）、５２（Ｇ）、５２（Ｂ）が構成され、反射層２２の除去部分からなる光透過部２２１によって、透過表示領域５１（Ｒ）、５１（Ｇ）、５１（Ｂ）が構成されている。

本形態において、層間絶縁膜１４は、赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、青色（Ｂ）の画素５０（Ｒ）、５０（Ｇ）、５０（Ｂ）に対応する色の透光性のカラー樹脂によって構成され、それにより、透過表示用カラーフィルタ２３１（Ｒ）、２３１（Ｇ）、２３１（Ｂ）が構成されている。ここで、透過表示用カラーフィルタ２３１（Ｒ）、２３１（Ｇ）、２３１（Ｂ）は、透過表示領域５１（Ｒ）、５１（Ｇ）、５１（Ｂ）、および反射表示領域５２（Ｒ）、５２（Ｇ）、５２（Ｂ）の双方に形成されている。また、層間絶縁膜１４（透過表示用カラーフィルタ２３１（Ｒ）、２３１（Ｇ）、２３１（Ｂ））の表面には、凹凸２３０が形成されており、凹凸２３０は、反射層２２の表面に光散乱用の凹凸２２０として反映されている。ここで、凹凸２３０は、図５（ｂ）を参照して説明したように、型部材３００の凹凸３２０を転写したものである。

反射層２２の上層には、反射表示用カラーフィルタ２３２（Ｒ）、２３２（Ｇ）、２３２（Ｂ）が形成され、反射表示用カラーフィルタ２３２（Ｒ）、２３２（Ｇ）、２３２（Ｂ）は、反射表示領域５２（Ｒ）、５２（Ｇ）、５２（Ｂ）のみに形成されている。

ここで、反射表示用カラーフィルタ２３２（Ｒ）、２３２（Ｇ）、２３２（Ｂ）は、実施の形態１、２における層厚調整層２５として機能するほど、厚い。言い換えれば、反射層２２の上層側に層厚調整層２５を形成する際、層厚調整層２５については、各画素５０Ｒ、５０Ｇ、５０Ｂ毎に所定の透光性カラー樹脂を用い、反射表示用カラーフィルタ２３２（Ｒ）、２３２（Ｇ）、２３２（Ｂ）としての機能を担わせている。なお、層厚調整層２５（反射表示用カラーフィルタ２３２（Ｒ）、２３２（Ｇ）、２３２（Ｂ））の厚さは、反射表示領域５２（Ｒ）、５２（Ｇ）、５２（Ｂ）における液晶層８の厚さｄＲを透過表示領域５１（Ｒ）、５１（Ｇ）、５１（Ｂ）における液晶層８の厚さｄＴの約１／２とする寸法になっている。

反射表示用カラーフィルタ２３２（Ｒ）、２３２（Ｇ）、２３２（Ｂ）の上層には、ＩＴＯからなる画素電極１２、および配向膜１３がこの順に形成されている。ここで、層間絶縁膜１４および反射表示用カラーフィルタ２３２（Ｒ）、２３２（Ｇ）、２３２（Ｂ）には、コンタクトホール１４１、１４２が形成されている。図１１に示す例では、層間絶縁膜１４のコンタクトホール１４１を介して、反射層が１４１がＴＦＤ素子７に電気的に接続し、反射表示用カラーフィルタ２３２（Ｒ）、２３２（Ｇ）、２３２（Ｂ）のコンタクトホール１４２を介して、画素電極１２が反射層に電気的に接続し、その結果、画素電極１２がＴＦＤ素子７に電気的に接続する構造になっている。但し、層間絶縁膜１４および反射表示用カラーフィルタ２３２（Ｒ）、２３２（Ｇ）、２３２（Ｂ）のコンタクトホール１４１、１４２を介して、画素電極１２が直接、ＴＦＤ素子７に電気的に接続する構造を採用してもよい。

対向基板２０には、ＩＴＯ膜からなる帯状の走査線３が形成され、その上層側には配向膜２６が形成されている。

このように構成した電気光学装置１ｂでも、透過表示用カラーフィルタ２３１（Ｒ）、２３１（Ｇ）、２３１（Ｂ）が、反射層２２に凹凸２２０を付すための凹凸形成層としての機能も担っているため、凹凸形成層を省略でき、基板上に形成する樹脂層の数を減らすことができるので、生産性を向上することができる。

また、実施の形態３と同様、層厚調整層２５が反射表示用カラーフィルタ２３２（Ｒ）、２３２（Ｇ）、２３２（Ｂ）としての機能を担っているので、反射表示用カラーフィルタ２３２（Ｒ）、２３２（Ｇ）、２３２（Ｂ）を別途、形成する必要がない。言い換えれば、反射表示用カラーフィルタ２３２（Ｒ）、２３２（Ｇ）、２３２（Ｂ）が層厚調整層２５としての機能を担っているので、層厚調整層２５を別途、形成する必要がない。それ故、基板上に形成する樹脂層の数をさらに減らすことができるので、生産性をさらに向上することができる。

さらに、層厚調整層２５（反射表示用カラーフィルタ２３２（Ｒ）、２３２（Ｇ）、２３２（Ｂ））によって液晶層８の層厚を調整する際、透過表示領域５１（Ｒ）、５１（Ｇ）、５１（Ｂ）に形成された透過表示用カラーフィルタ２３１（Ｒ）、２３１（Ｇ）、２３１（Ｂ）が反射表示領域５２（Ｒ）、５２（Ｇ）、５２（Ｂ）にも形成されているので、透過表示用カラーフィルタ２３１（Ｒ）、２３１（Ｇ）、２３１（Ｂ）が反射表示領域５２（Ｒ）、５２（Ｇ）、５２（Ｂ）に形成されていない場合と比較して、透過表示用カラーフィルタ２３１（Ｒ）、２３１（Ｇ）、２３１（Ｂ）の厚さ分だけ、層厚調整層２５を薄くできる。従って、フォトリソグラフィ技術などを利用して層厚調整層２５を形成する際、層厚調整層２５の膜厚や形成領域に対する精度が高いという利点がある。

［実施の形態９］
図１２は、本発明の実施の形態９に係る電気光学装置に形成されている多数の画素のうちの１つを拡大して示す断面図である。

実施の形態８では、素子基板１０の側に透過表示用カラーフィルタ２３１（Ｒ）、２３１（Ｇ）、２３１（Ｂ）、および反射層２２が形成されているとともに、層厚調整層２５（反射表示用カラーフィルタ２３２（Ｒ）、２３２（Ｇ）、２３２（Ｂ））も素子基板１０の側に形成されていたが、層厚調整層２５（反射表示用カラーフィルタ２３２（Ｒ）、２３２（Ｇ）、２３２（Ｂ））については、図１２を参照して以下に説明するように、対向基板２０の側に形成してもよい。

図１２に示すように、本形態の電気光学装置１ｂでは、実施の形態８と同様、透光性の層間絶縁膜１４の上層には反射層２２が積層され、この反射層２２の除去部分によって光透過部２２１が構成されている。反射層２２の上層には、ＩＴＯ膜などからなる画素電極１２と、配向膜１３とが形成されている。ここで、画素電極１２は、反射層２２の下層側に形成されてもよいが、いずれの場合も、画素電極１２は、層間絶縁膜１４のコンタクトホール１４１を介してＴＦＤ素子７に電気的に接続されている。

本形態において、層間絶縁膜１４は、実施の形態８と同様、赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、青色（Ｂ）の画素に対応する色の透光性のカラー樹脂によって構成され、それにより、透過表示用カラーフィルタ２３１（Ｒ）、２３１（Ｇ）、２３１（Ｂ）が構成されている。ここで、透過表示用カラーフィルタ２３１（Ｒ）、２３１（Ｇ）、２３１（Ｂ）は、透過表示領域５１（Ｒ）、５１（Ｇ）、５１（Ｂ）、および反射表示領域５２（Ｒ）、５２（Ｇ）、５２（Ｂ）の双方に形成されている。また、層間絶縁膜１４（透過表示用カラーフィルタ２３１（Ｒ）、２３１（Ｇ）、２３１（Ｂ））の表面には、凹凸が形成されており、凹凸は、反射層の表面に光散乱用の凹凸として反映されている。

一方、対向基板２０において、反射表示領域５２（Ｒ）、５２（Ｇ）、５２（Ｂ）には反射表示用カラーフィルタ２３２（Ｒ）、２３２（Ｇ）、２３２（Ｂ）が形成され、その上層側に走査線３および配向膜２６が形成されている。

ここで、反射表示用カラーフィルタ２３２（Ｒ）、２３２（Ｇ）、２３２（Ｂ）は、実施の形態３、８と同様、実施の形態１、２における層厚調整層２５として機能するほど、厚い。言い換えれば、反射層２２の上層側に層厚調整層２５を形成する際、層厚調整層２５については、各画素５０Ｒ、５０Ｇ、５０Ｂ毎に所定の透光性カラー樹脂を用い、反射表示用カラーフィルタ２３２（Ｒ）、２３２（Ｇ）、２３２（Ｂ）としての機能を担わせている。なお、層厚調整層２５（反射表示用カラーフィルタ２３２（Ｒ）、２３２（Ｇ）、２３２（Ｂ））の厚さは、反射表示領域５２（Ｒ）、５２（Ｇ）、５２（Ｂ）における液晶層８の厚さｄＲを透過表示領域５１（Ｒ）、５１（Ｇ）、５１（Ｂ）における液晶層８の厚さｄＴの約１／２とする寸法になっている。

このように構成した電気光学装置１ｂでも、透過表示用カラーフィルタ２３１（Ｒ）、２３１（Ｇ）、２３１（Ｂ）が、反射層２２に凹凸２２０を付すための凹凸形成層としての機能も担っているため、凹凸形成層を省略でき、基板上に形成する樹脂層の数を減らすことができるので、生産性を向上することができるなど、実施の形態１と同様な効果を奏する。

また、実施の形態３、８と同様、層厚調整層２５（反射表示用カラーフィルタ２３２（Ｒ）、２３２（Ｇ）、２３２（Ｂ））によって液晶層８の層厚を調整する際、透過表示領域５１（Ｒ）、５１（Ｇ）、５１（Ｂ）に形成された透過表示用カラーフィルタ２３１（Ｒ）、２３１（Ｇ）、２３１（Ｂ）が反射表示領域５２（Ｒ）、５２（Ｇ）、５２（Ｂ）にも形成されているので、透過表示用カラーフィルタ２３１（Ｒ）、２３１（Ｇ）、２３１（Ｂ）が反射表示領域５２（Ｒ）、５２（Ｇ）、５２（Ｂ）に形成されていない場合と比較して、透過表示用カラーフィルタ２３１（Ｒ）、２３１（Ｇ）、２３１（Ｂ）の厚さ分だけ、層厚調整層２５を薄くできる。従って、フォトリソグラフィ技術などを利用して層厚調整層２５を形成する際、層厚調整層２５の膜厚や形成領域に対する精度が高いという利点がある。

［その他の実施の形態］
実施の形態８、９は、実施の形態３に対応する構成としたが、実施の形態８、９を実施の形態１、２、４に対応する構成とする場合には、層厚調整層２５と、反射表示用カラーフィルタ２３２（Ｒ）、２３２（Ｇ）、２３２（Ｂ）とを別々に形成すればよい。また、実施の形態８、９を実施の形態６に対応する構成とする場合には、層厚調整層２５を無色透明の感光性樹脂で形成し、反射表示用カラーフィルタ２３２（Ｒ）、２３２（Ｇ）、２３２（Ｂ）を省略すればよい。

また、上記形態はいずれも、画素スイッチング素子としてＴＦＤを用いたアクティブマトリクス型の液晶装置（電気光学装置）に本発明を適用した例であったが、画素スイッチング素子としてＴＦＴ（Ｔｈｉｎ Ｆｉｌｍ Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ）を用いたアクティブマトリクス型の液晶装置（電気光学装置）に本発明を適用してもよい。かかる電気光学装置は、ＴＦＴや画素などが形成された素子基板と、対向電極が形成された対向基板との間に液晶層が保持される。従って、対向基板に反射膜を形成した場合には、実施の形態１〜７に係る構成を採用し、素子基板に反射膜を形成した場合には、実施の形態８、９に係る構成を採用すればよい。さらに、本発明は、パッシブマトリクス型の液晶装置（電気光学装置）に適用することもできる。

なお、上記実施の形態では、カラー表示用の画素を赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）に対応させたが、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）以外、例えば、イエロー、シアン、マゼンタなどに対応させてもよい。

［電子機器］
本発明に係る電気光学装置は、携帯電話機、ノート型のパーソナルコンピュータ、液晶テレビ、ビューファインダ型（またはモニタ直視型）のビデオレコーダ、デジタルカメラ、カーナビゲーション装置、ページャ、電子手帳、電卓、ワードプロセッサ、ワークステーション、テレビ電話などといった電子機器の表示部として用いることができる。

本発明を適用した電気光学装置の電気的構成を示すブロック図である。 （ａ）、（ｂ）は、本発明を適用した電気光学装置を斜め下方（対向基板）の側からみた概略斜視図、および電気光学装置をＹ方向に切断したときの断面を模式的に示す説明図である。 本発明を適用した電気光学装置の画素構成を模式的に示す平面図である。 本発明の実施の形態１に係る電気光学装置に形成されている多数の画素のうちの３つを拡大して示す断面図である。 （ａ）〜（ｅ）は、本形態の電気光学装置１に用いた対向基板２０に透過表示用カラーフィルタ、反射層、反射表示用カラーフィルタおよび層厚調整層を形成する工程を示す工程断面図である。 本発明の実施の形態２に係る電気光学装置に形成されている多数の画素のうちの３つを拡大して示す断面図である。 本発明の実施の形態３に係る電気光学装置に形成されている多数の画素のうちの３つを拡大して示す断面図である。 本発明の実施の形態４に係る電気光学装置に形成されている多数の画素のうちの３つを拡大して示す断面図でる。 本発明の実施の形態５に係る電気光学装置に形成されている多数の画素のうちの３つを拡大して示す断面図である。 本発明の実施の形態６に係る電気光学装置に形成されている多数の画素のうちの３つを拡大して示す断面図である。 本発明の実施の形態８に係る電気光学装置に形成されている多数の画素のうちの１つを拡大して示す断面図である。 本発明の実施の形態９に係る電気光学装置に形成されている多数の画素のうちの１つを拡大して示す断面図である。

符号の説明

１ａ、１ｂ 電気光学装置、８ 液晶層、１０ 素子基板、２０ 対向基板、２２ 反射層、２５ 層厚調整層、５０ 画素、５１ 透過表示領域、５２ 反射表示領域、２２１ 光透過部、２３０ 透過表示用カラーフィルタの凹凸、２３１ 透過表示用カラーフィルタ、２３２ 反射表示用カラーフィルタ、３００ 型部材

Claims (10)

1. 観察面側に位置する第１の基板と観察面側とは反対側に位置する第２の基板との間に保持された液晶層を有するとともに、観察面とは反対側から入射した光を観察面側に出射する透過表示領域、および観察面側から入射した光を観察面側に反射する反射表示領域を各色に対応する複数の画素の各々に備えた電気光学装置において、
   前記複数の画素の各々は、前記第２の基板の内面側における前記透過表示領域および前記反射表示領域に凹凸が表面に形成された所定色の透過表示用カラーフィルタを備えているとともに、前記反射表示領域の前記透過表示用カラーフィルタの上層に反射層を備え、
   前記第１の基板の内面および前記第２の基板の内面のうち少なくとも一方には、前記反射表示領域における前記液晶層の厚さを前記透過表示領域における前記液晶層の厚さよりも薄くする層厚調整層を備えていることを特徴とする電気光学装置。
2. 前記層厚調整層は、前記反射層の上層側に形成されていることを特徴とする請求項１に記載の電気光学装置。
3. 前記複数の画素の各々は、前記反射層の上層側、および前記第１の基板の内面のうち少なくとも一方に、前記反射表示領域に形成された所定色の反射表示用カラーフィルタを備えていることを特徴とする請求項１または２に記載の電気光学装置。
4. 前記反射表示用カラーフィルタは、前記反射層の上層側に形成されていることを特徴とする請求項３に記載の電気光学装置。
5. 前記反射表示用カラーフィルタは、前記透過表示領域にも形成されていることを特徴とする請求項３または４に記載の電気光学装置。
6. 前記層厚調整層は、所定色の反射表示用カラーフィルタとして、前記反射層の上層側、および前記第１の基板の内面のうち少なくとも一方に形成されていることを特徴とする請求項１に記載の電気光学装置。
7. 前記層厚調整層は、前記反射層の上層側に形成されていることを特徴とする請求項６に記載の電気光学装置。
8. 前記凹凸は、前記透過表示用カラーフィルタの表面に対して型部材の凹凸を転写してなることを特徴とする請求項１ないし７のいずれかに記載の電気光学装置。
9. 観察面側に位置する第１の基板と観察面側とは反対側に位置する第２の基板との間に保持された液晶層を有するとともに、観察面とは反対側から入射した光を観察面側に出射する透過表示領域、および観察面側から入射した光を観察面側に反射する反射表示領域を各色に対応する複数の画素の各々に備えた電気光学装置の製造方法において、
   前記第２の基板に対し、前記複数の画素の前記透過表示領域および前記反射表示領域に所定色のカラー樹脂層を形成するカラー樹脂層形成工程と、
   前記カラー樹脂層の表面に型部材の凹凸を転写して、凹凸を表面に備えた所定色の透過表示用カラーフィルタを前記複数の画素の各々に形成する凹凸転写工程と、
   前記透過表示用カラーフィルタの上層のうち、前記反射表示領域に反射層を選択的に形成する反射層形成工程と
   を有することを特徴とする電気光学装置の製造方法。
10. 前記凹凸転写工程においては、前記カラー樹脂層の表面に選択的に前記型部材の凹凸を転写することを特徴とする請求項９に記載の電気光学装置の製造方法。

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