JP4600036B2 - 電気光学装置および電子機器 - Google Patents

Description

本発明は、透過モードおよび反射モードの一方でカラー表示を行い、他方でモノクロ表
示あるいは単色表示を行う電気光学装置、この種の電気光学装置に使用されるカラーフィ
ルタ基板、および電子機器に関するものである。

各種の電気光学装置のうち、半透過反射型の電気光学装置では、複数のサブ画素の各々
に、観察面とは反対側から入射した光が観察面側に出射する間に電気光学物質によって光
変調する透過表示領域と、観察面側から入射した光を反射層によって観察面側に反射する
間に電気光学物質によって光変調する反射表示領域とが形成されている。ここで、透過表
示領域および反射表示領域の各々に、反射層に対して観察面側に位置する層間にカラーフ
ィルタを形成しておけば、カラー画像を表示することができる。但し、反射表示領域から
観察面側に出射される光は、カラーフィルタを２回透過するので色純度は高いが、輝度が
低下した着色光である。それに対して、透過表示領域から観察面側に出射される光は、カ
ラーフィルタを１回だけ透過するため、輝度の低下は小さいが、色純度が低い着色光であ
る。従って、透過モードで画像を表示する際に充分な色再現性と明るさが得られるように
カラーフィルタの厚さや着色性を高めると、反射モードで画像を表示したときの表示が暗
くなってしまう。

そこで、透過表示領域のみにカラーフィルタを形成することにより、透過モードでは、
色再現性および明るさが充分なカラー画像を表示し、反射モードでは明るい白黒画像を表
示することが提案されている（例えば、特許文献１参照）。
特開２００４−９３６７０号公報の図４

しかしながら、特許文献１に開示の構成では、カラーフィルタが透過表示領域のみに形
成され、反射表示領域に一切重なっていないため、透過モードで画像を表示した際、反射
層とカラーフィルタとの隙間から観察面側に光が漏れてしまい、かかる光漏れは、カラー
フィルタを透過していないため、透過モードでカラー画像を表示する際に色抜けを発生さ
せるという問題点がある。

ここに、本願出願人は、カラーフィルタを透過表示領域よりもやや広めに形成し、カラ
ーフィルタの端部を反射表示領域に重ねることにより、透過モードでカラー画像を表示す
る際の色抜けを防止することを提案するものである。このように構成した場合、反射モー
ドで白表示を行った際、反射表示領域からはわずかに着色した光が観察面側に出射される
ことになるが、各サブ画素から出射される光が合成される結果、画素全体としては白色が
表示されることになるはずである。しかしながら、実際は、赤色、緑色、青色に対する視
感度を比較すると、赤色や青色と比較して緑色に対する視感度が高いため、例えば、ノー
マリブラックの場合では、透過モードで画像を表示する際の信号については、同一の諧調
であっても、緑色のサブ画素に供給される信号の電圧レベルを赤色や青色のサブ画素に供
給される信号の電圧レベルに比して低く設定し、透過モードでカラー画像を表示した際の
品位を高めてある。このため、透過モードでカラー画像を表示するための信号をそのまま
用いて反射モードでモノクロ画像を表示すると、緑色の光の輝度が低くなる分、画像が紫
色に着色されて表示され、かつ、その着色状態が変動するという、不自然な着色が発生す
るという問題点がある。また、反射表示領域に単色の着色層、例えば、緑色の着色層を備
えることで、緑と黒の表示を行う単色表示を行う場合においても、同様な問題点がある。

以上の問題点に鑑みて、本発明の課題は、透過モードおよび反射モードの一方でカラー
表示を行い、他方でモノクロ表示あるいは単色表示を行う場合でも、モノクロ表示あるい
は単色表示を行った際、画像に不自然な着色が発生しない電気光学装置、この種の電気光
学装置に使用されるカラーフィルタ基板、および電子機器を提供することにある。

上記課題を解決するために、本発明では、複数色の各々に対応する複数のサブ画素を備
えた画素がマトリクス状に多数配置され、前記複数のサブ画素の各々には、観察面とは反
対側から入射した光を観察面側に出射して透過モードで表示を行う透過表示領域と、観察
面側から入射した光を観察面側に反射して反射モードで表示を行うための反射層を備えた
反射表示領域とが形成された電気光学装置において、前記透過モードおよび前記反射モー
ドのうちのいずれか一方のモードでモノクロ表示あるいは単色表示を行い、他方のモード
ではカラー表示を行い、前記透過表示領域および前記反射表示領域のうち、カラー表示を
行う一方側領域には、一部が他方側領域に平面的に重なるカラー表示用カラーフィルタが
形成され、前記複数のサブ画素の各々の前記他方側領域には、前記複数色のうち、当該他
方側領域が属するサブ画素に対応する前記カラー表示用カラーフィルタの色以外の全ての
色の色補正用カラーフィルタが部分的に形成されていることを特徴とする。

本発明において、前記一方側領域は、例えば、前記透過表示領域であり、前記他方側領
域は前記反射表示領域である。

本発明では、カラー表示用カラーフィルタの一部が反射表示領域と平面的に重なってい
るため、透過モードで画像を表示した際、カラー表示用カラーフィルタを透過せずに観察
面側に光が漏れることがない。また、各サブ画素の反射表示領域には、この反射表示領域
が属するサブ画素に形成されているカラー表示用カラーフィルタの色以外の全ての色の色
補正用カラーフィルタが形成されており、例えば、色補正用カラーフィルタの色毎の面積
、およびカラー表示用カラーフィルタと反射表示領域との重なり面積が等しい。このため
、反射モードでモノクロ画像を表示する際、カラー表示用カラーフィルタと反射表示領域
との重なり部分から着色された光が観察面側から出射された場合でも、このサブ画素から
は、色補正用カラーフィルタによって他の色に着色された光も観察面側から出射される。
従って、例えば、緑色のサブ画素に供給される信号については、同一の諧調であっても赤
色や青色のサブ画素に供給される信号に比して駆動電圧のレベルを低く設定してあっても
、画素全体からみれば、各色光が同一の輝度で出射されるので、不自然な着色が目立たな
い。よって、反射モードでは明るくて品位の高い白黒画像を表示でき、透過モードでは、
色再現性および明るさが充分なカラー画像を表示することができる。

本発明において、各々の前記複数のサブ画素内では、前記色補正用カラーフィルタが少
なくとも２色あり、前記２色の前記色補正用カラーフィルタ間で面積が相違する構成を採
用してもよい。例えば、前記複数色が赤色、緑色および青色である場合、緑色の前記補正
用カラーフィルタの面積を、赤色および青色の前記補正用カラーフィルタの面積よりも狭
くしてもよい。このような構成は、緑色の視感度が赤色や青色に比較して高いことに起因
する着色を防止するのに効果的である。なお、赤色と青色との視感度も補正する必要があ
るときには、青色の補正用カラーフィルタの面積を赤色の補正用カラーフィルタの面積よ
りも広くすればよい。

本発明において、前記複数のサブ画素に色補正用カラーフィルタを形成するにあたって
は、例えば、隣接する２つの前記サブ画素の境界領域に沿って、前記複数色のうちの少な
くとも２色のカラーフィルタが重ね合わされた帯状領域が形成され、前記色補正用カラー
フィルタは、前記帯状領域からはみ出している構造とする。

また、本発明において、前記複数のサブ画素に色補正用カラーフィルタを形成するにあ
たっては、隣接する位置で異なる色に対応する２つの前記サブ画素に跨って、当該２つの
サブ画素に形成されている前記カラー表示用カラーフィルタと異なる色の前記色補正用カ
ラーフィルタが形成されている構造を採用してもよい。また、隣接する位置で異なる色に
対応する２つの前記サブ画素の境界領域に沿って、少なくとも２色に対応するカラーフィ
ルタが重ねて形成し、遮光層として利用してもよい。

本発明において、隣接する位置で異なる色に対応する２つの前記サブ画素では、一方の
サブ画素の前記カラー表示用カラーフィルタが他方のサブ画素まで延設されているととも
に、当該他方のサブ画素の前記カラー表示用カラーフィルタが前記一方のサブ画素まで延
設されて、２つの前記サブ画素の境界領域に沿って、前記一方及び他方のカラー表示用カ
ラーフィルタ同士が重なっている構成を採用してもよい。

観察面とは反対側から入射した光を観察面側に出射して透過モードで表示を行う透過表示領域と、観察面側から入射した光を反射層によって観察面側に反射して反射モードで表示を行うための反射層を備えた反射表示領域と、を有するサブ画素がマトリクス状に複数備えられ、前記透過表示領域の全体に平面的に重ねて配置されるとともに前記反射層の端部と重なる領域に配置されたカラー表示用カラーフィルタを備えた電気光学装置において、所定の前記サブ画素において、所定の色の前記カラー表示用カラーフィルタが備えられているとともに、前記所定の色とは異なる色の色補正用カラーフィルタが、前記所定の色の前記カラー表示用カラーフィルタとは平面的に離間して、前記反射層と重なる位置に配置されていることを特徴とする。

本発明に係る電気光学装置は、携帯電話機やモバイルコンピュータなどといった電子機
器に用いることができる。

［実施の形態１］
（全体構成）
図１は、本発明を適用した電気光学装置の電気的構成を示すブロック図である。図２（
ａ）、（ｂ）は、本発明を適用した電気光学装置を斜め下方（カラーフィルタ基板）の側
からみた概略斜視図、および電気光学装置をＹ方向に切断したときの断面を模式的に示す
説明図である。なお、以下の説明においては、便宜上、互いに直交する方向をＸ方向およ
びＹ方向とし、液晶層に対して素子基板側を表示画像を視認する観察者が位置する側とい
う意味で「観察面側」と表記し、液晶層に対してカラーフィルタ基板側を「観察面側とは
反対の背面側」と表記する。

図１に示す電気光学装置１ａは、画素スイッチング素子としてＴＦＤ（Ｔｈｉｎ Ｆｉｌｍ Ｄｉｏｄｅ）を用いた半透過反射型のアクティブマトリクス型液晶装置であり、交差する２方向をＸ方向およびＹ方向としたとき、複数の走査線３がＸ方向（行方向）に延びており、複数のデータ線６がＹ方向（列方向）に延びている。走査線３とデータ線６との各交差点に対応する位置にはサブ画素５１Ｒ、５１Ｇ、５１Ｂが各々形成され、これらのサブ画素５１Ｒ、５１Ｇ、５１Ｂのいずれにおいても、液晶層８と、画素スイッチング用のＴＦＤ素子７とが直列に接続されている。各走査線３は走査線駆動回路３ａによって駆動され、各データ線６はデータ線駆動回路６ａによって駆動される。

サブ画素５１Ｒ、５１Ｇ、５１Ｂは、後述するカラー表示用カラーフィルタの色によっ
て、赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、青色（Ｂ）に各々対応しており、これら３つの画素５１Ｒ
、５１Ｇ、５１Ｂによって１つの画素５が構成されている。従って、本形態では、これら
３つの画素５１Ｒ、５１Ｇ、５１Ｂを備えた画素５が多数、マトリクス状に配置されてい
る。

図２（ａ）、（ｂ）に示すように、電気光学装置１ａを構成するにあたって、本形態で
は、素子基板１０とカラーフィルタ基板２０（対向基板）とをシール材３０によって貼り
合わせるとともに、両基板とシール材３０とによって囲まれた領域内に電気光学物質とし
ての液晶を封入し、液晶層８を構成してある。シール材３０は、カラーフィルタ基板２０
の縁辺に沿って略長方形の枠状に形成されるが、液晶を封入するために一部が開口してい
る。このため、液晶の封入後にその開口部分が封止材３１によって封止される。

素子基板１０は、カラーフィルタ基板２０とシール材３０によって貼り合わされた状態
でカラーフィルタ基板２０の端縁から一方の側に張り出した張り出し領域１０ａを有して
おり、この張り出し領域１０ａに向けて、走査線３およびデータ線６に接続する配線パタ
ーンが延びている。シール材３０には導電性を有する多数の導通粒子が分散されている。
この導通粒子は、例えば金属のメッキが施されたプラスチックの粒子や、導電性を有する
樹脂の粒子であり、素子基板１０およびカラーフィルタ基板２０の各々に形成された所定
の配線パターン同士を基板間導通させる機能を備えている。このため、本形態では、走査
線３およびデータ線６に信号を出力するＩＣ４１が素子基板１０の張り出し領域１０ａに
ＣＯＧ実装され、かつ、この素子基板１０の張り出し領域１０ａの端縁に対して可撓性基
板４２が接続されている。

また、本形態の電気光学装置１ａでは、カラーフィルタ基板２０の側（背面側）にバックライト装置９０が配置され、このバックライト装置９０は、光源としての複数のＬＥＤ９１（発光素子）と、これらのＬＥＤ９１から出射された光が側端面から入射して出射面からカラーフィルタ基板２０に向けて出射される透明樹脂製の導光板９２とを備えている。導光板９２とカラーフィルタ基板２０との間には、位相差板や偏光板などの他、光散乱シートやプリズムシートが対向配置され、素子基板１０の側にも、位相差板や偏光板が対向配置されるが、本発明とは直接の関係がないため、それらの図示および説明を省略する。

（サブ画素の構成）
図３は、本発明の実施の形態１に係る電気光学装置に形成されている多数のサブ画素の
うちの１つを拡大して示す断面図である。図４は、本発明の実施の形態１に係る電気光学
装置の画素構成を模式的に示す平面図である。図５（ａ）、（ｂ）、（ｃ）は、図４に示
す多数のサブ画素のうちのいくつかを拡大して示す平面図、図５（ａ）のＶＢ−ＶＢ′断
面図、および図５（ａ）のＶＣ−ＶＣ′断面図である。なお、図３は、図４のIII−III′
線で切断した断面図に相当する。また、図４および図５（ａ）には、カラーフィルタ基板
に形成される要素を実線で示し、素子基板に形成される要素を点線で示してある。

図２（ａ）、（ｂ）において、素子基板１０およびカラーフィルタ基板２０は、ガラス
や石英などの光透過性を有する板状部材である。

図３に示すように、素子基板１０の内側（液晶層８の側）表面には、下地膜１１、上述
した複数のデータ線６、このデータ線６に電気的に接続するＴＦＤ素子７、このＴＦＤ素
子７を介してデータ線６に電気的に接続するＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ
）などからなる画素電極１２、および配向膜１３などが形成されている。ＴＦＤ素子７は
、第１のＴＦＤ素子７１および第２のＴＦＤ素子７２からなり、データ線６の側からみて
も、あるいはその反対側からみても順番に、第１金属膜／酸化膜／第２金属膜となってい
る。このため、第１のＴＦＤ素子７１と第２のＴＦＤ素子７２は、反対のダイオードスイ
ッチング特性を有しているので、１つのダイオードを用いる場合と比べると、電流−電圧
の非線形特性が正負の双方向にわたって対称化されることになる。

図３、図４および図５（ａ）、（ｂ）に示すように、カラーフィルタ基板２０の内側（
液晶層８の側）の面上には、感光性樹脂層からなる凹凸形成層２１、およびアルミニウム
合金や銀合金などからなる反射層２２がこの順に積層され、反射層２２の表面には、凹凸
形成層２１の凹凸が光散乱用の凹凸として反映されている。このため、反射層２２で反射
された反射光には散乱性が付与されるため、画像をみる角度で明るさが異なるなどの視野
角依存性や背景の写り込みなどが発生しない。

カラーフィルタ基板２０の各サブ画素５１Ｒ、５１Ｇ、５１Ｂにおいて、反射層２２に
は、画素電極１２と対向する領域の一部が部分的に除去されて光透過部２２０が形成され
ている。本形態では、光透過部２２０に対応する領域の凹凸形成層２１が完全に除去され
ているが、光透過部２２０においては、凹凸形成層２１を他の領域と比較して薄く残して
もよく、凹凸形成層２１を他の領域と同等の厚さで残してもよい。

また、カラーフィルタ基板２０には、画素電極１２と対向する領域のうち、反射層２２
の光透過部２２０と平面的に重なる領域に赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、青色（Ｂ）のカラー
表示用カラーフィルタ２３Ｒ、２３Ｇ、２３Ｂが形成されており、このカラー表示用カラ
ーフィルタ２３Ｒ、２３Ｇ、２３Ｂの端部は、反射層２２の端部と重なっている。なお、
１つのサブ画素５１Ｒ、５１Ｇ、５１Ｂには、赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、青色（Ｂ）のカ
ラー表示用カラーフィルタ２３Ｒ、２３Ｇ、２３Ｂのうち、所定の色の１つが形成されて
おり、サブ画素に赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、青色（Ｂ）のいずれの色のカラー表示用カラ
ーフィルタを形成するかによって、各サブ画素が赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、あるいは青色
（Ｂ）のいずれに対応するかが決定され、かつ、３つの色に対応するサブ画素５１Ｒ、５
１Ｇ、５１Ｂによって、１つ画素５が構成される。ここで、カラー表示用カラーフィルタ
２３Ｒ、２３Ｇ、２３Ｂの厚さや、色材の種類、配合量は、透過モードでカラー画像を表
示するのに最適な条件に設定されている。

さらに、カラーフィルタ基板２０の側には、画素電極１２と対向する領域を避けるよう
にブラックマトリクスあるいはブラックストライプと称せられる遮光層２４が形成されて
いる。また、遮光層２４およびカラー表示用カラーフィルタ２３Ｒ、２３Ｇ、２３Ｂの上
層側には、その平坦化および保護のために光透過性の平坦化層２５がコーティングされて
いる。この平坦化層２５の表面には、ＩＴＯからなる帯状の走査線３が形成され、さらに
、それらの表面に配向膜２６が形成されている。

（表示動作）
本形態の電気光学装置１ａでは、いずれのサブ画素５１Ｒ、５１Ｇ、５１Ｂにおいても、光透過部２２０が形成されている領域は、矢印ＬＴで示すように、観察面とは反対側から入射した光（バックライト装置９０から出射された光）を観察面側に出射して透過モードで表示を行う透過表示領域５６Ｒ、５６Ｇ、５６Ｂとして機能する。また、光反射層２２が形成されている領域は、矢印ＬＲで示すように、観察面側から入射した外光を観察面側に反射して反射モードで表示を行う反射表示領域５７Ｒ、５７Ｇ、５７Ｂとして機能する。ここで、透過表示領域５６Ｒ、５６Ｇ、５６Ｂには、カラー表示用カラーフィルタ２３Ｒ、２３Ｇ、２３Ｂが形成されているため、本形態の電気光学装置１ａは、透過モードでカラー画像を表示する。その際、いずれのサブ画素５１Ｒ、５１Ｇ、５１Ｂにおいても、カラー表示用カラーフィルタ２３Ｒ、２３Ｇ、２３Ｂは、透過表示領域５６Ｒ、５６Ｇ、５６Ｂから反射表示領域５７Ｒ、５７Ｇ、５７Ｂの側に部分的にはみ出して端部が反射層２２（反射表示領域５７Ｒ、５７Ｇ、５７Ｂ）と部分的に重なっているので、バックライトユニット９０からの光がカラー表示用カラーフィルタ２２Ｒ、２２Ｇ、２２Ｂを透過せずに出射されることがない。

これに対して、反射表示領域５７Ｒ、５７Ｇ、５７Ｂにはカラー表示用カラーフィルタ２３Ｒ、２３Ｇ、２３Ｂが形成されていないため、モノクロ画像を表示する。

このような表示モードの切り換えは、電気光学装置１ａを搭載した電子機器での利用者
の操作（電気光学装置外からの指令）、あるいは、外光強度の計測結果などに基づいて自
動的に行われる。ここで、透過モードでのカラー画像の表示と、反射モードでのモノクロ
画像の表示とは、一方の表示途中で切り換えられることもある。このような表示動作を行
うにあたって、本形態では、透過モードでカラー画像を表示するための信号をそのまま用
いて反射モードでモノクロ画像を表示する。

（色補正用カラーフィルタの構成）
図４および図５（ａ）、（ｃ）に示すように、本形態の電気光学装置１ａにおいて、赤
色（Ｒ）のサブ画素５１Ｒでは、反射層２２（反射表示領域５７Ｒ）と重なる位置に、こ
の反射表示領域５７Ｒが属するサブ画素５１Ｒに形成されているカラー表示用カラーフィ
ルタ２３Ｒの色以外の全ての色、すなわち、緑色（Ｇ）および青色（Ｂ）の色補正用カラ
ーフィルタ２３Ｇ′、２３Ｂ′が並列して形成されている。また、緑色（Ｇ）のサブ画素
５１Ｇでは、反射層２２（反射表示領域５７Ｇ）と重なる位置に、この反射表示領域５７
Ｇが属するサブ画素５１Ｇに形成されているカラー表示用カラーフィルタ２３Ｇの色以外
の全ての色、すなわち、青色（Ｂ）および赤色（Ｒ）の色補正用カラーフィルタ２３Ｂ′
、２３Ｒ′が並列して形成されている。さらに、青色（Ｂ）のサブ画素５１Ｂでは、反射
層２２（反射表示領域５７Ｂ）と重なる位置に、この反射表示領域５７Ｂが属するサブ画
素５１Ｂに形成されているカラー表示用カラーフィルタ２３Ｂの色以外の全ての色、すな
わち、赤色（Ｒ）および緑色（Ｇ）の色補正用カラーフィルタ２３Ｒ′、２３Ｇ′が並列
して形成されている。

このような色補正用カラーフィルタ２３Ｒ′、２３Ｇ′、２３Ｂ′はいずれも、カラー
表示用カラーフィルタ２３Ｒ、２３Ｇ、２３Ｂと同時形成された層であり、反射層２２と
平坦化膜２５との層間（反射層２２より観察面側）に形成されている。

ここで、各サブ画素５１Ｒ、５１Ｇ、５１Ｂに形成されている色補正用カラーフィルタ
２３Ｒ′、２３Ｇ′、２３Ｂ′の面積はいずれも等しく設定されている。また、色補正用
カラーフィルタ２３Ｒ′、２３Ｇ′、２３Ｂ′の１つ当たりの面積は、カラー表示用カラ
ーフィルタ２３Ｒ、２３Ｇ、２３Ｂと反射表示領域５７Ｒ、５７Ｇ、５７Ｂ（反射層２２
）との重なり領域５８Ｒ、５８Ｇ、５８Ｂの面積と等しく設定されている。従って、各サ
ブ画素５１Ｒ、５１Ｇ、５１Ｂにおいて、反射表示領域５７Ｒ、５７Ｇ、５７Ｂ（反射層
２２）と重なって形成されているカラーフィルタの面積は、以下
サブ画素５１Ｒ
重なり領域５８Ｒのカラー表示用カラーフィルタ２３Ｒの面積
＝色補正用カラーフィルタ２３Ｇの面積
＝色補正用カラーフィルタ２３Ｂの面積
サブ画素５１Ｇ
重なり領域５８Ｇのカラー表示用カラーフィルタ２３Ｇの面積
＝色補正用カラーフィルタ２３Ｂの面積
＝色補正用カラーフィルタ２３Ｒの面積
サブ画素５１Ｂ
重なり領域５８Ｂのカラー表示用カラーフィルタ２３Ｂの面積
＝色補正用カラーフィルタ２３Ｒの面積
＝色補正用カラーフィルタ２３Ｇの面積
に示すように、色間で等しくなるように設定されている。

このため、反射モードで表示を行う際、各サブ画素５１Ｒ、５１Ｇ、５１Ｂにどのような駆動信号を供給した場合も、１つの画素５から出射される各色（Ｒ、Ｇ、Ｂ）の光の輝度は常に等しい。従って、本形態の電気光学装置１ａでは、透過モードでカラー画像を表示する際の信号において、緑色（Ｒ）のサブ画素５１Ｇに供給される信号については、同一の諧調であっても赤色（Ｒ）や青色（Ｂ）のサブ画素５１Ｒ、５１Ｂに供給される信号に比して駆動電圧のレベルを低く設定してあっても、１つの画素５全体からみれば、各色の光が同一の輝度で出射されるので、赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、青色（Ｂ）の各光が加算合成される結果、白色となり、不自然な着色が発生しない。また、色間で諧調が異なっているような信号がそのまま各サブ画素５１Ｒ、５１Ｇ、５１Ｂに供給されたときでも、各サブ画素５１Ｒ、５１Ｇ、５１Ｂから出射される赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、青色（Ｂ）の各光が加算合成される結果、着色が発生しない。それ故、透過モードでカラー画像を表示するための信号をそのまま用いて反射モードでモノクロ画像を表示した場合でも、画像が着色されず、かつ、その着色状態が変動する問題を回避できる。よって、本形態によれば、反射モードでは明るくて品位の高い白黒画像を表示でき、透過モードでは、色再現性および明るさが充分なカラー画像を表示することができる。

［実施の形態２］
図６（ａ）、（ｂ）、（ｃ）は、本発明の実施の形態２に係る電気光学装置の多数のサ
ブ画素のうちのいくつかを拡大して示す平面図、図６（ａ）のVIＢ−VIＢ′断面図、およ
び図６（ａ）のVIＣ−VIＣ′断面図である。なお、本形態および後述する実施の形態３、
４、５、６に係る電気光学装置は、基本的な構成が実施の形態１と同様であるため、共通
する部分には同一の符号を付して図示することにして、それらの詳細な説明を省略する。

図６（ａ）、（ｂ）に示すように、本形態の電気光学装置でも、実施の形態１と同様、
カラーフィルタ基板２０の各サブ画素５１Ｒ、５１Ｇ、５１Ｂには、反射層２２の光透過
部２２０と平面的に重なる領域に赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、青色（Ｂ）のカラー表示用カ
ラーフィルタ２３Ｒ、２３Ｇ、２３Ｂが形成されており、このカラー表示用カラーフィル
タ２３Ｒ、２３Ｇ、２３Ｂの端部は、反射層２２の端部と重なっている。

また、赤色（Ｒ）のサブ画素５１Ｒでは、反射層２２（反射表示領域５７Ｒ）と重なる
位置に緑色（Ｇ）および青色（Ｂ）の色補正用カラーフィルタ２３Ｇ′、２３Ｂ′が並列
して形成され、緑色（Ｇ）のサブ画素５１Ｇでは、反射層２２（反射表示領域５７Ｇ）と
重なる位置に青色（Ｂ）および赤色（Ｒ）の色補正用カラーフィルタ２３Ｂ′、２３Ｒ′
が並列して形成され、青色（Ｂ）のサブ画素５１Ｂでは、反射層２２（反射表示領域５７
Ｂ）と重なる位置に赤色（Ｒ）および緑色（Ｇ）の色補正用カラーフィルタ２３Ｒ′、２
３Ｇ′が並列して形成されている。ここで、各サブ画素５１Ｒ、５１Ｇ、５１Ｂに形成さ
れている色補正用カラーフィルタ２３Ｒ′、２３Ｇ′、２３Ｂ′の面積はいずれも等しく
設定されている。また、色補正用カラーフィルタ２３Ｒ′、２３Ｇ′、２３Ｂ′の１つ当
たりの面積は、カラー表示用カラーフィルタ２３Ｒ、２３Ｇ、２３Ｂと反射表示領域５７
Ｒ、５７Ｇ、５７Ｂ（反射層２２）との重なり領域５８Ｒ、５８Ｇ、５８Ｂの面積と等し
く設定されている。従って、実施の形態１と同様、色間で諧調が異なっているような信号
がそのまま各サブ画素５１Ｒ、５１Ｇ、５１Ｂに供給されたときでも、各サブ画素５１Ｒ
、５１Ｇ、５１Ｂから出射される赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、青色（Ｂ）の各光が加算合成
される結果、着色が発生しない。

このような色補正用カラーフィルタ２３Ｒ′、２３Ｇ′２３Ｂ′を形成するにあたって
、本形態では、例えば、図６（ｃ）に示すように、サブ画素５１Ｒには、３色のうちの少
なくとも２色のカラーフィルタ、本形態では、３色のカラーフィルタ２３Ｒ″、２３″、
２３Ｂ″を重ね合わされた帯状領域２３０がサブ画素５１Ｒ同士の境界領域、サブ画素５
１Ｇ同士の境界領域、およびサブ画素５１Ｂ同士の境界領域に沿ってＸ方向に形成され、
色補正用カラーフィルタ２３Ｇ′２３Ｂ′は、帯状領域２３０から両側に向けて帯状領域
２３０と交差する方向（Ｘ方向）に突き出て、反射表示領域５７Ｒ、５７Ｇ、５７Ｂ（反
射層２２）と重なっている。すなわち、本形態では、帯状領域２３０に相当する帯状パタ
ーンから両側に２つの矩形パターンが張り出すようなパターンをもって３色のカラーフィ
ルタ２３Ｒ″、２３″、２３Ｂ″を順次形成していく。その結果、例えば、サブ画素５１
Ｒには、他のカラーフィルタと重なっていない領域によって色補正用カラーフィルタ２３
Ｇ′２３Ｂ′が形成される。その他のサブ画素５１Ｇ、５１Ｂでも同様である。

このように構成すると、例えば、帯状領域２３０を遮光層としてでき、かつ、カラーフ
ィルタ２３Ｒ″、２３Ｇ″、２３Ｂ″の位置が帯状領域２３０の幅方向（長手方向と直交
する方向）にずれた場合でも、常に一定面積の色補正用カラーフィルタ２３Ｇ′２３Ｂ′
を形成できるなどの利点がある。

［実施の形態３］
図７（ａ）、（ｂ）、（ｃ）は、本発明の実施の形態３に係る電気光学装置の多数のサ
ブ画素のうちのいくつかを拡大して示す平面図、図７（ａ）のVIIＢ−VIIＢ′断面図、お
よび図７（ａ）のVIIＣ−VIIＣ′断面図である。

図７（ａ）、（ｂ）に示すように、本形態の電気光学装置でも、カラーフィルタ基板２
０の各サブ画素５１Ｒ、５１Ｇ、５１Ｂにおいて、反射層２２の光透過部２２０と平面的
に重なる領域に赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、青色（Ｂ）のカラー表示用カラーフィルタ２３
Ｒ、２３Ｇ、２３Ｂが形成されており、このカラー表示用カラーフィルタ２３Ｒ、２３Ｇ
、２３Ｂの端部は、反射層２２の端部と重なっている。

また、隣接する位置で異なる色に対応する２つのサブ画素５１Ｒ、５１Ｇに跨って、２
つのサブ画素５１Ｒ、５１Ｇに形成されているカラー表示用カラーフィルタ２３Ｒ、２３
Ｇと異なる色（青色（Ｂ））のカラーフィルタ２３Ｂ″を形成し、このカラーフィルタ２
３Ｂ″とサブ画素５１Ｒ、５１Ｇの反射表示領域５７Ｒ、５７Ｇ（反射層２２）との重な
り部分を色補正用カラーフィルタ２３Ｂ′とする。ここで、色補正用カラーフィルタ２３
Ｂ′は、サブ画素５１Ｒ、５１Ｇに対して等しい面積をもって形成され、かつ、その面積
は、カラー表示用カラーフィルタ２３Ｒと反射表示領域５７Ｒ（反射層２２）との重なり
領域５８Ｒ、およびカラー表示用カラーフィルタ２３Ｇと反射表示領域５７Ｇ（反射層２
２）との重なり領域５８Ｇと等しく設定されている。その他の色補正用カラーフィルタ２
３Ｒ′、２３Ｇ′も同様である。従って、実施の形態１と同様、色間で諧調が異なってい
るような信号がそのまま各サブ画素５１Ｒ、５１Ｇ、５１Ｂに供給されたときでも、各サ
ブ画素５１Ｒ、５１Ｇ、５１Ｂから出射される赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、青色（Ｂ）の各
光が加算合成される結果、着色が発生しない。

［実施の形態４］
図８（ａ）、（ｂ）、（ｃ）は、本発明の実施の形態４に係る電気光学装置の多数のサ
ブ画素のうちのいくつかを拡大して示す平面図、図８（ａ）のVIIIＢ−VIIIＢ′断面図、
および図８（ａ）のVIIIＣ−VIIIＣ′断面図である。

図８（ａ）、（ｂ）に示すように、本形態の電気光学装置でも、実施の形態３と同様、
カラーフィルタ基板２０の各サブ画素５１Ｒ、５１Ｇ、５１Ｂにおいて、反射層２２の光
透過部２２０と平面的に重なる領域に赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、青色（Ｂ）のカラー表示
用カラーフィルタ２３Ｒ、２３Ｇ、２３Ｂが形成されており、このカラー表示用カラーフ
ィルタ２３Ｒ、２３Ｇ、２３Ｂの端部は、反射層２２の端部と重なっている。また、実施
の形態３と同様、隣接する位置で異なる色に対応する２つのサブ画素５１Ｒ、５１Ｇに跨
って、２つのサブ画素５１Ｒ、５１Ｇに形成されているカラー表示用カラーフィルタ２３
Ｒ、２３Ｇと異なる色（青色（Ｂ））のカラーフィルタ２３Ｂ″を形成し、このカラーフ
ィルタ２３Ｂ″とサブ画素５１Ｒ、５１Ｇの反射表示領域５７Ｒ、５７Ｇ（反射層２２）
との重なり部分を色補正用カラーフィルタ２３Ｂ′とする。ここで、色補正用カラーフィ
ルタ２３Ｂ′は、サブ画素５１Ｒ、５１Ｇに対して等しい面積をもって形成され、かつ、
その面積は、カラー表示用カラーフィルタ２３Ｒと反射表示領域５７Ｒ（反射層２２）と
の重なり領域５８Ｒ、およびカラー表示用カラーフィルタ２３Ｇと反射表示領域５７Ｇ（
反射層２２）との重なり領域５８Ｇ等しく設定されている。その他の色補正用カラーフィ
ルタ２３Ｒ′、２３Ｇ′も同様である。従って、実施の形態１と同様、色間で諧調が異な
っているような信号がそのまま各サブ画素５１Ｒ、５１Ｇ、５１Ｂに供給されたときでも
、各サブ画素５１Ｒ、５１Ｇ、５１Ｂから出射される赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、青色（Ｂ
）の各光が加算合成される結果、着色が発生しない。

ここで、隣接する位置で異なる色に対応する２つのサブ画素５１Ｒ、５１Ｇの境界領域
に沿って、少なくとも２色、本形態では３色のカラーフィルタ２３Ｒ″、２３Ｇ″、２３
Ｂ″が重ねて形成され、それらの重なり部分２３１によって遮光層が形成されている。従
って、金属層からなる遮光層２４（図３参照）の形成を省略できる。

［実施の形態５］
図９（ａ）、（ｂ）は、本発明の実施の形態５に係る電気光学装置の多数のサブ画素の
うちのいくつかを拡大して示す平面図、および図９（ａ）のIXＢ−IXＢ′断面図である。

図９（ａ）、（ｂ）に示すように、本形態の電気光学装置でも、実施の形態３と同様、
隣接する位置で異なる色に対応する２つのサブ画素５１Ｒ、５１Ｇに跨って、２つのサブ
画素５１Ｒ、５１Ｇに形成されているカラー表示用カラーフィルタ２３Ｒ、２３Ｇと異な
る色（青色（Ｂ））のカラーフィルタ２３Ｂ″が形成され、カラーフィルタ２３Ｂ″とサ
ブ画素５１Ｒ、５１Ｇの反射表示領域５７Ｒ、５７Ｇ（反射層２２）との重なり部分に色
補正用カラーフィルタ２３Ｂ′が形成されている。その他の色補正用カラーフィルタ２３
Ｒ′、２３Ｇ′も同様に形成されている。

また、本形態では、隣接する位置で異なる色に対応するサブ画素５１Ｒ、５１Ｇ、５１
Ｂの光透過部２２０が近接している。そこで、本形態では、例えば、サブ画素５１Ｒ、５
１Ｇでは、一方のサブ画素５１Ｒのカラー表示用カラーフィルタ２３Ｒが他方のサブ画素
５１Ｇの光透過部２２０の縁まで延設されているとともに、他方のサブ画素５１Ｇのカラ
ー表示用カラーフィルタ２３Ｇが一方のサブ画素５１Ｒの光透過部２２０の縁まで延設さ
れている。このため、カラー表示用カラーフィルタ２３Ｒ、２３Ｇの重なり部分によって
遮光層２４２が形成されている。また、サブ画素５１Ｇ、５１Ｂでは、一方のサブ画素５
１Ｇのカラー表示用カラーフィルタ２３Ｇが他方のサブ画素５１Ｂの光透過部２２０の縁
まで延設されているとともに、他方のサブ画素５１Ｂのカラー表示用カラーフィルタ２３
Ｂが一方のサブ画素５１Ｇの光透過部２２０の縁まで延設されている。このため、カラー
表示用カラーフィルタ２３Ｇ、２３Ｂの重なり部分によって遮光層２４２が形成されてい
る。同様に、サブ画素５１Ｂ、５１Ｒでは、一方のサブ画素５１Ｂのカラー表示用カラー
フィルタ２３Ｂが他方のサブ画素５１Ｒの光透過部２２０の縁まで延設されているととも
に、他方のサブ画素５１Ｒのカラー表示用カラーフィルタ２３Ｒが一方のサブ画素５１Ｂ
の光透過部２２０の縁まで延設されて、カラー表示用カラーフィルタ２３Ｂ、２３Ｒ同士
の重なり部分によって遮光層２４２が形成されている。

従って、Ｘ方向に関しては、遮光層２４２がサブ画素５１Ｒ、５１Ｇ、５１Ｂの光透過
部２２０の縁まで形成され、反射表示領域５７Ｒ、５７Ｇ、５７Ｂとカラー表示用カラー
フィルタ２３Ｒ、２３Ｇ、２３Ｂとの重なり部分がない。それ故、反射モードでモノクロ
画像を表示する際、サブ画素５１Ｒ、５１Ｇ、５１Ｂから着色された状態で出射される光
の輝度が弱いので、色補正用カラーフィルタ２３Ｒ′、２３Ｇ′２３Ｂ′の面積について
は狭くてよい。

［実施の形態６］
上記実施の形態１〜５では、各サブ画素５１Ｒ、５１Ｇ、５１Ｂにおいて、反射表示領
域５７Ｒ、５７Ｇ、５７Ｂ（反射層２２）と重なって形成されている全てのカラーフィル
タの色間での面積は等しかったが、以下、
サブ画素５１Ｒ
色補正用カラーフィルタ２３Ｂの面積
＞重なり領域５８Ｒのカラー表示用カラーフィルタ２３Ｒの面積
＞色補正用カラーフィルタ２３Ｇの面積
サブ画素５１Ｇ
色補正用カラーフィルタ２３Ｂの面積
＞色補正用カラーフィルタ２３Ｒの面積
＞重なり領域５８Ｇのカラー表示用カラーフィルタ２３Ｇの面積
サブ画素５１Ｂ
重なり領域５８Ｂのカラー表示用カラーフィルタ２３Ｂの面積
＞色補正用カラーフィルタ２３Ｒの面積
＞色補正用カラーフィルタ２３Ｇの面積
に示すように、視感度の高い緑色（Ｇ）については狭く、視感度の低い青色（Ｂ）につい
ては広くしてもよい。この場合も、各サブ画素５１Ｒ、５１Ｇ、５１Ｂにおいて、反射表
示領域５７Ｒ、５７Ｇ、５７Ｂ（反射層２２）と重なって形成されている全てのカラーフ
ィルタの色毎の面積はサブ画素間で等しくすればよい。

［変形例］
上記形態では、カラーフィルタ基板の側に反射層が形成されている構成であったが、図
１０に示すように、素子基板側に反射層が形成されている電気光学装置に本発明を適用し
てもよい。この場合には、図１０に示すように、素子基板１０には下地膜１１が形成され
、この下地膜１１の表面には、複数本のデータ線６と、それらのデータ線６に接続された
複数のＴＦＤ素子７とが形成されている。また、データ線６およびＴＦＤ素子７の表面側
には、透光性の感光性樹脂からなる層間絶縁膜１４が形成され、この層間絶縁膜７の表面
に、ＩＴＯからなる１２、アルミニウムや銀などからなる反射層１５、および配向膜１３
がこの順に形成されている。層間絶縁膜１４にはコンタクトホール１４０が形成され、こ
のコンタクトホール１４０を介して、画素電極１２および反射層１５がＴＦＤ素子７に電
気的に接続している。なお、画素電極１２と反射層１５との間には、モリブデンなどの下
地層が形成される場合がある。

ここで、画素電極１２は、サブ画素５１Ｒ、５１Ｇ、５１Ｂ全体に形成されている。こ
れに対して、反射層１５は、サブ画素５１Ｒ、５１Ｇ、５１Ｂ内の一部のみに形成されて
光透過部１５０が形成され、そこでは、画素電極１２が露出している。従って、反射層１
５の形成領域によって反射表示領域５７Ｒ、５７Ｇ、５７Ｂが形成され、反射層１５が形
成されていない領域によって透過表示領域５６Ｒ、５６Ｇ、５６Ｂが構成されている。反
射表示領域５７Ｒ、５７Ｇ、５７Ｂでは、層間絶縁膜１４の凹凸が反射層１５の表面まで
反映されている。なお、光透過部１５０では、層間絶縁膜１４の厚さ方向の一部あるいは
全体を除去してもよい。

カラーフィルタ基板２０（対向基板）には、光透過部１５０と対向する領域にカラー表示用カラーフィルタ２３Ｒ、２３Ｇ、２３Ｂが形成され、カラー表示用カラーフィルタ２３Ｒ、２３Ｇ、２３Ｂおよび遮光層２４の表面側には平坦化膜２５、帯状のＩＴＯなどからなる透光性の走査線３、およびポリイミド樹脂等からなる配向膜１３がこの順に形成されている。ここで、カラー表示用カラーフィルタ２３Ｒ、２３Ｇ、２３Ｂの端部は、反射表示領域５７Ｒ、５７Ｇ、５７Ｂ（反射層１５）と平面的に重なっている。なお、本形態では、平坦化膜２５の厚さについては、透過表示領域５６Ｒ、５６Ｇ、５６Ｂでは薄く、反射表示領域５７Ｒ、５７Ｇ、５７Ｂで厚くして、透過表示領域５６Ｒ、５６Ｇ、５６Ｂでは液晶層８を厚く、反射表示領域５７Ｒ、５７Ｇ、５７Ｂで液晶層８を薄くして、リターデーションを調整してある。

このように構成した電気光学装置１ｂでも、反射モードでモノクロ画像を表示する際、
カラー表示用カラーフィルタ２３Ｒ、２３Ｇ、２３Ｂと反射表示領域５７Ｒ、５７Ｇ、５
７Ｂ（反射層１５）との平面的な重なり領域５８Ｒ、５８Ｇ、５８Ｇから、着色された光
が出射され、その輝度のバランスが崩れると、不自然な着色が発生するので、実施の形態
１〜６で説明した色補正用カラーフィルタを形成すればよい。

また、上記形態の他、例えば、枠状の透過表示領域の内側に、島状の反射膜によって反
射表示領域が形成されている電気光学装置に本発明を適用してもよい。この場合、反射膜
の端部（反射膜が矩形形状であれば、４辺の端部）に重なるように透過表示用のカラーフ
ィルタが形成されるので、このような構成の電気光学装置に本発明を適用してもよい。

［ＴＦＴアクティブマトリクス型液晶装置］
図１１は、本発明の他の実施の形態に係る電気光学装置の電気的構成を示すブロック図
である。図１２は、図１１に示す電気光学装置の画素構成を平面的に示す説明図である。
図１３は、図１２のＣ−Ｃ′線で電気光学装置を切断してサブ画素の断面を模式的に示す
説明図である。

上記形態では、画素スイッチング素子としてＴＦＤを用いた半透過反射型のアクティブ
マトリクス型液晶装置（電気光学装置）に本発明を適用した例であったが、以下の説明す
るように、画素スイッチング素子としてＴＦＴ（Ｔｈｉｎ Ｆｉｌｍ Ｔｒａｎｓｉｓｔ
ｏｒ）を用いた半透過反射型のアクティブマトリクス型液晶装置（電気光学装置）に本発
明を適用してもよい。

この種の電気光学装置では、図１１に示すように、互いに交差する複数のデータ線１０
６ａと、複数の走査線１０３ａとが交差する部分に対応して複数のサブ画素１５１Ｒ、１
５１Ｇ、１５１Ｂが形成され、３色分のサブ画素１５１Ｒ、１５１Ｇ、１５１Ｂによって
、１つの画素１０５が構成されている。複数のサブ画素１５１Ｒ、１５１Ｇ、１５１Ｂの
各々には、画素電極１０９ａ、および画素電極１０９ａを制御するための画素スイッチン
グ用のＴＦＴ１３０が形成されており、画素信号を供給するデータ線１０６ａが当該ＴＦ
Ｔ１３０のソースに電気的に接続されている。画素電極１０９ａは、ＴＦＴ１３０のドレ
インに電気的に接続されており、スイッチング素子であるＴＦＴ１３０を一定期間だけそ
のオン状態とすることにより、データ線１０６ａから供給される画素信号を各画素に所定
のタイミングで書き込む。このようにして画素電極１０９ａを介して液晶に書き込まれた
所定レベルの画素信号は、図１３を参照して後述するカラーフィルタ基板の対向電極との
間で一定期間保持される。なお、保持された画素信号がリークするのを防ぐことを目的に
、画素電極１０９ａと対向電極との間に形成される液晶容量と並列に蓄積容量１７０が付
加されている。この蓄積容量１７０によって、画素電極１０９ａの電圧は、例えば、ソー
ス電圧が印加された時間よりも３桁も長い時間だけ保持される。これにより、電荷の保持
特性は改善され、コントラスト比の高い表示を行うことのできる電気光学装置１００が実
現できる。なお、蓄積容量１７０については、本形態のように、容量線１０３ｂとの間に
形成する場合の他、前段の走査線１０３ａとの間に形成する場合もある。

図１２において、ＴＦＴを非線形素子として用いた半透過反射型の電気光学装置に用い
たＴＦＴアレイ基板１１０上には、各サブ画素１５１Ｒ、１５１Ｂ、１５１Ｂ毎に透明な
ＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ）膜からなる画素電極１０９ａ（第１の透明
電極）が形成されており、画素電極１０９ａに対して画素スイッチング用のＴＦＴ１３０
が接続している。また、画素電極１０９ａの縦横の境界に沿って、データ線１０６ａ、走
査線１０３ａ、および容量線１０３ｂが形成され、ＴＦＴ１３０は、データ線１０６ａお
よび走査線１０３ａに対して接続している。すなわち、データ線１０６ａは、コンタクト
ホールを介してＴＦＴ１３０の高濃度ソース領域１０１ｄに電気的に接続し、走査線１０
３ａは、その突出部分がＴＦＴ１３０のゲート電極を構成している。なお、蓄積容量１７
０は、画素スイッチング用のＴＦＴ１３０を形成するための半導体膜１０１ａの延設部分
１０１ｆを導電化したものを下電極とし、この下電極１４１に容量線１０３ｂが上電極と
して重なった構造になっている。

このように構成した画素領域のＣ−Ｃ′線における断面は、図１３に示すように表され
、ＴＦＴアレイ基板１１０の表面に、シリコン酸化膜（絶縁膜）からなる下地保護膜１１
１が形成され、この下地保護膜１１１の表面には島状の半導体膜１０１ａが形成されてい
る。半導体膜１０１ａの表面にはシリコン酸化膜からなるゲート絶縁膜１０２が形成され
、このゲート絶縁膜１０２の表面に走査線１０３ａが形成されている。半導体膜１０１ａ
のうち、走査線１０３ａに対してゲート絶縁膜１０２を介して対峙する領域がチャネル領
域１０１ａ′になっている。このチャネル領域１０１ａ′に対して一方側には、低濃度ソ
ース領域１０１ｂおよび高濃度ソース領域１０１ｄを備えるソース領域が形成され、他方
側には低濃度ドレイン領域１０１ｃおよび高濃度ドレイン領域１０１ｅを備えるドレイン
領域が形成されている。

画素スイッチング用のＴＦＴ１３０の表面側には、シリコン酸化膜からなる層間絶縁膜
１０４が形成され、この層間絶縁膜１０４の表面には、シリコン窒化膜からなる表面保護
膜（図示せず）が形成されることがある。層間絶縁膜１０４の表面にはデータ線１０６ａ
が形成され、このデータ線１０６ａは、層間絶縁膜１０４に形成されたコンタクトホール
を介して高濃度ソース領域１０１ｄに電気的に接続している。層間絶縁膜１０４の表面に
はデータ線１０６ａと同時形成されたドレイン電極１０６ｂが形成され、このドレイン電
極１０６ｂは、層間絶縁膜４に形成されたコンタクトホールを介して高濃度ドレイン領域
１０１ｅに電気的に接続している。

層間絶縁膜１０４の上層には、感光性樹脂からなる凹凸形成層１１３が形成され、この
凹凸形成層１１３の表面には、アルミニウム膜などからなる光反射膜１０８ａが形成され
ている。従って、光反射膜１０８ａの表面には、凹凸形成層１１３の凹凸が反映されてい
る。光反射層１０８ａには光透過部１０８ｄとしての開口が形成されている。

このため、画素電極１０９ａと対向電極１２１とが対向するサブ画素１５１Ｒ、１５１
Ｇ、１５１Ｇには、透過表示領域１５６Ｒ、１５６Ｇ、１５６Ｂと、反射表示領域１５７
Ｒ、１５７Ｇ、５７とが構成されている。

光反射膜１０８ａの上層にはＩＴＯ膜からなる画素電極１０９ａが形成されている。画
素電極１０９ａは、光反射膜１０８ａの表面に直接、積層され、画素電極１０９ａと光反
射膜１０８ａとは電気的に接続されている。また、画素電極１０９ａは、上層絶縁膜１０
７ａおよび層間絶縁膜１０４に形成されたコンタクトホールを介してドレイン電極１０６
ｂに電気的に接続している。画素電極１０９ａの表面側にはポリイミド膜からなる配向膜
１１２が形成されている。また、高濃度ドレイン領域１０１ｅからの延設部分１０１ｆ（
下電極）に対しては、ゲート絶縁膜１０２と同時形成された絶縁膜（誘電体膜）を介して
容量線１０３ｂが上電極として対向することにより、蓄積容量１７０が構成されている。
さらに、本形態では、容量線１０３ｂの上層側には、透明なポリイミド樹脂などからなる
、高さ２μｍ〜３μｍの柱状突起１４０が形成され、これらの柱状突起１４０によって、
ＴＦＴアレイ基板１１０とカラーフィルタ基板１２０との間隔が規定されている。このた
め、本形態の半透過反射型液晶装置１００では、ＴＦＴアレイ基板１１０とカラーフィル
タ基板１２０との間にギャップ材が散布されていない。

カラーフィルタ基板１２０では、ＴＦＴアレイ基板１１０に形成されている画素電極１
０９ａの縦横の境界領域と対向する領域にブラックマトリクス、あるいはブラックストラ
イプなどと称せられる遮光層１２３が形成され、その上層側には、ＩＴＯ膜からなる対向
電極１２１（第２の電極）が形成されている。また、対向電極１２１の上層側には、ポリ
イミド膜からなる配向膜１２２が形成され、この配向膜１２２は、ポリイミド膜に対して
ラビング処理が施された膜である。

カラーフィルタ基板１２０において対向電極１２１の下層側には、フォトリソグラフィ
技術、フレキソ印刷法、あるいはインクジェット法を利用して、透過表示領域１５６Ｒ、
１５６Ｇ、１５６Ｂに対向する領域にカラー表示用カラーフィルタ１２３Ｒ、１２３Ｇ、
１２３Ｂが形成されている。

なお、本形態では、対向電極１２１の下層側には、反射表示領域１５７Ｒ、１５７Ｇ、
５７における基板間隔を透過表示領域１５６Ｒ、１５６Ｇ、１５６Ｂにおける基板間隔よ
りも薄くする層厚調整層１２５が形成されている。

このように構成した電気光学装置１００でも、反射モードでモノクロ画像を表示する際
、カラー表示用カラーフィルタ１２３Ｒ、１２３Ｇ、１２３Ｂと反射表示領域１５７Ｒ、
１５７Ｇ、１５７Ｂ（反射層１０８ａ）との平面的な重なり領域１５８Ｒ、１５８Ｇ、１
５８Ｇから、着色された光が出射され、その輝度のバランスが崩れると、不自然な着色が
発生するので、実施の形態１〜６で説明したような機能を備えた色補正用カラーフィルタ
を形成すればよい。

［他の実施の形態］
なお、上記形態のいずれにおいても、反射表示領域を利用してモノクロ画像を表示する
例であったが、反射表示領域に形成されるカラーフィルタのうち、所定のカラーフィルタ
の面積を他のカラーフィルタの面積よりも広く設定し、所定色に着色された単色の画像を
表示してもよい。この場合も、諧調によって着色状態が変動しないので、反射モードでは
明るくて品位の高い単色画像を表示でき、透過モードでは、色再現性および明るさが充分
なカラー画像を表示することができる。また、反射表示領域に単色の着色層、例えば、緑
色の着色層を備えることで、緑と黒の表示を行う単色表示を行う電気光学装置に本発明を
適用してもよい。

また、上記実施の形態では、カラー表示用のサブ画素を赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）
に対応させたが、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）以外、例えば、イエロー、シアン、マゼ
ンタなどに対応させてもよい。

さらに、上記形態では、透過モードでカラー画像を表示し、反射モードでモノクロある
いは単色の画像を表示する例であったが、上記形態とは逆に、反射モードでカラー画像を
表示し、透過モードでモノクロあるいは単色の画像を表示する場合に本発明を適用しても
よい。この場合、反射表示領域にカラー表示用カラーフィルタを形成し、透過表示領域に
色補正用カラーフィルタを形成することになる。

［電子機器］
本発明に係る電気光学装置は、携帯電話機、ノート型のパーソナルコンピュータ、液晶
テレビ、ビューファインダ型（またはモニタ直視型）のビデオレコーダ、デジタルカメラ
、カーナビゲーション装置、ページャ、電子手帳、電卓、ワードプロセッサ、ワークステ
ーション、テレビ電話などといった電子機器の表示部として用いることができる。

本発明を適用した電気光学装置の電気的構成を示すブロック図である。 （ａ）、（ｂ）は、本発明を適用した電気光学装置を斜め下方（カラーフィルタ基板）の側からみた概略斜視図、および電気光学装置をＹ方向に切断したときの断面を模式的に示す説明図である。 本発明の実施の形態１に係る電気光学装置に形成されている多数のサブ画素のうちの１つを拡大して示す断面図である。 本発明の実施の形態１に係る電気光学装置の画素構成を模式的に示す平面図である。 （ａ）、（ｂ）、（ｃ）は、図４に示す多数のサブ画素のうちのいくつかを拡大して示す平面図、（ａ）のＶＢ−ＶＢ′断面図、および（ａ）のＶＣ−ＶＣ′断面図である。 （ａ）、（ｂ）、（ｃ）は、本発明の実施の形態２に係る電気光学装置の多数のサブ画素のうちのいくつかを拡大して示す平面図、（ａ）のVIＢ−VIＢ′断面図、およびのVIＣ−VIＣ′断面図である。 （ａ）、（ｂ）、（ｃ）は、本発明の実施の形態３に係る電気光学装置の多数のサブ画素のうちのいくつかを拡大して示す平面図、（ａ）のVIIＢ−VIIＢ′断面図、および（ａ）のVIIＣ−VIIＣ′断面図である。 （ａ）、（ｂ）、（ｃ）は、本発明の実施の形態４に係る電気光学装置の多数のサブ画素のうちのいくつかを拡大して示す平面図、（ａ）のVIIIＢ−VIIIＢ′断面図、および（ａ）のVIIIＣ−VIIIＣ′断面図である。 （ａ）、（ｂ）は、本発明の実施の形態５に係る電気光学装置の多数のサブ画素のうちのいくつかを拡大して示す平面図、および（ａ）のIXＢ−IXＢ′断面図である。 本発明の変形例に係る電気光学装置の多数のサブ画素のうちのいくつかを拡大して示す断面図である。 本発明の他の実施の形態に係る電気光学装置の電気的構成を示すブロック図である。 図１１に示す電気光学装置の画素構成を平面的に示す説明図である。 図１２のＣ−Ｃ′線で電気光学装置を切断してサブ画素の断面を模式的に示す説明図である。

符号の説明

１ａ、１００ 電気光学装置、５、１０５ 画素、８、１５０ 液晶層（電気光学物質の
層）、１０、１１０ 素子基板、２０、１２０ カラーフィルタ基板、２２、１０８ａ
反射層、１０８ｄ、２２０ 光透過部、２３Ｒ、２３Ｇ、２３Ｂ、１２３Ｒ、１２３Ｇ、
１２３Ｂ カラー表示用カラーフィルタ、２３Ｒ′、２３Ｇ′、２３Ｂ′ 色補正用カラ
ーフィルタ、５１Ｒ、５１Ｇ、５１Ｂ、１５１Ｒ、１５１Ｇ、１５１Ｂ サブ画素、５６
Ｒ、５６Ｇ、５６Ｂ、１５６Ｒ、１５６Ｇ、１５６Ｂ 透過表示領域、５７Ｒ、５７Ｇ、
５７Ｂ、１５７Ｒ、１５７Ｇ、１５７Ｂ 反射表示領域

Claims (10)

1. 複数色の各々に対応する複数のサブ画素を備えた画素がマトリクス状に多数配置され、前記複数のサブ画素の各々には、観察面とは反対側から入射した光を観察面側に出射して透過モードで表示を行う透過表示領域と、観察面側から入射した光を観察面側に反射して反射モードで表示を行うための反射層を備えた反射表示領域とが形成された電気光学装置において、
   前記透過モードおよび前記反射モードのうちのいずれか一方のモードでモノクロ表示あるいは単色表示を行い、他方のモードではカラー表示を行い、
   前記透過表示領域および前記反射表示領域のうち、カラー表示を行う一方側領域には、一部が他方側領域に平面的に重なるカラー表示用カラーフィルタが形成され、
   前記複数のサブ画素の各々の前記他方側領域には、前記複数色のうち、当該他方側領域が属するサブ画素に対応する前記カラー表示用カラーフィルタの色以外の全ての色の色補正用カラーフィルタが部分的に形成されていることを特徴とする電気光学装置。
2. 請求項１において、前記一方側領域は前記透過表示領域であり、前記他方側領域は前記反射表示領域であることを特徴とする電気光学装置。
3. 請求項２において、各々の前記複数のサブ画素内では、前記色補正用カラーフィルタの色毎の面積、および前記カラー表示用カラーフィルタと前記反射表示領域との重なり面積が等しいことを特徴とする電気光学装置。
4. 請求項２において、各々の前記複数のサブ画素内では、前記色補正用カラーフィルタが少なくとも２色あり、前記２色の前記色補正用カラーフィルタ間で面積が相違することを特徴とする電気光学装置。
5. 請求項４において、前記複数色は赤色、緑色および青色であり、
   緑色の前記補正用カラーフィルタは、赤色および青色の前記補正用カラーフィルタよりも面積が狭いことを特徴とする電気光学装置。
6. 請求項２ないし５のいずれかおいて、隣接する２つの前記サブ画素の境界領域に沿って、前記複数色のうちの少なくとも２色のカラーフィルタが重ね合わされた帯状領域が形成され、
   前記色補正用カラーフィルタは、前記帯状領域からはみ出していることを特徴とする電気光学装置。
7. 請求項２ないし５のいずれかにおいて、隣接する位置で異なる色に対応する２つの前記サブ画素に跨って、当該２つのサブ画素に形成されている前記カラー表示用カラーフィルタと異なる色の前記色補正用カラーフィルタが形成されていることを特徴とする電気光学装置。
8. 請求項２ないし７のいずれかにおいて、隣接する位置で異なる色に対応する２つの前記サブ画素では、一方のサブ画素の前記カラー表示用カラーフィルタが他方のサブ画素まで延設されているとともに、当該他方のサブ画素の前記カラー表示用カラーフィルタが前記一方のサブ画素まで延設されて、
   ２つの前記サブ画素の境界領域に沿って、前記一方及び他方のカラー表示用カラーフィルタ同士が重なっていることを特徴とする電気光学装置。
9. 観察面とは反対側から入射した光を観察面側に出射して透過モードで表示を行う透過表示領域と、観察面側から入射した光を反射層によって観察面側に反射して反射モードで表示を行うための反射層を備えた反射表示領域と、を有するサブ画素がマトリクス状に複数備えられ、前記透過表示領域の全体に平面的に重ねて配置されるとともに前記反射層の端部と重なる領域に配置されたカラー表示用カラーフィルタを備えた電気光学装置において、
   所定の前記サブ画素において、所定の色の前記カラー表示用カラーフィルタが備えられているとともに、前記所定の色とは異なる色の色補正用カラーフィルタが、前記所定の色の前記カラー表示用カラーフィルタとは平面的に離間して、前記反射層と重なる位置に配置されていることを特徴とする電気光学装置。
10. 請求項１ないし８のいずれかに規定する電気光学装置を備えていることを特徴とする電子機器。

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