JP4042725B2 - 電気光学装置用基板、電気光学装置及び電子機器 - Google Patents

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Description

本発明は液晶表示装置等といった電気光学装置に用いられる基板に関する。また、本発明は液晶表示装置等といった電気光学装置に関する。また、本発明は電気光学装置を用いて構成される電子機器に関する。
携帯電話機、携帯情報端末機等といった電子機器において液晶表示装置等といった電気光学装置が広く用いられている。例えば、電子機器に関する各種の情報を表示するための表示装置として電気光学装置が用いられている。電気光学装置とは、電気的な入力によって光学的な出力状態を制御する装置であり、例えば、液晶表示装置、EL(Electro Luminescence)装置、プラズマディスプレイ装置、その他の装置が考えられる。
例えば、液晶表示装置では、一対の基板のそれぞれに電極を形成し、電気光学物質としての液晶層をそれらの電極によって挟み、それらの電極に印加する電圧を制御し、この電圧制御により液晶層内の液晶分子の配向を制御し、そして、この配向制御により液晶層に供給される光を変調する。上記一対の電極は縦方向及び横方向に並ぶ複数のドット領域で互いに重なり合っており、これらのドット領域は表示の単位である表示用ドット領域を構成する。青色、緑色、赤色の3原色によってカラー表示を行う場合にはこれらの3色に対応する3つの表示用ドット領域の集まりによって1つの画素が構成される。一方、白黒又は任意の2色によってモノカラー表示を行う場合には、1つの表示用ドット領域が1つの画素を構成する。
一般に、上記の表示用ドット領域の周囲には、表示のコントラストを高めるために遮光膜が形成される。従来、この遮光膜を、複数の着色層、例えば青色、緑色、赤色の3色又はそれらのうちのいずれか2色を重ね合わせることによって形成する技術が知られている(例えば、特許文献1参照)。このように異なる着色層の積層によって遮光膜を作成する場合には、通常、フォトリソグラフィ法に基づいた処理によって各色の着色層を同じ位置に同じ幅で重ねてパターニングする。
特開平10−073813号公報(第3頁、図1)
上記のフォトリソグラフィ処理では、一般に、パターニング対象である着色層材料の上にレジスト膜を形成し、さらに露光用マスクを介して露光装置でレジスト膜を露光するという処理が実行される。露光装置としては、例えばステッパ、一括露光機が用いられる。この露光処理の際、1つの着色層に他の着色層を重ねてパターニングするときには、それらの着色層の間で位置合わせ、すなわちアライメントが行われる。
このアライメントが正確に行われた場合には所望の遮光膜が形成されて所望の色特性のカラー表示が得られる。しかしながら、現在行われているアライメントにおいては、重ねられる着色層間でアライメントのバラツキを完全に無くすことは難しい。露光装置としてステッパを用いれば一括露光機を用いた場合に比べてバラツキの程度を低く抑えることができるかもしれないが、それを完全に無くすことは難しい。
重ねられる着色層の間に位置のズレが発生すると、遮光膜の縁部分に1色の着色層が飛び出し、表示の全体的な基調色がその飛び出した着色層の色に片寄るという現象が発生する。また、着色層の間の位置ズレが一定せずにバラツキを持っていると、遮光膜の縁部分に飛び出す色が種々にバラツキ、その結果、製造される複数の液晶表示装置の間で表示の全体的な基調色が種々にばらつくという問題が発生するおそれがある。
本発明は、上記の問題点に鑑みて成されたものであって、異なる着色層を重ねて遮光膜を形成する際にそれらの着色層の位置にバラツキが発生しても表示色にはバラツキが発生しないようにすることを目的とする。
本発明に係る電気光学装置は、電気光学物質を支持する基板と、複数の表示用ドット領域とを備えた電気光学装置において、前記基板上において、前記複数の表示用ドット領域の間に設けられていて、複数の色の着色層を重ねることによって形成された遮光膜を有し、前記複数の着色層の1色はその幅方向の両縁が他色の着色層から張り出していることを特徴とする。
本明細書において、「電気光学物質」は、電気的条件の変化に応じて光学的特性が変化する物質のことであり、具体的には、液晶表示装置で用いられる液晶、EL装置で用いられるEL、プラズマディスプレイ装置で用いられるガス等が考えられる。また、「表示用ドット領域」は、電気光学装置において表示の単位となる領域であり、例えば、互いに対向する一対の電極が重なり合う領域として形成される。また、幅方向とは、表示用ドット領域同士に挟まれた幅の方向である。
重ねられる着色層の材料及び形成タイミングは自由に選定できるが、望ましくは、電気光学装置でカラー表示する際に多用されるカラーフィルタの構成要素である着色要素と共通の材料及び形成タイミングとする。なお、重ね合せる着色層の色としては、例えば3原色である青色(B)、緑色(G)、赤色(R)の3色を選定できる。また、シアン(C)、マゼンタ(M)、イエロー(Y)の3色を選定することもできる。
本発明に係る電気光学装置によれば、遮光膜を形成する複数の着色層のうちの1色が、予め、他色の着色層の外側に張り出しているので、表示の全体的な基調色、すなわちベースとなる色はその外側へ出た着色層の色によって決まる傾向にある。また、異なる着色層間でアライメントズレが発生しても、そのズレが1色の着色層における他の着色層からの張出し量の範囲内であれば、表示の全体的なベース色がばらつくということもなくなる。つまり、本発明に係る電気光学装置によれば、異なる着色層を重ねて遮光膜を形成する際にそれらの着色層の位置にバラツキが発生しても、電気光学装置による表示の全体的なベースとなる色にバラツキが発生することを防止できる。また、遮光膜をフォトリソグラフィ処理によって形成する際の露光時のアライメントズレの許容範囲を広くできる。
本発明に係る電気光学装置において、前記複数の着色層は3原色である青色、緑色、赤色であり、前記張り出している着色層は青色の着色層であることが望ましい。青色はOD(Optical Density)値が高い色、すなわち緑色や赤色に比べて暗く視認される色である。従って、外側に出る色としてこの青色を選定すれば、予め外側に1色を出しておくことにより全体的な表示の色が特定の色に片寄るという現象を視覚的に目立ち難くできる。
次に、本発明に係る電気光学装置において、前記表示用ドット領域は、光を透過する光透過部と、該光透過部よりも前記遮光膜側に設けられ光を反射する光反射部とを有し、前記光反射部の一部には、前記張り出した着色層が重なっており、前記光透過部には、前記複数の着色層の内の1色の着色層が設けられていることが望ましい。
表示用ドット領域が光透過部と光反射部とを有する構造は、いわゆる半透過反射型の構造として知られている。この構造では、光透過部を通って電気光学物質に供給される光によって透過方式の表示が行われる。一方、光反射部で反射して電気光学物質に供給される光によって反射方式の表示が行われる。
この半透過反射型の電気光学装置において、光透過部及び光反射部の両方に着色要素を設けておけば透過方式及び反射方式の両方でカラー表示を行うことができる。このような半透過反射型の表示において、従来から、反射表示時における表示の明るさが、透過表示時における表示の明るさに比べて大幅に低下するという問題があった。この問題を解消するため、光透過部の着色要素を濃い色で形成し、光反射部の着色要素を薄い色で形成するという技術が提案されている。
また、光反射部の着色要素を薄い色とするために、光反射部の一部に着色要素を設けない領域を形成するということ、すなわち光反射部の一部を非着色領域とすることも提案されている。また、極端な場合として、光反射部の全部から着色要素を取り除き、光反射部の全域を非着色領域とすることも提案されている。この場合には、1つの表示ドット領域内において光透過部ではカラー表示が行われ、光反射部では白黒の表示が行われることになる。
上記のように表示ドット領域内において光透過部で濃い色を表示し、光反射部で薄い色又は色の無い白色を表示する場合、表示ドット領域の周辺に設けられた遮光膜を形成する複数の着色層の1つがアライメントズレによって他の着色層の外側にずれて出ることになると、その外側にずれ出る着色層は表示ドット領域内の光反射部に臨出することになる。この場合、光反射部に色の濃い着色要素が設けられているのであれば、余り大きな問題は生じないかもしれないが、上記の構成のように光反射部が薄い色に設定されていたり、光反射部の全部から着色要素が除去されていてその全部が非反射領域、すなわち白表示領域となっていたりすると、アライメントズレによって1色が光反射部にずれ出たときに、複数の表示ドット領域の集まりによって形成される表示領域に表示される色の変動の程度が非常に大きくなって、観察者に視覚的に悪影響を及ぼすことが考えられる。
このことに関して本発明のように、複数の着色層の1色の両縁を他色の着色層の外側に予め出しておけば、表示のベースとなる色の初期状態はその1色の色に片寄るかもしれないが、アライメントズレによって遮光膜内の着色層の位置にバラツキが生じたとしても、表示のベース色が初期状態から大きく変動することを防止できる。表示ドット領域内の光反射領域が薄い色又は白色に設定されている場合には、特に色のバラツキが目立ち易いが、本発明によればそのような場合にも、表示される色のバラツキを確実に抑えることができる。
次に、表示用ドット領域が光透過部と光反射部とを有する構造の電気光学装置において、前記遮光膜は、前記光透過部の着色領域を形成する着色要素と同じ着色要素によって形成されることが望ましい。つまり、遮光膜を形成するために重ね合わされる複数の着色層のそれぞれは、カラーフィルタを構成する着色要素と同じ材料によって同じ工程で形成されることが望ましい。こうすれば、カラーフィルタの形成時に同時に遮光膜を形成できるので、電気光学装置の製造工程が複雑になることが無く、また、材料コストが上がることもない。
次に、本発明に係る電気光学装置において、前記遮光膜は、前記複数の表示用ドット領域の内、同じ色に対応する表示用ドット領域同士の間に形成されていることが望ましい。この構成は、例えば、データ線に直交する方向において表示用ドット領域の間に遮光膜が設けられる構成に相当する。
次に、本発明に係る電気光学装置用基板は、基板と、該基板上に形成された複数の表示用ドット領域と、前記複数の表示用ドット領域の間に設けられていて複数の色の着色層を重ねることによって形成された遮光膜とを有し、前記複数の着色層の1色はその幅方向の両縁が他色の着色層から張り出していることを特徴とする。
この電気光学装置用基板によれば、遮光膜を形成する複数の着色層のうちの1色が他色の着色層の外側に張り出しているので、この基板を用いて表示を行ったとき、その表示の全体的な色はその外側に出た着色層の色によって決まる。また、異なる着色層間でアライメントズレが発生しても、そのズレが1色の着色層における他色の着色層からの張出し量の範囲内であれば、表示の全体的な色がばらつくということもなくなる。つまり、本発明に係る電気光学装置用基板によれば、異なる着色層を重ねて遮光膜を形成する際にそれらの着色層の位置にバラツキが発生しても、当該基板を用いて行う表示の全体的な色にバラツキが発生することを防止できる。また、遮光膜をフォトリソグラフィ処理によって形成する際の露光時のアライメントズレの許容範囲を広くできる。
次に、本発明に係る電子機器は、以上に記載した構成の電気光学装置を有することを特徴とする。本発明に係る電気光学装置によれば、遮光膜を形成する複数の着色層のうちの1色が、予め、他色の着色層の外側に張り出しているので、表示の全体的な色はその外側に出ている着色層の色によって決まる傾向となる。また、異なる着色層間でアライメントズレが発生しても、そのズレが1色の着色層が他の着色層から出ている量の範囲内であれば、表示の全体的な色がばらつくということもなくなる。つまり、本発明に係る電気光学装置によれば、異なる着色層を重ねて遮光膜を形成する際にそれらの着色層の位置にバラツキが発生しても、電気光学装置の全体的な表示色にバラツキが発生することを防止できる。従って、この電気光学装置を用いた電子機器においても、電子機器に関する各種の情報をカラー表示する際に基本的なベースの色にバラツキが生じることを防止できる。
(電気光学装置用基板及び電気光学装置の第1実施形態)
以下、本発明に係る電気光学装置用基板及び電気光学装置を、電気光学装置の一例である液晶表示装置を例に挙げて説明する。なお、本発明がその実施形態に限定されないことはもちろんである。また、これ以降の説明では図面を参照するが、その図面では特徴的な部分を分かり易く説明するために、複数の要素間で寸法比が実際のものと異なっていることに留意すべきである。
図1は、本発明に係る電気光学装置の一実施形態である液晶表示装置を示している。この液晶表示装置は、スイッチング素子として2端子型の非線形素子であるTFD素子を用いるアクティブマトリクス方式の液晶表示装置である。図2は図1において矢印Pで示す画素部分の断面構造を示している。また、図3は図2におけるB−B線に従って素子基板の平面構造を示している。また、図4は図2におけるC−C線に従ってカラーフィルタ基板の平面構造を示している。
図1において、電気光学装置としての液晶表示装置1は、電気光学パネルとしての液晶パネル2と、その液晶パネル2に実装された駆動用IC3と、その液晶パネル2に付設された照明装置4と、その液晶パネル2の辺端に接続された配線基板としてのFPC(Flexible Printed Circuit)6とを有する。この液晶表示装置1は、矢印Aが描かれた側が観察側である。照明装置4は、光源としてのLED(Light Emitting Diode)7と、LED7からの光を内部へ導入して面状の光として液晶パネル2へ出射する導光体8とを有する。照明装置4は、矢印Aで示す観察方向から見て液晶パネル2の裏側に配置されていて、バックライトとして機能する。
液晶パネル2は、素子基板9aとカラーフィルタ基板9bとを正方形又は長方形で枠状のシール材11によって貼り合わせることによって形成されている。素子基板9aとカラーフィルタ基板9bとの間には、図2に示すように、間隙、いわゆるセルギャップGが形成され、そのセルギャップG内に液晶が封入されて液晶層16が形成されている。液晶としては、例えばTN(Twisted Nematic)液晶を用いることができる。また、セルギャップGは球状のスペーサ22によって一定の間隔に維持されている。
図1において、素子基板9aは、透光性を有する第1の基板12aを有し、その第1透光性基板12aの外側の表面には、位相差板13aが貼着等によって装着され、さらにその上に偏光板14aが貼着等によって装着されている。一方、カラーフィルタ基板9bは、透光性を有する第2の基板12bを有し、その第2透光性基板12bの外側の表面には、位相差板13bが貼着等によって装着され、さらにその上に偏光板14bが貼着等によって装着されている。第1透光性基板12a及び第2透光性基板12bはガラス、プラスチック等によって形成される。
第1透光性基板12aの内側表面、すなわち液晶側表面には、図2に示すように、データ線として機能するライン配線17と、スイッチング素子としてのTFD(Thin Film Diode)素子18と、ドット電極21と、配向膜23aとが形成される。配向膜23aは、例えばポリイミドによって形成され、その表面にラビング処理が施される。このラビング処理により、素子基板9aの近傍の液晶分子の初期配向が決められる。
ライン配線17は、図5に示すように、第1層17a,第2層17b,第3層17cを積層することによって形成されている。また、TFD素子18は、互いに直列につなげられた第1TFD要素18a及び第2TFD要素18bを有する。これらのTFD要素18a及び18bは、それぞれ、第1金属26、絶縁膜27及び第2金属28を有する。
TFD素子18の第1金属26及びライン配線17の第1層17aは、例えばタンタル(Ta)によって形成されている。また、TFD素子18の絶縁膜27及びライン配線17の第2層17aは、例えば陽極酸化処理によって形成された酸化膜である。また、TFD素子18の第2金属28及びライン配線17の第3層17cは、例えばクロム(Cr)によって形成されている。
第1TFD要素18aの第2金属28はライン配線17の第3層17cと同一の材料によって形成されている。また、ドット電極21は第2TFD要素18bの第2金属28に導電接続するように基板12aの上に形成されている。ドット電極21は、例えばITO(Indium Tin Oxide)等といった金属酸化物によって形成されている。
複数のライン配線17の各1本は、図3に示すように、複数のドット電極21の間を通って直線的に延びている。また、複数のライン配線17は互いに間隔を開けて平行に形成され、全体としてストライプ状に形成されている。また、複数のTFD素子18はライン配線17に沿って等間隔に設けられ、ライン配線17とドット電極21との間を電気的に接続している。なお、図3では図2の配向膜23aの図示は省略してある。
図2において、カラーフィルタ基板9bを構成する第2透光性基板12bの内側表面、すなわち液晶側表面には、樹脂層31が形成され、その上に反射膜32及び着色要素33が形成され、その上にオーバーコート層34が形成され、その上に複数の帯状電極36が形成され、そしてその上に配向膜23bが形成される。配向膜23bは、例えばポリイミドによって形成され、その表面にラビング処理が施される。このラビング処理により、カラーフィルタ基板9bの近傍の液晶分子の初期配向が決められる。
複数の帯状電極36の各1本は図2の紙面垂直方向、すなわち図4の紙面上下方向に延びている。これらの帯状電極36の延びる方向は、図3に示すように、ライン配線17に対して直角の方向である。また、複数の帯状電極36は、図2の左右方向へ一定の間隔で互いに平行に並べられている。これにより、複数の帯状電極36は矢印A方向から見てストライプ状に形成されている。図3に示すように、ストライプ状に並ぶ帯状電極36とドットマトリクス状に並ぶドット電極21とは平面的に重なり合っている。この重なり合った複数の領域Dが表示の単位である表示ドット領域を構成する。そして、これら複数の表示ドット領域Dは図1において符号Vで示す領域内にドットマトリクス状に並べられる。この領域Vが液晶表示装置1の有効表示領域であり、この有効表示領域V内に文字、数字、図形等といった像が表示される。
図2において、樹脂層31の表面には凹凸形状が形成される。このため、樹脂層31の上に積層される反射膜32の表面にも凹凸形状が形成される。反射膜32は、例えば光反射性の材料、例えばアルミニウム(Al)によって形成され、矢印A方向から入射する光を反射する。反射膜32の表面に凹凸形状を設けたことにより、この反射膜32で反射する光は散乱光となる。
反射膜32は個々の表示ドット領域D内に開口Kを有する。この開口Kが設けられた領域が透過領域Tであり、反射膜32が設けられた領域が反射領域Rである。反射領域Rでは、矢印A方向で示す観察側から入射する光L0が反射膜32で反射して液晶層16へ供給される。一方、透過領域Tでは、照明装置4から出射した光L1が開口Kを通過して液晶層16へ供給される。
本実施形態において、樹脂層31の上に形成された複数の着色要素33は開口Kの所だけに設けられている。また、複数の着色要素33は、図4に示すように、個々の表示ドット領域Dに属する開口Kに対応して設けられている。そして個々の着色要素33は、3原色である青色(B)、緑色(G)、赤色(R)の3色のいずれか1色の光を通過させることができるフィルタとして形成されている。これら各色の着色要素33の集まりによってカラーフィルタが形成されている。表示ドット領域D内における開口K以外の領域、すなわち反射領域R内の全域には着色要素33が設けられていない。すなわち、反射領域Rはカラー表示領域ではなく白黒表示領域として形成されている。
異なる色の複数の着色要素33の平面的な並べ方としては、従来から、種々提案されているが、本実施形態では図3に示すように、ライン配線17すなわちデータ線の延在方向にB,G,Rの同色が並び、帯状電極36すなわち走査線の延在方向にB,G,Rの各色が表示ドット領域D毎に順々に並べられる配列、いわゆるストライプ配列が採用されている。もちろん、ストライプ配列以外の配列、例えばデルタ配列、モザイク配列等を採用することもできる。
図4において、複数の表示用ドット領域Dの間の領域は格子形状の領域Sとなっている。この領域Sは、表示のコントラストを高くするために遮光領域とされる領域である。なお、図4の縦方向に延びる領域Sには、図2にも示すように、カラーフィルタを構成する3色の着色要素33(B)、33(G)、33(R)が重ねられて遮光膜30が形成されている。一方、図4の横方向に延びる領域Sには、図4のカラーフィルタ基板9bに対向する図3の素子基板9a上にライン配線17が存在していて、これが遮光要素として作用するので、図4のカラーフィルタ基板9b上には特に遮光膜を形成しなくても良い。もちろん、図4のカラーフィルタ基板9bの横方向の領域Sに異なる色の着色要素33を重ねて遮光膜を形成しても良い。なお、遮光領域S内に形成する遮光膜30の積層構造は3色重ね構造に限られず、青色、緑色、赤色の3色のうちのいずれか2色の組合せでも良い。
遮光領域Sは、図2に示すように、異なる3色の着色要素33を重ねることによって形成されている。本実施形態では、カラーフィルタの形成にあたって、図4において、青色(B)、緑色(G)、赤色(R)の順番で各着色要素33を形成するものとする。従って、図2の遮光膜30も第2透光性基板12bから見て青色(B)、緑色(G)、赤色(R)の積層順番となる。本実施形態では、青色着色要素33Bの幅W0をその他の色の着色要素33G、33Rの幅W1よりも広くしている。また、青色着色要素33Bはその幅方向の両縁がその他の着色要素33G,33Rの外側に出るように形成されている。
図6は、図1の液晶表示装置1の電気的な等価回路を示している。図6において、複数本の走査線36’が行方向Xに延びるように形成され、さらに、複数本のデータ線17’が列方向Yに延びるように形成されている。走査線36’は図4のカラーフィルタ基板9b上の帯状電極36によって実現され、他方、データ線17’は図3の素子基板9a上のライン配線17によって実現される。図6において、表示用ドット領域Dは走査線36’とデータ線17’との各交差部分に形成される。各表示用ドット領域Dにおいては、液晶層16と、TFD素子18とが直列に接続されている。
本実施形態では、液晶層16が走査線36’の側に接続され、TFD素子18がデータ線17’の側に接続されている。各走査線36’は、走査線駆動回路3aによって駆動される。一方、各データ線17’は、データ線駆動回路3bによって駆動される。走査線駆動回路3a及びデータ線駆動回路3bは図1の駆動用IC3によって構成される。駆動用IC3は、共通のICによって両駆動回路3a及び3bを賄うものであっても良いし、あるいは、両駆動回路3a及び3bを個別のICに割り当てても良い。
以上のように構成された液晶表示装置1によれば、図1において、液晶表示装置1が明るい室外や明るい室内に置かれる場合は、太陽光や室内光等といった外部光を用いて反射型の表示が行われる。一方、液晶表示装置1が暗い室外や暗い室内に置かれる場合は、照明装置4をバックライトとして用いて透過型の表示が行われる。
反射型表示を行う場合、図2において、観察側Aの方向から素子基板9aを通して液晶パネル2内へ入射した外部光L0は、液晶層16を通過してカラーフィルタ基板9b内へ入った後、反射領域Rにおいて反射膜32で反射して再び液晶層16へ供給される。本実施形態では図2及び図4に示すように表示ドット領域Dの反射領域Rには着色要素33が設けられないので、光の減衰が少なく、明るい反射光が得られる。
一方、透過型表示を行う場合、図1の照明装置4のLED7が点灯し、それからの光が導光体8の光入射面8aから導光体8へ導入され、さらに、光出射面8bから面状の光として出射する。この出射光は、図2の符号L1で示すように透過領域Tにおいて開口Kを通って液晶層16へ供給される。
以上のようにして液晶層16へ光が供給される間、素子基板9a側のドット電極21とカラーフィルタ基板9b側の帯状電極36との間には、走査信号及びデータ信号によって特定される表示用ドット領域Dに所定の電圧が印加され、これにより、液晶層16内の液晶分子の配向がTN構造と垂直配向との間で表示用ドット領域Dごとに制御され、この結果、液晶層16に供給された光が表示用ドット領域Dごとに変調される。この変調された光が、素子基板9a側の偏光板14a(図1参照)を通過するとき、その偏光板14aの偏光特性に従って表示用ドット領域Dごとに通過を許容又は通過を阻止され、これにより、素子基板9aの表面に文字、数字、図形等といった像が表示され、これが、矢印A方向から視認される。
以上に説明した実施形態では、図2において、遮光膜30を形成する複数の着色層33B、33G、33Rのうちの1色である青色の着色層33Bの幅方向の両縁が、予め、他色の着色層33G、33Rの外側に出るように、着色層33Bの幅W0が他の着色層33G、33Rの幅W1に比べて太く形成してある。このため、液晶表示装置1による表示の全体的なベース色はその外側へ出た着色層の色、すなわち青色が基調となる傾向にある。一般的なテレビ受像機における画面の表示色を経験的に見ると、青色は他の2色、すなわち緑色及び赤色に比べて多くの人間に好まれる色と言える。
各着色層33B、33G、33Rは互いにアライメントされた状態でフォトリソグラフィ処理によって形成されるが、実際の製造過程でこのアライメントにおいてズレが生じることは避けられない。しかしながら、このアライメントズレが発生しても、そのズレが青色の着色層33Bの他の着色層33G、33Rからの張出し量P(P=W0−W1)の範囲内であれば、表示の全体的なベース色が青色を基調とするベース色に対して大きくばらつくということもなくなる。なお、張出し量Pは望ましくは1〜5μmに設定する。また、一括露光機を用いて露光を行う場合には、張出し量Pは3μm程度がより好ましい。
つまり、本実施形態の液晶表示装置1によれば、異なる着色層33B、33G、33Rを重ねて遮光膜30を形成する際にそれらの着色層33B、33G、33Rの位置にバラツキが発生しても、液晶表示装置1による表示の全体的なベースとなる色にバラツキが発生することを防止できる。また、青色の着色層33Bの幅W0を予め広くしておくことにより、各着色層を重ねて遮光膜30をフォトリソグラフィ処理によって形成する際の露光時のアライメントズレの許容範囲を広くできる。
なお、幅を太くする着色層として青色以外に緑色又は赤色を選択することもできる。しかしながら、OD値の面からこれらの色を比較すると、青色が他色に比べてOD値が最も高く、暗い色として認識されることが分かっている。従って、着色層のアライメントズレに対して色の認識状態のバラツキを抑えるという観点からすれば、青色の着色層を太くすることが望ましいと考えられる。
次に、本実施形態では、図2及び図4に示すように、表示ドット領域D内の反射領域Rの全面を非着色領域とした。このように、反射領域Rを非着色領域とすると、遮光膜30の所で青色、緑色、赤色の3色のうちの1色だけが遮光膜30から張り出すと、反射領域Rが非着色領域であるが故にその張り出した色が視覚的に目立ち易い。この場合でも、本実施形態のように、予め、1色の着色層の幅だけを太くしておけば、表示される色がその1色に片寄る傾向はあるが、表示される色が着色層のアライメントズレに応じて変動することは防止できる。
(変形例)
図2の実施形態では、3色の着色層33B、33G、33Rによって遮光膜30を形成した。これに代えて、2色の着色層によって遮光膜30を形成しても良い。この場合には、2色のうちのいずれか1色の着色層の幅を太くする。また、4色以上の着色層によって形成しても良い。また、着色層は電気光学物質の層を挟持する一対の基板の内のどちらの基板に設けられていても良い。
また、図2の実施形態では、3色の着色層33B、33G、33Rのうち青色の着色層33Bを他の着色層に比べて太くした。これに代えて、他の2色である緑色又は赤色のうちの1色をそれ以外の着色層に比べて太くしても良い。
(電気光学装置用基板及び電気光学装置の第2実施形態)
図7は本発明に係る電気光学装置用基板及び電気光学装置の他の実施形態の主要部分を示している。この実施形態の説明も液晶表示装置を例示して行うものとし、その液晶表示装置の外観形状は図1に示した液晶表示装置1と同じものとする。図7に示した部分は、先の実施形態において図2に示した部分と同じである。また、図8は、図7におけるE−E線に従ってカラーフィルタ基板の平面的な構造を示している。図7においてD−D線に従って素子基板の平面構造を考えると、それは図3に示した構造と同じである。
図7及び図8に示す本実施形態が図2及び図4に示した先の実施形態と異なる点は次の点である。すなわち、先の実施形態では表示ドット領域D内の反射領域Rを非着色領域、すなわち着色要素33を設けない領域としたのに対し、本実施形態では反射領域R内にも着色要素33を設けたことである。このように本発明は、反射領域Rを非反射領域としないカラーフィルタ構造を有する液晶表示装置にも適用できる。反射領域Rを非反射領域としない液晶表示装置においては、反射表示時の表示が暗くなる傾向にあるが、色の濃い表示を行うことができる。
このような実施形態の液晶表示装置においても、遮光膜30を形成する着色層33B,33G,33Rのうち青色の着色層33Bはその幅方向の両縁が他色の着色層の両縁の外側へ出るように太く形成されている。このため、各着色層33B,33G,33Rをフォトリソグラフィ処理によって順々に形成する際にアライメントズレが発生しても、そのズレが許容範囲内であれば青色以外の2色が遮光膜30の外側に出ることがない。それ故、アライメントズレが合っても表示色の基調が青色からずれることがなくなり、液晶表示装置の製品間で安定した表示色が得られる。
(電気光学装置に関する他の実施形態)
以上、好ましい実施形態を挙げて本発明を説明したが、本発明はその実施形態に限定されるものでなく、請求の範囲に記載した発明の範囲内で種々に改変できる。
例えば、上記実施形態ではTN型の液晶を用いたが、本発明は、STN(Super Twisted Nematic)型の液晶を用いた液晶表示装置にも適用できる。また、本発明は、BTN(Bi-stable Twisted Nematic)型、強誘電型等といったメモリ性を有する双安定型の液晶や、高分子分散型の液晶を用いた液晶表示装置にも適用できる。また、本発明は、分子の長軸方向と短軸方向とで可視光の吸収に異方性を有する染料(いわゆる、ゲスト)を一定の分子配列の液晶(いわゆる、ホスト)に溶解して、染料分子を液晶分子と平行に配列させたGH(ゲストホスト)型の液晶を用いた液晶表示装置にも適用できる。また、半透過反射型以外の透過型や反射型の液晶表示装置にも適用できる。
また、電圧無印加時には液晶分子が両基板に対して垂直方向に配列する一方、電圧印加時には液晶分子が両基板に対して水平方向に配列する、という垂直配向(いわゆる、ホメオトロピック配向)の液晶を用いた液晶表示装置にも本発明は適用できる。また、電圧無印加時には液晶分子が両基板に対して水平方向に配列する一方、電圧印加時には液晶分子が両基板に対して垂直方向に配列する、という平行配向又は水平配向(いわゆる、ホモジニアス配向)の液晶を用い液晶表示装置にも本発明は適用できる。また、横電界方式の液晶表示装置にも本発明は適用できる。
また、上記実施形態では、スイッチング素子として2端子型素子であるTFD素子を用いる場合を例示したが、TFD素子以外の他の2端子型素子を用いる場合や、TFT(Thin Film Transistor)素子等といった3端子型素子を用いる場合にも適用できる。また、スイッチング素子を用いない単純マトリクス方式の液晶表示装置にも適用できる。また、透過部は開口部に限られず、表示ドット領域内に形成された反射膜が設けられていない領域であれば良い。また、上記実施形態では張り出した着色層が遮光膜の両側で電極と重なっていたが、片側のみ重なっている場合であっても、その片側では同様な効果を奏するものである。
また、上記実施形態では電気光学装置として液晶表示装置を例示したが、本発明は、有機EL装置、無機EL装置、プラズマディスプレイ装置、電気泳動ディスプレイ装置、フィールドエミッションディスプレイ装置(すなわち、電界放出表示装置)等といった各種の電気光学装置にも適用できる。
(電子機器の実施形態)
以下、本発明に係る電子機器を実施形態を挙げて説明する。なお、この実施形態は本発明の一例を示すものであり、本発明はこの実施形態に限定されるものではない。
図9は、本発明に係る電子機器の一実施形態を示している。ここに示す電子機器は、表示情報出力源41、表示情報処理回路42、電源回路43、タイミングジェネレータ44及び液晶表示装置45によって構成される。そして、液晶表示装置45は液晶パネル46及び駆動回路47を有する。
表示情報出力源41は、RAM(Random Access Memory)等といったメモリや、各種ディスク等といったストレージユニットや、ディジタル画像信号を同調出力する同調回路等を備え、タイミングジェネレータ44により生成される各種のクロック信号に基づいて、所定フォーマットの画像信号等といった表示情報を表示情報処理回路42に供給する。
次に、表示情報処理回路42は、増幅・反転回路や、ローテーション回路や、ガンマ補正回路や、クランプ回路等といった周知の回路を多数備え、入力した表示情報の処理を実行して、画像信号をクロック信号CLKと共に駆動回路47へ供給する。ここで、駆動回路47は、走査線駆動回路やデータ線駆動回路と共に、検査回路等を総称したものである。また、電源回路43は、上記の各構成要素に所定の電源電圧を供給する。
液晶表示装置45は、例えば、図1に示した液晶表示装置1を用いて構成できる。液晶表示装置1では、図2及び図4又は図7及び図8において、遮光膜30を複数の着色層33の重ね合わせによって形成する際に、1つの着色層の幅を他の着色層の幅よりも太く形成することにより、表示の基調色を安定化した。従って、この液晶表示装置1を用いた本電子機器においても、表示の基調色を安定させることができる。
図10は、本発明に係る電子機器の他の実施形態である携帯電話機を示している。ここに示す携帯電話機50は、ヒンジ51を中心として折り畳み可能な第1ボディ52aと第2ボディ52bとを有する。そして、第1ボディ52aには、液晶表示装置53と、受話口54と、アンテナ56とが設けられる。また、第2ボディ52bには、複数の操作ボタン57と、送話口58とが設けられる。液晶表示装置53を、図1の液晶表示装置1を用いて構成すれば、表示の基調色を安定化させることができる。
(電子機器に関するその他の実施形態)
なお、電子機器としては、以上に説明した携帯電話機等の他にも、パーソナルコンピュータ、液晶テレビ、ビューファインダ型又はモニタ直視型のビデオテープレコーダ、カーナビゲーション装置、ページャ、電子手帳、電卓、ワードプロセッサ、ワークステーション、テレビ電話機、POS端末器等が挙げられる。
本発明に係る電気光学装置用基板は、液晶表示装置等といった電気光学装置を製造する際に好適に用いられる。また、本発明に係る電気光学装置は、携帯電話機、携帯情報端末機、その他の電子機器で各種の表示を行う際に表示用の機器として好適に用いられる。また、本発明に係る電子機器は携帯電話機、携帯情報端末機等といった民生機器や、計測器その他の工業用機器等として用いられる。
本発明に係る電気光学装置用基板及び電気光学装置のそれぞれの一実施形態を示す斜視図である。 図1の矢印Pで示す画素部分の断面構造を示す図である。 図2のB−B線に従って素子基板の平面構造を示す図である。 図2のC−C線に従ってカラーフィルタ基板の平面構造を示す図である。 TFD素子を示す斜視図である。 図1の液晶表示装置の等価回路を示す図である。 本発明に係る電気光学装置用基板及び電気光学装置の他の実施形態の要部を示す断面図である。 図7のE−E線に従ってカラーフィルタ基板の平面構造を示す図である。 本発明に係る電子機器の一実施形態を示すブロック図である。 本発明に係る電子機器の他の実施形態を示す斜視図である。
符号の説明
1.液晶表示装置(電気光学装置)、 2.液晶パネル(電気光学パネル)
3.駆動用IC、 4.照明装置、 6.FPC(配線基板)、 7.LED(光源)、
8.導光体、 9a.素子基板、 9b.カラーフィルタ基板(電気光学装置用基板)、
11.シール材、 12a,12b.基板、 13a,13b.位相差板、
14a,14b.偏光板、 16.液晶層、 17.ライン配線(データ線)、
18.TFD素子(スイッチング素子)、 21.ドット電極、 22.スペーサ、
23a,23b.配向膜、26. 30.遮光膜、 31.樹脂層、 32.反射膜、
33.着色要素、 34.オーバーコート層、 36.帯状電極、 36’.走査線、
50.携帯電話機(電子機器)、 G.セルギャップ、 L0.外部光、
L1.透過光、 R.反射領域、 S.遮光領域、 T.透過領域、 V.有効表示領域
W0.青色着色層の幅、 W1.その他の着色層の幅、

Claims (6)

  1. 電気光学物質を支持する基板と、複数の表示用ドット領域とを備えた電気光学装置において、
    前記基板上において、前記複数の表示用ドット領域の間に設けられていて、複数の色の着色層を重ねることによって形成された遮光膜を有し、
    前記複数の着色層の1色はその幅方向の両縁が他色の着色層から張り出している
    ことを特徴とする電気光学装置。
  2. 請求項1記載の電気光学装置において、
    前記複数の着色層は青色、緑色、赤色の着色層であり、
    前記張り出している着色層は青色の着色層である
    ことを特徴とする電気光学装置。
  3. 請求項1又は請求項2記載の電気光学装置において、
    前記表示用ドット領域は、光を透過する光透過部と、該光透過部よりも前記遮光膜側に設けられ光を反射する光反射部とを有し、
    前記光反射部の一部には、前記張り出した着色層が重なっており、
    前記光透過部には、前記複数の着色層の内の1色の着色層が設けられている
    ことを特徴とする電気光学装置。
  4. 請求項1から請求項3のいずれか一つに記載の電気光学装置において、
    前記遮光膜は、前記複数の表示用ドット領域の内、同じ色に対応する表示用ドット領域同士の間に形成されている
    ことを特徴とする電気光学装置。
  5. 基板と、
    該基板上に形成された複数の表示用ドット領域と、
    前記複数の表示用ドット領域の間に設けられていて、複数の色の着色層を重ねることによって形成された遮光膜とを有し、
    前記複数の着色層の1色はその幅方向の両縁が他色の着色層から張り出している
    ことを特徴とする電気光学装置用基板。
  6. 請求項1から請求項4のいずれか1つに記載の電気光学装置を有することを特徴とする電子機器。

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