JP2007248491A - 電気光学装置及び電子機器 - Google Patents
電気光学装置及び電子機器 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2007248491A JP2007248491A JP2006067628A JP2006067628A JP2007248491A JP 2007248491 A JP2007248491 A JP 2007248491A JP 2006067628 A JP2006067628 A JP 2006067628A JP 2006067628 A JP2006067628 A JP 2006067628A JP 2007248491 A JP2007248491 A JP 2007248491A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- colored
- film
- electro
- layer
- colored film
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
Images
Landscapes
- Liquid Crystal (AREA)
- Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
Abstract
【課題】半透過反射型の電気光学装置において、反射表示領域と透過表示領域との間でセルギャップを異ならせる構造を形成する際の工程を簡単にし、さらにセルギャップを異ならせる構造を形成したときに色づきが発生することを防止する。
【解決手段】一対の基板7a,8aに液晶が挟持されてなり、透過表示領域Tと反射表示領域Rを有するサブ画素Dを複数備える液晶表示装置であって、基板7aのサブ画素Dの透過表示領域T及び反射表示領域Rに設けられてなる第1着色膜22と、第1着色膜22上の反射表示領域Rに設けられてなり、第1着色膜22の色と異なる色の第2着色膜23と、第2着色膜23上に設けられてなる光反射膜24とを備えた液晶表示装置である。この液晶表示装置において、液晶は、第2着色膜23を反映して、反射表示領域Rにおける厚さt0が透過表示領域Tにおける厚さt1よりも薄くなっている。
【選択図】図2
【解決手段】一対の基板7a,8aに液晶が挟持されてなり、透過表示領域Tと反射表示領域Rを有するサブ画素Dを複数備える液晶表示装置であって、基板7aのサブ画素Dの透過表示領域T及び反射表示領域Rに設けられてなる第1着色膜22と、第1着色膜22上の反射表示領域Rに設けられてなり、第1着色膜22の色と異なる色の第2着色膜23と、第2着色膜23上に設けられてなる光反射膜24とを備えた液晶表示装置である。この液晶表示装置において、液晶は、第2着色膜23を反映して、反射表示領域Rにおける厚さt0が透過表示領域Tにおける厚さt1よりも薄くなっている。
【選択図】図2
Description
本発明は、液晶表示装置等といった電気光学装置に関する。また、本発明は、その電気光学装置を用いて構成する電子機器に関する。
現在、携帯電話機、携帯情報端末機といった各種の電子機器では、例えば、当該電子機器に関する各種の情報を視覚的に表示するための表示部として、液晶表示装置が用いられている。この液晶表示装置として、例えば、透光性のガラス基板上にTFT(Thin-Film-Transistor)素子等といったスイッチング素子や信号線等といった導電膜を形成し、その上に樹脂膜と光反射膜を形成した構造のものが知られている。この構造の液晶表示装置として、例えば半透過反射型の液晶表示装置がある。半透過反射型液晶表示装置において、表示が行われるときのサブ画素内には、室内光等といった外部光を光反射膜によって反射しその反射光を表示に用いる反射表示領域と、照明装置等から供給される光を透過して表示に用いる透過表示領域とが設けられる。
また、上記の液晶表示装置には、例えば、B(青色)、G(緑色)、R(赤色)の着色膜を個々のサブ画素に対応して設け、B,G,Rのうちのいずれかの色の光が個々のサブ画素から出射され、これら各色の光を用いてカラー表示が行われるものがある。
上記の半透過反射型の液晶表示装置として、従来、基板上に設けられた樹脂膜の膜厚を調節することにより、反射表示領域における液晶層の層厚(すなわち、セルギャップ)を、透過表示領域における液晶層の層厚に比べて薄くした構造のものが知られている(例えば、特許文献1参照)。このように反射表示領域と透過表示領域とで液晶層の層厚を変えることにより、液晶表示装置の表示領域の全域において液晶のリタデーションを均一にして、反射型表示と透過型表示との間の表示色の均一性を高めている。
ところで、特許文献1に開示された液晶表示装置においては、反射表示領域内に樹脂膜を設けることにより、反射表示領域と透過表示領域との間でセルギャップを異ならせている。しかしながら、この液晶表示装置においては、反射表示領域内に樹脂膜を形成する工程が必要であり、その液晶表示装置を製造する際の工程が繁雑であった。また、上記の樹脂膜を透過する光がその樹脂膜に起因して色づくことにより、液晶表示装置の表示に色づきが発生するおそれがあった。
本発明は、上記の問題点に鑑みて成されたものであって、半透過反射型の電気光学装置において、反射表示領域と透過表示領域との間でセルギャップを異ならせる構造を形成する際の工程を簡単にすること、及びセルギャップを異ならせる構造を形成したときに色づきが発生することを防止することを目的とする。
本発明に係る第1の電気光学装置は、一対の基板に電気光学物質が挟持されてなり、透過表示領域と反射表示領域を有するサブ画素を複数備える電気光学装置であって、一方の前記基板の前記サブ画素の前記透過表示領域及び前記反射表示領域に設けられてなる第1着色層と、該第1着色層上の前記反射表示領域に設けられてなり、前記第1着色層の色と異なる色の第2着色層と、該第2着色層上に設けられてなる反射層とを備えた電気光学装置である。この電気光学装置において、前記電気光学物質は、前記第2着色層を反映して、前記反射表示領域における厚さが前記透過表示領域における厚さよりも薄くなっている。
本発明に係る第1の電気光学装置は、透過表示領域と反射表示領域とを備えた、いわゆる半透過反射型の電気光学装置である。また、この電気光学装置は、反射表示領域における電気光学物質層の層厚を透過表示領域における電気光学物質層の層厚に比べて薄くした構造、いわゆるマルチギャップ構造の電気光学装置である。また、本発明の電気光学装置に用いられる着色膜は、電気光学装置においてカラー表示を行うためのカラーフィルタを形成する要素であり、従来からカラー表示が可能な電気光学装置に設けられているものである。この着色膜は、例えば、顔料又は染料を含有させた感光性の樹脂材料を用いて形成されて、絶縁性を有するものである。なお、本発明に係る電気光学装置では、反射表示領域内において反射膜を第2着色膜上に設けているので、反射型表示では視覚的に白色と黒色とを表示する白黒表示を行い、透過型表示ではカラー表示を行うことができる。
本発明に係る第1の電気光学装置では、一対の基板のうちの一方の基板上であって透過表示領域及び反射表示領域にわたって第1着色層を設け、当該第1着色層上の反射表示領域に当該第1着色層の色と異なる色の第2着色層を設けることにした。透過表示領域内に設けられた第1着色層は、カラーフィルタとして機能する。一方、反射表示領域に設けられた第2着色層は、電気光学物質層の層厚を調整する層厚調整膜として機能する。すなわち、本発明に係る電気光学装置では、反射表示領域内において第1着色層上に第2着色層を設けることによって、当該反射表示領域内における電気光学物質層の層厚を透過表示領域内における電気光学物質層の層厚より薄くしている。
既述のように、第1着色層はカラーフィルタを形成する要素であり、第2着色膜はその第1着色膜と同じ材料を用いて形成される。この第2着色層を用いて層厚調整膜を形成することにより、層厚調整膜としての樹脂膜を別途基板上に形成する必要がなくなる。その結果、電気光学装置の製造工程を減らすことができる。
次に、本発明に係る第1の電気光学装置において、前記一方の基板は、前記第1着色層に覆われてなるスイッチング素子と、前記反射層上に設けられ、前記スイッチング素子と電気的に接続されてなる透明導電膜とを備えることができる。この構成の電気光学装置は、いわゆるアクティブマトリクス駆動方式の電気光学装置である。スイッチング素子としては、例えば3端子型の能動素子であるTFT(Thin-Film Diode)素子や2端子型の能動素子であるTFD(Thin Film Diode)素子等がある。また、スイッチング素子に接続される透明導電膜としては、例えばサブ画素を構成する画素電極がある。
本発明態様では、スイッチング素子を第1着色層によって覆う構成としている。この構成において、第1着色層は、カラーフィルタとして機能することに加えて、透明導電膜とスイッチング素子とを電気的に絶縁する層間絶縁膜として機能する。なお、スイッチング素子と透明導電膜とを電気的に接続するのであるが、その接続は、例えば、第1着色層の一部にスイッチング素子と透明導電膜とを接続するためのコンタクトホールを設け、そのコンタクトホールを介して行われることがある。第1着色層は、そのコンタクトホール等といった接続部分以外の部分においてスイッチング素子と透明導電膜とを絶縁する。このように第1着色層を用いて層間絶縁膜を形成することにより、層間絶縁膜としての樹脂膜を別途基板上に形成する必要がなくなるので、電気光学装置の製造工程を減らすことができる。
また、従来は、透過表示領域に設けられる層間絶縁膜として、透光性の樹脂膜を用いることが多かった。この場合、表示に用いられる光が透光性の樹脂膜を透過すると、当該樹脂膜の材料特性によって電気光学装置の表示が色づくこと、例えは表示が黄色に色づくことがある。これに対し本発明の電気光学装置では、層間絶縁膜を第1着色層によって形成するので、色づきの原因となる透光性の樹脂膜の数を減らすことができる。その結果、透過表示領域を透過する光が色づくことを防止できる。
次に、本発明に係る第1の電気光学装置において、前記一方の基板は、複数の色の着色層を有し、複数の前記サブ画素のうちの1つの前記サブ画素は、前記複数の色のうちの1つの色の前記着色層が前記第1着色層として設けられてなるとともに、前記1つの色の前記着色層とは異なる色であり、他のサブ画素に備えられる前記第1着色層と同じ色の前記着色層が前記第2着色層として設けられてなることが望ましい。こうすれば、異なるサブ画素間において、第1着色層と第2着色層とを同時に形成することができるので、電気光学装置の製造工程を減らすことができる。
次に、本発明に係る第1の電気光学装置において、前記反射表示領域内には、(1)緑色の第1着色層と青色の第2着色層とが平面的に重ねられているか、又は(2)赤色の第1着色層と青色の第2着色層とが平面的に重ねられているか、又は(3)青色の第1着色層と赤色の第2着色層とが平面的に重ねられていることが望ましい。また、前記反射表示領域内には、(4)緑色の第1着色層と青色の第2着色層と赤色の第2着色層とが平面的に重ねられているか、又は(5)青色の第1着色層と緑色の第2着色層と赤色の第2着色層とが平面的に重ねられているか、又は(6)赤色の第1着色層と青色の第2着色層と緑色の第2着色層とが平面的に重ねられていることが望ましい。
青色、緑色及び赤色の着色層は、従来からカラーフィルタに用いられている色である。これら青色、緑色、赤色の着色層を第1着色層及び第2着色層に用いれば、マルチギャップ構造を容易に形成できる。また、上記(1)〜(6)のように第1着色層と第2着色層とを平面的に重ねて設ければ、その重なった部分を透過できる光の波長が狭く制限されることになり、そのため、透過光の光量が小さくなるように規制され、色相的には黒色に近い色となるように規制される。これにより、反射表示領域を通過して透過表示領域内へ光が漏れ出ることを防止できるので、電気光学装置の表示のコントラストが低下することを防止できる。
次に、本発明に係る第2の電気光学装置は、一対の基板に電気光学物質が挟持されてなり、透過表示領域と反射表示領域を有するサブ画素を複数備える電気光学装置であって、一方の前記基板の前記サブ画素の前記反射表示領域に設けられてなる第1着色層と、該第1着色層上に設けられてなる反射層と、前記一方の基板の前記サブ画素の前記透過表示領域及び前記反射層上に設けられてなり、前記第1着色層の色と異なる色の第2着色層とを備えた電気光学装置である。この電気光学装置において、前記電気光学物質は、前記第1着色層を反映して、前記反射表示領域における厚さが前記透過表示領域における厚さよりも薄くなっている。
本発明に係る第2の電気光学装置も、半透過反射型の電気光学装置であって、マルチギャップ構造の電気光学装置である。また、本発明の電気光学装置に用いられる着色層も、電気光学装置においてカラー表示を行うためのカラーフィルタを形成する要素であって、絶縁性を有するものである。なお、本発明に係る電気光学装置では、反射表示領域内において第1着色層上に反射膜を設け、当該反射膜上に第2着色層を設けているので、反射型表示と透過型表示の両方でカラー表示を行うことができる。
本発明に係る第2の電気光学装置では、一対の基板のうちの一方の基板上であって反射表示領域内に第1着色層を設け、該第1着色層上に反射膜を設け、さらに透過表示領域及び反射膜上に第2着色層を設けることにした。反射表示領域に設けられた第1着色層は、電気光学物質層の層厚を調整する層厚調整膜として機能する。すなわち、本発明に係る電気光学装置では、反射表示領域内において第2着色層上に第1着色層を設けることによって、当該反射表示領域内における電気光学物質層の層厚を透過表示領域内における電気光学物質層の層厚より薄くしている。
既述のように、第1着色層はカラーフィルタを形成する要素であり、この第1着色層を用いて層厚調整膜を形成することにより、層厚調整膜としての樹脂膜を別途基板上に形成する必要がなくなる。その結果、電気光学装置の製造工程を減らすことができる。
次に、本発明に係る第2の電気光学装置において、前記一方の基板は、前記第1着色層に覆われてなるスイッチング素子と、前記第2着色層上に設けられ、前記スイッチング素子と電気的に接続されてなる透明導電膜とを備えることができる。この構成の電気光学装置は、いわゆるアクティブマトリクス駆動方式の電気光学装置である。スイッチング素子としては、例えば3端子型の能動素子であるTFT(Thin-Film Diode)素子や2端子型の能動素子であるTFD(Thin Film Diode)素子等がある。また、スイッチング素子に接続される透明導電膜としては、例えばサブ画素を構成する画素電極がある。
本発明態様では、スイッチング素子を第1着色層によって覆う構成としている。この構成において、第1着色層は、透明導電膜とスイッチング素子とを、例えばコンタクトホール用といった接続部分以外の部分において、電気的に絶縁する層間絶縁膜として機能する。このように第1着色層を用いて層間絶縁膜を形成することにより、層間絶縁膜としての樹脂膜を別途基板上に形成する必要がなくなるので、電気光学装置の製造工程を減らすことができる。
また、従来は、透過表示領域に設けられる層間絶縁膜として、透光性の樹脂膜を用いることが多かった。この場合、表示に用いられる光が透光性の樹脂膜を透過すると、当該樹脂膜の材料特性によって電気光学装置の表示が色づくこと、例えは表示が黄色に色づくことがある。これに対し本発明の電気光学装置では、層間絶縁膜を第2着色層によって形成するので、色づきの原因となる透光性の樹脂膜の数を減らすことができる。その結果、透過表示領域を透過する光が色づくことを防止できる。
次に、本発明に係る第2の電気光学装置において、前記一方の基板は、複数の色の着色層を有し、複数の前記サブ画素のうちの1つの前記サブ画素は、前記複数の色のうちの1つの色の前記着色層が前記第1着色層として設けられてなるとともに、前記1つの色の前記着色層とは異なる色であり、他のサブ画素に備えられる前記第1着色層と同じ色の前記着色層が前記第2着色層として設けられてなることが望ましい。こうすれば、異なるサブ画素間において、第1着色層と第2着色層とを同時に形成することができるので、電気光学装置の製造工程を減らすことができる。
次に、本発明に係る第2の電気光学装置において、前記反射表示領域内には、(1)緑色の第2着色層と青色の第1着色層とが平面的に重ねられているか、又は(2)赤色の第2着色層と青色の第1着色層とが平面的に重ねられているか、又は(3)青色の第2着色層と赤色の第1着色層とが平面的に重ねられていることが望ましい。また、前記反射表示領域内には、(4)緑色の第2着色層と青色の第1着色層と赤色の第1着色層とが平面的に重ねられているか、又は(5)青色の第2着色層と緑色の第1着色層と赤色の第1着色層とが平面的に重ねられているか、又は(6)赤色の第2着色層と青色の第1着色層と緑色の第1着色層とが平面的に重ねられていることが望ましい。
青色、緑色及び赤色の着色層は、従来からカラーフィルタに用いられている色である。これら青色、緑色、赤色の着色層を第1着色層及び第2着色層に用いれば、マルチギャップ構造を容易に形成できる。また、上記(1)〜(6)のように第1着色層と第2着色層とを平面的に重ねて設ければ、その重なった部分を透過できる光の波長が狭く制限されることになり、そのため、透過光の光量が小さくなるように規制され、色相的には黒色に近い色となるように規制される。これにより、反射表示領域を通過して透過表示領域内へ光が漏れ出ることを防止できるので、電気光学装置の表示のコントラストが低下することを防止できる。
次に、本発明に係る電気光学装置において、互いに隣接するサブ画素同士の間の画素間領域には、前記第1着色層と前記第2着色層とが平面的に重ねて設けられることが望ましい。こうすれば、平面的に重ねて設けられた第1着色層と第2着色層とによって、画素間領域を透過できる光の波長が狭く制限されることになり、そのため、透過光の光量が小さくなるように規制され、色相的には黒色に近い色となるように規制される。従って、このように着色層が重なった部分では、例えば反射率が低い金属等を用いて遮光部材を設ける場合と同様の遮光効果を得ることができる。この画素間領域内に重ねて設けられた第1着色層と第2着色層は、当該画素間領域に隣接する反射表示領域内に設けられる第1着色層と第2着色層の構成と同じとすることができる。従って、画素間領域と当該画素間領域に隣接する反射表示領域とにおいて第1着色層と第2着色層とを同時に形成できる。
次に、本発明に係る第2の電気光学装置において、前記第1着色層は黒色着色層であることが望ましい。ここで、黒色着色層は、黒色の顔料、黒色の染料、又はカーボン等を感光性の樹脂材料に含有させたものを用いることができる。この黒色着色層としては、従来、互いに隣接するするサブ画素同士の間に設けられて遮光部材、例えばブラックマスクとして用いられているものを用いることができる。
本発明態様においては、一対の基板のうちの一方の基板上であって反射表示領域内に設けられる第1着色層として黒色着色層を用いることができる。こうすれば、反射型表示と透過型表示の両方でカラー表示を行う電気光学装置において、特に透過型表示を行う際に反射表示領域から透過表示領域内に不要な光が漏れ出すことを防止できる。また、黒色着色層を反射表示領域と当該反射表示領域に隣接するサブ画素間の領域にわたって設ければ、互いに隣接するサブ画素同士の間を確実に遮光できる。
次に、本発明に係る電子機器は、以上に記載した構成の電気光学装置を有することを特徴とする。本発明に係る電気光学装置は、透過表示領域と反射表示領域とに第1着色層を設け、反射表示領域内の第1着色層には当該第1着色層の色と異なる色の第2着色層を平面的に重ねて設けることにより反射表示領域内における電気光学物質層の層厚を透過表示領域内における電気光学物質層の層厚より薄くしている。こうすることにより、基板上に別途樹脂膜を形成する必要がなくなるので、電気光学装置の製造工程を減らすことができる。従って、本発明に係る電子機器においても、その電子機器の製造工程を減らすことができる。
また、本発明に係る電気光学装置は、反射表示領域内及び透過表示領域内の樹脂膜に代えて着色層を用いるので、色づきの原因となる透光性の樹脂膜の数を減らすことができる。その結果、反射表示領域で反射する光又は透過表示領域を透過する光が色づくことを防止できる。従って、本発明に係る電子機器においても、その電子機器の表示が色づくことを防止できる。
(電気光学装置の第1実施形態)
本発明に係る第1の電気光学装置は、一対の基板に電気光学物質が挟持されてなり、透過表示領域と反射表示領域とを有するサブ画素を複数備える電気光学装置であって、一方の前記基板の前記サブ画素の前記透過表示領域及び前記反射表示領域に設けられてなる第1着色層と、該第1着色層上の前記反射表示領域に設けられてなり、前記第1着色層の色と異なる色の第2着色層と、該第2着色層上に設けられてなる反射層とを備え、前記電気光学物質は前記第2着色層を反映して前記反射表示領域における厚さが前記透過表示領域における厚さよりも薄くなっている構成の電気光学装置である。以下、この発明の一実施形態を説明する。
本発明に係る第1の電気光学装置は、一対の基板に電気光学物質が挟持されてなり、透過表示領域と反射表示領域とを有するサブ画素を複数備える電気光学装置であって、一方の前記基板の前記サブ画素の前記透過表示領域及び前記反射表示領域に設けられてなる第1着色層と、該第1着色層上の前記反射表示領域に設けられてなり、前記第1着色層の色と異なる色の第2着色層と、該第2着色層上に設けられてなる反射層とを備え、前記電気光学物質は前記第2着色層を反映して前記反射表示領域における厚さが前記透過表示領域における厚さよりも薄くなっている構成の電気光学装置である。以下、この発明の一実施形態を説明する。
なお、本実施形態では、電気光学装置の一例として、半透過反射型でTFT(Thin Film Transistor)駆動方式の液晶表示装置に本発明を適用する。また、本実施形態では、反射型表示において白黒表示が可能で透過型表示においてカラー表示が可能な液晶表示装置に本発明を適用する。また、本実施形態では、スイッチング素子であるTFT素子として、チャネルエッチ型でシングルゲート構造のアモルファスシリコンTFT素子を採用した液晶表示装置に本発明を適用する。また、本実施形態では、液晶モードとしてECB(Electrically Controlled Birefringence:電界制御複屈折モード)を採用した液晶表示装置に本発明を適用する。
なお、本発明がこの実施形態に限定されるものでないことは、もちろんである。また、これからの説明では必要に応じて図面を参照するが、この図面では、複数の構成要素から成る構造のうち重要な構成要素をわかり易く示すため、各要素を実際とは異なった相対的な寸法で示す場合がある。
図1は、本発明に係る液晶表示装置の全体の側面断面構造を示している。また、図2は、図1において矢印Z1で示す部分を拡大して示している。また、図3は、図2の矢印Aに従った平面構造を示している。また、図4は、図3のZ2−Z2線に従った断面図であり、主にTFT素子を示している。また、図5は、図3の平面構造が完成する前の途中の段階であって基板上に着色膜を形成した段階の状態を示している。なお、図1は図3のZ3−Z3線に従った断面図である。
図1において、液晶表示装置1は、電気光学パネルである液晶パネル2と、この液晶パネル2に付設された照明手段である照明装置3とを有する。この液晶表示装置1に関しては矢印Aが描かれた側が観察側であり、上記の照明装置3は液晶パネル2に関して観察側と反対側に配置されてバックライトとして機能する。
液晶パネル2は、矢印A方向から見て長方形又は正方形で環状のシール材6によって互いに貼り合わされた一対の基板7及び8を有する。基板7はスイッチング素子やカラーフィルタが形成される素子基板である。また、基板8は素子側の電極に対向する電極が形成される対向基板である。本実施形態では、観察側から見て背面に素子基板7が配置される。
シール材6は素子基板7と対向基板8との間に間隙、いわゆるセルギャップGを形成する。シール材6はその一部に液晶注入口(図示せず)を有し、この液晶注入口を介して素子基板7と対向基板8との間に電気光学物質である液晶が注入される。注入された液晶はセルギャップG内で電気光学物質層としての液晶層12を形成する。液晶注入口は液晶の注入が完了した後に樹脂によって封止される。液晶の注入方法としては、上記のような液晶注入口を通して行う方法以外に、液晶注入口を持たない連続する環状のシール材6によって囲まれる領域内に液晶滴を滴下によって供給する方法も採用できる。なお、本実施形態では、ECB駆動を念頭において、液晶として、正の誘電異方性を有するネマティック液晶を用いることにする。
セルギャップGの間隔、従って液晶層12の層厚は、セルギャップG内に設けられる複数のスペーサ(図示せず)によって一定に維持される。このスペーサは、複数の球状の樹脂部材を素子基板7又は対向基板8の表面上にランダム(すなわち、無秩序)に置くことによって形成できる。また、スペーサは、フォトリソグラフィ処理によって所定の位置に柱状に形成することもできる。
照明装置3は、光源としてのLED(Light Emitting Diode)13と、導光体14とを有する。光源としては、LEDのような点状光源以外に、冷陰極管のような線状光源を用いることもできる。導光体14は、例えば、透光性を有する樹脂を材料とする成形加工によって形成され、LED13に対向する側面が光入射面14aであり、液晶パネル2に対向する面が光出射面14bである。矢印Aで示す観察側から見て導光体14の背面には、必要に応じて、光反射層16が設けられる。また、導光体14の光出射面14bには、必要に応じて、光拡散層17が設けられる。
素子基板7は、第1の透光性の基板7aを有する。この第1透光性基板7aは、例えば、透光性のガラス、透光性のプラスチック等によって形成される。この第1透光性基板7aの外側表面には偏光板18aが、例えば、貼着によって装着される。必要に応じて、偏光板18a以外の光学要素、例えば位相差板を付加的に設けることもできる。他方、第1透光性基板7aの内側表面には、矢印Z1で示す部分の拡大図である図2にも示すように、導電膜としてのソース線19が列方向Y(すなわち、図2の左右方向)に延びている。また、ゲート線20が行方向X(すなわち、図2の紙面垂直方向)に延びている。そして、スイッチング素子として機能するアクティブ素子であるTFT(Thin Film Transistor)素子21がソース線19及びゲート線20に接続して形成されている。
それらのTFT素子21、ソース線19及びゲート線20の上に、それらを覆う第1着色層としての第1着色膜22が形成され、その上に第2着色層としての第2着色膜23が形成され、その上に反射層としての光反射膜24が形成され、その上に透明導電膜としての画素電極25が形成され、その上に配向膜26aが形成されている。この配向膜26aに配向処理、例えばラビング処理が施され、これにより、素子基板7の近傍における液晶分子の配向が決められる。なお、本実施形態において液晶分子の配向は、ECB駆動を念頭において、液晶に電界を印加しない状態で水平配向になるように設定されている。
第1着色膜22及び第2着色膜23は絶縁性の材料、例えば、顔料又は染料を含有させた感光性樹脂を用いて形成されている。第1着色膜22は、ソース線19及びTFT素子21を覆う形状に形成され、これらのソース線19及びTFT素子21と画素電極25とを電気的に絶縁する層間絶縁膜として機能する。また、第2着色膜23は、第1着色膜22上の光反射膜24に対応した位置に設けられ、液晶層12の層厚を調整する層厚調整膜として機能する。
第1着色膜22及び第2着色膜23の個々はB(青)、G(緑)、R(赤)の1つの光を通過させる光学的特性に設定され、それらB,G,Rの第1着色膜22及び第2着色膜23が矢印A方向から見て所定の配列、例えばストライプ配列、モザイク配列、デルタ配列で並べられている。第1着色膜22及び第2着色膜23の光学的特性はB,G,Rの3原色に限られず、C(シアン)、M(マゼンタ)、Y(イエロー)の3原色を通過させる特性とすることもできる。これらの第1着色膜22及び第2着色膜23については後に詳しく説明する。
光反射膜24は、例えば、Al(アルミニウム)、Al合金等といった光反射性材料をフォトエッチング処理によってパターニングすることによって形成されている。画素電極25は、例えばITO(Indium Tin Oxide:インジウム錫酸化物)等といった金属酸化物をフォトエッチング処理によってパターニングすることによって形成されている。また、配向膜26aは、例えばポリイミド等を印刷等によって塗布することによって形成されている。
光反射膜24及び画素電極25は、矢印A方向から平面的に見て素子基板7上に行方向X及び列方向Yに沿ってマトリクス状に複数形成される。これらの光反射膜24及び画素電極25は、図3に示すように、各ソース線19と各ゲート線20とが交差する位置の近傍に設けられている。そして画素電極25は、個々のTFT素子21に電気的に接続されている。
図2において、第1着色膜22及び第2着色膜23には、画素電極25とTFT素子21とを電気的に接続するための開口部としての貫通穴であるコンタクトホール27が形成されている。このコンタクトホール27は、矢印A方向から平面的に見てTFT素子21の素子本体部分に重ならない位置であって、画素電極25と重なる位置に形成される。
本実施形態で用いるTFT素子21はアモルファスシリコンTFTであり、このTFT素子21は、図4に示すように、ゲート電極31、ゲート絶縁膜32、a−Si(アモルファスシリコン)によって形成された半導体膜33、N+−Si膜34a,34b、ソース電極35、そしてドレイン電極36を有する。本実施形態のTFT素子21は、ボトムゲート構造及びシングルゲート構造のチャネルエッチ型のTFT素子として構成されている。
TFT素子21から少し離れて補助容量37が設けられている。この補助容量37は画素電極25に付随する容量が小さくなり過ぎることを防止するために設けられるものである。この補助容量37は、ゲート電極31と同じ層内に同じ材料によって形成された第1電極31aと、ゲート絶縁膜32と同じ層内に同じ材料によって形成されていて第1電極31aを覆う絶縁膜32aと、ドレイン電極36と同じ層内に形成されていて絶縁膜32aを覆う導電膜としての第2電極36aとによって構成されている。図3に示すように、補助容量37の第1電極31aは、ゲート線20に平行で、ソース線19に交差して延びている。また、第2電極36aは面積の広い長方形状に形成されている。
図4において、ドレイン電極36は、その一端がN+−Si膜34bを介して半導体膜33に接続し、その他端が補助容量37の第2電極36aとなる所まで延びている。また、ドレイン電極36はコンタクトホール27を介して画素電極25に電気的に接続している。ソース電極35は、図3に示すように、ソース線19から分岐して形成されている。また、ゲート電極31は、ソース線19と直角の方向に延びるゲート線20から分岐して延びている。
本実施形態では、図4に示すように、画素電極25の下に層間絶縁膜としての第1着色膜22を設けることにより、画素電極25の層とTFT素子21の層とを別の層に分けている。この構造は、画素電極25とTFT素子21とを同じ層に形成する構造に比べて、以下のような利点を有する。
まず、TFT素子21とソース線19とを覆う第1着色膜22を形成し、その第1着色膜22上に画素電極25を形成するものとしているため、画素電極25とTFT素子21、及び画素電極25とソース線19の間の寄生容量を低減することができる。また、第1着色膜22を介して画素電極25とTFT素子21、及び画素電極25とソース線19とを積層構造にて形成しているため、TFT素子21及びソース線19を覆う形にて画素電極25を構成することができ、画素電極25をTFT素子21及びソース線19と同一平面上に形成する場合に比して、画素電極25を大きく構成することができ、ひいては有効画素領域を大きくとることができるようになる。
以上のような効果を齎す結果、非常に信頼性の高い電気光学装置を提供することが可能となり、特にこれを表示装置として用いた場合には、開口率の大きい視認性に優れた表示を実現することが可能となる。
次に、図1において、素子基板7に対向する対向基板8は、矢印A方向から見て長方形又は正方形の第2の透光性の基板8aを有する。この第2透光性基板8aは、例えば、透光性のガラス、透光性のプラスチック等によって形成される。この第2透光性基板8aの外側表面には偏光板18bが貼着されている。必要に応じて、偏光板18b以外の光学要素、例えば位相差板を付加的に設けることもできる。なお、本実施形態においては、偏光板18aと18bとをクロスニコル配置としている。そして、液晶表示装置の表示モードは、ノーマリホワイトモード、すなわち液晶に電界を印加していない時に白表示になり、電界を印加している時に黒表示になる表示モードに設定されている。
第2透光性基板8aの内側表面には、図2にも示すように、共通電極41が形成され、その上に配向膜26bが形成されている。配向膜26bは、例えばポリイミド等を印刷等によって塗布することによって形成される。
図1において、共通電極41は、対向基板8の表面の全面に設けられている。一方、素子基板7上に設けられた複数の画素電極25は矢印A方向から平面的に見て行方向X及び列方向Yに沿ってマトリクス状に並んでいる。これらの画素電極25と対向基板8上に設けられた共通電極41とは、矢印A方向から平面的に見て複数のドット状の領域で重なっている。このように重なり合った領域が表示のための最小単位であるサブ画素Dを形成している。そして、複数のサブ画素Dが行方向X及び列方向Yにマトリクス状に並ぶことにより、矢印A方向から見て長方形状又は正方形状の表示領域Vが形成され、この表示領域V内に文字、数字、図形等といった像が表示される。
本実施形態のように、B,G,Rの3色から成る第1着色膜22を用いてカラー表示を行う場合は、B,G,Rの3色に対応する3つの第1着色膜22に対応する3つのサブ画素Dによって1つの画素が形成される。他方、白黒又は任意の2色でモノカラー表示を行う場合は、1つのサブ画素Dによって1つの画素が形成される。
図2において、光反射膜24は、例えばフォトエッチング処理によって形成される。この光反射膜24はサブ画素Dのうちの一部の領域Rに設けられており、残りの領域Tには設けられていない。領域Tは、図3に示すように、サブ画素D内の一部の長方形状の領域であり、領域Rはサブ画素D内の領域T以外の領域である。
個々のサブ画素Dの中で光反射膜24が存在する領域が反射表示領域Rであり、光反射膜24が存在しない領域が透過表示領域Tである。図2において矢印Aで示す観察側から入射した外部光L0は反射表示領域Rにおいて光反射膜24で反射する。一方、図1の照明装置3の導光体14から出射した図2の光L1は、透過表示領域Tを透過する。
第1着色膜22の表面であって個々のサブ画素D内の反射表示領域Rに対応する部分には、複数の凹部及び複数の凸部が矢印A方向から見て平面的にランダムに形成されることにより凹凸パターンが形成されている。そして、この凹凸パターン上に一定膜厚の第2着色膜23が形成されることにより、第1着色膜22上の凹凸パターンが第2着色膜23の表面に反映されている。光反射膜24は、そのような凹凸パターンが形成されている第2着色膜23の上に一定の膜厚で形成されていて、それ自身も同じ凹凸パターンの形状を有している。このように光反射膜24に凹凸パターンを形成することにより、光反射膜24で反射する光L0を、鏡面反射ではなくて、適度の散乱光や適切な指向性を持った光とすることができる。
本実施形態の第2着色膜23は、反射表示領域Rに設けられており、透過表示領域Tには設けられていない。このため、反射表示領域R内の液晶層12の層厚t0は、第2着色膜23の膜厚を反映して、透過表示領域T内の液晶層12の層厚t1よりも薄くなっている。望ましくはt0=(t1)/2になっている。このような液晶層12の層厚の調整は、反射表示領域R内で光L0が液晶層12を2回通過する反射型表示の場合と、透過表示領域T内で光L1が液晶層12を1回しか通過しない透過型表示の場合とで、光の光路長が不均一になることを補償するための措置である。この層厚の調整により、反射型表示と透過型表示との間で均一な色表示を行うことが可能となる。
次に、図1において、素子基板7を構成する第1透光性基板7aは対向基板8の外側へ張り出す張出し部42を有している。この張出し部42の表面には、配線43がフォトエッチング処理等によって形成されている。配線43は矢印A方向から見て複数本形成されており、それらの複数本が紙面垂直方向に沿って互いに間隔を空けて並べられている。また、張出し部42の辺端には複数の外部接続用端子44が紙面垂直方向に沿って互いに間隔を空けて並ぶように形成されている。これらの外部接続用端子44が設けられた張出し部42の辺端に、例えば、FPC(Flexible Printed Circuit:可撓性プリント回路)基板(図示せず)が接続される。
複数の配線43は、シール材6に囲まれた領域内に向けて列方向Yに延びるように形成されている。これらの配線43の一部は、素子基板7上のソース線19(図2参照)に直接に繋がってデータ線として機能する。また、複数の配線43の他の一部は、シール材6によって囲まれた領域内において素子基板7の側辺に沿ってY方向に延びるように形成され、さらに折れ曲って行方向Xに延びるように形成されている。これらの曲がった状態の配線43は、素子基板7上のゲート線20(図2参照)に直接に繋がって走査線として機能する。
図1の張出し部42の表面には、ACF(Anisotropic Conductive Film:異方性導電膜)45を用いたCOG(Chip On Glass)技術によって、駆動用IC46が実装されている。駆動用IC46は、ソース線19へデータ信号を伝送し、ゲート線20へ走査信号を伝送する。駆動用IC46は1つのICチップで形成しても良いし、必要に応じて複数のICチップで形成しても良い。駆動用IC46を複数のICチップによって構成する場合には、それらのICチップは張出し部42上で図1の紙面垂直方向に並べて実装される。
以上のように構成された液晶表示装置1によれば、液晶表示装置1が明るい室外や明るい室内に置かれる場合は、太陽光や室内光等といった外部光を用いて反射型の表示が行われる。一方、液晶表示装置1が暗い室外や暗い室内に置かれる場合は、照明装置3をバックライトとして用いて透過型の表示が行われる。なお、本実施形態において、反射型の表示が行われる場合には、図2の光反射膜24で反射する光L0は第1着色膜22を通過しないので、カラー表示は行われず、視覚的に白色及び黒色を用いた表示(以下、白黒表示という)が行われることになる。一方、透過型の表示が行われる場合には、透過表示領域Tを透過する光L1は第1着色膜22を通過するのでカラー表示が行われることになる。
上記の反射型表示を行う場合、観察側である矢印Aの方向から対向基板8を通して液晶パネル2内へ入射した外部光L0は、液晶層12を通過して素子基板7内へ入った後、反射表示領域Rにおいて光反射膜24で反射して再び液晶層12へ供給される。他方、上記の透過型表示を行う場合、図1の照明装置3の光源13が点灯し、それからの光が導光体14の光入射面14aから導光体14へ導入され、さらに、光出射面14bから面状の光として出射する。この出射光は、図2の符号L1で示すように透過表示領域T、すなわち光反射膜24が存在しない領域を通って液晶層12へ供給される。
以上のようにして液晶層12へ光が供給される間、素子基板7側の画素電極22と対向基板8側の共通電極41との間には、走査信号およびデータ信号によって規定される所定の電圧が印加され、これにより、液晶層12内の液晶分子の配向がサブ画素Dごとに制御され、この結果、液晶層12に供給された光がサブ画素Dごとに変調される。この変調された光が、対向基板8側の偏光板18b(図1参照)を通過するとき、その偏光板18bの偏光特性に従ってサブ画素Dごとに通過を規制され、これにより、対向基板8の表面に文字、数字、図形等といった像が表示され、これが、矢印A方向から視認される。
以下、図2に示す第1着色膜22及び第2着色膜23について詳しく説明する。図6は、図3のZ4−Z4線に従った断面図である。まず、図2において、第1着色膜22は、第1透光性基板7a上のTFT素子21及びソース線19を覆う形状に形成されている。この第1着色膜22は、カラーフィルタを構成する要素である。個々の第1着色膜22は1つのサブ画素Dに対応して配置され、さらにB、G、Rの1つを通過させる光学的特性に設定されている。図では青色の第1着色膜を22B、緑色の第1着色膜を22G、赤色の第1着色膜を22Rで示している。
本実施形態において第1着色膜22は、図5において平面的に示すように、青色第1着色膜22B、緑色第1着色膜22G、赤色第1着色膜22Rのうちの同色が、複数のサブ画素Dにわたって列方向Yに連続して設けられている。そして、列方向Yと直交する行方向Xに青色第1着色膜22B、緑色第1着色膜22G、赤色第1着色膜22Rが交互に順番に並ぶ配列、すなわち、ストライプ配列になっている。また、行方向Xに互いに隣接する第1着色膜22同士は、それらの境界において隙間を空けずに接触している。従って、第1着色膜22は、1つのサブ画素Dと、X,Yの両方向でそのサブ画素Dに隣接する領域Sとにわたって設けられている。この領域Sは、互いに隣接するサブ画素D同士の間の画素間領域である。
図6において、この画素間領域Sにはソース線19が列方向Yに延在している。また、図4に示すように、サブ画素D内にはTFT素子21と、TFT素子21に接続された導電膜である第2電極36aが設けられている。第1着色膜22は、それらのソース線19、TFT素子21及び第2電極36a上にそれらを覆う形状に設けられている。
次に、図2において、第2着色膜23は、個々の反射表示領域R内において第1着色膜22上に積層して設けられている。すなわち、第1着色膜22と第2着色膜23とは平面的に重ねて設けられている。本実施形態において、第2着色膜23は青色又は赤色の1つを通過させる光学的特性に設定されている。図では青色の第2着色膜を23B、赤色の第2着色膜を23Rで示している。
第1着色膜22とそれに積層された第2着色膜23は互いに異なる色の着色膜である。具体的には、図6に示すように、青色の第1着色膜22Bの上には赤色の第2着色膜23Rが積層されている。また、緑色の第1着色膜22Gの上には青色の第2着色膜23Bが設けられている。また、赤色の第1着色膜22Rの上には青色の第2着色膜23Bが設けられている。
図5において、右端に示す位置で列方向Yに延びるサブ画素Dの列及びそのサブ画素Dの列の左側に隣接する画素間領域Sに対応して、赤色第1着色膜22Rが設けられている。また、中央に示す位置で列方向Yに延びるサブ画素Dの列及びそのサブ画素Dの列の左側に隣接する画素間領域Sに対応して、緑色第1着色膜22Gが設けられている。また、左端に示す位置で列方向Yに延びるサブ画素Dの列に対応して、青色第1着色膜22Bが設けられている。図示はしていないが、この青色第1着色膜22Bが設けられたサブ画素Dの列の左側に隣接する画素間領域Sに対応する位置にも青色第1着色膜22Bが設けられている。これらの赤色第1着色膜22R、緑色第1着色膜22G、及び青色第1着色膜22Bはそれらの境界において隙間を空けずに互いに接触している。
また、右端の赤色第1着色膜22R及び中央の緑色第1着色膜22Gの両方の上に青色第2着色膜23Bが共通に設けられている。また、左端の青色第1着色膜22Bの上には赤色第2着色膜23Rが設けられている。これらの第2着色膜23B及び23Rもそれらの境界において隙間を空けずに互いに接触している。以上の説明から理解できるように、ここの画素間領域S内には、互いに色の異なる第1着色膜22と第2着色膜23とが積層状態で平面的に重なって設けられている。なお、図5では3つのサブ画素Dの間、すなわち1つの画素内における第1着色膜22と第2着色膜23との積層状態関係を示したが、この積層状態関係は表示領域内の全ての画素に関して同じである。
第1着色膜22と第2着色膜23とが積層された部分は、透過できる光の波長が狭く制限されることになり、そのため、透過光の光量が小さくなるように規制され、色相的には黒色に近い色となるように規制される。従って、このように着色膜を積層した部分では、例えば反射率が低い金属等を用いて遮光部材を設ける場合と同様の遮光効果を得ることができる。本実施形態では、互いに隣接するサブ画素D同士の間の画素間領域Sにおいて、第1着色膜22と第2着色膜23とを積層しているので、画素間領域Sを抜けようとする光を遮光できる。それ故、互いに隣接するサブ画素D間に金属等から成るブラックマスク等といった遮光部材を別途設ける必要がなくなる。
ところで、従来の液晶表示装置では、樹脂膜によって反射表示領域内に層厚調整膜を設けることにより、反射表示領域と透過表示領域との間で液晶層の層厚、すなわちセルギャップを異ならせていた。また、透過表示領域には、透光性の樹脂膜によって層間絶縁膜が形成されていた。しかしながら、このような従来の液晶表示装置においては、反射表示領域内に樹脂膜を形成する工程が必要であり、その液晶表示装置を製造する際の工程が繁雑であった。また、透過表示領域においては、層間絶縁膜を透過する光がその樹脂膜の材料特性によって色づくこと、例えば黄色に色づくことがあった。この場合には、透過型の表示において色づきが発生するおそれがあった。
これらの問題に対し、本実施形態の液晶表示装置では、図2に示すように、個々のサブ画素Dにおいて、透過表示領域T内に第1着色膜22を1層設け、反射表示領域R内に第1着色膜22と異なる色の第2着色膜23を積層して設けた。透過表示領域T内に設けられた第1着色膜22は、光反射膜24や画素電極25等とTFT素子21とを電気的に絶縁する層間絶縁膜として機能する。一方、反射表示領域Rに積層された第2着色膜23は、液晶層12の層厚を調整する層厚調整膜として機能する。
反射表示領域R内において第1着色膜22に第2着色膜23を積層することによって、当該反射表示領域R内における液晶層12の層厚、すなわちセルギャップGを透過表示領域T内における液晶層12の層厚より薄くしている。第1着色膜22と第2着色膜23はカラーフィルタを形成する要素であり、第1着色膜22を用いて層間絶縁膜を形成し、且つ第2着色膜23を用いて層厚調整膜を形成することにより、液晶層12の層厚を調整するために、別途、基板7a上に樹脂膜を形成する必要がなくなる。その結果、液晶表示装置の製造工程を減らすことができる。
また、本実施形態の液晶表示装置では、層間絶縁膜を第1着色膜22によって形成することにより、基板7a上に形成される透光性の樹脂膜を減らすことができる。すなわち、透過表示領域Tを透過する光が透過する透光性樹脂膜の数を1つ減らすことができるので、その光が色づくことを防止できる。また、仮に透過表示領域Tを透過する光が色づいたとしても、その光が第1着色膜22を通過することによって当該光の波長が所定の波長に選択されるので、液晶表示装置の表示が色づくことを補正できる。
(電気光学装置の第2実施形態)
次に、本発明に係る第1の電気光学装置の他の実施形態を説明する。本実施形態も先の第1実施形態と同じ構成の電気光学装置に関する。本実施形態においても、電気光学装置の実施形態として液晶表示装置を例示して説明する。本実施形態に係る液晶表示装置の外観形状は、概ね、図1と同じである。図7は、本発明に係る液晶表示装置の主要部を示しており、図1において矢印Z1で示す部分、すなわちサブ画素部分を拡大して示している。また、図8は、図7の矢印Aに従った平面構造を示している。なお、図7は図8のZ5−Z5線に従った断面図である。
次に、本発明に係る第1の電気光学装置の他の実施形態を説明する。本実施形態も先の第1実施形態と同じ構成の電気光学装置に関する。本実施形態においても、電気光学装置の実施形態として液晶表示装置を例示して説明する。本実施形態に係る液晶表示装置の外観形状は、概ね、図1と同じである。図7は、本発明に係る液晶表示装置の主要部を示しており、図1において矢印Z1で示す部分、すなわちサブ画素部分を拡大して示している。また、図8は、図7の矢印Aに従った平面構造を示している。なお、図7は図8のZ5−Z5線に従った断面図である。
既述の第1実施形態では、図2に示したように、スイッチング素子として3端子型のスイッチング素子であるTFT素子21を用いた液晶表示装置に本発明を適用した場合を例示した。これに対し本実施形態では、図7に示すように、スイッチング素子として2端子型のTFD(Thin Film Diode)素子61を用いた液晶表示装置51に本発明を適用した場合について説明する。なお、本実施形態において、液晶パネル52の内部構造以外の液晶表示装置51の構成要素は、図2で示した第1実施形態の場合と同じものを用いることにして、それらの説明は省略する。
図7において、液晶パネル52を構成する素子基板7に関しては、第1透光性基板7aの内側表面に、データ線60が列方向Y(すなわち、図7の左右方向)に延びて形成されている。そして、スイッチング素子としてのTFD(Thin Film Diode)素子61がデータ線60に接続して形成されている。データ線60は複数本が行方向X(すなわち、図7の紙面垂直方向)に沿って互いに等間隔で平行に並べられている。これらのデータ線60は、例えば、Cr(クロム)、Mo(モリブデン)等といった金属によって形成されている。また、TFD素子61は複数個が各データ線60に沿って等間隔に設けられている。
それらのTFD素子61及びデータ線60の上に、それらを覆う第1着色層としての第1着色膜72が形成され、その上に第2着色層としての第2着色膜73が形成され、その上に反射層としての光反射膜24が形成され、その上に透明導電膜としての画素電極25が形成され、その上に配向膜26aが形成されている。そして、この配向膜26aにラビング処理が施されて、素子基板7の近傍の液晶層12の配向が決められる。なお、本実施形態において、液晶分子の配向は、液晶に電界を印加していない状態で水平配向になるように設定されている。
光反射膜24及び画素電極25は、矢印A方向から平面的に見て素子基板7上に行方向X及び列方向Yに沿ってマトリクス状に複数形成される。これらの光反射膜24及び画素電極25は、各データ線60に沿って設けられている。そして個々の画素電極25は個々のTFD素子61にコンタクトホール27を介して電気的に接続されている。
TFD素子61は、互いに電気的に直列につながれた一対のTFD要素61a及び61bによって形成されている。第1のTFD要素61aは、第1素子電極62、絶縁膜63、そして第2素子電極64aをその順で重ねることによって形成されている。また、第2のTFD要素61bは、第1素子電極62、絶縁膜63、そして第2素子電極64bをその順で重ねることによって形成されている。第1素子電極62は、例えば、Ta(タンタル)又はTa合金によって形成される。Ta合金としては、例えば、TaW(タンタル・タングステン)を用いることができる。絶縁膜63は、例えば、陽極酸化処理によって形成される。第2素子電極64a,64bは、例えばCrによって形成される。
図8において、第1TFD要素61a内の第2素子電極64aはデータ線60から延びている。また、第2TFD要素61b内の第2素子電極64bはコンタクトホール27を介して画素電極25に接続されている。データ線60から画素電極25へ信号が伝送されることを考えたとき、第1TFD要素61aと第2TFD要素61bは電気的に逆極性である2つのTFD要素が直列に接続されることになる。この構造はバック・ツー・バック(Back-to-Back)構造と呼ばれることがある。本実施形態では、このようにバック・ツー・バック構造のTFD素子を用いたが、単一のTFD要素によってTFD素子を形成しても良い。
図7において、素子基板7に対向する対向基板8に関しては、第2透光性基板8aの内側表面に帯状電極71が形成され、その上に配向膜26bが形成されている。帯状電極71は、図7の行方向X(すなわち、紙面垂直方向)に延びている。配向膜26bは、例えばポリイミド等を塗布することによって形成される。
帯状電極71は、例えば、ITOをフォトエッチング処理によって所定の帯形状にパターニングすることによって形成されている。1本の帯状電極71は行方向X(すなわち、図7の紙面垂直方向)に延びている。そして、複数の帯状電極71が列方向Y(すなわち、図7の左右方向)に所定間隔をおいて互いに平行に並べられている。
液晶パネル52を矢印A方向から見た場合、素子基板7上において行方向Xに並ぶ複数のドット状の画素電極25と、対向基板8上において行方向Xへ延びる帯状電極71とは、平面的に重なっている。両電極がこうして重なる領域は表示のための最小単位であるサブ画素Dを構成する。図1において行った説明と同様にして、複数のサブ画素Dが平面内で行方向X及び列方向Yにマトリクス状に並ぶことにより、表示領域Vが形成される。この表示領域V内に文字、数字、図形等といった像が表示され、矢印A方向から観察者によって視認される。
本実施形態における第1着色膜72及びその上に積層されて平面的に重なる第2着色膜73の構成は、図5に示した第1実施形態における第1着色膜22及び第2着色膜23の構成と同じである。すなわち、図7の第1着色膜72は、第1透光性基板7a上のTFD素子61及びデータ線60を覆う形状に形成されている。この第1着色膜72は、カラーフィルタを構成する要素である。個々の第1着色膜72は1つのサブ画素Dに対応して配置され、さらにB、G、Rの1つを通過させる光学的特性に設定されている。図では青色の第1着色膜72B、緑色の第1着色膜を72G、赤色の第1着色膜を72Rで示している。
本実施形態において第1着色膜72は、図5において平面的に示すように、青色第1着色膜72B、緑色第1着色膜72G、赤色第1着色膜72Rのうちの同色が、複数のサブ画素Dにわたって列方向Yに連続して設けられている。そして、列方向Yと直交する行方向Xに青色第1着色膜72B、緑色第1着色膜72G、赤色第1着色膜72Rが交互に順番に並ぶ配列になっている。また、行方向Xに互いに隣接する第1着色膜72同士は、それらの境界において隙間を空けずに接触している。従って、第1着色膜72は、1つのサブ画素Dとそのサブ画素Dに隣接する画素間領域Sとにわたって設けられている。画素間領域Sは、互いに隣接するサブ画素D同士の間の領域である。
図7に示すように、サブ画素D内にはTFD素子61とデータ線60が設けられている。第1着色膜72は、それらのデータ線60及びTFD素子61上にそれらを覆う形状に設けられている。
次に、第2着色膜73は、個々の反射表示領域R内において第1着色膜72上に積層して設けられている。本実施形態において、第2着色膜73は青色又は赤色の1つを通過させる光学的特性に設定されている。図では青色の第2着色膜を73B、赤色の第2着色膜を73Rで示している。
第1着色膜72とそれに積層された第2着色膜73は互いに異なる色の着色膜である。具体的には、図6に示すように、青色の第1着色膜72Bの上には赤色の第2着色膜73Rが積層されている。また、緑色の第1着色膜72Gの上には青色の第2着色膜73Bが設けられている。また、赤色の第1着色膜72Rの上には青色の第2着色膜73Bが設けられている。
図5において、右端に示す位置で列方向Yに延びるサブ画素Dの列及びそのサブ画素Dの列の左側に隣接する画素間領域Sに対応して、赤色第1着色膜72Rが設けられている。また、中央に示す位置で列方向Yに延びるサブ画素Dの列及びそのサブ画素Dの列の左側に隣接する画素間領域Sに対応して、緑色第1着色膜72Gが設けられている。また、左端に示す位置で列方向Yに延びるサブ画素Dの列に対応して、青色第1着色膜72Bが設けられている。図示はしていないが、この青色第1着色膜72Bが設けられたサブ画素Dの列の左側に隣接する画素間領域Sに対応する位置にも青色第1着色膜72Bが設けられている。これらの赤色第1着色膜72R、緑色第1着色膜72G、及び青色第1着色膜72Bはそれらの境界において隙間を空けずに互いに接触している。
また、右端の赤色第1着色膜72R及び中央の緑色第1着色膜72Gの両方の上に青色第2着色膜73Bが共通に設けられている。また、左端の青色第1着色膜72Bの上には赤色第2着色膜73Rが設けられている。これらの第2着色膜73B及び73Rもそれらの境界において隙間を空けずに互いに接触している。以上の説明から理解できるように、ここの画素間領域S内には、互いに色の異なる第1着色膜72と第2着色膜73とが積層状態で平面的に重なって設けられている。なお、図5では3つのサブ画素Dの間、すなわち1つの画素内における第1着色膜72と第2着色膜73との積層状態関係を示したが、この積層状態関係は表示領域内の全ての画素に関して同じである。
第1着色膜72と第2着色膜73とが積層された部分は、透過できる光の波長が狭く制限されることになり、そのため、透過光の光量が小さくなるように規制され、色相的には黒色に近い色となるように規制される。従って、このように着色膜を積層した部分では、例えば反射率が低い金属等を用いて遮光部材を設ける場合と同様の遮光効果を得ることができる。本実施形態では、互いに隣接するサブ画素D同士の間の画素間領域Sにおいて、第1着色膜72と第2着色膜73とを積層しているので、画素間領域Sを抜けようとする光を遮光できる。それ故、互いに隣接するサブ画素D間に金属等から成るブラックマスク等といった遮光部材を別途設ける必要がなくなる。
本実施形態においても、図7に示すように、個々のサブ画素Dにおいて、透過表示領域T内に第1着色膜72を1層設け、反射表示領域R内に第1着色膜72と異なる色の第2着色膜73を積層して設けた。透過表示領域T内及び反射表示領域R内に設けられた第1着色膜72は、光反射膜24や画素電極25等とTFT素子21とを電気的に絶縁する層間絶縁膜として機能する。一方、反射表示領域Rに積層された第2着色膜73は、液晶層12の層厚を調整する層厚調整膜として機能する。
反射表示領域R内において第1着色膜72に第2着色膜73を積層することによって、当該反射表示領域R内における液晶層12の層厚、すなわちセルギャップGを透過表示領域T内における液晶層12の層厚より薄くしている。第1着色膜72と第2着色膜73はカラーフィルタを形成する要素であり、第1着色膜72を用いて層間絶縁膜を形成し、且つ第2着色膜73を用いて層厚調整膜を形成することにより、層間絶縁膜や層厚調整膜を形成するための樹脂膜を、バット、基板7a上に形成する必要がなくなる。その結果、液晶表示装置の製造工程を減らすことができる。
また、本実施形態の液晶表示装置では、スイッチング素子としてTFD素子61を用いている。TFD素子61は、TFT素子21(図4参照)と異なり、基板7a上にゲート絶縁膜等といった透明樹脂膜を設ける必要がない。また、TFD素子61を覆う層間絶縁膜は第1着色膜72によって形成される。従って、第1着色膜72を覆うための透光性の樹脂膜を基板7a上に設けることなく素子基板7を構成できる。その結果、透過表示領域Tを透過する光は透光性の樹脂膜によって色づく、例えば黄色に色づくことがなくなる。それ故、液晶表示装置の表示が色づくことを防止できる。
(電気光学装置の第3実施形態)
次に、本発明に係る第2の電気光学装置は、一対の基板に電気光学物質が挟持されてなり、透過表示領域と反射表示領域を有するサブ画素を複数備える電気光学装置であって、一方の前記基板の前記サブ画素の前記反射表示領域に設けられてなる第1着色層と、該第1着色層上に設けられてなる反射層と、前記一方の基板の前記サブ画素の前記透過表示領域及び前記反射層上に設けられてなり、前記第1着色層の色と異なる色の第2着色層とを備え、前記電気光学物質は、前記第1着色層を反映して、前記反射表示領域における厚さが前記透過表示領域における厚さよりも薄くなっている構成の電気光学装置である。以下、この発明の一実施形態を説明する。
次に、本発明に係る第2の電気光学装置は、一対の基板に電気光学物質が挟持されてなり、透過表示領域と反射表示領域を有するサブ画素を複数備える電気光学装置であって、一方の前記基板の前記サブ画素の前記反射表示領域に設けられてなる第1着色層と、該第1着色層上に設けられてなる反射層と、前記一方の基板の前記サブ画素の前記透過表示領域及び前記反射層上に設けられてなり、前記第1着色層の色と異なる色の第2着色層とを備え、前記電気光学物質は、前記第1着色層を反映して、前記反射表示領域における厚さが前記透過表示領域における厚さよりも薄くなっている構成の電気光学装置である。以下、この発明の一実施形態を説明する。
本実施形態においても、電気光学装置の実施形態として液晶表示装置を例示して説明する。本実施形態に係る液晶表示装置の外観形状は、概ね、図1と同じである。図9は、図1において矢印Z1で示す部分、すなわちサブ画素部分を拡大して示している。
既述の各実施形態では、図1に示したように、反射表示領域内において、光反射膜24は積層された第1着色膜22,72と第2着色膜23,73の上に設けられている。従って、図1に示した液晶表示装置は、反射型の表示において光反射膜24で反射した光が第1着色膜22,72を透過しないので、白黒表示が行われることになる。これに対し本実施形態では、図9において、反射表示領域R内において積層された着色膜92,93の間の平面内に光反射膜24を設けている。従って、本実施形態の液晶表示装置は、反射型の表示においてカラー表示を行うことができる。
以下に本実施形態について説明する。なお、本実施形態において、液晶パネル82の素子基板7の構造を除いた液晶表示装置81の構成要素は、図2で示した第1実施形態の場合と同じものを用いることにして、それらの説明は省略する。
図9において、液晶パネル82を構成する素子基板7は、第1透光性基板7aの内側表面に、ソース線19、ゲート線20及びスイッチング素子としてのTFT素子21を有する。それらのTFT素子21、ソース線19及びゲート線20の上に、それらを覆う第1着色層としての黒色着色膜92及び第2着色層としての第2着色膜93が形成されている。黒色着色膜92の上には反射層としての光反射膜24が形成され、第2着色膜93は黒色着色膜92及び光反射膜24の上にまで延びている。従って、第2着色膜93は、反射表示領域R内において光反射膜24上に設けられている。そして第2着色膜93の上には透明導電膜としての画素電極25が形成され、その上に配向膜26aが形成されている。
本実施形態において、ソース線19、ゲート線20、TFT素子21の構成は、第1実施形態において図3で示す構成と同じである。また、本実施形態でも補助容量37が設けられている。すなわち、図9の矢印Aに従った平面構造は図3と同じである。図10は、図3の平面構造が完成する前の途中の段階であって基板上に着色膜92,93を形成した段階の状態を示している。
図9において、黒色着色膜92は絶縁性を有した黒色の樹脂、例えばカーボン等を含有させた感光性樹脂を用いて形成されている。また、第2着色膜93は絶縁性の材料、例えば、顔料又は染料を含有させた感光性樹脂を用いて形成されている。この黒色着色膜92は、図10において、反射表示領域Rとその反射表示領域Rに隣接する領域、すなわち互いに隣接するサブ画素D同士の間の画素間領域Sとにわたって設けられている。この黒色着色膜92は、反射表示領域R内において液晶層12の層厚を調整する層厚調整膜として機能する。
図3において、画素間領域Sにはソース線19が列方向Yに延在している。また、サブ画素D内にはTFT素子21と、TFT素子21に接続された導電膜である第2電極36aが設けられている。黒色着色膜92は、それらのソース線19、TFT素子21及び第2電極36a上にそれらを覆う形状に設けられている。従って、黒色着色膜92はTFT素子21と光反射膜24との間を電気的に絶縁する機能を有している。
次に、図9において第2着色膜93は、カラーフィルタを構成する要素である。個々の第2着色膜93は1つのサブ画素Dに対応して配置され、さらにB、G、Rの1つを通過させる光学的特性に設定されている。図では青色の第2着色膜を93B、緑色の第2着色膜を93G、赤色の第2着色膜を93Rで示している。これらの第2着色膜93は、透過表示領域T内において、ソース線19と画素電極25とを電気的に絶縁する層間絶縁膜として機能する。
第2着色膜93は、個々のサブ画素D内において、透過表示領域Tと反射表示領域Rにわたって設けられている。従って、透過表示領域T内では、第2着色膜93が1層設けられ、反射表示領域R内では、黒色着色膜92と第2着色膜93とが積層して設けられている。従って、反射表示領域R内の液晶層12の層厚t0は、黒色着色膜92の膜厚を反映して、透過表示領域T内の層厚t1に比べて薄くなっている。
以上のように構成された液晶表示装置において、反射型の表示が行われる場合には、観察側である矢印Aの方向から対向基板8を通して液晶パネル82内へ入射した外部光L0が、液晶層12を通過して素子基板7内へ入った後、反射表示領域Rにおいて光反射膜24で反射して第2着色膜93を通過し、再び液晶層12へ供給される。こうしてカラー表示が行われる。他方、透過型表示を行う場合、図1の照明装置3の光源13が点灯し、それからの光が導光体14の光入射面14aから導光体14へ導入され、さらに、光出射面14bから面状の光として出射する。この出射光は、図9の符号L1で示すように透過表示領域T、すなわち光反射膜24が存在しない領域において第2着色膜93を通って液晶層12へ供給される。こうしてカラー表示が行われる。
本実施形態においては、個々のサブ画素Dにおいて、透過表示領域T内に第2着色膜93を1層設け、反射表示領域R内に黒色着色膜92と第2着色膜93とを積層して設けた。反射表示領域R内において第2着色膜93と黒色着色膜92とを積層することによって、当該反射表示領域R内における液晶層12の層厚、すなわちセルギャップGを透過表示領域T内における液晶層12の層厚より薄くしている。また、黒色着色膜92は、従来からサブ画素D間を遮光する遮光部材として用いられることがあるものであり、図10においてこの黒色着色膜92を反射表示領域Rとサブ画素D間の画素間領域Sとにわたって設けることにより、液晶層12の層厚を調整すると同時に、互いに隣接するサブ画素D同士の間を遮光することができる。
また、本実施形態の液晶表示装置では、図9に示すように、反射表示領域R内において、光反射膜24上に第2着色膜93を設ける構造としたので、反射型表示においてもカラー表示を行うことが可能になった。
また、従来では、TFT素子21と光反射膜24との間の層間絶縁膜を専用の透光性の樹脂膜によって形成していたが、本実施形態の液晶表示装置では、第2着色膜93によって層間絶縁膜を形成することにより、基板7a上に形成される樹脂膜を減らすことができる。こうして、透過表示領域Tを透過する光が透過する透光性樹脂膜の数を減らすことができるので、その光が色づくことを防止できる。
(電気光学装置に関するその他の実施形態)
以上、好ましい実施形態を挙げて本発明に係る電気光学装置を説明したが、本発明はその実施形態に限定されるものでなく、請求の範囲に記載した発明の範囲内で種々に改変できる。例えば、上記の第1実施形態及び第2実施形態においては、図5に示すように、第2着色膜23,73として青色着色膜23B,73B及び赤色着色膜23R,73を用いている。しかしながら、第2着色膜23,73は、第1着色膜22,72と異なる色であって、第1着色膜22,72に積層することによって遮光効果を得られる色であれば、青色及び赤色以外の色の着色膜としても良い。
以上、好ましい実施形態を挙げて本発明に係る電気光学装置を説明したが、本発明はその実施形態に限定されるものでなく、請求の範囲に記載した発明の範囲内で種々に改変できる。例えば、上記の第1実施形態及び第2実施形態においては、図5に示すように、第2着色膜23,73として青色着色膜23B,73B及び赤色着色膜23R,73を用いている。しかしながら、第2着色膜23,73は、第1着色膜22,72と異なる色であって、第1着色膜22,72に積層することによって遮光効果を得られる色であれば、青色及び赤色以外の色の着色膜としても良い。
また、上記の第3実施形態においては、図10に示すように、第1着色層として黒色着色膜92を用いている。しかしながら、第1着色層は、第2着色膜93と異なる色であって、第2着色膜93に積層することによって遮光効果を得られる色であれば、黒色以外の色の着色膜としても良い。
また、上記の各実施形態では、反射表示領域R内には2層の着色膜を積層した構造としているが、反射表示領域R内の着色膜は2層より多い多層、例えば3層としても良い。この場合、第1実施形態では、図2において、緑色第1着色膜22Gと青色第2着色膜23Bと赤色第2着色膜23Rとを平面的に重ねるか、又は青色第1着色膜22Bと緑色第2着色膜23Gと赤色第2着色膜23Rとを平面的に重ねるか、又は赤色第1着色膜22Rと青色第2着色膜23Bと緑色第2着色膜23Gとを平面的に重ねることが望ましい。
また、第2実施形態では、図7において、緑色第1着色膜72Gと青色第2着色膜73Bと赤色第2着色膜73Rとを平面的に重ねるか、又は青色第1着色膜72Bと緑色第2着色膜73Gと赤色第2着色膜73Rとを平面的に重ねるか、又は赤色第1着色膜72Rと青色第2着色膜73Bと緑色第2着色膜73Gとを平面的に重ねることが望ましい。
また、第3実施形態では、緑色第2着色膜93Gと青色第1着色膜92Bと赤色第1着色膜92Rとを平面的に重ねるか、又は青色第2着色膜93Bと緑色第1着色膜92Gと赤色第1着色膜92Rとを平面的に重ねるか、又は赤色第2着色膜93Rと青色第1着色膜92Bと緑色第1着色膜92Gとを平面的に重ねることが望ましい。
また、図2に示した第1実施形態は、スイッチング素子として3端子型のスイッチング素子であるTFT素子21であってチャネルエッチ型でシングルゲート構造のアモルファスシリコンTFT素子を用いる電気光学装置に本発明を適用したものである。しかしながら本発明は、他の構造のアモルファスシリコンTFT素子を用いる液晶表示装置にも適用できる。また、本発明は、アモルファスシリコンTFT素子以外のTFT素子、例えば高温ポリシリコンTFT素子や、低温ポリシリコンTFT素子等をスイッチング素子として用いるアクティブマトリクス方式の液晶表示装置にも適用できる。
また、上記の各実施形態では、ECB方式の液晶モードを採用した液晶表示装置に本発明を適用したものであるが、本発明は、例えばSTN(Super Twisted Nematic)モードや、VA(Vertically Aligned:垂直配向)モード等の液晶モードを採用した液晶表示装置にも適用できる。
(電子機器の第1実施形態)
以下、本発明に係る電子機器を実施形態を挙げて説明する。なお、この実施形態は本発明の一例を示すものであり、本発明はこの実施形態に限定されるものではない。
以下、本発明に係る電子機器を実施形態を挙げて説明する。なお、この実施形態は本発明の一例を示すものであり、本発明はこの実施形態に限定されるものではない。
図11は、本発明に係る電子機器の一実施形態を示している。ここに示す電子機器は、液晶表示装置101と、これを制御する制御回路102とを有する。制御回路102は、表示情報出力源105、表示情報処理回路106、電源回路107及びタイミングジェネレータ108によって構成される。そして、液晶表示装置101は液晶パネル103及び駆動回路104を有する。
表示情報出力源105は、RAM(Random Access Memory)等といったメモリや、各種ディスク等といったストレージユニットや、ディジタル画像信号を同調出力する同調回路等を備え、タイミングジェネレータ108により生成される各種のクロック信号に基づいて、所定フォーマットの画像信号等といった表示情報を表示情報処理回路106に供給する。
次に、表示情報処理回路106は、増幅・反転回路や、ローテーション回路や、ガンマ補正回路や、クランプ回路等といった周知の回路を多数備え、入力した表示情報の処理を実行して、画像信号をクロック信号CLKと共に駆動回路104へ供給する。ここで、駆動回路104は、走査線駆動回路やデータ線駆動回路と共に、検査回路等を総称したものである。また、電源回路107は、上記の各構成要素に所定の電源電圧を供給する。
液晶表示装置101は、例えば、図1に示した液晶表示装置1を用いて構成できる。図1の液晶表示装置1では、図2において、透過表示領域T内に第2着色膜22を1層設け、反射表示領域R内には互いに色が異なる第1着色膜22と第2着色膜23とを積層して設けることにより反射表示領域R内における液晶層12の層厚t0を透過表示領域T内における液晶層12の層厚t1より薄くしている。こうすることにより、液晶層厚を調整するための樹脂膜を、別途、基板7a上に形成する必要がなくなるので、液晶表示装置1の製造工程を減らすことができる。従って、本発明に係る電子機器においても、その電子機器の製造工程を減らすことができる。
また、液晶表示装置1は、従来において層間絶縁膜や液晶層厚調整膜として用いていた反射表示領域R内及び透過表示領域T内の樹脂膜に換えて第1着色膜22又は第2着色膜23を用いるので、色づきの原因となる透光性の樹脂膜の数を減らすことができる。その結果、反射表示領域R内で反射する光L0又は透過表示領域T内を透過する光L1が色づくことを防止できる。従って、本発明に係る電子機器においても、その電子機器の表示が色づくことを防止できる。
(電子機器の第2実施形態)
図12は、本発明に係る電子機器の他の実施形態である携帯電話機を示している。ここに示す携帯電話機110は、本体部111と、これに開閉可能に設けられた表示体部112とを有する。液晶表示装置等といった電気光学装置によって構成された表示装置113は、表示体部112の内部に配置され、電話通信に関する各種表示は、表示体部112において表示画面114によって視認できる。本体部111には操作ボタン115が配列されている。
図12は、本発明に係る電子機器の他の実施形態である携帯電話機を示している。ここに示す携帯電話機110は、本体部111と、これに開閉可能に設けられた表示体部112とを有する。液晶表示装置等といった電気光学装置によって構成された表示装置113は、表示体部112の内部に配置され、電話通信に関する各種表示は、表示体部112において表示画面114によって視認できる。本体部111には操作ボタン115が配列されている。
表示体部112の一端部にはアンテナ116が伸縮自在に取付けられている。表示体部112の上部に設けられた受話部117の内部には、図示しないスピーカが配置される。また、本体部111の下端部に設けられた送話部118の内部には図示しないマイクが内蔵されている。表示装置113の動作を制御するための制御部は、携帯電話機の全体の制御を司る制御部の一部として、又はその制御部とは別に、本体部111又は表示体部112の内部に格納される。
表示装置113は、例えば、図1に示した液晶表示装置1を用いて構成できる。図1の液晶表示装置1では、図2において、透過表示領域T内に第2着色膜22を1層設け、反射表示領域R内には互いに色が異なる第1着色膜22と第2着色膜23とを積層して設けることにより反射表示領域R内における液晶層12の層厚t0を透過表示領域T内における液晶層12の層厚t1より薄くしている。こうすることにより、液晶層厚を調整するための樹脂膜を、別途、基板7a上に形成する必要がなくなるので、液晶表示装置1の製造工程を減らすことができる。従って、本発明に係る電子機器においても、その電子機器の製造工程を減らすことができる。
また、液晶表示装置1は、従来において層間絶縁膜や液晶層厚調整膜として用いていた反射表示領域R内及び透過表示領域T内の樹脂膜に換えて第1着色膜22又は第2着色膜23を用いるので、色づきの原因となる透光性の樹脂膜の数を減らすことができる。その結果、反射表示領域R内で反射する光L0又は透過表示領域T内を透過する光L1が色づくことを防止できる。従って、本発明に係る電子機器においても、その電子機器の表示が色づくことを防止できる。
(変形例)
なお、電子機器としては、以上に説明した携帯電話機等の他にも、パーソナルコンピュータ、液晶テレビ、ビューファインダ型又はモニタ直視型のビデオテープレコーダ、カーナビゲーション装置、ページャ、電子手帳、電卓、ワードプロセッサ、ワークステーション、テレビ電話機、POS端末器等が挙げられる。
なお、電子機器としては、以上に説明した携帯電話機等の他にも、パーソナルコンピュータ、液晶テレビ、ビューファインダ型又はモニタ直視型のビデオテープレコーダ、カーナビゲーション装置、ページャ、電子手帳、電卓、ワードプロセッサ、ワークステーション、テレビ電話機、POS端末器等が挙げられる。
1,51,81.液晶表示装置(電気光学装置)、 2,52,82.液晶パネル、
3.照明装置、 6.シール材、 7.素子基板、 7a.第1透光性基板、
8.対向基板、 8a.第2透光性基板、 12.液晶層(電気光学物質層)、
13.LED(光源)、 14.導光体、 18a,18b.偏光板、
19.ソース線(導電膜)、 20.ゲート線、
21.TFT素子(スイッチング素子)、 22,72.第1着色膜(第1着色層)、
23,73,93.第2着色膜(第2着色層)、 24.光反射膜、
25.画素電極(透明導電膜)、26a,26b.配向膜、 27.コンタクトホール、
31.ゲート電極、 32.ゲート絶縁膜、 33.半導体層、
34a,34b.N+−Si膜、 35.ソース電極、 36.ドレイン電極、
37.補助容量、 41.共通電極、 42.張出し部、 60.データ線(導電膜)、
61.TFD素子(スイッチング素子)、 63a.第1TFD要素、
63b.第2TFD要素、 64.第1素子電極、 65.絶縁膜、
66a,66b.第2素子電極、 71.帯状電極、
92.黒色着色膜(第1着色層)、 93.第2着色膜、
101.液晶表示装置(電気光学装置)、 102.制御回路、 103.液晶パネル、
104.駆動回路、 110.携帯電話機(電子機器)、 111・本体部、
112.表示体部、 113.表示装置、 114.表示画面、 D.サブ画素、
G.セルギャップ、 L0,L1.光、 R.反射表示領域、 T.透過表示領域、
V.表示領域
3.照明装置、 6.シール材、 7.素子基板、 7a.第1透光性基板、
8.対向基板、 8a.第2透光性基板、 12.液晶層(電気光学物質層)、
13.LED(光源)、 14.導光体、 18a,18b.偏光板、
19.ソース線(導電膜)、 20.ゲート線、
21.TFT素子(スイッチング素子)、 22,72.第1着色膜(第1着色層)、
23,73,93.第2着色膜(第2着色層)、 24.光反射膜、
25.画素電極(透明導電膜)、26a,26b.配向膜、 27.コンタクトホール、
31.ゲート電極、 32.ゲート絶縁膜、 33.半導体層、
34a,34b.N+−Si膜、 35.ソース電極、 36.ドレイン電極、
37.補助容量、 41.共通電極、 42.張出し部、 60.データ線(導電膜)、
61.TFD素子(スイッチング素子)、 63a.第1TFD要素、
63b.第2TFD要素、 64.第1素子電極、 65.絶縁膜、
66a,66b.第2素子電極、 71.帯状電極、
92.黒色着色膜(第1着色層)、 93.第2着色膜、
101.液晶表示装置(電気光学装置)、 102.制御回路、 103.液晶パネル、
104.駆動回路、 110.携帯電話機(電子機器)、 111・本体部、
112.表示体部、 113.表示装置、 114.表示画面、 D.サブ画素、
G.セルギャップ、 L0,L1.光、 R.反射表示領域、 T.透過表示領域、
V.表示領域
Claims (13)
- 一対の基板に電気光学物質が挟持されてなり、透過表示領域と反射表示領域を有するサブ画素を複数備える電気光学装置であって、
一方の前記基板の前記サブ画素の前記透過表示領域及び前記反射表示領域に設けられてなる第1着色層と、
該第1着色層上の前記反射表示領域に設けられてなり、前記第1着色層の色と異なる色の第2着色層と、
該第2着色層上に設けられてなる反射層と、
を備え、
前記電気光学物質は、前記第2着色層を反映して、前記反射表示領域における厚さが前記透過表示領域における厚さよりも薄いことを特徴とする電気光学装置。 - 請求項1に記載の電気光学装置において、前記一方の基板は、前記第1着色層に覆われてなるスイッチング素子と、前記反射層上に設けられ、前記スイッチング素子と電気的に接続されてなる透明導電膜と、を備えることを特徴とする電気光学装置。
- 請求項1又は請求項2記載の電気光学装置において、前記一方の基板は、複数の色の着色層を有し、複数の前記サブ画素のうちの1つの前記サブ画素は、前記複数の色のうちの1つの色の前記着色層が前記第1着色層として設けられてなるとともに、前記1つの色の前記着色層とは異なる色であり、他のサブ画素に備えられる前記第1着色層と同じ色の前記着色層が前記第2着色層として設けられてなることを特徴とする電気光学装置。
- 請求項1から請求項3のいずれか1つに記載の電気光学装置において、前記反射表示領域内には、緑色の第1着色膜と青色の第2着色膜とが平面的に重ねられているか、又は赤色の第1着色膜と青色の第2着色膜とが平面的に重ねられているか、又は青色の第1着色膜と赤色の第2着色膜とが平面的に重ねられていることを特徴とする電気光学装置。
- 請求項1から請求項3のいずれか1つに記載の電気光学装置において、前記反射表示領域内には、緑色の第1着色膜と青色の第2着色膜と赤色の第2着色膜とが平面的に重ねられているか、又は青色の第1着色膜と緑色の第2着色膜と赤色の第2着色膜とが平面的に重ねられているか、又は赤色の第1着色膜と青色の第2着色膜と緑色の第2着色膜とが平面的に重ねられていることを特徴とする電気光学装置。
- 一対の基板に電気光学物質が挟持されてなり、透過表示領域と反射表示領域を有するサブ画素を複数備える電気光学装置であって、
一方の前記基板の前記サブ画素の前記反射表示領域に設けられてなる第1着色層と、
該第1着色層上に設けられてなる反射層と、
前記一方の基板の前記サブ画素の前記透過表示領域及び前記反射層上に設けられてなり、前記第1着色層の色と異なる色の第2着色層と、
を備え、
前記電気光学物質は、前記第1着色層を反映して、前記反射表示領域における厚さが前記透過表示領域における厚さよりも薄いことを特徴とする電気光学装置。 - 請求項6に記載の電気光学装置において、前記一方の基板は、前記第1着色層に覆われてなるスイッチング素子と、前記第2着色層上に設けられ、前記スイッチング素子と電気的に接続されてなる透明導電膜と、を備えることを特徴とする電気光学装置。
- 請求項6又は請求項7記載の電気光学装置において、前記一方の基板は、複数の色の着色層を有し、複数の前記サブ画素のうちの1つの前記サブ画素は、前記複数の色のうちの1つの色の前記着色層が前記第1着色層として設けられてなるとともに、前記1つの色の前記着色層とは異なる色であり、他のサブ画素に備えられる前記第1着色層と同じ色の前記着色層が前記第2着色層として設けられてなることを特徴とする電気光学装置。
- 請求項6から請求項8のいずれか1つに記載の電気光学装置において、前記反射表示領域内には、緑色の第2着色膜と青色の第1着色膜とが平面的に重ねられているか、又は赤色の第2着色膜と青色の第1着色膜とが平面的に重ねられているか、又は青色の第2着色膜と赤色の第1着色膜とが平面的に重ねられていることを特徴とする電気光学装置。
- 請求項6から請求項8のいずれか1つに記載の電気光学装置において、前記反射表示領域内には、緑色の第2着色膜と青色の第1着色膜と赤色の第1着色膜とが平面的に重ねられているか、又は青色の第2着色膜と緑色の第1着色膜と赤色の第1着色膜とが平面的に重ねられているか、又は赤色の第2着色膜と青色の第1着色膜と緑色の第1着色膜とが平面的に重ねられていることを特徴とする電気光学装置。
- 請求項1から請求項10のいずれか1つに記載の電気光学装置において、互いに隣接するサブ画素同士の間の画素間領域には、前記第1着色膜と前記第2着色膜とが平面的に重ねて設けられることを特徴とする電気光学装置。
- 請求項6又は7に記載の電気光学装置において、前記第1着色膜は黒色着色膜であることを特徴とする電気光学装置。
- 請求項1から請求項12のいずれか1つに記載の電気光学装置を有することを特徴とする電子機器。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006067628A JP2007248491A (ja) | 2006-03-13 | 2006-03-13 | 電気光学装置及び電子機器 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006067628A JP2007248491A (ja) | 2006-03-13 | 2006-03-13 | 電気光学装置及び電子機器 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007248491A true JP2007248491A (ja) | 2007-09-27 |
Family
ID=38592907
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006067628A Withdrawn JP2007248491A (ja) | 2006-03-13 | 2006-03-13 | 電気光学装置及び電子機器 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2007248491A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2018106161A (ja) * | 2016-12-22 | 2018-07-05 | エルジー ディスプレイ カンパニー リミテッド | 発光領域及び透過領域を含む透明ディスプレイ装置 |
-
2006
- 2006-03-13 JP JP2006067628A patent/JP2007248491A/ja not_active Withdrawn
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2018106161A (ja) * | 2016-12-22 | 2018-07-05 | エルジー ディスプレイ カンパニー リミテッド | 発光領域及び透過領域を含む透明ディスプレイ装置 |
US10209406B2 (en) | 2016-12-22 | 2019-02-19 | Lg Display Co., Ltd. | Transparent display device including an emitting area and a transmitting area |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4142058B2 (ja) | 電気光学装置および電子機器 | |
US7391484B2 (en) | Electro-optical method of manufacturing spacer light-shielding film simultaneously with switching unit element using same materials and process | |
JP2003344836A (ja) | 半透過反射型液晶装置、およびそれを用いた電子機器 | |
JP2008052161A (ja) | 液晶装置及び電子機器 | |
JP3534097B2 (ja) | 液晶装置及び該液晶装置を備えた電子機器 | |
JP2007327995A (ja) | 液晶装置及び電子機器 | |
KR100748805B1 (ko) | 액정 장치 및 전자기기 | |
JP2007310152A (ja) | 電気光学装置、電気光学装置の製造方法及び電子機器 | |
JP4238883B2 (ja) | 液晶装置及び電子機器 | |
JP5177984B2 (ja) | 液晶装置及び電子機器 | |
JP2007199341A (ja) | 電気光学装置及び電子機器 | |
JP2007086410A (ja) | 液晶表示装置及び電子機器 | |
JP2006267782A (ja) | 電気光学装置及び電子機器 | |
JP4042725B2 (ja) | 電気光学装置用基板、電気光学装置及び電子機器 | |
JP2007304351A (ja) | 液晶装置及び電子機器 | |
JP2007248491A (ja) | 電気光学装置及び電子機器 | |
JP2011237836A (ja) | 液晶装置及び電子機器 | |
JP2007114337A (ja) | 電気光学装置及び電子機器 | |
JP2007212710A (ja) | 電気光学装置及び電子機器 | |
JP4645327B2 (ja) | 液晶表示装置及び電子機器 | |
JP2007199340A (ja) | 電気光学装置及び電子機器 | |
JP2007047833A (ja) | 半透過反射型液晶装置、およびそれを用いた電子機器 | |
JP2007086411A (ja) | 液晶表示装置、液晶表示装置の製造方法、及び電子機器 | |
JP4552780B2 (ja) | 電気光学装置及び電子機器 | |
JP4742851B2 (ja) | 電気光学装置及び電子機器 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20090602 |