JP2003344836A - 半透過反射型液晶装置、およびそれを用いた電子機器 - Google Patents
半透過反射型液晶装置、およびそれを用いた電子機器Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 画素内に透過表示用カラーフィルタ、およ反
射表示用カラーフィルタを形成した場合でも、使用時に
は十分な光量で画像を表示できる半透過反射型液晶装
置、およびそれを用いた電子機器を提供すること。 【解決手段】 半透過反射型液晶装置１００の対向基板
１０では、対向電極２１の下層側のうち、透過表示領域
１００ｃには色度域の広い透過表示用カラーフィルタ２
４１を形成し、反射表示領域１００ｂには色度域の狭い
反射表示用カラーフィルタ２４２を形成する。これらの
カラーフィルタ２４１、２４２の境界部分２６について
は、反射表示領域１００ｂ内に位置させる。
射表示用カラーフィルタを形成した場合でも、使用時に
は十分な光量で画像を表示できる半透過反射型液晶装
置、およびそれを用いた電子機器を提供すること。 【解決手段】 半透過反射型液晶装置１００の対向基板
１０では、対向電極２１の下層側のうち、透過表示領域
１００ｃには色度域の広い透過表示用カラーフィルタ２
４１を形成し、反射表示領域１００ｂには色度域の狭い
反射表示用カラーフィルタ２４２を形成する。これらの
カラーフィルタ２４１、２４２の境界部分２６について
は、反射表示領域１００ｂ内に位置させる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、半透過反射型液晶
装置、およびそれを備えた電子機器に関するものであ
る。さらに詳しくは、１画素内に透過表示用カラーフィ
ルタと反射表示用カラーフィルタとが形成された画素の
構造技術に関するものである。
装置、およびそれを備えた電子機器に関するものであ
る。さらに詳しくは、１画素内に透過表示用カラーフィ
ルタと反射表示用カラーフィルタとが形成された画素の
構造技術に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】各種の液晶装置のうち、透過モードおよ
び反射モードの双方で画像を表示可能なものは半透過反
射型液晶装置と称せられ、あらゆるシーンで使用されて
いる。
び反射モードの双方で画像を表示可能なものは半透過反
射型液晶装置と称せられ、あらゆるシーンで使用されて
いる。
【０００３】この半透過反射型液晶装置では、例えば、
図１４（Ａ）に模式的に示すように、データ線６ａと走
査線３ａで区画された画素１００ａ内に、反射表示領域
１００ｂと、矩形窓状の透過表示領域１００ｃとが形成
されている。
図１４（Ａ）に模式的に示すように、データ線６ａと走
査線３ａで区画された画素１００ａ内に、反射表示領域
１００ｂと、矩形窓状の透過表示領域１００ｃとが形成
されている。
【０００４】このような半透過反射型液晶装置のうち、
画素スイッチング素子として、薄膜トランジスタ（以
下、ＴＦＴ（Ｔｈｉｎ Ｆｉｌｍ Ｔｒａｎｓｉｓｔｏ
ｒ））を用いたものは、図１４（Ｂ）に示すように、表
面に透明な画素電極９ａ（第１の透明電極）、および画
素スイッチングのＴＦＴ３０が形成されたＴＦＴアレイ
基板１０（第１の透明基板）と、対向電極２１（第２の
透明電極）、および遮光膜２３が形成された対向基板２
０（第２の透明基板）と、これらの基板１０、２０の間
に保持された液晶層５０とを有している。ＴＦＴアレイ
基板１０と対向基板２０との基板間隔は、いずれか一方
の基板表面に所定粒径のギャップ材５を散布した後、Ｔ
ＦＴアレイ基板１０と対向基板２０とをシール材（図示
せず）を介して貼り合わせることにより規定されてい
る。
画素スイッチング素子として、薄膜トランジスタ（以
下、ＴＦＴ（Ｔｈｉｎ Ｆｉｌｍ Ｔｒａｎｓｉｓｔｏ
ｒ））を用いたものは、図１４（Ｂ）に示すように、表
面に透明な画素電極９ａ（第１の透明電極）、および画
素スイッチングのＴＦＴ３０が形成されたＴＦＴアレイ
基板１０（第１の透明基板）と、対向電極２１（第２の
透明電極）、および遮光膜２３が形成された対向基板２
０（第２の透明基板）と、これらの基板１０、２０の間
に保持された液晶層５０とを有している。ＴＦＴアレイ
基板１０と対向基板２０との基板間隔は、いずれか一方
の基板表面に所定粒径のギャップ材５を散布した後、Ｔ
ＦＴアレイ基板１０と対向基板２０とをシール材（図示
せず）を介して貼り合わせることにより規定されてい
る。
【０００５】ＴＦＴアレイ基板１０には、画素電極９ａ
と対向電極２１とが対向する画素１００に反射表示領域
１００ｂを構成する光反射層８ａが形成され、この光反
射層８ａの形成されていない残りの領域（光透過窓８
ｄ）によって透過表示領域１００ｃが構成されている。
と対向電極２１とが対向する画素１００に反射表示領域
１００ｂを構成する光反射層８ａが形成され、この光反
射層８ａの形成されていない残りの領域（光透過窓８
ｄ）によって透過表示領域１００ｃが構成されている。
【０００６】従って、ＴＦＴアレイ基板１０の背面側に
配置されたバックライト装置（図示せず）から出射され
た光のうち、透過表示領域１００ｃに入射した光は、矢
印ＬＢで示すように、ＴＦＴアレイ基板１０１の側から
液晶層５０に入射し、液晶層５０で光変調された後、対
向基板２０の側から透過表示光として出射されて画像を
表示する（透過モード）。
配置されたバックライト装置（図示せず）から出射され
た光のうち、透過表示領域１００ｃに入射した光は、矢
印ＬＢで示すように、ＴＦＴアレイ基板１０１の側から
液晶層５０に入射し、液晶層５０で光変調された後、対
向基板２０の側から透過表示光として出射されて画像を
表示する（透過モード）。
【０００７】これに対して、対向基板２０の側から入射
した外光のうち、反射表示領域１００ｂに入射した光
は、矢印ＬＡで示すように、液晶層５０を通って反射層
８ａに届き、この反射層８ａで反射されて再び、液晶層
５０を通って対向基板２０の側から反射表示光として出
射されて画像を表示する（反射モード）。
した外光のうち、反射表示領域１００ｂに入射した光
は、矢印ＬＡで示すように、液晶層５０を通って反射層
８ａに届き、この反射層８ａで反射されて再び、液晶層
５０を通って対向基板２０の側から反射表示光として出
射されて画像を表示する（反射モード）。
【０００８】このような半透過反射型液晶装置におい
て、対向基板２０にカラーフィルタを形成しておけば、
透過モードおよび反射モードのいずれにおいてもカラー
表示を行うことができるが、透過表示光は、カラーフィ
ルタを一度だけ通過して出射されるのに対して、反射表
示光は、カラーフィルタを２度、通過することになる。
このため、対向基板２０には、光反射膜８ａが形成され
ている反射表示領域１００ｂには、色度域の狭い反射表
示用カラーフィルタ２４２が形成されている一方、透過
窓８ｄが形成されている透過表示領域１００ｃには、色
度域の広い透過表示用カラーフィルタ２４２が形成され
ている。
て、対向基板２０にカラーフィルタを形成しておけば、
透過モードおよび反射モードのいずれにおいてもカラー
表示を行うことができるが、透過表示光は、カラーフィ
ルタを一度だけ通過して出射されるのに対して、反射表
示光は、カラーフィルタを２度、通過することになる。
このため、対向基板２０には、光反射膜８ａが形成され
ている反射表示領域１００ｂには、色度域の狭い反射表
示用カラーフィルタ２４２が形成されている一方、透過
窓８ｄが形成されている透過表示領域１００ｃには、色
度域の広い透過表示用カラーフィルタ２４２が形成され
ている。
【０００９】ここで、透過表示用カラーフィルタ２４
１、および反射表示用カラーフィルタ２４２は各々、フ
ォトリソグラフィ技術などを用いて形成され、それらの
境界部分２６に隙間があいていると、透過モードで表示
を行う際、そこから光が漏れて表示品位が低下してしま
う。そこで、従来は、透過表示用カラーフィルタ２４１
と反射表示用カラーフィルタ２４２との境界部分２６に
は遮光膜２３０が形成されている。
１、および反射表示用カラーフィルタ２４２は各々、フ
ォトリソグラフィ技術などを用いて形成され、それらの
境界部分２６に隙間があいていると、透過モードで表示
を行う際、そこから光が漏れて表示品位が低下してしま
う。そこで、従来は、透過表示用カラーフィルタ２４１
と反射表示用カラーフィルタ２４２との境界部分２６に
は遮光膜２３０が形成されている。
【００１０】従来例としては、特開平１１−０４４８１
４号公報に記載された方法がある。
４号公報に記載された方法がある。
【００１１】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、液晶装
置において、表示に寄与する光量は、画素１００ａ内に
おいて表示光が出射可能な領域の面積によって規定され
るので、従来のように、透過表示用カラーフィルタ２４
１と反射表示用カラーフィルタ２４２との境界部分２６
を覆うように遮光膜２３０を形成すると、その分、表示
光量が低下し、明るい表示を行えなくなるという問題点
がある。
置において、表示に寄与する光量は、画素１００ａ内に
おいて表示光が出射可能な領域の面積によって規定され
るので、従来のように、透過表示用カラーフィルタ２４
１と反射表示用カラーフィルタ２４２との境界部分２６
を覆うように遮光膜２３０を形成すると、その分、表示
光量が低下し、明るい表示を行えなくなるという問題点
がある。
【００１２】しかも、図１４（Ａ）に示すように、透過
表示領域１００ｃが反射表示領域１００ｂで囲まれたレ
イアウトになっていると、透過表示用カラーフィルタ２
４１と反射表示用カラーフィルタ２４２との境界部分２
６の全長が長いため、遮光膜２３０の形成領域が長くな
って、表示光量の低下が著しい。
表示領域１００ｃが反射表示領域１００ｂで囲まれたレ
イアウトになっていると、透過表示用カラーフィルタ２
４１と反射表示用カラーフィルタ２４２との境界部分２
６の全長が長いため、遮光膜２３０の形成領域が長くな
って、表示光量の低下が著しい。
【００１３】また、半透過反射型液晶装置において、透
過表示光は、液晶層５０を一度だけ通過して出射される
のに対して、反射表示光は、液晶層５０を２度、通過す
ることになるため、透過表示光および反射表示光の双方
において、リターデーションΔｎ・ｄを最適化すること
は困難である。従って、反射モードでの表示が視認性の
よいものとなるように液晶層５０の層厚ｄを設定する
と、透過モードでの表示が犠牲となる一方、透過モード
での表示が視認性のよいものとなるように液晶層５０の
層厚ｄを設定すると、反射モードでの表示が犠牲となる
という問題点がある。
過表示光は、液晶層５０を一度だけ通過して出射される
のに対して、反射表示光は、液晶層５０を２度、通過す
ることになるため、透過表示光および反射表示光の双方
において、リターデーションΔｎ・ｄを最適化すること
は困難である。従って、反射モードでの表示が視認性の
よいものとなるように液晶層５０の層厚ｄを設定する
と、透過モードでの表示が犠牲となる一方、透過モード
での表示が視認性のよいものとなるように液晶層５０の
層厚ｄを設定すると、反射モードでの表示が犠牲となる
という問題点がある。
【００１４】以上の問題点に鑑みて、本発明の課題は、
まず、画素内に透過表示用カラーフィルタ、およ反射表
示用カラーフィルタを形成した場合でも、使用時には十
分な光量で画像を表示できる半透過反射型液晶装置、お
よびそれを用いた電子機器を提供することにある。
まず、画素内に透過表示用カラーフィルタ、およ反射表
示用カラーフィルタを形成した場合でも、使用時には十
分な光量で画像を表示できる半透過反射型液晶装置、お
よびそれを用いた電子機器を提供することにある。
【００１５】また、本発明の課題は、透過表示領域、お
よび反射表示領域の双方において液晶層のリターデーシ
ョンを最適化することのできる半透過反射型液晶装置、
およびそれを用いた電子機器を提供することにある。
よび反射表示領域の双方において液晶層のリターデーシ
ョンを最適化することのできる半透過反射型液晶装置、
およびそれを用いた電子機器を提供することにある。
【００１６】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するた
め、本発明では、表面に第１の透明電極、および画素ス
イッチング素子がマトリクス状に形成された第１の透明
基板と、前記第１の透明電極と対向して画素を構成する
第２の透明電極が表面に形成された第２の透明基板と、
前記第１の透明基板と前記第２の透明基板との間に保持
された液晶層とを有し、前記第１の透明基板の側には、
画素内の一部の領域を反射表示領域とし、残りの領域を
透過表示領域とする光反射層が形成された半透過反射型
液晶装置において、前記第２基板では、前記透過表示領
域に透過表示用カラーフィルタが形成されているととも
に、前記反射表示領域には前記透過表示用カラーフィル
タよりも色度域の狭い反射表示用カラーフィルタが形成
され、かつ、前記透過表示用カラーフィルタと前記反射
表示用カラーフィルタとの境界部分が前記反射表示領域
側に位置することを特徴とする。
め、本発明では、表面に第１の透明電極、および画素ス
イッチング素子がマトリクス状に形成された第１の透明
基板と、前記第１の透明電極と対向して画素を構成する
第２の透明電極が表面に形成された第２の透明基板と、
前記第１の透明基板と前記第２の透明基板との間に保持
された液晶層とを有し、前記第１の透明基板の側には、
画素内の一部の領域を反射表示領域とし、残りの領域を
透過表示領域とする光反射層が形成された半透過反射型
液晶装置において、前記第２基板では、前記透過表示領
域に透過表示用カラーフィルタが形成されているととも
に、前記反射表示領域には前記透過表示用カラーフィル
タよりも色度域の狭い反射表示用カラーフィルタが形成
され、かつ、前記透過表示用カラーフィルタと前記反射
表示用カラーフィルタとの境界部分が前記反射表示領域
側に位置することを特徴とする。
【００１７】本願明細書における「色度域が広い」と
は、例えばＣＩＥ１９３１ｒｇｂ表色系色度図で表され
る色三角形の面積が大きいことを指しており、色合いが
濃いということに対応している。
は、例えばＣＩＥ１９３１ｒｇｂ表色系色度図で表され
る色三角形の面積が大きいことを指しており、色合いが
濃いということに対応している。
【００１８】半透過反射型液晶装置では、それを搭載し
た機器の待機状態では反射モードのみで表示が行われ、
使用時にはバックライトを点灯させて、反射モードに加
えて透過モードでも表示を行う。このような使用形態に
対応させて、本発明では、透過表示用カラーフィルタと
反射表示用カラーフィルタとの境界部分を反射表示領域
側に配置したため、透過表示領域には透過表示用カラー
フィルタで適正に形成されている。従って、透過表示用
カラーフィルタと反射表示用カラーフィルタとの境界部
分にカラーフィルタの重なり、あるいはカラーフィルタ
の隙間があっても、透過モードで表示を行う機器の使用
時には、表示した画像にカラーフィルタの境界部分の影
響が出ない。それ故、第２の透明基板において、透過表
示用カラーフィルタと反射表示用カラーフィルタとの境
界部分に遮光膜を形成する必要がないので、画像を十分
な光量で表示できる。
た機器の待機状態では反射モードのみで表示が行われ、
使用時にはバックライトを点灯させて、反射モードに加
えて透過モードでも表示を行う。このような使用形態に
対応させて、本発明では、透過表示用カラーフィルタと
反射表示用カラーフィルタとの境界部分を反射表示領域
側に配置したため、透過表示領域には透過表示用カラー
フィルタで適正に形成されている。従って、透過表示用
カラーフィルタと反射表示用カラーフィルタとの境界部
分にカラーフィルタの重なり、あるいはカラーフィルタ
の隙間があっても、透過モードで表示を行う機器の使用
時には、表示した画像にカラーフィルタの境界部分の影
響が出ない。それ故、第２の透明基板において、透過表
示用カラーフィルタと反射表示用カラーフィルタとの境
界部分に遮光膜を形成する必要がないので、画像を十分
な光量で表示できる。
【００１９】本発明において、前記透過表示用カラーフ
ィルタと前記反射表示用カラーフィルタとの境界部分で
は、前記透過表示用カラーフィルタと前記反射表示用カ
ラーフィルタとが重なっていてもよい。
ィルタと前記反射表示用カラーフィルタとの境界部分で
は、前記透過表示用カラーフィルタと前記反射表示用カ
ラーフィルタとが重なっていてもよい。
【００２０】また、本発明において、前記透過表示用カ
ラーフィルタと前記反射表示用カラーフィルタとの境界
部分では、前記透過表示用カラーフィルタと前記反射表
示用カラーフィルタとの間に隙間があいていてもよい。
透過表示用カラーフィルタと反射表示用カラーフィルタ
との境界部分にカラーフィルタの隙間があっても、反射
表示領域では、外光が隙間から入射して、カラーフィル
タを通らずそのまま隙間から出射されてしまう光量は極
めて少ないので、画像の品位にほとんど影響を及ぼさな
い。
ラーフィルタと前記反射表示用カラーフィルタとの境界
部分では、前記透過表示用カラーフィルタと前記反射表
示用カラーフィルタとの間に隙間があいていてもよい。
透過表示用カラーフィルタと反射表示用カラーフィルタ
との境界部分にカラーフィルタの隙間があっても、反射
表示領域では、外光が隙間から入射して、カラーフィル
タを通らずそのまま隙間から出射されてしまう光量は極
めて少ないので、画像の品位にほとんど影響を及ぼさな
い。
【００２１】本発明において、前記画素は略長方形の平
面形状を有し、前記透過表示領域と前記反射表示領域と
の境界部分は、前記画素内で直線的に延びて、前記透過
表示領域の３辺が前記画素の３辺と重なっていることが
好ましい。このように構成すると、透過表示用カラーフ
ィルタと反射表示用カラーフィルタとの境界部分を短く
できるので、境界部分の影響を抑えることができる。
面形状を有し、前記透過表示領域と前記反射表示領域と
の境界部分は、前記画素内で直線的に延びて、前記透過
表示領域の３辺が前記画素の３辺と重なっていることが
好ましい。このように構成すると、透過表示用カラーフ
ィルタと反射表示用カラーフィルタとの境界部分を短く
できるので、境界部分の影響を抑えることができる。
【００２２】本発明において、前記透過表示領域と前記
反射表示領域との境界部分は、前記画素の短辺に平行に
延びていることが好ましい。このように構成すると、透
過表示用カラーフィルタと反射表示用カラーフィルタと
の境界部分を最短にできるので、境界部分の影響を抑え
ることができる。
反射表示領域との境界部分は、前記画素の短辺に平行に
延びていることが好ましい。このように構成すると、透
過表示用カラーフィルタと反射表示用カラーフィルタと
の境界部分を最短にできるので、境界部分の影響を抑え
ることができる。
【００２３】本発明において、前記反射表示用カラーフ
ィルタは、前記透過表示用カラーフィルタよりも厚く形
成されていることにより、前記反射表示領域における前
記液晶層の層厚が前記透過表示領域における前記液晶層
の層厚よりも薄くなっていることが好ましい。このよう
に構成すると、新たな層を追加しなくても、反射表示領
域における液晶層の層厚を透過表示領域における液晶層
の層厚よりも薄くできる。このため、透過表示光は、液
晶層を一度だけ通過して出射されるのに対して、反射表
示光は、液晶層を２度、通過することになっても、透過
表示光および反射表示光の双方において、リターデーシ
ョンΔｎ・ｄを最適化することができる。
ィルタは、前記透過表示用カラーフィルタよりも厚く形
成されていることにより、前記反射表示領域における前
記液晶層の層厚が前記透過表示領域における前記液晶層
の層厚よりも薄くなっていることが好ましい。このよう
に構成すると、新たな層を追加しなくても、反射表示領
域における液晶層の層厚を透過表示領域における液晶層
の層厚よりも薄くできる。このため、透過表示光は、液
晶層を一度だけ通過して出射されるのに対して、反射表
示光は、液晶層を２度、通過することになっても、透過
表示光および反射表示光の双方において、リターデーシ
ョンΔｎ・ｄを最適化することができる。
【００２４】本発明において、前記第１の透明基板およ
び前記第２の透明基板のうちの少なくとも一方の表面側
には、前記反射表示領域における前記液晶層の層厚を前
記透過表示領域における前記液晶層の層厚よりも薄くす
る層厚調整層が形成されていることが好ましい。このよ
うに構成すると、反射表示領域における液晶層の層厚を
透過表示領域における液晶層の層厚よりも薄くできるた
め、透過表示光は、液晶層を一度だけ通過して出射され
るのに対して、反射表示光は、液晶層を２度、通過する
ことになっても、透過表示光および反射表示光の双方に
おいて、リターデーションΔｎ・ｄを最適化することが
できる。
び前記第２の透明基板のうちの少なくとも一方の表面側
には、前記反射表示領域における前記液晶層の層厚を前
記透過表示領域における前記液晶層の層厚よりも薄くす
る層厚調整層が形成されていることが好ましい。このよ
うに構成すると、反射表示領域における液晶層の層厚を
透過表示領域における液晶層の層厚よりも薄くできるた
め、透過表示光は、液晶層を一度だけ通過して出射され
るのに対して、反射表示光は、液晶層を２度、通過する
ことになっても、透過表示光および反射表示光の双方に
おいて、リターデーションΔｎ・ｄを最適化することが
できる。
【００２５】本発明において、前記層厚調整層は、前記
第２の透明基板に形成された透明層であることが好まし
い。このように構成すると、層厚調整層を設けても、第
１の透明基板に画素スイッチング素子を形成するための
フォトリソグラフィ工程において露光精度が低下しな
い。それ故、信頼性が高く、かつ、表示品位の高い半透
過反射型液晶装置を提供することができる。
第２の透明基板に形成された透明層であることが好まし
い。このように構成すると、層厚調整層を設けても、第
１の透明基板に画素スイッチング素子を形成するための
フォトリソグラフィ工程において露光精度が低下しな
い。それ故、信頼性が高く、かつ、表示品位の高い半透
過反射型液晶装置を提供することができる。
【００２６】本発明において、前記層厚調整層として
は、例えば、前記反射表示用カラーフィルタと重なる領
域に選択的に形成されている構成を採用できる。この場
合、前記層厚調整層の端部は、前記反射表示領域内に位
置していることが好ましい。このように構成すると、層
厚調整層の端部がテーパ面になっていてそこで液晶層の
層厚が適正な値がずれていても、そのようなずれは、透
過モードで表示を行う際には画像の品位に影響を及ぼさ
ない。
は、例えば、前記反射表示用カラーフィルタと重なる領
域に選択的に形成されている構成を採用できる。この場
合、前記層厚調整層の端部は、前記反射表示領域内に位
置していることが好ましい。このように構成すると、層
厚調整層の端部がテーパ面になっていてそこで液晶層の
層厚が適正な値がずれていても、そのようなずれは、透
過モードで表示を行う際には画像の品位に影響を及ぼさ
ない。
【００２７】本発明において、前記層厚調整層として
は、前記反射表示領域で厚く、前記透過表示領域では前
記反射表示領域よりも薄く形成されている構成であって
もよい。この場合、前記層厚調整層は、前記反射表示領
域で厚く形成された部分と、前記透過表示領域で薄く形
成された部分との境界部分が前記反射表示領域内に位置
していることが好ましい。このように構成すると、層厚
調整層の厚い部分と薄い部分がテーパ状の段差になって
いてそこで液晶層の層厚が適正な値がずれていても、そ
のようなずれは、透過モードで表示を行う際には画像の
品位に影響を及ぼさない。
は、前記反射表示領域で厚く、前記透過表示領域では前
記反射表示領域よりも薄く形成されている構成であって
もよい。この場合、前記層厚調整層は、前記反射表示領
域で厚く形成された部分と、前記透過表示領域で薄く形
成された部分との境界部分が前記反射表示領域内に位置
していることが好ましい。このように構成すると、層厚
調整層の厚い部分と薄い部分がテーパ状の段差になって
いてそこで液晶層の層厚が適正な値がずれていても、そ
のようなずれは、透過モードで表示を行う際には画像の
品位に影響を及ぼさない。
【００２８】本発明において、前記第１の透明基板およ
び前記第２の透明基板のうちの少なくとも一方の表面側
には、一方の基板から突出して他方の基板に当接するこ
とにより前記第１の透明基板と前記第２の透明基板との
基板間隔を規定する柱状突起が形成されていることが好
ましい。カラーフィルタの厚さバランス、あるいは層厚
調整層の形成によって、第１の透明基板側あるいは第２
の透明基板側に凹凸が形成されたとしても、第１の透明
基板側あるいは第２の透明基板側に形成した柱状突起に
よって基板間隔を制御するのであれば、ギャップ材を散
布する必要がない。このため、第１の透明基材が板と第
２の透明基板との間において、層厚調整層に起因する凹
凸のうち、凹部にギャップ材が転がり込んでしまうこと
が原因で起こる基板間隔のばらつきが発生せず、リター
デーションΔｎ・ｄを最適な状態に保持することができ
る。それ故、品位の高い表示を行うことができる。
び前記第２の透明基板のうちの少なくとも一方の表面側
には、一方の基板から突出して他方の基板に当接するこ
とにより前記第１の透明基板と前記第２の透明基板との
基板間隔を規定する柱状突起が形成されていることが好
ましい。カラーフィルタの厚さバランス、あるいは層厚
調整層の形成によって、第１の透明基板側あるいは第２
の透明基板側に凹凸が形成されたとしても、第１の透明
基板側あるいは第２の透明基板側に形成した柱状突起に
よって基板間隔を制御するのであれば、ギャップ材を散
布する必要がない。このため、第１の透明基材が板と第
２の透明基板との間において、層厚調整層に起因する凹
凸のうち、凹部にギャップ材が転がり込んでしまうこと
が原因で起こる基板間隔のばらつきが発生せず、リター
デーションΔｎ・ｄを最適な状態に保持することができ
る。それ故、品位の高い表示を行うことができる。
【００２９】本発明を適用した液晶装置は、携帯電話
機、モバイルコンピュータなどといった電子機器の表示
装置として用いることができる。
機、モバイルコンピュータなどといった電子機器の表示
装置として用いることができる。
【００３０】
【発明の実施の形態】図面を参照して、本発明の実施の
形態を説明する。なお、以下の説明に用いる各図では、
各層や各部材を図面上で認識可能な程度の大きさとする
ため、各層や各部材毎に縮尺を異ならしめてある。
形態を説明する。なお、以下の説明に用いる各図では、
各層や各部材を図面上で認識可能な程度の大きさとする
ため、各層や各部材毎に縮尺を異ならしめてある。
【００３１】［実施の形態１］
（半透過反射型液晶装置の基本的な構成）図１は、本発
明を適用した半透過反射型液晶装置を各構成要素ととも
に対向基板の側から見た平面図であり、図２は、図１の
Ｈ−Ｈ′断面図である。図３は、半透過反射型液晶装置
の画像表示領域においてマトリクス状に形成された複数
の画素における各種素子、配線等の等価回路図である。
なお、本形態の説明に用いた各図では、各層や各部材を
図面上で認識可能な程度の大きさとするため、各層や各
部材毎に縮尺を異ならしめてある。
明を適用した半透過反射型液晶装置を各構成要素ととも
に対向基板の側から見た平面図であり、図２は、図１の
Ｈ−Ｈ′断面図である。図３は、半透過反射型液晶装置
の画像表示領域においてマトリクス状に形成された複数
の画素における各種素子、配線等の等価回路図である。
なお、本形態の説明に用いた各図では、各層や各部材を
図面上で認識可能な程度の大きさとするため、各層や各
部材毎に縮尺を異ならしめてある。
【００３２】図１および図２において、本形態の半透過
反射型液晶装置１００は、シール材５２によって貼り合
わされたＴＦＴアレイ基板１０（第１の透明基板）と対
向基板２０（第２の透明基板）との間に、電気光学物質
としての液晶層５０が保持されており、シール材５２の
形成領域の内側領域には、遮光性材料からなる周辺見切
り５３が形成されている。シール材５２の外側の領域に
は、データ線駆動回路１０１、および実装端子１０２が
ＴＦＴアレイ基板１０の一辺に沿って形成されており、
この一辺に隣接する２辺に沿って走査線駆動回路１０４
が形成されている。ＴＦＴアレイ基板１０の残る一辺に
は、画像表示領域の両側に設けられた走査線駆動回路１
０４の間をつなぐための複数の配線１０５が設けられて
おり、更に、周辺見切り５３の下などを利用して、プリ
チャージ回路や検査回路が設けられることもある。ま
た、対向基板２０のコーナー部の少なくとも１箇所にお
いては、ＴＦＴアレイ基板１０と対向基板２０との間で
電気的導通をとるための上下導通材１０６が形成されて
いる。また、データ線駆動回路１０１、及び走査線駆動
回路１０４等は、シール材５２と重なってもよいし、シ
ール材５２の内側領域に形成されてもよい。
反射型液晶装置１００は、シール材５２によって貼り合
わされたＴＦＴアレイ基板１０（第１の透明基板）と対
向基板２０（第２の透明基板）との間に、電気光学物質
としての液晶層５０が保持されており、シール材５２の
形成領域の内側領域には、遮光性材料からなる周辺見切
り５３が形成されている。シール材５２の外側の領域に
は、データ線駆動回路１０１、および実装端子１０２が
ＴＦＴアレイ基板１０の一辺に沿って形成されており、
この一辺に隣接する２辺に沿って走査線駆動回路１０４
が形成されている。ＴＦＴアレイ基板１０の残る一辺に
は、画像表示領域の両側に設けられた走査線駆動回路１
０４の間をつなぐための複数の配線１０５が設けられて
おり、更に、周辺見切り５３の下などを利用して、プリ
チャージ回路や検査回路が設けられることもある。ま
た、対向基板２０のコーナー部の少なくとも１箇所にお
いては、ＴＦＴアレイ基板１０と対向基板２０との間で
電気的導通をとるための上下導通材１０６が形成されて
いる。また、データ線駆動回路１０１、及び走査線駆動
回路１０４等は、シール材５２と重なってもよいし、シ
ール材５２の内側領域に形成されてもよい。
【００３３】なお、データ線駆動回路１０１および走査
線駆動回路１０４をＴＦＴアレイ基板１０の上に形成す
る代わりに、たとえば、駆動用ＬＳＩが実装されたＴＡ
Ｂ（テープ オートメイテッド、ボンディング）基板を
ＴＦＴアレイ基板１０の周辺部に形成された端子群に対
して異方性導電膜を介して電気的および機械的に接続す
るようにしてもよい。また、半透過反射型液晶装置１０
０では、使用する液晶層５０の種類、すなわち、ＴＮ
（ツイステッドネマティック）モード、ＳＴＮ（スーパ
ーＴＮ）モード等々の動作モードや、ノーマリホワイト
モード／ノーマリブラックモードの別に応じて、偏光フ
ィルム、位相差フィルム、偏光板などが所定の向きに配
置されるが、ここでは図示を省略してある。
線駆動回路１０４をＴＦＴアレイ基板１０の上に形成す
る代わりに、たとえば、駆動用ＬＳＩが実装されたＴＡ
Ｂ（テープ オートメイテッド、ボンディング）基板を
ＴＦＴアレイ基板１０の周辺部に形成された端子群に対
して異方性導電膜を介して電気的および機械的に接続す
るようにしてもよい。また、半透過反射型液晶装置１０
０では、使用する液晶層５０の種類、すなわち、ＴＮ
（ツイステッドネマティック）モード、ＳＴＮ（スーパ
ーＴＮ）モード等々の動作モードや、ノーマリホワイト
モード／ノーマリブラックモードの別に応じて、偏光フ
ィルム、位相差フィルム、偏光板などが所定の向きに配
置されるが、ここでは図示を省略してある。
【００３４】また、本形態の半透過反射型液晶装置１０
０は、カラー表示用であるため、後述するように、対向
基板２０において、ＴＦＴアレイ基板１０の各画素電極
９ａに対向する領域にはＲ、Ｇ、Ｂの各色のカラーフィ
ルタが形成されている。
０は、カラー表示用であるため、後述するように、対向
基板２０において、ＴＦＴアレイ基板１０の各画素電極
９ａに対向する領域にはＲ、Ｇ、Ｂの各色のカラーフィ
ルタが形成されている。
【００３５】このように構成した半透過反射型液晶装置
１００の画面表示領域においては、図３に示すように、
複数の画素１００ａがマトリクス状に構成されていると
ともに、これらの画素１００ａの各々には、画素電極９
ａ、およびこの画素電極９ａを駆動するための画素スイ
ッチング用のＴＦＴ３０が形成されており、画素信号Ｓ
１、Ｓ２・・・Ｓｎを供給するデータ線６ａが当該ＴＦ
Ｔ３０のソースに電気的に接続されている。データ線６
ａに書き込む画素信号Ｓ１、Ｓ２・・・Ｓｎは、この順
に線順次に供給しても構わないし、相隣接する複数のデ
ータ線６ａ同士に対して、グループ毎に供給するように
してもよい。また、ＴＦＴ３０のゲートには走査線３ａ
が電気的に接続されており、所定のタイミングで、走査
線３ａにパルス的に走査信号Ｇ１、Ｇ２・・・Ｇｍをこ
の順に線順次で印加するように構成されている。画素電
極９ａは、ＴＦＴ３０のドレインに電気的に接続されて
おり、スイッチング素子であるＴＦＴ３０を一定期間だ
けそのオン状態とすることにより、データ線６ａから供
給される画素信号Ｓ１、Ｓ２・・・Ｓｎを各画素に所定
のタイミングで書き込む。このようにして画素電極９ａ
を介して液晶に書き込まれた所定レベルの画素信号Ｓ
１、Ｓ２、・・・Ｓｎは、図２に示す対向基板２０の対
向電極２１との間で一定期間保持される。
１００の画面表示領域においては、図３に示すように、
複数の画素１００ａがマトリクス状に構成されていると
ともに、これらの画素１００ａの各々には、画素電極９
ａ、およびこの画素電極９ａを駆動するための画素スイ
ッチング用のＴＦＴ３０が形成されており、画素信号Ｓ
１、Ｓ２・・・Ｓｎを供給するデータ線６ａが当該ＴＦ
Ｔ３０のソースに電気的に接続されている。データ線６
ａに書き込む画素信号Ｓ１、Ｓ２・・・Ｓｎは、この順
に線順次に供給しても構わないし、相隣接する複数のデ
ータ線６ａ同士に対して、グループ毎に供給するように
してもよい。また、ＴＦＴ３０のゲートには走査線３ａ
が電気的に接続されており、所定のタイミングで、走査
線３ａにパルス的に走査信号Ｇ１、Ｇ２・・・Ｇｍをこ
の順に線順次で印加するように構成されている。画素電
極９ａは、ＴＦＴ３０のドレインに電気的に接続されて
おり、スイッチング素子であるＴＦＴ３０を一定期間だ
けそのオン状態とすることにより、データ線６ａから供
給される画素信号Ｓ１、Ｓ２・・・Ｓｎを各画素に所定
のタイミングで書き込む。このようにして画素電極９ａ
を介して液晶に書き込まれた所定レベルの画素信号Ｓ
１、Ｓ２、・・・Ｓｎは、図２に示す対向基板２０の対
向電極２１との間で一定期間保持される。
【００３６】ここで、液晶層５０は、印加される電圧レ
ベルにより分子集合の配向や秩序が変化することによ
り、光を変調し、階調表示を可能にする。ノーマリーホ
ワイトモードであれば、印加された電圧に応じて入射光
がこの液晶層５０の部分を通過する光量が低下し、ノー
マリーブラックモードであれば、印加された電圧に応じ
て入射光がこの液晶層５０の部分を通過する光量が増大
していく。その結果、全体として半透過反射型液晶装置
１００からは画素信号Ｓ１、Ｓ２、・・・Ｓｎに応じた
コントラストを持つ光が出射される。
ベルにより分子集合の配向や秩序が変化することによ
り、光を変調し、階調表示を可能にする。ノーマリーホ
ワイトモードであれば、印加された電圧に応じて入射光
がこの液晶層５０の部分を通過する光量が低下し、ノー
マリーブラックモードであれば、印加された電圧に応じ
て入射光がこの液晶層５０の部分を通過する光量が増大
していく。その結果、全体として半透過反射型液晶装置
１００からは画素信号Ｓ１、Ｓ２、・・・Ｓｎに応じた
コントラストを持つ光が出射される。
【００３７】なお、保持された画素信号Ｓ１、Ｓ２、・
・・Ｓｎがリークするのを防ぐために、画素電極９ａと
対向電極との間に形成される液晶容量と並列に蓄積容量
６０を付加することがある。例えば、画素電極９ａの電
圧は、ソース電圧が印加された時間よりも３桁も長い時
間だけ蓄積容量６０により保持される。これにより、電
荷の保持特性は改善され、コントラスト比の高い半透過
反射型液晶装置１００が実現できる。なお、蓄積容量６
０を形成する方法としては、図３に例示するように、蓄
積容量６０を形成するための配線である容量線３ｂとの
間に形成する場合、あるいは前段の走査線３ａとの間に
形成する場合もいずれであってもよい。
・・Ｓｎがリークするのを防ぐために、画素電極９ａと
対向電極との間に形成される液晶容量と並列に蓄積容量
６０を付加することがある。例えば、画素電極９ａの電
圧は、ソース電圧が印加された時間よりも３桁も長い時
間だけ蓄積容量６０により保持される。これにより、電
荷の保持特性は改善され、コントラスト比の高い半透過
反射型液晶装置１００が実現できる。なお、蓄積容量６
０を形成する方法としては、図３に例示するように、蓄
積容量６０を形成するための配線である容量線３ｂとの
間に形成する場合、あるいは前段の走査線３ａとの間に
形成する場合もいずれであってもよい。
【００３８】（ＴＦＴアレイ基板の構成）図４は、本形
態の半透過反射型液晶装置に用いたＴＦＴアレイ基板の
相隣接する複数の画素群の平面図である。図５（Ａ）、
（Ｂ）は、半透過反射型液晶装置において画素に反射表
示領域と透過表示領域とが構成されている様子を模式的
に示す説明図、および画素の一部を図４のＣ−Ｃ′線に
相当する位置で切断したときの断面図である。
態の半透過反射型液晶装置に用いたＴＦＴアレイ基板の
相隣接する複数の画素群の平面図である。図５（Ａ）、
（Ｂ）は、半透過反射型液晶装置において画素に反射表
示領域と透過表示領域とが構成されている様子を模式的
に示す説明図、および画素の一部を図４のＣ−Ｃ′線に
相当する位置で切断したときの断面図である。
【００３９】図４において、ＴＦＴアレイ基板１０上に
は、複数の透明なＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ Ｔｉｎ Ｏｘ
ｉｄｅ）膜からなる画素電極９ａ（第１の透明電極）が
マトリクス状に形成されており、これら各画素電極９ａ
に対して画素スイッチング用のＴＦＴ３０がそれぞれ接
続している。また、画素電極９ａの縦横の境界に沿っ
て、データ線６ａ、走査線３ａ、および容量線３ｂが形
成され、ＴＦＴ３０は、データ線６ａおよび走査線３ａ
に対して接続している。すなわち、データ線６ａは、コ
ンタクトホールを介してＴＦＴ３０の高濃度ソース領域
１ｄに電気的に接続し、走査線３ａは、その突出部分が
ＴＦＴ３０のゲート電極を構成している。なお、蓄積容
量６０は、画素スイッチング用のＴＦＴ３０を形成する
ための半導体膜１の延設部分１ｆを導電化したものを下
電極とし、この下電極４１に容量線３ｂが上電極として
重なった構造になっている。
は、複数の透明なＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ Ｔｉｎ Ｏｘ
ｉｄｅ）膜からなる画素電極９ａ（第１の透明電極）が
マトリクス状に形成されており、これら各画素電極９ａ
に対して画素スイッチング用のＴＦＴ３０がそれぞれ接
続している。また、画素電極９ａの縦横の境界に沿っ
て、データ線６ａ、走査線３ａ、および容量線３ｂが形
成され、ＴＦＴ３０は、データ線６ａおよび走査線３ａ
に対して接続している。すなわち、データ線６ａは、コ
ンタクトホールを介してＴＦＴ３０の高濃度ソース領域
１ｄに電気的に接続し、走査線３ａは、その突出部分が
ＴＦＴ３０のゲート電極を構成している。なお、蓄積容
量６０は、画素スイッチング用のＴＦＴ３０を形成する
ための半導体膜１の延設部分１ｆを導電化したものを下
電極とし、この下電極４１に容量線３ｂが上電極として
重なった構造になっている。
【００４０】このように構成した画素１００ａのＣ−
Ｃ′線における断面は、図５（Ｂ）に示すように、ＴＦ
Ｔアレイ基板１０の基体たる透明な基板１０′の表面
に、厚さが３００ｎｍ〜５００ｎｍのシリコン酸化膜
（絶縁膜）からなる下地保護膜１１が形成され、この下
地保護膜１１の表面には、厚さが３０ｎｍ〜１００ｎｍ
の島状の半導体膜１ａが形成されている。半導体膜１ａ
の表面には、厚さが約５０〜１５０ｎｍのシリコン酸化
膜からなるゲート絶縁膜２が形成され、このゲート絶縁
膜２の表面に、厚さが３００ｎｍ〜８００ｎｍの走査線
３ａが形成されている。半導体膜１ａのうち、走査線３
ａに対してゲート絶縁膜２を介して対峙する領域がチャ
ネル領域１ａ′になっている。このチャネル領域１ａ′
に対して一方側には、低濃度ソース領域１ｂおよび高濃
度ソース領域１ｄを備えるソース領域が形成され、他方
側には低濃度ドレイン領域１ｃおよび高濃度ドレイン領
域１ｅを備えるドレイン領域が形成されている。
Ｃ′線における断面は、図５（Ｂ）に示すように、ＴＦ
Ｔアレイ基板１０の基体たる透明な基板１０′の表面
に、厚さが３００ｎｍ〜５００ｎｍのシリコン酸化膜
（絶縁膜）からなる下地保護膜１１が形成され、この下
地保護膜１１の表面には、厚さが３０ｎｍ〜１００ｎｍ
の島状の半導体膜１ａが形成されている。半導体膜１ａ
の表面には、厚さが約５０〜１５０ｎｍのシリコン酸化
膜からなるゲート絶縁膜２が形成され、このゲート絶縁
膜２の表面に、厚さが３００ｎｍ〜８００ｎｍの走査線
３ａが形成されている。半導体膜１ａのうち、走査線３
ａに対してゲート絶縁膜２を介して対峙する領域がチャ
ネル領域１ａ′になっている。このチャネル領域１ａ′
に対して一方側には、低濃度ソース領域１ｂおよび高濃
度ソース領域１ｄを備えるソース領域が形成され、他方
側には低濃度ドレイン領域１ｃおよび高濃度ドレイン領
域１ｅを備えるドレイン領域が形成されている。
【００４１】画素スイッチング用のＴＦＴ３０の表面側
には、厚さが３００ｎｍ〜８００ｎｍのシリコン酸化膜
からなる層間絶縁膜４が形成され、この層間絶縁膜４の
表面には、厚さが１００ｎｍ〜３００ｎｍのシリコン窒
化膜からなる表面保護膜（図示せず）が形成されること
がある。層間絶縁膜４の表面には、厚さが３００ｎｍ〜
８００ｎｍのデータ線６ａが形成され、このデータ線６
ａは、層間絶縁膜４に形成されたコンタクトホールを介
して高濃度ソース領域１ｄに電気的に接続している。層
間絶縁膜４の表面にはデータ線６ａと同時形成されたド
レイン電極６ｂが形成され、このドレイン電極６ｂは、
層間絶縁膜４に形成されたコンタクトホールを介して高
濃度ドレイン領域１ｅに電気的に接続している。
には、厚さが３００ｎｍ〜８００ｎｍのシリコン酸化膜
からなる層間絶縁膜４が形成され、この層間絶縁膜４の
表面には、厚さが１００ｎｍ〜３００ｎｍのシリコン窒
化膜からなる表面保護膜（図示せず）が形成されること
がある。層間絶縁膜４の表面には、厚さが３００ｎｍ〜
８００ｎｍのデータ線６ａが形成され、このデータ線６
ａは、層間絶縁膜４に形成されたコンタクトホールを介
して高濃度ソース領域１ｄに電気的に接続している。層
間絶縁膜４の表面にはデータ線６ａと同時形成されたド
レイン電極６ｂが形成され、このドレイン電極６ｂは、
層間絶縁膜４に形成されたコンタクトホールを介して高
濃度ドレイン領域１ｅに電気的に接続している。
【００４２】層間絶縁膜４の上層には、第１の感光性樹
脂からなる凹凸形成層１３ａが所定のパターンで形成さ
れ、この凹凸形成層１３ａの表面には、第２の感光性樹
脂からなる上層絶縁膜７ａが形成されている。また、上
層絶縁膜７ａの表面には、アルミニウム膜などからなる
光反射膜８ａが形成されている。従って、光反射膜８ａ
の表面には、凹凸形成層１３ａの凹凸が上層絶縁膜７ａ
を介して反映されて、凹部８ｃおよび凸部８ｂからなる
凹凸パターン８ｇが形成されている。
脂からなる凹凸形成層１３ａが所定のパターンで形成さ
れ、この凹凸形成層１３ａの表面には、第２の感光性樹
脂からなる上層絶縁膜７ａが形成されている。また、上
層絶縁膜７ａの表面には、アルミニウム膜などからなる
光反射膜８ａが形成されている。従って、光反射膜８ａ
の表面には、凹凸形成層１３ａの凹凸が上層絶縁膜７ａ
を介して反映されて、凹部８ｃおよび凸部８ｂからなる
凹凸パターン８ｇが形成されている。
【００４３】ここで、光反射層８ａは、図４および図５
（Ａ）に示すように、略長方形の画素１００ａの一対の
短辺のうち、一方の短辺側のみに形成され、他方の短辺
側は、光反射層８ａが形成されていない光透過窓８ｄに
なっている。このため、略長方形の画素１００ａは、光
反射層８ａが形成されている一方の短辺側が反射表示領
域１００ｂとなっており、光透過窓８ｄとなっている他
方の短辺側は、透過表示領域１００ｃになっている。言
い換えれば、透過表示領域１００ｃと反射表示領域１０
０ｂとの境界部分２７は、画素１００ａ内で短辺に平行
に直線的に延びて透過表示領域１００ｃの３辺は、画素
１００ａの３辺と重なっている。
（Ａ）に示すように、略長方形の画素１００ａの一対の
短辺のうち、一方の短辺側のみに形成され、他方の短辺
側は、光反射層８ａが形成されていない光透過窓８ｄに
なっている。このため、略長方形の画素１００ａは、光
反射層８ａが形成されている一方の短辺側が反射表示領
域１００ｂとなっており、光透過窓８ｄとなっている他
方の短辺側は、透過表示領域１００ｃになっている。言
い換えれば、透過表示領域１００ｃと反射表示領域１０
０ｂとの境界部分２７は、画素１００ａ内で短辺に平行
に直線的に延びて透過表示領域１００ｃの３辺は、画素
１００ａの３辺と重なっている。
【００４４】再び図５（Ｂ）において、光反射膜８ａの
上層にはＩＴＯ膜からなる画素電極９ａが形成されてい
る。画素電極９ａは、光反射膜８ａの表面に直接、積層
され、画素電極９ａと光反射膜８ａとは電気的に接続さ
れている。また、画素電極９ａは、感光性樹脂層７ａお
よび層間絶縁膜４に形成されたコンタクトホールを介し
てドレイン電極６ｂに電気的に接続している。
上層にはＩＴＯ膜からなる画素電極９ａが形成されてい
る。画素電極９ａは、光反射膜８ａの表面に直接、積層
され、画素電極９ａと光反射膜８ａとは電気的に接続さ
れている。また、画素電極９ａは、感光性樹脂層７ａお
よび層間絶縁膜４に形成されたコンタクトホールを介し
てドレイン電極６ｂに電気的に接続している。
【００４５】画素電極９ａの表面側にはポリイミド膜か
らなる配向膜１２が形成されている。この配向膜１２
は、ポリイミド膜に対してラビング処理が施された膜で
ある。
らなる配向膜１２が形成されている。この配向膜１２
は、ポリイミド膜に対してラビング処理が施された膜で
ある。
【００４６】また、高濃度ドレイン領域１ｅからの延設
部分１ｆ（下電極）に対しては、ゲート絶縁膜２と同時
形成された絶縁膜（誘電体膜）を介して容量線３ｂが上
電極として対向することにより、蓄積容量６０が構成さ
れている。
部分１ｆ（下電極）に対しては、ゲート絶縁膜２と同時
形成された絶縁膜（誘電体膜）を介して容量線３ｂが上
電極として対向することにより、蓄積容量６０が構成さ
れている。
【００４７】なお、ＴＦＴ３０は、好ましくは上述のよ
うにＬＤＤ構造をもつが、低濃度ソース領域１ｂ、およ
び低濃度ドレイン領域１ｃに相当する領域に不純物イオ
ンの打ち込みを行わないオフセット構造を有していても
よい。また、ＴＦＴ３０は、ゲート電極（走査線３ａの
一部）をマスクとして高濃度で不純物イオンを打ち込
み、自己整合的に高濃度のソースおよびドレイン領域を
形成したセルフアライン型のＴＦＴであってもよい。
うにＬＤＤ構造をもつが、低濃度ソース領域１ｂ、およ
び低濃度ドレイン領域１ｃに相当する領域に不純物イオ
ンの打ち込みを行わないオフセット構造を有していても
よい。また、ＴＦＴ３０は、ゲート電極（走査線３ａの
一部）をマスクとして高濃度で不純物イオンを打ち込
み、自己整合的に高濃度のソースおよびドレイン領域を
形成したセルフアライン型のＴＦＴであってもよい。
【００４８】また、本形態では、ＴＦＴ３０のゲート電
極（走査線３ａ）をソース−ドレイン領域の間に１個の
み配置したシングルゲート構造としたが、これらの間に
２個以上のゲート電極を配置してもよい。この際、各々
のゲート電極には同一の信号が印加されるようにする。
このようにデュアルゲート（ダブルゲート）、あるいは
トリプルゲート以上でＴＦＴ３０を構成すれば、チャネ
ルとソース−ドレイン領域の接合部でのリーク電流を防
止でき、オフ時の電流を低減することが出来る。これら
のゲート電極の少なくとも１個をＬＤＤ構造或いはオフ
セット構造にすれば、さらにオフ電流を低減でき、安定
したスイッチング素子を得ることができる。
極（走査線３ａ）をソース−ドレイン領域の間に１個の
み配置したシングルゲート構造としたが、これらの間に
２個以上のゲート電極を配置してもよい。この際、各々
のゲート電極には同一の信号が印加されるようにする。
このようにデュアルゲート（ダブルゲート）、あるいは
トリプルゲート以上でＴＦＴ３０を構成すれば、チャネ
ルとソース−ドレイン領域の接合部でのリーク電流を防
止でき、オフ時の電流を低減することが出来る。これら
のゲート電極の少なくとも１個をＬＤＤ構造或いはオフ
セット構造にすれば、さらにオフ電流を低減でき、安定
したスイッチング素子を得ることができる。
【００４９】なお、ＴＦＴアレイ基板１０と対向基板２
０とは、一方の基板に散布されたギャップ材５によって
基板間隔が規定されている。
０とは、一方の基板に散布されたギャップ材５によって
基板間隔が規定されている。
【００５０】（対向基板の構成）対向基板２０では、Ｔ
ＦＴアレイ基板１０に形成されている画素電極９ａの縦
横の境界部分と対向する領域にブラックマトリクス、あ
るいはブラックストライプなどと称せられる遮光膜２３
が形成され、その上層側には、ＩＴＯ膜からなる対向電
極２１（第２の電極）が形成されている。対向電極２１
の上層側には、ポリイミド膜からなる配向膜２２が形成
され、この配向膜２２は、ポリイミド膜に対してラビン
グ処理が施された膜である。
ＦＴアレイ基板１０に形成されている画素電極９ａの縦
横の境界部分と対向する領域にブラックマトリクス、あ
るいはブラックストライプなどと称せられる遮光膜２３
が形成され、その上層側には、ＩＴＯ膜からなる対向電
極２１（第２の電極）が形成されている。対向電極２１
の上層側には、ポリイミド膜からなる配向膜２２が形成
され、この配向膜２２は、ポリイミド膜に対してラビン
グ処理が施された膜である。
【００５１】対向基板２０において対向電極２１の下層
側には、画素電極９ａに対向する領域にＲ、Ｇ、Ｂのカ
ラーフィルタが１μｍ〜数μｍの厚さに形成されてい
る。但し、半透過反射型液晶装置１００では、反射モー
ドでの表示と透過モードでの表示が行われる際、透過表
示光は、矢印ＬＢで示すように、カラーフィルタを一度
だけ通過して出射されるのに対して、反射表示光は、矢
印ＬＡで示すように、カラーフィルタを２度、通過する
ことになる。このため、本形態では、対向基板２０の表
面のうち、光反射膜８ａが形成されている反射表示領域
１００ｂには、色度域の狭い反射表示用カラーフィルタ
２４２が形成されている一方、透過窓８ｄが形成されて
いる透過表示領域１００ｃには、色度域の広い透過表示
用カラーフィルタ２４２が形成されている。
側には、画素電極９ａに対向する領域にＲ、Ｇ、Ｂのカ
ラーフィルタが１μｍ〜数μｍの厚さに形成されてい
る。但し、半透過反射型液晶装置１００では、反射モー
ドでの表示と透過モードでの表示が行われる際、透過表
示光は、矢印ＬＢで示すように、カラーフィルタを一度
だけ通過して出射されるのに対して、反射表示光は、矢
印ＬＡで示すように、カラーフィルタを２度、通過する
ことになる。このため、本形態では、対向基板２０の表
面のうち、光反射膜８ａが形成されている反射表示領域
１００ｂには、色度域の狭い反射表示用カラーフィルタ
２４２が形成されている一方、透過窓８ｄが形成されて
いる透過表示領域１００ｃには、色度域の広い透過表示
用カラーフィルタ２４２が形成されている。
【００５２】ここで、画素１００ａは、光反射層８ａが
形成されている一方の短辺側が反射表示領域１００ｂと
なっており、光透過窓８ｄとなっている他方の短辺側
は、透過表示領域１００ｃになっているので、反射表示
用カラーフィルタ２４２と透過表示用カラーフィルタ２
４２との境界部分２６は、画素１００ａの短辺と平行に
延びている。
形成されている一方の短辺側が反射表示領域１００ｂと
なっており、光透過窓８ｄとなっている他方の短辺側
は、透過表示領域１００ｃになっているので、反射表示
用カラーフィルタ２４２と透過表示用カラーフィルタ２
４２との境界部分２６は、画素１００ａの短辺と平行に
延びている。
【００５３】また、反射表示用カラーフィルタ２４２と
透過表示用カラーフィルタ２４２との境界部分２６は、
反射表示領域１００ｂと透過表示領域１００ｃとの境界
部分２７からずれて反射表示領域１００ｂの側に配置さ
れている。ここで、反射表示用カラーフィルタ２４２と
透過表示用カラーフィルタ２４２との境界部分２６につ
いては、従来、遮光膜が形成されていたが、本形態で
は、このような遮光膜は形成されていない。
透過表示用カラーフィルタ２４２との境界部分２６は、
反射表示領域１００ｂと透過表示領域１００ｃとの境界
部分２７からずれて反射表示領域１００ｂの側に配置さ
れている。ここで、反射表示用カラーフィルタ２４２と
透過表示用カラーフィルタ２４２との境界部分２６につ
いては、従来、遮光膜が形成されていたが、本形態で
は、このような遮光膜は形成されていない。
【００５４】このような対向基板２０は、まず、フォト
リソグラフィ技術を利用して遮光膜２３を形成した後、
フォトリソグラフィ技術、フレキソ印刷法、あるいはイ
ンクジェット法を利用して、反射表示用カラーフィルタ
２４２、および透過表示用カラーフィルタ２４２を形成
し、しかる後に、対向電極２１および配向膜２２を形成
することによって製造できる。
リソグラフィ技術を利用して遮光膜２３を形成した後、
フォトリソグラフィ技術、フレキソ印刷法、あるいはイ
ンクジェット法を利用して、反射表示用カラーフィルタ
２４２、および透過表示用カラーフィルタ２４２を形成
し、しかる後に、対向電極２１および配向膜２２を形成
することによって製造できる。
【００５５】（本形態の作用・効果）このような構成の
半透過反射型液晶装置１００を搭載した電子機器では、
待機時には、矢印ＬＡで示す反射表示光を利用した反射
モードで表示が行われる一方、使用時には、バックライ
トを点灯させて、反射モードに加えて、矢印ＬＢで示す
透過表示光を利用した透過モードでの表示も行われる。
半透過反射型液晶装置１００を搭載した電子機器では、
待機時には、矢印ＬＡで示す反射表示光を利用した反射
モードで表示が行われる一方、使用時には、バックライ
トを点灯させて、反射モードに加えて、矢印ＬＢで示す
透過表示光を利用した透過モードでの表示も行われる。
【００５６】このような使用形態に対応させて、本形態
では、透過表示用カラーフィルタ２４１と反射表示用カ
ラーフィルタ２４２との境界部分２６を反射表示領域１
００ｂ側に配置してある。このめ、透過表示領域１００
ｃにはカラーフィルタの境界部分２６がかかっておら
ず、透過表示用カラーフィルタ２４１が適正に形成され
ている。従って、たとえ、透過表示用カラーフィルタ２
４１と反射表示用カラーフィルタ２４２との境界部分２
６にカラーフィルタ２４１、２４２の重なり、あるいは
カラーフィルタ２４１、２４２の隙間があっても、反射
モードに加えて透過モードでも表示を行う使用時には、
表示した画像にカラーフィルタの境界部分２６の影響が
出ない。それ故、対向基板２０において、透過表示用カ
ラーフィルタ２４１と反射表示用カラーフィルタ２４２
との境界部分２６に遮光膜を形成する必要がないので、
画像を十分な光量で表示できる。
では、透過表示用カラーフィルタ２４１と反射表示用カ
ラーフィルタ２４２との境界部分２６を反射表示領域１
００ｂ側に配置してある。このめ、透過表示領域１００
ｃにはカラーフィルタの境界部分２６がかかっておら
ず、透過表示用カラーフィルタ２４１が適正に形成され
ている。従って、たとえ、透過表示用カラーフィルタ２
４１と反射表示用カラーフィルタ２４２との境界部分２
６にカラーフィルタ２４１、２４２の重なり、あるいは
カラーフィルタ２４１、２４２の隙間があっても、反射
モードに加えて透過モードでも表示を行う使用時には、
表示した画像にカラーフィルタの境界部分２６の影響が
出ない。それ故、対向基板２０において、透過表示用カ
ラーフィルタ２４１と反射表示用カラーフィルタ２４２
との境界部分２６に遮光膜を形成する必要がないので、
画像を十分な光量で表示できる。
【００５７】また、本形態において、透過表示領域１０
０ｃと反射表示領域１００ｂとの境界部分２７は、画素
１００ａ内で短辺に平行、かつ、直線的に延びて透過表
示領域１００ｂの３辺が画素１００ａの３辺と重なって
いる。このため、透過表示用カラーフィルタ２４１と反
射表示用カラーフィルタと２４２の境界部分２６を最短
にできるので、着色が不安定な境界部分２６の影響を最
小限に抑えることができる。
０ｃと反射表示領域１００ｂとの境界部分２７は、画素
１００ａ内で短辺に平行、かつ、直線的に延びて透過表
示領域１００ｂの３辺が画素１００ａの３辺と重なって
いる。このため、透過表示用カラーフィルタ２４１と反
射表示用カラーフィルタと２４２の境界部分２６を最短
にできるので、着色が不安定な境界部分２６の影響を最
小限に抑えることができる。
【００５８】［実施の形態２］図６（Ａ）、（Ｂ）はそ
れぞれ、本発明の実施の形態２の半透過反射型液晶装置
の画素に反射表示領域と透過表示領域とが構成されてい
る様子を模式的に示す説明図、および画素の一部を図４
のＣ−Ｃ′線に相当する位置で切断したときの断面図で
ある。なお、本形態、および以下に説明するいずれの形
態においても、基本的な構成が実施の形態１と同様であ
る。従って、共通する部分には同一の符号を付してそれ
らの説明を省略し、各形態の特徴点である対向基板の構
成のみを説明する。
れぞれ、本発明の実施の形態２の半透過反射型液晶装置
の画素に反射表示領域と透過表示領域とが構成されてい
る様子を模式的に示す説明図、および画素の一部を図４
のＣ−Ｃ′線に相当する位置で切断したときの断面図で
ある。なお、本形態、および以下に説明するいずれの形
態においても、基本的な構成が実施の形態１と同様であ
る。従って、共通する部分には同一の符号を付してそれ
らの説明を省略し、各形態の特徴点である対向基板の構
成のみを説明する。
【００５９】図６（Ａ）、（Ｂ）において、本形態で
も、実施の形態１と同様に、対向基板２０の表面のう
ち、光反射膜８ａが形成されている反射表示領域１００
ｂには、色度域の狭い反射表示用カラーフィルタ２４２
が形成されている一方、透過窓８ｄが形成されている透
過表示領域１００ｃには、色度域の広い透過表示用カラ
ーフィルタ２４２が形成されている。画素１００ａは、
光反射層８ａが形成されている一方の短辺側が反射表示
領域１００ｂとなっており、光透過窓８ｄとなっている
他方の短辺側は、透過表示領域１００ｃになっているの
で、反射表示用カラーフィルタ２４２と透過表示用カラ
ーフィルタ２４２との境界部分２６は、画素１００ａの
短辺と平行に直線的に延びている。
も、実施の形態１と同様に、対向基板２０の表面のう
ち、光反射膜８ａが形成されている反射表示領域１００
ｂには、色度域の狭い反射表示用カラーフィルタ２４２
が形成されている一方、透過窓８ｄが形成されている透
過表示領域１００ｃには、色度域の広い透過表示用カラ
ーフィルタ２４２が形成されている。画素１００ａは、
光反射層８ａが形成されている一方の短辺側が反射表示
領域１００ｂとなっており、光透過窓８ｄとなっている
他方の短辺側は、透過表示領域１００ｃになっているの
で、反射表示用カラーフィルタ２４２と透過表示用カラ
ーフィルタ２４２との境界部分２６は、画素１００ａの
短辺と平行に直線的に延びている。
【００６０】また、本形態でも、反射表示用カラーフィ
ルタ２４２と透過表示用カラーフィルタ２４２との境界
部分２６については、反射表示領域１００ｂと透過表示
領域１００ｃとの境界部分２７からずれて反射表示領域
１００ｂの側に配置されている。
ルタ２４２と透過表示用カラーフィルタ２４２との境界
部分２６については、反射表示領域１００ｂと透過表示
領域１００ｃとの境界部分２７からずれて反射表示領域
１００ｂの側に配置されている。
【００６１】ここで、実施の形態１では、反射表示用カ
ラーフィルタ２４２と透過表示用カラーフィルタ２４２
とが境界部分２６で重ならないように、かつ、隙間が発
生しないように形成されていたが、本形態では、境界部
分２６では、反射表示用カラーフィルタ２４２と透過表
示用カラーフィルタ２４２とが部分的に重なっている。
ラーフィルタ２４２と透過表示用カラーフィルタ２４２
とが境界部分２６で重ならないように、かつ、隙間が発
生しないように形成されていたが、本形態では、境界部
分２６では、反射表示用カラーフィルタ２４２と透過表
示用カラーフィルタ２４２とが部分的に重なっている。
【００６２】なお、反射表示用カラーフィルタ２４２と
透過表示用カラーフィルタ２４２との境界部分２６につ
いては、従来、遮光膜が形成されていたが、本形態で
は、このような遮光膜は形成されていない。
透過表示用カラーフィルタ２４２との境界部分２６につ
いては、従来、遮光膜が形成されていたが、本形態で
は、このような遮光膜は形成されていない。
【００６３】このように構成した半透過反射型液晶装置
１００では、反射表示用カラーフィルタ２４２と透過表
示用カラーフィルタ２４２との境界部分２６について
は、反射表示領域１００ｂと透過表示領域１００ｃとの
境界部分２７からずれて反射表示領域１００ｂの側に配
置され、かつ、この境界部分２６では、反射表示用カラ
ーフィルタ２４２と透過表示用カラーフィルタ２４２と
が部分的に重なっている。このため、待機時に、矢印Ｌ
Ａで示す反射表示光を利用した反射モードで表示を行う
際、光漏れが一切、発生しない。
１００では、反射表示用カラーフィルタ２４２と透過表
示用カラーフィルタ２４２との境界部分２６について
は、反射表示領域１００ｂと透過表示領域１００ｃとの
境界部分２７からずれて反射表示領域１００ｂの側に配
置され、かつ、この境界部分２６では、反射表示用カラ
ーフィルタ２４２と透過表示用カラーフィルタ２４２と
が部分的に重なっている。このため、待機時に、矢印Ｌ
Ａで示す反射表示光を利用した反射モードで表示を行う
際、光漏れが一切、発生しない。
【００６４】また、透過表示用カラーフィルタ２４１と
反射表示用カラーフィルタ２４２との境界部分２６を反
射表示領域１００ｂ側に配置したため、透過表示領域１
００ｃにはカラーフィルタの境界部分２６がかかってお
らず、透過表示用カラーフィルタ２４１が適正に形成さ
れている。従って、たとえ、反射表示領域１００ｂにお
いて、透過表示用カラーフィルタ２４１と反射表示用カ
ラーフィルタ２４２との境界部分２６でカラーフィルタ
２４１、２４２の重なりがあっても、反射モードに加え
て透過モードでも表示を行う使用時には、表示した画像
にカラーフィルタの境界部分２６の影響が出ない。それ
故、対向基板２０において、透過表示用カラーフィルタ
２４１と反射表示用カラーフィルタ２４２との境界部分
２６に遮光膜を形成する必要がないので、画像を十分な
光量で表示できる。
反射表示用カラーフィルタ２４２との境界部分２６を反
射表示領域１００ｂ側に配置したため、透過表示領域１
００ｃにはカラーフィルタの境界部分２６がかかってお
らず、透過表示用カラーフィルタ２４１が適正に形成さ
れている。従って、たとえ、反射表示領域１００ｂにお
いて、透過表示用カラーフィルタ２４１と反射表示用カ
ラーフィルタ２４２との境界部分２６でカラーフィルタ
２４１、２４２の重なりがあっても、反射モードに加え
て透過モードでも表示を行う使用時には、表示した画像
にカラーフィルタの境界部分２６の影響が出ない。それ
故、対向基板２０において、透過表示用カラーフィルタ
２４１と反射表示用カラーフィルタ２４２との境界部分
２６に遮光膜を形成する必要がないので、画像を十分な
光量で表示できる。
【００６５】［実施の形態３］図７（Ａ）、（Ｂ）はそ
れぞれ、本発明の実施の形態３の半透過反射型液晶装置
の画素に反射表示領域と透過表示領域とが構成されてい
る様子を模式的に示す説明図、および画素の一部を図４
のＣ−Ｃ′線に相当する位置で切断したときの断面図で
ある。
れぞれ、本発明の実施の形態３の半透過反射型液晶装置
の画素に反射表示領域と透過表示領域とが構成されてい
る様子を模式的に示す説明図、および画素の一部を図４
のＣ−Ｃ′線に相当する位置で切断したときの断面図で
ある。
【００６６】図７（Ａ）、（Ｂ）において、本形態で
も、実施の形態１と同様に、対向基板２０の表面のう
ち、光反射膜８ａが形成されている反射表示領域１００
ｂには、色度域の狭い反射表示用カラーフィルタ２４２
が形成されている一方、透過窓８ｄが形成されている透
過表示領域１００ｃには、色度域の広い透過表示用カラ
ーフィルタ２４２が形成されている。画素１００ａは、
光反射層８ａが形成されている一方の短辺側が反射表示
領域１００ｂとなっており、光透過窓８ｄとなっている
他方の短辺側は、透過表示領域１００ｃになっているの
で、反射表示用カラーフィルタ２４２と透過表示用カラ
ーフィルタ２４２との境界部分２６は、画素１００ａの
短辺と平行に直線的に延びている。
も、実施の形態１と同様に、対向基板２０の表面のう
ち、光反射膜８ａが形成されている反射表示領域１００
ｂには、色度域の狭い反射表示用カラーフィルタ２４２
が形成されている一方、透過窓８ｄが形成されている透
過表示領域１００ｃには、色度域の広い透過表示用カラ
ーフィルタ２４２が形成されている。画素１００ａは、
光反射層８ａが形成されている一方の短辺側が反射表示
領域１００ｂとなっており、光透過窓８ｄとなっている
他方の短辺側は、透過表示領域１００ｃになっているの
で、反射表示用カラーフィルタ２４２と透過表示用カラ
ーフィルタ２４２との境界部分２６は、画素１００ａの
短辺と平行に直線的に延びている。
【００６７】また、本形態でも、反射表示用カラーフィ
ルタ２４２と透過表示用カラーフィルタ２４２との境界
部分２６については、反射表示領域１００ｂと透過表示
領域１００ｃとの境界部分２７からずれて反射表示領域
１００ｂの側に配置されている。
ルタ２４２と透過表示用カラーフィルタ２４２との境界
部分２６については、反射表示領域１００ｂと透過表示
領域１００ｃとの境界部分２７からずれて反射表示領域
１００ｂの側に配置されている。
【００６８】ここで、実施の形態１では、反射表示用カ
ラーフィルタ２４２と透過表示用カラーフィルタ２４２
とが境界部分２６で重ならないように、かつ、隙間が発
生しないように形成されていたが、本形態では、境界部
分２６では、反射表示用カラーフィルタ２４２と透過表
示用カラーフィルタ２４２との間に隙間２８が空いてい
る。
ラーフィルタ２４２と透過表示用カラーフィルタ２４２
とが境界部分２６で重ならないように、かつ、隙間が発
生しないように形成されていたが、本形態では、境界部
分２６では、反射表示用カラーフィルタ２４２と透過表
示用カラーフィルタ２４２との間に隙間２８が空いてい
る。
【００６９】なお、反射表示用カラーフィルタ２４２と
透過表示用カラーフィルタ２４２との境界部分２６につ
いては、従来、遮光膜が形成されていたが、本形態で
は、このような遮光膜は形成されていない。
透過表示用カラーフィルタ２４２との境界部分２６につ
いては、従来、遮光膜が形成されていたが、本形態で
は、このような遮光膜は形成されていない。
【００７０】このように構成した半透過反射型液晶装置
１００では、反射表示用カラーフィルタ２４２と透過表
示用カラーフィルタ２４２との境界部分２６について
は、反射表示領域１００ｂと透過表示領域１００ｃとの
境界部分２７からずれて反射表示領域１００ｂの側に配
置され、かつ、この境界部分２６では、反射表示用カラ
ーフィルタ２４２と透過表示用カラーフィルタ２４２と
の間に隙間２８があいている。それでも、待機時に、矢
印ＬＡで示す反射表示光を利用した反射モードで表示を
行う際、外光が隙間２８から入射して、カラーフィルタ
２４２を通らずそのまま隙間２８から出射されてしまう
光量は極めて少ないので、画像の品位にほとんど影響を
及ぼさない。
１００では、反射表示用カラーフィルタ２４２と透過表
示用カラーフィルタ２４２との境界部分２６について
は、反射表示領域１００ｂと透過表示領域１００ｃとの
境界部分２７からずれて反射表示領域１００ｂの側に配
置され、かつ、この境界部分２６では、反射表示用カラ
ーフィルタ２４２と透過表示用カラーフィルタ２４２と
の間に隙間２８があいている。それでも、待機時に、矢
印ＬＡで示す反射表示光を利用した反射モードで表示を
行う際、外光が隙間２８から入射して、カラーフィルタ
２４２を通らずそのまま隙間２８から出射されてしまう
光量は極めて少ないので、画像の品位にほとんど影響を
及ぼさない。
【００７１】また、透過表示用カラーフィルタ２４１と
反射表示用カラーフィルタ２４２との境界部分２６を反
射表示領域１００ｂ側に配置したため、透過表示領域１
００ｃにはカラーフィルタの境界部分２６がかかってお
らず、透過表示用カラーフィルタ２４１が適正に形成さ
れている。従って、たとえ、反射表示領域１００ｂにお
いて、透過表示用カラーフィルタ２４１と反射表示用カ
ラーフィルタ２４２との境界部分２６でカラーフィルタ
２４１、２４２の間に隙間２８があっても、隙間２８か
らの光漏れがほとんどないので、反射モードに加えて透
過モードでも表示を行う使用時には、表示した画像にカ
ラーフィルタの境界部分２６の影響が出ない。それ故、
対向基板２０において、透過表示用カラーフィルタ２４
１と反射表示用カラーフィルタ２４２との境界部分２６
に遮光膜を形成する必要がないので、画像を十分な光量
で表示できる。
反射表示用カラーフィルタ２４２との境界部分２６を反
射表示領域１００ｂ側に配置したため、透過表示領域１
００ｃにはカラーフィルタの境界部分２６がかかってお
らず、透過表示用カラーフィルタ２４１が適正に形成さ
れている。従って、たとえ、反射表示領域１００ｂにお
いて、透過表示用カラーフィルタ２４１と反射表示用カ
ラーフィルタ２４２との境界部分２６でカラーフィルタ
２４１、２４２の間に隙間２８があっても、隙間２８か
らの光漏れがほとんどないので、反射モードに加えて透
過モードでも表示を行う使用時には、表示した画像にカ
ラーフィルタの境界部分２６の影響が出ない。それ故、
対向基板２０において、透過表示用カラーフィルタ２４
１と反射表示用カラーフィルタ２４２との境界部分２６
に遮光膜を形成する必要がないので、画像を十分な光量
で表示できる。
【００７２】また、本形態において、透過表示領域１０
０ｃと反射表示領域１００ｂとの境界部分２７は、画素
１００ａ内で短辺に平行、かつ、直線的に延びて透過表
示領域１００ｂの３辺が画素１００ａの３辺と重なって
いる。このため、透過表示用カラーフィルタ２４１と反
射表示用カラーフィルタと２４２の境界部分２６を最短
にできるので、着色が不安定な境界部分２６の影響を最
小限に抑えることができる。
０ｃと反射表示領域１００ｂとの境界部分２７は、画素
１００ａ内で短辺に平行、かつ、直線的に延びて透過表
示領域１００ｂの３辺が画素１００ａの３辺と重なって
いる。このため、透過表示用カラーフィルタ２４１と反
射表示用カラーフィルタと２４２の境界部分２６を最短
にできるので、着色が不安定な境界部分２６の影響を最
小限に抑えることができる。
【００７３】［実施の形態４］図８（Ａ）、（Ｂ）はそ
れぞれ、本発明の実施の形態４の半透過反射型液晶装置
の画素に反射表示領域と透過表示領域とが構成されてい
る様子を模式的に示す説明図、および画素の一部を図４
のＣ−Ｃ′線に相当する位置で切断したときの断面図で
ある。
れぞれ、本発明の実施の形態４の半透過反射型液晶装置
の画素に反射表示領域と透過表示領域とが構成されてい
る様子を模式的に示す説明図、および画素の一部を図４
のＣ−Ｃ′線に相当する位置で切断したときの断面図で
ある。
【００７４】図８（Ａ）、（Ｂ）において、本形態で
も、実施の形態３と同様に、対向基板２０の表面のう
ち、光反射膜８ａが形成されている反射表示領域１００
ｂには、色度域の狭い反射表示用カラーフィルタ２４２
が形成されている一方、透過窓８ｄが形成されている透
過表示領域１００ｃには、色度域の広い透過表示用カラ
ーフィルタ２４２が形成されている。また、画素１００
ａは、光反射層８ａが形成されている一方の短辺側が反
射表示領域１００ｂとなっており、光透過窓８ｄとなっ
ている他方の短辺側は、透過表示領域１００ｃになって
いるので、反射表示用カラーフィルタ２４２と透過表示
用カラーフィルタ２４２との境界部分２６は、画素１０
０ａの短辺と平行に延びている。
も、実施の形態３と同様に、対向基板２０の表面のう
ち、光反射膜８ａが形成されている反射表示領域１００
ｂには、色度域の狭い反射表示用カラーフィルタ２４２
が形成されている一方、透過窓８ｄが形成されている透
過表示領域１００ｃには、色度域の広い透過表示用カラ
ーフィルタ２４２が形成されている。また、画素１００
ａは、光反射層８ａが形成されている一方の短辺側が反
射表示領域１００ｂとなっており、光透過窓８ｄとなっ
ている他方の短辺側は、透過表示領域１００ｃになって
いるので、反射表示用カラーフィルタ２４２と透過表示
用カラーフィルタ２４２との境界部分２６は、画素１０
０ａの短辺と平行に延びている。
【００７５】また、本形態でも、実施の形態３と同様、
反射表示用カラーフィルタ２４２と透過表示用カラーフ
ィルタ２４２との境界部分２６については、反射表示領
域１００ｂと透過表示領域１００ｃとの境界部分２７か
らずれて反射表示領域１００ｂの側に配置されている。
ここで、境界部分２６では、反射表示用カラーフィルタ
２４２と透過表示用カラーフィルタ２４２との間に隙間
２８が空いている。
反射表示用カラーフィルタ２４２と透過表示用カラーフ
ィルタ２４２との境界部分２６については、反射表示領
域１００ｂと透過表示領域１００ｃとの境界部分２７か
らずれて反射表示領域１００ｂの側に配置されている。
ここで、境界部分２６では、反射表示用カラーフィルタ
２４２と透過表示用カラーフィルタ２４２との間に隙間
２８が空いている。
【００７６】なお、反射表示用カラーフィルタ２４２と
透過表示用カラーフィルタ２４２との境界部分２６につ
いては、従来、遮光膜が形成されていたが、本形態で
は、このような遮光膜は形成されていない。
透過表示用カラーフィルタ２４２との境界部分２６につ
いては、従来、遮光膜が形成されていたが、本形態で
は、このような遮光膜は形成されていない。
【００７７】また、本形態では、透過表示用カラーフィ
ルタ２４１には、色度域は広いが薄い色材が用いられ、
反射表示用カラーフィルタ２４２には、色度域は狭いが
分厚い色材が用いられている。このため、反射表示領域
１００ｂにおける液晶層５０の層厚ｄは、透過表示領域
１００ｃにおける液晶層５０の層厚ｄよりもかなり薄
い。
ルタ２４１には、色度域は広いが薄い色材が用いられ、
反射表示用カラーフィルタ２４２には、色度域は狭いが
分厚い色材が用いられている。このため、反射表示領域
１００ｂにおける液晶層５０の層厚ｄは、透過表示領域
１００ｃにおける液晶層５０の層厚ｄよりもかなり薄
い。
【００７８】さらに、本形態では、ＴＦＴアレイ基板１
０に形成された柱状突起４０によって、ＴＦＴアレイ基
板１０と対向基板２０との間隔が規定され、ＴＦＴアレ
イ基板１０と対向基板２０との間にギャップ材が散布さ
れていない。
０に形成された柱状突起４０によって、ＴＦＴアレイ基
板１０と対向基板２０との間隔が規定され、ＴＦＴアレ
イ基板１０と対向基板２０との間にギャップ材が散布さ
れていない。
【００７９】このように構成した半透過反射型液晶装置
１００では、待機時に、矢印ＬＡで示す反射表示光を利
用した反射モードで表示を行う際、外光が隙間２８から
入射してそのまま隙間２８から出射されてしまう光量は
極めて少ないので、画像の品位にほとんど影響を及ぼさ
ないなど、実施の形態３と同様な効果を奏する。
１００では、待機時に、矢印ＬＡで示す反射表示光を利
用した反射モードで表示を行う際、外光が隙間２８から
入射してそのまま隙間２８から出射されてしまう光量は
極めて少ないので、画像の品位にほとんど影響を及ぼさ
ないなど、実施の形態３と同様な効果を奏する。
【００８０】また、本形態では、透過表示用カラーフィ
ルタ２４１と反射表示用カラーフィルタ２４２との厚さ
を変えて、反射表示領域１００ｂにおける液晶層５０の
層厚ｄを透過表示領域１００ｃにおける液晶層５０の層
厚ｄよりもかなり薄くしてある。従って、透過表示光
は、液晶層５０を一度だけ通過して出射されるのに対し
て、反射表示光は、液晶層５０を２度、通過することに
なるが、本形態では、透過表示光および反射表示光の双
方において、リターデーションΔｎ・ｄを最適化するこ
とができるので、品位の高い表示を行うことができる。
ルタ２４１と反射表示用カラーフィルタ２４２との厚さ
を変えて、反射表示領域１００ｂにおける液晶層５０の
層厚ｄを透過表示領域１００ｃにおける液晶層５０の層
厚ｄよりもかなり薄くしてある。従って、透過表示光
は、液晶層５０を一度だけ通過して出射されるのに対し
て、反射表示光は、液晶層５０を２度、通過することに
なるが、本形態では、透過表示光および反射表示光の双
方において、リターデーションΔｎ・ｄを最適化するこ
とができるので、品位の高い表示を行うことができる。
【００８１】さらに、ＴＦＴアレイ基板１０に形成され
た柱状突起４０によって、ＴＦＴアレイ基板１０と対向
基板２０との間隔が規定され、ＴＦＴアレイ基板１０と
対向基板２０との間にギャップ材が散布されていないた
め、対向基板２０に層厚調整層２５に起因する凹凸があ
っても、ギャップ材がその凹部に溜まって機能しないと
いう不具合が発生しない。それ故、ＴＦＴアレイ基板１
０と対向基板２０との間隔が精度よく規定され、リター
デーションΔｎ・ｄが最適化されているので、品位の高
い表示を行うことができる。
た柱状突起４０によって、ＴＦＴアレイ基板１０と対向
基板２０との間隔が規定され、ＴＦＴアレイ基板１０と
対向基板２０との間にギャップ材が散布されていないた
め、対向基板２０に層厚調整層２５に起因する凹凸があ
っても、ギャップ材がその凹部に溜まって機能しないと
いう不具合が発生しない。それ故、ＴＦＴアレイ基板１
０と対向基板２０との間隔が精度よく規定され、リター
デーションΔｎ・ｄが最適化されているので、品位の高
い表示を行うことができる。
【００８２】［実施の形態５］図９（Ａ）、（Ｂ）はそ
れぞれ、本発明の実施の形態５の半透過反射型液晶装置
の画素に反射表示領域と透過表示領域とが構成されてい
る様子を模式的に示す説明図、および画素の一部を図４
のＣ−Ｃ′線に相当する位置で切断したときの断面図で
ある。
れぞれ、本発明の実施の形態５の半透過反射型液晶装置
の画素に反射表示領域と透過表示領域とが構成されてい
る様子を模式的に示す説明図、および画素の一部を図４
のＣ−Ｃ′線に相当する位置で切断したときの断面図で
ある。
【００８３】図９（Ａ）、（Ｂ）において、本形態で
も、実施の形態３と同様に、対向基板２０の表面のう
ち、光反射膜８ａが形成されている反射表示領域１００
ｂには、色度域の狭い反射表示用カラーフィルタ２４２
が形成されている一方、透過窓８ｄが形成されている透
過表示領域１００ｃには、色度域の広い透過表示用カラ
ーフィルタ２４２が形成されている。また、画素１００
ａは、光反射層８ａが形成されている一方の短辺側が反
射表示領域１００ｂとなっており、光透過窓８ｄとなっ
ている他方の短辺側は、透過表示領域１００ｃになって
いるので、反射表示用カラーフィルタ２４２と透過表示
用カラーフィルタ２４２との境界部分２６は、画素１０
０ａの短辺と平行に延びている。
も、実施の形態３と同様に、対向基板２０の表面のう
ち、光反射膜８ａが形成されている反射表示領域１００
ｂには、色度域の狭い反射表示用カラーフィルタ２４２
が形成されている一方、透過窓８ｄが形成されている透
過表示領域１００ｃには、色度域の広い透過表示用カラ
ーフィルタ２４２が形成されている。また、画素１００
ａは、光反射層８ａが形成されている一方の短辺側が反
射表示領域１００ｂとなっており、光透過窓８ｄとなっ
ている他方の短辺側は、透過表示領域１００ｃになって
いるので、反射表示用カラーフィルタ２４２と透過表示
用カラーフィルタ２４２との境界部分２６は、画素１０
０ａの短辺と平行に延びている。
【００８４】また、本形態でも、反射表示用カラーフィ
ルタ２４２と透過表示用カラーフィルタ２４２との境界
部分２６については、反射表示領域１００ｂと透過表示
領域１００ｃとの境界部分２７からずれて反射表示領域
１００ｂの側に配置されている。ここで、境界部分２６
では、反射表示用カラーフィルタ２４２と透過表示用カ
ラーフィルタ２４２との間に隙間２８が空いている。
ルタ２４２と透過表示用カラーフィルタ２４２との境界
部分２６については、反射表示領域１００ｂと透過表示
領域１００ｃとの境界部分２７からずれて反射表示領域
１００ｂの側に配置されている。ここで、境界部分２６
では、反射表示用カラーフィルタ２４２と透過表示用カ
ラーフィルタ２４２との間に隙間２８が空いている。
【００８５】なお、反射表示用カラーフィルタ２４２と
透過表示用カラーフィルタ２４２との境界部分２６につ
いては、従来、遮光膜が形成されていたが、本形態で
は、このような遮光膜は形成されていない。
透過表示用カラーフィルタ２４２との境界部分２６につ
いては、従来、遮光膜が形成されていたが、本形態で
は、このような遮光膜は形成されていない。
【００８６】また、本形態では、対向基板２０の表面の
うち、反射表示用カラーフィルタ２４２と対向電極２１
との層間にアクリル樹脂あるいはポリイミド樹脂などの
透明層からなる層厚調整層２５が２μｍから４μｍの厚
さで形成されている。このため、反射表示領域１００ｂ
における液晶層５０の層厚ｄは、透過表示領域１００ｃ
における液晶層５０の層厚ｄよりも薄い。ここで、層厚
調整層２５の端部２５０は、テーパ面になっているが、
このようなテーパ状の端部２５０は、反射表示領域１０
０ｂ内に位置している。
うち、反射表示用カラーフィルタ２４２と対向電極２１
との層間にアクリル樹脂あるいはポリイミド樹脂などの
透明層からなる層厚調整層２５が２μｍから４μｍの厚
さで形成されている。このため、反射表示領域１００ｂ
における液晶層５０の層厚ｄは、透過表示領域１００ｃ
における液晶層５０の層厚ｄよりも薄い。ここで、層厚
調整層２５の端部２５０は、テーパ面になっているが、
このようなテーパ状の端部２５０は、反射表示領域１０
０ｂ内に位置している。
【００８７】さらに、本形態では、ＴＦＴアレイ基板１
０に形成された、高さが２μｍ〜３μｍの柱状突起４０
によって、ＴＦＴアレイ基板１０と対向基板２０との間
隔が規定され、ＴＦＴアレイ基板１０と対向基板２０と
の間にギャップ材が散布されていない。
０に形成された、高さが２μｍ〜３μｍの柱状突起４０
によって、ＴＦＴアレイ基板１０と対向基板２０との間
隔が規定され、ＴＦＴアレイ基板１０と対向基板２０と
の間にギャップ材が散布されていない。
【００８８】このように構成した半透過反射型液晶装置
１００では、待機時に、矢印ＬＡで示す反射表示光を利
用した反射モードで表示を行う際、外光が隙間２８から
入射してそのまま隙間２８から出射されてしまう光量は
極めて少ないので、画像の品位にほとんど影響を及ぼさ
ないなど、実施の形態３と同様な効果を奏する。
１００では、待機時に、矢印ＬＡで示す反射表示光を利
用した反射モードで表示を行う際、外光が隙間２８から
入射してそのまま隙間２８から出射されてしまう光量は
極めて少ないので、画像の品位にほとんど影響を及ぼさ
ないなど、実施の形態３と同様な効果を奏する。
【００８９】また、本形態では、対向基板２０の側に層
厚調整層２５を設けて、反射表示領域１００ｂにおける
液晶層５０の層厚ｄを透過表示領域１００ｃにおける液
晶層５０の層厚ｄよりもかなり薄くしてある。従って、
透過表示光および反射表示光の双方において、リターデ
ーションΔｎ・ｄを最適化することができるので、品位
の高い表示を行うことができる。
厚調整層２５を設けて、反射表示領域１００ｂにおける
液晶層５０の層厚ｄを透過表示領域１００ｃにおける液
晶層５０の層厚ｄよりもかなり薄くしてある。従って、
透過表示光および反射表示光の双方において、リターデ
ーションΔｎ・ｄを最適化することができるので、品位
の高い表示を行うことができる。
【００９０】しかも本形態では、層厚調整層２５の端部
２５０がテーパ面になっていてそこでは液晶層５０の層
厚が適正な値がずれているが、このような端部２５０
は、反射表示領域１００ｂ内に位置しているので、その
ような層厚のずれは、透過モードで表示を行う際には画
像の品位に影響を及ぼさない。
２５０がテーパ面になっていてそこでは液晶層５０の層
厚が適正な値がずれているが、このような端部２５０
は、反射表示領域１００ｂ内に位置しているので、その
ような層厚のずれは、透過モードで表示を行う際には画
像の品位に影響を及ぼさない。
【００９１】また、対向基板２０の側、すなわち、画素
スイッチング用のＴＦＴ３０が形成されない方の基板に
対して層厚調整層２５を形成して、反射表示領域１００
ｂにおける液晶層５０の層厚ｄを透過表示領域１００ｃ
における液晶層５０の層厚ｄよりも薄くしている。この
ため、層厚調整層２５を設けても、ＴＦＴアレイ基板１
０にＴＦＴ３０を形成するためのフォトリソグラフィ工
程において露光精度が低下しない。それ故、信頼性が高
く、かつ、表示品位の高い半透過反射型液晶装置１００
を提供することができる。
スイッチング用のＴＦＴ３０が形成されない方の基板に
対して層厚調整層２５を形成して、反射表示領域１００
ｂにおける液晶層５０の層厚ｄを透過表示領域１００ｃ
における液晶層５０の層厚ｄよりも薄くしている。この
ため、層厚調整層２５を設けても、ＴＦＴアレイ基板１
０にＴＦＴ３０を形成するためのフォトリソグラフィ工
程において露光精度が低下しない。それ故、信頼性が高
く、かつ、表示品位の高い半透過反射型液晶装置１００
を提供することができる。
【００９２】さらに、ＴＦＴアレイ基板１０に形成され
た柱状突起４０によって、ＴＦＴアレイ基板１０と対向
基板２０との間隔が規定され、ＴＦＴアレイ基板１０と
対向基板２０との間にギャップ材が散布されていないた
め、対向基板２０に層厚調整層２５に起因する凹凸があ
っても、ギャップ材がその凹部に溜まって機能しないと
いう不具合が発生しない。それ故、ＴＦＴアレイ基板１
０と対向基板２０との間隔が精度よく規定され、リター
デーションΔｎ・ｄが最適化されているので、品位の高
い表示を行うことができる。
た柱状突起４０によって、ＴＦＴアレイ基板１０と対向
基板２０との間隔が規定され、ＴＦＴアレイ基板１０と
対向基板２０との間にギャップ材が散布されていないた
め、対向基板２０に層厚調整層２５に起因する凹凸があ
っても、ギャップ材がその凹部に溜まって機能しないと
いう不具合が発生しない。それ故、ＴＦＴアレイ基板１
０と対向基板２０との間隔が精度よく規定され、リター
デーションΔｎ・ｄが最適化されているので、品位の高
い表示を行うことができる。
【００９３】［実施の形態６］図１０（Ａ）、（Ｂ）は
それぞれ、本発明の実施の形態６の半透過反射型液晶装
置の画素に反射表示領域と透過表示領域とが構成されて
いる様子を模式的に示す説明図、および画素の一部を図
４のＣ−Ｃ′線に相当する位置で切断したときの断面図
である。
それぞれ、本発明の実施の形態６の半透過反射型液晶装
置の画素に反射表示領域と透過表示領域とが構成されて
いる様子を模式的に示す説明図、および画素の一部を図
４のＣ−Ｃ′線に相当する位置で切断したときの断面図
である。
【００９４】図１０（Ａ）、（Ｂ）において、本形態で
も、実施の形態３と同様に、対向基板２０の表面のう
ち、光反射膜８ａが形成されている反射表示領域１００
ｂには、色度域の狭い反射表示用カラーフィルタ２４２
が形成されている一方、透過窓８ｄが形成されている透
過表示領域１００ｃには、色度域の広い透過表示用カラ
ーフィルタ２４２が形成されている。画素１００ａは、
光反射層８ａが形成されている一方の短辺側が反射表示
領域１００ｂとなっており、光透過窓８ｄとなっている
他方の短辺側は、透過表示領域１００ｃになっているの
で、反射表示用カラーフィルタ２４２と透過表示用カラ
ーフィルタ２４２との境界部分２６は、画素１００ａの
短辺と平行に延びている。
も、実施の形態３と同様に、対向基板２０の表面のう
ち、光反射膜８ａが形成されている反射表示領域１００
ｂには、色度域の狭い反射表示用カラーフィルタ２４２
が形成されている一方、透過窓８ｄが形成されている透
過表示領域１００ｃには、色度域の広い透過表示用カラ
ーフィルタ２４２が形成されている。画素１００ａは、
光反射層８ａが形成されている一方の短辺側が反射表示
領域１００ｂとなっており、光透過窓８ｄとなっている
他方の短辺側は、透過表示領域１００ｃになっているの
で、反射表示用カラーフィルタ２４２と透過表示用カラ
ーフィルタ２４２との境界部分２６は、画素１００ａの
短辺と平行に延びている。
【００９５】また、本形態でも、反射表示用カラーフィ
ルタ２４２と透過表示用カラーフィルタ２４２との境界
部分２６については、反射表示領域１００ｂと透過表示
領域１００ｃとの境界部分２７からずれて反射表示領域
１００ｂの側に配置されている。ここで、境界部分２６
では、反射表示用カラーフィルタ２４２と透過表示用カ
ラーフィルタ２４２との間に隙間２８が空いている。
ルタ２４２と透過表示用カラーフィルタ２４２との境界
部分２６については、反射表示領域１００ｂと透過表示
領域１００ｃとの境界部分２７からずれて反射表示領域
１００ｂの側に配置されている。ここで、境界部分２６
では、反射表示用カラーフィルタ２４２と透過表示用カ
ラーフィルタ２４２との間に隙間２８が空いている。
【００９６】なお、反射表示用カラーフィルタ２４２と
透過表示用カラーフィルタ２４２との境界部分２６につ
いては、従来、遮光膜が形成されていたが、本形態で
は、このような遮光膜は形成されていない。
透過表示用カラーフィルタ２４２との境界部分２６につ
いては、従来、遮光膜が形成されていたが、本形態で
は、このような遮光膜は形成されていない。
【００９７】また、本形態では、対向基板２０において
対向電極２１との層間には、アクリル樹脂あるいはポリ
イミド樹脂などの透明層からなる層厚調整層２５が形成
され、この層厚調整層２５は、反射表示領域１００ｂで
厚く、透過表示領域１００ｃで薄い。このため、反射表
示領域１００ｂにおける液晶層５０の層厚ｄは、透過表
示領域１００ｃにおける液晶層５０の層厚ｄよりも薄
い。ここで、層厚調整層２５には、厚い部分と薄い部分
との段差２５１があるが、このような段差２５０は、反
射表示領域１００ｂ内に位置している。
対向電極２１との層間には、アクリル樹脂あるいはポリ
イミド樹脂などの透明層からなる層厚調整層２５が形成
され、この層厚調整層２５は、反射表示領域１００ｂで
厚く、透過表示領域１００ｃで薄い。このため、反射表
示領域１００ｂにおける液晶層５０の層厚ｄは、透過表
示領域１００ｃにおける液晶層５０の層厚ｄよりも薄
い。ここで、層厚調整層２５には、厚い部分と薄い部分
との段差２５１があるが、このような段差２５０は、反
射表示領域１００ｂ内に位置している。
【００９８】さらに、本形態では、ＴＦＴアレイ基板１
０に形成された柱状突起４０によって、ＴＦＴアレイ基
板１０と対向基板２０との間隔が規定され、ＴＦＴアレ
イ基板１０と対向基板２０との間にギャップ材が散布さ
れていない。
０に形成された柱状突起４０によって、ＴＦＴアレイ基
板１０と対向基板２０との間隔が規定され、ＴＦＴアレ
イ基板１０と対向基板２０との間にギャップ材が散布さ
れていない。
【００９９】このように構成した半透過反射型液晶装置
１００では、待機時に、矢印ＬＡで示す反射表示光を利
用した反射モードで表示を行う際、外光が隙間２８から
入射してそのまま隙間２８から出射されてしまう光量は
極めて少ないので、画像の品位にほとんど影響を及ぼさ
ないなど、実施の形態３と同様な効果を奏する。
１００では、待機時に、矢印ＬＡで示す反射表示光を利
用した反射モードで表示を行う際、外光が隙間２８から
入射してそのまま隙間２８から出射されてしまう光量は
極めて少ないので、画像の品位にほとんど影響を及ぼさ
ないなど、実施の形態３と同様な効果を奏する。
【０１００】また、本形態では、対向基板２０の側に層
厚調整層２５を設けて、反射表示領域１００ｂにおける
液晶層５０の層厚ｄを透過表示領域１００ｃにおける液
晶層５０の層厚ｄよりもかなり薄くしてある。従って、
透過表示光および反射表示光の双方において、リターデ
ーションΔｎ・ｄを最適化することができるので、品位
の高い表示を行うことができる。
厚調整層２５を設けて、反射表示領域１００ｂにおける
液晶層５０の層厚ｄを透過表示領域１００ｃにおける液
晶層５０の層厚ｄよりもかなり薄くしてある。従って、
透過表示光および反射表示光の双方において、リターデ
ーションΔｎ・ｄを最適化することができるので、品位
の高い表示を行うことができる。
【０１０１】しかも、層厚調整層２５では厚い部分と薄
い部分にテーパ状の段差２５１があり、そこでは液晶層
５０の層厚が適正な値がずれているが、このような段差
２５１は、反射表示領域１００ｂ内に位置しているの
で、そのような層厚のずれは、透過モードで表示を行う
際には画像の品位に影響を及ぼさない。
い部分にテーパ状の段差２５１があり、そこでは液晶層
５０の層厚が適正な値がずれているが、このような段差
２５１は、反射表示領域１００ｂ内に位置しているの
で、そのような層厚のずれは、透過モードで表示を行う
際には画像の品位に影響を及ぼさない。
【０１０２】また、対向基板２０の側、すなわち、画素
スイッチング用のＴＦＴ３０が形成されない方の基板に
対して層厚調整層２５を形成して、反射表示領域１００
ｂにおける液晶層５０の層厚ｄを透過表示領域１００ｃ
における液晶層５０の層厚ｄよりも薄くしている。この
ため、層厚調整層２５を設けても、ＴＦＴアレイ基板１
０にＴＦＴ３０を形成するためのフォトリソグラフィ工
程において露光精度が低下しない。それ故、信頼性が高
く、かつ、表示品位の高い半透過反射型液晶装置１００
を提供することができる。
スイッチング用のＴＦＴ３０が形成されない方の基板に
対して層厚調整層２５を形成して、反射表示領域１００
ｂにおける液晶層５０の層厚ｄを透過表示領域１００ｃ
における液晶層５０の層厚ｄよりも薄くしている。この
ため、層厚調整層２５を設けても、ＴＦＴアレイ基板１
０にＴＦＴ３０を形成するためのフォトリソグラフィ工
程において露光精度が低下しない。それ故、信頼性が高
く、かつ、表示品位の高い半透過反射型液晶装置１００
を提供することができる。
【０１０３】さらに、ＴＦＴアレイ基板１０に形成され
た柱状突起４０によって、ＴＦＴアレイ基板１０と対向
基板２０との間隔が規定され、ＴＦＴアレイ基板１０と
対向基板２０との間にギャップ材が散布されていないた
め、対向基板２０に層厚調整層２５に起因する凹凸があ
っても、ギャップ材がその凹部に溜まって機能しないと
いう不具合が発生しない。それ故、ＴＦＴアレイ基板１
０と対向基板２０との間隔が精度よく規定され、リター
デーションΔｎ・ｄが最適化されているので、品位の高
い表示を行うことができる。
た柱状突起４０によって、ＴＦＴアレイ基板１０と対向
基板２０との間隔が規定され、ＴＦＴアレイ基板１０と
対向基板２０との間にギャップ材が散布されていないた
め、対向基板２０に層厚調整層２５に起因する凹凸があ
っても、ギャップ材がその凹部に溜まって機能しないと
いう不具合が発生しない。それ故、ＴＦＴアレイ基板１
０と対向基板２０との間隔が精度よく規定され、リター
デーションΔｎ・ｄが最適化されているので、品位の高
い表示を行うことができる。
【０１０４】［その他の実施の形態］実施の形態４、
５、６では、実施の形態３に対して各構成を追加した形
態になっていたが、実施の形態１、２に対して、実施の
形態４、５、６で説明した構成を追加してもよい。
５、６では、実施の形態３に対して各構成を追加した形
態になっていたが、実施の形態１、２に対して、実施の
形態４、５、６で説明した構成を追加してもよい。
【０１０５】また、実施の形態４、５、６では、対向基
板２０に層厚調整層２５を形成した液晶装置に対して、
柱状突起４０による基板間隔の制御を行った例を説明し
たが、ＴＦＴアレイ板１０に層厚調整層２５を形成した
液晶装置に対して、柱状突起４０による基板間隔の制御
を行ってもよい。
板２０に層厚調整層２５を形成した液晶装置に対して、
柱状突起４０による基板間隔の制御を行った例を説明し
たが、ＴＦＴアレイ板１０に層厚調整層２５を形成した
液晶装置に対して、柱状突起４０による基板間隔の制御
を行ってもよい。
【０１０６】さらに、柱状突起４０については、対向基
板２０の側に形成してもよい。
板２０の側に形成してもよい。
【０１０７】さらにまた、上記形態では、画素スイッチ
ング用のアクティブ素子としてＴＦＴを用いた例を説明
したが、アクティブ素子としてＭＩＭ（Ｍｅｔａｌ Ｉ
ｎｓｕｌａｔｏｒ Ｍｅｔａｌ）素子などの薄膜ダイオ
ード素子（ＴＦＤ素子／Ｔｈｉｎ Ｆｉｌｍ Ｄｉｏｄ
ｅ素子）を用いた場合も同様である。
ング用のアクティブ素子としてＴＦＴを用いた例を説明
したが、アクティブ素子としてＭＩＭ（Ｍｅｔａｌ Ｉ
ｎｓｕｌａｔｏｒ Ｍｅｔａｌ）素子などの薄膜ダイオ
ード素子（ＴＦＤ素子／Ｔｈｉｎ Ｆｉｌｍ Ｄｉｏｄ
ｅ素子）を用いた場合も同様である。
【０１０８】［半透過反射型液晶装置の電子機器への適
用］このように構成した半透過反射型液晶装置１００
は、各種の電子機器の表示部として用いることができる
が、その一例を、図１１、図１２、および図１３を参照
して説明する。
用］このように構成した半透過反射型液晶装置１００
は、各種の電子機器の表示部として用いることができる
が、その一例を、図１１、図１２、および図１３を参照
して説明する。
【０１０９】図１１は、本発明に係る半透過反射型液晶
装置を表示装置として用いた電子機器の回路構成を示す
ブロック図である。
装置を表示装置として用いた電子機器の回路構成を示す
ブロック図である。
【０１１０】図１１において、電子機器は、表示情報出
力源７０、表示情報処理回路７１、電源回路７２、タイ
ミングジェネレータ７３、そして液晶装置７４を有す
る。また、液晶装置７４は、液晶表示パネル７５および
駆動回路７６を有する。液晶装置７４としては、前述し
た半透過反射型液晶装置１００を用いることができる。
力源７０、表示情報処理回路７１、電源回路７２、タイ
ミングジェネレータ７３、そして液晶装置７４を有す
る。また、液晶装置７４は、液晶表示パネル７５および
駆動回路７６を有する。液晶装置７４としては、前述し
た半透過反射型液晶装置１００を用いることができる。
【０１１１】表示情報出力源７０は、ＲＯＭ（Ｒｅａｄ
Ｏｎｌｙ Ｍｅｍｏｒｙ）、ＲＡＭ（Ｒａｎｄｏｍ
Ａｃｃｅｓｓ Ｍｅｍｏｒｙ）等といったメモリ、各種
ディスク等といったストレージユニット、デジタル画像
信号を同調出力する同調回路等を備え、タイミングジェ
ネレータ７３によって生成された各種のクロック信号に
基づいて、所定フォーマットの画像信号等といった表示
情報を表示情報処理回路７１に供給する。
Ｏｎｌｙ Ｍｅｍｏｒｙ）、ＲＡＭ（Ｒａｎｄｏｍ
Ａｃｃｅｓｓ Ｍｅｍｏｒｙ）等といったメモリ、各種
ディスク等といったストレージユニット、デジタル画像
信号を同調出力する同調回路等を備え、タイミングジェ
ネレータ７３によって生成された各種のクロック信号に
基づいて、所定フォーマットの画像信号等といった表示
情報を表示情報処理回路７１に供給する。
【０１１２】表示情報処理回路７１は、シリアル−パラ
レル変換回路や、増幅・反転回路、ローテーション回
路、ガンマ補正回路、クランプ回路等といった周知の各
種回路を備え、入力した表示情報の処理を実行して、そ
の画像信号をクロック信号ＣＬＫと共に駆動回路７６へ
供給する。電源回路７２は、各構成要素に所定の電圧を
供給する。
レル変換回路や、増幅・反転回路、ローテーション回
路、ガンマ補正回路、クランプ回路等といった周知の各
種回路を備え、入力した表示情報の処理を実行して、そ
の画像信号をクロック信号ＣＬＫと共に駆動回路７６へ
供給する。電源回路７２は、各構成要素に所定の電圧を
供給する。
【０１１３】図１２は、本発明に係る電子機器の一実施
形態であるモバイル型のパーソナルコンピュータを示し
ている。ここに示すパーソナルコンピュータ８０は、キ
ーボード８１を備えた本体部８２と、液晶表示ユニット
８３とを有する。液晶表示ユニット８３は、前述した半
透過反射型液晶装置１００を含んで構成される。
形態であるモバイル型のパーソナルコンピュータを示し
ている。ここに示すパーソナルコンピュータ８０は、キ
ーボード８１を備えた本体部８２と、液晶表示ユニット
８３とを有する。液晶表示ユニット８３は、前述した半
透過反射型液晶装置１００を含んで構成される。
【０１１４】図１３は、本発明に係る電子機器の他の実
施形態である携帯電話機を示している。ここに示す携帯
電話機９０は、複数の操作ボタン９１と、前述した半透
過反射型液晶装置１００からなる表示部とを有してい
る。
施形態である携帯電話機を示している。ここに示す携帯
電話機９０は、複数の操作ボタン９１と、前述した半透
過反射型液晶装置１００からなる表示部とを有してい
る。
【０１１５】
【発明の効果】以上説明したとおり、本発明では、半透
過反射型液晶装置の使用形態に対応させて、透過表示用
カラーフィルタと反射表示用カラーフィルタとの境界部
分を反射表示領域側に配置したため、透過表示領域には
透過表示用カラーフィルタで適正に形成されている。従
って、透過表示用カラーフィルタと反射表示用カラーフ
ィルタとの境界部分にカラーフィルタの重なり、あるい
はカラーフィルタの隙間があっても、反射モードに加え
て透過モードでも表示を行う使用時には、表示した画像
にカラーフィルタの境界部分の影響が出ない。それ故、
第２の透明基板において、透過表示用カラーフィルタと
反射表示用カラーフィルタとの境界部分に遮光膜を形成
する必要がないので、画像を十分な光量で表示できる。
過反射型液晶装置の使用形態に対応させて、透過表示用
カラーフィルタと反射表示用カラーフィルタとの境界部
分を反射表示領域側に配置したため、透過表示領域には
透過表示用カラーフィルタで適正に形成されている。従
って、透過表示用カラーフィルタと反射表示用カラーフ
ィルタとの境界部分にカラーフィルタの重なり、あるい
はカラーフィルタの隙間があっても、反射モードに加え
て透過モードでも表示を行う使用時には、表示した画像
にカラーフィルタの境界部分の影響が出ない。それ故、
第２の透明基板において、透過表示用カラーフィルタと
反射表示用カラーフィルタとの境界部分に遮光膜を形成
する必要がないので、画像を十分な光量で表示できる。
【図１】本発明が適用される半透過反射型液晶装置を対
向基板の側からみたときの平面図である。
向基板の側からみたときの平面図である。
【図２】図１のＨ−Ｈ′線における断面図である。
【図３】半透過反射型液晶装置において、マトリクス状
の複数の画素に形成された素子などの等価回路図であ
る。
の複数の画素に形成された素子などの等価回路図であ
る。
【図４】本発明に係る半透過反射型液晶装置のＴＦＴア
レイ基板の各画素の構成を示す平面図である。
レイ基板の各画素の構成を示す平面図である。
【図５】（Ａ）、（Ｂ）はそれぞれ、本発明の実施の形
態１に係る半透過反射型液晶装置において画素に反射表
示領域と透過表示領域とが構成されている様子を模式的
に示す説明図、および画素の一部を図４のＣ−Ｃ′線に
相当する位置で切断したときの断面図である。
態１に係る半透過反射型液晶装置において画素に反射表
示領域と透過表示領域とが構成されている様子を模式的
に示す説明図、および画素の一部を図４のＣ−Ｃ′線に
相当する位置で切断したときの断面図である。
【図６】（Ａ）、（Ｂ）はそれぞれ、本発明の実施の形
態２に係る半透過反射型液晶装置において画素に反射表
示領域と透過表示領域とが構成されている様子を模式的
に示す説明図、および画素の一部を図４のＣ−Ｃ′線に
相当する位置で切断したときの断面図である。
態２に係る半透過反射型液晶装置において画素に反射表
示領域と透過表示領域とが構成されている様子を模式的
に示す説明図、および画素の一部を図４のＣ−Ｃ′線に
相当する位置で切断したときの断面図である。
【図７】（Ａ）、（Ｂ）はそれぞれ、本発明の実施の形
態３に係る半透過反射型液晶装置において画素に反射表
示領域と透過表示領域とが構成されている様子を模式的
に示す説明図、および画素の一部を図４のＣ−Ｃ′線に
相当する位置で切断したときの断面図である。
態３に係る半透過反射型液晶装置において画素に反射表
示領域と透過表示領域とが構成されている様子を模式的
に示す説明図、および画素の一部を図４のＣ−Ｃ′線に
相当する位置で切断したときの断面図である。
【図８】（Ａ）、（Ｂ）はそれぞれ、本発明の実施の形
態４に係る半透過反射型液晶装置において画素に反射表
示領域と透過表示領域とが構成されている様子を模式的
に示す説明図、および画素の一部を図４のＣ−Ｃ′線に
相当する位置で切断したときの断面図である。
態４に係る半透過反射型液晶装置において画素に反射表
示領域と透過表示領域とが構成されている様子を模式的
に示す説明図、および画素の一部を図４のＣ−Ｃ′線に
相当する位置で切断したときの断面図である。
【図９】（Ａ）、（Ｂ）はそれぞれ、本発明の実施の形
態５に係る半透過反射型液晶装置において画素に反射表
示領域と透過表示領域とが構成されている様子を模式的
に示す説明図、および画素の一部を図４のＣ−Ｃ′線に
相当する位置で切断したときの断面図である。
態５に係る半透過反射型液晶装置において画素に反射表
示領域と透過表示領域とが構成されている様子を模式的
に示す説明図、および画素の一部を図４のＣ−Ｃ′線に
相当する位置で切断したときの断面図である。
【図１０】（Ａ）、（Ｂ）はそれぞれ、本発明の実施の
形態６に係る半透過反射型液晶装置において画素に反射
表示領域と透過表示領域とが構成されている様子を模式
的に示す説明図、および画素の一部を図４のＣ−Ｃ′線
に相当する位置で切断したときの断面図である。
形態６に係る半透過反射型液晶装置において画素に反射
表示領域と透過表示領域とが構成されている様子を模式
的に示す説明図、および画素の一部を図４のＣ−Ｃ′線
に相当する位置で切断したときの断面図である。
【図１１】本発明に係る半透過反射型液晶装置を表示装
置として用いた電子機器の回路構成を示すブロック図で
ある。
置として用いた電子機器の回路構成を示すブロック図で
ある。
【図１２】本発明に係る半透過反射型液晶装置を用いた
モバイル型のパーソナルコンピュータを示す説明図であ
る。
モバイル型のパーソナルコンピュータを示す説明図であ
る。
【図１３】本発明に係る半透過反射型液晶装置を用いた
携帯電話機の説明図である。
携帯電話機の説明図である。
【図１４】（Ａ）、（Ｂ）はそれぞれ、従来の半透過反
射型液晶装置において画素に反射表示領域と透過表示領
域とが構成されている様子を模式的に示す説明図、およ
び画素の断面図である。
射型液晶装置において画素に反射表示領域と透過表示領
域とが構成されている様子を模式的に示す説明図、およ
び画素の断面図である。
１ａ 半導体膜
２ ゲート絶縁膜
３ａ 走査線
３ｂ 容量線
４ 層間絶縁膜
６ａ データ線
６ｂ ドレイン電極
７ａ 上層絶縁膜
８ａ 光反射膜
８ｄ 光透過窓
８ｇ 光反射膜表面の凹凸パターン
９ａ 画素電極
１０ ＴＦＴアレイ基板
１１ 下地保護膜
１３ａ 凹凸形成層
２０ 対向基板
２１ 対向電極
２３ 遮光膜
２５ 層厚調整層
２６ カラーフィルタの境界部分
２７ 反射表示領域と透過表示領域との境界部分
２８ カラーフィルタの隙間
３０ 画素スイッチング用のＴＦＴ
４０ 柱状突起
７０ 液晶
６０ 蓄積容量
１００ 半透過反射型液晶装置
１００ａ 画素
１００ｂ 反射表示領域
１００ｃ 透過表示領域
２４１ 透過表示用カラーフィルタ
２４２ 反射表示用カラーフィルタ
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
Ｆターム(参考） 2H089 HA07 LA09 LA12 TA02 TA09
TA12 TA17
2H091 FA15Y FA34Y FD04 FD23
FD24 GA02 GA13 LA13
Claims (15)
- 【請求項１】 表面に第１の透明電極、および画素スイ
ッチング素子がマトリクス状に形成された第１の透明基
板と、前記第１の透明電極と対向して画素を構成する第
２の透明電極が表面に形成された第２の透明基板と、前
記第１の透明基板と前記第２の透明基板との間に保持さ
れた液晶層とを有し、 前記第１の透明基板の側には、画素内の一部の領域を反
射表示領域とし、残りの領域を透過表示領域とする光反
射層が形成された半透過反射型液晶装置において、 前記第２の透明基板には、前記透過表示領域に透過表示
用カラーフィルタが形成されているとともに、前記反射
表示領域に前記透過表示用カラーフィルタよりも色度域
の狭い反射表示用カラーフィルタが形成され、かつ、 前記透過表示用カラーフィルタと前記反射表示用カラー
フィルタとの境界部分が前記反射表示領域側に位置する
ことを特徴とする半透過反射型液晶装置。 - 【請求項２】 請求項１において、前記透過表示用カラ
ーフィルタと前記反射表示用カラーフィルタとの境界部
分では、前記透過表示用カラーフィルタと前記反射表示
用カラーフィルタとが重なっていることを特徴とする半
透過反射型液晶装置。 - 【請求項３】 請求項１において、前記透過表示用カラ
ーフィルタと前記反射表示用カラーフィルタとの境界部
分では、前記透過表示用カラーフィルタと前記反射表示
用カラーフィルタとの間に隙間があいていることを特徴
とする半透過反射型液晶装置。 - 【請求項４】 請求項１ないし３のいずれかにおいて、
前記画素は、略長方形の平面形状を有し、 前記透過表示領域と前記反射表示領域との境界部分は、
前記画素内で直線的に延びて前記透過表示領域の３辺が
前記画素の３辺と重なっていることを特徴とする半透過
反射型液晶装置。 - 【請求項５】 請求項４において、前記透過表示領域と
前記反射表示領域との境界部分は、前記画素の短辺に平
行に延びていることを特徴とする半透過反射型液晶装
置。 - 【請求項６】 請求項１ないし５のいずれかにおいて、
前記第２の透明基板には、遮光膜が形成され、 当該遮光膜は、前記透過表示用カラーフィルタと前記反
射表示用カラーフィルタとの境界部分には形成されてな
いことを特徴とする半透過反射型液晶装置。 - 【請求項７】 請求項１ないし６のいずれかにおいて、
前記反射表示用カラーフィルタは、前記透過表示用カラ
ーフィルタよりも厚く形成されていることにより、前記
反射表示領域における前記液晶層の層厚が前記透過表示
領域における前記液晶層の層厚よりも薄くなっているこ
とを特徴とする半透過反射型液晶装置。 - 【請求項８】 請求項１ないし６のいずれかにおいて、
前記第１の透明基板および前記第２の透明基板のうちの
少なくとも一方の表面側には、前記反射表示領域におけ
る前記液晶層の層厚を前記透過表示領域における前記液
晶層の層厚よりも薄くする層厚調整層が形成されている
ことを特徴とする半透過反射型液晶装置。 - 【請求項９】 請求項８において、前記層厚調整層は、
前記第２の透明基板に形成された透明層であることを特
徴とする半透過反射型表示装置。 - 【請求項１０】 請求項９において、前記層厚調整層
は、前記反射表示用カラーフィルタと重なる領域に選択
的に形成されていることを特徴とする半透過反射型表示
装置。 - 【請求項１１】 請求項１０において、前記層厚調整層
の端部は、前記反射表示領域内に位置していることを特
徴とする半透過反射型表示装置。 - 【請求項１２】 請求項９において、前記層厚調整層
は、前記反射表示領域で厚く、前記透過表示領域では前
記反射表示領域よりも薄く形成されていることを特徴と
する半透過反射型液晶装置。 - 【請求項１３】 請求項１２において、前記層厚調整層
は、前記反射表示領域で厚く形成された部分と、前記透
過表示領域で薄く形成された部分との境界部分が前記反
射表示領域内に位置していることを特徴とする半透過反
射型液晶装置。 - 【請求項１４】 請求項７ないし１３のいずれかにおい
て、前記第１の透明基板および前記第２の透明基板のう
ちの少なくとも一方の表面側には、一方の基板から突出
して他方の基板に当接することにより前記第１の透明基
板と前記第２の透明基板との基板間隔を規定する柱状突
起が形成されていることを特徴とする半透過反射型液晶
装置。 - 【請求項１５】 請求項１ないし１４のいずれかに規定
する半透過反射型液晶装置を表示部に備えることを特徴
とする電子機器。
Priority Applications (6)
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|---|---|---|---|
| JP2002148239A JP4029663B2 (ja) | 2002-05-22 | 2002-05-22 | 半透過反射型液晶装置、およびそれを用いた電子機器 |
| TW092110045A TWI227348B (en) | 2002-05-22 | 2003-04-29 | Transflective liquid crystal device and electronic appliance using the same |
| US10/440,084 US6862059B2 (en) | 2002-05-22 | 2003-05-19 | Transflective liquid crystal device and electronic apparatus using the same |
| CNB031367550A CN1222815C (zh) | 2002-05-22 | 2003-05-21 | 半透过反射型液晶装置和使用其的电子设备 |
| CNU032649118U CN2630888Y (zh) | 2002-05-22 | 2003-05-22 | 半透过反射型液晶装置和使用其的电子设备 |
| KR10-2003-0032505A KR100506337B1 (ko) | 2002-05-22 | 2003-05-22 | 반투과반사형 액정 장치 및 그것을 이용한 전자 기기 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2002148239A JP4029663B2 (ja) | 2002-05-22 | 2002-05-22 | 半透過反射型液晶装置、およびそれを用いた電子機器 |
Related Child Applications (4)
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| JP2006177837A Division JP4029907B2 (ja) | 2006-06-28 | 2006-06-28 | 液晶装置、およびそれを用いた電子機器 |
| JP2006304981A Division JP2007047832A (ja) | 2006-11-10 | 2006-11-10 | 半透過反射型液晶装置、およびそれを用いた電子機器 |
| JP2006304983A Division JP2007041626A (ja) | 2006-11-10 | 2006-11-10 | 半透過反射型液晶装置、およびそれを用いた電子機器 |
| JP2006304982A Division JP4079187B2 (ja) | 2006-11-10 | 2006-11-10 | 半透過反射型液晶装置、およびそれを用いた電子機器 |
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|---|---|
| JP2003344836A true JP2003344836A (ja) | 2003-12-03 |
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Family
ID=29706223
Family Applications (1)
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|---|---|---|---|
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|---|---|
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| CN (2) | CN1222815C (ja) |
| TW (1) | TWI227348B (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006293228A (ja) * | 2005-04-14 | 2006-10-26 | Dainippon Printing Co Ltd | 半透過型液晶表示装置用カラーフィルタおよびその製造方法 |
| US7298439B2 (en) | 2001-09-25 | 2007-11-20 | Seiko Epson Corporation | Transflective liquid crystal device with particular color filter thickness adjusting layer stacking and reflective and electronic apparatus using the same |
| KR100808309B1 (ko) | 2005-03-11 | 2008-02-27 | 가부시키가이샤 히타치 디스프레이즈 | 액정 표시 장치 |
| US7417698B2 (en) | 2001-09-25 | 2008-08-26 | Seiko Epson Corporation | Transflective liquid crystal device and electronic device using the same |
Families Citing this family (41)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3675420B2 (ja) * | 2002-03-26 | 2005-07-27 | セイコーエプソン株式会社 | 液晶表示装置及び電子機器 |
| JP2004061952A (ja) * | 2002-07-30 | 2004-02-26 | Hitachi Displays Ltd | 液晶表示装置 |
| JP4110885B2 (ja) * | 2002-08-27 | 2008-07-02 | セイコーエプソン株式会社 | 液晶表示装置及びその製造方法、並びに電子機器 |
| JP4214748B2 (ja) * | 2002-09-20 | 2009-01-28 | セイコーエプソン株式会社 | 液晶表示装置及び電子機器 |
| JP4167930B2 (ja) * | 2003-04-24 | 2008-10-22 | アルプス電気株式会社 | 半透過型液晶表示装置及びそれを備えた電子機器 |
| KR101041088B1 (ko) * | 2003-06-10 | 2011-06-13 | 삼성전자주식회사 | 반사-투과형 어레이 기판과, 이의 제조 방법 및 이를 갖는액정 표시 장치 |
| JP4089631B2 (ja) * | 2003-09-16 | 2008-05-28 | ソニー株式会社 | 液晶表示装置およびその製造方法 |
| JP2005140954A (ja) * | 2003-11-06 | 2005-06-02 | Alps Electric Co Ltd | 半透過反射膜および液晶表示装置 |
| JP4338511B2 (ja) * | 2003-12-24 | 2009-10-07 | シャープ株式会社 | 液晶表示装置 |
| KR100692685B1 (ko) * | 2003-12-29 | 2007-03-14 | 비오이 하이디스 테크놀로지 주식회사 | 반사투과형 액정표시장치용 어레이 기판 및 그의 제조 방법 |
| WO2006008901A1 (ja) * | 2004-06-23 | 2006-01-26 | Sharp Kabushiki Kaisha | 液晶表示装置及びその製造方法 |
| US7388635B2 (en) | 2004-11-26 | 2008-06-17 | Kyocera Corporation | Liquid crystal display device and display equipment using the same |
| US7742134B2 (en) * | 2004-12-09 | 2010-06-22 | Au Optronics Corporation | Transflective color-balanced liquid crystal display |
| JP4802560B2 (ja) * | 2005-02-28 | 2011-10-26 | ソニー株式会社 | 液晶表示装置 |
| JP4305437B2 (ja) * | 2005-05-19 | 2009-07-29 | エプソンイメージングデバイス株式会社 | 電気光学装置及び電子機器 |
| JP4926063B2 (ja) | 2005-08-03 | 2012-05-09 | シャープ株式会社 | 液晶表示装置およびそれを備えた電子機器 |
| CN100420999C (zh) * | 2005-09-13 | 2008-09-24 | 友达光电股份有限公司 | 像素单元 |
| WO2007108268A1 (ja) | 2006-03-23 | 2007-09-27 | Sharp Kabushiki Kaisha | 液晶表示装置 |
| KR101253046B1 (ko) * | 2006-06-30 | 2013-04-11 | 엘지디스플레이 주식회사 | 반투과 액정표시장치 및 그 제조방법 |
| US8111356B2 (en) | 2006-09-12 | 2012-02-07 | Sharp Kabushiki Kaisha | Liquid crystal display panel provided with microlens array, method for manufacturing the liquid crystal display panel, and liquid crystal display device |
| ATE556348T1 (de) | 2006-09-28 | 2012-05-15 | Sharp Kk | Flüssigkristallanzeigeschirm mit mikrolinsenarray,herstellungsverfahren dafür und flüssigkristallanzeigeanordnung |
| JPWO2008047517A1 (ja) | 2006-10-18 | 2010-02-18 | シャープ株式会社 | 液晶表示装置および液晶表示装置の製造方法 |
| EP2085814A4 (en) * | 2006-10-18 | 2010-05-19 | Sharp Kk | Liquid crystal display arrangement and method for producing a liquid crystal display |
| CN101558350B (zh) * | 2006-12-14 | 2011-08-03 | 夏普株式会社 | 液晶显示装置和液晶显示装置的制造方法 |
| US8068201B2 (en) | 2006-12-18 | 2011-11-29 | Sharp Kabushiki Kaisha | Liquid crystal display having particular auxiliary electrode |
| JP5258277B2 (ja) * | 2006-12-26 | 2013-08-07 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 液晶表示装置 |
| WO2008084589A1 (ja) | 2007-01-11 | 2008-07-17 | Sharp Kabushiki Kaisha | マイクロレンズアレイ付き液晶表示パネル及び液晶表示装置 |
| CN101589331B (zh) | 2007-01-24 | 2011-06-22 | 夏普株式会社 | 液晶显示装置 |
| WO2008093467A1 (ja) * | 2007-01-31 | 2008-08-07 | Sharp Kabushiki Kaisha | 液晶表示装置 |
| US8659726B2 (en) | 2007-04-13 | 2014-02-25 | Sharp Kabushiki Kaisha | Liquid crystal display and method of manufacturing liquid crystal display |
| US8228468B2 (en) * | 2007-06-14 | 2012-07-24 | Sharp Kabushiki Kaisha | Liquid crystal display panel and liquid crystal display device |
| EP2166403A4 (en) | 2007-06-26 | 2011-05-25 | Sharp Kk | Liquid crystal display arrangement and method for producing a liquid crystal display |
| WO2009113206A1 (ja) * | 2008-03-11 | 2009-09-17 | シャープ株式会社 | 液晶表示装置 |
| US8194211B2 (en) * | 2008-03-18 | 2012-06-05 | Nlt Technologies, Ltd. | Transflective liquid crystal display unit |
| CN101551543B (zh) * | 2008-04-03 | 2011-08-31 | 群康科技(深圳)有限公司 | 半透射半反射式液晶显示面板 |
| JP5481902B2 (ja) * | 2009-03-27 | 2014-04-23 | ソニー株式会社 | 表示パネルおよび表示装置 |
| KR200449441Y1 (ko) * | 2009-12-01 | 2010-07-09 | 주식회사 성도 | 루프팬 환기장치 |
| KR102471130B1 (ko) * | 2016-02-17 | 2022-11-29 | 삼성디스플레이 주식회사 | 표시 장치 및 이의 제조 방법 |
| CN109116647B (zh) * | 2018-09-17 | 2021-08-27 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种阵列基板及其制备方法、显示装置 |
| CN110176187B (zh) * | 2019-06-19 | 2020-12-29 | 上海天马微电子有限公司 | 一种固态全反射显示器及其制作方法、显示装置 |
| TWI708101B (zh) * | 2019-07-05 | 2020-10-21 | 友達光電股份有限公司 | 畫素結構及顯示裝置 |
Family Cites Families (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6124909A (en) * | 1996-12-25 | 2000-09-26 | Casio Computer Co., Ltd. | Color liquid crystal display device having a plurality of pixel areas which emit non-colored light |
| JP3849239B2 (ja) | 1997-07-25 | 2006-11-22 | セイコーエプソン株式会社 | 液晶装置及び液晶装置の製造方法 |
| US6215538B1 (en) * | 1998-01-26 | 2001-04-10 | Sharp Kabushiki Kaisha | Liquid crystal display including both color filter and non-color filter regions for increasing brightness |
| JP3768367B2 (ja) * | 1998-10-14 | 2006-04-19 | シャープ株式会社 | 液晶表示装置 |
| US6697135B1 (en) * | 1999-10-27 | 2004-02-24 | Lg. Philips Lcd Co., Ltd. | Transflective liquid crystal display device having reflective and transmissive mode parity |
| JP4196505B2 (ja) * | 1999-12-13 | 2008-12-17 | ソニー株式会社 | 表示装置及びその製造方法とカラーフィルタ |
| JP3873827B2 (ja) * | 2001-07-26 | 2007-01-31 | セイコーエプソン株式会社 | 液晶装置及び電子機器 |
-
2002
- 2002-05-22 JP JP2002148239A patent/JP4029663B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
2003
- 2003-04-29 TW TW092110045A patent/TWI227348B/zh not_active IP Right Cessation
- 2003-05-19 US US10/440,084 patent/US6862059B2/en not_active Expired - Lifetime
- 2003-05-21 CN CNB031367550A patent/CN1222815C/zh not_active Expired - Lifetime
- 2003-05-22 KR KR10-2003-0032505A patent/KR100506337B1/ko active IP Right Grant
- 2003-05-22 CN CNU032649118U patent/CN2630888Y/zh not_active Expired - Fee Related
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7298439B2 (en) | 2001-09-25 | 2007-11-20 | Seiko Epson Corporation | Transflective liquid crystal device with particular color filter thickness adjusting layer stacking and reflective and electronic apparatus using the same |
| US7417698B2 (en) | 2001-09-25 | 2008-08-26 | Seiko Epson Corporation | Transflective liquid crystal device and electronic device using the same |
| US7440054B2 (en) | 2001-09-25 | 2008-10-21 | Seiko Epson Corporation | Transflective liquid crystal device with particular reflective layer and thickness adjusting layer stacking and electronic apparatus using the same |
| US7605890B2 (en) | 2001-09-25 | 2009-10-20 | Seiko Epson Corporation | Transflective liquid crystal device and electronic apparatus using the same |
| KR100808309B1 (ko) | 2005-03-11 | 2008-02-27 | 가부시키가이샤 히타치 디스프레이즈 | 액정 표시 장치 |
| JP2006293228A (ja) * | 2005-04-14 | 2006-10-26 | Dainippon Printing Co Ltd | 半透過型液晶表示装置用カラーフィルタおよびその製造方法 |
| JP4699073B2 (ja) * | 2005-04-14 | 2011-06-08 | 大日本印刷株式会社 | 半透過型液晶表示装置用カラーフィルタおよびその製造方法 |
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