JP4305051B2 - 電気光学装置、電子機器、及び電気光学装置の製造方法 - Google Patents
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Description
本発明は、フォトリソグラフィ処理等といったパターン形成法を用いて形成される複数のスペーサを有する電気光学装置及び電子機器に関する。また、本発明は、その電気光学装置を製造するための電気光学装置の製造方法に関する。
【従来の技術】
液晶装置は、一般に、一対の基板の間に液晶層を介在させ、その液晶層内に存在する液晶分子の配向を表示の最小単位である表示ドットごとに制御し、液晶層を通過する光をその液晶分子によって表示ドットごと変調することにより、光の進行方向に沿った液晶層の下流側位置に文字、数字、図形等といった像を表示する。
この液晶装置においては、液晶層を形成するために、一対の基板間に間隙、いわゆるセルギャップを形成する必要がある。このセルギャップを形成するため、従来、一対の基板の一方に球状の部材であるスペーサを散在させた上で、一対の基板を貼り合わせる構造が知られている。
また、最近では、フォトリソグラフィ処理等を利用したパターン形成法によって一方の基板上に複数の突起状のスペーサを形成し、このスペーサを間に挟んで一対の基板を貼り合わせるという構造が提案されている。このようなスペーサは、柱状スペーサと呼ばれることもある。
このようにフォトリソグラフィ処理等によってスペーサを形成する場合、そのスペーサのまわりにおいては液晶分子の配向が乱れるので、光抜け等といった表示不良が発生し易く、従って、スペーサは非表示領域である遮光領域、いわゆるブラックマスク領域に形成されることが多い。
このようにパターニング処理によって形成されたスペーサを用いた液晶装置に関して表示品質を高く維持するため、従来から、種々の方法が提案されている。例えば、このようなスペーサが用いられる場合にはそのスペーサの近傍にラビングが不十分になる領域が発生する傾向にあるが、このようにラビングが不十分になる領域を表示に寄与しない領域であるブラックマスクに一致させて形成することにより、表示品質が低下するのを防止する技術が知られている(例えば、特許文献1参照)。
また、R,G,Bの各色着色層から成るカラーフィルタを有する液晶装置に関して、ラビング方向に見てスペーサの下流側にR色画素又はB色画素が来るようにスペーサを形成するようにした液晶装置も知られている(例えば、特許文献2参照)。
【特許文献1】
特開2001−159755号公報(第5頁、図1)
【特許文献2】
特開2002−214621号公報(第4頁、図2)
【発明が解決しようとする課題】
ところで、液晶装置は、例えば、遮光層を形成した基板とスペーサを形成した基板とを貼り合わせることによって形成される。このように一対の基板が貼り合わされたとき、スペーサは、通常、遮光層に対向する位置に配置される。液晶装置の種類によっては、遮光層が着色層よりも液晶層側へ突出する構造のものがある。この構造においては、液晶層に接する基板表面において遮光層に対応する部分とそれ以外の部分との間に段差が形成される。
このように遮光層に対応して段差構造を有する液晶装置において、一対の基板の貼り合わせが正常に行われれば問題はないが、貼り合わされた一対の基板が互いに正規位置からずれる場合には、問題が考えられる。すなわち、このような基板間の位置ズレが発生すると、平面的に見てスペーサが遮光層の外側へはみ出すことがある。この場合には、遮光層とスペーサとが平面的に重なり合う面積が変化するので、スペーサによって維持される基板間隙、いわゆるセルギャップが変動して表示が乱れるおそれがある。
本発明は、上記の問題点に鑑みて成されたものであって、フォトリソグラフィ処理等によって形成されるスペーサを有する液晶装置をはじめとする電気光学装置に関して、製造時に基板の組み合わせズレが発生する場合でも表示品質が低下するのを防止することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
(1)上記の目的を達成するため、本発明に係る第1の電気光学装置は、互いに対向する第1基板及び第2基板と、前記第1基板に設けられていて平面的に所定配列で並べられた複数のR色着色層、複数のG色着色層及び複数のB色着色層と、前記複数のR色着色層、G色着色層及びB色着色層の間に設けられていてそれらの着色層よりも前記第2基板へ向けて突出する遮光層と、前記第2基板に設けられていて前記第1基板へ向けて突出する複数のスペーサとを有し、前記G色着色層同士の間の前記遮光層に対応する前記スペーサは前記遮光層の中心線上に配置され、前記B色着色層同士の間の前記遮光層、前記R色着色層同士の間の前記遮光層、又は前記B色着色層と前記R色着色層との間の前記遮光層、のそれぞれに対応する前記スペーサはそれらの遮光層の幅方向に関して互いにずらせて配置されることを特徴とする置。
この電気光学装置によれば、複数のスペーサが予め遮光層に対して平面的に異なる位置に形成されているので、電気光学装置の製造時に基板の重ねズレが発生した場合でも、遮光層とスペーサとの平面的な重なりの面積に変動がなく、それ故、セルギャップの変動を抑えることができる。この結果、製造時に基板の位置ズレが生じても、電気光学装置の表示品質を高く維持することができる。
ところで、人間がR,G,Bの各色の光を見る場合、それらの光のエネルギー量が同じであっても、感じる明るさは波長によって異なることが知られている。具体的には、R,G,Bの各色の光のエネルギーが同じでも、それらの明るさはG>R>Bである。このことは、G色領域に何等かの変化がある場合は、R色領域やB色領域に何等かの変化がある場合に比べて、人間が感じる明るさの変化が非常に大きいということである。
以上に記載した本発明に係る電気光学装置では、互いにずらせて配置されるのはB色着色層とR色着色層との間の遮光層に対応するスペーサであって、G色着色層同士の間の遮光層に対応するスペーサはその遮光層の中心線上に配置される。従って、基板の組みズレ等に応じてスペーサの位置がずれる場合でも、スペーサは明るさの変化が大きいG色領域に入ることは無く、着色領域に入ったとしてもその着色領域はB色又はR色に限られるので、明るさが大きく変化することが無くなる。このため、コントラストの低下を抑えることができる。
(2) 次に、本発明に係る第2の電気光学装置は、互いに対向する第1基板及び第2基板と、前記第1基板に設けられていて平面的に所定配列で並べられた複数のR色着色層、複数のG色着色層及び複数のB色着色層と、前記複数のR色着色層、G色着色層及びB色着色層の間に設けられていてそれらの着色層よりも前記第2基板へ向けて突出する遮光層と、前記第2基板に設けられていて前記第1基板へ向けて突出する複数のスペーサとを有し、前記G色着色層同士の間の前記遮光層に対応する位置には前記スペーサは設けられず、前記B色着色層同士の間の前記遮光層、前記R色同士の間の前記遮光層、又は前記B色着色層と前記R色着色層との間の前記遮光層、のそれぞれに対応する位置に、前記スペーサがそれらの遮光層の幅方向に関して互いにずらせて配置されることを特徴とする。
この第2の電気光学装置によれば、複数のスペーサが予め遮光層に対して平面的に異なる位置に形成されているので、電気光学装置の製造時に基板の重ねズレが発生した場合でも、遮光層とスペーサとの平面的な重なりの面積に変動がなく、それ故、セルギャップの変動を抑えることができる。この結果、製造時に基板の位置ズレが生じても、電気光学装置の表示品質を高く維持することができる。
さらに、この第2の電気光学装置では、互いにずらせて配置されるのはB色着色層とR色着色層との間の遮光層に対応するスペーサであって、G色着色層同士の間の遮光層に対応する位置にはスペーサを設けないことにした。従って、基板の組みズレ等に応じてスペーサの位置がずれる場合でも、スペーサは明るさの変化が大きいG色領域に入ることは無く、着色領域に入ったとしてもその着色領域はB色又はR色に限られるので、明るさが大きく変化することが無くなる。このため、コントラストの低下を抑えることができる。
(3) 上記構成の電気光学装置において、前記互いにずらせて配置される前記複数のスペーサは、前記遮光層の1列の中心線を境として交互に反対側へずれることが望ましい。複数のスペーサの1列は、縦列であることもあるし、横列であることもあるし、縦横の両方であることもある。また、「交互」の態様としては、1つずつ交互にずらせる場合、2つずつ交互にずらせる場合、または3つ以上の複数個ずつ交互にずらせる場合等が考えられる。スペーサを交互に反対側へずらせるようにすれば、スペーサを不規則にずらせる場合に比べて、セルギャップの変動を確実に防止できる。
(4) 上記構成の電気光学装置において、前記互いにずらせて配置される前記複数のスペーサは、前記遮光層の1列に沿って周期的にずれることが望ましい。ここで、周期的とは、スペーサのずれ方が一定の間隔で繰り返すことである。こうすれば、スペーサを不規則にずらせる場合に比べて、セルギャップの変動を確実に防止できる。
(5) 上記構成の電気光学装置において、前記遮光層の1列の中心線の一方の側に在る前記複数のスペーサの断面積の合計は、前記中心線の他方の側に在る前記複数のスペーサの断面積の合計に等しいか又はほぼ等しいことが望ましい。こうすれば、電気光学装置の製造時に基板の組みズレが生じても、遮光層に対するスペーサの面積の変動を確実に抑えることができる。
(6) 上記構成の電気光学装置において、前記複数のスペーサは互いに等しい平面断面積を持つように形成され、前記遮光層の1列の中心線の一方の側に在る前記複数のスペーサの当該中心線からの距離の合計は、前記中心線の他方の側に在る前記複数のスペーサの当該中心線からの距離の合計に等しいか又はほぼ等しいことが望ましい。こうすれば、複数のスペーサを遮光層の中心の両側に均等に振り分けることができるので、遮光層に対するスペーサの面積の変動を確実に抑えることができる。
(7) 上記構成の電気光学装置において、前記遮光層はR色着色層、G色着色層及びB色着色層のうちの2つ又は3つの積み重ねによって形成されることが望ましい。こうして形成された遮光層は基板上で突出するので、この遮光層に対するスペーサの平面的な位置が変動すると、遮光層に対するスペーサの面積が変動することにより、セルギャップが変動するおそれがある。この場合に、本発明のように、複数のスペーサを予め位置的に互いにずらせて配置すれば、遮光層に対するスペーサの面積の変動を抑えることができるので、セルギャップの変動を抑えることができる。
(8) 次に、本発明に係る電子機器は、以上に記載した構成の電気光学装置と、該電気光学装置の動作を制御する制御手段とを有することを特徴とする。この電子機器において、電気光学装置は、例えば電子機器に関する種々の表示を行う際に用いられる。本電気光学装置によれば、セルギャップの変動を防止して、さらにはコントラストの低下を防止して高い表示品質を達成できるので、電子機器における表示も高い表示品質で行うことができる。
このような電子機器としては、パーソナルコンピュータ、携帯電話機、デジタルスチルカメラ、腕時計型情報機器、PDA(Personal Digital Assistant)、液晶テレビ、ビューファインダ型又はモニタ直視型のビデオテープレコーダ、カーナビゲーション装置、ページャ、電子手帳、電卓、ワードプロセッサ、ワークステーション、テレビ電話機、POS端末器等が考えられる。
(9) 次に、本発明に係る第1の電気光学装置の製造方法は、第1基板上に平面的に所定配列で複数のR色着色層、複数のG色着色層及び複数のB色着色層を形成する工程と、前記R色着色層、G色着色層及びB色着色層の周囲に遮光層をそれらの着色層よりも突出するように形成する工程と、前記第1基板へ向けて突出する複数のスペーサを前記第2基板上に形成する工程と、前記第1基板と前記第2基板とを貼り合わせる工程とを有し、前記スペーサを形成する工程では、前記G色着色層同士の間の前記遮光層に対応して当該遮光層の中心線上に前記スペーサを形成し、前記B色着色層同士の間の前記遮光層、前記R色同士の間の前記遮光層、又は前記B色着色層と前記R色着色層との間の前記遮光層、のそれぞれに対応して前記スペーサを当該遮光層の幅方向に関して互いにずらせて形成することを特徴とする。
この電気光学装置の製造方法によれば、製造時に基板の重ねズレが発生した場合でも、遮光層に対する位置が異なっている複数のスペーサが在るため、遮光層とスペーサとの重なりの面積に変動がなく、それ故、セルギャップの変動を抑えることができる。この結果、製造時に基板の位置ズレが生じても、電気光学装置の表示品質を高く維持することができる。
さらに、本製造方法によれば、互いにずらせて配置されるのはB色着色層とR色着色層との間の遮光層に対応するスペーサであって、G色着色層同士の間の遮光層に対応するスペーサはその遮光層の中心線上に配置される。従って、基板の組みズレ等に応じてスペーサの位置がずれる場合でも、スペーサは明るさの変化が大きいG色領域に入ることは無く、着色領域に入ったとしてもその着色領域はB色又はR色に限られるので、明るさが大きく変化することが無くなる。このため、コントラストの低下を抑えることができる。
(10) 次に、本発明に係る第2の電気光学装置の製造方法は、第1基板上に平面的に所定配列で複数のR色着色層、複数のG色着色層及び複数のB色着色層を形成する工程と、前記R色着色層、G色着色層及びB色着色層の周囲に遮光層をそれらの着色層よりも突出するように形成する工程と、前記第1基板へ向けて突出する複数のスペーサを前記第2基板上に形成する工程と、前記第1基板と前記第2基板とを貼り合わせる工程とを有し、前記スペーサを形成する工程では、前記G色着色層同士の間の前記遮光層に対応する位置には前記スペーサを形成せず、前記B色着色層同士の間の前記遮光層、前記R色同士の間の前記遮光層、又は前記B色着色層と前記R色着色層との間の前記遮光層、のそれぞれに対応して前記スペーサを当該遮光層の幅方向に関して互いにずらせて形成することを特徴とする。
この電気光学装置の製造方法によれば、製造時に基板の重ねズレが発生した場合でも、遮光層に対する位置が異なっている複数のスペーサが在るため、遮光層とスペーサとの重なりの面積に変動がなく、それ故、セルギャップの変動を抑えることができる。この結果、製造時に基板の位置ズレが生じても、電気光学装置の表示品質を高く維持することができる。
さらに、本製造方法によれば、互いにずらせて配置されるのはB色着色層とR色着色層との間の遮光層に対応するスペーサであって、G色着色層同士の間の遮光層に対応する位置にはスペーサが設けられない。従って、基板の組みズレ等に応じてスペーサの位置がずれる場合でも、スペーサは明るさの変化が大きいG色領域に入ることは無く、着色領域に入ったとしてもその着色領域はB色又はR色に限られるので、明るさが大きく変化することが無くなる。このため、コントラストの低下を抑えることができる。
【発明の実施の形態】
(電気光学装置の第1実施形態)
以下、本発明に係る電気光学装置を、TFD素子をアクティブ素子として用いる構造の半透過反射方式の液晶装置を例に挙げて説明する。ここで、半透過反射方式とは、太陽光、室内光等といった外部光を反射層で反射させて表示を行う反射型表示と、バックライトから放射されて基板を透過した光を用いて表示を行う透過型表示の両方を実現できる表示方式である。なお、本発明を適用できる液晶装置がこの実施形態に限定されるものでないことは、もちろんである。
図1において、液晶装置1は、液晶パネル2と、それに組みつけられる照明装置3とを有する。液晶パネル2は、第1基板4aと第2基板4bとを環状のシール材6によって貼り合わせることによって形成されている。第1基板4aと第2基板4bとの間には、図2に示すように、スペーサ14によって維持される隙間、いわゆるセルギャップ12が形成され、このセルギャップ12内に液晶が封入されて液晶層13が形成されている。
図2において、第1基板4aは、透光性のガラス、透光性のプラスチック等によって形成された第1基材11aを有する。その第1基材11aの液晶側表面には樹脂層15が形成され、その上に反射層16が形成される。また、反射層16の上には遮光層17が形成され、さらに、矢印A方向から平面的に見てそれらの遮光層17の間に複数の着色層18が形成される。
図2に示す断面構造では、着色層18は加法混色の3原色の1色であるB(青)色の着色層だけが示されているが、実際には、その他の2色であるR(赤)色及びG(緑)色の着色層18が矢印A方向から見てB色着色層18(B)と異なる平面位置に設けられる。これらR,G,Bの各色の複数の着色層18は適宜の平面的な配列状態に配置されるが、本実施形態では例えば、図5に示すようなストライプ配列に配置されている。
このストライプ配列は、図5の縦方向に同色が1列に並び、横方向にR,G,Bが交互に繰り返して並ぶ配列である。また、遮光層17は、図5に示すように、各着色層18を囲むように格子状に形成されている。なお、各着色層18の左上隅部分が切り欠かれて遮光層17の領域が広くなっているのは、この部分に対応してアクティブ素子を配置させるためである。図2に示す断面構造は、図5におけるB−B線に従った断面構造である。図2において、遮光層17は、R,G,Bの各色着色層18(R),18(G),18(B)を積み重ねることにより、相手側の基板4bに向けて突出するように形成されている。このため、第1基板4aの液晶層13に接触する表面も遮光層17の突出に対応して突出している。このため、基板4aの液晶層13側の表面には、遮光層17の所に段差が形成されている。スペーサ14はその段差の高い部分に当接している。
本発明では遮光層17が突出する構造となっているが、その材質はR,G,Bの着色層材料によって形成される場合に限られず、必要に応じて任意に選定できる。なお、図2に示す遮光層17は図5において図の横方向に延びる遮光層17に相当している。図5において図の縦方向に延びる遮光層17は、その幅が狭い関係もあって、R,G,Bの3色のうちから適宜の2色を選んで、その2色の積み重ねによって形成されているものとする。
図2に戻って、遮光層17及び着色層18の上にはオーバーコート層19が形成され、その上に、帯状の透明電極21aが形成され、その上に配向膜22aが形成される。配向膜22aには配向処理、例えばラビング処理が施され、これにより、その配向膜22aの近傍の液晶分子の配向が決められる。また、第1基材11aの外側表面には、図1において偏光板23aが貼着等によって装着されている。1本の帯状の透明電極21aは、図2で紙面に対して直角方向へ延びており、隣り合う電極21aの間に遮光層17が位置している。これにより、複数の電極21aは、矢印A方向から見てストライプ状に形成されている。
図2において、樹脂層15は第1層15a及びその上に積層された第2層15bを有する。これらの層は同じ材料によって形成できる。第1層15aの表面にはドット部としての複数の凹部24が矢印A方向から見て平面的に不規則、すなわちランダムに配置されている。このため、第1層15aの上に積層された第2層15bの表面には、これらの凹部24及びそれに隣接する凸部に対応して凹凸が形成されている。第1層15aの表面に形成される凹凸は粗い状態であり、これに第2層15bを積層することにより滑らかな凹凸が得られる。第2層15bの表面、すなわち樹脂層15の表面に凹凸を設けたことにより、その樹脂層15に積層された反射層16の表面にも凹凸が形成される。この凹凸の存在により、反射層16に入射した光は散乱光となって反射する。
図2において、第1基板4aに対向する第2基板4bは、透光性のガラス、透光性のプラスチック等によって形成された第2基材11bを有する。その第2基材11bの液晶側表面には、図の左右方向へ延びる線状のライン配線26と、アクティブ素子としての複数のTFD素子27と、複数の透明なドット電極21bとが形成される。また、個々のドット電極21bの間であって遮光層17に対応する位置に複数のスペーサ14が設けられている。さらに、以上の各要素の上に配向膜22bが形成されている。複数のスペーサ14の先端は配向膜22bを介して相手側基板4aの表面に接触している。相手側基板4aにおけるこの接触部分は、基板4a側の遮光層17の突出形状に応じて突出している。
配向膜22bには配向処理、例えばラビング処理が施され、これにより、その配向膜22bの近傍の液晶分子の配向が決められる。第1基板4a側の配向膜22aのラビング方向と第2基板4b側の配向膜22bのラビング方向は、液晶の特性に応じて適宜の角度で交差するようになっている。また、第2基材11bの外側表面には、図1において偏光板23bが貼着等によって装着されている。
さて、図1(a)は、液晶パネル2の内部における微小領域の平面構造であって、第2基板4b側に形成されるドット電極21b及びTFD素子27を第2基材11bを省略した状態で実線で示し、さらに、第1基板4a側に形成される帯状電極21aを鎖線で示している。ドット電極21bは、図4にも示すように、正方形又は長方形に近いドット形状に形成されており、TFD素子27を介してライン配線26に接続されている。なお、図2は、図1(a)及び図4のB−B線に従った断面図に相当する。
図1(a)に示すように、第1基板4a側の帯状電極21aは、第2基板4b側のライン配線26と直角の方向に延在し、且つそれと直角な方向に互いに間隔をおいて平行に、すなわち全体としてストライプ状に形成されている。また、個々の帯状電極21aは、ライン配線26と直角の方向に列状に並ぶ複数のドット電極21bに対向するように形成される。そして、ドット電極21bと帯状電極21aとが重なる領域が、表示の最小単位である表示ドットDを構成する。
図2の反射層16には、図5に示すように、個々の表示ドットDに対応して光通過用の開口28が設けられている。これらの開口28は、反射層16に光を透過させる機能を持たせるための構成であるが、この開口28を設ける代わりに反射層16の厚さを薄くして、光を反射する機能と光を透過させる機能の両方を持たせるようにすることもできる。図2において、開口28に対応する領域が光透過領域Tであり、その周りの反射層16が存在する領域が光反射領域Rである。図5に示すように、個々の着色層18は表示ドットDに対応して設けられている。着色層18を用いない白黒表示の場合は1つの表示ドットDによって1つの画素が形成されるが、本実施形態のように3色の着色層18を用いてカラー表示を行う構造の場合には、R,G,Bの3色に対応する3つの着色層18の集まりによって1つの画素が形成される。
TFD素子27は、図3に示すように、第1TFD要素27aと第2TFD要素27bとを直列に接続することによって形成されている。このTFD素子27は、例えば、次のようにして形成される。すなわち、まず、Ta(タンタル)によってライン配線26の第1層26a及びTFD素子27の第1金属31を形成する。次に、陽極酸化処理によってライン配線26の第2層26b及びTFD素子27の絶縁膜32を形成する。次に、例えばCr(クロム)によってライン配線26の第3層26c及びTFD素子27の第2金属33を形成する。
第1TFD要素27aの第2金属33はライン配線26の第3層26cから延びている。また、第2TFD要素27bの第2金属33の先端に重なるように、ドット電極21bが形成される。ライン配線26からドット電極21bへ向けて電気信号が流れることを考えれば、その電流方向に沿って、第1TFD要素27aでは第2電極33→絶縁膜32→第1金属31の順に電気信号が流れ、一方、第2TFD要素27bでは第1金属31→絶縁膜32→第2金属33の順に電気信号が流れる。
つまり、第1TFD要素27aと第2TFD要素27bとの間では電気的に逆向きの一対のTFD要素が互いに直列に接続されている。このような構造は、一般に、バック・ツー・バック(Back-to-Back)構造と呼ばれており、この構造のTFD素子は、TFD素子を1個のTFD要素だけによって構成する場合に比べて、安定した特性を得られることが知られている。
図1において、第2基板4bは第1基板4aの外側に張り出す張出し部36を有し、その張出し部36の第1基板4a側の表面には配線37及び端子38が形成されている。これらの配線37及び端子38が集まる領域に1つの駆動用IC39a及び2つの駆動用IC39bが図示しないACF(Anisotropic Conductive Film:異方性導電膜)によって実装されている。
配線37及び端子38は第2基板4b上にライン配線26やドット電極21bを形成するときに同時に形成される。なお、ライン配線26は張出し部36の上にそのまま延び出て配線37となって、駆動用IC39aに接続されている。また、第1基板4aと第2基板4bとを接着するシール材6の内部には球形又は円筒形の導通材(図示せず)が混入されている。第1基板4a上に形成された帯状電極21aは第1基板4aの上でシール材6の所まで引き回された後、シール材6中の導通材を介して第2基板4b上の配線37に接続されている。これにより、第1基板4a上の帯状電極21aは第2基板4b上の駆動用IC39bに接続されている。
図1において、液晶パネル2を構成する第1基板4aの外側表面に対向して配設された照明装置3は、例えば、透明なプラスチックによって形成された方形状で板状の導光体41と、点状光源としてのLED42とを有する。導光体41のうち液晶パネル2と反対側の面には光反射シート(図示せず)を装着することができる。また、導光体41のうち液晶パネル2に対向する面には光拡散シート(図示せず)を装着することができる。また、光拡散シートの上に、さらに、プリズムシート(図示せず)を装着することもできる。
LED42は本実施形態では3個使用されているが、LED42は必要に応じて1個とすることもでき、あるいは、3個以外の複数個とすることもできる。また、LED等といった点状光源に代えて、冷陰極管等といった線状光源を用いることも出来る。
以下、上記構成より成る液晶装置に関してその動作を説明する。
太陽光、室内光等といった外部光が十分な場合、図2に矢印Fで示すように、外部光が第2基板4bを通して液晶パネル2の内部へ取り込まれ、この外部光が液晶層13を通過した後に反射膜16で反射して液晶層13へ供給される。
他方、外部光が不十分である場合には、照明装置3を構成するLED42(図1参照)を点灯する。このとき、LED42から点状に出た光は導光体41の入光面41aから該導光体41の内部へ導入され、その後、液晶パネル2に対向する面、すなわち光出射面41bから面状に出射する。このようにして光出射面41bの各所から出射する光が、図2において矢印Gで示すように反射膜16に形成した開口28を通って面状の光として液晶層13へ供給される。
以上のようにして液晶層13へ光が供給される間、液晶パネル2に関しては、駆動用IC39a及び39b(図1参照)によって制御されて、ライン配線26に例えば走査信号が供給され、同時に、帯状電極21aに例えばデータ信号が供給される。このとき、走査信号とデータ信号との電位差に応じて特定表示ドットに付属するTFD素子27が選択状態(すなわち、オン状態)になると、その表示ドット内の液晶容量に映像信号が書き込まれ、その後、当該TFD素子27が非選択状態(すなわち、オフ状態)になると、その信号は当該表示ドットに蓄えられて当該表示ドット内の液晶層を駆動する。
こうして、液晶層13内の液晶分子が表示ドットごとに制御され、それ故、液晶層13を通過する光が表示ドットDごとに変調される。そして、このように変調された光が第2基板4b側の偏光板63bを通過することにより、液晶パネル2の有効表示領域内に文字、数字、図形等といった像が表示される。反射層16で反射する外部光を利用して行われる表示が反射型表示である。また、照明装置3からの光を利用して行われる表示が透過型表示である。本実施形態では、それらの反射型表示及び透過型表示を使用者の希望に応じて、あるいは外部環境の変化に応じて自動的に選択する。
以上の構成から成る液晶装置において、スペーサ14は、例えば感光性樹脂等を材料として、例えばフォトリソグラフィ処理等を用いたパターニング処理によって、例えば頂部が欠けた円錐形状、頂部が欠けた角錐形状、その他任意の形状に形成される。つまり、スペーサ14の断面形状は、円形、正方形、長方形、楕円形、長円形、その他任意の形状にすることができる。本実施形態では、スペーサ14は、頂部が欠けた円錐形状であって、第1基板4a側が面積の狭い頂部側であり、第2基板4b側が面積の広い底面側である形状に形成される場合を示している。また、スペーサ14は、図4に示すように、相手側の基板4a(図5参照)上にストライプ配列で配置されたR,G,Bの各色着色層18(R),18(G),18(B)のそれぞれの周囲に対応するように形成されている。
図4の基板4bに対向する図5の基板4a上に形成された遮光層17は、格子状、すなわち縦方向の複数列と横方向の複数列がほぼ直角に交差する形状に形成されている。図4において、複数のスペーサ14は、遮光層17の横方向の列に対応するように並べられている。
また、横方向に1列に並べられた複数のスペーサ14を見たとき、それらのスペーサ14は、遮光層17の幅方向(すなわち、図4の上下方向)に関して互いにずらせて配置されている。具体的には、G色着色層18(G)同士の間の遮光層17に対応するスペーサ14は、その遮光層17の中心線L0の上に形成され、そして、R色着色層18(R)同士の間の遮光層17に対応するスペーサ14と、B色着色層18(B)同士の間の遮光層17に対応するスペーサ14は、中心線L0を境として遮光層17の幅方向に互いにずらせて形成されている。
より具体的には、R色着色層18(R)同士の間のスペーサ14と、B色着色層18(B)同士の間のスペーサ14は、遮光層17の1列の中心線L0を境として図の上下の両側へ1個ずつ交互にずれるように配置されている。さらに、複数のスペーサ14は、3個のスペーサ14を1周期として横列方向へ周期的に配置されている。
本実施形態では、遮光層17の横方向の列はR,G,Bの各色着色層18(R),18(G),18(B)の積み重ねによって形成されているので、遮光層17は、図2に示すように、基板4aから基板4bに向けて突出している。このため、スペーサ14の先端は、遮光層17の突出に応じて基板4aの液晶側表面に現れた段差の頂部面に接触している。今、仮に、スペーサ14が図4において互いにずれることなく横方向に直線状に揃っているとすると、図2において基板4aと基板4との間に組み合わせズレが発生した場合に、遮光層17とスペーサ14との重なりの面積に変動が生じ、その結果、セルギャップ12に変動が生じることが考えられる。
これに対し、本実施形態ではスペーサ14が図4に示すように予め互いに位置的にずらせて配置されているので、図2において、第1基板4aと第2基板4bとの間に位置ズレが発生した場合でも、遮光層17とスペーサ14との重なりの面積には変動がなく、それ故、セルギャップの変動を抑えることができる。この結果、液晶装置の製造時に基板の位置ズレが生じても、液晶装置の表示品質を高く維持することができる。
さらに、本実施形態では、図4において、G色着色層18(G)同士の間のスペーサ14は遮光層17の中心線L0の上に形成されている。このため、液晶装置の製造時に基板の位置ズレが生じた場合、スペーサ14は、B色領域やR色領域へはみ出すことはあっても、G色領域へはみ出すことは殆どない。一般に、G色は、スペーサ14がその中に入った場合に、R色やB色に比べてコントラストの低下の度合いが大きい。従って、スペーサ14がG色領域へはみ出すことが殆どない本実施形態の液晶装置は、コントラストの低下を抑えて高い表示品質を維持することに関して非常に有利である。
さらに、本実施形態において複数のスペーサ14は、図4において、遮光層17の横方向1列の中心線L0の一方の側に在る複数のスペーサ14の断面積の合計が、中心線L0の他方の側に在る複数のスペーサ14の断面積の合計に等しいか又はほぼ等しくなるように形成されている。こうすれば、図4の第2基板4bと図5の第1基板4aとの間の位置ズレが中心線L0に対してどちら側に発生しても、スペーサ14の遮光層17に対する面積変動を抑えることができる。
さらに、図4において、複数のスペーサ14は互いに等しい平面断面積を持つように形成されている。しかも、遮光層17の横方向1列の中心線L0の一方の側に在る複数のスペーサ14の中心線L0からの距離の合計が、中心線L0の他方の側に在る複数のスペーサ14の中心線L0からの距離の合計に等しいか又はほぼ等しくなるように形成されている。ここで、中心線L0からスペーサ14までの距離とは、スペーサ14の中心線L0に近い側の周縁までの距離と考えても良いし、あるいはスペーサ14の中心までの距離と考えても良い。こうすることによっても、図4の第2基板4bと図5の第1基板4aとの間の位置ズレが中心線L0に対してどちら側に発生しても、スペーサ14の遮光層17に対する面積変動を抑えることができる。
(変形例)
図4では、複数のスペーサ14が横1列内で、1個ずつ交互に位置的にずらされて配置されている。これに代えて、複数のスペーサ14は、図6に示すように、2個ずつ交互に、あるいはそれ以上の複数個ずつ交互に配置させることもできる。
また、図4では、3個のスペーサ14を1周期として複数のスペーサ14を横列方向へ周期的にずらせて配置した。これに対し、図6では、複数のスペーサ14は、6個のスペーサ14を1周期として横列方向へ周期的に配置されている。
(電気光学装置の第2実施形態)
図7は、本発明に係る電気光学装置の他の実施形態の主要部分の平面構造を示している。図4に示した実施形態では、G色着色層18(G)同士の間のスペーサ14を遮光層17の中心線L0の上に形成した。これに対し、図7に示す本実施形態では、G色着色層18(G)同士の間にはスペーサ14を形成しないようにしている。なお、B色着色層18(B)同士の間のスペーサ14及びR色着色層18(R)同士の間のスペーサ14の配置位置は図4の実施形態の場合と同じである。
本実施形態の液晶装置によれば、複数のスペーサ14が予め遮光層17に対して平面的に異なる位置に形成されているので、液晶装置の製造時に基板の重ねズレが発生した場合でも、遮光層17とスペーサ14との平面的な重なりの面積に変動がなく、それ故、セルギャップの変動を抑えることができる。この結果、製造時に基板の位置ズレが生じても、液晶装置の表示品質を高く維持することができる。
さらに、本実施形態では、互いにずらせて配置されるのはB色着色層18(B)とR色着色層18(R)との間の遮光層17に対応するスペーサ14であって、G色着色層18(G)同士の間の遮光層17に対応する位置にはスペーサ14を設けないことにした。従って、基板の組みズレ等に応じてスペーサ14の位置がずれる場合でも、スペーサ14は明るさの変化が大きいG色領域に入ることは無く、着色領域に入ったとしてもその着色領域はB色又はR色に限られるので、明るさが大きく変化することが無くなる。このため、液晶装置の表示におけるコントラストの低下を抑えることができる。
(変形例)
図8は、G色着色層18(G)同士の間にはスペーサ14を形成しないこととする本発明に係る電気光学装置の変形例を示している。この実施形態は、図6に示した実施形態においてG色着色層18(G)同士の間の遮光層17の中心線L0上に形成したスペーサ14を削除したものである。なお、B色着色層18(B)同士の間のスペーサ14及びR色着色層18(R)同士の間のスペーサ14の配置位置は図6の実施形態の場合と同じである。
なお、図4、図6、図7、図8に示した実施形態では、幅の広い横列方向の遮光層17に対応させてスペーサ14を形成したが、スペーサ14は、幅の狭い縦列方向の遮光層17に対応させて形成することもできる。この場合、複数のスペーサ14は縦列方向の遮光層17の幅方向(すなわち、図4等の左右の横方向)に互いにずらせて配置される。
また、上記実施形態では、2端子型のスイッチング素子であるTFD素子27を用いたアクティブマトリクス型の液晶装置に本発明を適用したが、本発明はTFD素子以外の2端子型のスイッチング素子を用いる場合にも適用できる。また、本発明は、TFT(Thin Film Transistor)等といった3端子型スイッチング素子を用いたアクティブマトリクス型の液晶装置にも適用できる。また、本発明は、スイッチング素子を用いない構造の単純マトリクス型の液晶装置にも適用できる。さらに、本発明は液晶装置に限らず、有機EL装置、プラズマディスプレイ装置、電気泳動装置といった電気光学装置にも適用できる。
(電気光学装置の製造方法の第1実施形態)
以下、本発明に係る電気光学装置の製造方法を、図1に示した液晶装置を製造する場合を例に挙げて、図9のフローチャートを参照しつつ説明する。図9において、工程P1から工程P5が図1の第2基板4bを形成するための工程である。また、工程P11から工程P17が図1の第1基板4aを形成するための工程である。また、工程P21から工程P28がそれらの基板を組み合わせて液晶装置を完成させるための工程である。
なお、本実施形態の製造方法では、図1に示す第1基板4a及び第2基板4bを1つずつ形成するのではなく、第1基板4aに関しては、複数の第1基板4aを形成できる大きさの面積を有する第1マザー基材を用いて複数の第1基板4aを同時に形成する。また、第2基板4bに関しては、複数の第2基板4bを形成できる大きさの面積を有する第2マザー基材を用いて複数の第2基板4bを同時に形成する。第1マザー基材及び第2マザー基材は、例えば、透明なガラス、透明なプラスチック等によって形成される。
まず、図9の工程P1において、第2マザー基材の表面に図1(a)のTFD素子27及びライン配線26を形成する。次に、工程P2において、図1(a)のドット電極21bをITOを材料としてフォトリソグラフィ処理及びエッチング処理によって形成する。
次に、工程P3において、図2のスペーサ14を感光性樹脂を材料として適宜のパターニング処理、例えばフォトリソグラフィ処理によって形成する。このとき、複数のスペーサ14は、例えば図4に示すように、G色着色層18(G)に対しては相手側の基板4a上に形成された遮光層17の中心線L0の上に載るように、そして、R色着色層18(R)及びB色着色層18(B)に対しては中心線L0を境として遮光層17の幅方向に互いに位置的にずれるように形成される。
次に、工程P4において、図2の配向膜22bを塗布や印刷等によって形成し、さらに工程P5において、その配向膜22bに配向処理、例えばラビング処理を施す。以上により、第2マザー基材の上に第2基板4bの複数個分のパネル要素が形成される。以下、この平板構造体を第2マザー基板という。なお、実際の工程では、熱処理や、その他の処理が必要に応じて行われることがあるが、上記説明ではそれらを省略した。
次に、図9の工程P11において、第1マザー基板の表面上に図2の樹脂層15の第1層15aを、例えば感光性樹脂を材料としてフォトリソグラフィ処理によって形成する。その第1層15aの表面には微細な凹凸が形成される。その後、第1層15aの上に同じ材料の第2層15bを薄く塗布して、樹脂層15を形成する。
次に、図9の工程P12において、図2の反射層16を、例えばAlやAl合金等といった光反射性物質を材料としてフォトリソグラフィ処理及びエッチング処理によって形成する。このとき、表示ドットDごとに開口28を形成することにより、光反射部Rと透光部Tを形成する。次に、工程P13において、図2の着色層18をR,G,Bの各色ごとに順々に形成する。例えば、各色の顔料や染料を感光性樹脂に分散させて成る着色材料をフォトリソグラフィ処理によって所定の配列、例えば図5のストライプ配列に形成する。このとき、R,G,Bの3色の積み重ね又はそれら各色のうち2色の積み重ねにより、遮光層17が各着色層の周り、すなわち複数の表示ドットDの周りを埋めるような格子状パターンに形成される。
次に、工程P14において、図2のオーバーコート層19を、例えばアクリル樹脂、ポリイミド樹脂等といった感光性樹脂を材料としてフォトリソグラフィ処理によって形成する。次に、図9の工程P15において、図2の帯状電極21aをITOを材料としてフォトリソグラフィ処理及びエッチング処理によって形成する。さらに、工程P16において図2の配向膜22aを形成し、さらに工程P17において配向処理としてのラビング処理を行う。
以上により、第1マザー基材の上に第1基板4aの複数個分のパネル要素が形成される。以下、この平板構造体を第1マザー基板という。なお、実際の工程では、熱処理や、その他の処理が必要に応じて行われることがあるが、上記説明ではそれらを省略した。
その後、図9の工程P21において、第1マザー基板と第2マザー基板とを貼り合わせる。これにより、第1マザー基板と第2マザー基板とが個々の液晶装置の領域において図1のシール材6を挟んで貼り合わされた構造の大面積のパネル構造体が形成される。
なお、第1マザー基板を構成する第1マザー基材及び第2マザー基板を構成する第2マザー基材のそれぞれの対応する位置には、予め、それらの基板の相互位置を決めるためのアライメントマークが形成されている。工程P21の貼り合わせを行う際には、双方のアライメントマークが一定の位置関係になるようにして、例えば一方のアライメントマークが他方のアライメントマークの中に入るようにして、第1マザー基板と第2マザー基板とを位置決めする。
このとき、場合によっては、第1マザー基板と第2マザー基板との位置関係、すなわち、各液晶装置における第1基板4aと第2基板4bとの位置関係がずれることがある。この場合、本実施形態では、工程P3において、図4のように複数のスペーサ14を位置的にずらせて配置したので、仮にマザー基板間に位置ズレが生じても、遮光層17とスペーサ14との平面的な重なりの面積に変動がなく、それ故、スペーサ14によって第1基板4aと第2基板4bとの間に維持されるセルギャップの変動を抑えることができる。この結果、製造時に基板の位置ズレが生じても、液晶装置の表示品質を高く維持することができる。
また、G色着色層18(G)に対応するスペーサ14に関しては、それを遮光層17の中心線L0上に設けたので、製造時に基板の位置ズレが生じても、スペーサ14がG色領域内へずれ込むことを防止でき、それ故、表示におけるコントラストの低下を防止して、高い表示品質を維持できる。
次に、以上のようにして形成された大面積のパネル構造体に含まれるシール材6(図1参照)を、工程P22において硬化させて両マザー基板を接着する。次に、工程P23において、パネル構造体を1次切断、すなわち1次ブレイクして、図1の液晶パネル2の複数が1列に並んだ状態で含まれる中面積のパネル構造体、いわゆる短冊状のパネル構造体を複数形成する。シール材6には予め適所に開口6aが形成されており、上記の1次ブレイクによって短冊状のパネル構造体が形成されると、そのシール材6の開口6aが外部に露出する。
次に、図9の工程P24において、上記のシール材の開口6aを通して各液晶パネル部分の内部へ液晶を注入し、その注入の完了後、その開口6aを樹脂によって封止する。次に、工程P25において、2回目の切断、すなわち2次ブレイクを行い、短冊状のパネル構造体から図1に示す個々の液晶パネル2を切り出す。
次に、図9の工程P26において、図1の液晶パネル2に偏光板23a及び63bを貼着によって装着する。次に、工程P27において、図1の駆動用IC39a及び39bを実装し、さらに工程P28において、図1の照明装置3を取り付ける。これにより、液晶装置1が完成する。
なお、上記実施形態では、工程P3においてスペーサ14を図4に示す位置に形成したが、これに代えて、図6や図7や図8に示すような位置にスペーサ14を設けることができる。また、工程P3において、図7や図8に示すように、G色着色層18(G)同士の間の遮光層17に対向する位置にはスペーサ14を形成しないようにすることもできる。
(電子機器の実施形態)
以下、本発明に係る電子機器を実施形態を挙げて説明する。なお、この実施形態は本発明の一例を示すものであり、本発明はこの実施形態に限定されるものではない。
図10は、本発明に係る電子機器の一実施形態を示している。ここに示す電子機器は、表示情報出力源101、表示情報処理回路102、電源回路103、タイミングジェネレータ104及び液晶装置105によって構成される。そして、液晶装置105は液晶パネル107及び駆動回路106を有する。
表示情報出力源101は、RAM(Random Access Memory)等といったメモリや、各種ディスク等といったストレージユニットや、ディジタル画像信号を同調出力する同調回路等を備え、タイミングジェネレータ104により生成される各種のクロック信号に基づいて、所定フォーマットの画像信号等といった表示情報を表示情報処理回路102に供給する。
次に、表示情報処理回路102は、増幅・反転回路や、ローテーション回路や、ガンマ補正回路や、クランプ回路等といった周知の回路を多数備え、入力した表示情報の処理を実行して、画像信号をクロック信号CLKと共に駆動回路106へ供給する。ここで、駆動回路106は、走査線駆動回路(図示せず)やデータ線駆動回路(図示せず)と共に、検査回路等を総称したものである。また、電源回路103は、上記の各構成要素に所定の電源電圧を供給する。液晶装置105は、例えば、図1に示した液晶装置1と同様に構成できる。
図11は、本発明に係る電子機器の他の実施形態であるモバイル型のパーソナルコンピュータを示している。ここに示すパーソナルコンピュータ110は、キーボード112を備えた本体部114と、液晶表示ユニット116とから構成されている。この液晶表示ユニット116は、例えば図1に示した液晶装置1を表示部として用いて構成できる。
図12は、本発明を電子機器の一例である携帯電話機に適用した場合の一実施形態を示している。ここに示す携帯電話機120は、本体部121と、これに開閉可能に設けられた表示体部122とを有する。液晶装置等といった電気光学装置によって構成された表示装置123は、表示体部122の内部に配置され、電話通信に関する各種表示は、表示体部122にて表示画面124によって視認できる。本体部121の前面には操作ボタン126が配列して設けられる。
表示体部122の一端部からアンテナ127が出没自在に取付けられている。受話部128の内部にはスピーカが配置され、送話部129の内部にはマイクが内蔵されている。表示装置123の動作を制御するための制御部は、携帯電話機の全体の制御を司る制御部の一部として、又はその制御部とは別に、本体部121又は表示体部122の内部に格納される。
図13は、本発明に係る電子機器のさらに他の実施形態であるデジタルスチルカメラであって、液晶装置をファインダとして用いるものを示している。このデジタルスチルカメラ130におけるケース131の背面には液晶表示ユニット132が設けられる。この液晶表示ユニット132は、被写体を表示するファインダとして機能する。この液晶表示ユニット132は、例えば図1に示した液晶装置1を用いて構成できる。
ケース131の前面側(図においては裏面側)には、光学レンズやCCD等を含んだ受光ユニット133が設けられている。撮影者が液晶表示ユニット132に表示された被写体像を確認して、シャッタボタン134を押下すると、その時点におけるCCDの撮像信号が、回路基板135のメモリに転送されてそこに格納される。
ケース131の側面には、ビデオ信号出力端子136と、データ通信用の入出力端子137とが設けられている。ビデオ信号出力端子136にはテレビモニタ138が必要に応じて接続され、また、データ通信用の入出力端子137にはパーソナルコンピュータ139が必要に応じて接続される。回路基板135のメモリに格納された撮像信号は、所定の操作によって、テレビモニタ138や、パーソナルコンピュータ139に出力される。
図14は、本発明に係る電子機器のさらに他の実施形態である腕時計型電子機器を示している。ここに示す腕時計型電子機器140は、時計本体141に支持された表示部としての液晶表示ユニット142を有し、この液晶表示ユニット142は、時計本体141の内部に設けた制御回路143によって制御されて、時刻、日付等を情報として表示する。この液晶表示ユニット142は、例えば図1に示した液晶装置1を用いて構成できる。
図15は、本発明に係る電子機器のさらに他の実施形態であるPDA(Personal Digital Assistant:パーソナル・デジタル・アシスタント:携帯型情報端末装置)を示している。ここに示すPDA150は、接触方式、いわゆるタッチパネル方式の入力装置151をその正面パネル上に有する。この入力装置151は透明であり、その下には表示部としての液晶装置152が配置されている。
使用者は、付属のペン型入力具153を入力装置151の入力面に接触させることにより、液晶装置152に表示されたボタン、その他の表示を選択したり、文字、図形等を描いたりして、必要な情報を入力する。この入力情報に対してPDA150内のコンピュータによって所定の演算が行われ、その演算の結果が液晶装置152に表示される。液晶装置152は、例えば図1に示した液晶装置1を用いて構成できる。
(変形例)
電子機器としては、以上に説明したパーソナルコンピュータや、携帯電話機や、デジタルスチルカメラや、腕時計型電子機器や、PDAの他にも、液晶テレビや、ビューファインダ型又はモニタ直視型のビデオテープレコーダや、カーナビゲーション装置や、ページャや、電子手帳や、電卓や、ワードプロセッサや、ワークステーションや、テレビ電話機や、POS端末器等が挙げられる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係る電気光学装置の一実施形態を分解状態で示す斜視図である。
【図2】図1の電気光学装置の主要部の断面構造を示す断面図である。
【図3】図1の電気光学装置で用いられるTFD素子を示す斜視図である。
【図4】素子が形成される基板の一部の平面図である。
【図5】着色層及び遮光層が形成される基板の一部の平面図である。
【図6】本発明に係る電気光学装置の他の実施形態の主要部であって、素子が形成される基板の一部を示す平面図である。
【図7】本発明に係る電気光学装置のさらに他の実施形態の主要部であって、素子が形成される基板の一部を示す平面図である。
【図8】本発明に係る電気光学装置のさらに他の実施形態の主要部であって、素子が形成される基板の一部を示す平面図である。
【図9】本発明に係る電気光学装置の製造方法の一実施形態を示す工程図である。
【図10】本発明に係る電子機器の一実施形態を示すブロック図である。
【図11】本発明に係る電子機器の他の実施形態を示す斜視図である。
【図12】本発明に係る電子機器のさらに他の実施形態を示す斜視図である。
【図13】本発明に係る電子機器のさらに他の実施形態を示す斜視図である。
【図14】本発明に係る電子機器のさらに他の実施形態を示す斜視図である。
【図15】本発明に係る電子機器のさらに他の実施形態を示す斜視図である。
【符号の説明】
1:液晶装置、2:液晶パネル、3:照明装置、4a,4b:基板、11a,11b:基材、13:液晶層、14:スペーサ、18:着色層、21a,21b:電極、27:TFD素子、110:パーソナルコンピュータ(電子機器)、120:携帯電話機(電子機器)、130:カメラ(電子機器)、140:腕時計型電子機器、150:PDA(電子機器)
Claims (10)
- 互いに対向する第1基板及び第2基板と、前記第1基板に設けられていて平面的に所定配列で並べられた複数のR色着色層、複数のG色着色層及び複数のB色着色層と、前記複数のR色着色層、G色着色層及びB色着色層の間に設けられていてそれらの着色層よりも前記第2基板へ向けて突出する遮光層と、前記第2基板に設けられていて前記第1基板へ向けて突出する複数のスペーサとを有し、前記G色着色層同士の間の前記遮光層に対応する前記スペーサは前記遮光層の中心線上に配置され、前記B色着色層同士の間の前記遮光層、前記R色着色層同士の間の前記遮光層、又は前記B色着色層と前記R色着色層との間の前記遮光層、のそれぞれに対応する前記スペーサはそれらの遮光層の中心線に関して互いにずらせて配置されることを特徴とする電気光学装置。
- 互いに対向する第1基板及び第2基板と、前記第1基板に設けられていて平面的に所定配列で並べられた複数のR色着色層、複数のG色着色層及び複数のB色着色層と、前記複数のR色着色層、G色着色層及びB色着色層の間に設けられていてそれらの着色層よりも前記第2基板へ向けて突出する遮光層と、前記第2基板に設けられていて前記第1基板へ向けて突出する複数のスペーサとを有し、前記G色着色層同士の間の前記遮光層に対応する位置には前記スペーサは設けられず、前記B色着色層同士の間の前記遮光層、前記R色同士の間の前記遮光層、又は前記B色着色層と前記R色着色層との間の前記遮光層、のそれぞれに対応する位置に、前記スペーサがそれらの遮光層の中心線に関して互いにずらせて配置されることを特徴とする電気光学装置。
- 請求項1又は請求項2において、前記互いにずらせて配置される前記複数のスペーサは、前記遮光層の1列の中心線を境として交互に反対側へずれることを特徴とする電気光学装置。
- 請求項1から請求項3の少なくともいずれか1つにおいて、前記互いにずらせて配置される前記複数のスペーサは、前記遮光層の1列に沿って周期的にずれることを特徴とする電気光学装置。
- 請求項1から請求項4の少なくともいずれか1つにおいて、前記遮光層の1列の中心線の一方の側に在る前記複数のスペーサの断面積の合計は、前記中心線の他方の側に在る前記複数のスペーサの断面積の合計に等しいか又はほぼ等しいことを特徴とする電気光学装置。
- 請求項1から請求項5の少なくともいずれか1つにおいて、前記複数のスペーサは互いに等しい平面断面積を持つように形成され、前記遮光層の1列の中心線の一方の側に在る前記複数のスペーサの当該中心線からの距離の合計は、前記中心線の他方の側に在る前記複数のスペーサの当該中心線からの距離の合計に等しいか又はほぼ等しいことを特徴とする電気光学装置。
- 請求項1から請求項6の少なくともいずれか1つにおいて、前記遮光層はR色着色層、G色着色層及びB色着色層のうちの2つ又は3つの積み重ねによって形成されることを特徴とする電気光学装置。
- 請求項1から請求項7の少なくともいずれか1つに記載の電気光学装置と、該電気光学装置の動作を制御する制御手段とを有することを特徴とする電子機器。
- 第1基板上に平面的に所定配列で複数のR色着色層、複数のG色着色層及び複数のB色着色層を形成する工程と、前記R色着色層、G色着色層及びB色着色層の周囲に遮光層をそれらの着色層よりも突出するように形成する工程と、前記第1基板へ向けて突出する複数のスペーサを前記第2基板上に形成する工程と、前記第1基板と前記第2基板とを貼り合わせる工程とを有し、前記スペーサを形成する工程では、前記G色着色層同士の間の前記遮光層に対応して当該遮光層の中心線上に前記スペーサを形成し、前記B色着色層同士の間の前記遮光層、前記R色同士の間の前記遮光層、又は前記B色着色層と前記R色着色層との間の前記遮光層、のそれぞれに対応して前記スペーサを当該遮光層の幅方向に関して互いにずらせて形成することを特徴とする電気光学装置の製造方法。
- 第1基板上に平面的に所定配列で複数のR色着色層、複数のG色着色層及び複数のB色着色層を形成する工程と、前記R色着色層、G色着色層及びB色着色層の周囲に遮光層をそれらの着色層よりも突出するように形成する工程と、前記第1基板へ向けて突出する複数のスペーサを前記第2基板上に形成する工程と、前記第1基板と前記第2基板とを貼り合わせる工程とを有し、前記スペーサを形成する工程では、前記G色着色層同士の間の前記遮光層に対応する位置には前記スペーサを形成せず、前記B色着色層同士の間の前記遮光層、前記R色同士の間の前記遮光層、又は前記B色着色層と前記R色着色層との間の前記遮光層、のそれぞれに対応して前記スペーサを当該遮光層の中心線に関して互いにずらせて形成することを特徴とする電気光学装置の製造方法。
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