JP4797315B2 - カラーフィルタ基板、電気光学装置及び電子機器、並びにカラーフィルタ基板の製造方法及び電気光学装置の製造方法 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、カラー表示を行う電気光学装置に用いられるカラーフィルタ基板、これを用いた電気光学装置及び電子機器、並びにカラーフィルタ基板の製造方法及び電気光学装置の製造方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
電気光学装置、例えばスイッチング素子として用いたアクティブマトリクス型カラー液晶装置は、互いに対向配置されたカラーフィルタ基板と対向基板との間に、例えば電気光学物質としての液晶が挟持されて構成される。
【0003】
スイッチング素子として、例えばTFD(Thin Film Diode)素子を用いた液晶装置においては、対向基板上には、複数のストライプ状のライン配線が配置され、各ライン配線にTFD素子を介して画素電極が配置されている。一方、カラーフィルタ基板上には、対向基板上のライン配線と直交し、かつ画素電極と対向するような位置関係で複数のストライプ状の電極が形成されている。更に、カラーフィルタ基板上には、カラー表示を行うために、赤色着色層(R)、青色着色層(B)及び緑色着色層(G)が配置されている。このような液晶装置においては、画素電極とカラーフィルタ上の電極とが重なる点が1つのドットを構成し、この1つのドットに対応してR、G、Bのうちの1色絵素が配置される。そして、R、G、Bの3色ドットが1つのユニットとなって1つの画素が形成される。
【0004】
従来、画素が形成される画素領域を囲むように金属膜による遮光領域を設け、画素領域の周囲を暗く、すなわち光透過率を下げることにより、画素領域のコントラストを高め、表示品質を高めていた。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上述のような構成の液晶装置においては、遮光領域は表示に関与しないためR、G、Bといった着色層を配置する必要がないため、画素領域と遮光領域との境界付近における膜厚の変化が大きくなってしまう。このため、画素領域と遮光領域との境界付近におけるセルギャップの変化の大きくなり、表示画面の周辺領域の液晶が配向不良となり、金属膜だけでは十分に遮光することができず、液晶装置の表示品位が著しく低下するという問題があった。
【0006】
本発明は上記問題点を解決するものであり、その課題は、表示画面周辺の遮光特性を高くし、表示品位の高い、カラーフィルタ基板、電気光学装置及び電子機器、並びにカラーフィルタ基板の製造方法及び電気光学装置の製造方法提供することにある。
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するために本発明は、基板及び該基板に対向配置された対向基板を有する電気光学装置において、反射領域及び非反射領域を有する複数の画素を備えた画素領域と、前記画素領域の周辺に設けられた第1領域及び該第1領域の周辺に設けられた第2領域と、前記反射領域に設けられた反射膜と、前記画素領域に配置された複数の着色層と、前記第1領域に配置された、前記複数の着色層のうちの1つの着色層と同一材料からなる着色層とを具備することを特徴とする。
【0007】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するために本発明のカラーフィルタ基板は、基板と、反射表示領域及び透過表示領域とを有する画素を複数備えた画素領域と、前記画素領域を囲む遮光膜が配置された第1領域と、前記画素領域に配置された複数の着色層と、を有し、複数の前記着色層のうち、互いに色が異なる前記着色層が配列される方向に前記第1領域と隣りあって配置される着色層が、前記第1領域内まで該方向に沿って延在して形成されていることによって、前記画素領域と前記第1領域との境界付近において、前記着色層には段差がないことを特徴とする。
【0008】
また、前記基板は前記第1領域を囲む第2領域を有し、前記第2領域における前記基板の前記第1面上に配置された前記複数の着色層のうち2つ以上の着色層と同一材料からなる着色材を積層した積層膜とを具備することが好ましい。
【0009】
また、前記基板は前記第1領域を囲む第2領域を有し、前記第2領域における前記基板の前記第1面上に配置された前記複数の着色層のうち2つ以上の着色層と同一材料からなる着色材を積層した積層膜とを具備することを特徴とする。
【0010】
また、前記第2領域における前記基板の第1面からの前記積層膜の高さは、前記画素領域における該第1面からの前記着色層の高さより低いことを特徴とする。
【0011】
また、前記第2領域における前記第1面からの前記積層膜の高さは、前記画素領域における前記第1面からの前記着色層の高さより低いことを特徴とする。
【0012】
また、前記画素領域に配置された反射膜を更に有することが好ましい。
【0013】
また、前記画素領域に配置された反射膜を更に有することを特徴とする。
【0014】
また、前記画素領域に配置された光散乱用樹脂層を更に有し、前記反射膜は前記光散乱用樹脂層上に設けられていることが好ましい。
【0015】
また、前記画素領域に配置された光散乱用樹脂層を更に有し、前記反射膜は前記光散乱用樹脂層上に設けられていることを特徴とする。
【0016】
また、前記画素領域には複数の画素が設けられ、該画素は、前記反射膜が配置される反射領域と前記反射膜が配置されない非反射領域を有することが好ましい。
【0017】
また、前記画素領域には複数の画素が設けられ、該画素は、前記反射膜が配置される反射領域と前記反射膜が配置されない非反射領域を有することを特徴とする。
【0018】
また、前記反射領域は、前記非反射領域を囲むように配置されていることが好ましい。
【0019】
また、前記反射領域は、前記非反射領域を囲むように配置されていることを特徴とする。
【0020】
また、前記反射領域に配置される前記着色層の厚みと、前記非反射領域に配置される前記着色層の厚みとが異なることが好ましい。
【0021】
また、前記反射領域に配置される前記着色層の厚みと、前記非反射領域に配置される前記着色層の厚みとが異なることを特徴とする。
【0022】
また、前記第1領域に配置された着色層は、前記複数の着色層のうち前記反射領域に配置された1つの着色層と同一材料からなる着色層であること特徴とする。
【0023】
また、前記第1領域に配置された着色層は、前記反射領域に対応して配置された前記複数の着色層のうち1つの着色層と同一材料であること特徴とする。
【0024】
また、前記第2領域における前記基板に、前記複数の着色層のうち少なくとも2つの着色層と同一材料からなる少なくとも2つの着色層を積層した積層膜を具備することを特徴とする。
【0025】
また、前記第2領域に配置された積層膜は、前記非反射領域に対応して配置された複数の着色層のうち2つ以上の着色層と同一材料からなる着色材を有することを特徴とする。
【0026】
このような構成によれば、非反射領域に対応して配置された着色層は、反射領域に対応して配置された着色層と比較して遮光性が高いので、このような着色層を積層することにより遮光性の高い積層膜を得ることができる。
【0027】
また、前記第1領域に配置された着色層は青色であることを特徴とする。
【0028】
本発明の電気光学装置は、上述に記載のカラーフィルタ基板と、前記カラーフィルタ基板に対向配置された対向基板と、前記カラーフィルタ基板と前記対向基板との間に挟持された電気光学物質とを具備することが好ましい。
【0029】
本発明の電気光学装置は、一対の基板間に液晶が挟持された電気光学装置において、反射膜が設けられた反射表示領域および該反射膜が設けられていない透過表示領域を有する画素を複数備えた画素領域と、前記画素領域を囲む遮光膜が配置された第1領域と、前記画素領域において、前記一対の基板のうち一方の基板の前記液晶層側の面に配置された複数の着色層と、を有し、複数の前記着色層のうち、互いに色が異なる前記着色層が配列される方向に前記第1領域と隣りあって配置される着色層が、前記第1領域内まで該方向に沿って延在して形成されていることによって、前記画素領域と前記第1領域との境界付近において、前記着色層には段差がないことを特徴とする。
【0030】
また、前記第1領域に金属膜が配置されていることを特徴とする。
【0031】
また、前記対向基板上には、前記カラーフィルタ基板の第1領域に対応して金属膜が配置されていることを特徴とする。
【0032】
また、前記金属膜はタンタルを有することが好ましい。
【0033】
また、前記金属膜はタンタルを有することを特徴とする。
【0034】
また、前記電気光学物質を挟持した前記カラーフィルタ基板及び前記対向基板に対し光を照射するバックライトを具備することが好ましい。
【0035】
また、前記電気光学物質を挟持した前記カラーフィルタ基板及び前記対向基板に対し光を照射するバックライトを具備することを特徴とする。
【0036】
また、前記電気光学物質は液晶であることが好ましい。
【0037】
また、前記電気光学物質は液晶であることを特徴とする。
【0038】
このように、電気光学物質として液晶を用いることができる。
【0039】
本発明の電子機器は、上述に記載の電気光学装置を具備することを特徴とする。
【0040】
本発明のカラーフィルタ基板の製造方法は、画素領域と該画素領域を囲む第1領域とを有し、第1面を有する基板を備えたカラーフィルタ基板の製造方法であって、前記画素領域の一部及び前記第1領域における前記基板の前記第1面上に、第1着色層を形成する工程と、前記画素領域の一部を少なくとも除く画素領域における前記基板の前記第1面上に、第2着色層を形成する工程を有することが好ましい。
【0041】
本発明のカラーフィルタ基板の製造方法は、画素領域と該画素領域を囲む第1領域とを有し、第1面を有する基板を備えたカラーフィルタ基板の製造方法であって、前記画素領域の一部及び前記第1領域における前記基板の前記第1面上に、第1着色層を形成する工程と、前記画素領域の一部を少なくとも除く画素領域における前記基板の前記第1面上に、第2着色層を形成する工程を有することを特徴とする。
【0042】
また、前記基板は前記第1領域を囲む第2領域を有し、前記第1着色層形成工程及び前記第2着色層形成工程において、前記第2領域における前記基板の前記第1面上に、前記第1着色層及び前記第2着色層が互いに重なってなる積層膜を形成することが好ましい。
【0043】
また、前記基板は前記第1領域を囲む第2領域を有し、前記第1着色層形成工程及び前記第2着色層形成工程において、前記第2領域における前記基板の前記第1面上に、前記第1着色層及び前記第2着色層が互いに重なってなる積層膜を形成することを特徴とする。
【0044】
また、前記基板は前記第1領域を囲む第2領域を有し、前記第1着色層及び前記第2着色層が形成されない前記画素領域における前記基板の前記第1面上に、第3着色層を形成する工程を更に具備し、前記第1着色層形成工程、前記第2着色層形成工程及び前記第3着色層形成工程において、前記第2領域における前記基板の前記第1面上に、前記第1着色層、前記第2着色層及び前記第3着色層が互いが重なってなる積層膜を形成することが好ましい。
【0045】
また、前記基板は前記第1領域を囲む第2領域を有し、前記第1着色層及び前記第2着色層が形成されない前記画素領域における前記基板の前記第1面上に、第3着色層を形成する工程を更に具備し、前記第1着色層形成工程、前記第2着色層形成工程及び前記第3着色層形成工程において、前記第2領域における前記基板の前記第1面上に、前記第1着色層、前記第2着色層及び前記第3着色層が互いが重なってなる積層膜を形成することを特徴とする。
【0046】
また、前記第2領域における前記第1面からの前記積層膜の高さは、前記画素領域における前記第1面からの前記着色層の高さより低いことが好ましい。
【0047】
また、前記第2領域における前記第1面からの前記積層膜の高さは、前記画素領域における前記第1面からの前記着色層の高さより低いことを特徴とする。
【0048】
また、前記画素領域における前記基板の前記第1面上に反射膜を形成する工程を更に具備し、該反射膜形成工程後、前記着色層が形成されることが好ましい。
【0049】
また、前記画素領域における前記基板の前記第1面上に反射膜を形成する工程を更に具備し、該反射膜形成工程後、前記着色層が形成されることを特徴とする。
【0050】
また、前記画素領域における前記基板の前記第1面上に光散乱用樹脂層を形成する工程を更に具備し、該光散乱用樹脂層形成工程後、前記反射膜が形成されることが好ましい。
【0051】
また、前記画素領域における前記基板の前記第1面上に光散乱用樹脂層を形成する工程を更に具備し、該光散乱用樹脂層形成工程後、前記反射膜が形成されることを特徴とする。
【0052】
また、前記第1着色層は青色であることが好ましい。
【0053】
また、前記第1着色層は青色であることを特徴とする。
【0054】
また、前記第2着色層は赤色であることが好ましい。
【0055】
また、前記第2着色層は赤色であることを特徴とする。
【0056】
本発明は、基板及び該基板に対向配置された対向基板と、反射領域及び非反射領域を有する複数の画素を備えた画素領域と、前記画素領域の周辺に設けられた第1領域及び該第1領域の周辺に設けられた第2領域とを有する電気光学装置の製造方法であって、前記反射領域に反射膜を形成する工程と、前記画素領域に、第1反射用着色層及び第1非反射用着色層を含む複数の着色層を形成する工程とを有し、前記複数の着色層を形成する工程では、前記第1反射用着色層を前記反射領域に形成すると同時に、前記第1領域にも前記第1反射用着色層を形成し、前記非反射領域に前記第1非反射用着色層を形成することを特徴とする。
【0057】
本発明の他のカラーフィルタ基板の製造方法は、反射領域及び非反射領域を有する画素が配置される画素領域と、該画素領域を囲む第1領域とを有する第1面を有する基板を備えたカラーフィルタ基板の製造方法であって、前記反射領域の一部及び前記第1領域における前記基板の前記第1面上に第1反射用着色層を形成する工程と、前記反射領域の一部を少なくとも除く前記反射領域における前記基板の前記第1面上に、第2反射用着色層を形成する工程と、前記非反射領域の一部における前記基板の前記第1面上に第1非反射用着色層を形成する工程と、前記非反射領域の一部を少なくとも除く前記非反射領域における前記基板の前記第1面上に、第2非反射用着色層を形成する工程とを有することを特徴とする。
このような構成によれば、第1領域に画素領域に配置された着色層と同一工程及び同一材料で着色層を形成するので、第1領域に着色層を別に形成する工程を設ける必要がない。また、このような製造方法により製造されたカラーフィルタ基板は、半透過反射型液晶装置に用いることができる。この場合、透過表示に用いられる非反射用着色層の厚みと、反射表示に用いられる反射用着色層の厚みが異なり、更に、非反射用着色層を囲むように反射用着色層が位置する構造をとる場合、このような製造方法によりカラーフィルタ基板を製造することにより、画素領域と第1周辺領域との境界付近において着色層の厚みによる段差が生じることがない。すなわち、マクロ的に画素領域を観察すると、画素領域の外周部は反射用着色層が位置することになるので、この反射用着色層の形成と同一工程かつ同一部材で第1周辺領域に着色層を設けることにより画素領域と第1周辺領域との境界付近において着色層の厚みの違いによる段差が生じることがない。これにより、このようなカラーフィルタ基板を電気光学装置に組み込んだときに、画素領域と第1領域との境界付近におけるセルギャップの変化を小さくすることができ、液晶の配向不良による表示品位の低下を防止できる。
【0058】
また、前記複数の着色層は、第2非反射用着色層を含み、前記複数の着色層を形成する工程では、前記画素領域の非反射領域に前記第1非反射用着色層及び前記第2非反射用着色層を形成すると同時に、前記第2領域に前記第1非反射用着色層及び前記第2非反射用着色層が互いに重なってなる積層膜を形成することを特徴とする。
【0059】
このような構成によれば、積層膜を、画素領域における着色層の形成工程と同一工程で形成することができ、製造工程数を増やすことなく、遮光機能を有する積層膜を形成することができる。
【0060】
また、前記複数の着色層は、第3非反射用着色層を含み、前記複数の着色層を形成する工程では、前記画素領域の非反射領域に前記第1非反射用着色層、前記第2非反射用着色層及び前記第3非反射用着色層を形成すると同時に、前記第2領域に前記第1非反射用着色層、前記第2非反射用着色層及び前記第3非反射用着色層が互いに重なってなる積層膜を形成することを特徴とする。
【0061】
このような構成によれば、3層構造の積層膜を、画素領域における着色層の形成工程と同一工程で形成することができ、製造工程数を増やすことなく、遮光機能を有する積層膜を形成することができる。
【0062】
また、前記反射領域は前記非反射領域を囲むように配置され、前記反射領域における前記基板の前記第1面上に反射膜を形成する工程を更に具備し、該反射膜形成工程後、前記着色層が形成されることが好ましい。
【0063】
このように、反射機構として反射膜を形成することができる。
【0064】
また、前記画素領域における前記基板の前記第1面上に光散乱用樹脂層を形成する工程を更に具備し、該光散乱用樹脂層形成工程後、前記反射膜が形成されることが好ましい。
【0065】
このように、光散乱用樹脂層を形成することができる。
【0066】
また、前記反射領域に配置される前記反射用着色層の厚みと、前記非反射領域に配置される前記非反射用着色層の厚みとが異なることが好ましい。
【0067】
このように、反射領域に配置される着色層の厚みと、非反射領域、言い換えると透過領域に配置される着色層の厚みを異ならせることにより、カラーフィルタ基板を電気光学装置に組み込んだときに、透過型表示及び反射型表示のどちらでも同じカラー表示品位とすることができる。
【0068】
また、前記第1反射用着色層は青色であることが好ましい。
【0069】
このように第1反射用着色層として青色を用いることができ、これにより第1領域に形成される着色層は青色となる。一般に着色層としては、青、緑、赤の3原色が用いられ、このうち青色がもっとも遮光性が高いので、第1領域に配置する着色層として青色を用いることにより遮光機能を持たせることができる。
【0070】
本発明の電気光学装置の製造方法は、カラーフィルタ基板と対向配置との間に電気光学物質を挟持した電気光学装置の製造方法において、前記カラーフィルタ基板は、上述に記載のカラーフィルタ基板の製造方法によって製造されたことが好ましい。
【0071】
本発明のこのような構成によれば、表示品位の高い電気光学装置を得ることができる。
【0072】
【発明の実施の形態】
(第1実施形態)
以下、本発明を、電気光学装置として、TFD素子をスイッチング素子として用いるアクティブマトリクス方式でCOG方式の半透過反射型液晶装置に適用した場合を例にあげ、図面を用いて説明する。尚、図面においては、各構成をわかりやすくするために、実際の構造と各構成における縮尺や数などが異なっている。
【0073】
図1は、その液晶装置の一実施形態を示す平面図であり、図2は、図1に示す液晶装置における画素領域、第1周辺領域及び第2周辺領域の位置関係を説明するための平面図である。
【0074】
図1に示す液晶装置1は、図面の手前側に配置された対向基板2aと、図面の奥側に配置されたカラーフィルタ基板2bとをシール材によって互いに接合、すなわち貼りあわせることによって形成される。
【0075】
シール材3、対向基板2a及びカラーフィルタ基板2bによって囲まれる領域は、高さが一定の間隙、いわゆるセルギャップを構成する。更に、シール材3の一部には液晶注入口3aが形成される。上記のセルギャップ内には、上記液晶注入口3aを通して液晶が注入され、その注入の完了後、液晶注入口3aが樹脂などによって封止される。
【0076】
各基板の詳細な構造については後述するが、図1及び図2に示すように、液晶装置1は、表示画面にほぼ相当する画素領域100と、この画素領域100を囲むように第1周辺領域101と、更にこの第1周辺領域101を囲む第2周辺領域102を有している。第1周辺領域101及び第2周辺領域102は、ともに遮光領域として機能する。第2周辺領域102は、第2周辺領域102の外縁部とシール材3の内縁部が重なりあるように配置されている。
【0077】
各基板の詳細な構造については後述するが、図1及び図2に示すように、液晶装置1は、表示画面にほぼ相当する画素領域100と、この画素領域100を囲むように第1周辺領域101と、更にこの第1周辺領域101を囲む第2周辺領域102を有している。第1周辺領域101及び第2周辺領域102は、ともに遮光領域として機能する。第1周辺領域102は、第1周辺領域102の外縁部とシール材3の内縁部が重なりあるように配置されている。
【0078】
図3は、図1のIII−III線に従って切断した液晶装置の断面構造を示す部分断面図である。図4は、図1のIV−IV線に従って切断した液晶装置の断面構造を示す部分断面図である。液晶装置1は、対向基板2aとカラーフィルタ基板2bとの間隙に、電気光学物質としての液晶110を挟持して構成される。対向基板2aとカラーフィルタ基板2bとの間隙は、スペーサ111によって保持されている。更に、カラーフィルタ基板2bの裏側(図3及び図4に示す構造の下側)には、発光源7及び導光体8を有する照明装置10がバックライトとして設けられている。
【0079】
図3及び図4において、対向基板2aは基板9aを有し、その基板9aの表面、すなわち液晶110側の表面に複数の画素電極14aが配置される。また、図1に示すように、対向基板2aの内側表面には、直線状の複数のライン配線32が互いに平行にストライプ状に配置され、そのライン配線32に導通するようにTFD素子33が配置され、それらのTFD素子33を介して複数の画素電極14aがマトリクス状に配置される。また、画素電極14a、TFD素子33及びライン配線32の上に、図3及び図4に示すように、配向膜16aが配置される。また、基板9aの外側表面には位相差板17aが配置され、さらにその上に偏光板18aが配置される。
【0080】
図1において矢印VIIで示す1個のTFD素子の近傍の構造を示すと、例えば図7の通りである。図7に示すのは、いわゆるBack−To−Back(バック/ツー・バック)構造のTFD素子を用いたものである。図7において、ライン配線32は、例えばTaW(タンタル・タングステン)によって形成された第1層32aと、例えば陽極酸化膜であるTa2O5(酸化タンタル)によって形成された第2層32bと、例えばCrによって形成された第3層32cとからな成る3層構造に形成されている。
【0081】
第1TFD部33aは、ライン配線32側からの電流が第2金属層38→絶縁層37→第1金属層36の順で流れるような積層構造に構成される。他方、第2TFD部33bは、ライン配線32側からの電流が第1金属層36→絶縁層37→第2金属層38の順で流れるような積層構造に構成される。このように一対のTFD部33a及び33bを電気的に逆向きに直列接続してバック・ツー・バック構造のTFD素子を構成することにより、TFD素子のスイッチング特性の安定が達成されている。画素電極14aは、第2TFD部33bの第2金属層38に導通するように、例えばITOによって形成される。
【0082】
第1TFD部33aは、ライン配線32側からの電流が第2金属層38→絶縁層37→第1金属層36の順で流れるような積層構造に構成される。他方、第2TFD部33bは、ライン配線32側からの電流が第1金属層36→絶縁層37→第2金属層38の順で流れるような積層構造に構成される。このように一対のTFD部33a及び33bを電気的に逆向きに直列接続してバック・ツー・獏構造のTFD素子を構成することにより、TFD素子のスイッチング特性の安定が達成されている。画素電極14aは、第2TFD部33bの第2金属層38に導通するように、例えばITOによって形成される。
【0083】
また、対向基板2a上には、第1周辺領域101に対応して、額縁状に金属膜130が配置されている。この金属膜130は、例えばライン配線32のTaW(タンタル・タングステン)によって形成された第1層32aと、陽極酸化膜であるTa2O5(酸化タンタル)によって形成された第2層32bとの積層構造とすることができ、TFD素子の形成と同一工程で金属膜130を形成することができる。また、金属膜130としては、TFD素子を構成している第1層32aと同じ工程で成膜されたTaW(タンタル・タングステン)層の単層であってもよい。
【0084】
図3及び図4において、カラーフィルタ基板2bは、第1面109aを有する基板9bを有している。基板9bの第1面109a、すなわち液晶110側の表面には、例えばアクリル系またはエポキシ系の樹脂材料等から形成される1.4〜2.6μmの散乱用樹脂層81が配置され、更にこの散乱用樹脂層81上に光反射性の材料、例えばAlからなる160〜260nmの反射膜11が配置されている。尚、図面では省略しているが、散乱用樹脂層81の反射膜11と接する側の面は凹凸を有しており、反射膜11はこの凹凸に沿って成膜され、反射膜11の表面は凹凸を有した状態となっている。また、反射膜11には、1ドット毎に光を通過させる開口11aが形成されている。すなわち、外光を利用して表示を行う反射型液晶装置として機能する場合には、液晶装置1に入射した外光が反射膜11に反射し、この反射光を用いて表示が行われ、バックライト10を利用して表示を行う透過型液晶装置として機能する場合には、バックライト10から出射した光が、反射膜11に形成された開口11aを通ることによって表示が行われる。本実施形態においては、反射膜11の一部に開口を設けて、半透過反射機能を達成しているが、例えば、反射膜の厚さを光が透過可能な程度に薄く形成することによって半透過反射の機能を達成させることもできる。また、本実施形態においては、外光からの光を効率よく散乱するため、表面に凹凸を有する散乱用樹脂層81に反射膜11を成膜して、反射膜11の表面に凹凸を設けているが、散乱用樹脂層81を設けずに、フロスト処理等によって基板9bの表面に凹凸を設け、基板9bの凹凸領域に反射膜11を設けることによって反射膜11の表面に凹凸を設けても良い。また、散乱用樹脂層81を設けずに、基板9bの平坦な表面に反射膜11を設け、反射膜11の表面を平坦なものとし、基板9aの外面側に散乱を生じさせるための散乱層を設ける構成としてもよい。
【0085】
更に、反射膜11上には、カラーフィルタ膜及び1.4〜2.6μmの厚さのオーバーコート層13が配置され、その上に第2電極14bが配置され、さらにその上に配向膜16bが配置されている。また、基板9bの外側表面には、位相差版17bが配置され、更にその上に偏光板18bが配置されている。
【0086】
第2電極14bは、図1に示すように、多数の直線状の電極をライン配線32と交差するように互いに平行に並べることによりストライプ状に形成されている。尚、図1では、電極パターンを分かりやすくするために、第2電極14bの間隔を大きく広げて模式的に描いてあるが、実際には、第2電極14bの間隔は画素電極14aのドットピッチに合わせて非常に狭く形成されている。
【0087】
画素電極14aと第2電極14bとの交差点はドットマトリクス状に配列しており、これらの交差点の個々がそれぞれ1つのドットを構成し、図3及び図4のカラーフィルタ膜の個々の着色層パターンがその1ドットに対応する。
【0088】
次に、図3、図4及び図6を用いて、カラーフィルタ膜及び反射膜との位置関係、これらの構造について説明する。図6は、図1に示す液晶装置1のカラーフィルタ基板2bにおける反射膜11、着色層及び第2電極の位置関係を説明する概略斜視図である。図に示すように、液晶装置1は、1ドット毎に、反射膜11の開口11aが1つ設けられた構造となっている。1つのドットに対応する反射膜11の構造は、透過用として用いられる非反射領域170に位置する開口11aを囲むように、反射用として用いられる反射領域171に位置する反射膜11が設けられた状態となっている。また、反射用青色着色層150B、反射用赤色着色層150R、反射用緑色着色層150Gは、それぞれ第2電極14bにほぼ沿ってストライプ状に形成されており、反射膜11の開口11aに対応する位置には着色層が形成されていない。一方、非反射用青色着色層160B、非反射用赤色着色層160R、非反射用緑色着色層160Gは、それぞれ第2電極14bにほぼ沿って直線状に同一色が配置されるように、反射膜11の開口11aに対応して着色層が形成されている。反射用着色層150と、非反射用着色層160、言い換えると透過用着色層とでは、用いられる着色層材料と厚みが異なっている。具体的には、反射用着色層150及び非反射用着色層160にはいずれもアクリル樹脂、エポキシ樹脂、ポリイミド樹脂などの有機樹脂が用いられるが、それぞれに分散される顔料などの量が異なる。また、本実施形態においては、反射用着色層150は1μmの厚みで形成されるのに対し、非反射用着色層160は1.5μmの厚みで形成される。また、反射用着色層150及び非反射用着色層160は、いずれもそれぞれが青色用着色層がもっとも遮光性が高く、次に遮光性が高い着色層は赤色用着色層となっている。尚、図において、反射膜11に形成される開口11aは、空間が存在しているように描かれているが、反射膜11は着色層150及び160と比較して十分に厚さが薄いので、実際には、開口11a部分は着色層160が埋没している状態となっている。
【0089】
次に、図3、図4及び図6を用いて、カラーフィルタ膜及び反射膜との位置関係、これらの構造について説明する。図6は、図1に示す液晶装置1のカラーフィルタ基板2bにおける反射膜11、着色層及び第2電極の位置関係を説明する概略斜視図である。図に示すように、液晶装置1は、1ドット毎に、反射膜11の開口11bが1つ設けられた構造となっている。1つのドットに対応する反射膜11の構造は、透過用として用いられる非反射領域170に位置する開口11aを囲むように、反射用として用いられる反射領域171に位置する反射膜11が設けられた状態となっている。また、反射用青色着色層150B、反射用赤色着色層150R、反射用緑色着色層150Gは、それぞれ第2電極14bにほぼ沿ってストライプ状に形成されており、反射膜11の開口11aに対応する位置には着色層が形成されていない。一方、非反射用青色着色層160B、非反射用赤色着色層160R、非反射用緑色着色層160Gは、それぞれ第2電極14bにほぼ沿って直線状に同一色が配置されるように、反射膜11の開口11aに対応して着色層が形成されている。反射用着色層150と、非反射用着色層160、言い換えると透過用着色層とでは、用いられる着色層材料と厚みが異なっている。具体的には、反射用着色層150及び非反射用着色層160にはいずれもアクリル樹脂、エポキシ樹脂、ポリイミド樹脂などの有機樹脂が用いられるが、それぞれに分散される顔料などの量が異なる。また、本実施形態においては、反射用着色層150は1μmの厚みで形成されるのに対し、非反射用着色層160は1.5μmの厚みで形成される。また、反射用着色層150及び非反射用着色層160は、いずれもそれぞれが青色用着色層がもっとも遮光性が高く、次に遮光性が高い着色層は赤色用着色層となっている。尚、図において、反射膜11に形成される開口11aは、空間が存在しているように描かれているが、反射膜11は着色層150及び160と比較して十分に厚さが薄いので、実際には、開口11a部分は着色層160が埋没している状態となっている。
【0090】
本実施形態では、図3及び図4、図1の線V−V線に従った断面図である図5に示すように、カラーフィルタ基板2bにおいて、第1周辺領域101には、画素領域100に配置された反射用青色着色層150Bと同一工程かつ同一材料からなる着色材で形成された第1周辺領域用着色層として第1周辺用青色着色層120が額縁状に配置されている。これにより、画素領域100と第1周辺領域101との境界付近において着色層は段差が生じることがない。すなわち、本実施形態においては、1ドットに対応する着色層は、非反射用着色層160を囲むように反射用着色層150が位置する構造となっているので、マクロ的に画素領域を観察すると、画素領域の外周部は反射用着色層150が位置することになるので、この反射用着色層150の形成と同一工程かつ同一部材で第1周辺領域101に第1周辺用着色層120を設けることにより画素領域100と第1周辺領域101との境界付近において着色層の厚みの違いによる段差が生じることがない。更に、本実施形態においては、第1周辺領域101の内周縁部と少なくとも重なるように散乱用樹脂層81及び反射膜11が延在して形成され、また、オーバーコート層13及び配向膜16bも第1周辺領域101の内周縁部と少なくとも重なるように延在して形成されている。このため、画素領域100と第1周辺領域101との境界付近において、カラーフィルタ基板2b上に形成された膜は連続的になり、膜厚の変化が小さくなる。従って、画素領域100と第1周辺領域101との境界付近におけるセルギャップの変化を従来の構造と比較して緩和することができ、液晶の配向不良による表示品位の低下を防止できる。
【0091】
また、本実施形態においては、第1周辺領域101に着色層を配置しているので、バックライトからの光漏れを遮光することができ、また、本実施形態においては、第1周辺用着色層として遮光性の高い青色を用いているので、バックライトからの光漏れを、他の赤色や緑色を用いた場合と比較してより高く遮光することができる。尚、本実施形態においては、第1周辺用着色層として青色を用いたが、赤色や緑色を用いても良いが、好ましくは遮光性の高い青色または赤色を用いることが望ましい。更に、上述したように、第1周辺領域101に対応して、対向基板2a上には金属膜130が形成されているので、バックライトからの光漏れを更に遮光することができ、画素領域のコントラストを高め、表示品位の高い液晶装置を得ることができる。
【0092】
カラーフィルタ基板2bにおいて、第2周辺領域102には、画素領域100に配置された非反射用青色着色層160B、非反射用赤色着色層160R、非反射用緑色着色層160Gとそれぞれ同一工程かつ同一材料からなる着色材で形成された3色の着色層、第2周辺領域用青色着色層140B、第2周辺領域用赤色着色層140R、第2周辺領域用緑色着色層140Gが積層された積層膜140が額縁状に配置されている。このように、第1周辺領域101を囲んで、更に第2周辺領域102に積層膜140の遮光膜を形成することにより、バックライトからの光漏れを更に遮光することができ、より表示品位の高い液晶装置を得ることができる。尚、本実施形態においては、積層膜140として、3色の着色層を積層したが、2色の着色層を積層してもよく、その場合、遮光性の高い順に青色着色層、赤色着色層を積層することが好ましい。また、積層膜140のカラーフィルタ基板2bの第1面109aからの高さaは、画素領域100におけるカラーフィルタ基板2bの第1面109aからのカラーフィルタ膜の高さbよりも低いことが望ましい。これは、高さaが高さbよりも高いと、液晶装置1としたときにスペーサ111が移動してしまって、基板面内でセルギャップが不均一と成ってしまう場合があるからである。
【0093】
上述の基板9a及び9bは、例えば、ガラス、プラスチックなどによって形成される。また、上述の電極14aおよび14bは、例えばITO(IndiumTin Oxide)を周知の膜付け法、例えばスパッタ法、真空蒸着法を用いて膜付けし、更にフォトエッチング法によって希望のパターンに形成される。配向膜16a及び16bは、例えば、ポリイミド溶液を塗布した後に焼成する方法や、オフセット印刷法などによって形成される。
【0094】
図1において、対向基板2aの基板張り出し部2c上には、ライン配線32の第3層32cに接続されている配線19aと、シール材3の中に分散された導通材21(図5参照)を介してカラーフィルタ基板2b上の第2電極14bに接続される配線19bとが形成される。配線19aの構成としては、例えば、第3層32cと同じ工程で成膜したCr(クロム)層に、第2電極14bと同じ工程で成膜したITO(インジウムチンオキサイド)層の積層構造のものを用いることができる。また、配線19aの構造として、第3層32cと同じ工程で成膜したCr(クロム)層に、TFD素子を構成している第1層32aと同じ工程で成膜したTaW(タンタルタングステン)層、TFD素子を構成している第2層32bと同じ工程で成膜したTa2O5(酸化タンタル)層、又は第2電極14bと同じ工程で成膜したITO(インジウムチンオキサイド)層が積層された構造を用いることができる。また、基板張り出し部2cの辺端部には端子22が形成される。なお、配線19aと第2電極14bとが導通材21によって接続されるそれぞれの部分は、端子として機能する。
【0095】
図3〜図5では、液晶装置1の全体をわかりやすく示すために、導通材21を断面楕円状に模式化して示してあるが、実際は、導通材21は球状または円筒状に形成され、その大きさはシール材3の線幅に対して非常に小さいものである。よって、導通材21はシール材3の線幅方向に複数存在することができる。
【0096】
本実施形態に係る液晶装置1は、半透過反射型表示によって表示を行う。この半透過反射型表示のうち反射型表示の場合では、図3〜図5において対向基板2a側の外部から取り込んだ光を反射膜11によって反射させて液晶110の層へ供給する。この状態で、液晶110に印加する電圧を画素毎に制御して液晶の配向を画素毎に制御することにより、液晶110の層へ供給された光を画素毎に変調し、その変調した光を偏光板18aへ供給する。これにより、文字などといった像を表示する。一方、透過型表示の場合では、図3〜図5においてバックライト10から出射された光を液晶110の層へ供給する。この状態で、液晶110に印加する電圧を画素毎に制御して液晶の配向を画素毎に制御することにより、液晶110の層へ供給された光を画素毎に変調し、その変調した光を偏光板18aへ供給する。これにより、文字などといった像を表示する。
【0097】
尚、本実施形態において、画素領域とは、表示に関与する有効表示領域と、この有効表示領域の外周を囲むように配置されるダミー画素領域とを含む。ダミー画素領域は、形式的には有効表示領域中の画素電極と同じ形状のパターンが形成される。しかしながら、ここに形成されるパターンはITO等といった透明電極材料ではなくて、電極に相当する部分に非透明な金属膜が被されている。これにより、ダミー画素領域は遮光領域となっている。
【0098】
次に、上記で説明した液晶装置の製造方法について説明する。
【0099】
はじめに、液晶装置の一部を構成するカラーフィルタ基板2bの製造方法について図8及び図9を用いて説明する。
【0100】
図8(a)に示すように、基板9bの第1面109b上に、画素領域100及び第1周辺領域101の一部に対応した領域に、アクリル系またはエポキシ系の樹脂材料から形成される厚さ1.4〜2.6μmの散乱用樹脂層81を形成する。散乱用樹脂層81の表面は凹凸を有しているが、ここでは図示を省略する。
【0101】
次に、図8(b)に示すように、スパッタ法などにより散乱用樹脂層81上にAl膜を成膜した後、フォトリソグラフィ工程により開口11aを有する反射膜11を形成する。
【0102】
次に、反射膜11及び散乱用樹脂層81を覆うように基板全面に、反射用青色着色層の材料をスピンコートなどにより塗布した後、この塗布膜をフォトリソグラフィ法を用いて、図8(c)に示すように、画素領域100の反射用青色着色層が配置される領域に反射用青色着色層150B、第1周辺領域101に第1周辺用着色層120が形成されるようにパターニングする。
【0103】
次に、反射膜11、散乱用樹脂層81及び着色層150B及び120を覆うように基板全面に、反射用赤色着色層の材料をスピンコートなどにより塗布した後、この塗布膜をフォトリソグラフィ法を用いて、図8(d)に示すように、画素領域100の反射用赤色着色層が配置される領域に反射用赤色着色層150Rが形成されるようにパターニングする。
【0104】
次に、反射膜11、散乱用樹脂層81及び着色層150B、150R及び120を覆うように基板全面に、反射用緑色着色層の材料をスピンコートなどにより塗布した後、この塗布膜をフォトリソグラフィ法を用いて、図8(e)に示すように、画素領域100の反射用緑色着色層が配置される領域に反射用緑色着色層150Gが形成されるようにパターニングする。
【0105】
次に、反射膜11、散乱用樹脂層81及び着色層150B、150R、150G及び120を覆うように基板全面に、非反射用青色着色層の材料をスピンコートなどにより塗布した後、この塗布膜をフォトリソグラフィ法を用いて、図9(a)に示すように、画素領域100の非反射用緑色着色層が配置される領域に非反射用緑色着色層160B、第2周辺領域102の積層膜が配置される領域に第2周辺領域用青色着色層140Bが形成されるようにパターニングする。
【0106】
次に、反射膜11、散乱用樹脂層81及び着色層150B、150R、150G、160B、140B及び120を覆うように基板全面に、非反射用赤色着色層の材料をスピンコートなどにより塗布した後、この塗布膜をフォトリソグラフィ法を用いて、図9(b)に示すように、画素領域100の非反射用赤色着色層が配置される領域に非反射用赤色着色層160R、第2周辺領域102の積層膜が配置される領域に第2周辺領域用赤色着色層140Rが形成されるようにパターニングする。第2周辺領域用赤色着色層140Rは、第2周辺領域用青色着色層140B上に積層される。
【0107】
次に、反射膜11、散乱用樹脂層81及び着色層150B、150R、150G、160B、160R、140B、140R及び120を覆うように基板全面に、非反射用赤色着色層の材料をスピンコートなどにより塗布した後、この塗布膜をフォトリソグラフィ法を用いて、図9(c)に示すように、画素領域100の非反射用緑色着色層が配置される領域に非反射用緑色着色層160G、第2周辺領域102の積層膜が配置される領域に第2周辺領域用緑色着色層140Gが形成されるようにパターニングする。第2周辺領域用緑色着色層140Gは、第2周辺領域用赤色着色層140R上に積層される。これにより色が異なる3色の着色層が積層された積層膜140が形成される。
【0108】
その後、スピンコートなどにより透明樹脂材料を着色層上に塗布し、オーバーコート層13を形成し、次に、このオーバーコート層13上に例えばスパッタ法などによりITO膜を成膜した後、フォトエッチング法によって所望のパターンにエッチングして、第2電極14bを形成する。その後、配向膜16aを形成して、図9(d)に示すようにカラーフィルタ基板2bが製造される。
【0109】
以上のように製造されたカラーフィルタ基板2bと既知の方法で製造された対向基板2aとをシール材3により貼りあわせ、2枚の基板間に液晶を注入して液晶セルを製造する。その後、この液晶セルに位相差板17a及び17b、偏光板18a及び18bを配置し、更にバックライト9を配置して、液晶装置1が製造される。
【0110】
(第2実施形態)
上述の第1実施形態における液晶装置では、半透過反射型に適用した場合を例にあげたが、反射型液晶装置にも適用できることはいうまでもない。
【0111】
以下に、第2実施形態における反射型液晶装置1001を図10〜図12を用いて説明する。第実施形態における液晶装置1001は、第1実施形態における液晶装置1と比較して、バックライトがない点、反射膜11に開口11aがない点、カラーフィルタ膜の構造が異なる点で相違し、以下、第1実施形態と同様の構造については説明を省略し、異なる点について説明する。また、図10〜図12は、それぞれ上述の第1実施形態における図3〜図5にそれぞれ相当する。
【0112】
本実施形態における反射型液晶装置1001は、バックライトを用いずに、外光の光のみを用いて表示する。このため、第1実施形態の液晶装置1の反射膜11のように開口11aは不要となっている。また、第1実施形態にように非反射用着色層(透過用着色層)は不要であるので、反射用着色層1150が配置されている。
【0113】
カラーフィルタ膜は、第1着色層としての反射用青色着色層1150B、第2着色層としての反射用赤色着色層1150R、第3着色層としての反射用緑色着色層1150Gから構成されている。各着色層1150は、第2電極14bに沿ってストライプ状に形成されている。
【0114】
カラーフィルタ基板2bにおいて、第1周辺領域101には、画素領域100に配置された反射用青色着色層1150Bと同一工程かつ同一材料からなる着色材で形成された第1周辺領域用着色層として第1周辺用青色着色層1120が額縁状に配置されている。これにより、画素領域100と第1周辺領域101との境界付近において着色層の厚みの違いによる段差が生じることがない。更に、本実施形態においては、第1周辺領域101の内周縁部と少なくとも重なるように散乱用樹脂層81及び反射膜11が延在して形成され、また、オーバーコート層13及び配向膜16bも第1周辺領域101の内周縁部と少なくとも重なるように延在して形成されている。このため、画素領域100と第1周辺領域101との境界付近において、カラーフィルタ基板2b上に形成された膜は連続的になり、膜厚の変化が小さくなる。従って、画素領域100と第1周辺領域101との境界付近におけるセルギャップの変化を従来の構造と比較して緩和することができ、液晶の配向不良による表示品位の低下を防止できる。
【0115】
本実施形態においては、第1周辺用着色層として青色を用いたが、赤色や緑色を用いても良いが、好ましくは遮光性の高い青色または赤色を用いることが望ましい。また、第1実施形態と同様に、第1周辺領域101に対応して、第1周辺用着色層を設けているのに加え、対向基板2a上には金属膜130が形成されているので、画素領域のコントラストを高め、表示品位の高い液晶装置を得ることができる。
【0116】
カラーフィルタ基板2bにおいて、第2周辺領域102には、画素領域100に配置された反射用青色着色層1150B、反射用赤色着色層1150R、反射用緑色着色層1150Gとそれぞれ同一工程かつ同一材料からなる着色材で形成された3色の着色層、第2周辺領域用青色着色層1140B、第2周辺領域用赤色着色層1140R、第2周辺領域用緑色着色層1140Gが積層された積層膜1140が額縁状に配置されている。このように、第1周辺領域101を囲んで、更に第2周辺領域102に積層膜140の遮光膜を形成することにより、より表示品位の高い液晶装置を得ることができる。尚、本実施形態においては、積層膜1140として、3色の着色層を積層したが、2色の着色層を積層してもよく、その場合、遮光性の高い順に青色着色層、赤色着色層を積層することが好ましい。
【0117】
次に、上記で説明した液晶装置の製造方法について説明する。
【0118】
はじめに、液晶装置の一部を構成するカラーフィルタ基板2bの製造方法について図13を用いて説明する。
【0119】
図13(a)に示すように、基板9bの第1面109b上に、画素領域100及び第1周辺領域101の一部に対応した領域に、アクリル系またはエポキシ系の樹脂材料等から形成される厚さ1.4〜2.6μmの散乱用樹脂層81を形成する。散乱用樹脂層81の表面は凹凸を有しているが、ここでは図示を省略する。
【0120】
次に、図13(b)に示すように、スパッタ法などにより散乱用樹脂層81上にAl膜を成膜した後、フォトリソグラフィ工程によりる反射膜11を形成する。
【0121】
次に、反射膜11及び散乱用樹脂層81を覆うように基板全面に、反射用青色着色層の材料をスピンコートなどにより塗布した後、この塗布膜をフォトリソグラフィ法を用いて、図13(c)に示すように、画素領域100の反射用青色着色層が配置される領域に反射用青色着色層1150B、第1周辺領域101に第1周辺用着色層1120、第2周辺領域102に第2周辺用着色層1140Bが形成されるようにパターニングする。
【0122】
次に、反射膜11、散乱用樹脂層81及び着色層1150B、1140B及び1120を覆うように基板全面に、反射用赤色着色層の材料をスピンコートなどにより塗布した後、この塗布膜をフォトリソグラフィ法を用いて、図13(d)に示すように、画素領域100の反射用赤色着色層が配置される領域に反射用赤色着色層1150R、第2周辺領域102に第2周辺用着色層1140Rが形成されるようにパターニングする。
【0123】
次に、反射膜11、散乱用樹脂層81及び着色層1150B、1150R、1140B、1140R及び1120を覆うように基板全面に、反射用緑色着色層の材料をスピンコートなどにより塗布した後、この塗布膜をフォトリソグラフィ法を用いて、図13(d)に示すように、画素領域100の反射用緑色着色層が配置される領域に反射用緑色着色層1150G、第2周辺領域102に第2周辺用着色層1140Gが形成されるが形成されるようにパターニングする。これにより色が異なる3色の着色層が積層された積層膜1140が形成される。
【0124】
その後、スピンコートなどにより透明樹脂材料を着色層上に塗布し、オーバーコート層13を形成し、次に、このオーバーコート層13上に例えばスパッタ法などによりITO膜を成膜した後、フォトエッチング法によって所望のパターンにエッチングして、第2電極14bを形成する。その後、配向膜16aを形成して、図13(e)に示すようにカラーフィルタ基板2bが製造される。
【0125】
以上のように製造されたカラーフィルタ基板2bと既知の方法で製造された対向基板2aとをシール材3により貼りあわせ、2枚の基板間に液晶を注入して液晶セルを製造する。その後、この液晶セルに位相差板17a及び17b、偏光板18a及び18bを配置して、液晶装置1001が製造される。
【0126】
(第3実施形態)
図14は本発明に係る電子機器の一実施形態であるモバイル型のパーソナルコンピュータを示している。ここに示すコンピュータ50は、キーボード51を備えた本体部52と、液晶表示ユニット53とから構成されている。液晶表示ユニット53は筐体部としての外枠に液晶装置54が組み込まれてなり、この液晶装置54は、例えば第1実施形態に示した液晶装置1を用いて構成できる。
【0127】
(第4実施形態)
図15は、本発明に係る電子機器の他の実施形態である携帯電話機を示している。ここに示す携帯電話機60は、複数の操作ボタン61の他、受話口62、送話口63を有する筐体部としての外枠に、液晶装置64が組み込まれてなる。この液晶装置64は、例えば第1実施形態に示した液晶装置1や第2実施形態に示した液晶装置1001を用いて構成できる。
【0128】
(第5実施形態)
図16は、本発明に係る電子機器の更に他の実施形態であるデジタルスチルカメラを示している。通常のカメラは、被写体の光像によってフィルムを感光するのに対し、デジタルスチルカメラ70は、被写体の光像をCCD(ChargeCoupled Device)などといった撮像素子により光電変換して撮像信号を生成するものである。
【0129】
ここで、デジタルスチルカメラ70における筐体としてのケース71の背面には、液晶装置74が設けられ、CCDによる撮像信号に基づいて表示を行う構成となっている。このため、液晶装置74は、被写体を表示するファインダとして機能する。また、ケース71の前面側(図14に示す構造の裏面側)には、光学レンズやCCDなどを含んだ受光ユニット72が設けられている。液晶装置74は、例えば第1実施形態に示した液晶装置1や第2実施形態に示した液晶装置1001を用いて構成できる。撮影者は、液晶装置74に表示された被写体を確認して、シャッタボタン73を押下して撮影を行う。
【0130】
図17は、図14〜図16に示す電子機器に用いられる電気制御系の一実施形態を示している。ここに示した電気制御系は、表示情報出力源90、表示情報処理回路91、電源回路92、タイミングジェネレータ93、そして表示装置としての液晶装置94を有する。また、液晶装置94は液晶パネル95及び駆動回路96を有する。液晶装置94は、例えば図1実施形態に示した液晶装置1や第2実施形態に示した液晶装置1001を用いて構成できる。
【0131】
表示情報出力源90は、ROM、RAM等といっためもり、各種ディスクなどといったストレージユニット、デジタル画像信号を同調出力する同調回路などを備え、タイミングジェネレータ93によって生成された各種のクロック信号に基づいて、所定フォーマットの画像信号などといった表示情報を表示情報処理回路91に供給する。
【0132】
表示情報処理回路91は、シリアル−パラレル変換回路や、増幅・反転回路、ローテーション回路、ガンマ補正回路、クランプ回路などといった周知の各回路を備え、入力した表示情報の処理を実行して、その画像信号をクロック信号CLKと共に駆動回路86へ供給する。駆動回路96は走査線駆動回路、データ線駆動回路、検査回路などを含んで構成される。また、電源回路92は各構成要素に所定の電圧を供給する。
【0133】
(その他の実施形態)
以上、好ましい実施形態を挙げて本発明を説明したが、本発明はその実施形態に限定されるものでなく、特許請求の範囲に記載した発明の範囲内で種々に改変できる。
【0134】
例えば、第1実施形態及び第2実施形態では、TFD素子をスイッチング素子として用いたアクティブマトリクス方式の液晶装置に本発明を適用したが、本発明は、TFT等といった3端子型スイッチング素子をスイッチング素子として用いる構造のアクティブマトリクス方式の液晶装置にも適用でき、あるいは、アクティブ素子を用いない単純マトリクス方式の液晶装置にも適用できる。また、本発明の電気光学装置は、液晶装置だけでなく、エレクトロルミネッセンス装置、有機エレクトロルミネッセンス装置、無機エレクトロルミネッセンス装置、プラズマディスプレイ装置、フィールドエミッションディスプレイ装置(電界放出表示装置)、電気泳動ディスプレイ装置などの電気光学装置にも適用できる。
【0135】
また、本発明に係る電子機器としては、パーソナルコンピュータや携帯電話機やデジタルスチルカメラの他に、液晶テレビ、ビューファインダ型、モニタ直視型のビデオテープレコーダ、カーナビゲーション装置、ページャ、電子手帳、電卓、ワードプロセッサ、ワークステーション、テレビ電話機、POS端末機などがあげられる。そして、これらの各種電子機器の表示部として本発明に係る液晶装置を用いることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明に係る液晶装置の一実施形態を一部破断して示す平面図である。
【図2】 図1に示す液晶装置における画素領域、第1周辺領域及び第2周辺領域の位置関係を説明するための平面図である。
【図3】 図1のIII−III線に従って切断した液晶装置の断面構造を示す部分断面図である。
【図4】 図1のIV−IV線に従って切断した液晶装置の断面構造を示す部分断面図である。
【図5】 図1の線V−V線に従って切断した液晶装置の断面構造を示す部分断面図である。
【図6】 図1に示す液晶装置のカラーフィルタ基板における反射膜、着色層及び第2電極の位置関係を説明する概略斜視図である。
【図7】 図1の矢印VIIで示すTFD素子を拡大して示す斜視図である。
【図8】 図1に示す液晶装置のカラーフィルタ基板の製造工程(その1)を示す部分断面図である。
【図9】 図1に示す液晶装置のカラーフィルタ基板の製造工程(その2)を示す部分断面図である。
【図10】 他の実施形態における液晶装置の部分断面図であり、図1のIII−III線に従って切断した断面図に相当する。
【図11】 他の実施形態における液晶装置の部分断面図であり、図1のIV−IV線に従って切断した断面図に相当する。
【図12】 他の実施形態における液晶装置の部分断面図であり、図1の線V−V線に従って切断した断面図に相当する。
【図13】 他の実施形態における液晶装置のカラーフィルタ基板の製造工程を示す部分断面図である。
【図14】 本発明に係る電子機器の他の実施形態であるモバイル型コンピュータを示す斜視図である。
【図15】 本発明に係る電子機器の更に他の実施形態である携帯電話機を示す斜視図である。
【図16】 本発明に係る電子機器の更に他の実施形態であるデジタルスチルかメタを示す斜視図である。
【図17】 本発明に係る電子機器の一実施形態を示すブロック図である。
【符号の説明】
1、1001…液晶装置
2a…対向基板
2b…カラーフィルタ基板
9a…第1基板
9b…第2基板
11…反射膜
11a…反射膜非形成領域
13…オーバーコート膜
32…ライン配線
50・・・コンピュータ(電子機器)
60…形態電話機(電子機器)
70…デジタルスチルカメラ(電子機器)
81…散乱用樹脂層
100・・・画素領域
101…第1周辺領域
102…第2周辺領域
109a…第1面
110…液晶
120…第1周辺領域用着色層
130…金属膜
140…積層膜
140R…第2周辺領域用赤色着色層
140G…第2周辺領域用緑色着色層
140B…第2周辺領域用青色着色層
150R…反射領域用赤色着色層
150G…反射用緑色着色層
150B…反射用青色着色層
160R…非反射用赤色着色層
160G…非反射用緑色着色層
160B…非反射用青色着色層
170…非反射領域
171…反射領域
Claims (11)
- 一対の基板間に液晶が挟持された電気光学装置において、
反射膜が設けられた反射表示領域および該反射膜が設けられていない透過表示領域を有する画素を複数備えた画素領域と、
前記画素領域を囲む遮光膜が配置された第1領域と、
前記画素領域において、前記一対の基板のうち一方の基板の前記液晶層側の面に配置された複数の着色層と、を有し、
複数の前記着色層のうち、互いに色が異なる前記着色層が配列される方向に前記第1領域と隣りあって配置される着色層が、前記第1領域内まで該方向に沿って延在して形成されていることによって、前記画素領域と前記第1領域との境界付近において、前記着色層には段差がないことを特徴とする電気光学装置。 - 前記反射膜の表面に凹凸を付与するために該反射膜と接する側の面に凹凸を備える散乱用樹脂層をさらに有し、
前記散乱用樹脂層は前記第1領域内まで延在することを特徴とする請求項1記載の電気光学装置。 - 前記反射表示領域が、前記画素領域の外周部に位置することを特徴とする請求項1または2記載の電気光学装置。
- 前記第1領域内まで延在する着色層は、前記複数の着色層のうち前記第1領域と隣りあう前記反射表示領域に配置された着色層であること特徴とする請求項3記載の電気光学装置。
- 前記第1領域を囲む第2領域をさらに有し、
前記第2領域における前記一方の基板に、前記複数の着色層のうち少なくとも2つの互いに色が異なる着色層を積層した積層膜を具備することを特徴とする請求項1から請求項4いずれか一項に記載の電気光学装置。 - 前記積層膜は、前記複数の着色層のうち前記透過表示領域に配置された着色層からなることを特徴とする請求項5記載の電気光学装置。
- 前記第2領域における前記一方の基板の前記液晶側の面からの前記積層膜上面の高さは、前記画素領域における前記一方の基板の前記液晶側の面からの前記着色層上面の高さより低いことを特徴とする請求項5または請求項6記載の電気光学装置。
- 前記積層膜は青色の着色層と赤色の着色層を含むことを特徴とする請求項5から請求項7いずれか一項に記載の電気光学装置。
- 前記第1領域に配置された着色層は青色であることを特徴とする請求項1から請求項8いずれか1項に記載の電気光学装置。
- 請求項1から請求項9いずれか一項に記載の電気光学装置を具備する電子機器。
- 基板と、
反射表示領域及び透過表示領域とを有する画素を複数備えた画素領域と、
前記画素領域を囲む遮光膜が配置された第1領域と、
前記画素領域に配置された複数の着色層と、を有し、
複数の前記着色層のうち、互いに色が異なる前記着色層が配列される方向に前記第1領域と隣りあって配置される着色層が、前記第1領域内まで該方向に沿って延在して形成されていることによって、前記画素領域と前記第1領域との境界付近において、前記着色層には段差がないことを特徴とするカラーフィルタ基板。
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