JP2006201219A - 液晶装置、液晶装置の製造方法、及び電子機器 - Google Patents

Abstract

【課題】 着色層を利用して液晶材料の配向制御をしつつ、色濃度の調整を図り、表示特性を向上させた液晶装置、液晶装置の製造方法、及び電子機器を提供する。
【解決手段】 互いに対向配置された一対の基板の間に液晶材料が狭持されるとともに、複数の画素領域を有する液晶装置において、
一対の基板のうちの一方の基板上の画素領域には色表示をするための着色層を備え、
着色層は、液晶材料の配向状態を制御するための突起部と、着色層の一部に形成された非着色領域又は着色層の層厚とは厚さが異なる領域からなる色濃度調整部と、を備えることを特徴とする。
【選択図】 図３

Description

本発明は、液晶装置、液晶装置の製造方法、及び電子機器に関する。特に、着色層を利用して液晶材料の配向制御をしつつ、色濃度の調整を図り、表示特性を向上させた液晶装置、液晶装置の製造方法、及びそのような液晶装置を備えた電子機器に関する。

従来、画像表示装置として、それぞれ電極が形成された一対の基板を対向配置するとともに、それぞれの電極の交差領域である複数の画素に印加する電圧を選択的にオン、オフさせることによって、当該画素領域の液晶材料を通過する光を変調させ、画像や文字等の像を表示させる、液晶装置が多用されている。
かかる液晶装置において、例えば、垂直配向性（ＶＡ）の液晶材料を使用する場合に、表示される画像の視覚特性を向上させるべく、電圧が印加されていない状態での液晶材料の配向状態を規定しておく場合がある。このような液晶材料の配向状態を規制する方法として、通常、それぞれの基板における液晶材料と対向する面に、ポリイミド樹脂等からなる配向膜を配置するとともに、当該配向膜をラビング布で一定方向に擦るラビング処理が実施されている。

また、電圧が印加されていない状態での液晶材料の配向状態を、別の方法により規定できる液晶装置として、図１９に示すように、基板における液晶材料と対向する面上に設けられたカラーフィルタ４２３が、液晶材料の配向状態を規定する表面形状を有する液晶装置が提案されている（例えば、特許文献１参照）。より具体的には、基板上のカラーフィルタ４２３は、頂上部が一方向に延在する配向制御突起４３３を複数有し、配向膜４２５は、かかる表面形状を有するカラーフィルタ４２３を覆うように、薄膜状に形成した液晶装置である。
かかる液晶装置によれば、上述のラビング処理によって発生する塵が表示領域に付着することを防ぎ、表示ムラ等の表示品位の低下を防止することができる。
特開２００３−２７９９６０号公報 （特許請求の範囲、図４）

しかしながら、特許文献１に記載のカラーフィルタを備えた液晶装置における配向制御用の突起部分を設けた部分は、着色層の膜厚が厚くなり、通過する光の光路長が長くなるために、光の透過率が低下する場合があった。したがって、それぞれの画素領域を通過する光の色が過度に濃くなるという問題が見られた。特に、液晶パネルに入射する外光を反射させて画像表示する反射領域においては、光路長が、突起の高さの２倍分長くなるために、表示特性に影響を与えやすいという問題が見られた。
このような問題に対して、用いる着色材料の着色剤濃度を部分的に変えて色濃度調整をすることも考えられるが、最適な状態となるように着色剤濃度を調整することは容易ではなく、また、製造時においても、工程数が増加するという問題がある。

そこで、本発明の発明者らは鋭意努力し、カラーフィルタを備えた液晶装置において、着色層に配向制御用の突起部を形成しつつ、各画素領域に、画素領域全体としての色濃度を調整する色濃度調整部を設けることにより、このような問題を解決できることを見出し、本発明を完成させたものである。
すなわち、本発明は、着色層に設けた配向制御用の突起部によって、液晶材料の配向性を制御しつつ、所定の色濃度調整部によって、画素領域全体としての色濃度を調整して、表示特性を向上させた液晶装置を提供することを目的とする。また、本発明の別の目的は、そのような液晶装置の製造方法、さらに、そのような液晶装置を備えた電子機器を提供することである。

本発明によれば、互いに対向配置された一対の基板の間に液晶材料が狭持されるとともに、複数の画素領域を有する液晶装置であって、一対の基板のうちの一方の基板上の画素領域には色表示をするための着色層を備え、着色層は、液晶材料の配向状態を制御するための突起部と、着色層の一部に形成された非着色領域又は着色層の層厚とは厚さが異なる領域からなる色濃度調整部と、を備えることを特徴とする液晶装置が提供され、上述した問題を解決することができる。
すなわち、着色層に突起部を設けることにより、容易に液晶材料の配向制御をすることができる。また、当該突起部を設けたことによる光の透過率の低下を補うために、画素領域内に、所定の色濃度調整部を設けることにより、画素領域全体としての色濃度の最適化を図ることができる。したがって、それぞれの色ごとに一種類の着色剤濃度の着色材料を用いた場合であっても、色濃度を容易に調整することができ、表示領域全体として、画像の視覚特性や明るさ等の表示特性を向上させた液晶装置を提供することができる。
なお、着色層の層厚とは、例えば、図３（ｂ）において、突起部５１が形成されている場合であっても、突起部５１を含まない着色層３７の層厚、すなわち、着色層３７の底面から、突起部５１の最底部までの垂直距離を意味する。

また、本発明の液晶装置を構成するにあたり、画素領域が反射領域及び透過領域を有し、色濃度調整部が着色層の開口部又は着色層の層厚より薄い層薄部であるとともに、当該色濃度調整部が反射領域に設けてあることが好ましい。
このように構成することにより、着色層を二度通過するために光の透過率が低下しやすい反射領域における光の透過率の低下を防いで、画素領域全体としての色濃度を容易に調整することができる。

また、本発明の液晶装置を構成するにあたり、画素領域が反射領域及び透過領域を有し、色濃度調整部が着色層の層厚より厚い層厚部であるとともに、当該色濃度調整部が透過領域に設けてあることが好ましい。
このように構成することにより、反射領域と比較して、光の透過率が高くなりやすい透過領域における光の透過率を低下させて、画素領域全体としての色濃度を容易に調整することができる。

また、本発明の液晶装置を構成するにあたり、突起部が、色濃度調整部に形成してあることが好ましい。
このように構成することにより、配向制御機能を有する色濃度調整部とすることができ、色ムラを抑えるとともに、視覚特性の向上を図り、表示特性に優れた液晶装置を効率的に提供することができる。

また、本発明の液晶装置を構成するにあたり、着色層における、それぞれの色ごとの着色剤の濃度が等しいことが好ましい。
このように構成することにより、製造時において、着色剤の濃度を調整したり、工程数を増加したりすることなく、画素領域全体としての色濃度の調整を図り、表示特性に優れた液晶装置を効率的に提供することができる。

また、本発明の液晶装置を構成するにあたり、画素領域における色濃度調整部の面積が、それぞれの色ごとに異なることが好ましい。
このように構成することにより、例えば、ＲＧＢ等の色の特性により光の透過率が異なる場合であっても、それらの色に対応して色濃度の調整を図り、表示領域全体としての表示特性を向上させることができる。

また、本発明の液晶装置を構成するにあたり、着色層の層厚が、それぞれの色ごとに異なることが好ましい。
このように構成することにより、例えば、ＲＧＢ等の色の特性による光の透過率の差については、着色層の層厚によって調整しつつ、配向制御用の突起部を形成したことによる光の透過率の低下を、色濃度調整部によって補うことができる。

また、本発明の液晶装置を構成するにあたり、突起部が所定の間隔で配置してあるとともに、色濃度調整部が突起部の間に配置してあることが好ましい。
このように構成することにより、電圧非印加時の液晶材料を一定方向に傾斜させて配向
させることができるとともに、色濃度調整部の配置を分散させることができるために、所定方向から視認する場合の視覚特性をより向上させることができる。

また、本発明の液晶装置を構成するにあたり、色濃度調整部が、画素領域の周縁部に設けてあることが好ましい。
このように構成することにより、製造時において、着色層の一部を容易に抜くことができるために、色濃度調整部を精度良く形成することができる。

また、本発明の液晶装置を構成するにあたり、突起部の高さが部分的に異なることが好ましい。
このように構成することにより、それぞれの配向制御用の突起部と併せて、突起部の高さが異なる領域ごとにも配向性を制御することができるために、さらに表示特性を向上させることができる。

また、本発明の液晶装置を構成するにあたり、突起部の断面形状を、山型状、矩形状、台形状、及び半円状のうちのいずれか一つの形状とすることが好ましい。
このように構成することにより、電圧非印加時の液晶材料の配向方向を容易に制御することができる。

また、本発明の別の態様は、互いに対向配置された一対の基板の間に液晶材料が狭持された液晶装置の製造方法であって、一対の基板のうちの一方の基板上に着色剤を含有する樹脂層を形成する工程と、樹脂層に対して、ハーフトーン露光又は多重露光をした後、現像することにより、液晶材料の配向状態を制御するための突起部と、着色層の一部に形成された非着色領域又は着色層の層厚とは厚さが異なる領域からなる色濃度調整部と、を含む着色層を形成する工程と、を含むことを特徴とする液晶装置の製造方法である。
すなわち、ＲＧＢ等の色ごとに、着色剤の濃度が等しい着色材料を用いて、基板上の着色層を利用して液晶材料の配向制御を行いつつ、それぞれの画素領域における色濃度の調整を図った液晶装置を効率的に製造することができる。また、ＲＧＢ等の色ごとに、着色剤濃度が異なる複数の着色材料を準備する必要がないために、工程数を増加させることなく、色濃度を精度良く調整した液晶装置を製造することができる。

また、本発明のさらに別の態様は、上述したいずれかの液晶装置を備えた電子機器である。
すなわち、着色層を利用して、液晶材料の配向性を制御しつつ、色濃度を調整した液晶装置を備えるために、表示特性が向上した電子機器を効率的に提供することができる。

以下、図面を参照して、本発明の液晶装置、液晶装置の製造方法、及び液晶装置を含む電子機器に関する実施形態について具体的に説明する。ただし、かかる実施形態は、本発明の一態様を示すものであり、この発明を限定するものではなく、本発明の範囲内で任意に変更することが可能である。

［第１実施形態］
第１実施形態は、互いに対向配置された一対の基板の間に液晶材料が狭持されるとともに、複数の画素領域を有する液晶装置において、一対の基板のうちの一方の基板上の画素領域には色表示をするための着色層を備え、着色層は、液晶材料の配向状態を制御するための突起部と、着色層の一部に形成された非着色領域又は着色層の層厚とは厚さが異なる領域からなる色濃度調整部と、を備えることを特徴とする液晶装置である。
以下、図１〜図１４を適宜参照しながら、本発明の第１実施形態の液晶装置について、所定の突起部及び色濃度調整部を含む着色層を備えたカラーフィルタ基板と、スイッチング素子としてのＴＦＤ素子（Thin Film Diode）を備えた素子基板とを含む液晶装置を例に採って説明する。ただし、本発明の液晶装置は、ＴＦＤ素子を備えたアクティブマトリクス型の液晶装置に制限されることはなく、ＴＦＴ素子（Thin Film Transistor）を備えた液晶装置や、パッシブマトリクス型の液晶装置であっても構わない。
なお、それぞれの図において、同じ符号を付したものは同一の部材を示しており、適宜説明を省略する。

１．液晶装置の基本構造
まず、図１及び図２を参照して、本発明に係る第１実施形態の液晶装置としての液晶装置１０の基本構造、すなわち、セル構造や配線等について具体的に説明する。ここで、図１は、本実施形態に係る液晶装置１０の概略斜視図であり、図２は、図１中のＥＥ断面を矢印方向に見た概略断面図である。
かかる液晶装置１０は、スイッチング素子として、二端子型非線形素子であるＴＦＤ素子６９を用いたアクティブマトリクス型構造を有する素子基板６０を備えた液晶装置１０であって、図示しないものの、バックライトやフロントライト等の照明装置やケース体などを、必要に応じて適宜取付けられて使用される。
また、液晶装置１０は、ガラス基板等を基体６１とする素子基板６０と、同様にガラス基板等を基体３１とするカラーフィルタ基板３０と、が対向配置されるとともに接着剤等のシール材２３を介して貼り合わせられている。また、素子基板６０と、カラーフィルタ基板３０とが形成する空間であって、シール材２３の内側部分に対して、開口部２３ａを介して液晶材料２１を注入した後、封止材２５にて封止されてなるセル構造を備えている。すなわち、素子基板６０と、カラーフィルタ基板３０との間に液晶材料２１が充填されている。

また、素子基板６０における基体６１の内面、すなわち、カラーフィルタ基板３０に対向する表面上に、マトリクス状に配置された複数の画素電極６３が形成されている。一方、カラーフィルタ基板３０における基体３１の内面、すなわち、素子基板６０に対向する表面上には、ストライプ状に配置された複数の走査電極３３が形成されている。また、画素電極６３は、スイッチング素子としてのＴＦＤ素子６９を介してデータ線６５に対して電気的に接続されるとともに、もう一方の走査電極３３は、導電性粒子を含むシール材２３を介して素子基板６０上の引回し配線６６に対して電気的に接続されている。このように構成された画素電極６３と走査電極３３との交差領域がマトリクス状に配列された多数の画素（以下、画素領域と称する場合がある。）を構成し、これら多数の画素の配列が、全体として表示領域を構成することになる。したがって、所望の画素に対して電圧を印加することにより、当該画素の液晶材料２１に電界を発生させ、表示領域全体として文字、図形等の画像を表示させることができる。

また、素子基板６０は、カラーフィルタ基板３０の外形よりも外側に張り出してなる基板張出部６０Ｔを有し、この基板張出部６０Ｔ上には、データ線６５の一部、引回し配線６６の一部及び、独立して形成された複数の配線からなる外部接続用端子６７が形成されている。そして、データ線６５又は引回し配線６６の端部には、液晶駆動回路等を内蔵した駆動用半導体素子（駆動用ＩＣ）９１が実装されている。さらに、外部接続用端子６７のうちの表示領域側の端部にも、駆動用半導体素子（駆動用ＩＣ）９１が実装されているとともに、他方の端部には、フレキシブル回路基板９３が実装されている。

また、かかる構成からなる液晶装置には、反射型、透過型、半透過反射型の液晶装置があるが、かかる反射領域Ｒ及び透過領域Ｔの配置は、例えば、カラーフィルタ基板上に、透過領域Ｔに対応した開口部を形成した光反射膜を備えることにより、所望の領域に配置することができる。
なお、本実施形態で説明する液晶装置は、カラーフィルタ基板上に光反射膜を形成した液晶装置であるが、本発明は、いずれの液晶装置であっても適用することができ、詳細については、後述する。

３．カラーフィルタ基板
（１）基本構成
次に、図２〜図１２を参照して、本実施形態の液晶装置に使用されるカラーフィルタ基板として、半透過反射型の液晶装置に使用されるカラーフィルタ基板３０について、さらに詳細に説明する。なお、図３〜図１２は、ＲＧＢそれぞれのサブ画素単位又はＲＧＢのサブ画素の集合である画素単位における着色層等を示す図である。
かかるカラーフィルタ基板３０は、基本的に、図２に示すように、ガラス基板等からなる基体３１上に、光反射膜３５と、遮光膜３９と、着色層３７と、オーバーコート層４１と、走査電極３３と、が順次積層されて構成されている。また、走査電極３３上には、液晶材料の配向性を制御するための配向膜４５を備えるとともに、走査電極３３等が形成されている面とは反対側の面に、鮮明な画像表示が認識できるように、位相差板（１／４波長板）４７及び偏光板４９が配置されている。

（２）光反射膜
また、カラーフィルタ基板３０に形成された光反射膜３５は、例えば、アルミニウム等の金属材料からなり、透過領域Ｔに対応した開口部３５ａが形成されている一方で、反射領域Ｒにおいては、太陽光等の外光を反射させて、反射型表示を可能にするための部材である。
また、光反射膜３５の下層には、光反射３５膜の表面に凹凸を形成し、散乱機能を付与するための樹脂膜４０が形成されている。光反射膜３５に散乱機能を付与するためには、かかる樹脂膜４０を形成する以外に、ガラス基板の表面にフロスト処理等によって凹凸を形成する方法も可能である。
なお、液晶装置が反射型である場合には、上述の開口部を有しない光反射膜が設けられ、液晶装置が透過型である場合には、基板上に光反射膜は設けられない。

（３）遮光膜
また、遮光膜３９は、隣接する画素領域Ｇ間において色材が混色することを防止して、コントラストに優れた画像表示を得るための膜である。このような遮光膜３９としては、例えば、クロム（Ｃｒ）やモリブテン（Ｍｏ）等の金属膜を遮光膜３９として使用したり、あるいは、Ｒ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）の３色の着色材を共に樹脂その他の基材中に分散させたものや、黒色の顔料や染料等の着色材を樹脂その他の基材中に分散させたものなどを用いたりすることができる。さらに、Ｒ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）の３色の着色材を重ね合わせることにより、遮光膜を形成することもできる。

（４）着色層
（４）−１ 着色材料
また、着色層３７は、通常、透明樹脂中に顔料や染料等の着色剤を分散させることにより濃度調整をして、所定の色調を呈するものとされている。着色層３７の色調の一例としては原色系フィルタとしてＲ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）の３色の組合せからなるものがあるが、これに限定されるものではなく、Ｙ（イエロー）、Ｍ（マゼンダ）、Ｃ（シアン）等の補色系や、その他の種々の色調で形成することができる。
かかる着色層３７の配列パターンとしては、ストライプ配列を採用することが多いが、このストライプ配列の他に、斜めモザイク配列や、デルタ配列等の種々のパターン形状を採用することができる。

また、本発明の液晶装置に使用されるカラーフィルタ基板の着色層に使用される着色材料は、ＲＧＢ等のそれぞれの色ごとに、着色剤の濃度が等しいことが好ましい。
この理由は、色濃度調整部の面積や層厚を変えることによって色濃度の調整を図ることができるために、ＲＧＢ等それぞれの色の着色材料において、あらかじめ着色剤の濃度を調整した複数の着色材料を用意する必要がなく、また、工程数を増加させることもなくなり、効率的に、色濃度の調整が図られた液晶装置を提供することができるためである。
より具体的には、画素領域における色濃度を調整するために、例えば、反射領域と透過領域との着色剤の濃度をＲＧＢそれぞれにおいて異ならせた場合には、合計６色の着色材料を使用する必要があり、着色層の形成工程も６回繰り返し行う必要がある。しかしながら、本発明によれば、ＲＧＢごとに１種類、合計で３種類の着色材料を使用して、着色層を形成することができ、濃度調整の手間を省くことができるとともに、それぞれの色ごとの着色層の形成工程を３工程省略することができる。

（４）−２ 突起部及び色濃度調整部
また、本発明の液晶装置に使用されるカラーフィルタ基板の着色層は、図３（ａ）〜（ｃ）に示すように、それぞれの画素領域において、液晶材料の配向状態を制御するための突起部５１と、着色層の一部に形成された非着色領域又は着色層の層厚とは厚さが異なる領域からなる色濃度調整部５５と、を含むことを特徴としている。
すなわち、着色層３７では、透過領域においてはバックライト等から照射された光を、また反射領域においては入射してくる外光を、それぞれ通過させて、ＲＧＢやＹＭＣ等のそれぞれの色に着色する。また、表面に設けられた突起部５１により、液晶材料の配向性を制御することができる。さらに、色濃度調整部５５では、画素領域を通過する光の透過率を向上又は低下させて、着色層３７に突起部５１を設けたことによる光路長の増加に伴う光の透過率の変化を補正して、画素領域全体としての色濃度を調整することができる。

かかる着色層３７に設けられた突起部５１は、図４に示すように、電圧非印加状態における液晶材料２１を所定角度傾斜させて、例えば、垂直配向性（ＶＡ）の液晶材料２１である場合には、表示される画像の視野角を広くしたり、コントラスト等を向上させたりすることができる。
また、電圧非印加状態における液晶材料を所定角度傾斜させておくことにより、電圧印加時に、液晶材料の反応を早くすることができるとともに、電圧印加状態における液晶材料の配向方向を規定することもできるために、ＶＡ型の液晶材料に限らず、表示される画像の視野角を広くしたり、コントラストを向上させたりすることができる。

また、かかる突起部５１の形状としては、例えば、図５（ａ）〜（ｃ）に示すように、円錐、三角錐、四角錘等の錘形状の突起部５１とすることができる。このような錘形状の突起部とすることにより、特に、３６０°問わず、様々な方向からの視覚特性を向上させることができる。
また、別の突起部の形状の例としては、図６（ａ）〜（ｄ）に示すように、断面形状が山型状、矩形状、台形状、半円状のうちのいずれか一つの形状からなるライン状の突起部５１とすることができる。このような形状の突起部とすることにより、所定方向から視認する際の視覚特性を向上させることができるとともに、明るい画像表示を視認させることができるようになる。
さらに、突起部をライン状の突起部とする場合においても、図７（ａ）〜（ｂ）に示すように、複数のライン状の突起部５１を、くの字状にジグザグさせて配列させたり、直交する方向に配列させたりすることにより、３６０°問わず、様々な方向からの視覚特性を向上させることができる。

また、図８に示す、突起部５１の底面の幅Ｗを比較的小さく、例えば、１〜１０μｍの範囲内の値とすることが好ましい。この理由は、液晶材料が配向膜に接触する面積を大きくして、配向制御用の突起部による配向制御の効果を顕著にするためである。
また、図８に示す、突起部５１の底面からの高さｈを比較的高く、例えば、０．５〜３μｍの範囲内の値とすることが好ましい。この理由は、突起部の高さｈが０．５μｍ未満の値となると、配向性を十分に制御できない場合があるためである。また、突起部の高さｈが３μｍを超えると、一般的に液晶パネルのセルギャップは３〜５μｍ程度であるために、セルギャップに影響を与えてしまう場合があるためである。
また、図８に示す、隣接する突起部５１間のピッチ間隔Ｌ（Center to Center）を比較的小さく、例えば、３〜７０μｍの範囲内の値とすることが好ましい。この理由は、突起部間の距離Ｌが３μｍ未満の値となると、液晶材料の配向性を十分に制御できない場合があるためである。一方、突起部間の距離Ｌが７０μｍを超えると、平坦部分の液晶材料を配向させられない場合があるためである。

また、図９（ａ）〜（ｂ）に示すように、突起部５１、５１´の高さｈ１、ｈ２を部分的に異ならせてあることが好ましい。
この理由は、それぞれの配向制御用の突起部５１で配向制御しつつ、さらに、突起部５１、５１´の高さｈ１、ｈ２が異なる領域ごとにも配向制御することができるためである。したがって、画像を視認する角度に応じて、画像の明るさを調整可能であって、視覚特性に優れた画像表示を得ることができる液晶装置とすることができる。

以上のように、着色層３７に配向制御用の突起部５１を形成した場合には、着色層３７の層厚が部分的に厚くなって光の透過率が低下するため、かかる突起部５１を形成しない場合と比較して、視覚特性やコントラスト性が向上する反面、着色濃度が濃くなり、暗い画像表示となってしまう。
この点を考慮して、本発明の液晶装置に使用するカラーフィルタ基板の着色層３７は、それぞれの画素領域に色濃度調整部５５が設けられている。すなわち、配向制御用の突起部５１を形成した場合には、他の領域と比較して光の透過率が低下する点に着目し、色濃度調整部５５を形成して光の透過率を向上又は低下させ、画素領域全体として適当な色濃度が得られるように調整してある。

例えば、かかる色濃度調整部５５は、図１０（ａ）〜（ｂ）に示すように、着色層３７の開口部５５ａ又は着色層３７の層厚よりも薄い層薄部５５ｂからなることが好ましい。
この理由は、かかる色濃度調整部を設けることにより、着色剤の濃度が異なる複数の着色材料を用いることなく、部分的に光の透過率を向上させて、画素領域全体としての色濃度の調整を図ることができるためである。また、かかる色濃度調整部であれば、色濃度調整部の面積や層厚を制御することにより、精度良く画素領域全体としての色濃度の調整を図ることができるためである。
なお、着色層の層厚とは、図１０（ａ）〜（ｂ）において、突起部を含まない着色層３７の層厚すなわち、着色層３７の底面から、突起部５１の最底部までの垂直距離を意味する。また、色濃度調整部としての着色層の開口部又は層薄部は、いずれか一方のみを含んでいてもよく、または、同じ画素領域内に混在していても構わない。

また、図１０（ａ）〜（ｂ）に示すような色濃度調整部５５ａ、５５ｂとする場合には、かかる色濃度調整部５５ａ、５５ｂを反射領域に設けることが好ましい。
この理由は、透過領域を通過する光は、着色層を一回だけ通過するのに対し、反射領域を通過する光は、着色層を二回通過するために、着色層の層厚の変化によって光路長に影響を受けやすく、光の透過率が低下しやすいためである。したがって、例えば、透過領域を通過する光の色濃度を基準に着色剤濃度を調整した着色材料を用いて着色層を形成しつつ、反射領域に形成する色濃度調整部の面積や層厚を変えることにより、画素領域全体としての色濃度の調整を図ることができる。

一方、かかる色度調整部５５は、図１０（ｃ）に示すように、着色層３７の層厚よりも厚い層厚部５５ｃからなることが好ましい。
この理由は、かかる色度調整部を設けることにより、上述の開口部や層薄部とは逆に、着色剤の濃度が異なる複数の着色材料を用いることなく、部分的に光の透過率を低下させて、画素領域全体としての色濃度の調整を図ることができるためである。
そして、図１０（ｃ）に示すような色濃度調整部５５ｃとする場合には、かかる色濃度調整部５５ｃを透過領域に設けることが好ましい。
この理由は、反射領域を通過する光の色濃度を基準に着色剤濃度を調整した着色材料を用いて着色層を形成しつつ、透過領域に形成する色濃度調整部の面積や層厚を変えることにより、画素領域全体としての色濃度の調整を図ることができるためである。

なお、反射型、あるいは、透過型の液晶装置の場合であっても、製造する液晶装置の機種ごとに表示させる画像の色濃度が異なるために、使用する着色材料の着色剤濃度を異ならせる場合がある。しかしながら、本発明の液晶装置であれば、このような場合であっても、それぞれの機種ごとに着色剤濃度を調整することなく、色濃度調整部の面積や層厚を調整することにより、容易に所望の色濃度を呈する液晶装置を提供することができる。

また、図１１（ａ）〜（ｂ）に示すように、かかる色濃度調整部５５の面積や層厚を、ＲＧＢ等の色ごとに異ならせることが好ましい。
この理由は、着色層を通過する光の透過率は、本来的に、ＲＧＢ等の色によって異なり、一般的には、Ｒ、Ｂ、Ｇの順で、透過率は低下するため、それぞれの色ごとに色濃度の調整具合が異なるためである。したがって、ＲＧＢの色ごとに色濃度調整部の面積を異ならせる場合には、図１１（ａ）に示すように、Ｒ、Ｂ、Ｇの順で、徐々に面積を大きくすることが好ましく、ＲＧＢの色ごとに色濃度調整部の層厚を変える場合には、図１１（ｂ）に示すように、Ｒ、Ｂ、Ｇの順で、徐々に層厚を薄くすることが好ましい。

また、図１１（ｃ）に示すように、ＲＧＢ等の色の特性によって異なる光の透過率を調整するために、着色層３７の層厚をＲＧＢ等の色ごとに異ならせることも好ましい。
この理由は、ＲＧＢ等の色の特性による光の透過率の相違については、それぞれの色ごとにおける色濃度調整部の面積を変えることなく、着色層自体の膜厚で調整することができるために、製造時において、異なる色の着色層を形成する場合にも、同じパターンのフォトマスクを用いたりして、製造効率を向上させることができるためである。
なお、言うまでもないが、着色層の層厚を異ならせるとともに、色濃度調整部の面積や層厚を異ならせることによっても、それぞれの画素領域における色濃度や、表示領域全体としての色濃度の調整を図ることができる。

また、それぞれの画素領域における色濃度調整部５５の数や平面形状は特に制限されるものではなく、一つの色濃度調整部を形成したり、ドット状の色濃度調整部を複数組み合わせて形成したりすることができる。例えば、図１２（ａ）に示すように、反射領域に一つの色濃度調整部５５を形成したり、図１２（ｂ）に示すように、反射領域に二つの色濃度調整部５５を形成したりすることができる。
また、配向制御用の突起部５１が所定間隔でライン状に配置されている場合には、図１２（ｃ）に示すように、色濃度調整部５５を、当該突起部５１の間に、ライン状に配置することが好ましい。この理由は、色濃度調整部の密度を均一に分散して、色むら等による表示品位の低下を防止することができるためである。したがって、同様に、画素領域全体として、色むらを防ぎたい場合には、図１２（ｄ）に示すように、色濃度調整部５５を、ドット状に配置することもできる。
さらに、それぞれの画素領域内における色濃度調整部の全体形状についても、特に制限されることはなく、例えば、図１３（ａ）〜（ｄ）に示すように、円形、楕円形、三角形、矩形等とすることができる。
ただし、かかる色濃度調整部は、主として、感光性の着色材料に対する露光量の変化を利用して形成するため、開口部や層薄部の縁部分の形状が歪みやすいことから、図１２（ａ）〜（ｃ）に示すように、画素領域の周縁部であって、着色層３７の端部となる位置に接するように配置することが好ましい。この理由は、着色層の端部位置であれば、開口部となる着色層の抜き部分等を形成しやすく、色濃度調整部の面積等の形成誤差を少なくすることができるためである。

（５）オーバーコート層
また、カラーフィルタ基板における着色層上には、アクリル樹脂やエポキシ樹脂などの感光性樹脂材料からなるオーバーコート層が形成されている。かかるオーバーコート層は、基板上に均一な厚さで形成され、着色層の表面の突起部による凹凸を埋設しないように形成されている。

（６）走査電極
また、オーバーコート層の上には、ＩＴＯ（インジウムスズ酸化物）等の透明導電体からなる走査電極が形成されている。かかる走査電極は、一方向に配列された画素からなる画素列毎に、複数の透明電極が並列したストライプ状に構成されている。

（７）配向膜
また、走査電極の上には、ポリイミド樹脂等からなる配向膜が全面的に形成されている。かかる配向膜は、ラビング処理をする等して、液晶材料の配向性を制御するための部材である。

４．素子基板
（１）基本構成
また、素子基板６０は、図１４（ａ）〜（ｂ）に示すように、基本的に、ガラス基板等からなる基体６１と、データ線６５と、スイッチング素子としてのＴＦＤ素子６９と、画素電極６３と、から構成されている。また、画素電極６３上には、ポリイミド樹脂等からなる配向膜７５が形成されている。さらに、基体６１の外面には、位相差板（１／４波長板）７７及び偏光板７９が配置されている。
なお、図１４（ａ）は、素子基板６０の概略平面図であり、図１４（ｂ）は、素子基板６０の概略断面図である。また、配向膜や偏光板等についてはそれぞれ適宜省略されている。

（２）データ線及び引回し配線
素子基板６０上のデータ線６５は、複数の配線が並列したストライプ状に構成されている。また、図示しないが、ドライバ等の実装領域側の辺に対して垂直方向に延びる辺側には、導電性粒子を含むシール材を介してカラーフィルタ基板３０上の走査電極３３と電気的に接続される引回し配線が設けられている。
かかるデータ線６５や引回し配線は、製造工程の簡略化及び電気抵抗の低下の観点から、後述する二端子型非線型素子の形成と同時に形成されるため、例えば、タンタル層、酸化タンタル層、及びクロム層が順次形成されて構成されている。

（３）画素電極
また、それぞれのデータ線６５には、スイッチング素子６９を介して画素電極６３が電気的に接続されている。また、画素電極６３は、それぞれのデータ線６５の間にマトリクス状に配置されている。
かかる画素電極６３は、ＩＴＯ（インジウムスズ酸化物）やＩＺＯ（インジウム亜鉛酸化物）等の透明導電材料を用いて形成することができる。

（４）スイッチング素子
また、素子基板６０上には、データ線６５と画素電極６３とを電気的に接続するスイッチング素子６９としてのＴＦＤ素子６９が形成されている。かかるＴＦＤ素子６９は、一般的に、タンタル（Ｔａ）合金からなる素子第１電極７１、酸化タンタル（Ｔａ₂Ｏ₅）からなる絶縁膜７２、及びクロム（Ｃｒ）からなる素子第２電極７３、７４が順次積層されたサンドイッチ構造を有している。そして、正負方向のダイオードスイッチング特性を示し、しきい値以上の電圧が、素子第１電極７１及び素子第２電極７３、７４の両端子間に印加されると導通状態となるアクティブ素子である。

また、二個のＴＦＤ素子６９ａ、６９ｂは、データ線６５と、画素電極６３との間に介在するように形成され、反対のダイオード特性を有する第１のＴＦＤ素子６９ａ及び第２のＴＦＤ素子６９ｂから構成してあることが好ましい。
この理由は、このように構成することにより、印加する電圧波形として、正負対称なパルス波形を使用することができ、液晶装置等における液晶材料の劣化を防止することができるためである。すなわち、液晶材料の劣化を防止するために、ダイオードスイッチング特性が、正負方向において対称的であることが望まれ、二個のＴＦＤ素子６９ａ、６９ｂを逆向きに直列接続することにより、正負対称なパルス波形を使用することができるためである。

［第２実施形態］
本発明の第２実施形態は、第１実施形態の液晶装置の製造方法であって、
一対の基板のうちの一方の基板上に着色剤を含有する樹脂層を形成する工程と、
樹脂層に対して、ハーフトーン露光又は多重露光をした後、現像することにより、液晶材料の配向状態を制御するための突起部と、着色層の一部に形成された非着色領域又は着色層の層厚とは厚さが異なる領域からなる色濃度調整部と、を含む着色層を形成する工程と、
を含むことを特徴とする。
以下、第２実施形態に係る液晶装置の製造方法の一例として、第１実施形態の液晶装置であって、開口部からなる色濃度調整部を反射領域に備えた液晶装置の製造方法を、図１５〜図１７を適宜参照しながら説明する。

１．カラーフィルタ基板の製造工程
（１）光反射膜及び遮光膜の形成
まず、図１５（ａ）に示すように、第１の基板の基材としてのガラス基板３１上に、反射領域を形成するための反射膜３５を形成する。かかる反射膜は、蒸着法やスパッタリング法にてアルミニウム等の金属材料を母基板上に被着させた後、フォトリソグラフィ法を用いてパターニングすることにより形成することができる。また、半透過反射型のカラーフィルタ基板を製造する場合には、それぞれの画素に対応させて、透過領域を形成する開口部３５ａを備えた反射膜３５を形成する。
次いで、図１５（ｂ）に示すように、それぞれの画素間領域に遮光膜３９を形成する。かかる遮光膜としては、例えば、クロム（Ｃｒ）やモリブテン（Ｍｏ）等の金属膜を遮光膜として使用したり、あるいは、Ｒ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）の３色の着色材を共に樹脂その他の基材中に分散させたものや、黒色の顔料や染料等の着色材を樹脂その他の基材中に分散させたものなどを用いたりすることができる。例えば、金属膜を用いて遮光膜を形成する場合には、クロム（Ｃｒ）等の金属材料を蒸着法等によりガラス基板上に積層した後、所定のパターンに合わせてエッチング処理することにより形成することができる。

（２）着色層の形成
次いで、図１５（ｃ）〜（ｅ）に示すように、それぞれの画素に対応して、Ｒ、Ｇ、Ｂのうちのいずれか一色の着色層３７を形成する。
具体的には、まず、図１５（ｃ）に示すように、感光性樹脂材料中に赤色（Ｒ）の顔料を混合させた着色材料を、例えば、スピンコーター等の塗布装置を用いて基板上に均一に塗布して、着色材料を含有する樹脂層３７Ｒ´を形成する。このとき、例えば、スピンコーターを用いた場合、６００〜２，０００ｒｐｍの回転数で、５〜２０秒の塗布時間として、厚さ１〜１０μｍの樹脂層３７Ｒ´を形成することができる。
ここで、着色材料を含有する樹脂層を構成する感光性樹脂材料の種類は特に制限されるものではないが、例えば、アクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、シリコーン系樹脂、フェノール系樹脂、オキセタン系樹脂等の一種単独又は二種以上の組み合わせが挙げられる。また、精度良く凹凸パターンが形成できるように、感光性樹脂材料中に、シリカ粒子、酸化チタン、酸化ジルコニア、酸化アルミニウム等の無機フィラーを添加しておくこともできる。
また、感光性樹脂材料としては、光透過部を透過した光が照射された箇所が光分解して、現像剤に対して可溶化するポジ型と、光透過部を透過した光が照射された箇所が硬化し、現像剤に対して不溶化するネガ型とがあるが、いずれも好適に使用することができる。
なお、本実施形態で使用する感光性樹脂材料は、ポジ型の感光性材料である。

次いで、図１５（ｄ）〜（ｅ）に示すように、部分的に透過率が異なり、所定形状のパターンを有するハーフトーンマスクを介して露光した後、現像剤を用いて現像することにより、表面に液晶材料の配向性を制御するための突起部５１を備えるとともに、部分的に、開口部５５を形成した着色層３７Ｒを形成する。
より具体的には、例えば、ポジ型の樹脂材料を用いた着色材料である場合に、上述の露光工程において、露光量の合計が多ければ多いほど、現像後の着色層の膜厚は薄くなる。そのために、突起部を形成したい箇所においては露光量を少なくし、開口部又は層薄部を形成したい箇所においては露光量を多くすることによって、所定の突起部と、開口部からなる色濃度調整部とを含む着色層を形成することができる。
なお、図１５（ｅ）中の開口部５５は、露光量を調整することにより、容易に層薄部とすることができる。また、着色剤の濃度を反射領域を基準に調整してある場合には、色濃度調整部として、透過領域に着色層の層厚より厚い層厚部を形成することにより、画素領域全体としての色濃度を調整することができる。

次いで、かかる露光及び現像処理を、色ごとに繰り返して、図１６（ａ）に示すように、青色着色層３７Ｂ及び緑色着色層３７Ｇを形成する。ここで、着色層の形成は、それぞれの色毎に繰り返すことになるが、本実施形態に係る液晶装置の製造方法であれば、ＲＧＢそれぞれ１種類の着色剤濃度の着色材料を用いて合計３回のみ繰り返すことにより、画素領域全体として色濃度の調整が図られた液晶装置を効率的に製造することができる。すなわち、画素領域における色濃度は、所定の色濃度調整部の面積や層厚によって調整することができるために、ＲＧＢそれぞれの色ごとに用いる着色材料の着色剤濃度を複数種類作る必要がないためである。

なお、上述した着色層の形成方法は、部分的に光の透過率を異ならせたハーフトーンマスクを用いた、いわゆるハーフトーン露光によるものである。ただし、これ以外にも、異なるパターンの複数のフォトマスクを用いた多重露光によっても、所定の突起部や開口部又は層薄部を備えた着色層を形成することができる。

（３）オーバーコート層及び走査電極、配向膜の形成の形成
次いで、基板上に透明性の感光性樹脂材料を塗布した後、露光、現像することにより、図１６（ｂ）に示すように、オーバーコート層４１を形成する。かかるオーバーコート層の形成に用いる樹脂材料についても、例えば、アクリル樹脂やエポキシ樹脂等の公知のものを使用することができる。
次いで、オーバーコート層上に、全面的にＩＴＯ（インジウムスズ酸化物）等の透明導電材料からなる透明導電層を、例えば、スパッタリング法により形成した後、フォトリソグラフィ法を用いてパターニングを施し、図１６（ｃ）に示すように、所定のパターン形状の電極３３を形成する。例えば、製造するカラーフィルタ基板が、本実施形態の液晶装置のようなＴＦＤ素子（Thin Film Diode）を備えたアクティブマトリクス型の液晶装置や、パッシブマトリクス型の液晶装置に使用されるカラーフィルタ基板である場合には、複数の透明電極が並列したストライプ状にパターニングされる。また、製造するカラーフィルタ基板が、ＴＦＴ素子（Thin Film Transistor）を備えたアクティブマトリクス型の液晶装置に使用されるカラーフィルタ基板である場合には、それぞれのセル領域に対応した面状電極としてパターニングされる。
次いで、図１６（ｄ）に示すように、透明電極３３が形成された基板上において、それぞれのセル領域毎に、ポリイミド樹脂等からなる配向膜４５を形成することにより、カラーフィルタ基板３０を製造することができる。

２．素子基板の製造工程
素子基板６０は、まず、図１７（ａ）に示すように、ガラス基板からなる基体６１上に、素子第１電極７１を形成する。この素子第１電極７１は、例えば、タンタル合金から構成されており、スパッタリング法や電子ビーム蒸着法を用いて形成することができる。このとき、素子第１電極７１の形成前に、第２のガラス基板６１に対する素子第１電極７１の密着力を著しく向上させることができるとともに、第２のガラス基板６１から素子第１電極７１への不純物の拡散を効率的に抑制することができることから、基体６１上に酸化タンタル（Ｔａ₂Ｏ₅）等からなる絶縁膜を形成することも好ましい。
このとき、本実施形態に係る液晶装置の製造方法においては、素子第１電極７１を、データ線６５に沿って隣接するか、又はデータ線６５に沿って斜め方向に隣接する、二つの画素電極６３に対応したＴＦＤ素子６９に共有させるために、隣接する二つの画素Ｇにまたがって形成することが好ましい。この理由は、ＴＦＤ素子６９の形成領域を小さくする一方、画素電極６３を大きくすることができるため、それぞれの画素面積を拡大して、コントラスト等の表示特性を向上させた液晶装置を効率的に製造することができるためである。

次いで、図１７（ｂ）に示すように、素子第１電極７１の表面を陽極酸化法によって酸化させることにより、酸化膜７２を形成する。より具体的には、素子第１電極７１が形成された基板を、クエン酸溶液等の電解液中に浸漬した後、かかる電解液と、素子第１電極７１との間に所定電圧を印加して、素子第１電極７１の表面を酸化させることができる。
次いで、再び、スパッタリング法等により、素子第１電極７１を含む基板上に、全面的に金属膜を形成し、それをフォトリソグラフィ法によって、パターニングすることにより、図１７（ｃ）に示すように、素子第２電極７３、７４及びデータ線６５を形成する。このようにして、ＴＦＤ素子６９及びデータ線６５を形成することができる。

次いで、図１７（ｄ）に示すように、スパッタリング法等により、ＩＴＯ（インジウムスズ酸化物等）等の透明導電体材料からなる透明導電層を形成した後、フォトリソグラフィ法を用いてパターニングすることにより、ＴＦＤ素子６９と電気的に接続された画素電極６３を形成する。
次いで、図１７（ｅ）に示すように、画素電極６３等が形成された素子基板６０上に、ポリイミド樹脂等からなる配向膜７５を形成することにより、素子基板６０を製造することができる。

３．貼り合わせ工程
次いで、図示しないものの、カラーフィルタ基板又は素子基板のいずれか一方において、表示領域を囲むようにしてシール材を積層した後、他方の基板を重ね合わせて、加熱圧着することにより、カラーフィルタ基板及び素子基板を貼り合わせて、セル構造を形成する。

４．組立工程等
次いで、セル内に、シール材の一部に設けられた注入口から液晶材料を注入した後、封止材等により封止する。
さらに、カラーフィルタ基板及び素子基板それぞれの外面に、位相差板（１／４λ板）及び偏光板を配置したり、ドライバを実装したりするとともに、バックライト等とともに筐体に組み込むことにより、液晶装置を製造することができる。

［第３実施形態］
本発明に係る第３実施形態として、第１実施形態の液晶装置を備えた電子機器について具体的に説明する。

図１８は、本実施形態の電子機器の全体構成を示す概略構成図である。この電子機器は、液晶装置に備えられた液晶パネル２０と、これを制御するための制御手段２００とを有している。また、図１８中では、液晶パネル２０を、パネル構造体２０ａと、半導体素子（ＩＣ）等で構成される駆動回路２０ｂと、に概念的に分けて描いてある。また、制御手段２００は、表示情報出力源２０１と、表示処理回路２０２と、電源回路２０３と、タイミングジェネレータ２０４とを有することが好ましい。
また、表示情報出力源２０１は、ＲＯＭ（Read Only Memory）やＲＡＭ（Random Access Memory）等からなるメモリと、磁気記録ディスクや光記録ディスク等からなるストレージユニットと、デジタル画像信号を同調出力する同調回路とを備え、タイミングジェネレータ２０４によって生成された各種のクロック信号に基づいて、所定フォーマットの画像信号等の形で表示情報を表示処理回路２０２に供給するように構成されていることが好ましい。

また、表示処理回路２０２は、シリアル−パラレル変換回路、増幅・反転回路、ローテーション回路、ガンマ補正回路、クランプ回路等の周知の各種回路を備え、入力した表示情報の処理を実行して、その画像情報をクロック信号ＣＬＫと共に駆動回路２０ｂへ供給することが好ましい。さらに、駆動回路２０ｂは、第１の電極駆動回路、第２の電極駆動回路及び検査回路を含むことが好ましい。また、電源回路２０３は、上述の各構成要素にそれぞれ所定の電圧を供給する機能を有している。
そして、本実施形態の電子機器であれば、着色層に所定の突起部及び色濃度調整部を設けることにより、液晶材料の配向制御をしつつ、色濃度の調整が図られた液晶装置を備えるために、視覚特性に優れ、明るい画像を表示できる電子機器とすることができる。

本発明によれば、着色層に配向制御用の突起部及び色濃度調整用の開口部又は層薄部、あるいは層厚部を設けることにより、突起部を設けることによる光の透過率の低下を考慮して、視覚特性に優れるとともに、表示特性に優れた画像を表示可能な液晶装置とすることができる。したがって、液晶装置や電子機器、例えば、携帯電話機やパーソナルコンピュータ等をはじめとして、液晶テレビ、ビューファインダ型・モニタ直視型のビデオテープレコーダ、カーナビゲーション装置、ページャ、電子手帳、電卓、ワードプロセッサ、ワークステーション、テレビ電話、ＰＯＳ端末、タッチパネルを備えた電子機器などに適用することができる。

第１実施形態の液晶装置の概略斜視図である。 第１実施形態の液晶装置の概略断面図である。 （ａ）〜（ｃ）は、それぞれ第１実施形態の液晶装置における着色層の平面図、斜視図、及び断面図である。 着色層に設けられた突起部による配向制御を説明するために供する図である。 （ａ）〜（ｃ）は、それぞれ着色層に設けられた錘状の突起部を説明するために供する図である。 （ａ）〜（ｄ）は、それぞれ着色層に設けられたライン状の突起部を説明するために供する図である。 （ａ）〜（ｂ）は、それぞれライン状の突起部の配置を説明するために供する図である。 突起部の大きさや距離について説明するために供する図である。 （ａ）〜（ｂ）は、それぞれ異なる高さの突起部を備えた着色層を示す図である。 （ａ）は、色濃度調整部としての開口部を示す図であり、（ｂ）は、色濃度調整部としての層薄部を示す図であり、（ｃ）は、色濃度調整部としての層厚部を示す図である。 （ａ）〜（ｃ）は、それぞれ色濃度調整部の面積又は層厚、及び着色層の層厚を異ならせた着色層を示す図である。 （ａ）〜（ｄ）は、それぞれ色濃度調整部の数や形状を説明するために供する図である。 （ａ）〜（ｄ）は、それぞれ色濃度調整部の平面形状を説明するために供する図である。 （ａ）〜（ｂ）は、それぞれ素子基板を説明するために供する平面図及び断面図である。 （ａ）〜（ｅ）は、第１実施形態の液晶装置に使用されるカラーフィルタ基板の製造方法を説明するために供する図である（その１）。 （ａ）〜（ｄ）は、第１実施形態の液晶装置に使用されるカラーフィルタ基板の製造方法を説明するために供する図である（その２）。 （ａ）〜（ｅ）は、素子基板の製造方法を説明するために供する図である。 第３実施形態の電子機器の概略構成を示すブロック図である。 従来の配向制御用の突起を備えた着色層の構成を説明する図である。

符号の説明

１０：液晶装置、２３：シール材、３０：カラーフィルタ基板、３１：ガラス基板、３３：走査電極、３５：光反射膜、３５ａ：開口部、３７：着色層、３７´：樹脂層、４１：オーバーコート層、４５：配向膜、５１：突起部、５５・５５ａ・５５ｂ・５５ｃ：色濃度調整部、６０：素子基板、６１：ガラス基板、６３：画素電極、６５：データ線、６９：ＴＦＤ素子、７５：配向膜

Claims (13)

1. 互いに対向配置された一対の基板の間に液晶材料が狭持されるとともに、複数の画素領域を有する液晶装置において、
   前記一対の基板のうちの一方の基板上の前記画素領域には色表示をするための着色層を備え、
   前記着色層は、前記液晶材料の配向状態を制御するための突起部と、前記着色層の一部に形成された非着色領域又は前記着色層の層厚とは厚さが異なる領域からなる色濃度調整部と、を備えることを特徴とする液晶装置。
2. 前記画素領域が反射領域及び透過領域を有し、前記色濃度調整部が前記着色層の開口部又は前記着色層の層厚より薄い層薄部であるとともに、当該色濃度調整部が前記反射領域に設けてあることを特徴とする請求項１に記載の液晶装置。
3. 前記画素領域が反射領域及び透過領域を有し、前記色濃度調整部が前記着色層の層厚より厚い層厚部であるとともに、当該色濃度調整部が前記透過領域に設けてあることを特徴とする請求項１に記載の液晶装置。
4. 前記突起部が、前記色濃度調整部に形成してあることを特徴とする請求項１〜３のいずれか一項に記載の液晶装置。
5. 前記着色層における、それぞれの色ごとの着色剤の濃度が等しいことを特徴とする請求項１〜４のいずれか一項に記載の液晶装置。
6. 前記画素領域における色濃度調整部の面積が、それぞれの色ごとに異なることを特徴とする請求項１〜５のいずれか一項に記載の液晶装置。
7. 前記着色層の層厚が、それぞれの色ごとに異なることを特徴とする請求項１〜６のいずれか一項に記載の液晶装置。
8. 前記突起部が所定の間隔で配置してあるとともに、前記色濃度調整部が前記突起部の間に配置してあることを特徴とする請求項１〜７のいずれか一項に記載の液晶装置。
9. 前記色濃度調整部が、前記画素領域の周縁部に設けてあることを特徴とする請求項１〜８のいずれか一項に記載の液晶装置。
10. 前記突起部の高さが部分的に異なることを特徴とする請求項１〜９のいずれか一項に記載の液晶装置。
11. 前記突起部の断面形状を、山型状、矩形状、台形状、及び半円状のうちのいずれか一つの形状とすることを特徴とする請求項１〜１０のいずれか一項に記載の液晶装置。
12. 互いに対向配置された一対の基板の間に液晶材料が狭持された液晶装置の製造方法において、
    前記一対の基板のうちの一方の基板上に着色剤を含有する樹脂層を形成する工程と、
    前記樹脂層に対して、ハーフトーン露光又は多重露光をした後、現像することにより、前記液晶材料の配向状態を制御するための突起部と、前記着色層の一部に形成された非着色領域又は前記着色層の層厚とは厚さが異なる領域からなる色濃度調整部と、を含む着色層を形成する工程と、
    を含むことを特徴とする液晶装置の製造方法。
13. 請求項１〜１１のうちのいずれか一項に記載された液晶装置を備えた電子機器。
    

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