JP4058875B2 - カラーフィルタ基板、カラーフィルタ基板の製造方法、液晶装置、液晶装置の製造方法、及び電子機器 - Google Patents

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、反射層を有するカラーフィルタ基板、カラーフィルタ基板の製造方法、液晶装置、液晶装置の製造方法、及び電子機器に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
液晶装置は、互いに対向する一対の基板間に液晶を挟持し、液晶の配向状態に応じて液晶を通過する光を変調させて表示を行うものである。かかる液晶表示装置の表示方式としては、反射型、透過型および両方の特性を備えた半透過反射型のものが知られている。
【０００３】
このうち、図１１に示す透過型の液晶装置は、基板２２０と対向基板２４０との対向面にそれぞれＩＴＯ（Indium Tin Oxide）等の透明電極２８０、２８０が配設され、そのうち、一方の基板２２０における透明電極２８０の下にはカラ−フィルタ層３２０が介装されている。そして、液晶２６０における液晶分子の配向状態を制御することで、基板２２０の外側に設けた光源（バックライト）４００から照射された光を、液晶２６０により変調して対向基板２４０側へ透過させ、カラー画像表示を行うようになっている。
【０００４】
特開平６−２３０３６４号公報に例示される反射型液晶装置には、図１２に示すように、基板２２０側の透明電極の下にカラ−フィルタ層３２０が形成され、該カラ−フィルタ層３２０と基板２２０の間には光反射性の金属膜（反射層）３００が設けられている。そして、対向基板２４０側から入射した外部光４２０を、液晶２６０を介して当該金属膜３００で反射させて入射側へ戻す際に、液晶２６０における液晶分子の配向状態を制御することでカラー画像表示を行っている。かかる反射表示型の場合、バックライト等の光源を設けなくとも蛍光灯や自然光等の周囲光により表示を行うことができ、消費電力の点で有利であるので、携帯型表示機器等への使用が広く行われている。
【０００５】
ところで、液晶装置をカラー表示させるための前記カラーフィルタ層３２０は、光の３原色をなす青色、緑色、及び赤色のいずれかのカラーフィルタ層からなり、各画素毎（すなわち、サブ画素と称するドット毎）に対応して配設されている。
【０００６】
そして、このカラーフィルタ層は、主として染色法や顔料分散法によって製造されている。このうち染色法は、高分子材料を基板に塗布してフォトリソグラフィによりパターニングした後、これを染色浴に浸漬して各色のカラーフィルタ層を形成するものである。一方、顔料分散法は、所定の顔料が分散され、いずれかの色を呈する感光性樹脂を基板に塗布した後、パターニングして各色のカラーフィルタ層を形成するものである。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、金属膜の上にカラーフィルタ層を形成させる必要がある反射型の液晶装置の場合、金属膜とカラーフィルタ層との密着性が充分でないために、カラーフィルタ層の剥離や欠損が生じるという問題がある。これは、カラーフィルタ層が高分子材料や樹脂を基材としているため、金属との親和性が低いことが原因と考えられる。
【０００８】
なお、従来から金属と樹脂等との密着性を向上させる技術として、金属の表面にプライマを塗布することが知られている。しかし、カラーフィルタ基板にこの技術を適用した場合、余分な工程が増えて生産効率が低下するだけでなく、プライマに起因して画像品質が低下する虞もある。
【０００９】
本発明は、カラーフィルタ基板における上記した問題を解決し、工程増加を招くことなく反射層とカラーフィルタ層との密着性を向上させることができるカラーフィルタ基板、カラーフィルタ基板の製造方法、液晶装置、液晶装置の製造方法及び電子機器の提供を目的とする。
【００１０】
【課題を解決するための手段】
上記した目的を達成するために、本発明のカラーフィルタ基板は、表示領域を構成する複数の画素を有するカラーフィルタ基板であって、基板上に金属膜からなる反射層が形成され、該反射層の上には各前記画素に対応した位置に青色、緑色及び赤色のカラーフィルタ層が形成されており、前記各画素の間における反射層の表面には、前記各色のカラーフィルタ層の積層構造からなる遮光層が配設され、前記遮光層の基板側の層は前記青色のカラーフィルタ層であって、前記青色のカラーフィルタ層には、フタロシアニンの金属錯体から成る色素が含まれていることを特徴とする。
【００１１】
このような構成によれば、反射層の表面に、該反射層と各カラーフィルタ層との密着性に優れるフタロシアニンの金属錯体が付着し、その上に各カラーフィルタ層が形成されているので、反射層とカラーフィルタ層との密着性を向上させることができる。
【００１２】
前記青色のカラーフィルタ層には、前記フタロシアニンの金属錯体から成る色素が含まれていることが好ましい。
【００１４】
前記遮光層の最表層は前記赤色のカラーフィルタ層であることが好ましい。
【００１５】
さらに、前記各画素の間における反射層の表面には、黒色の遮光層が配設され、前記黒色の遮光層には前記フタロシアニンの金属錯体からなる色素が含まれていることが好ましい。
【００１６】
そして、前記フタロシアニンの金属錯体は、銅フタロシアニンであることが好ましい。
【００１７】
また、本発明においては、前記各画素に対応した位置における反射層の一部には、光を透過させるための窓がそれぞれ設けられていることが好ましい。
【００１８】
本発明のカラーフィルタ基板の製造方法は、複数の画素を有するカラーフィルタ基板の製造方法であって、基板上に形成された金属膜から成る反射層の上に、青色のカラーフィルタ層形成用膜を形成する第１工程と、前記青色のカラーフィルタ層形成用膜をパターニングし、前記反射層の上における所定の画素に対応した位置に青色のカラーフィルタ層を形成する第２工程と、前記青色のカラーフィルタ層の上及び前記第２工程で表出した反射層の上に緑色又は赤色のカラーフィルタ層形成用膜を形成する第３工程と、前記緑色又は赤色のカラーフィルタ層形成用膜をパターニングし、前記第２工程で表出した反射層の上における所定の画素に対応した位置に、緑色又は赤色のカラーフィルタ層を形成する第４工程と、前記青色のカラーフィルタ層の上、前記緑色又は赤色のカラーフィルタ層の上、及び前記第４工程で表出した反射層の上に、前記第３工程で用いなかった色のカラーフィルタ層形成用膜を形成する第５工程と、前記第５工程におけるカラーフィルタ層形成用膜をパターニングし、前記第４工程で表出した反射層の上における所定の画素に対応した位置に、前記第３工程で用いなかった色のカラーフィルタ層を形成する第６工程とを有し、前記各画素の間における反射層の表面に、前記第２工程で前記青色のカラーフィルタ層を形成し、前記第４工程で前記緑色又は赤色のカラーフィルタ層を形成し、次いで、前記第６工程で前記第３工程で用いなかった色のカラーフィルタ層を形成することにより、前記各色のカラーフィルタ層の積層構造からなる遮光層を形成し、前記遮光層の基板側に前記青色のカラーフィルタ層として、フタロシアニンの金属錯体から成る色素を含んだものを用いることを特徴とする。
【００１９】
このような構成によれば、まず、反射層の上に青色のカラーフィルタ層を形成し、次いで該青色のカラーフィルタ層をパターニングした際、反射層の表面には各カラーフィルタ層との密着性に優れるフタロシアニンの金属錯体が付着することになる。そして、その上に各カラーフィルタ層を形成するので、反射層と各カラーフィルタ層との密着性を向上させることができる。
【００２０】
又、各画素間における反射層の上に、前記第２工程で前記青色のカラーフィルタ層を形成し、前記第４工程で前記緑色又は赤色のカラーフィルタ層を形成し、次いで、前記第６工程で前記第３工程で用いなかった色のカラーフィルタ層を形成することにより、各色のカラーフィルタ層の積層構造からなり、基板側の層が前記青色のカラーフィルタ層である遮光層を形成することが好ましい。
【００２１】
このような構成によれば、まず、反射層の上に青色のカラーフィルタ層を形成しているので、該反射層の表面にフタロシアニンの金属錯体が付着するとともに、遮光層を各カラーフィルタ層で兼用しているので、遮光層を形成するための工程が不要となり、生産効率を向上させることができる。
【００２２】
そして、前記第３工程において、緑色のカラーフィルタ層形成用膜を形成することが好ましい。
【００２３】
このようにすると、各カラーフィルタ層のうち赤色のカラーフィルタ層の形成順序が最後となるので、赤色のカラーフィルタ層をパターニングした際に残滓が残り、その上に形成される緑色のカラーフィルタ層の色調を損なうことがない。
【００２５】
本発明の液晶装置は、前記カラーフィルタ基板と、該カラーフィルタ基板に液晶を介して対向配置される対向基板とを備えたことを特徴とする。
【００２６】
本発明の液晶装置の製造方法は、前記カラーフィルタ基板の製造方法を含むことを特徴とする。
【００２７】
本発明の電子機器は、前記液晶装置を備えたことを特徴とする。
【００２８】
【発明の実施の形態】
以下、本発明に係るカラーフィルタ基板及びこれを含む液晶装置について、図１、図２に基づいて説明する。なお、本発明における「カラーフィルタ基板」とは、液晶装置を構成する一方の基板であって、少なくとも後述する反射層と、その上に形成されたカラーフィルタ層を備えたものをいう。その他の電極の構成については特に制限はなく、液晶装置の動作方式（パッシブマトリクス駆動方式あるいはアクティブマトリクス駆動方式）などに応じて適当な形状とすることができる。アクティブマトリクス駆動方式の液晶装置の場合、画素電極に接続される能動素子としては、３端子素子であるＴＦＴ（Thin Film Transistor）素子や、２端子素子であるＴＦＤ（Thin Film Diode）素子などを用いることができる。
【００２９】
図１に示すように、液晶装置５０において、カラーフィルタ基板８は、対向基板３８に対して所定の間隔で対向配置され、各基板８、３８の間に液晶が挟持されている。なお、この実施形態では、液晶装置５０は、能動素子としてＴＦＤ（Thin Film Diode）素子を用いたアクティブマトリクス型の液晶表示装置となっている。素子基板である対向基板３８側の、ガラス等から成る透明な基板３０の表面（カラーフィルタ基板と対向する面）には、マトリクス状に例えばＩＴＯ（Indium Tin Oxide）等の透明電極から成る複数の画素電極３２、及び、各画素電極３２に接続されるＴＦＤ素子３６が設けられている。各画素電極３２は、略矩形状に形成され、そのうち一つの隅部にはＴＦＤ素子３６が接続され、この部分が切欠部となっている。ＴＦＤ素子３６は、列あるいは行毎に、配線３４（以下、信号線３４というが、配線３４が走査線となる場合には、走査線２２が信号線となる。）に接続される。そして、画素電極と、後述する走査線２２との間に印加された電圧に基づいて、各画素毎に液晶の配向状態を制御している。なお、液晶装置５０の全体の構造や画像表示の詳しい動作については、従来のものと同様であるのでその説明を省略する。
【００３０】
カラーフィルタ基板８は、次のようにして構成されている。まず、ガラス等から成る透明な基板２上の、少なくとも駆動表示領域となる部分に、金属膜から成る反射層４をほぼ全面にわたって形成する。反射層４の上には対向基板３８の画素電極３２に対向した位置に、マトリクス状に各画素を構成する青色のカラーフィルタ層（図示「Ｂ」）１０、緑色のカラーフィルタ層（図示「Ｇ」）１２、赤色のカラーフィルタ層（図示「Ｒ」）１４、をそれぞれ配設する。ここで、各カラーフィルタ層１０、１２、１４は離間して配置され、それらの間には、非画像表示領域（画素電極３２が形成されていない非駆動領域）に対応して、後述する遮光層６が形成されている。さらに、各カラーフィルタ層１０、１２、１４の上に図示しない保護層が形成され、該保護層の上には信号線３４の延設方向と交差するようにして、短冊状のＩＴＯから成る複数の走査線２２が形成されている。
【００３１】
ここで、反射層４となる金属膜としては、例えばアルミニウム、銀、あるいはこれらの合金等の高反射率の材料（例えば反射率９０％以上）を用いることができる。各カラーフィルタ層１０、１２、１４は、例えば染色法や顔料分散法によって製造することができ、顔料分散法を適用する場合には、感光性樹脂（フォトレジスト）として例えば、富士フィルムオーリン（株）製のカラーモザイクなどを用いることができる。なお、各カラーフィルタ層に用いる顔料については後述する。ここで、各カラーフィルタ層は光の３原色（Ｒ、Ｇ、Ｂ）を構成しているので、いずれかの方向において、Ｒ、Ｇ、Ｂのカラーフィルタ層が交互に配設されていることが好ましい。例えばこの実施形態では、カラーフィルタ基板８の左から右へ向かってＲ、Ｇ、Ｂのカラーフィルタ層が交互に配設されているが、これと直角な方向にＲ、Ｇ、Ｂのカラーフィルタ層が交互に配設されていてもよい。
【００３２】
なお、画素に対応する各カラーフィルタ層１０、１２、１４の中心付近における反射層４には矩形状の小さな窓４ｄが形成され、カラーフィルタ基板８の外面側に配設されたバックライト７０からの照射光が対向基板３８側へ透過するようになっている。バックライト７０の構成は、図では省略して記載しているが、少なくとも液晶装置の駆動表示領域にわたって、均一に光を照射するために、面光源であることが好ましい。このような面光源としては、点光源を導光板によって面光源としたもの、有機ＥＬ基板を面光源とするものなどがある。
【００３３】
この液晶表示装置５０は、各カラーフィルタ層１０、１２、１４の周縁部では反射層４による反射表示を行い、その中心部では、バックライト７０から照射した光を窓４ｄから透過させて透過表示を行うようになっている。このようにすることによって、消費電力の点で有利な反射型と、周囲光の有無に影響されずに表示が可能な透過型の利点を兼ね備え、周囲光に応じて表示方式を切り替えることにより、消費電力を低減しつつ明瞭な表示が可能となる。さらに、窓４ｄの開口面積を調整することにより、反射表示時の画像表示領域を大きくすることもでき、透過表示時の画像表示領域を大きくすることもできる。窓の形状、数についても特に制限はない。
【００３４】
図１に示す液晶表示装置５０（カラーフィルタ基板８）のＡ−Ａ’線に沿う断面構造は、図２に示すようになっている。
【００３５】
この図において、反射層４の上には、各画素を構成する各カラーフィルタ層１０、１２、１４、及び、遮光層６を構成する各カラーフィルタ層１０’、１２’、１４’が直接形成され、反射層４と各カラーフィルタ層の界面における反射層４の表面４ｅには、詳しくは後述するフタロシアニンの金属錯体が付着している。各画素に対応するカラーフィルタ層１０、１２、１４間には、各画素を構成するカラーフィルタ層と同じ工程を経て形成されるカラーフィルタ層が積層され、その重なり部分が遮光層６を構成している。この遮光層６は、青色のカラーフィルタ層１０’を反射層４側（最下層）とし、その上に他のカラーフィルタ層１２’、１４’を順に重ねて成っている。さらに、各画素に対応するカラーフィルタ層１０、１２、１４、及び遮光層６の上には、例えばアクリル系樹脂等から成る保護層２０が形成され、この保護層２０の上に走査線２２が形成されている。
【００３６】
そして、遮光層６に入射された光は、各カラーフィルタ層１０’、１２’、１４’でその３原色のすべてを吸収されるので、反射光および透過光は生じず、遮光層６はブラックマトリクス（図示領域Ｄ₃）として機能する。一方、画素電極３２を含む領域は表示領域（図示領域Ｄ₁）になっていて、この部分が「画素」を構成する。そして、画素のうち、窓４ｄを含む領域が透過表示領域（図示領域Ｄ₂）をなし、残部が反射表示領域をなしている。ここで、本発明における「画素」とは、窓４ａが形成されていない場合は反射時の表示領域となり、窓４ａが形成されている場合は透過時の表示領域と反射時の表示領域を合わせた領域となり、実質的に液晶が駆動される部分である。そして、各画素で独立に液晶を駆動するべく、隣接する画素は互いに離間している。
【００３７】
本発明は、以下の知見に基づき、金属膜である反射層と各カラーフィルタ層との密着性を向上させたことに特徴がある。この知見とは、青色のカラーフィルタ層、及び黒色の樹脂遮光層（ブラックマトリクス）は反射層との密着性に優れている一方で、赤色及び緑色のカラーフィルタ層は、青色のカラーフィルタ層および黒色の樹脂遮光層に比較して、反射層との密着性が弱いということである。さらに、反射層の上に形成させた青色のカラーフィルタ層を除去した後、その部分に緑色又は赤色のカラーフィルタ層を形成すると、これらのカラーフィルタ層と反射層との密着性が向上するという知見も得られている。
【００３８】
ここで、青色のカラーフィルタ層や黒色の遮光層には、フタロシアニンの金属錯体から成る色素（顔料）が含まれているが、赤色及び緑色のカラーフィルタ層には、この顔料はほとんど含まれていないことが判明している。このことを、実際に各カラーフィルタ層に通常用いられる顔料を例として説明すると、まず、青色のカラーフィルタ層１０には、Color Index（以下、「C.I.」と称する）で「Pigment Blue 15:6」と表記される、銅フタロシアニンから成る青色顔料（一般式１）が用いられている。
【００３９】
【化１】

【００４０】
一方、緑色のカラーフィルタ層１２には、「C.I.Pigment Green 36」と表記され、銅フタロシアニンの誘導体（ハロゲン置換体）から成る緑色顔料（一般式２）と、「C.I.Pigment Yellow 150」と表記される黄色顔料（一般式３）が用いられる。
【００４１】
【化２】

【００４２】
【化３】

【００４３】
そして、赤色のカラーフィルタ層１４には、「C.I.Pigment Red 209」と表記される赤色顔料（一般式４）が用いられる。
【００４４】
【化４】

【００４５】
さらに、遮光層には、青色顔料である上記した「C.I.Pigment Blue 15:6」、「C.I.Pigment Green 36」が含まれ、さらに適宜赤色顔料（例えば「C.I.Pigment Red 177」）及び、カーボンブラックが含まれている。
【００４６】
以上のことから、青色のカラーフィルタ層と遮光層には、いずれも「C.I.Pigment Blue 15:6」、つまりフタロシアニンの金属錯体が含まれており、これが金属膜である反射層との密着性の向上に寄与するものと考えられる。
【００４７】
又、青色のカラーフィルタ層を反射層から除去しても、反射層の表面にはフタロシアニンの金属錯体が付着・残存している。そのため、当該除去部分に緑色又は赤色のカラーフィルタ層を形成した場合、これらの各カラーフィルタ層と反射層との密着性が向上するものと考えられる。
【００４８】
なお、緑色のカラーフィルタ層１２には、フタロシアニンの金属錯体のハロゲン置換体（置換数１６）が含まれているが、これは反射層との密着性に寄与しない。従って、本発明における「フタロシアニンの金属錯体」とは、フタロシアニンの金属錯体の無置換体をいい、これをハロゲン等で置換したものを原則として含めないこととする。但し、「C.I.Pigment Blue 15:1」、「C.I.Pigment Blue 15:2」は、フタロシアニンの金属錯体のモノクロロ置換体であり、これらは青色顔料として用いられている。そこで、本発明においては、フタロシアニンの金属錯体を置換数１で置換したものは「フタロシアニンの金属錯体」に含めてよいこととする。
【００４９】
上記したフタロシアニンの金属錯体が反射層と各カラーフィルタ層との密着性を向上させる理由として、当該フタロシアニンの金属錯体に配位した金属イオンが反射層（金属膜）との親和性を向上させることが考えられる。一方で、フタロシアニンの金属錯体の有機構造（フタロシアニン）は、各カラーフィルタ層の基材（高分子材料や樹脂）との親和性を向上させるものと考えられる。
【００５０】
フタロシアニンの金属錯体としては、例えば上記した銅フタロシアニンやそのモノクロロ置換体を用いることができる。
【００５１】
なお、詳しい製造方法は後述するが、青色のカラーフィルタ層１０に上記フタロシアニンの金属錯体から成る色素（青色顔料）を含有させ、反射層上の全面にわたって青色のカラーフィルタ層１０を形成した後、これをパターニングすることによって、反射層の表面にフタロシアニンの金属錯体を付着させることができる。そして、このような処理が施された反射層の上に他のカラーフィルタ層１２、１４を形成させることにより、その密着性を向上させることができる。
【００５２】
また、青色のカラーフィルタ層１０の上に形成させるカラーフィルタ層は、赤色１４と緑色のカラーフィルタ層１２のいずれでもよいが、赤色のカラーフィルタ層１４を形成した後にこれを除去すると残滓が残り、引き続いてこの部分に形成させる緑色のカラーフィルタ層１２の色調を損なう虞がある。従って、青色のカラーフィルタ層１０を形成した後に緑色のカラーフィルタ層を形成し、最後に赤色のカラーフィルタ層を形成するのが好ましく、その場合、遮光層６の最表層に赤色のカラーフィルタ層１４’が位置することになる。
【００５３】
次に、上記したカラーフィルタ基板８の製造方法について、図３〜図５を参照して説明する。なお、図３〜図５は、各工程におけるカラーフィルタ基板８の各層を、図２と同様に図１のＡ−Ａ’断面に対応させて示す工程図である。なお、本発明の製造方法において、「反射層４の上に形成する」という場合、この反射層４には窓４ｄが含まれていてもよいこととする。
【００５４】
まず、ガラスなどから成り、表面にアルミニウム膜（膜厚約２００ｎｍ）などの反射層４が形成された基板２を用意する。反射層４は、例えばスパッタリングによって形成することができる。、半透過型の液晶装置とする場合には、各画素に対応して、反射層４の所定位置に窓４ｄを設けてもよい。さらに、基板２の表面に例えばシリコン酸化膜等から成る下地保護層を予め形成しておいてもよい。
【００５５】
そして、図３（１）に示すように、窓４ｄを含む反射層４の表面に、「C.I.Pigment Blue 15:6」（銅フタロシアニン）から成る青色顔料を分散させたフォトレジスト（感光性樹脂）を塗布し、青色のカラーフィルタ層形成用膜１１０を形成する（第１工程）。
【００５６】
次に、図３（２）に示すように、この青色のカラーフィルタ層形成用膜１１０上に所定のマスク１８０ａを配設して露光を行い、未露光部のレジストをアルカリ等で除去してパターニングを行う。そして、残った膜を適宜焼成することにより、図３（３）に示す画素を構成する青色のカラーフィルタ層１０および遮光層を構成する青色のカラーフィルタ１０’を形成する（第２工程）。この場合、本工程で表出した反射層４の表面４ｅには、銅フタロシアニンが付着しているものと考えられる。なお、青色のカラーフィルタ層を形成する領域は、具体的には、本来の各画素に対応してカラーフィルタとして機能する部分（図の左端部）１０と、各画素に対応したカラーフィルタ層１０、１２、１４の間に網目状に設けられて遮光層（ブラックマトリクス）となる部分（図の中央部と右端部）１０’である。
【００５７】
次に、図３（４）に示すように、青色のカラーフィルタ層１０の上及び第２工程で表出した反射層４（窓４ｄを含む）の上に、緑色のカラーフィルタ層形成用膜１１２を形成する（第３工程）。ここで、膜１１２としては、所定のフォトレジストに、例えば「C.I.Pigment Green 36」などの緑色顔料と、「C.I.Pigment yellow 150」などの黄色顔料を分散させたものを用いることができる。
【００５８】
そして、図４（５）に示すように、緑色のカラーフィルタ層形成用膜１１２上に所定のマスク１８０ｂを配設して上記と同様に露光・パターニングを行い、図４（６）に示す画素を構成する緑色のカラーフィルタ層１２および遮光層を構成する緑色のカラーフィルタ層１２’を形成する（第４工程）。なお、緑色のカラーフィルタ層を形成する領域は、具体的には、本来のカラーフィルタとして機能する部分（図の中央部）１２、及び遮光層となる部分（図の左端部と右端部、及び中央部の周縁）１２’である。
【００５９】
次いで、図４（７）に示すように、青色のカラーフィルタ層１０の上、緑色のカラーフィルタ層１２、１２’の上、及び第４工程で表出した反射層４の上に、第３工程で用いなかった色（赤色）のカラーフィルタ層形成用膜１１４を形成する（第５工程）。ここで、膜１１２としては、フォトレジストに、例えば「C.I.Pigment Red209」などから成る赤色顔料を分散させたものを用いることができる。
【００６０】
そして、図４（８）に示すように、赤色のカラーフィルタ層形成用膜１１４上に所定のマスク１８０ｃを配設して上記と同様に露光・パターニングを行い、図５（９）に示す画素を構成する赤色のカラーフィルタ層１４及び遮光層を構成する赤色のカラーフィルタ層１４’を形成する。遮光層となる部分では、各カラーフィルタ層１０’、１２’、１４’が積層され、青色のカラーフィルタ層１０’を最も基板側とする（最下層に位置する）遮光層６が形成される（第６工程）。
【００６１】
さらに、各カラーフィルタ層１０、１２、１４、及び遮光層６の上に、アクリル系樹脂から成る保護層２０（膜厚約２μｍ）を形成し、その上にＩＴＯ（Indium Tin Oxide）などの透明な材料から成る短冊状の走査線２２（膜厚約１５０ｎｍ）を形成することにより、本発明のカラーフィルタ基板８を製造することができる（図５（１０））。これらに加えて、カラーフィルタ基板８の最表面に適宜配向膜を形成してもよい。そして、緑色及び赤色のカラーフィルタ層１２、１４は、上記したように、銅フタロシアニンが表面４ｅに付着した反射層４の上にそれぞれ形成されるので、反射層４と各カラーフィルタ層１０、１２、１４との密着性を向上させることができる。なお、上記した例では、青色のカラーフィルタ層、緑色のカラーフィルタ層、赤色のカラーフィルタ層の順に形成したが、緑色のカラーフィルタを形成する前に赤色のカラーフィルタ層を形成してもよい。
【００６２】
以上述べたように、本発明は、反射層の表面にフタロシアニンの金属錯体が付着した状態で、該反射層の上に各カラーフィルタ層が形成されているものであり、かかる本発明の要旨を変えない範囲であれば、他の実施形態を採ることもできる。これについて、図６、及び図７に基づいて説明する。なお、図６及び図７は、それぞれカラーフィルタ基板８Ｂ、８Ｃを備え、ＴＦＤ素子を能動素子として用いたアクティブマトリクス型液晶表示装置５０Ｂ、５０Ｃを示している。これらは各カラーフィルタ基板８Ｂ、８Ｃの構成が異なる他は、上記した液晶表示装置５０と同様であるのでその説明を省略する。
【００６３】
図６において、図１の実施例と異なる点は、遮光層として黒色の樹脂遮光層を用いている点である。カラーフィルタ基板８Ｂは以下のように構成されている。まず、基板２の表面に所定の窓を備えた反射層４Ｂが形成され、この反射層４Ｂの上には、対向基板３８の画素電極３２の非形成領域に対応する位置に黒色の遮光層６０が格子状に形成されている。各カラーフィルタ層１０Ｂ、１２Ｂ、１４Ｂは、反射層４Ｂ上における遮光層６０で囲まれた領域に形成され、各カラーフィルタ層の周縁部は遮光層６０の端縁部を覆うように延設されている。そして、各カラーフィルタ層及び遮光層６０の上に保護層２０Ｂが形成され、その上に短冊状の走査線２２Ｂが形成されている。
【００６４】
このカラーフィルタ基板８Ｂは、概略次のようにして製造される。まず、基板２の反射層４Ｂ上の全面に遮光層形成用膜を形成した後、パターニングして遮光層６０を形成する。この遮光層６０は、前記したように、少なくともフタロシアニンの金属錯体から成る青色顔料を含み、さらに適宜緑色顔料、黄色顔料、赤色顔料、及びカーボンブラック等を含んでおり、全体として黒色を呈している。従って、反射層４Ｂの上に全面にわたって遮光層６０を形成した際に、反射層４Ｂの表面４ｈにはフタロシアニンの金属錯体が残存・付着することになる。そして、反射層４Ｂの上の所定位置に、青色、緑色、及び赤色のカラーフィルタ層１０Ｂ、１２Ｂ、１４Ｂをそれぞれ形成し、その上に保護層２０Ｂ、走査線２２Ｂを形成することによりカラーフィルタ基板８Ｂを製造することができる。なお、上記したように、この実施形態においては、予め遮光層を形成した時に反射層４Ｂの表面４ｈにフタロシアニンの金属錯体が付着するので、青色のカラーフィルタ層１０Ｂを最初に形成する必要はなく、各カラーフィルタ層の形成順序を任意のものとすることができる。
【００６５】
次に、カラーフィルタ基板８Ｃについて、図７に基づいて説明する。この図において、基板２上には、対向基板３８の画素電極３２に対応する位置にマトリクス状に反射層４Ｃが複数個形成されている。そして、各反射層４Ｃの上に各カラーフィルタ層１０Ｃ、１２Ｃ、１４Ｃがそれぞれ形成され、各カラーフィルタ層の周縁部は反射層４Ｃの端縁部を覆っている。そして、各カラーフィルタ層及び基板２の上に保護層２０Ｃが形成され、その上に走査線２２Ｃが形成されている。ここで、このカラーフィルタ基板８Ｃには遮光層が形成されていないが、各反射層４Ｃの間では入射光が反射することがなく、この部分が遮光の機能を有するブラックマトリクスとなっている。
【００６６】
この実施形態においては、反射層４Ｃの上に、まず青色のカラーフィルタ層形成用膜を最初に形成してパターニングすることにより、反射層４Ｃの表面４ｉにフタロシアニンの金属錯体を付着させ、その後に緑色や赤色のカラーフィルタ層を形成することによって、上記した各実施形態と同様に反射層と各カラーフィルタ層との密着性を向上させることができる。
【００６７】
なお、上記した各実施形態においては、カラーフィルタ基板側の反射層の上に電極を配設した場合について説明したが、反射層そのものを電極としても勿論よい。
【００６８】
本発明のカラーフィルタ基板、液晶装置は、上述した実施形態の他にも本発明の主旨を逸脱しない範囲で種々の変更が可能である。
【００６９】
上述した実施形態では、能動素子としてＴＦＤ素子を用いた液晶装置について説明したが、ＴＦＤ素子に替えて対向基板３８にＴＦＴ素子を配設してもよい。この場合には、基板２側の走査線２２にかえて、コモン電極を配置する。
【００７０】
さらに、上述の実施形態では、反射層の表面は鏡面となっているが、本発明はこれに限られるものではない。反射層の液晶層側の表面を凹凸面とし、反射光を散乱させる散乱面としてもよい。この場合、以下の２つの方法によって散乱面を形成することができる。1番目は、反射基板１０の表面自体に凹凸面を形成し、その上に反射層を設ける。そして、基板の凹凸面を反射層表面に反映させて反射層の表面を凹凸面とする方法である。２番目は、反射基板の表面自体は鏡面とし、反射層の表面自体に凹凸を形成する方法である。
【００７１】
そして、反射層を構成する材料についても、アルミニウムまたはアルミニウム合金に限られず、例えば、銀あるいは銀合金を用いてもよい。銀合金としては、Ａｇ−Ｐｄ−Ｃｕ合金を用いることができる。
【００７２】
また、図１及び図６に記載の実施形態では、反射表示と透過表示が可能な半透過反射型液晶装置について説明したが、反射層に透過用の窓４ｄを形成せずに、反射型の液晶装置としてもよい。
【００７３】
また、図７に記載の実施形態では、画素に対応する反射層に窓を形成しない反射型液晶装置について説明したが、画素に対応する反射層にそれぞれ窓を設け、半透過反射型の液晶装置としてもよい。
【００７４】
［電子機器］
以下、本発明の液晶装置を備えた電子機器の具体例について説明する。
【００７５】
図８は、携帯電話の一例を示した斜視図である。
【００７６】
図８において、符号１０００は携帯電話本体を示し、符号１００１は上記の液晶装置を用いた液晶表示部を示している。
【００７７】
図９は、腕時計型電子機器の一例を示した斜視図である。
【００７８】
図９において、符号１１００は時計本体を示し、符号１１０１は上記の液晶装置を用いた液晶表示部を示している。
【００７９】
図１０は、ワープロ、パソコンなどの携帯型情報処理装置の一例を示した斜視図である。
【００８０】
図１０において、符号１２００は情報処理装置、符号１２０２はキーボードなどの入力部、符号１２０４は情報処理装置本体、符号１２０６は上記の液晶装置を用いた液晶表示部を示している。
【００８１】
図８ないし図１０に示す電子機器は、上記の液晶装置を用いた液晶表示部を備えたものであるので、製品歩留りや画像品質に優れた電子機器を実現することができる。
【００８２】
【発明の効果】
以上の説明で明らかなように、本発明によれば、反射層の表面に、該反射層と各カラーフィルタ層との密着性に優れるフタロシアニンの金属錯体が付着しており、その上に各カラーフィルタ層が形成されているので、反射層とカラーフィルタ層との密着性を向上させることができる。そして、この効果は、工程数を増やさずとも達成できるので、生産効率や製品歩留りの低下を招くこともない。
【００８３】
また、本発明の製造方法によれば、まず、反射層の上に青色のカラーフィルタ層あるいは黒色の遮光層を形成し、次いでパターニングすることにより、該反射層の表面には各カラーフィルタ層や黒色の遮光層との密着性に優れるフタロシアニンの金属錯体が付着することになる。そして、その上に他のカラーフィルタ層等を形成しているので、反射層と各カラーフィルタ層（黒色の遮光層）との密着性を向上させることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】 本発明の液晶装置、及びこれを構成するカラーフィルタ基板を示す斜視図である。
【図２】 図１のＡ−Ａ’線に沿う断面図である。
【図３】 カラーフィルタ基板の製造プロセスを示す工程断面図である。
【図４】 図３に続く工程断面図である。
【図５】 図４に続く工程断面図である。
【図６】 本発明の液晶装置、及びこれを構成するカラーフィルタ基板の別の例を示す部分断面図である。
【図７】 本発明の液晶装置、及びこれを構成するカラーフィルタ基板の他の例を示す部分断面図である。
【図８】 本発明の液晶装置を備えた電子機器の一例を示す斜視図である。
【図９】 同、電子機器の他の例を示す斜視図である。
【図１０】 同、電子機器のさらに他の例を示す斜視図である。
【図１１】 従来の透過表示型の液晶表示装置を示す部分断面図である。
【図１２】 従来の反射表示型の液晶表示装置を示す部分断面図である。
【符号の説明】
２、３０ 基板
４、４Ｂ、４Ｃ 反射層
４ｄ 窓
４ｅ、４ｇ、４ｈ、４ｉ 反射層の表面
６、６０ 遮光層
８、８Ｂ、８Ｃ カラーフィルタ基板
１０、１０Ｂ、１０Ｃ 青色のカラーフィルタ層
１２、１２Ｂ、１２Ｃ 緑色のカラーフィルタ層
１４、１４Ｂ、１４Ｃ 赤色のカラーフィルタ層
３８、 対向基板
５０、５０Ｂ、５０Ｃ 液晶表示装置
１１０ 青色のカラーフィルタ層形成用膜
１１２ 緑色のカラーフィルタ層形成用膜
１１４ 赤色のカラーフィルタ層形成用膜

Claims (9)

1. 表示領域を構成する複数の画素を有するカラーフィルタ基板であって、
   基板上に金属膜からなる反射層が形成され、該反射層の上には各前記画素に対応した位置に青色、緑色及び赤色のカラーフィルタ層が形成されており、
   前記各画素の間における反射層の表面には、前記各色のカラーフィルタ層の積層構造からなる遮光層が配設され、前記遮光層の基板側の層は前記青色のカラーフィルタ層であって、
   前記青色のカラーフィルタ層には、フタロシアニンの金属錯体から成る色素が含まれていることを特徴とするカラーフィルタ基板。
2. 前記遮光層の最表層は前記赤色のカラーフィルタ層であることを特徴とする請求項１に記載のカラーフィルタ基板。
3. 前記フタロシアニンの金属錯体は、銅フタロシアニンであることを特徴とする請求項１又は２に記載のカラーフィルタ基板。
4. 前記各画素に対応した位置における反射層の一部には、光を透過させるための窓がそれぞれ設けられていることを特徴とする請求項１ないし３のいずれかに記載のカラーフィルタ基板。
5. 複数の画素を有するカラーフィルタ基板の製造方法であって、
   基板上に形成された金属膜から成る反射層の上に、青色のカラーフィルタ層形成用膜を形成する第１工程と、
   前記青色のカラーフィルタ層形成用膜をパターニングし、前記反射層の上における所定の画素に対応した位置に青色のカラーフィルタ層を形成する第２工程と、
   前記青色のカラーフィルタ層の上及び前記第２工程で表出した反射層の上に緑色又は赤色のカラーフィルタ層形成用膜を形成する第３工程と、
   前記緑色又は赤色のカラーフィルタ層形成用膜をパターニングし、前記第２工程で表出した反射層の上における所定の画素に対応した位置に、緑色又は赤色のカラーフィルタ層を形成する第４工程と、
   前記青色のカラーフィルタ層の上、前記緑色又は赤色のカラーフィルタ層の上、及び前記第４工程で表出した反射層の上に、前記第３工程で用いなかった色のカラーフィルタ層形成用膜を形成する第５工程と、
   前記第５工程におけるカラーフィルタ層形成用膜をパターニングし、前記第４工程で表出した反射層の上における所定の画素に対応した位置に、前記第３工程で用いなかった色のカラーフィルタ層を形成する第６工程とを有し、
   前記各画素の間における反射層の表面に、前記第２工程で前記青色のカラーフィルタ層を形成し、前記第４工程で前記緑色又は赤色のカラーフィルタ層を形成し、次いで、前記第６工程で前記第３工程で用いなかった色のカラーフィルタ層を形成することにより、前記各色のカラーフィルタ層の積層構造からなる遮光層を形成し、
   前記遮光層の基板側に前記青色のカラーフィルタ層として、フタロシアニンの金属錯体から成る色素を含んだものを用いることを特徴とするカラーフィルタ基板の製造方法。
6. 前記第３工程において、緑色のカラーフィルタ層形成用膜を形成することを特徴とする請求項５に記載のカラーフィルタ基板の製造方法。
7. 請求項１ないし４のいずれかに記載のカラーフィルタ基板と、該カラーフィルタ基板に液晶を介して対向配置される対向基板とを備えたことを特徴とする液晶装置。
8. 請求項５又は６に記載のカラーフィルタ基板の製造方法を含む液晶装置の製造方法。
9. 請求項７に記載する液晶装置を備えたことを特徴とする電子機器。

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