JP2002229050A - 液晶表示装置および液晶表示装置の製造方法並びに電子機器 - Google Patents

液晶表示装置および液晶表示装置の製造方法並びに電子機器

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JP2002229050A
JP2002229050A JP2001029746A JP2001029746A JP2002229050A JP 2002229050 A JP2002229050 A JP 2002229050A JP 2001029746 A JP2001029746 A JP 2001029746A JP 2001029746 A JP2001029746 A JP 2001029746A JP 2002229050 A JP2002229050 A JP 2002229050A
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electrode
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Shoji Hiuga
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 反射膜上のAPCによって構成される面積が
十分に広く、反射モード時に明るい表示が得られる液晶
表示装置を提供すること。 【解決手段】 一方の基板2上に透明導電膜19と透明
導電膜19上に設けられた銀合金膜18との積層構造を
有する複数の第1の電極10が設けられるとともに、他
方の基板3上にはカラーフィルター13と透明導電膜か
らなる複数の第2の電極11とが設けられ、第1の電極
10は、銀合金膜18と透明導電膜19のうち、少なく
とも銀合金膜18が部分的に欠落した領域からなる光透
過領域12を各画素内に有し、第1の電極10または第
2の電極11と電気的に接続され、透明導電膜により形
成された引き回し配線14が一方の基板2上に設けら
れ、第1の電極10を構成する透明導電膜19と銀合金
膜18とが同じ幅であるものとする。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、液晶表示装置およ
び液晶表示装置の製造方法並びに電子機器に関し、特に
半透過反射型カラー液晶表示装置の構成に関するもので
ある。
【0002】
【従来の技術】反射型液晶表示装置はバックライト等の
光源を持たないために消費電力が小さく、従来から種々
の携帯電子機器や装置の付属的な表示部等に多用されて
いる。ところが、自然光や照明光などの外光を利用して
表示するため、暗い場所では表示を視認することが難し
いという問題があった。そこで、明るい場所では通常の
反射型液晶表示装置と同様に外光を利用するが、暗い場
所では内部の光源により表示を視認可能にした形態の液
晶表示装置が提案されている。つまり、この液晶表示装
置は反射型と透過型を兼ね備えた表示方式を採用してお
り、周囲の明るさに応じて反射モード、透過モードのい
ずれかの表示方式に切り替えることにより消費電力を低
減しつつ周囲が暗い場合でも明瞭な表示が行えるように
したものである。以下、本明細書ではこの種の液晶表示
装置のことを「半透過反射型液晶表示装置」という。
【0003】半透過反射型液晶表示装置の形態として
は、半透過反射膜、いわゆるハーフミラーを備えたもの
が知られている。半透過反射膜は通常、反射膜として用
いられるアルミニウム等の金属膜の膜厚を最適化するこ
とによって光をある程度透過すると同時にある程度反射
するようにしたものである。しかしながら、半透過反射
膜を形成するにはマスクスパッタ等の成膜技術が必要で
あり、工程が複雑化することに加えて、膜厚ばらつきが
大きいために透過率、反射率のばらつきが大きくなる、
といった欠点がある。
【0004】そこで、上記半透過反射膜の欠点を克服す
るために、光透過用のスリットを形成した反射膜を備え
た液晶表示装置が提案された。図10はパッシブマトリ
クス方式の半透過反射型カラー液晶表示装置の一例を示
している。この液晶表示装置100では、一対の透明基
板101,102間に液晶103が挟持されており、下
基板101上に反射膜104、赤(R)、緑(G)、青
(B)の異なる色の色素層105r,105g,105
bからなるカラーフィルター105、オーバーコート膜
106、シリコン酸化膜107が積層され、その上にイ
ンジウム錫酸化物(Indium Tin Oxide, 以下、ITOと
略記する)等の透明導電膜からなるストライプ状のセグ
メント電極108が形成されている。一方、上基板10
2上にはITO等の透明導電膜からなるコモン電極10
9がセグメント電極108と直交する方向にストライプ
状に形成されている。反射膜104はアルミニウムなど
の反射率の高い金属膜で形成されており、各画素毎に光
透過用のスリット110が形成されている。また、上下
基板の外側には偏光板(図示略)をそれぞれ配置し、バ
ックライト(図示略)が下基板101の下面側に配置さ
れている。
【0005】上記構成の液晶表示装置100を明るい場
所で反射モードで使用する際には上基板102の上方か
ら入射した外光が液晶103を透過して反射膜104の
表面で反射した後、再度液晶103を透過し、上基板1
02側に出射される。暗い場所で透過モードで使用する
際には下基板101の下方に設置したバックライトから
出射される光がスリット110の部分で反射膜104を
透過し、その後、液晶103を透過して上基板102側
に出射される。これらの光が各モードでの表示に寄与す
る。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】ところで、半透過反射
型液晶装置における反射膜には、アルミニウムなどの金
属膜が従来から用いられてきたが、より明るい画面が求
められており、近年、アルミニウムよりも反射率が高い
銀・パラジウム・銅合金(Ag−Pd−Cu、以下、本
明細書ではAPCと略記する)も用いられるようになっ
ている。ところが、APCは製造プロセス中において耐
水性が弱いという性質を持っており、パターン形成され
たAPCが電気的にイオン化して溶け出すことからエレ
クトロマイグレーションやこれによる電食(コロージョ
ン)が信頼性において問題とされている。従って、AP
C単独では使いにくいため、APCの上層または下層に
ITOを積層した積層膜として用いている。
【0007】図9はAPCとITOの積層膜からなる反
射電極に光透過用のスリットを設けた半透過反射型カラ
ー液晶表示装置の例を示している。この液晶表示装置9
0の例では、一対の透明基板91,92間に液晶93が
挟持されており、下基板91上に、スリット94を有す
るAPC膜95とITO膜96からなる積層構造のセグ
メント電極97がストライプ状に形成され、その上に配
向膜98が形成されている。一方、上基板92には、
R、G、Bの色素層89r,89g,89bからなるカ
ラーフィルター89、オーバーコート膜88、ITO膜
からなるストライプ状のコモン電極87、配向膜86が
順次形成されている。また、上下基板の外側には偏光板
(図示略)をそれぞれ配置し、バックライト(図示略)
が下基板91の下面側に配置されている。この構成で
は、下基板91上のAPC膜95とITO膜96の積層
膜が半透過反射層として機能すると同時に液晶駆動用の
電極としても機能するので、下基板91上にカラーフィ
ルターを形成することができず、カラーフィルター89
は上基板92の上に形成されている。
【0008】しかしながら、図9に示した従来の液晶表
示装置では、セグメント電極97を構成する95のパタ
ーンの幅WAは、ITO膜96のパターンの幅WIより
も小さく形成されている。一般に、APC膜をエッチン
グするためのエッチング液としては、リン酸、硝酸、酢
酸などの弱酸が用いられ、ITO膜をエッチングするた
めのエッチング液としては、硝酸と塩酸との混酸などの
強酸が用いられている。ITO膜は、APC膜をエッチ
ングするためのエッチング液ではエッチングできない
が、APC膜は、ITO膜をエッチングするためのエッ
チング液によってエッチングされる。このため、APC
膜95上にITO膜96が積層されたセグメント電極9
7を形成する場合において、基板上に設けられたAPC
膜95をエッチングしてセグメント電極97となる部分
を残存させた後に、ITO膜96を設け、前記ITO膜
96をエッチングする際に、APC膜95の側面を露出
させると、APC膜95の側面がITO膜96をエッチ
ングするエッチング液によってエッチングされ、必要以
上に除去されてしまうため、図9に示した液晶表示装置
のように、APC膜95の幅WAがITO膜96の幅W
Iよりも小さくなってしまうし、ITO膜96をエッチ
ングする際にAPC膜95の側面を露出させないと、A
PC膜95の側面にITO膜96が残存していることに
なり、結果としてAPC膜95の幅がITO膜96の幅
よりも小さくなってしまう。
【0009】図9に示した従来の液晶表示装置のよう
に、セグメント電極97を構成するAPC膜95のパタ
ーンの幅WAが、ITO膜96のパターンの幅WIより
も小さく形成されていると、反射膜としても機能するセ
グメント電極97の縁部が、高い反射率が得られるAP
C膜95が存在していない部分となってしまう。このた
め、図9に示した従来の液晶表示装置では、反射率の高
いAPCを反射膜として利用することによる効果が十分
に得られなかった。
【0010】さらに、図9に示した従来の液晶表示装置
においては、セグメント電極97を構成するAPC膜9
5のパターンの幅WAが、ITO膜96のパターンの幅
WIよりも小さく形成されているので、バックライトか
らの光が漏れる領域が隣接するセグメント電極97間の
領域よりも広く、混色の原因となるバックライトからの
光が漏れる量が多かった。
【0011】本発明は、上記の課題を解決するためにな
されたものであって、反射膜上のAPCによって構成さ
れる面積が十分に広く、反射モード時に明るい表示が得
られ、混色を低減することができる液晶表示装置を提供
することを目的としている。また、反射膜上のAPCが
構成する面積を十分に広いものとすることができる液晶
表示装置の製造方法を提供することを目的としている。
さらに、反射モード時に明るい表示が得られる表示部を
備えた電子機器を提供することを目的としている。
【0012】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに、本発明の液晶表示装置は、互いに対向配置された
一対の基板間に液晶が挟持され、前記一対の基板のう
ち、一方の基板上には透明導電膜と該透明導電膜上に設
けられた銀合金膜との積層構造を有する複数の第1の電
極が設けられるとともに、他方の基板上には異なる色の
複数の色素層が配列されたカラーフィルターと複数の第
2の電極とが設けられる液晶表示装置であって、前記カ
ラーフィルターの前記色素層と前記第2の電極と前記第
1の電極のぞれぞれがともに平面的に重なる領域内にお
いて、前記一方の基板側から前記透明電極膜を介して光
を透過する光透過領域が設けられているとともに、前記
透明導電膜と前記銀合金膜とが同じ幅で形成されている
ことを特徴とする。
【0013】本発明の液晶表示装置によれば、前記第1
の電極を構成する前記透明導電膜と前記銀合金膜とが同
じ幅であり、前記第1の電極の縁部にも高い反射率が得
られる銀合金膜が存在している。したがって、第1の電
極の縁部に銀合金膜が存在していない部分がある従来の
液晶表示装置と比較して、反射膜としても機能する第1
の電極上の銀合金膜によって構成される面積が広く、反
射モード時に明るい表示が得られる液晶表示装置とな
る。
【0014】また、本発明の液晶表示装置においては、
前記第1の電極が半透過反射膜を兼ねているので、隣接
する第1の電極間の領域では、常にバックライトからの
光が漏れ、混色の原因となる。これに対して、本発明の
液晶表示装置の場合、前記第1の電極を構成する前記透
明導電膜と前記銀合金膜とが同じ幅であるので、第1の
電極の縁部に銀合金膜が存在していない部分がある従来
の液晶表示装置と比較して、隣接する第1の電極の銀合
金膜間の間隙を狭くすることができ、光漏れが少なくな
るので、混色を低減することができる。その結果、透過
モードでの色の彩度が従来より向上し、カラーの各色を
鮮やかに視認し得る液晶表示装置を実現することができ
る。
【0015】また、本発明の液晶表示装置においては、
第1の電極が透明導電膜と銀合金膜との積層構造を有す
るものであり、引き回し配線が透明導電膜により形成さ
れているので、第1の電極となる透明導電膜と引き回し
配線となる透明導電膜とを同時に形成することができ、
効率よく製造することができる。また、本発明の液晶表
示装置においては、第1の電極を構成する銀合金膜が透
明導電膜上に設けられているので、引き回し配線同士の
間隔を狭くするために、引き回し配線の厚みを厚くして
抵抗を低くしたとしても、第1の電極の反射膜として機
能を低下させることがない。透明導電膜は、厚みを厚く
するのにともなって、黄色に着色されてしまうものであ
るため、仮に、第1の電極を構成する銀合金膜を透明導
電膜の下に配置したとすると、抵抗を低くするために透
明導電膜を厚くすることにより透明導電膜が黄色く着色
され、第1の電極となる透明導電膜の下に配置された銀
合金膜の反射膜として機能に悪影響を与えてしまう。本
発明の液晶表示装置によれば、第1の電極を構成する銀
合金膜が透明導電膜上に設けられているので、引き回し
配線同士の間隔を狭くすることにより額縁領域を全体と
して狭くすることが可能である。また、本発明の液晶表
示装置においては、引き回し配線が透明導電膜により形
成されているので、例えば、引き回し配線を透明導電膜
と銀合金膜との積層構造を有するものとした場合と比較
して、エレクトロマイグレーションが起こりにくく、信
頼性の高い液晶表示装置とすることができる。
【0016】前記光透過領域の具体的な形態としては、
例えば、前記カラーフィルターの前記色素層と前記第2
の電極と前記第1の電極のぞれぞれがともに平面的に重
なる領域内において、前記第1の電極を構成する銀合金
膜のパターンを窓状に開口させたものとすることができ
る。
【0017】本発明が適用できる液晶表示装置の形態と
しては、パッシブマトリクス方式の液晶表示装置が挙げ
られる。その場合、前記複数の第1の電極がストライプ
状に形成されたセグメント電極となり、前記複数の第2
の電極が第1の電極と交差する方向にストライプ状に形
成されたコモン電極となる。その他、薄膜ダイオード
(Thin Film Diode,以下、TFDと略記する)等をスイ
ッチング素子に用いたアクティブマトリクス方式の液晶
表示装置にも適用が可能である。
【0018】本発明の電子機器は、上記本発明の液晶表
示装置を備えたことを特徴とする。この構成によれば、
反射モード時に明るい表示が得られる優れた表示部を備
えた電子機器を実現することができる。
【0019】また、上記の目的を達成するために、本発
明の液晶表示装置の製造方法は、互いに対向配置された
一対の基板間に液晶が挟持された液晶表示装置の製造方
法であって、前記一対の基板のうち、一方の基板上に透
明導電膜を形成し、エッチングにより前記透明導電膜を
所定形状にパターン形成することで表示に寄与する第1
の電極となる部分および引き回し配線となる部分を形成
する第1工程と、前記第1工程後に前記銀合金膜を形成
し、エッチングにより前記第1の電極となる部分の前記
透明導電膜と同じ幅となるように前記銀合金膜をパター
ン形成するとともに、前記銀合金膜に開口を形成するこ
とにより、複数の第1の電極を設ける第2工程と、前記
他方の基板上に、カラーフィルターと複数の第2の電極
とを形成する第3工程とを備えたことを特徴とする。
【0020】本発明の液晶表示装置の製造方法は、一方
の基板上に透明導電膜を形成し、エッチングにより前記
透明導電膜のうち第1の電極となる部分を形成する第1
工程と、前記第1工程後に前記銀合金膜を形成し、エッ
チングにより前記第1の電極となる部分の前記透明導電
膜と同じ幅となるように前記銀合金膜をパターン形成す
ることにより、複数の第1の電極を設ける第2工程とを
備えた製造方法であるので、透明導電膜のエッチング
を、銀合金膜を形成する前の工程において終了すること
ができる。このため、透明導電膜をエッチングする際
に、透明導電膜をエッチングするためのエッチング液に
よって銀合金膜がエッチングされることはない。
【0021】一般に、銀合金膜をエッチングするための
エッチング液としては、リン酸、硝酸、酢酸などの弱酸
が用いられ、透明導電膜をエッチングするためのエッチ
ング液としては、硝酸と塩酸との混酸などの強酸が用い
られている。従って、先にパターン形成された透明導電
膜は、その後に形成される銀合金膜のパターン形成にお
いて銀合金膜をエッチングするエッチング液によって影
響を受けない(エッチングされない)ので、透明導電膜
のパターン形状や大きさが変らない。銀合金膜は、透明
導電膜をエッチングするためのエッチング液によってエ
ッチングされる。
【0022】このため、例えば、透明導電膜上に銀合金
膜が積層された第1の電極を、基板上に透明導電膜と銀
合金膜とを下から順に設けた後に、銀合金膜および透明
導電膜を連続してエッチングして、第1の電極となる部
分を残存させる方法により形成すると、銀合金膜が透明
導電膜をエッチングする際に使用されるエッチング液に
よって断面(側面)がエッチングされ、必要以上に除去
されてしまうため、透明導電膜のパターン形成後には銀
合金膜の幅が透明導電膜の幅よりも小さくなってしま
う。
【0023】本発明の液晶表示装置の製造方法では、上
述したように、透明導電膜をエッチングする際に銀合金
膜がエッチングされることはないので、前記第1の電極
を構成する前記透明導電膜と前記銀合金膜とを同じ幅と
することができ、前記第1の電極の縁部にも高い反射率
が得られる銀合金膜が存在している液晶表示装置を得る
ことができる。したがって、第1の電極上における銀合
金膜が構成する面積を十分に広くすることができ、反射
モード時に明るい表示が得られる液晶表示装置を得るこ
とができる。
【0024】
【発明の実施の形態】[第1の実施の形態]以下、本発
明の第1の実施の形態を図1〜図3を参照して説明す
る。図1は本実施の形態の液晶表示装置の全体構成を示
す平面図、図2は同、液晶表示装置の表示領域の拡大
図、図3は図1および図2に示すA−A’線に沿う断面
図である。本実施の形態は、パッシブマトリクス方式の
半透過反射型カラー液晶表示装置の例である。なお、以
下の全ての図面においては、図面を見やすくするため、
各構成要素の膜厚や寸法の比率などは適宜異ならせてあ
る。
【0025】本実施の形態の液晶表示装置1は、図1に
示すように、平面視矩形状の下基板2(一方の基板)と
上基板3(他方の基板)とがシール材4を介して対向配
置されている。シール材4の一部は両基板2,3の同一
辺(図1における上辺)側で開口して液晶注入口5とな
っており、双方の基板2,3とシール材4とに囲まれた
空間内に液晶が封入され、液晶注入口5が封止材6によ
って封止されている。本実施の形態では、上基板3より
も下基板2の外形寸法の方が大きく、上基板3と下基板
2の1辺(図1における上辺)では縁が揃っているが、
上基板3の残りの3辺(図1における下辺、右辺、左
辺)からは下基板2の周縁部が張出すように配置されて
いる。そして、下基板2の上記両基板2,3の同一辺と
対向する側で張出した端部(図1の下辺側の端部)には
上基板3、下基板2双方の電極を駆動するための駆動用
半導体素子7が実装されている。なお、符号8は有効表
示領域の周囲を遮光するための遮光層(周辺見切り)で
ある。
【0026】本実施の形態の場合、図1および図2に示
すように、下基板2上に、図中縦方向に延在する複数の
セグメント電極10(第1の電極)がストライプ状に形
成されている。一方、上基板3上には、セグメント電極
10と直交するように図中横方向に延在する複数のコモ
ン電極11(第2の電極)がストライプ状に形成されて
いる。カラーフィルター13のR、G、Bの各色素層1
3r,13g,13bは各セグメント電極10の延在す
る方向に対応してストライプ状に形成配置されており、
図2に示す横方向に並んだR、G、Bの3個の画素で画
面上の1個のドットが構成されている。断面構造の詳細
については後述するが、セグメント電極10はAPC膜
とITO膜の積層構造を有しており、APC膜が半透過
反射膜として機能するように、本実施の形態ではAPC
パターンが各画素毎に2個ずつの光透過用の窓部12
(光透過領域)を有している。APC膜の部分的に欠落
した領域からなる窓部(開口)12は、カラーフィルタ
ー13の各色素層13r,13g,13bを複数の画素
にわたって縦方向に見たときに千鳥状に配置されてい
る。
【0027】図1に示すように、複数のコモン電極11
のうち、図1の上側半分のコモン電極11については、
引き回し配線14がコモン電極11の右端からシール材
4に向けて引き出され、シール材4中に混入させた異方
性導電粒子からなる上下導通材を介して上基板3から下
基板2上に基板間での電気的な接続がなされ、下基板2
の周縁部に引き回され、駆動用半導体素子7の出力端子
に接続されている。同様に、図1の下側半分のコモン電
極11は、図3に示すように、左端からシール材4に向
けて引き回し配線14が引き出され、シール材4中に混
入させた異方性導電粒子41からなる上下導通材を介し
て下基板2上に基板間での電気的な接続がなされ、下基
板2の周縁部に引き回され、駆動用半導体素子7の出力
端子に接続されている。一方、セグメント電極10につ
いては、図1に示すように、引き回し配線15がセグメ
ント電極10の下端からシール材4に向けて引き出さ
れ、そのまま駆動用半導体素子7の出力端子に接続され
ている。本実施の形態の場合、これら引き回し配線1
4,15は、ITO膜により構成されている。また、駆
動用半導体素子7に各種信号を供給するための入力用配
線16が下基板2の下辺から駆動用半導体素子7の入力
端子に向けて設けられている。
【0028】断面構造を見ると、図3に示すように、ガ
ラス、プラスチック等の透明基板からなる下基板2上
に、ITO膜19上にAPC膜18が積層された2層構
造のセグメント電極10が紙面を貫通する方向にストラ
イプ状に形成されており、その上に例えば表面にラビン
グ処理が施されたポリイミド等からなる配向膜20が形
成されている。本実施の形態の場合、セグメント電極1
0の構成は、APC膜18とITO膜19とが同じ幅と
なっている。
【0029】一方、ガラス、プラスチック等の透明基板
からなる上基板3上に、R、G、Bの各色素層13r,
13g,13bからなるカラーフィルター13が形成さ
れ、カラーフィルター13上には各色素層間の段差を平
坦化すると同時に各色素層の表面を保護するためのオー
バーコート膜21が形成されている。このオーバーコー
ト膜21はアクリル、ポリイミド等の樹脂膜でもよい
し、シリコン酸化膜等の無機膜でもよい。さらに、オー
バーコート膜21上にITOの単層膜からなるコモン電
極11が紙面に平行な方向にストライプ状に形成されて
おり、その上に例えば表面にラビング処理が施されたポ
リイミド等からなる配向膜22が形成されている。上基
板3と下基板2との間にはSTN(Super Twisted Nema
tic)液晶等からなる液晶23が挟持されている。ま
た、バックライト(図示略)が下基板2の下面側に配置
されている。
【0030】また、上基板3上には、ブラックストライ
プ25(遮光層)が形成されている。ブラックストライ
プ25は例えば樹脂ブラックや比較的反射率の低いクロ
ム等の金属などからなり、R、G、Bの各色素層13
r,13g,13bの間を区画するように設けられてい
る。本実施の形態の場合、ブラックストライプ25の幅
Wが、隣接する画素のITOパターン19およびAPC
パターン18の間隔P1(セグメント電極間の間隔)に
一致している。これを図2で見ると、セグメント電極1
0の輪郭を示す外側の線は、ITOパターン19の縁お
よびAPCパターン18の縁を示し、ブラックストライ
プ25の輪郭を示す線に重なっている。
【0031】次に、上記基本構成を有する液晶表示装置
を製造する方法について説明する。まず、上記の液晶表
示装置を構成する一対の基板のうち、下基板2側の製造
工程について図4および図5を参照して詳しく説明す
る。図4および図5は、本実施の形態の液晶表示装置の
製造工程の一部を示した図であり、図4は、セグメント
電極となるITO膜を形成する工程を説明するための拡
大断面図であり、図5は、セグメント電極となるAPC
膜を形成する工程を説明するための拡大断面図である。
【0032】図4(a)に示すように、下基板2上にI
TO膜39をスパッタにより形成する。次に、図4
(b)に示すように、前記ITO膜39上のセグメント
電極10となる部分および引き回し配線14,15とな
る部分(図示略)にレジスト31を形成し、硝酸と塩酸
との混酸などの強酸からなるエッチング液を使用し、図
4(c)に示すように、エッチングによりITO膜39
のうちセグメント電極10および引き回し配線14,1
5となるITO膜19を残存させて所定形状にパターン
形成する。その後、図5(a)に示すように、ITO膜
19が設けられた下基板2上にAPC膜38をスパッタ
により形成する。そして、図5(b)に示すように、A
PC膜38上の窓部12となる部分を除くセグメント電
極10となる部分にレジスト32を形成し、リン酸、硝
酸、酢酸などの弱酸からなるエッチング液を使用し、図
5(c)に示すように、エッチングにより窓部12が設
けられたAPC膜38が所定形状にパターン形成する。
ここで、セグメント電極10となるAPC膜38とIT
O膜19はともに同じ幅となるようにAPC膜18がエ
ッチングにより残存される。
【0033】この後、ポリイミド等からなる配向膜20
を設け、表面にラビング処理を施して下基板2を完成さ
せる。続いて、下基板2上に、光硬化性樹脂,熱硬化性
樹脂を用いてディスペンサによる描画方法或いは印刷法
によってシール材を形成する。この際、未硬化のシール
材の1部位に液晶注入口5を形成する。
【0034】一方、上基板3上には、カラーフィルター
13と、オーバーコート膜21と、ITO膜からなる複
数のコモン電極11と、ポリイミド等からなる配向膜2
2とを順に従来と同様の方法などにより設ける。次に、
このようにして得られた下基板2と上基板3とを、それ
ぞれの基板に設けられている配向膜が内側を向くように
対向させて貼り合わせ、未硬化のシール材を硬化させ
る。そして、下基板2と上基板3とシール材4とに囲ま
れた空間内に、液晶注入装置を用い、液晶注入口5を通
して液晶23を注入する。その後、液晶注入口5を封止
材6で封止して液晶表示装置を完成する。
【0035】上記基本構成を有する液晶表示装置におい
ては、セグメント電極10を構成するAPC膜18とI
TO膜19とが同じ幅であり、セグメント電極10の縁
部までAPC膜18が広く確保されて存在しているので
高い反射率が得られる。したがって、セグメント電極と
して機能するITO膜とAPC膜において、ITO膜よ
りAPC膜の方が形成幅が狭い場合(セグメント電極の
縁部にAPC膜が存在していない部分がある従来の構
成)と比較して、反射膜としても機能するセグメント電
極10上のAPC膜18よって構成される面積が広く、
反射モード時に明るい表示が得られる。
【0036】また、上記基本構成を有する液晶表示装置
においては、セグメント電極を構成するAPCパターン
が半透過反射膜を兼ねているので、従来の構造では隣接
するセグメント電極のAPCパターン間の領域では常に
バックライトからの光が漏れ、混色の原因となってい
た。これに対して、本実施の形態の液晶表示装置1の場
合、セグメント電極10を構成するAPC膜18とIT
O膜19とが同じ幅で形成されているので、セグメント
電極の縁部にAPC膜が存在していない部分がある従来
の液晶表示装置と比較して、隣接するセグメント電極の
APCパターン18間の間隙を狭くすることができ、光
漏れを少なくすることができることに加えて、隣接する
セグメント電極10のAPCパターン18間の間隙を完
全に覆うようにブラックストライプ25を設けたことに
よって光漏れをなくすことができるため、混色を防止す
ることができる。その結果、反射率に優れたAPC膜を
用いたことで反射モードでの表示の明るさが向上するの
と同時に、透過モードでの色の彩度が従来より向上し、
カラーの各色を鮮やかに視認し得る液晶表示装置を実現
することができる。また、ITOパターン19によって
窓部12の直上の液晶にも電界が印加されることにな
り、透過モードでの表示が可能なうえ、半透過反射膜と
してAPC膜を用いたことで反射モードでの明るい表示
が可能であることから、最適な半透過反射型カラーの液
晶表示装置を実現することができる。
【0037】さらに、本実施の形態は、上基板3上のカ
ラーフィルター13中にブラックストライプ25を形成
する構成のため、製造プロセス、特に下基板2側の製造
プロセスを複雑化することなく、容易に混色対策を実施
することができる。また、本実施の形態の液晶表示装置
においては、引き回し配線14,15がITO膜により
構成されているので、例えば、引き回し配線をITO膜
とAPC膜との積層構造を有するものとした場合と比較
して、エレクトロマイグレーションが起こりにくく、信
頼性の高い液晶表示装置とすることができる。
【0038】さらに、本実施の形態の場合、上下導通材
を用いてセグメント電極10の駆動とコモン電極11の
駆動を下基板2上の1個の駆動用半導体素子7で担うよ
うにしたことによって額縁領域を全体として狭くでき、
これによって狭額縁化が図れるので、小型の携帯用電子
機器などに好適な液晶表示装置を提供することができ
る。
【0039】また、上記の液晶表示装置の製造方法は、
セグメント電極10となるITO膜19を残存させた
後、エッチングによりセグメント電極10となるITO
膜19と同じ幅となるようにAPC膜18を残存させる
ことにより、複数のセグメント電極10を設けるので、
ITO膜のエッチングをAPC膜を設ける前の工程にお
いて終了することができ、ITO膜をエッチングする際
にAPC膜がエッチングされることがない。このことに
より、セグメント電極10を構成するITO膜19とA
PC膜18とを同じ幅とすることができ、セグメント電
極10の縁部にも高い反射率が得られるAPC膜18が
存在している上記の液晶表示装置を得ることができる。
【0040】[電子機器]上記実施の形態の液晶表示装
置を備えた電子機器の例について説明する。図6は、携
帯電話の一例を示した斜視図である。図6において、符
号1000は携帯電話本体を示し、符号1001は上記
の液晶表示装置を用いた液晶表示部を示している。
【0041】図7は、腕時計型電子機器の一例を示した
斜視図である。図7において、符号1100は時計本体
を示し、符号1101は上記の液晶表示装置を用いた液
晶表示部を示している。
【0042】図8は、ワープロ、パソコンなどの携帯型
情報処理装置の一例を示した斜視図である。図8におい
て、符号1200は情報処理装置、符号1202はキー
ボードなどの入力部、符号1204は情報処理装置本
体、符号1206は上記の液晶表示装置を用いた液晶表
示部を示している。
【0043】図6〜図8に示す電子機器は、上記実施の
形態の液晶表示装置を用いた液晶表示部を備えているの
で、反射モードで明るい表示が得られる表示部を有する
電子機器を実現することができる。
【0044】なお、本発明の技術範囲は上記実施の形態
に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない
範囲において種々の変更を加えることが可能である。例
えば上記の実施の形態では上基板上のカラーフィルター
の色素層間にブラックストライプを設けた例を示した
が、ブラックストライプを設ける層の位置は他の層の間
であってもよい。もしくは、下基板側の製造プロセスが
多少複雑化することに支障がなければ、下基板側にブラ
ックストライプを設けてもよい。その場合は貼り合わせ
によるブラックストライプとAPCパターンのアライメ
ントの問題は発生しない。
【0045】また、隣接するセグメント電極の間隙に沿
った領域にブラックストライプを設けることに代えて、
隣接するコモン電極の間隙に沿った領域にブラックスト
ライプを設けてもある程度混色を防止することが可能で
ある。しかしながら、セグメント電極の間隙に沿う方向
がカラーフィルターの異なる色を区画する方向であるこ
と、通常セグメント電極の幅はコモン電極の幅の1/3
程度であること、などを考え合わせると、上記実施の形
態のように、隣接するセグメント電極の間隙に沿う領域
にブラックストライプを設ける方が効果的である。
【0046】また、第1の実施の形態では光透過用の窓
部を設けた例を示したが、窓部の形状、寸法、数、形成
位置等に関しては、例えば反射モードと透過モードの輝
度のバランス、表示の見栄えなどに応じて適宜設定すれ
ばよい。また、銀合金膜としては、APC膜の他、銀・
パラジウム合金(AP)膜などの銀合金膜を用いてもよ
い。透明導電膜としては、ITO膜に代えて、他の透明
導電膜を用いてもよい。また、上記実施の形態では、本
発明をパッシブマトリクス方式の液晶表示装置に適用し
たが、TFD等をスイッチング素子に用いたアクティブ
マトリクス方式の液晶表示装置にも適用可能である。
【0047】
【発明の効果】以上、詳細に説明したように、本発明に
よれば、前記第1の電極を構成する前記透明導電膜と前
記銀合金膜とが同じ幅であり、前記第1の電極の縁部に
も高い反射率が得られる銀合金膜が存在している。した
がって、第1の電極の縁部に銀合金膜が存在していない
部分がある従来の液晶表示装置と比較して、反射膜とし
ても機能する第1の電極上の銀合金膜によって構成され
る面積が広く、反射モード時に明るい表示が得られる液
晶表示装置となる。また、本発明の液晶表示装置の製造
方法によれば、透明導電膜をエッチングする際に銀合金
膜がエッチングされることはないので、前記第1の電極
を構成する前記透明導電膜と前記銀合金膜とを同じ幅と
することができ、前記第1の電極の縁部にも高い反射率
が得られる銀合金膜が存在している液晶表示装置を得る
ことができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明の第1、第2の実施の形態に共通の液
晶表示装置の全体構成を示す平面図である。
【図2】 第1の実施形態の液晶表示装置の表示領域の
拡大平面図である。
【図3】 図1および図2に示すA−A’線に沿う断面
図である。
【図4】 第1の実施形態の液晶表示装置の製造工程の
一部を示した図であって、セグメント電極となるITO
膜を形成する工程を説明するための拡大断面図である。
【図5】 第1の実施形態の液晶表示装置の製造工程の
一部を示した図であって、セグメント電極となるAPC
膜を形成する工程を説明するための拡大断面図である。
【図6】 本発明の電子機器の一例を示す斜視図であ
る。
【図7】 同、電子機器の他の例を示す斜視図である。
【図8】 同、電子機器のさらに他の例を示す斜視図で
ある。
【図9】 APCとITOの積層膜を半透過反射膜とし
た液晶表示装置の一例を示す断面図である。
【図10】 Al膜を半透過反射膜とした液晶表示装置
の一例を示す断面図である。
【符号の説明】
1 液晶表示装置 2 下基板(一方の基板) 3 上基板(他方の基板) 10 セグメント電極(第1の電極) 11 コモン電極(第2の電極) 12 窓部(光透過領域) 13 カラーフィルター 13r,13g,13b 色素層 18 APC膜(APCパターン、銀合金膜) 19 ITO膜(ITOパターン、透明導電膜) 23 液晶 25 ブラックストライプ(遮光層)
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) G09F 9/30 349 G09F 9/30 349A 349D Fターム(参考) 2H091 FA02Y FA14Y FA41Z FB08 GA02 GA03 GA06 HA07 LA16 2H092 GA13 GA21 GA34 HA04 HA05 KB04 KB13 MA17 NA01 PA02 PA08 PA12 PA13 QA07 5C094 AA08 AA10 AA22 AA31 AA43 AA48 BA43 CA14 CA19 CA24 DA13 DB04 EA04 EA05 EA06 EB02 EC02 ED03 ED11 ED15 FA01 FB02 FB12 GB10

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 互いに対向配置された一対の基板間に液
    晶が挟持され、前記一対の基板のうち、一方の基板上に
    は透明導電膜と該透明導電膜上に設けられた銀合金膜と
    の積層構造を有する複数の第1の電極が設けられるとと
    もに、他方の基板上には異なる色の複数の色素層が配列
    されたカラーフィルターと複数の第2の電極とが設けら
    れる液晶表示装置であって、 前記カラーフィルターの前記色素層と前記第2の電極と
    前記第1の電極のぞれぞれがともに平面的に重なる領域
    内において、前記一方の基板側から前記透明電極膜を介
    して光を透過する光透過領域が設けられているととも
    に、前記透明導電膜と前記銀合金膜とが同じ幅で形成さ
    れていることを特徴とする液晶表示装置。
  2. 【請求項2】 前記カラーフィルターの前記色素層と前
    記第2の電極と前記第1の電極のぞれぞれがともに平面
    的に重なる領域内において、前記第1の電極を構成する
    銀合金膜のパターンが窓状に開口され、該窓状に開口さ
    れた部分が前記光透過領域となることを特徴とする請求
    項1に記載の液晶表示装置。
  3. 【請求項3】 前記複数の第1の電極がストライプ状に
    形成されたセグメント電極であり、前記複数の第2の電
    極が前記第1の電極と交差する方向にストライプ状に形
    成されたコモン電極であることを特徴とする請求項1ま
    たは請求項2に記載の液晶表示装置。
  4. 【請求項4】 請求項1ないし3のいずれか一項に記載
    の液晶表示装置を備えたことを特徴とする電子機器。
  5. 【請求項5】 互いに対向配置された一対の基板間に液
    晶が挟持された液晶表示装置の製造方法であって、 前記一対の基板のうち、一方の基板上に透明導電膜を形
    成し、エッチングにより前記透明導電膜を所定形状にパ
    ターン形成することで表示に寄与する第1の電極となる
    部分および引き回し配線となる部分を形成する第1工程
    と、 前記第1工程後に前記銀合金膜を形成し、エッチングに
    より前記第1の電極となる部分の前記透明導電膜と同じ
    幅となるように前記銀合金膜をパターン形成するととも
    に、前記銀合金膜に開口を形成することにより、複数の
    第1の電極を設ける第2工程と、 前記他方の基板上に、カラーフィルターと複数の第2の
    電極とを形成する第3工程とを備えたことを特徴とする
    液晶表示装置の製造方法。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7142275B2 (en) 2002-10-25 2006-11-28 Seiko Epson Corporation Electro-optic device having multi-layer conductive layer, method of manufacturing the same, and electronic apparatus

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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US7142275B2 (en) 2002-10-25 2006-11-28 Seiko Epson Corporation Electro-optic device having multi-layer conductive layer, method of manufacturing the same, and electronic apparatus

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