JPH07306007A - 透明基板の位置合わせ方法 - Google Patents

透明基板の位置合わせ方法

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JPH07306007A
JPH07306007A JP6123144A JP12314494A JPH07306007A JP H07306007 A JPH07306007 A JP H07306007A JP 6123144 A JP6123144 A JP 6123144A JP 12314494 A JP12314494 A JP 12314494A JP H07306007 A JPH07306007 A JP H07306007A
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薫 岡田
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Abstract

(57)【要約】 【目的】同種の位置合わせマークを付した複数の透明基
板同士であっても容易かつ正確に位置合わせできるよう
にする。 【構成】液晶表示パネルの何れか一方のガラス基板のア
ライメントマークを撮像部に取り込み、濃度ヒストグラ
ム変換して(ステップS100)、2値化して座標位置
を認識する(ステップS101)。ここで光量をチェッ
クして(ステップS102)、適切な光量であれば、上
ガラス基板のアライメントマーク画像(U)を取り込
む。次に、下ガラス基板を挿入して、上下基板のアライ
メントマークの合成画像を濃度ヒストグラム変換し(ス
テップS106)、再度、照度を判別する(ステップS
107)。照度が適切ならば、合成画像から一方のガラ
ス基板の画像を減算して、後から重ねた透明基板のアラ
イメントマーク画像を抽出する。個々のマーク位置から
位置調整を行う(ステップS112)。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、複数の透明基板同士を
高精度に位置合わせする透明基板の位置合わせ方法に関
する。
【0002】
【従来の技術】近年、電子機器が小型化するに伴って、
各種電子機器の表示部として液晶表示装置(LCD:Li
quid Crystal Display)等が広く用いられている。
【0003】この液晶表示装置の液晶表示パネルを製造
する工程では、例えば、2枚の透明基板を数μm〜十数
μmの微細間隔を隔てて対向配置し、この上下基板の対
向面に液晶を駆動するための透明電極が所定のパターン
形状に積層配置されている。従って、液晶表示パネルを
構成する上下基板は、対向する透明電極を適正な位置に
配置するため、高精度に位置合わせする必要がある。
【0004】そこで、上下透明基板同士を正確に位置合
わせするには、上下の透明基板に予め位置合わせ用のマ
ークを付し、その上下の位置合わせマーク像をカメラで
認識して、その位置合わせマーク同士が所定の位置関係
になるように上下の透明基板を移動させて行っている。
【0005】図8及び図9は、従来の透明基板の位置合
わせ方法を説明する図である。
【0006】図8(a)は、位置合わせ用のアライメン
トマーク1、2が付された上下ガラス基板を重ね合わせ
た状態をカメラで見た図である。図8のアライメントマ
ークは、マークを付す矩形領域を示したもので、各領域
内には、例えば、井桁状や十字状などのアライメントマ
ークが液晶表示パネルの透明電極と同じ酸化インジウム
膜(ITO:Indium Tin Oxide)を用いて形成されてい
る。
【0007】ここでは、上下ガラス基板には、十字状の
アライメントマークが付されており、図8(b)に示す
ように、十字マークの交点間のx軸、y軸方向のΔx、
Δyを測ることによって、上下ガラス基板の位置ずれ量
を把握することができる。
【0008】そして、上記認識した位置ずれ量に基づい
て、図9に示すように、上基板あるいは下基板をx軸方
向にΔx、y軸方向にΔyだけ移動して交点を近づけ
て、最終的に両方のアライメントマークを重ね合わせる
ようにすることにより、位置合わせするものである。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うな透明基板の位置合わせ方法にあっては、図8又は図
9に示すように、上下基板に付したアライメントマーク
1、2を透視した場合、アライメントマークが同じ形状
をしていると、上下何れの基板に付されたマークなのか
が判別できなかった。このため、上記アライメントマー
クを使って透明基板を位置合わせする場合は、何れか一
方の基板を少し移動させてその位置変化分から上下基板
のマーク位置を把握し、その位置関係を把握した基板同
士を相対的に移動させることによって位置合わせする必
要があり、非常に面倒であった。
【0010】また、従来では、一対の基板にそれぞれ異
なる位置合わせマークとして、例えば、井桁マークと十
字マークとを付して位置合わせすることも行われてい
る。上下基板で位置合わせマークが異なれば、上下基板
の相対位置が把握できて、容易に位置合わせすることが
できる。しかし、上記した井桁マークと十字マークの組
み合わせのように、2つの位置合わせマークをカメラの
視野内に収めて位置合わせを開始する場合の最大位置ず
れ量の許容範囲が、同種の位置合わせマーク(例えば、
十字マーク)の場合に比べて狭くなるという問題が出て
くる。
【0011】本発明は、上記課題に鑑みてなされたもの
であり、同種の位置合わせマークを付した透明基板同士
であっても、容易かつ正確に位置合わせすることが可能
な透明基板の位置合わせ方法を提供することを目的とす
る。
【0012】
【課題を解決するための手段】請求項1記載の透明基板
の位置合わせ方法は、それぞれに位置合わせマークの付
された一対の透明基板を所定の位置関係で重ね合わせ
て、該一対の透明基板同士を位置合わせする透明基板の
位置合わせ方法において、前記一対の透明基板を重ね合
わせる前に、そのうちの何れか一方の透明基板に付され
た前記位置合わせマークの画像を認識する第1のマーク
認識工程と、前記一対の透明基板を重ね合わせた後、当
該重ね合わされた一対の透明基板の重なり合った前記位
置合わせマークの画像を認識する第2のマーク認識工程
と、前記第2のマーク認識工程で認識した画像から前記
第1のマーク認識工程で認識した画像を減算して後から
重ね合わせた透明基板に付された位置合わせマークの画
像を認識する第3のマーク認識工程と、前記第1のマー
ク認識工程で認識したマークと前記第3のマーク認識工
程で認識したマークの相対位置を認識する相対位置認識
工程と、前記相対位置認識工程の認識結果から前記一対
の透明基板のうち少なくとも何れか一方を移動させるこ
とにより位置合わせを行う位置合わせ工程と、を有する
ことにより、上記目的を達成する。
【0013】請求項2記載の透明基板の位置合わせ方法
は、請求項1記載の第1のマーク認識工程は、一対の透
明基板の一方の位置合わせマークの座標位置を認識し、
請求項1記載の第3のマーク認識工程は、他方の透明基
板の位置合わせマークの座標位置を認識し、前記認識し
た各位置合わせマークの座標位置に基づいて透明基板同
士を位置合わせするようにしてもよい。
【0014】請求項3記載の透明基板の位置合わせ方法
は、請求項1記載の一対の透明基板が上下に配され、請
求項1記載の第1のマーク認識工程により、上側の透明
基板のマーク位置を認識し、請求項1記載の第3のマー
ク認識工程により、下側の透明基板のマーク位置を認識
し、前記認識した各位置合わせマークの相対位置に基づ
いて透明基板同士を位置合わせするようにしてもよい。
【0015】
【作用】請求項1記載の透明基板の位置合わせ方法で
は、第1のマーク認識工程で一対の透明基板の何れか一
方の透明基板に付された位置合わせマークの画像を認識
し、第2のマーク認識工程でもう一方の透明基板を重ね
合わせて、一対の透明基板の重なり合った位置合わせマ
ークの画像を認識し、第3のマーク認識工程で第2のマ
ーク認識工程で認識した画像から第1のマーク認識工程
で認識した画像を減算して後から重ね合わせた透明基板
に付された位置合わせマークの画像を認識する。
【0016】従って、上記した位置合わせマーク画像の
コントラスト差を利用して画像を減算処理するだけで、
一対の透明基板に付されている位置合わせマークの画像
を別々に認識可能となり、各透明基板同士の相対位置を
把握して、位置合わせを正確に行うことができる。
【0017】請求項2記載の透明基板の位置合わせ方法
では、請求項1記載の第1のマーク認識工程と第3のマ
ーク認識工程において、一対の透明基板のそれぞれの位
置合わせマークの位置を座標位置として認識するように
する。
【0018】従って、一対の透明基板に付されたそれぞ
れの位置合わせマーク同士の相対位置関係を一層明確に
把握することが可能となり、位置合わせが容易に行え
る。
【0019】請求項3記載の透明基板の位置合わせ方法
では、請求項1記載の一対の透明基板を上下に配して、
第1のマーク認識工程で上側の透明基板のマーク位置を
認識し、第3のマーク認識工程で下側の透明基板のマー
ク位置を認識するようにする。
【0020】従って、透明基板を上下に配して位置合わ
せする液晶表示パネルなどに適用することができる。
【0021】
【実施例】以下、本発明を実施例に基づいて説明する。
【0022】図1〜図7は、本発明に係る透明基板の位
置合わせ方法を説明する図である。本実施例では、液晶
表示装置の液晶表示パネルに用いる2枚のガラス基板の
位置合わせ方法について説明する。
【0023】図1は、本実施例で用いた透明基板の位置
合わせ装置11の構成を示すブロック図である。図1に
おいて、位置合わせ装置11は、撮像部12、光源1
3、増幅器14、A/Dコンバータ15、濃度ヒストグ
ラム変換部16、演算部17、2値化特徴抽出部18、
メモリ19、CPU20、調光部21、ガラス基板駆動
部22などから構成されている。
【0024】そして、この位置合わせ装置11を用い
て、液晶表示パネル23の上下ガラス基板24、25付
された位置合わせマーク(以下、アライメントマークと
もいう)26の画像をそれぞれ認識して、上下ガラス基
板24、25を正確に位置合わせするものである。本実
施例のアライメントマーク26は、液晶表示パネル23
の対向面に積層形成される透明電極と同じ酸化インジウ
ム膜(ITO:Indium Tin Oxide)を使って同一工程で
形成される。
【0025】撮像部12は、ここでは2次元のCCD
(Charge Coupled Device)カメラで構成されており、
光源13からの光がハーフミラー12aとレンズ12b
を介して撮像対象のアライメントマーク26に向けて照
射される。アライメントマーク26に照射された光は、
ここで反射されて再びレンズ12bとハーフミラー12
aを通って撮像部12のCCD受光面に結像され、ビデ
オ信号に変換される。
【0026】増幅器14は、撮像部12から出力される
ビデオ信号を増幅して、次段のA/Dコンバータ15に
出力する。
【0027】A/Dコンバータ15は、増幅されたビデ
オ信号を8ビットのデジタルデータに変換して濃度ヒス
トグラム変換部16に出力する。
【0028】濃度ヒストグラム変換部16は、入力画像
データを輝度レベル順に並べて、各輝度レベルにおける
画素数をとったもので、入力画像の濃度分布を表す濃度
ヒストグラムを作成する。
【0029】演算部17は、一対の透明基板のうちの一
方のアライメントマークの画像データを、もう一方の透
明基板を重ね合わせた上下2つのアライメントマークの
合成画像から減算して、後で重ね合わせた透明基板に付
されているアライメントマークの画像データを取り出す
ための減算処理を行うものである。
【0030】2値化特徴抽出部18は、アライメントマ
ークの画像データ位置とその形状を認識するため、光を
反射して明るく見えるITOのアライメントマーク部分
を“1”とし、それ以外の暗いガラス基板部分を“0”
として区別する所定のしきい値を使い、2値化処理する
ものである。この2値化特徴抽出部18で2値化処理す
る画像は、前記演算部17から入力される一対の透明
基板のうちの一方のアライメントマーク画像と、前記
演算部17による減算結果であるもう一方の透明基板に
付されたアライメントマーク画像とがある。
【0031】メモリ19は、前記演算部17で合成画像
から一方の画像を減算処理する際に必要な演算データを
記憶するもので、演算処理状況に応じて画像データの書
き込みと読み出しが行われる。ここでは、一方の透明基
板に付されたアライメントマークの画像データを「U」
とし、一対の透明基板を重ね合わせた2つのアライメン
トマークの合成画像データを「M」とした場合、演算部
17からスルー出力される「U」データを当該メモリ1
9に一旦記憶し、演算部17に「M」データが入力され
た時点でメモリ19から「U」データを読み出して、|
M−U|の減算処理を演算部17で行われる。
【0032】CPU20は、透明基板の位置合わせ装置
11の全体を制御するものである。例えば、前記濃度ヒ
ストグラム変換部16で変換した濃度分布の分散値を求
め、これに基づいて最適2値化を行うためのしきい値を
決定し、このしきい値に基づいて前記2値化特徴抽出部
18で2値化する。また、前記2値化特徴抽出部18で
抽出された各透明基板に付されたアライメントマークの
画像データに基づいて座標位置を投影処理して、各透明
基板相互の位置関係を把握する。さらに、CPU20
は、後述する調光部21によって光源13の光量を調節
して、適切な光量でアライメントマークが照明されるよ
うに制御する。また、CPU20は、2値化特徴抽出部
18からの画像データに基づいて把握した各透明基板の
座標位置に基づいて、後述するガラス基板駆動部22を
制御して、アライメントマーク同士が重なり合う位置に
ガラス基板を移動させて位置合わせする。
【0033】調光部21は、CPU20の制御信号に基
づいて光源13照度を調節し、撮像部12に適切な画像
データが入力されるようにするものである。
【0034】ガラス基板駆動部22は、各透明基板のア
ライメントマーク位置を認識して、各透明基板の相対位
置から両者の位置ずれ方向、位置ずれ量、回転角等を検
出し、少なくとも透明基板の一方を移動することによ
り、一対の透明基板同士を高精度に位置合わせするもの
である。
【0035】上記のように構成された本実施例の位置合
わせ装置11は、まず、液晶表示パネル23の上ガラス
基板24のアライメントマークのみを撮像した画像を認
識し、次に、下ガラス基板25を挿入して上下ガラス基
板を重ねた状態で上下基板のアライメントマークを撮像
した合成画像を認識し、これらの認識画像同士を減算処
理して下ガラス基板25のアライメントマーク画像を抽
出する。
【0036】図2は、透明基板に付されたアライメント
マークとその位置を検出する撮像部を示す図である。
【0037】図2に示すように、上ガラス基板24のア
ライメントマーク26aは、上ガラス基板24の下面に
積層形成されている。本実施例では、アライメントマー
クを液晶表示パネルの表示領域以外のガラス基板の端部
に2ヵ所設けたが、図2では説明の便宜上、ガラス基板
23、24の中央部に設けた図を示している。
【0038】また、下ガラス基板25のアライメントマ
ーク26bは、下ガラス基板25の上面に積層形成され
ている。このため、アライメントマーク26a、26b
は、上下ガラス基板24、25のギャップBの間隔で対
向配置されている。
【0039】上下ガラス基板24、25を位置合わせす
る場合は、上下ガラス基板24、25のアライメントマ
ーク26a、26bが同一焦点深度内に入るように、撮
像部12の倍率を50倍程度の低倍率として撮像する。
【0040】そして、位置合わせ後は、ガラス基板2
4、25を所定温度まで加熱し、上下方向から加圧する
ことにより、ギャップ間隔を5〜10μm程度に制御し
て図示しないシール材を硬化させ、ガラス基板の位置を
固定して液晶セルを構成するものである。
【0041】本実施例では、撮像部12のレンズ12b
を矢印Aで示す上下方向に移動させてアライメントマー
ク26a、26bに焦点を合わせる。アライメントマー
ク26a、26bは、同一焦点深度内に入っているの
で、両方のマークを同時に認識することができる。
【0042】図3は、上下ガラス基板24、25を重ね
合わせた状態でのアライメントマーク26a、26bの
合成画像を示す図である。
【0043】図3に示すように、合成画像は、上ガラス
基板24に形成されたアライメントマーク26aと下ガ
ラス基板25に形成されたアライメントマーク26bと
が一部で重なり合っており、上アライメントマーク・ガ
ラス合成部30、上下アライメントマーク・ガラス合成
部31、下アライメントマーク・ガラス合成部32、及
び上下ガラス合成部33の4つの領域に分けることがで
きる。
【0044】図4は、各ガラス基板に付された個々のア
ライメントマーク画像をx軸y軸方向に投影してその座
標位置を認識する動作を説明する図である。図4に示す
x軸への投影画像40と、y軸への投影画像41は、認
識したアライメントマーク画像26を図1の2値化特徴
抽出部18で“1”(明るい部分)と“0”(暗い部
分)とに2値化し、CPU20においてアライメントマ
ーク26を示す“1”のデータのx軸方向とy軸方向の
画素分布を集計することにより得られる。
【0045】図5は、アライメントマークの濃度ヒスト
グラムを示す図であり、(a)はアライメントマーク2
6aの濃度ヒストグラム、(b)はアライメントマーク
26aと26bとの合成画像の濃度ヒストグラムであ
る。
【0046】図5(a)における濃度ヒストグラムの左
側の山部分Lは、上ガラス基板24の背景の暗いガラス
基板領域を示しており、右側の山部分Hは、上ガラス基
板24に付された明るいアライメントマーク領域を示し
ている。そして、その間の谷部分を通る一点鎖線は、ア
ライメントマークと背景のガラス基板とを区別するため
のしきい値(Vth)である。
【0047】また、図5(b)における濃度ヒストグラ
ムの3つの山部分は、コントラストの異なる3つの領域
が存在していることを示している。同図(b)の右端の
山部分は、図3に示す上下のアライメントマークが重な
った上下アライメントマーク・ガラス合成部31のコン
トラストを示しており、中央の山部分は、図3の上アラ
イメントマーク・ガラス合成部30と下アライメントマ
ーク・ガラス合成部32とのコントラストを示してお
り、左端の山部分は、図3のアライメントマークの背景
である上下ガラス合成部33のコントラストを示してい
る。そして、各山部分の間に存在する谷部分は、上記し
た3つの異なるコントラスト領域を区別するしきい値
(Vth)である。また、上記2つのしきい値(Vt
h)で区切られた3つのブロック内において、各ブロッ
クの左右の面積が等しくなる重心位置の輝度値をそれぞ
れA、B、Cとしている。
【0048】本実施例に係る透明基板の位置合わせ装置
11は、上記したように構成されており、以下その動作
を説明する。
【0049】本実施例では、図1に示す液晶表示パネル
23を構成する上ガラス基板24と下ガラス基板25と
が所定の位置関係となるように高精度に位置合わせす
る。この上下ガラス基板を位置合わせするにあたって、
まず、一対のガラス基板の何れか一方の基板のアライメ
ントマークを撮像部12で取り込み、次に、もう一方の
ガラス基板を重ね合わせて上下ガラス基板に付されたア
ライメントマークの合成画像を入力する。
【0050】次に、合成画像から一方のガラス基板の画
像を減算することにより、後から重ねた透明基板に付さ
れたアライメントマークを抽出する。
【0051】そして、各上下ガラス基板に付された個々
のアライメントマーク位置を認識することにより、上下
ガラス基板の相対位置関係を正確に把握し、この位置関
係に基づいて少なくとも上下基板の一方を移動させて位
置合わせする。
【0052】図6は、本実施例に係る位置合わせ動作の
流れを示すフローチャートである。上記透明基板の位置
合わせ動作を図6に基づいて、以下、説明する。
【0053】〔上ガラス基板の位置検出動作〕まず、図
1及び図2に示すように、上ガラス基板24のアライメ
ントマーク26aのみを撮像部12の視野内に収めて、
画像入力する。撮像部12に入力されるアライメントマ
ーク26aの画像は、撮像部12のハーフミラー12a
に光源13からの光を当ててアライメントマーク26に
照射し、レンズ12bを通して焦点位置を調節しなが
ら、アライメントマーク26からの反射光を撮像部12
のCCDの受光面に結像させ、撮像部12でビデオ信号
に変換される。
【0054】撮像部12から出力されるビデオ信号は、
増幅器14で信号増幅され、A/Dコンバータ15でデ
ジタルデータに変換する。
【0055】次に、デジタルデータに変換された上ガラ
ス基板24のアライメントマーク26a画像は、濃度ヒ
ストグラム変換部16で濃度ヒストグラム変換が行われ
(ステップS100)、画像コントラストに関する量子
化データを作成する。この上ガラス基板24の濃度ヒス
トグラムは、図5(a)に示すものであり、横軸のコン
トラストでは左側が暗く、右に行くにしたがって明るく
なるように輝度レベルが設定され、各輝度レベル毎の画
素数をカウントすることにより、背景のガラス基板を示
す山部分Lとアライメントマークを示す山部分Hが形成
される。CPU20は、この濃度ヒストグラムから2つ
の山部分LとHの間の谷部分の輝度レベルを検出して2
値化処理する際のしきい値(Vth)を決定する。
【0056】この上ガラス基板24のアライメントマー
クの画像データは、図1の演算部17で演算処理するこ
となく、メモリ19に記憶するとともに、2値化特徴抽
出部18で2値化処理して、CPU20にてアライメン
トマーク26aの座標位置を認識する(ステップS10
1)。
【0057】ここで、アライメントマークのパターン面
積は一定であるが、2値化処理後のパターン部分が所定
量以上認識されたような場合は(ステップS102)、
光源13からの光量が強すぎる場合であって、正確なア
ライメントマーク画像が認識できない。そこで、CPU
20は、調光部21を制御して光源13の光量を絞り、
適正な照度となるまで上記動作を繰り返す。
【0058】このようにして、適正な照度の下で入力さ
れた上ガラス基板24のアライメントマークの画像
(U)は、上記メモリ19に入力されるとともに、2値
化されてCPU20に入力し、その座標位置を把握する
(ステップS104)。
【0059】〔下ガラス基板の位置検出動作〕次に、下
ガラス基板25を上記した上ガラス基板24の下に挿入
して、アライメントマーク同士を租精度で重ね合わせる
(ステップS105)。
【0060】この時、図2に示すように、上下ガラス基
板24、25のアライメントマーク26a、26bは、
所定のギャップ間隔で対向配置されているが、撮像部1
2での倍率が50倍程度と低倍率であるため、同一焦点
深度内とすることができ、上下のアライメントマーク2
6aと26bとを合成した画像が得られ、この合成画像
を図1の濃度ヒストグラム変換部16で濃度ヒストグラ
ムに変換する(ステップS106)。このとき、変換さ
れたヒストグラムデータに基づいて、所定のコントラス
ト範囲を示す値(n)を抽出する。
【0061】この値nは、アライメントマークの入力画
像データを2値化する場合に、アライメントマークの合
成画像に適正な光量が照射されているか否かを判別する
ための基準値である。
【0062】光源の照度が適切か否かの判断基準は、図
5(b)に示すように上ガラス基板24と下ガラス基板
25のアライメントマーク26a、26bの合成画像を
濃度ヒストグラム変換し、その濃度分布曲線の3つの山
部分とその山部分の間に存在する谷部分をそれぞれのし
きい値(Vth)で3つのブロックに分離し、各ブロッ
ク毎の重心位置、すなわち各ブロックにおいて左右の面
積が等しくなる輝度値をそれぞれA、B、Cとする。そ
して、図6のステップS107に示すように、|(A−
B)−(B−C)|<nの式を満たしていれば光源13
の照度が適切であるというように判定する。
【0063】図7は、入力画像の各領域におけるコント
ラスト差を示した線図であり、縦軸はコントラストを示
し、横軸は光量を示している。図7において、複数の□
を実線で結ぶの線分は、光量を変化させながら上記
(A−B)のコントラスト差の演算結果を表したもので
ある。また、複数の○を破線で結ぶの線分は、光量を
変化させながら上記(B−C)のコントラスト差の演算
結果を表したものである。そして、上記からを引い
たコントラスト差が所定値n以下となる場合、すなわ
ち、上式|(A−B)−(B−C)|<nを満たす場合
は、図7に示す2値レベルを安定して検出できるエリア
内であって、光源13の照度が適切(P1〜P2)であ
ることを示している。
【0064】また、上記P1〜P2以外のP0〜P3の
光量範囲では、画像データを2値化することは可能であ
るが、アライメントマークのコントラスト差を利用して
適正な2値レベルを検出するには適さない照度である。
【0065】さらに、P0以下、あるいは、P3以上の
光量の場合は、2値化処理が不可能となるエリアであ
る。
【0066】図6に示すステップS107で上式を満た
さない場合は、ステップS108で調光処理を行ってス
テップS100に戻り、再度アライメントマークの画像
入力が行われる。
【0067】ステップS107において、光源の照度が
適切で上式を満たす場合は、ステップS109に移行し
て、上記ステップS106で得られた上下ガラス基板2
4、25に付されたアライメントマークの合成画像
(M)から、ステップS104で得られた上ガラス基板
24のアライメントマークの画像(U)を減算すること
により、下ガラス基板25のアライメントマークの画像
を抽出するものである。
【0068】次に、この抽出された下ガラス基板25の
アライメントマークの画像は、濃度ヒストグラム変換部
16で濃度ヒストグラム変換が行われ(ステップS11
0)、画像コントラストに関する量子化データを作成す
る。そして、CPU20は、作成された濃度ヒストグラ
ムに基づいて、上記上ガラス基板24のアライメントマ
ークの場合と同様に最適2値化を行うためのしきい値を
決定し、このしきい値に基づいて2値化特徴抽出部18
で2値化処理する。この2値化されたアライメントマー
クの画像は、CPU20に入力されて座標位置が認識さ
れる。(ステップS111)。
【0069】〔上ガラス基板と下ガラス基板の位置ずれ
量の把握動作〕上記のようにして、例えば、図3に示す
ような上ガラス基板24のアライメントマーク26aの
座標位置と、下ガラス基板25のアライメントマーク2
6bの座標位置とを個別に把握して、上ガラス基板24
に対する下ガラス基板25のx軸・y軸方向のずれ量を
把握する。図3では、下ガラス基板25のアライメント
マーク26bは、上ガラス基板24のアライメントマー
ク26aに対して、x軸方向にΔx、y軸方向にΔyず
れている。また、図3以外の場合で、上ガラス基板24
と下ガラス基板25が角度θだけ回転してずれている場
合がある。この回転角θは、ガラス基板の2箇所以上の
ポイントに付けられたアライメントマークのそれぞれの
x軸・y軸方向のずれ量を演算することにより、この回
転角θを算出することができる。
【0070】〔上下ガラス基板の位置合わせ動作〕上記
のようにして、上ガラス基板と下ガラス基板の位置ずれ
量(x軸方向、y軸方向、回転角θ)を把握した後は、
上下ガラス基板を相対的に移動させて位置合わせする。
【0071】本実施例では、上ガラス基板24が固定さ
れており、下ガラス基板25のみを上記検出した位置ず
れ量に応じて移動させて位置合わせする。ここでは、上
ガラス基板24と下ガラス基板25の位置を別々に検出
することができるため、上下ガラス基板の相対位置を正
確に把握することができる。
【0072】上下ガラス基板24、25の位置合わせ
は、上記把握した相互の相対位置に基づいて、下ガラス
基板25を上ガラス基板24に対してどの方向にどれだ
けの距離移動させればよいかという、移動方向と移動量
とをCPU20で算出して、図1のガラス基板駆動部2
2により下ガラス基板25を駆動制御して位置を調整す
る。(ステップS112)。
【0073】以上述べたように、本実施例の透明基板の
位置合わせ方法は、一対の透明基板を位置合わせする場
合に、何れか一方の透明基板のアライメントマーク画像
を認識し、次にもう一方の基板を重ね合わせて、上下両
方のアライメントマークの合成画像を認識し、合成画像
から先の一方のアライメントマーク画像を減算すること
により、一対の基板を重ね合わせた状態で、後から重ね
合わせた基板のアライメントマーク画像のみを個別に抽
出することができる。
【0074】このように、本実施例では、位置合わせマ
ーク画像のコントラスト差を利用して、位置合わせを行
う一対の透明基板の位置を個別に把握することが可能と
なり、これによって各透明基板同士の相対位置が把握さ
れ、高精度に位置合わを行うことができる。
【0075】なお、上記実施例では、液晶表示パネルを
構成する一対のガラス基板を位置合わせする場合を例に
上げて説明したが、これに限られるものではなく、ガラ
ス以外の樹脂等の透明基板を用いる場合であってもよ
く、また、3枚以上の透明基板を位置合わせする場合で
もよく、さらに、位置合わせする透明基板が液晶表示パ
ネル以外の用途に用いるものであってもよい。
【0076】
【発明の効果】請求項1記載の透明基板の位置合わせ方
法よれば、第1のマーク認識工程で一対の透明基板の何
れか一方の透明基板に付された位置合わせマークの画像
を認識し、第2のマーク認識工程でもう一方の透明基板
を重ね合わせて、一対の透明基板の重なり合った位置合
わせマークの画像を認識し、第3のマーク認識工程で第
2のマーク認識工程で認識した画像から第1のマーク認
識工程で認識した画像を減算して後から重ね合わせた透
明基板に付された位置合わせマークの画像を認識する。
【0077】このため、上記した位置合わせマーク画像
のコントラスト差を利用して画像を減算処理するだけ
で、一対の透明基板に付されている位置合わせマークの
画像を別々に認識することができるので、各透明基板同
士の相対位置を把握して、位置合わせを正確に行うこと
ができる。
【0078】請求項2記載の透明基板の位置合わせ方法
によれば、請求項1記載の第1のマーク認識工程と第3
のマーク認識工程において、一対の透明基板のそれぞれ
の位置合わせマークの位置を座標位置として認識するよ
うにしたので、一対の透明基板に付されたそれぞれの位
置合わせマーク同士の相対位置関係が一層明確に把握で
きるようになり、位置合わせを容易かつ正確に行うこと
ができる。
【0079】請求項3記載の透明基板の位置合わせ方法
によれば、請求項1記載の一対の透明基板を上下に配し
て、第1のマーク認識工程で上側の透明基板のマーク位
置を認識し、第3のマーク認識工程で下側の透明基板の
マーク位置を認識するようにしたので、透明基板を上下
に配して位置合わせを行う液晶表示パネルなどに適用す
ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本実施例で用いた透明基板の位置合わせ装置の
構成を示すブロック図である。
【図2】透明基板に付されたアライメントマークとその
位置を検出する撮像部を示す図である。
【図3】上下ガラス基板を重ね合わせた状態でのアライ
メントマークの合成画像を示す図である。
【図4】各ガラス基板に付された個々のアライメントマ
ーク画像をx軸y軸方向に投影してその座標位置を認識
する動作を説明する図である。
【図5】アライメントマークの濃度ヒストグラムを示す
図である。
【図6】本実施例に係る位置合わせ動作の流れを示すフ
ローチャートである。
【図7】入力画像の各領域におけるコントラスト差を示
した線図である。
【図8】従来の透明基板の位置合わせ方法を説明する図
である。
【図9】従来の透明基板の位置合わせ方法を説明する図
である。
【符号の説明】
11 位置合わせ装置 12 撮像部 13 光源 14 増幅器 15 A/Dコンバータ 16 濃度ヒストグラム変換部 17 演算部 18 2値化特徴抽出部 19 メモリ 20 CPU 21 調光部 22 ガラス基板駆動部 23 液晶表示パネル 24 上ガラス基板 25 下ガラス基板 26 アライメントマーク

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】それぞれに位置合わせマークの付された一
    対の透明基板を所定の位置関係で重ね合わせて、該一対
    の透明基板同士を位置合わせする透明基板の位置合わせ
    方法において、 前記一対の透明基板を重ね合わせる前に、そのうちの何
    れか一方の透明基板に付された前記位置合わせマークの
    画像を認識する第1のマーク認識工程と、 前記一対の透明基板を重ね合わせた後、当該重ね合わさ
    れた一対の透明基板の重なり合った前記位置合わせマー
    クの画像を認識する第2のマーク認識工程と、 前記第2のマーク認識工程で認識した画像から前記第1
    のマーク認識工程で認識した画像を減算して後から重ね
    合わせた透明基板に付された位置合わせマークの画像を
    認識する第3のマーク認識工程と、 前記第1のマーク認識工程で認識したマークと前記第3
    のマーク認識工程で認識したマークの相対位置を認識す
    る相対位置認識工程と、 前記相対位置認識工程の認識結果から前記一対の透明基
    板のうち少なくとも何れか一方を移動させることにより
    位置合わせを行う位置合わせ工程と、 を有することを特徴とする透明基板の位置合わせ方法。
  2. 【請求項2】前記第1のマーク認識工程は、一対の透明
    基板の一方の位置合わせマークの座標位置を認識し、 前記第3のマーク認識工程は、他方の透明基板の位置合
    わせマークの座標位置を認識し、 前記認識した各位置合わせマークの座標位置に基づいて
    透明基板同士を位置合わせすることを特徴とする請求項
    1記載の透明基板の位置合わせ方法。
  3. 【請求項3】前記一対の透明基板が上下に配され、 前記第1のマーク認識工程により、上側の透明基板のマ
    ーク位置を認識し、 前記第3のマーク認識工程により、下側の透明基板のマ
    ーク位置を認識し、 前記認識した各位置合わせマークの相対位置に基づいて
    透明基板同士を位置合わせすることを特徴とする請求項
    1又は2記載の透明基板の位置合わせ方法。
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Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001075108A (ja) * 1999-09-06 2001-03-23 Seiko Epson Corp 液晶装置及びその製造方法
JP2002151555A (ja) * 2000-11-09 2002-05-24 Tokyo Electron Ltd 位置合わせ方法
JP2002350888A (ja) * 2001-05-30 2002-12-04 Matsushita Electric Ind Co Ltd 液晶パネルの製造方法
JP2006226676A (ja) * 2005-02-15 2006-08-31 Nec Corp マーク認識装置およびマーク認識方法
JP2006250536A (ja) * 2005-03-08 2006-09-21 Matsushita Electric Ind Co Ltd パターン認識装置およびパターン認識方法
JPWO2006006525A1 (ja) * 2004-07-09 2008-04-24 オリンパス株式会社 画像処理装置及び方法
JP2011123101A (ja) * 2009-12-08 2011-06-23 Hitachi High-Technologies Corp プロキシミティ露光装置、プロキシミティ露光装置のアライメント方法、及び表示用パネル基板の製造方法
NL2023577B1 (en) * 2019-07-26 2021-02-18 Suss Microtec Lithography Gmbh Method for detecting alignment marks, method for aligning a first substrate relative to a second substrate as well as apparatus

Cited By (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001075108A (ja) * 1999-09-06 2001-03-23 Seiko Epson Corp 液晶装置及びその製造方法
JP2002151555A (ja) * 2000-11-09 2002-05-24 Tokyo Electron Ltd 位置合わせ方法
JP2002350888A (ja) * 2001-05-30 2002-12-04 Matsushita Electric Ind Co Ltd 液晶パネルの製造方法
JPWO2006006525A1 (ja) * 2004-07-09 2008-04-24 オリンパス株式会社 画像処理装置及び方法
JP4709762B2 (ja) * 2004-07-09 2011-06-22 オリンパス株式会社 画像処理装置及び方法
JP2006226676A (ja) * 2005-02-15 2006-08-31 Nec Corp マーク認識装置およびマーク認識方法
JP2006250536A (ja) * 2005-03-08 2006-09-21 Matsushita Electric Ind Co Ltd パターン認識装置およびパターン認識方法
JP4635651B2 (ja) * 2005-03-08 2011-02-23 パナソニック株式会社 パターン認識装置およびパターン認識方法
JP2011123101A (ja) * 2009-12-08 2011-06-23 Hitachi High-Technologies Corp プロキシミティ露光装置、プロキシミティ露光装置のアライメント方法、及び表示用パネル基板の製造方法
NL2023577B1 (en) * 2019-07-26 2021-02-18 Suss Microtec Lithography Gmbh Method for detecting alignment marks, method for aligning a first substrate relative to a second substrate as well as apparatus

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