JP2003075987A - マスク、光反射膜付基板、光反射膜の形成方法、電気光学装置の製造方法、及び電気光学装置、並びに電子機器 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 干渉縞の発生が少ない光反射膜付基板を製造
するためのマスク、それを用いてなる光反射膜付基板、
光反射膜の製造方法、及び干渉縞の発生が少ない光反射
膜付基板を備えた電気光学装置、並びに干渉縞の発生が
少ない光反射膜付基板を備えた電子機器を提供する。 【解決手段】 光透過部又は光不透過部を、ドット領域
の数より少ない数のドット分を一単位として形成し、か
つその単位内において不規則に配列するとともに、当該
一単位を複数個含むマスクを用いて、基材に形成された
複数の凸部の高さ又は凹部の深さを実質的に等しくする
とともに、当該複数の凸部又は凹部の平面形状を独立し
た円及び多角形、あるいはいずれか一方の平面形状と
し、かつ、複数の凸部又は凹部を平面方向にランダムに
配列した光反射膜付基板を作成する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、マスク、光反射膜
付基板、光反射膜の形成方法、電気光学装置の製造方
法、及び電気光学装置、並びに電子機器に関する。より
詳細には、干渉縞の発生が少ない光反射膜付基板を製造
するためのマスク、それを用いてなる光反射膜付基板、
光反射膜の形成方法、及び干渉縞の発生が少ない光反射
膜付基板を備えた電気光学装置、並びに干渉縞の発生が
少ない光反射膜付基板を備えた電子機器に関する。

【０００２】

【従来の技術】周知のように、薄型化や省電力化等が図
られることから、各種の電子機器における表示装置とし
て、液晶表示装置が広く用いられている。このような液
晶表示装置は、一対のガラス基板等の間に液晶を封入し
た状態で、シール材によって周囲を貼り合わせた構成が
一般的である。そして、このような液晶表示装置を搭載
した電子機器は、液晶表示装置を外部からの衝撃などか
ら保護すべく、当該液晶表示装置の観察側、すなわち、
表示を視認する観察者の側に、保護板を配設した構成が
採られている。かかる保護板は、通常、光透過性を有す
る材料、例えば、透明プラスチックなどからなる板状部
材である。

【０００３】しかしながら、このような保護板における
液晶表示装置との対向面を完全な平滑面とすることは困
難であり、微細な凹凸が存在している場合が多い。そし
て、このような保護板を液晶表示装置に配設した場合、
表面の微細な凹凸に起因して表示品位が著しく低下して
しまうという問題があった。このように表示品位が低下
する原因の一つとして、液晶表示装置における観察側の
基板と保護板との間隔が、保護板の表面に存在する凹凸
に応じてばらつくことが挙げられる。すなわち、このよ
うな間隔のばらつきに対応して、液晶表示装置からの出
射光が保護板を透過する際に干渉を生じ、その結果、干
渉縞が発生する。そして、発生した干渉縞が表示画像と
重なりあうことによって、表示品位の低下が引き起こさ
れると推定される。

【０００４】また、特開平６−２７４８１号公報には、
図２６に示すように反射型液晶表示装置４００を開示し
ており、特開平１１−２８１９７２号公報には、図２７
に示すように反射透過両用型５００を開示しており、そ
れぞれ干渉縞の発生を低下すべく、高さが異なる複数の
凹凸構造４０４ａ、４０４ｂ（５０４ａ、５０４ｂ）を
設け、その上に高分子樹脂膜４０５（５０５）を形成
し、さらにその上に、連続する波状の反射電極４０９
（５０９）が形成されている。また、かかる反射電極を
有する液晶表示装置の製造工程が開示されており、例え
ば、図２８に開示されている。まず、図２８（ａ）に示
すように、ガラス基板６００上にレジスト膜６０２を全
面的に形成し、次いで、図２８（ｂ）に示すように、直
径が異なる複数の円からなるパターン６０４を介して、
露光する。その後、図２８（ｃ）に示すように現像し、
高さが異なる複数の角のある凸部６０６ａ、６０６ｂを
設け、さらに、図２８（ｄ）に示すように、加熱して、
凸部の角部を軟化させて、角落ちした凸部６０８ａ、６
０８ｂを形成する。そして、図２８（ｅ）に示すよう
に、かかる凹凸構造の間６１０に所定量の高分子樹脂６
２０を充填して波状表面を有する連続層とした後、さら
に、高分子樹脂膜６２０の上に、スパッタリング法等の
積層手段によって、連続する波状の反射電極６２４を形
成するものである。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、特開平
６−２７４８１号公報等に開示された反射型液晶表示装
置や反射透過両用型の液晶表示装置は、直径が異なる複
数の円等が規則的又は一部不規則に配列されたマスクを
用い、紫外線露光及び現像を利用して、高さが異なる複
数の凹凸構造を設けることを意図しているものの、塗布
厚のばらつき等もあり、光干渉を有効に防止できるよう
に高さを厳密に調整することは困難であった。また、高
さが異なる複数の凹凸構造上に、反射電極が形成されて
いることから、断線したり、ショートしやすいなどの問
題も見られた。さらに、開示された光反射膜付基板の製
造方法は、工程数が多く、管理項目が多いという製造上
の問題も見られた。したがって、特開平６−２７４８１
号公報等に開示された光反射膜付基板は、干渉縞の発生
を有効に防止することが困難であるばかりか、かかる光
反射膜付基板を、安定して、しかも効率的に製造するこ
とは困難であった。

【０００６】そこで、本発明の発明者らは、以上の問題
を鋭意検討した結果、光反射膜付基板における基材上
に、複数の凸部又は凹部を設けるとともに、当該複数の
凸部又は凹部の高さを実質的に変えずに、平面方向にラ
ンダムに配列することによって、干渉縞の発生が少ない
光反射膜付基板が容易に得られることを見出したもので
ある。すなわち、本発明は、干渉縞の発生が少なく、製
造が容易な光反射膜付基板が得られるマスク、そのよう
な光反射膜付基板、そのような光反射膜の形成方法、及
びそのような光反射膜付基板を設けた電気光学装置、並
びにそのような光反射膜付基板を有する電子機器を提供
することを目的としている。

【０００７】

【課題を解決するための手段】本発明によれば、複数の
ドット領域を有する基板にパターンを形成するためのマ
スクであって、入射光を透過可能な光透過部と、実質的
に光を透過させない光不透過部と、を具備し、前記光透
過部又は光不透過部により形成されるパターンは、ドッ
ト領域の数より少ない数のドット分を一単位として形成
されているとともに、その一単位内において不規則に配
列されてなり、かつ、当該一単位を複数個含むことを特
徴とするマスクが提供され、上述した問題を解決するこ
とができる。すなわち、光反射膜付基板が用いられる液
晶表示装置等の、ドット領域の数より少ない数のドット
分を基本単位とすることにより、例えば、光透過部又は
光不透過部を、画素に対応したＲＧＢドットの３ドッ
ト、６ドット、又は１２ドットを一単位として、平面方
向にランダムに配列することにより、光透過部又は光不
透過部により形成されるパターンに関する情報量を少な
くすることができる。したがって、所望のパターン、例
えば、平面形状が、独立した円（楕円を含む。以下、同
様である。）及び多角形、あるいはいずれか一方の形状
である光透過部又は光不透過部からなるパターンを形成
する際に、かかる基本単位を繰り返すことにより、マス
クの設計を極めて容易かつ短時間にすることができる。
また、光透過部又は光不透過部が平面方向にランダムに
配列してあることから、光反射膜付基板を製造した場合
に、優れた光散乱効果を発揮し、干渉縞の発生を有効に
防止することができる。なお、光透過部又は光不透過部
の平面形状を制御する理由は、光反射膜付基板を構成す
る感光性樹脂に、光透過部を透過した光が照射された箇
所が光分解して、現像剤に対して可溶化するポジ型と、
光透過部を透過した光が照射された箇所が感光し、現像
剤に対して不溶化するネガ型とがあることによる。

【０００８】また、本発明のマスクを構成するにあた
り、光透過部又は光不透過部の径を３〜１５μｍの範囲
内の値とすることが好ましい。

【０００９】また、本発明のマスクを構成するにあた
り、各々径が異なる複数の光透過部、又は各々径が異な
る光不透過部を具備することが好ましい。すなわち、例
えば、光透過部又は光不透過部の径を異ならせ、２〜１
０種の光透過部又は光不透過部を設けることが好まし
い。

【００１０】また、本発明の別の態様のマスクは、複数
のドット領域を有する基板にパターンを形成するための
マスクであって、入射光を透過可能な光透過部と、実質
的に光を透過させない光不透過部と、を具備し、光透過
部又は光不透過部により形成されるパターンは、ドット
領域の数より少ない数のドット分を一単位として形成さ
れているとともに、その一単位内において対称となる個
所を含むこと、を特徴とするマスクである。このように
構成することにより、干渉縞の発生が少ない光反射膜付
基板を効率的に製造することができる。すなわち、光反
射膜付基板を製造した際に、所定の対称パターン、例え
ば、一本の仮想線によってマスクを分割し、当該仮想線
に対して鏡面対称にあるパターンを利用して、光を適当
に散乱させることができるため、干渉縞の発生を有効に
防止することができる。また、対称パターンを利用し
て、そのパターンを繰返し使用するため、パターンに関
する情報量を少なくすることができ、光反射膜付基板の
製造が容易になる。

【００１１】また、本発明の別の態様は、基材及び反射
層を含む光反射膜付基板であって、凸部又は凹部を有す
る光反射膜を有し、凸部又は凹部により形成されるパタ
ーンは、複数のドットにより定義される一単位において
不規則に配列されてなること、を特徴とする光反射膜付
基板である。このように凸部又は凹部が、例えば、画素
に対応したＲＧＢドットの３ドット、６ドット、又は１
２ドットを一単位として、平面方向にランダムに配列し
てあることから、優れた光散乱効果を発揮し、干渉縞の
発生を有効に防止することができる。

【００１２】また、本発明の光反射膜付基板を構成する
にあたり、凸部の高さ又は凹部の深さを面内において実
質的に等しくすることが好ましい。例えば、基材と、光
反射膜とを含む光反射膜付基板であって、当該基材の表
面に独立して形成された複数の凸部又は凹部の高さを実
質的に等しくすることが好ましい。このように複数の凸
部の高さ又は凹部の深さを実質的に等しくすることによ
り、容易に製造することができるとともに、均一な反射
特性を得ることができる。また、このように複数の凸部
の高さ又は凹部の深さが実質的に等しく、比較的平坦な
構造であれば、光散乱膜や液晶表示装置の保護板と組み
合わせた場合であっても、それぞれ間隙の凹凸に起因し
た表示品位の低下を効率的に抑制することができる。

【００１３】また、本発明の光反射膜付基板を構成する
にあたり、複数の凸部又は凹部の径を３〜１５μｍの範
囲内の値とすることが好ましい。例えば、複数の凸部又
は凹部の平面形状を独立した円及び多角形、あるいはい
ずれか一方の平面形状とするともに、当該径を３〜１５
μｍの範囲内の値とすることが好ましい。

【００１４】また、本発明の光反射膜付基板を構成する
にあたり、複数の凸部又は凹部の間隔を３．５〜３０μ
ｍの範囲内の値とすることが好ましい。

【００１５】また、本発明の光反射膜付基板を構成する
にあたり、複数の凸部の高さや凹部の深さを０．１〜１
０μｍの範囲内の値とすることが好ましい。

【００１６】また、本発明の光反射膜付基板を構成する
にあたり、複数のドットにより定義される単位は、基板
全体のドット数より少なく、かつ基板全体を構成するの
に一単位を複数個含むことが好ましい。

【００１７】また、本発明の光反射膜付基板を構成する
にあたり、各々径が異なる複数の凸部、又は各々径が異
なる複数の凹部を具備することが好ましい。

【００１８】また、本発明の別の態様の光反射膜付基板
は、複数のドット領域を有する基板に光反射膜が形成さ
れた光反射膜付基板であって、凸部又は凹部を有する光
反射膜を有し、凸部又は凹部により形成されるパターン
は、複数ドット分を一単位として形成されており、かつ
その単位内において対称となる個所を含むこと、を特徴
とする光反射膜付基板である。

【００１９】また、本発明の別の態様は、複数のドット
領域を有する電気光学装置であって、凸部又は凹部を有
する光反射膜が形成された基板と、基板に支持された電
気光学層と、を具備し、凸部又は凹部により形成される
パターンは、複数のドットにより定義される一単位にお
いて不規則に配列されてなること、を特徴とする電気光
学装置である。

【００２０】また、本発明の電気光学装置を構成するに
あたり、凸部の高さ又は凹部の深さを面内において実質
的に等しくすることが好ましい。

【００２１】また、本発明の電気光学装置を構成するに
あたり、複数のドットにより定義される一単位（基本単
位）は、基板全体のドット領域の数より少なく、かつ基
板全体を構成するのに当該一単位を複数個含むことが好
ましい。

【００２２】また、本発明の電気光学装置を構成するに
あたり、複数のドットに対応して設けられた、各々色が
異なる複数の着色層と、それらに対応する複数のドット
により１画素が形成され、一単位内に少なくとも１画素
が対応してなることが好ましい。

【００２３】また、本発明の別の態様の電気光学装置
は、複数のドット領域を有する電気光学装置であって、
凸部又は凹部を有する光反射膜が形成された基板と、基
板に支持された電気光学層と、を具備し、凸部又は凹部
により形成されるパターンは、複数ドット分を一単位と
して形成されており、かつその単位内において対称とな
る個所を含むこと、を特徴とする電気光学装置である。

【００２４】また、本発明の電気光学装置を構成するに
あたり、複数のドットに対応して設けられた各々色が異
なる複数の着色層と、それらに対応する複数のドットに
より１画素が形成され、一単位内に少なくとも１画素が
対応してなることが好ましい。

【００２５】また、本発明の別の態様の電気光学装置
は、電気光学装置であって、電気光学層と、電気光学層
の一方の側に配置した光散乱膜と、電気光学層の他方の
側に配置した光反射膜と、を具備し、光反射膜には、不
規則に配列された凸部又は凹部が形成されてなることを
特徴とする電気光学装置である。

【００２６】また、本発明の電気光学装置を構成するに
あたり、併用する光散乱膜のヘイズ値が１０％以上６０
％以下であることが好ましい。

【００２７】また、本発明の電気光学装置を構成するに
あたり、複数のドット領域を有してなり、凸部又は凹部
により形成されるパターンは、１ドット又は２ドットに
より定義される一単位内において不規則に配列されてお
り、併用する光散乱膜のヘイズ値を４０〜６０％の範囲
内の値とすることが好ましい。

【００２８】また、本発明の電気光学装置を構成するに
あたり、複数のドット領域と、それらに対応して設けら
れた各々色が異なる複数の着色層とにより１画素が形成
され、一単位内に少なくとも、当該１画素が対応してな
ることが好ましい。

【００２９】また、本発明の電気光学装置を構成するに
あたり、複数のドット領域を有してなり、凸部又は凹部
により形成されるパターンは、３以上のドットを含む一
単位内において不規則に配列されており、併用する光散
乱膜のヘイズ値が１０％以上４０％以下であることが好
ましい。

【００３０】また、本発明の電気光学装置を構成するに
あたり、一方の側に配置した保護板を具備することが好
ましい。

【００３１】また、本発明の別の態様は、電気光学装置
を表示部として含む電子機器において、電気光学装置と
して、複数のドット領域を有する電気光学装置であっ
て、凸部又は凹部を有する光反射膜が形成された基板
と、基板に支持された電気光学層と、を具備し、凸部又
は凹部により形成されるパターンは、複数のドットによ
り定義される一単位において不規則に配列されてなる電
気光学装置を採用したことを特徴とする電子機器であ
る。

【００３２】また、本発明の別の態様は、電気光学装置
を表示部として含む電子機器において、電気光学装置と
して、凸部又は凹部を有する光反射膜が形成された基板
と、基板に支持された電気光学層と、を具備し、凸部又
は凹部により形成されるパターンは、複数ドット分を一
単位として形成されており、かつその単位内において対
称となる個所を含む電気光学装置を採用したことを特徴
とする電子機器である。

【００３３】また、本発明の別の態様は、電気光学装置
を表示部として含む電子機器において、電気光学装置と
して、電気光学層と、電気光学層の一方の側に配置した
光散乱膜と、電気光学層の他方の側に配置した光反射膜
と、を具備し、光反射膜には、不規則に配列された凸部
又は凹部が形成されてなる電気光学装置を採用したこと
を特徴とする電子機器である。

【００３４】また、本発明の別の態様は、複数のドット
領域を有する基材に光反射膜を形成する方法であって、
基材に感光性材料を塗布する工程と、感光性材料を露光
する工程と、露光した感光性材料に凹凸を形成する工程
と、凹凸上に光反射膜を形成する工程と、を具備し、凹
凸のパターンが、ドット領域の数より少ない複数ドット
分を一単位とし、かつその一単位内において不規則にな
るように形成してあること、を特徴とする光反射膜の形
成方法である。

【００３５】また、本発明の別の光反射膜を形成する方
法に関する態様は、複数のドット領域を有する基材に光
反射膜を形成する方法であって、基材に感光性材料を塗
布する工程と、感光性材料を露光する工程と、露光した
感光性材料に凹凸を形成する工程と、凹凸上に光反射膜
を形成する工程と、を具備し、凹凸のパターンが、複数
ドット分を一単位とし、かつその単位内において対称と
なる個所を含むよう形成されること、を特徴とする光反
射膜の形成方法である。

【００３６】また、本発明の電気光学装置の製造方法
は、基材に感光性材料を塗布する工程と、感光性材料を
露光する工程と、露光した感光性材料に凹凸を形成する
工程と、凹凸上に光反射膜を形成する工程と、を具備
し、凹凸のパターンが、基板全体のドット領域の数より
少ない複数ドット分を一単位とし、かつその一単位内に
おいて不規則になるように形成する、複数のドット領域
を有する基材に光反射膜を形成する方法を工程として含
むことを特徴とする電気光学装置の製造方法である。

【００３７】また、本発明の別の電気光学装置の製造方
法は、基材に感光性材料を塗布する工程と、感光性材料
を露光する工程と、露光した感光性材料に凹凸を形成す
る工程と、凹凸上に光反射膜を形成する工程と、を具備
し、凹凸のパターンを、複数ドット分を一単位とし、か
つその一単位内において対称となる個所を含むよう形成
する、複数のドット領域を有する基材に光反射膜を形成
する方法を工程として含むことを特徴とする電気光学装
置の製造方法である。

【００３８】

【発明の実施の形態】以下、図面を参照して、本発明の
実施の形態について説明する。なお、言うまでもなく、
以下に示す実施の形態は、本発明の一態様を示すもので
あり、何ら本発明を限定するものではなく、本発明の技
術的思想の範囲内で任意に変更可能である。

【００３９】[第１実施形態]第１実施形態は、複数のド
ット領域を有する基板にパターンを形成するためのマス
クであって、入射光を透過可能な光透過部と、実質的に
光を透過させない光不透過部と、を具備し、光透過部又
は光不透過部により形成されるパターンは、ドット領域
の数よりも少ない数のドット分を一単位として形成され
ているとともに、その一単位内において不規則に配列さ
れてなり、かつ、当該一単位を複数個含むマスクであ
る。すなわち、例えば、図２に示すような光反射膜付基
板を製造するためのマスク２０であって、光透過部又は
光不透過部２２を独立した円及び多角形、あるいはいず
れか一方の平面形状とするとともに、光透過部又は光不
透過部２２を所定の画素に対応したＲＧＢドットを一単
位として、平面方向にランダムに配列してあることを特
徴とするマスクである。

【００４０】１．光透過部又は光不透過部 （１）形状 マスクの光透過部又は光不透過部を、図１に示すように
独立した円（楕円を含む。）及び多角形、あるいはいず
れか一方の平面形状とすることが好ましい。この理由
は、光透過部又は光不透過部の平面形状を円（楕円を含
む。）又は多角形とすることにより、光反射膜付基板を
製造するために露光プロセスを実施する際、樹脂の凹凸
配置を複雑にすることができるためである。また、円や
多角形は、基本図形であることから、マスク自体の製造
も容易になるためである。なお、好ましい多角形として
は、四角形、五角形、六角形、八角形等が挙げられる。

【００４１】（２）径及び間隔 また、マスクにおける光透過部又は光不透過部の径を３
〜１５μｍの範囲内の値とすることが好ましい。この理
由は、光透過部又は光不透過部の径が３μｍ未満となる
と、光反射膜付基板を製造する際に露光プロセスを用い
たとしても、凸部又は凹部の平面形状や配置パターン
を、正確に制御することが困難となる場合があるためで
ある。また、光透過部又は光不透過部の径が３μｍ未満
となると、マスク自体の製造も困難となる場合があるた
めである。一方、光透過部又は光不透過部の径が１５μ
ｍを超えると、得られた光反射膜付基板において、光を
適度に散乱させることが困難となって、散乱特性が落ち
て暗い反射となる。したがって、マスクの光透過部又は
光不透過部の径を５〜１３μｍの範囲内の値とすること
がより好ましく、６〜１２μｍの範囲内の値とすること
がさらに好ましい。

【００４２】また、マスクにおける光透過部又は光不透
過部の少なくとも一つの径を５μｍ以上の値とすること
が好ましい。すなわち、径が異なる光透過部又は光不透
過部があった場合に、少なくとも一つの光透過部又は光
不透過部における径を５μｍ以上の値とするものであっ
て、径が異なる他の光透過部又は光不透過部にあって
は、その径が５μｍ未満の値であっても良い。この理由
は、かかる光透過部又は光不透過部の平面形状がいずれ
も５μｍ未満の円又は多角形となると、得られた光反射
膜付基板において、光を過度に散乱させる場合が多くな
り、暗い反射となる。ただし、光透過部又は光不透過部
の径が、過度に大きくなると、光の散乱効果が低下し、
干渉縞が発生する場合がある。したがって、マスクの光
透過部又は光不透過部の少なくとも一つの径を５〜１３
μｍの範囲内の値とすることがより好ましく、６〜１２
μｍの範囲内の値とすることがさらに好ましい。

【００４３】また、マスクにおける光透過部又は光不透
過部の間隔（ピッチ）を３．５〜３０μｍの範囲内の値
とすることが好ましい。この理由は、かかる光透過部又
は光不透過部の間隔が３．５μｍ未満の値になると、光
透過部又は光不透過部の独立性が低下する場合があるた
めである。一方、かかる光透過部又は光不透過部の間隔
が３０μｍを越えると、光透過部又は光不透過部のラン
ダム配置性が低下する場合があるためである。したがっ
て、マスクにおける光透過部又は光不透過部の間隔（ピ
ッチ）を５〜２０μｍの範囲内の値とすることがより好
ましく、マスクにおける光透過部又は光不透過部の間隔
（ピッチ）を７〜１５μｍの範囲内の値とすることがさ
らに好ましい。なお、かかる光透過部又は光不透過部の
間隔は、隣接する光透過部又は光不透過部の中心から中
心までの距離であって、１０箇所以上の平均値である。

【００４４】（３）種類 また、マスクにおける光透過部又は光不透過部の径を異
ならせ、２〜１０種類の光透過部又は光不透過部を設け
ることが好ましい。例えば、図５に示すように、異なる
径を有する光透過部又は光不透過部を一つのランダムパ
ターン内に設けるものである。この理由は、このように
径の異なる光透過部又は光不透過部が存在することによ
り、干渉縞の発生が少ない光反射膜付基板をさらに効率
的に製造することができるためである。すなわち、この
ようなマスクを用いて光反射膜付基板を製造した際に、
得られる凸部又は凹部の配列がより分散して、光を適当
に散乱させることができるためである。したがって、こ
のような光反射膜付基板を液晶表示装置等に使用した場
合に、干渉縞の発生をさらに有効に防止することができ
ることになる。

【００４５】なお、マスクにおける径が異なる光透過部
又は光不透過部により形成されるパターンの組み合わせ
として、下記の例を挙げることができる。 １）７．５μｍの六角形パターンと、９μｍの六角形パ
ターンとの組み合わせ ２）５μｍの六角形パターンと、７．５μｍの六角形パ
ターンと、９μｍの六角形パターンとの組み合わせ ３）４．５μｍの正方形パターンと、５μｍの正方形パ
ターンと、７．５μｍの六角形パターンと、９μｍの六
角形パターンと、１１μｍの六角形パターンと、の組み
合わせが好ましい。

【００４６】（４）面積比率 また、マスクの光透過部又は光不透過部の面積比率を、
全体面積に対して、１０〜６０％の範囲内の値とするこ
とが好ましい。この理由は、かかる面積比率が、１０％
未満の値になると、光反射膜付基板を製造した際に、複
数の凸部又は凹部の占有面積が小さくなって平坦部が増
加し、光散乱効果が著しく低下する場合があるためであ
る。一方、かかる面積比率が、６０％を越えても平坦部
が増加し、光散乱効果が著しく低下する場合があるため
である。したがって、マスクの光透過部又は光不透過部
の面積比率を、全体面積に対して、１５〜５０％の範囲
内の値とすることがより好ましく、２０〜４０％の範囲
内の値とすることがさらに好ましい。なお、基材を構成
する感光性樹脂として、ポジ型を使用した場合には、光
透過部を透過した光が照射された箇所が光分解して、現
像剤に対して可溶化することから、マスクの光不透過部
の面積比率が問題となり、ネガ型を使用した場合には、
光透過部を透過した光が照射された箇所が感光し、現像
剤に対して不溶化することから、マスクの光透過部の面
積比率が問題となる。

【００４７】２．ランダム配列 （１）ランダム配列１ 第１実施形態では、例えば、図１に示すように、マスク
１０における光透過部又は光不透過部１２を平面方向に
ランダムに配列してあることを特徴とする。すなわち、
このようなマスクを用いることにより、露光プロセスに
よって光反射膜付基板を形成した場合に、基材に対し
て、複数の凸部又は凹部を容易にランダム配列させ、適
当に光散乱させることができるためである。なお、ラン
ダム配列とは、端的には光透過部又は光不透過部が無秩
序に配列されていることを意味するが、より正確には、
マスクを単位面積ごとに切り分け、それらのマスクを重
ねた場合に、それぞれのパターンが完全に異なっている
か、あるいは部分的に重なる箇所はあっても、完全には
一致しない状態を意味する。

【００４８】（２）ランダム配列２ また、光反射膜用マスクパターンの光透過部又は光不透
過部を、光反射膜が使用される液晶表示装置等における
画素を形成するＲＧＢドットを基準として、平面方向に
ランダムに配列してあることが好ましい。すなわち、光
反射膜が使用される液晶表示装置等における１画素（Ｒ
ＧＢ：３ドット）、２画素（ＲＧＢ：６ドット）、又は
４画素（ＲＧＢ：１２ドット）を一単位として、それを
繰り返して、平面方向にランダムに配列することが好ま
しい。例えば、図２に示すように、縦方向のラインＬ１
及びＬ２でそれぞれ分画される３種類のＲＧＢドットを
一単位として、光透過部又は光不透過部２２からなるラ
ンダムパターンを繰り返しても良い。また、図３に示す
ように、縦方向のラインＬ１及びＬ２と、横方向のライ
ンＬ３と、でそれぞれ分画される６種類のＲＧＢドット
を一単位として、光透過部又は光不透過部３２からなる
ランダムパターンを繰り返しても良い。さらには、図４
に示すように、縦方向のラインＬ１〜Ｌ５と、横方向の
ラインＬ６と、でそれぞれ分画される１２種類のＲＧＢ
ドットを一単位として、光透過部又は光不透過部４２か
らなるランダムパターンを繰り返しても良い。この理由
は、このようなＲＧＢドットのいくつかのまとまりを基
本単位としたパターンを有するマスクとすることによ
り、これから得られる光反射膜における複数の凸部又は
凹部が、光を適当に散乱させて、干渉縞の発生を有効に
防止することができるためである。また、ＲＧＢドット
のいくつかのまとまりを基本単位としてパターン化する
ため、パターンの情報量を少なくすることができ、光反
射膜を製造する際のパターンの位置調整等が容易になる
ためである。なお、本発明において、光反射膜用マスク
パターンの光透過部又は光不透過部を、液晶表示装置等
におけるＲＧＢドットを基準として、平面方向にランダ
ムに配列してあるといった場合、必ずしも画素を有する
部材、例えば、カラーフィルタと併用する必要はなく、
結果として、ＲＧＢドット単位に所定のランダムパター
ンが形成されていれば良い。

【００４９】（３）ランダム配列３ また、マスクを構成するにあたり、少なくとも一本の仮
想線によってマスクを分割し、当該仮想線に対して、光
透過部又は光不透過部により形成されるパターンを鏡面
対称に配列することが好ましい。このように構成するこ
とにより、干渉縞の発生が少ない光反射膜付基板をさら
に効率的に製造することができる。すなわち、光反射膜
付基板を製造した際に、複数の凸部又は凹部が鏡面対称
パターンであることを利用して、光を適当に散乱させる
ことができるため、干渉縞の発生をさらに有効に防止す
ることができる。また、鏡面対称パターンを利用するた
め、回転移動させることによって同一パターンを形成す
ることができる。したがって、パターンの情報量を少な
くすることができ、光反射膜付基板の製造が容易にな
る。

【００５０】ここで、図６（ａ）及び（ｂ）を参照し
て、ランダム配列としての鏡面対称パターンについて、
さらに具体的に説明する。なお、図６（ａ）及び（ｂ）
では、鏡面対称パターンの関係が容易に理解できるよう
に、円又は多角形からなる光透過部又は光不透過部によ
り形成されるパターンを、文字パターン（Ｆ）としてあ
る。まず、図６（ａ）に示すように、一本の仮想線（Ｌ
１）に対して、複数の凸部又は凹部からなる文字パター
ン（Ｆ）を鏡面対称、すなわち、左右対称に配列するこ
とが好ましい。このように構成することにより、一方の
パターンを利用して、それを反転させることにより、も
う一方のパターンを形成することができるためである。
また、図６（ｂ）に示すように、二本の仮想線（Ｌ１及
びＬ２）に対して、複数の凸部又は凹部からなる文字パ
ターン（Ｆ）をそれぞれ鏡面対称として、左右対称及び
上下対称に配列することが好ましい。このように構成す
ることにより、一つの文字パターン６３を利用して、他
の３つの文字パターンを形成することができるためであ
る。すなわち、文字パターン６３を、Ｌ１を軸として反
転させることにより文字パターン６５を形成することが
できる。また、文字パターン６３を、Ｌ２を軸として反
転させることにより文字パターン６７を形成することが
できる。さらに、文字パターン６３を、基点６８を中心
として１８０°回転させることにより文字パターン６９
を形成することができる。そして、いずれにしても、パ
ターンが鏡面対称にある場合、仮想線を対称にして得ら
れるパターン同士を上下方向に重ね合わせることができ
ず、本発明で規定するランダムパターンの一種として、
適度な光散乱を生じさせることができる。

【００５１】[第２実施形態]第２実施形態は、複数のド
ット領域を有する基板に光反射膜が形成された光反射膜
付基板であって、凸部又は凹部を有する光反射膜を有
し、凸部又は凹部により形成されるパターンは、複数の
ドットにより定義される一単位において不規則に配列さ
れていることを特徴とする光反射膜付基板である。すな
わち、図７に示すように、一例として、ネガ型の感光性
樹脂を用いた場合を示しているが、基材７７及び反射層
７２を含む光反射膜付基板７０であって、当該基材７７
に形成された複数の凸部７６の高さ又は凹部深さを実質
的に等しくするとともに、当該複数の凸部７６の平面形
状を、独立した円及び多角形、あるいはいずれか一方の
平面形状とし、かつ、複数の凸部７６を平面方向にラン
ダムに配列することを特徴とする光反射膜付基板７０で
ある。

【００５２】１．基材 基材の構成としては、図７に示すように、下方から第１
の基材７６及び第２の基材７９を順次に含み、当該第１
の基材７６が独立した複数の凸部から構成してあり、第
２の基材７９が連続層である。このように構成すること
により、連続層である第２の基材７９を介して、その上
に形成される反射層７２を比較的なだらかな曲面とする
ことができるため、液晶表示装置等に用いられた場合
に、干渉縞の発生を有効に防止することができる。 以
下、好適例として、図７に示すように、下方から基材７
７が、第１の基材７６及び第２の基材７９から構成され
た場合を例にとって説明する。

【００５３】（１）第１の基材 第１の基材における独立した複数の凸部の高さや凹部の
深さを０．５〜５μｍの範囲内の値とすることが好まし
い。この理由は、かかる凸部の高さや凹部の深さが０．
５μｍ未満の値になると、第２の基材を介して、適当な
曲面を有する反射層を設けることが困難になる場合があ
るためである。一方、かかる凸部の高さや凹部の深さが
５μｍを超えると、反射層の凹凸が大きくなって、過度
に光を散乱させたり、あるいは断線しやすくなったりす
る場合があるためである。したがって、第１の基材にお
ける独立した複数の凸部の高さや凹部の深さを０．８〜
４μｍの範囲内の値とすることがより好ましく、１〜３
μｍの範囲内の値とすることがさらに好ましい。

【００５４】（２）第２の基材 第２の基材における連続した凸部の高さや凹部の深さを
０．１〜３μｍの範囲内の値とすることが好ましい。こ
の理由は、かかる凸部の高さや凹部の深さが０．１μｍ
未満の値になると、その上に、適当な曲面を有する反射
層を設けることが困難になる場合があるためである。一
方、かかる凸部の高さや凹部の深さが３μｍを超える
と、その上に形成される反射層の凹凸が大きくなって、
過度に光を散乱させたり、あるいは断線しやすくなる場
合があるためである。したがって、第２の基材における
独立した複数の凸部の高さや凹部の深さを０．１〜２μ
ｍの範囲内の値とすることがより好ましく、０．３〜２
μｍの範囲内の値とすることがさらに好ましい。

【００５５】（３）複数の凸部又は凹部 凸部又は凹部の平面形状 また、基材に形成された複数の凸部又は凹部の平面形状
に関して、独立した円及び多角形、あるいはいずれか一
方の平面形状とすることが好ましい。この理由は、独立
した円及び多角形、あるいはいずれか一方の平面形状と
することにより、複数の凸部又は凹部の平面形状や配置
パターンを、露光プロセスを用いて、正確に制御するこ
とができるためである。また、このような平面形状の凸
部又は凹部であれば、光を散乱させることができ、干渉
縞の発生を有効に防止することができるためである。ま
た、凸部の平面形状の好適例として、図８（ａ）に示す
ようなオフセットした楕円形（液滴形状）や、図８
（ｂ）に示すようなオフセットした四角形（ピラミッド
型）、あるいは凹部の平面形状の好適例として、図１８
〜図２２に示す楕円のドーム形状や長円のドーム形状等
が挙げられる。この理由は、複数の凸部又は凹部の平面
形状を、このような平面形状とすることにより、高さ方
向の斜面と相俟って、図９に示すように、所定の光散乱
性を維持したまま、光指向性が向上するためである。図
９中、一点鎖線ａが図８（ａ）に示すようなオフセット
した楕円形の場合に視覚される光量を示しており、実線
ｂがオフセットしていない均等な円形の場合に視覚され
る光量を示している。したがって、このような平面形状
とすることにより、一定方向から眺めた場合、例えば、
角度が＋１５°の位置において目に入ってくる光量が多
くなり、その位置では明るい画像を認識することができ
る。

【００５６】凸部又は凹部の径 また、基材に形成された複数の凸部又は凹部に関して、
その凸部又は凹部の径を３〜１５μｍの範囲内の値とす
ることが好ましい。この理由は、かかる範囲の径を有す
る複数の凸部又は凹部であれば、平面形状や配置パター
ンを、露光プロセスを用いて、正確に制御することがで
きるとともに、光を適度に散乱させ、干渉縞の発生を有
効に防止することができるためである。また、かかる範
囲の径を有する複数の凸部又は凹部であれば、不定形の
シミ模様が視覚されることが少なくなるためである。し
たがって、複数の凸部又は凹部の径を５〜１３μｍの範
囲内の値とすることがより好ましく、６〜１２μｍの範
囲内の値とすることがさらに好ましい。

【００５７】凸部の高さ及び凹部の深さ また、基材に形成された複数の凸部又は凹部に関して、
その凸部の高さや凹部の深さを０．１〜１０μｍの範囲
内の値とすることが好ましい。この理由は、かかる凸部
の高さや凹部の深さが０．１μｍ未満の値になると、露
光プロセスを用いても、凸凹が小さくなり散乱特性が低
下するためである。一方、かかる凸部の高さや凹部の深
さが１０μｍを超えると、反射層の凹凸が大きくなっ
て、過度に光を散乱したり、あるいは断線しやすくなる
場合があるためである。したがって、凸部の高さや凹部
の深さを０．２〜３μｍの範囲内の値とすることがより
好ましく、０．３〜２μｍの範囲内の値とすることがさ
らに好ましい。

【００５８】ランダム配列１ また、基材表面に形成された複数の凸部又は凹部、特に
第１の基材を構成する複数の凸部の高さや凹部の深さを
実質的に等しくするとともに、当該複数の凸部又は凹部
を平面方向にランダムに配列することが好ましい。この
理由は、複数の凸部又は凹部が規則的に配列されている
と、液晶表示装置等に使用された場合に、干渉縞が発生
し、画像品質が著しく低下する場合があるためである。
また、かかる複数の凸部の高さや凹部の深さを実質的に
等しくするのは、逆に、特開平６−２７４８１号公報や
特開平１１−２８１９７２号公報に記載されたように、
複数の凸部の高さや凹部の深さを異ならせると、製造が
困難となって、安定して干渉縞の発生を抑制することが
できない場合があるためである。

【００５９】また、複数の凸部又は凹部の径を異なら
せ、例えば、２〜１０種類の凸部又は凹部を設けること
が好ましい。この理由は、このように構成することによ
り、１種類の凸部又は凹部によっては得られないような
複雑な光反射を可能とし、光をより分散して散乱させる
ことができるためである。したがって、径が異なる複数
の凸部又は凹部を設けることにより、干渉縞の発生をさ
らに有効に防止することができる。

【００６０】ランダム配列２ 複数の凸部又は凹部を、光反射膜が使用される液晶表示
装置等における１画素（ＲＧＢ：３ドット）、２画素
（ＲＧＢ：６ドット）、又は４画素（ＲＧＢ：１２ドッ
ト）を一単位として、平面方向にランダムに配列するこ
とが好ましい。この理由は、ＲＧＢドットのいくつかを
単位とした複数の凸部であっても、複数の凸部が光を適
当に散乱させて、干渉縞の発生を有効に防止することが
できるためである。また、ＲＧＢドットを基本単位とし
てパターン化するため、パターンの情報量を少なくする
ことができ、光反射膜を製造する際のパターンの位置あ
わせ等が容易になるためである。なお、このようなラン
ダム配列は、上述したように、図２〜図４に示す光反射
膜用マスクパターンを介して、露光プロセスによって、
容易に形成することができる。

【００６１】ランダム配列３ また、基材を仮想線によって分割し、当該仮想線に対し
て、複数の凸部又は凹部を鏡面対称に配列することが好
ましい。このように構成することにより、鏡面対称であ
ることを利用して、光を適当に散乱させることができる
ため、干渉縞の発生をさらに有効に防止することができ
る。また、鏡面対称パターンを利用すると、回転移動さ
せることにより一致させることができるため、パターン
の情報量を少なくすることができ、光反射膜付基板の製
造が容易になる。なお、このような鏡面対称パターンを
作成するにあたり、第１実施形態で説明した鏡面対称パ
ターンを有するマスクを好適に使用することができる。

【００６２】（４）開口部 光反射膜付基板において、光を部分的に通過させるため
の開口部が設けてあることが好ましい。このように構成
することにより、反射透過両用型の液晶表示装置等に使
用することができる。すなわち、図１０に示すように、
光反射膜１００の一部に開口部１０２を設けることによ
り、光反射膜１００によって外部からの光を効率的に反
射することができるとともに、内部から発せられた光に
ついても、開口部１０２を通して、外部に効果的に放出
することができる。なお、開口部の大きさは特に制限さ
れるものでなく、光反射膜付基板の用途等によって決定
されることが好ましいが、例えば、光反射膜付基板の全
体面積を１００％としたときに、５〜８０％の範囲内の
値とすることが好ましく、１０〜７０％の範囲内の値と
することがより好ましく、２０〜６０％の範囲内の値と
することがさらに好ましい。

【００６３】２．反射層 （１）厚さ 光反射膜付基板における反射層の厚さを０．０５〜５μ
ｍの範囲内の値とすることが好ましい。この理由は、か
かる反射層の厚さが０．０５μｍ未満の値になると、反
射効果が著しく乏しくなる場合があるためである。一
方、かかる反射層の厚さが５μｍを越えると、得られる
光反射膜付基板のフレキシブル性が低下したり、製造時
間が過度に長くなる場合があるためである。したがっ
て、かかる反射層の厚さを０．０７〜１μｍの範囲内の
値とすることがより好ましく、０．１〜０．３μｍの範
囲内の値とすることがさらに好ましい。

【００６４】（２）種類 また、反射層の構成材料は特に制限されるものでなく、
例えば、アルミニウム（Ａｌ）、銀（Ａｇ）、銅（Ｃ
ｕ）、金（Ａｕ）、クロム（Ｃｒ）、タンタル（Ｗ）及
びニッケル（Ｎｉ）等の導電性や光反射性に優れた金属
材料とすることが好ましい。また、上記反射層の上に酸
化インジウムスズ（ＩＴＯ）や酸化インジウム、あるい
は酸化スズ等の透明導電材料を使用することも好まし
い。ただし、このような金属材料や透明導電材料を用い
た際に、液晶への溶け込みがある場合には、当該金属材
料等からなる反射膜の表面に電気絶縁膜を設けたり、金
属材料等とともに、電気絶縁物をスパッタリング等する
ことも好ましい。

【００６５】（３）下地層 また、反射層を第２の基板の上に形成するにあたり、密
着力を向上させるとともに、反射層をなだらかな曲面と
するために、厚さ０．０１〜２μｍの下地層を設けるこ
とが好ましい。なお、このような下地層の構成材料とし
て、シランカップリング剤、チタンカップリング剤、ア
ルミニウムカップリング剤、アルミニウム−マグネシウ
ム合金、アルミニウム−シラン合金、アルミニウム−銅
合金、アルミニウム−マンガン合金、アルミニウム−金
合金等の一種単独あるいは二種以上の組み合わせが挙げ
られる。

【００６６】（４）鏡面反射率 また、反射層における鏡面反射率を５〜５０％の範囲内
の値とすることが好ましい。この理由は、かかる鏡面反
射率が５％未満の値となると、液晶表示装置等に使用し
た場合に、得られる表示画像の明るさが著しく低下する
場合があるためである。一方、かかる鏡面反射率が５０
％を超えると、散乱性が低下して、背景の写りこみや、
外部光が過度に鏡面反射する場合があるためである。し
たがって、反射層における鏡面反射率を１０〜４０％の
範囲内の値とすることがより好ましく、１５〜３０％の
範囲内の値とすることがさらに好ましい。

【００６７】上述した光反射膜付基板を、他の構成部
材、例えば、図１４及び図１５に示すように、カラーフ
ィルタ１５０、遮光層１５１、オーバーコート層１５
７、複数の透明電極１５４と、配向膜等と組み合わせる
ことが好ましい。このように組み合わせることにより、
干渉縞の発生が少ない、カラー液晶表示装置等の部材を
効率的に提供することができる。例えば、ＲＧＢ（赤、
青、緑）の３色の色要素により構成したストライプ配
列、モザイク配列、あるいはデルタ配列等のカラーフィ
ルタ１５０を組み合わせることにより、容易にカラー化
が図れるし、さらに遮光層１５１と組み合わせることに
より、コントラストに優れた画像を得ることができる。
また、光反射膜付基板は反射電極として使用することも
できるが、他の電極、例えば、透明電極１５４を設ける
ことにより、光吸収を防ぎながら、複数の凸部又は凹部
からなる反射膜の影響を排除することができる。さら
に、ＲＧＢ（レッド、グリーン、ブルー）からなる３色
素からなるカラーフィルタのかわりに、ＹＭＣ（イエロ
ー、マゼンダ、シアン）からなる３色素によってカラー
フィルタを構成することも好ましい。このように、ＹＭ
Ｃの３色素からなるカラーフィルタは、光透過特性に優
れ、例えば、反射型液晶表示装置に用いた場合には、さ
らに明るい表示を得ることができる。

【００６８】[第３実施形態]第３実施形態は、複数のド
ット領域を有する基材に光反射膜を形成する方法であっ
て、基材に感光性材料を塗布する工程と、感光性材料を
露光する工程と、露光した感光性材料に凹凸を形成する
工程と、凹凸上に光反射膜を形成する工程と、を具備
し、凹凸のパターンが、ドット領域の数より少ない複数
ドット分を一単位とし、かつその一単位内において不規
則になるように形成されることを特徴とする光反射膜の
形成方法である。すなわち、光透過部又は光不透過部
を、例えば、独立した円及び多角形、あるいはいずれか
一方の平面形状とし、かつ、平面方向にランダムに配列
されたマスクを使って、塗布された感光性樹脂に対し
て、露光プロセスによって、高さが実質的に等しく、平
面方向にランダムに配列され、かつ、独立した複数の凸
部又は凹部を有する第１の基材を形成する工程と、当該
第１の基材の表面に感光性樹脂を塗布して、露光プロセ
スによって、連続した複数の凸部又は凹部を有する第２
の基材を形成する工程と、当該第２の基材の表面に反射
層を形成する工程と、を含むことを特徴とする光反射膜
付基板の製造方法である。以下、図１１及び図１２を適
宜参照しながら、第１の基材の表面に凹部を形成する場
合を例に採って、光反射膜付基板の製造方法を具体的に
説明する。なお、図１１は、光反射膜付基板の製造工程
を図式化したものであって、図１２は、それのフローチ
ャートである。

【００６９】１．第１の基材を形成する工程 平面方向にランダムに配列された複数の凹部を、第１実
施形態で説明したマスクを利用して、ポジ型感光性樹脂
から、露光プロセスによって形成することが好ましい。
すなわち、光透過部又は光不透過部を独立した円及び多
角形、あるいはいずれか一方の平面形状とし、平面方向
にランダムに配列してあるマスクを介して、平面方向に
ランダムに配列された複数の凹部を、感光性樹脂から構
成してあることが好ましい。

【００７０】（１）感光性樹脂 第１の基材を構成する感光性樹脂の種類は特に制限され
るものではないが、例えば、アクリル系樹脂、エポキシ
系樹脂、シリコーン系樹脂、フェノール系樹脂、オキセ
タン系樹脂等の一種単独又は二種以上の組み合わせが挙
げられる。また、精度良く、所定の円形又は多角形とす
ることができるように、感光性樹脂中に、シリカ粒子、
酸化チタン、酸化ジルコニア、酸化アルミニウム等の無
機フィラーを添加しておくことも好ましい。なお、上述
したように、第１の基材を構成する感光性樹脂として
は、光透過部を透過した光が照射された箇所が光分解し
て、現像剤に対して可溶化するポジ型と、光透過部を透
過した光が照射された箇所が硬化し、現像剤に対して不
溶化するネガ型とがあるが、いずれも好適に使用するこ
とができる。

【００７１】（２）露光プロセス 図１１（ａ）及び図１２の工程Ｐ３１に示すように、独
立した複数の凹部である第１の基材を形成するにあた
り、スピンコーター等を用いて、第１の基材を構成する
感光性樹脂を、支持部１１４上に均一に塗布して、第１
層１１０を形成することが好ましい。その場合、スピン
コーターの条件として、例えば、６００〜２、０００ｒ
ｐｍの回転数で、５〜２０秒とすることが好ましい。次
いで、解像度を向上させるために、図１２の工程Ｐ３２
に示すように、第１層１１０をプリベークすることが好
ましい。その場合、例えば、ホットプレートを用いて、
８０〜１２０℃、１〜１０分の加熱条件とすることが好
ましい。

【００７２】次いで、図１１（ｂ）及び図１２の工程Ｐ
３３に示すように、第１実施形態のマスク１１９を使用
し、均一に塗布された感光性樹脂からなる第１層１１０
の上に、第１実施形態のマスク１１９を載置した後、ｉ
線等を露光することが好ましい。その場合、ｉ線等の露
光量を例えば５０〜３００ｍＪ／ｃｍ²の範囲内の値と
することが好ましい。

【００７３】次いで、図１１（ｃ）及び図１２の工程Ｐ
３４に示すように、現像液によって、例えば、マスク１
１９の光透過部１１７を透過した部分をポジ現像するこ
とにより、平面方向にランダムに配列され、独立した複
数の凹部からなる第１の基材１１２を形成することがで
きる。なお、第２の基材１１３を形成する前に、図１２
の工程Ｐ３５及び図３６に示すように、一例として、露
光量が３００ｍＪ／ｃｍ²となるように全面的にポスト
露光した後、２２０℃、５０分の条件で加熱することに
よってポストベークし、第１の基材１１２をさらに強固
にすることも好ましい。

【００７４】２．第２の基材を形成する工程 第２の基材を形成する工程は、樹脂塗布等によって、第
１の基材上、すなわち、平面方向にランダムに配列され
た複数の凹部上に、連続層としての第２の基材を形成す
る工程である。

【００７５】（１）感光性樹脂 第２の基材を構成する感光性樹脂の種類は特に制限され
るものではないが、例えば、アクリル系樹脂、エポキシ
系樹脂、シリコーン系樹脂、フェノール系樹脂等が挙げ
られる。また、第１の基材と第２の基材との間の密着力
が向上するため、第２の基材を構成する感光性樹脂と、
第１の基材を構成する感光性樹脂とを同種とすることが
好ましい。なお、第１の基材と第２の基材との間の密着
力が向上するため、第１の基材の表面に、シランカップ
リング剤等の処理を施しておくことが好ましい。

【００７６】（２）露光工程 図１１（ｄ）及び図１２の工程Ｐ３７〜Ｐ４０に示すよ
うに、第２の基材１１３を形成するにあたっては、第２
の基材１１３を構成する感光性樹脂を塗布した後、パネ
ル表示領域周辺の実装領域にｉ線等を露光して樹脂層を
除去することが好ましい。この場合も、第１の基材１１
２を露光させるのと同様に、ｉ線等の露光量を例えば５
０〜３００ｍＪ／ｃｍ²の範囲内の値とすることが好ま
しい。さらに、図１２の工程Ｐ４１〜Ｐ４２に示すよう
に、第２の基材１１３を形成した後に、一例として、露
光量が３００ｍＪ／ｃｍ²となるように全面的にポスト
露光した後、２２０℃、５０分の条件で加熱することに
よってポストベークし、第１の基材１１２及び第２の基
材１１３をそれぞれさらに強固にすることも好ましい。

【００７７】３．反射層を形成する工程 反射層を形成する工程は、図１１（ｅ）及び図１２の工
程Ｐ４３〜Ｐ４４に示すように、第２の基材１１３の表
面に、適度に光散乱させるように、滑らかな曲面を有す
る反射層１１６を形成する工程である。

【００７８】（１）反射層材料 反射層材料としては、第２実施形態で説明したように、
アルミニウム（Ａｌ）及び銀（Ａｇ）等の光反射性に優
れた金属材料とすることが好ましい。

【００７９】（２）形成方法 スパッタリング等の手法を用いて、反射層を形成するこ
とが好ましい。また、所望の箇所以外の反射層材料は、
フォトエッチング等の手法で除去することができる。ま
た、第２の基材の表面に凹凸があるため、反射層材料が
均一な厚さに積層しない場合があるが、そのようなとき
には、回転蒸着法や回転スパッタリング法を採用するこ
とが好ましい。さらにまた、反射層を形成するととも
に、当該反射層をＴＦＴ（Thin Film Transistor）や、
ＭＩＭ(Metal Insulating Metal)等の端子に対して、電
気接続することが好ましい。

【００８０】[第４実施形態]第４実施形態は、アクティ
ブ素子として２端子型の能動素子であるＴＦＤ（Thin F
ilm Diode）を用いたアクティブマトリクス方式の液晶
表示装置であって、基板間に挟持された液晶素子と、当
該液晶素子の観察側と反対側の基板に設けられた光反射
膜付基板と、を具備しており、当該光反射膜付基板が、
基材及び反射層からなり、当該基材に形成された複数の
凸部の高さや凹部の深さを実質的に等しくしてあるとと
もに、当該複数の凸部又は凹部の平面形状を、独立した
円及び多角形、あるいはいずれか一方の平面形状とし、
かつ、当該複数の凸部又は凹部が平面方向にランダムに
配列してあることを特徴とした液晶表示装置である。以
下、図２３〜図２５を参照して具体的に説明するが、外
部光を用いた反射表示と照明装置を用いた透過表示を選
択的に行うことができる方式の半透過反射型液晶装置を
例にとって説明する。

【００８１】まず、本実施形態においても液晶装置２３
０は、図２３に示すように、第１基板２３１ａと第２基
板２３１ｂとをシール材（図示せず）によって貼り合わ
せ、さらに、第１基板２３１ａ、第２基板２３１ｂ及び
シール材によって囲まれる間隙すなわちセルギャップ内
に液晶を封入することによって形成される。なお、一方
の基板２３１ｂの表面に、液晶駆動用ＩＣ（図示せず）
が、例えば、ＣＯＧ（Chip on glass）方式によって直
接的に実装されていることが好ましい。そして、図２３
において、液晶装置２３０の表示領域を構成する複数の
表示ドットのうち、数個の断面構造を拡大して示してお
り、図２４は、１つの表示ドット部分の断面構造を示し
ている。

【００８２】ここで、図２３に示すように、第２基板２
３１ｂのシール材によって囲まれる内部領域には、複数
の画素電極が、行方向ＸＸ及び列方向ＹＹに関してドッ
トマトリクス状の配列で形成される。また、第１基板２
３１ａのシール材によって囲まれる内部領域にはストラ
イプ状の電極が形成され、そのストライプ状電極が第２
基板２３１ｂ側の複数の画素電極に対向して配置される
ことになる。また、第１基板２３１ａ上のストライプ状
電極と、第２基板２３１ｂ上の１つの画素電極によって
液晶を挟んだ部分が１つの表示ドットを形成し、この表
示ドットの複数個がシール材によって囲まれる内部領域
内で、ドットマトリクス状に配列することによって表示
領域が形成される。また、液晶駆動用ＩＣは複数の表示
ドット内の対向電極間に選択的に走査信号及びデータ信
号を印加することにより、液晶の配向を表示ドット毎に
制御することになる。すなわち、液晶の配向制御により
該液晶を通過する光が変調されて、表示領域内に文字、
数字等といった像が表示される。

【００８３】また、図２４において、第１基板２３１ａ
は、ガラス、プラスチック等によって形成された基材２
３６ａと、その基材２３６ａの内側表面に形成された光
反射膜２３１と、その光反射膜２３１の上に形成された
カラーフィルタ２４２と、そのカラーフィルタ２４２の
上に形成された透明なストライプ状電極２４３とを有す
る。そのストライプ状電極２４３の上には、配向膜２４
１ａが形成される。この配向膜２４１ａに対して配向処
理としてのラビング処理が施される。ストライプ状電極
２４３は、例えばＩＴＯ（Indium Tin Oxide）等の透明
導電材料によって形成される。また、第１基板２３１ａ
に対向する第２基板２３１ｂは、ガラス、プラスチック
等によって形成された基材２３６ｂと、その基材２３６
ｂの内側表面に形成されたスイッチング素子として機能
するアクティブ素子としてのＴＦＤ（Thin Film Diod
e）２４７と、このＴＦＤ２４７に接続された画素電極
２３９とを有する。ＴＦＤ２４７及び画素電極２３９の
上には、配向膜２４１ｂが形成され、この配向膜２４１
ｂに対して配向処理としてのラビング処理が施される。
画素電極２３９は、例えばＩＴＯ（Indium Tin Oxide）
等の透明導電材料によって形成される。また、第１基板
２３１ａに属するカラーフィルタ２４２は、第２基板２
３１ｂ側の画素電極２３９に対向する位置にＲ（赤），
Ｇ（緑），Ｂ（青）又はＹ（イエロー），Ｍ（マゼン
タ），Ｃ（シアン）等といった各色のいずれかの色フィ
ルタエレメント２４２ａを有し、画素電極２３９に対向
しない位置にブラックマスク２４２ｂを有することが好
ましい。

【００８４】また、図２４に示すように、第１基板２３
１ａと第２基板２３１ｂとの間の間隔、すなわちセルギ
ャップはいずれか一方の基板の表面に分散された球状の
スペーサ３０４によって寸法が維持され、そのセルギャ
ップ内に液晶が封入される。ここで、ＴＦＤ２４７は、
図２４に示すように、第１金属層２４４と、その第１金
属層２４４の表面に形成された絶縁層２４６と、その絶
縁層２４６の上に形成された第２金属層２４８とによっ
て構成されている。このようにＴＦＤ２４７は、第１金
属層／絶縁層／第２金属層から成る積層構造、いわゆる
ＭＩＭ（Metal Insulator Metal）構造によって構成さ
れている。また、第１金属層２４４は、例えば、タンタ
ル単体、タンタル合金等によって形成される。第１金属
層２４４としてタンタル合金を用いる場合には、主成分
のタンタルに、例えば、タングステン、クロム、モリブ
デン、レニウム、イットリウム、ランタン、ディスプロ
リウム等といった周期律表において第６〜第８族に属す
る元素が添加される。また、第１金属層２４４はライン
配線２４９の第１層２４９ａと一体に形成される。この
ライン配線２４９は画素電極２３９を間に挟んでストラ
イプ状に形成され、画素電極２３９へ走査信号を供給す
るための走査線又は画素電極２３９へデータ信号を供給
するためのデータ線として作用する。また、絶縁層２４
６は、例えば、陽極酸化法によって第１金属層２４４の
表面を酸化することによって形成された酸化タンタル
（Ｔａ₂Ｏ₅）によって構成される。なお、第１金属層２
４４を陽極酸化したときには、ライン配線２４９の第１
層２４９ａの表面も同時に酸化されて、同様に酸化タン
タルから成る第２層２４９ｂが形成される。また、第２
金属層２４８は、例えばＣｒ等といった導電材によって
形成される。画素電極２３９は、その一部が第２金属層
２４８の先端に重なるように基材２３６ｂの表面に形成
される。なお、基材２３６ｂの表面には、第１金属層２
４４及びライン配線の第１層２４９ａを形成する前に酸
化タンタル等によって下地層を形成することがある。こ
れは、第２金属層２４８の堆積後における熱処理によっ
て第１金属層２４４が下地から剥離しないようにした
り、第１金属層２４４に不純物が拡散しないようにした
りするためである。

【００８５】そして、第１基板２３１ａに形成された光
反射膜２３１は、例えば、アルミニウム等といった光反
射性の金属によって形成され、第２基板２３１ｂに属す
る各画素電極２３９に対応する位置、すなわち各表示ド
ットに対応する位置に光透過用の開口２４１が形成され
る。また、光反射膜２３１の液晶側表面には、例えば、
図８又は図１８〜２２に示すような長円形状でドーム形
状の谷部又は山部８０、８４、１８０、１９０、２０
０、２１０、２２０が形成してあることが好ましい。す
なわち、かかる谷部又は山部８０、８４、１８０、１９
０、２００、２１０、２２０は、ライン配線の延在方向
であるＸ軸線方向を長軸とし、それと直角なＹ軸線方向
が短軸となるように配列されていることが好ましい。ま
た、谷部又は山部８０、８４、１８０、１９０、２０
０、２１０、２２０の長軸方向Ｘは、基材のＸＸ方向に
延びる端辺に対して平行に設定され、短軸方向Ｙは基材
のＹＹ方向に延びる端辺に対して平行に設定されている
ことが好ましい。

【００８６】第４実施形態の液晶表示装置２３０は以上
のように構成されているので、当該液晶表示装置２３０
が反射型表示を行う場合には、図２３において、観察者
側すなわち第２基板２３１ｂ側から液晶表示装置２３０
の内部へ入った外部光は、液晶を通過して光反射膜２３
１に到達し、当該反射膜２３１で反射して再び液晶へ供
給される（図２４の矢印Ｆ１参照）。液晶は、画素電極
２３９とストライプ状対向電極２４３との間に印加され
る電圧、すなわち走査信号及びデータ信号によって表示
ドット毎にその配向が制御され、これにより、液晶に供
給された反射光は表示ドット毎に変調され、これにより
観察者側に文字、数字等といった像が表示される。他
方、液晶表示装置２３０が透過型表示を行う場合には、
第１基板２３１ａの外側に配置された照明装置（図示せ
ず）、いわゆるバックライトが発光し、この発光が偏光
板２３３ａ、位相差板２３２ａ、基材２３６ａ、光反射
膜２３１の開口２４１、カラーフィルタ２４２、電極２
４３及び配向膜２４１ａを通過した後に液晶に供給され
る（図２４の矢印Ｆ２参照）。この後、反射型表示の場
合と同様にして表示が行われる。

【００８７】そして、第４実施形態では、光反射膜付基
板における基材上に、複数の凸部又は凹部を設けるとと
もに、当該複数の凸部又は凹部の高さを実質的に変えず
に、平面方向にランダムに配列してあることから、干渉
縞の発生を少なくすることができる。また、第４実施形
態において、上述したように、複数の凸部又は凹部にお
けるＸ軸線に沿った立体形状とＹ軸線に沿った立体形状
とを互いに異ならせた場合には、一定の視野角方向への
反射光量を低く抑えた上で、別の特定の視野角方向への
反射光量を増大させることができる。この結果、観察者
は、光反射膜を用いて行われる反射型表示の際に、液晶
表示装置の表示領域内に表示される像を特定の視野角方
向に関して非常に明るい表示として観察できる。

【００８８】[第５実施形態]第５実施形態は、パッシブ
マトリクス方式の反射型液晶表示装置に関する液晶表示
装置であって、基板間に挟持された液晶素子と、当該液
晶素子の観察側と反対側の基板に設けられた光反射膜付
基板と、を具備しており、当該光反射膜付基板が、基材
及び反射層からなり、当該基材に形成された複数の凸部
の高さや凹部の深さを実質的に等しくしてあるととも
に、当該複数の凸部又は凹部の平面形状を、独立した円
及び多角形、あるいはいずれか一方の平面形状とし、か
つ、当該複数の凸部又は凹部が平面方向にランダムに配
列してあることを特徴とした液晶表示装置である。以
下、図１４を適宜参照しながら、第５実施形態における
パッシブマトリクス方式の反射型液晶表示装置を、具体
的に説明する。なお、以下に示す各図においては、各層
や各部材を図面上で認識可能な程度の大きさとするた
め、各層や各部材ごとに縮尺を異ならせてある場合があ
る。

【００８９】１．構成 図１４に示すように、この液晶表示装置１４０は、相互
に対向する第１基板１４１と第２基板１４２とがシール
材１５８を介して貼り合わされ、両基板の間に液晶１４
４が封入された構成となっている。さらに、この液晶表
示装置１４０の観察側には、光透過性を有する保護板１
４５が配設される。この保護板１４５は、当該液晶表示
装置１４０を外部から与えられる衝撃などから保護する
ための板状部材であり、例えば液晶表示装置１４０が搭
載される電子機器の筐体に設けられる。また、保護板１
４５は、液晶表示装置１４０における第１基板１４１
（観察側の基板）の基板面と近接するように配設され
る。なお、第５実施形態においては、プラスチックから
なる保護板１４５を、第１基板１４１の構成要素のうち
最も観察側に位置する偏光板１４６の表面に当接させた
場合を想定する。このように保護板１４５をプラスチッ
クにより構成した場合、成形が容易で安価に製造できる
という利点がある反面、その表面に微細な凹凸が形成さ
れやすい。

【００９０】一方、液晶表示装置１４０の第１基板１４
１及び第２基板１４２は、ガラスや石英、プラスチック
等の光透過性を有する板状部材である。このうち、観察
側に位置する第１基板１４１の内側（液晶１４４側）表
面には、所定の方向に延在する複数の透明電極１４３が
形成されている。各透明電極１４３は、ＩＴＯ（Indium
Tin Oxide）等の透明導電材料によって形成された帯状
の電極である。さらに、これらの透明電極１４３が形成
された第１基板１４１の表面は、配向膜（図示略）によ
って覆われている。この配向膜はポリイミド等の有機薄
膜であり、電圧が印加されていないときの液晶１４４の
配向方向を規定するためのラビング処理が施されてい
る。

【００９１】２．光散乱膜 第１基板１４１の外側（液晶１４４とは反対側）には、
入射光を所定方向に偏光させる偏光板１４６と、第１基
板１４１と偏光板１４６との間に介在する散乱層１４７
とが設けられている。散乱層１４７は、当該散乱層１４
７を透過する光を散乱させるための層であり、偏光板１
４６を第１基板１４１に貼着するための接着剤１４８ａ
と、当該接着剤１４８ａ中に分散された多数の微粒子１
４８ｂとを有する。この散乱層１４７としては、例えば
アクリル系又はエポキシ系等の接着剤１４８ａに、シリ
カからなる微粒子１４８ｂを分散させたものを用いるこ
とができる。そして、接着剤１４８ａの屈折率と微粒子
１４８ｂの屈折率とは異なっており、当該散乱層１４７
に入射した光は接着剤１４８ａと微粒子１４８ｂとの境
界において屈折するようになっている。この結果、散乱
層１４７への入射光を、適度に散乱させた状態で出射さ
せることができる。

【００９２】さらに、第５実施形態における散乱層１４
７は、そのヘイズ値（曇価）Ｈが１０〜６０％の範囲内
の値となるように、接着剤１４８ａ中に分散される微粒
子１４８ｂの数や両者の屈折率などが選定されている。
ここで、ヘイズ値Ｈとは、ある部材への入射光が当該部
材を透過する際に散乱する程度を表す値であり、以下の
式により定義される。 ヘイズ値（曇価）Ｈ＝（Ｔｄ／Ｔｔ）×１００（％）

【００９３】ここで、Ｔｔは全光線透過率（％）であ
り、Ｔｄは散乱光透過率（％）である。全光線透過率Ｔ
ｔは、ヘイズ値Ｈの測定対象となる試料への入射光量の
うち当該試料を透過した光量の割合を表す値である。一
方、散乱光透過率Ｔｄは、試料に対して所定方向から光
を照射した場合に、当該試料を透過した光量のうち上記
所定方向以外の方向に出射した光量、すなわち、散乱光
量の割合を表す値である。つまり、試料からの出射光量
のうち入射光と平行な方向への出射光量の割合を平行光
透過率Ｔｐ（％）とすると、上記散乱光透過率Ｔｄは、
上記全光線透過率Ｔｔと平行光透過率Ｔｐとの差（Ｔｄ
＝Ｔｔ−Ｔｐ）により表される。上記からも明らかなよ
うに、ヘイズ値Ｈが高ければ散乱の程度が大きく、すな
わち透過光量に占める散乱光量の割合が大きく、逆にヘ
イズ値Ｈが低ければ散乱の程度が小さい、すなわち透過
光量に占める散乱光量の割合が小さいということができ
る。なお、上記ヘイズ値（曇価）Ｈについては、JIS(Ja
panese Industrial Standards) K6714-1977に詳述され
ている。

【００９４】３．反射層（光反射膜） 一方、第２基板１４２の内側（液晶１４４側）表面には
反射層１４９が形成されている。この反射層１４９は、
液晶表示装置１４０に対して観察側から入射した光を反
射させるための層であり、例えばアルミニウムや銀とい
った光反射性を有する金属によって形成される。ここ
で、図１４に示すように、第２基板１４２の内側表面の
うち反射層１４９によって覆われる領域は多数の微細な
突起及び窪みが形成された粗面となっている。より具体
的には、基材と、反射層とを含む光反射膜付基板であっ
て、当該基材の表面に独立して形成された複数の凸部の
高さや凹部の深さを実質的に等しくするとともに、当該
複数の凸部又は凹部の平面形状を、独立した円及び多角
形、あるいはいずれか一方の平面形状とし、かつ、複数
の凸部又は凹部を平面方向にランダムに配列した反射層
１４９である。このため、反射層１４９の表面は、第２
基板１４２表面の突起及び窪みを反映した粗面となる。
すなわち、反射層１４９は、当該表面における反射光を
適度に散乱させて広い視野角を実現するための散乱構造
を有している。より具体的には、反射層１４９が、複数
の凸部又は凹部からなる基材上に形成されており、そし
て、基材に形成された複数の凸部の高さを実質的に等し
くしてあるとともに、当該複数の凸部又は凹部の平面形
状を、独立した円及び多角形、あるいはいずれか一方の
平面形状とし、かつ、当該複数の凸部又は凹部が平面方
向にランダムに配列してある構造である。

【００９５】４．その他の構成 さらに、第２基板１４２を覆う反射層１４９の面上に
は、カラーフィルタ１５０と、遮光層１５１と、カラー
フィルタ１５０及び遮光層１５１によって形成される凹
凸を平坦化するためのオーバーコート層１５７と、複数
の透明電極１５４と、配向膜（図示略）とが形成されて
いる。各透明電極１５４は、第１基板１４１上の透明電
極１４３の延在方向と交差する方向（図１４における紙
面左右方向）に延在する帯状の電極であり、透明電極１
４３と同様にＩＴＯ等の透明導電材料によって形成され
る。かかる構成の下、液晶１４４は、透明電極１４３と
透明電極１５４との間に印加された電圧に応じてその配
向方向が変化する。すなわち、透明電極１４３と透明電
極１５４とが交差する領域が画素（サブ画素）として機
能するのである。カラーフィルタ１５０は、これらの画
素の各々に対応して設けられた樹脂層であり、染料や顔
料によってＲ、Ｇ、Ｂのいずれかに着色されている。ま
た、遮光層１５１は、各画素の間隙部分を遮光するため
の格子状の層であり、例えばカーボンブラックが分散さ
れた黒色樹脂材料などによって形成される。

【００９６】５．動作 以上説明した構成によって反射型表示が実現される。す
なわち、太陽光や室内照明光等の外光は、保護板１４５
を透過して液晶表示装置１４０に入射し、反射層１４９
の表面で反射する。この反射光は、液晶１４４及び第１
基板１４１を透過し、散乱層１４７において適度に散乱
された後に偏光板１４６を透過して液晶表示装置１４０
の観察側に出射する。そして液晶表示装置１４０からの
出射光は、保護板１４５を透過して観察者に視認され
る。

【００９７】ここで、上述したように、保護板１４５の
材料としてプラスチックを用いた場合、その表面を完全
な平面とすることは困難であり、複数の微細な凹凸が形
成されやすい。このように微細な凹凸が形成された保護
板１４５を液晶表示装置１４０の第１基板１４１と近接
するように配設した場合、当該液晶表示装置１４０から
の出射光が保護板１４５を透過するときに干渉する結
果、当該凹凸に対応する干渉縞が表示画像に重なって表
示品位の低下を招き得る。しかしながら、本発明者によ
る試験の結果、上記実施形態に示したように、液晶１４
４を通過して保護板１４５に至る光を散乱層１４７によ
って散乱させた場合には、高品位の表示を実現できると
いう知見を得るに至った。

【００９８】また、図１４に示した構成において、干渉
縞の発生を抑えるという観点からは、散乱層１４７のヘ
イズ値Ｈが高い、つまり、散乱の程度が高いことが望ま
しい。しかしながら、このヘイズ値Ｈをあまりに高い値
（例えば７０％以上の値）とした場合、液晶表示装置１
４０から保護板１４５に至る光が散乱し過ぎて表示画像
のコントラストが低下する、すなわち表示画像がぼやけ
るという新たな問題が生じ得る。一方、散乱層１４７の
ヘイズ値Ｈをあまりに低い値とした場合、例えば１０％
以下の値とした場合、凹凸に起因するシミが見え易い。
本発明者による試験の結果、凸部又は凹部により形成さ
れるパターンが、１ドット又は２ドットにより定義され
る一単位内において不規則に配列されている場合には、
散乱層１４７のヘイズ値Ｈを４０％〜６０％の範囲内の
値に設定するのが好ましく、表示画像のコントラストが
著しく低下するのを回避しつつ、保護板１４５の表面の
凹凸に起因した表示品位の低下を有効に抑えることがで
き、良好な表示品位を確保できるという知見を得るに至
った。また、凸部又は凹部により形成されるパターン
が、３ドット以上で定義される一単位内において不規則
に配列されている場合には、散乱層１４７のヘイズ値Ｈ
を１０％〜４０％の範囲内の値に設定することで、コン
トラストを高く設定することができた。

【００９９】なお、第５実施形態に示したように、接着
剤１４８ａ中に微粒子１４８ｂを分散させた散乱層１４
７を用いた場合、例えば微粒子１４８ｂの添加量（数）
を調節することによってヘイズ値Ｈを任意に選定するこ
とができる。すなわち、接着剤１４８ａ中に分散させる
微粒子１４８ｂの添加量を増やせば、当該散乱層１４７
への入射光はより散乱することとなるため、当該散乱層
１４７のヘイズ値Ｈを高くすることができ、逆に微粒子
の添加量を減らせば散乱層１４７のヘイズ値Ｈを低くす
ることができるといった具合である。

【０１００】また、第５実施形態によれば、液晶表示装
置１４０から出射する光の散乱の程度を広範囲にわたっ
て容易に選定できるという利点がある。すなわち、上記
散乱層１４７を有しない液晶表示装置において、液晶表
示装置１４０から出射する光の散乱の程度を調節するた
めには、反射層１４９の表面の形状、例えば凸部の高さ
や凹部の深さ、もしくは隣接する凸部（又は凹部）間の
距離などを調節する必要がある。しかしながら、このよ
うに反射層１４９の表面を正確に所望の形状にすること
は、第２基板１４２上に所望の凹凸を形成する製造技術
上の事情などを考慮すると必ずしも容易ではない。さら
に、反射層１４９表面の形状を調節することのみによっ
ては、液晶表示装置１４０から出射する光の散乱の程度
を調節可能な幅が極めて狭い範囲に限定されてしまう。
これに対し、本実施形態によれば、反射層１４９の表面
の形状を大幅に変更しなくても、散乱層１４７のヘイズ
値Ｈを変更することによって、例えば接着剤１４８ａ中
に分散する微粒子１４８ｂの添加量などを適宜調節する
ことによって、液晶表示装置１４０から出射する光の散
乱の程度を広範囲にわたって容易に調節できるという利
点がある。

【０１０１】[第６実施形態]第６実施形態は、基板間に
挟持された液晶素子と、当該液晶素子の観察側とは反対
側の基板に設けられた光反射膜付基板と、を具備した液
晶表示装置であって、当該光反射膜付基板が、基材及び
反射層からなり、当該基材に形成された複数の凸部の高
さや凹部の深さを実質的に等しくしてあるとともに、当
該複数の凸部又は凹部の平面形状を、独立した円及び多
角形、あるいはいずれか一方の平面形状とし、かつ、当
該複数の凸部又は凹部が平面方向にランダムに配列して
あるパッシブマトリクス方式の半透過反射型液晶表示装
置である。そこで、図１５を参照して、第６実施形態の
パッシブマトリクス方式の半透過反射型液晶表示装置に
ついて、具体的に説明する。

【０１０２】１．基本構成 図１５に示すように、第６実施形態においては、液晶表
示装置１６０の背面側（観察側とは反対側）にバックラ
イトユニット１５３が配設される。このバックライトユ
ニット１５３は、光源として機能する複数のＬＥＤ１５
（図１５においてはひとつのＬＥＤ１５のみが図示され
ている。）と、側端面に入射したＬＥＤ１５からの光を
液晶表示装置１６０における第２基板１４２の全面に導
く導光板１５２と、この導光板１５２により導かれた光
を液晶表示装置１６０に対して一様に拡散させる拡散板
１５５と、導光板１５２から液晶表示装置１６０とは反
対側に出射した光を液晶表示装置１６０側に反射させる
反射板１５６とを有する。ここで、ＬＥＤ１５は常に点
灯しているわけではなく、外光がほとんど存在しないよ
うな環境において使用される場合に、ユーザからの指示
やセンサからの検出信号に応じて点灯する。

【０１０３】さらに、第６実施形態に係る液晶表示装置
１６０においては、反射層１４９のうち各画素の中央部
近傍に対応する領域に開口部１５９が形成されている。
また、第２基板１４２の外側（液晶１４４とは反対側）
には別の偏光板が貼着されるが、図１５においてはその
偏光板を省略して図示している。

【０１０４】２．動作 かかる構成の液晶表示装置１６０によれば、上記第６実
施形態において示した反射型表示に加えて、透過型表示
を実現することができる。すなわち、バックライトユニ
ット１５３から液晶表示装置１６０に照射された光は、
反射層１４９の開口部１５９を通過する。この光は、液
晶１４４及び第１基板１４１を透過し、散乱層１４７に
おいて散乱した後に偏光板１４６を透過して液晶表示装
置１６０の観察側に出射する。そして、この出射光が保
護板１４５を透過して観察側に出射することにより、透
過型表示が実現されるのである。したがって、本実施形
態においても、上述した第６実施形態と同様、表面に微
細な凹凸が形成された保護板１４５を液晶表示装置１６
０と近接して設けた場合であっても、当該凹凸に起因し
た表示品位の低下を抑えることができる。

【０１０５】[第７実施形態]第７実施形態は、基板間に
挟持された液晶素子と、当該液晶素子の観察側とは反対
側の基板に設けられた光反射膜付基板と、を具備した液
晶表示装置であって、当該光反射膜付基板が、基材及び
反射層からなり、当該基材に形成された複数の凸部の高
さや凹部の深さを実質的に等しくしてあるとともに、当
該複数の凸部又は凹部の平面形状を、独立した円及び多
角形、あるいはいずれか一方の平面形状とし、かつ、当
該複数の凸部又は凹部が平面方向にランダムに配列して
ある液晶表示装置の変形例である。

【０１０６】（１）変形例１ 上記各実施形態においては、散乱層１４７を第１基板１
４１と偏光板１４６との間に設けた構成としたが、散乱
層１４７の位置はこれに限られるものではない。例え
ば、干渉色を補償するための位相差板を偏光板１４６と
第１基板１４１との間に設ける場合、当該位相差板と第
１基板１４１との間に散乱層１４７を介挿してもよい
し、又は位相差板と偏光板１４６との間に散乱層１４７
を介挿してもよい。要は、散乱層１４７が、液晶１４４
に対して保護板１４５側に設けられた構成であればよい
のである。

【０１０７】また、上記各実施形態においては、接着剤
１４８ａ中に多数の微粒子１４８ｂを分散させた構成の
散乱層１４７を用いたが、散乱層１４７の構成はこれに
限られるものではなく、入射光を散乱させることができ
る層であれば、いかなる構成であってもよい。もっと
も、接着剤１４８ａを含む散乱層１４７を用いた場合に
は、当該散乱層１４７を挟む部材、例えば、上記各実施
形態における第１基板１４１と偏光板１４６同士を当該
接着剤１４８ａによって接着することができるから、接
着剤１４８ａを含まない散乱層１４７を用いた場合と比
較して、製造コストの低減及び製造工程の簡素化を図る
ことができるという利点がある。

【０１０８】（２）変形例２ 上記第５実施形態においては反射型液晶表示装置を、第
６実施形態においては半透過反射型液晶表示装置を例示
したが、反射層１４９を有さず透過型表示のみを行う透
過型液晶表示装置にも本発明を適用可能である。すなわ
ち、透過型液晶表示装置においては、図１５に示した半
透過反射型液晶表示装置のうち反射層１４９を除いた構
成とすればよい。また、上記第４実施形態においては、
開口部１５９を有する反射層１４９によって反射型表示
と透過型表示の双方を実現する構成としたが、かかる反
射層１４９に代えて、照射された光のうちの一部を透過
させて他の一部を反射させる、いわゆるハーフミラーを
用いた半透過反射型液晶表示装置にも、本発明を適用で
きることはいうまでもない。

【０１０９】（３）変形例３ 上記各実施形態においては、保護板１４５としてプラス
チックの板状部材を用いた場合を例示した。かかる保護
板１４５の表面には凹凸が形成されやすいため、本発明
を適用することによって特に顕著な効果を奏し得る。し
かしながら、保護板１４５の材料はこれに限られるもの
ではなく、他にも様々な材料の板状部材を保護板１４５
として用いることができる。

【０１１０】（４）変形例４ 上記各実施形態においては、カラーフィルタ１５０や遮
光層１５１が第２基板１４２上に形成された場合を例示
したが、これらの要素が第１基板１４１上に形成された
構成の液晶表示装置や、カラーフィルタ１５０又は遮光
層１５１を具備しない液晶表示装置にも、本発明を適用
可能であることはいうまでもない。このように、観察側
に近接して保護板１４５が配設される構成の液晶表示装
置１６０であれば、その他の要素の態様如何に拘わら
ず、本発明を適用することができる。

【０１１１】（５）変形例５ 上記第４実施形態においては、アクティブ素子として２
端子型の能動素子であるＴＦＤを用いたアクティブマト
リクス方式の液晶表示装置を例示したが、図１３に示す
ように、アクティブ素子として３端子型の能動素子であ
るＴＦＴを用いたアクティブマトリクス方式の液晶表示
装置でもよい。この場合には、図１３に示すように、遮
光領域にＴＦＴ素子を設けることが好ましい。

【０１１２】[第８実施形態]第８実施形態は、光反射膜
付基板を具備した液晶表示装置を含む電子機器であっ
て、光反射膜付基板が、基材及び反射層を含み、当該基
材に形成された複数の凸部の高さや凹部の深さを実質的
に等しくしてあるとともに、当該複数の凸部又は凹部の
平面形状を、独立した円及び多角形、あるいはいずれか
一方の平面形状とし、かつ、当該当該複数の凸部又は凹
部を平面方向にランダムに配列してあることを特徴とす
る電子機器である。

【０１１３】（１）モバイル型コンピュータ まず、本発明に係る液晶表示装置を、可搬型のパーソナ
ルコンピュータ（いわゆるノート型パーソナルコンピュ
ータ）の表示部に適用した例について説明する。図１６
は、このパーソナルコンピュータの構成を示す斜視図で
ある。同図に示すように、パーソナルコンピュータ１６
１は、キーボード１６２を備えた本体部１６３と、本発
明に係る液晶表示装置（図示略）を用いた表示部１６４
とを備えている。表示部１６４は、窓部１６５に対応し
てプラスチックの保護板１４５が配設された筐体１６６
に、本発明に係る液晶表示装置１６０が収容された構成
となっている。より詳細には、液晶表示装置１６０は、
その観察側の基板面が保護板１４５と近接するように、
筐体１６６に収容されている。なお、かかるパーソナル
コンピュータ１６１においては、外光が十分に存在しな
い状況下であっても表示の視認性を確保すべく、上記第
６実施形態に示したように、背面側にバックライトユニ
ット１５３を備えた半透過反射型液晶表示装置を用いる
ことが望ましい。

【０１１４】（２）携帯電話機 次に、本発明に係る液晶表示装置を、携帯電話機の表示
部に適用した例について説明する。図１７は、この携帯
電話機の構成を示す斜視図である。同図に示すように、
携帯電話機１７０は、複数の操作ボタン１７１のほか、
受話口１７２、送話口１７３とともに、本発明に係る液
晶表示装置（図示略）を用いた表示部１７４を備えてい
る。この携帯電話機１７０においては、窓部１７４ｂに
対応してプラスチックの保護板１７５が配設された筐体
１７６に、本発明に係る液晶表示装置が収容された構成
となっている。なお、携帯電話機１７０においても、上
記パーソナルコンピュータと同様、液晶表示装置は、そ
の観察側の基板面が保護板１７５に近接するように、筐
体１７６に収容されている。

【０１１５】なお、本発明に係る液晶表示装置を適用可
能な電子機器としては、図１６に示したパーソナルコン
ピュータや図１７に示した携帯電話機のほかにも、液晶
テレビや、ビューファインダ型・モニタ直視型のビデオ
テープレコーダ、カーナビゲーション装置、ページャ、
電子手帳、電卓、ワードプロセッサ、ワークステーショ
ン、テレビ電話、ＰＯＳ端末、タッチパネルを備えた機
器などが挙げられる。上述したように、本発明に係る液
晶表示装置によれば、表面に微細な凹凸を有する保護板
を、当該液晶表示装置の基板面と近接するように配設し
た場合であっても、当該凹凸に起因した表示品位の低下
を抑えることができる。したがって、表示品位を損なう
ことなく、保護板を液晶表示装置に近接して配設するこ
とによって電子機器の薄型化ないし小型化を図ることが
できる。

【０１１６】[その他の構成]本発明の光反射膜付基板を
設けた液晶表示装置、並びに光反射膜付基板を有する電
子機器によれば、表面に微細な凹凸を有する保護板を近
接して配設した場合であっても、当該凹凸に起因した表
示品位の低下を抑えることができるようになった。この
ような効果は、上述した液晶表示装置や電子機器の構成
においても得られるが、以下の構成によっても達成する
ことができる。 （１）相互に対向する一対の基板の間に液晶を有し、一
対の基板のうち観察側の基板の基板面に近接して保護板
が配設された液晶表示装置であって、透過する光を散乱
させるために設けられ、液晶に対して保護板側に設けら
れた散乱層と、前記液晶に対して観察側とは反対側に設
けられ、表面に複数の凹凸が形成された反射層と、を具
備することを特徴とする液晶表示装置である。 （２）散乱層のヘイズ値は１０％以上６０％以下である
ことを特徴とする（１）に記載の液晶表示装置である。 （３）反射層は、光を通過させる開口部を有することを
特徴とする（１）又は（２）に記載の液晶表示装置であ
る。 （４）相互に対向する一対の基板の間に液晶を有し、一
対の基板のうち観察側の基板の基板面に近接して保護板
が配設される液晶表示装置であって、液晶に対して保護
板側に設けられ、透過する光を散乱させる散乱層であっ
て、ヘイズ値が１０％以上６０％以下である散乱層を具
備することを特徴とする液晶表示装置である。 （５）散乱層は、観察側の基板に配設された偏光板と、
当該観察側の基板との間に設けられていることを特徴と
する（１）〜（４）のいずれかに記載の液晶表示装置で
ある。 （６）散乱層は、接着剤中に複数の微粒子を分散させた
ものであることを特徴とする（１）〜（５）のいずれか
に記載の液晶表示装置である。 （７）（１）〜（６）のいずれかに記載の液晶表示装置
と、液晶表示装置における観察側の基板の基板面に近接
する保護板と、を具備することを特徴とする電子機器で
ある。

【０１１７】

【発明の効果】以上説明したように、本発明のマスク及
びそれから得られる光反射膜付基板によれば、それぞれ
光透過部又は光不透過部、あるいは複数の凸部又は凹部
が特定のランダムパターンを有することにより、設計や
製造自体が容易になって、複数の凸部又は凹部を有する
基材上に、平坦部が少ない、滑らかな斜面を有する反射
層を形成することができ、液晶表示装置等に使用した場
合には、干渉縞の発生を効果的に抑制することができる
ようになった。また、本発明のマスクによれば、情報量
が少ないパターンを繰り返し使用するため、小型の液晶
表示装置等はもちろんのこと、大型の液晶表示装置等に
おいても、干渉縞の発生が少ない光反射膜付基板が得ら
れるマスクを、容易かつ迅速に設計することができるよ
うになった。また、本発明の光反射膜付基板を設けた電
気光学装置及び電子機器によれば、干渉縞の発生が少な
くなるとともに、設計や製造についても容易になった。
また、本発明の光反射膜付基板を設けた電気光学装置及
び電子機器によれば、光散乱膜と組み合わせることによ
り、光反射膜付基板における複数の凸部又は凹部をラン
ダムパターンにした場合に発生する不定形のシミ模様に
ついても効果的に抑制することができるようになった。
さらに、本発明の光反射膜付基板を設けた電気光学装
置、並びに光反射膜付基板を有する電子機器によれば、
表面に微細な凹凸を有する保護板を近接して配設した場
合であっても、当該凹凸に起因した表示品位の低下を抑
えることができるようになった。なお、本発明の光反射
膜付基板、及び電気光学装置、並びに電子機器は、実施
形態で説明した液晶表示装置等の他、電気泳動を利用し
た表示デバイス等にも好適に適用することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】 本発明のマスクを説明するために供する平面
図である。

【図２】 １画素（ＲＧＢ：３ドット）を一単位とし
て、光透過部又は光不透過部を平面方向にランダムに配
列したマスクを説明するために供する平面図である。

【図３】 ２画素（ＲＧＢ：６ドット）を一単位とし
て、光透過部又は光不透過部を平面方向にランダムに配
列したマスクを説明するために供する平面図である。

【図４】 ４画素（ＲＧＢ：１２ドット）を一単位とし
て、光透過部又は光不透過部を平面方向にランダムに配
列したマスクを説明するために供する平面図である。

【図５】 光透過部又は光不透過部の径が異なるマスク
を説明するために供する平面図である。

【図６】 光透過部又は光不透過部が鏡面対称にあるマ
スクを説明するために供する平面図である。

【図７】 第１の基板及び第２の基板を含む光反射膜付
基板の断面図である。

【図８】 非対称の実質的に涙型の凸部からなる光反射
膜付基板の平面図及び断面図である。

【図９】 視覚される光量と、視認する角度の関係を示
す図である。

【図１０】 開口部を有する光反射膜付基板の断面図で
ある。

【図１１】 光反射膜付基板の製造工程図である。

【図１２】 光反射膜付基板の製造工程のフローチャー
トである。

【図１３】 ＴＦＴ素子に電気接続された光反射膜付基
板を説明するために供する断面図である。

【図１４】 パッシブマトリクス方式の液晶表示装置の
構成を示す断面図である。

【図１５】 別な液晶表示装置の構成を示す断面図であ
る。

【図１６】 電子機器の一例たるパーソナルコンピュー
タの構成を示す斜視図である。

【図１７】 電子機器の一例たる携帯電話機の構成を示
す斜視図である。

【図１８】 実質的に円錐型の凹部からなる光反射膜付
基板の平面図及び断面図である。

【図１９】 非対称の実質的に涙型の凹部からなる光反
射膜付基板の平面図及び断面図である。

【図２０】 非対称の実質的にピラミッド状の凹部から
なる光反射膜付基板の平面図及び断面図である。

【図２１】 実質的に水平断面が曲率半径の小さい放物
線で垂直断面がそれより曲率半径の大きい放物線の凹部
からなる光反射膜付基板の平面図及び断面図である。

【図２２】 実質的に水平断面が矩形であって、垂直方
向に角錐状の凹部からなる光反射膜付基板の平面図及び
断面図である。

【図２３】 ＴＦＤ方式の液晶表示装置の分解図であ
る。

【図２４】 ＴＦＤ方式の液晶表示装置の部分断面図で
ある。

【図２５】 ＴＦＤ方式の液晶表示装置の部分斜視図で
ある。

【図２６】 従来の液晶表示装置の構成を示す断面図で
ある。

【図２７】 従来の液晶表示装置の別の構成を示す断面
図である。

【図２８】 従来の液晶表示装置の製造工程図である。

【符号の説明】

１０、２０、３０、４０、５０：マスク ７０、１００：光反射膜付基板 ７２、１１６：反射層 ７６、１１２：第１の基材 ７９、１１３：第２の基材 １０２：開口部 １４０：液晶表示装置 １４１：第１基板（観察側の基板） １４２：第２基板 １４３：透明電極 １４４：液晶 １４５：保護板 １４６：偏光板 １４７：散乱層 １４８ａ：接着剤 １４８ｂ：微粒子 １４９：反射層 １５０：カラーフィルタ １５１：遮光層 １５２：導光板 １５３：バックライトユニット １５４：透明電極 １５５：拡散板 １５６：反射板 １５７：オーバーコート層 １５８：シール材 １５９：開口部 １６０：液晶表示装置 １６１：パーソナルコンピュータ（電子機器） １７０：携帯電話機（電子機器） ２３０：液晶表示装置 ２４７：ＴＦＤ

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 露木 正 長野県諏訪市大和３丁目３番５号 セイコ ーエプソン株式会社内 Ｆターム(参考） 2H042 BA04 BA12 BA20 DA02 DA04 DA11 DA14 2H091 FA16Y FB02 FB08 FC02 FC10 FC12 FC23 FC26 FC29 FD23 GA01 GA03 GA13 KA10 LA21 2H095 BB36 BC09

Claims (31)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 複数のドット領域を有する基板にパター
   ンを形成するためのマスクであって、 入射光を透過可能な光透過部と、 実質的に光を透過させない光不透過部と、を具備し、 前記光透過部又は光不透過部により形成されるパターン
   は、前記ドット領域の数よりも少ない数のドット分を一
   単位として形成されているとともに、その一単位内にお
   いて不規則に配列されてなり、かつ、前記一単位を複数
   個含むこと、 を特徴とするマスク。
2. 【請求項２】 前記光透過部又は光不透過部の径を３〜
   １５μｍの範囲内の値とすることを特徴とする請求項１
   に記載のマスク。
3. 【請求項３】 各々径が異なる複数の前記光透過部、又
   は各々径が異なる光不透過部を具備することを特徴とす
   る請求項１に記載のマスク。
4. 【請求項４】 複数のドット領域を有する基板にパター
   ンを形成するためのマスクであって、 入射光を透過可能な光透過部と、 実質的に光を透過させない光不透過部と、を具備し、 前記光透過部又は光不透過部により形成されるパターン
   は、前記ドット領域の数より少ない数のドット分を一単
   位として形成されているとともに、その一単位内におい
   て対称となる個所を含むこと、 を特徴とするマスク。
5. 【請求項５】 複数のドット領域を有する基板に光反射
   膜が形成された光反射膜付基板であって、 凸部又は凹部を有する光反射膜を有し、 前記凸部又は凹部により形成されるパターンは、複数の
   ドットにより定義される一単位において不規則に配列さ
   れてなること、 を特徴とする光反射膜付基板。
6. 【請求項６】 前記凸部の高さ又は凹部の深さが面内に
   おいて実質的に等しいことを特徴とする請求項５に記載
   の光反射膜付基板。
7. 【請求項７】 前記複数の凸部又は凹部の径を３〜１５
   μｍの範囲内の値とすることを特徴とする請求項５に記
   載の光反射膜付基板。
8. 【請求項８】 前記複数の凸部又は凹部の間隔を３．５
   〜３０μｍの範囲内の値とすることを特徴とする請求項
   ５に記載の光反射膜付基板。
9. 【請求項９】 前記複数の凸部の高さ又は凹部の深さを
   ０．１〜１０μｍの範囲内の値とすることを特徴とする
   請求項５に記載の光反射膜付基板。
10. 【請求項１０】 前記複数のドットにより定義される単
    位は、前記ドット領域の数より少なく、かつ前記単位を
    複数個含むことを特徴とする請求項５に記載の光反射膜
    付基板。
11. 【請求項１１】 各々径が異なる複数の前記凸部、又は
    各々径が異なる複数の前記凹部を具備することを特徴と
    する請求項５に記載の光反射膜付基板。
12. 【請求項１２】 複数のドット領域を有する基板に光反
    射膜が形成された光反射膜付基板であって、 凸部又は凹部を有する光反射膜を有し、 前記凸部又は凹部により形成されるパターンは、複数ド
    ット分を一単位として形成されており、かつその単位内
    において対称となる個所を含むこと、 を特徴とする光反射膜付基板。
13. 【請求項１３】 複数のドット領域を有する電気光学装
    置であって、 凸部又は凹部を有する光反射膜が形成された基板と、 前記基板に支持された電気光学層と、を具備し、 前記凸部又は凹部により形成されるパターンは、複数の
    ドットにより定義される一単位において不規則に配列さ
    れてなること、 を特徴とする電気光学装置。
14. 【請求項１４】 前記凸部の高さ又は凹部の深さが面内
    において実質的に等しいことを特徴とする請求項１３に
    記載の電気光学装置。
15. 【請求項１５】 前記複数のドットにより定義される単
    位は、前記ドット領域の数より少なく、かつ前記単位を
    複数個含むことを特徴とする請求項１３に記載の電気光
    学装置。
16. 【請求項１６】 複数のドットに対応して設けられた、
    各々色が異なる複数の着色層と、それらに対応する複数
    のドットにより１画素が形成され、前記一単位内に少な
    くとも１画素が対応してなることを特徴とする請求項１
    ３に記載の電気光学装置。
17. 【請求項１７】 複数のドット領域を有する電気光学装
    置であって、 凸部又は凹部を有する光反射膜が形成された基板と、 前記基板に支持された電気光学層と、を具備し、 前記凸部又は凹部により形成されるパターンは、複数ド
    ット分を一単位として形成されており、かつその単位内
    において対称となる個所を含むこと、 を特徴とする電気光学装置。
18. 【請求項１８】 複数のドットに対応して設けられた各
    々色が異なる複数の着色層と、それらに対応する複数の
    ドットにより１画素が形成され、前記一単位内に少なく
    とも１画素が対応してなることを特徴とする請求項１７
    に記載の電気光学装置。
19. 【請求項１９】 電気光学装置であって、 電気光学層と、 前記電気光学層の一方の側に配置した光散乱膜と、 前記電気光学層の他方の側に配置した光反射膜と、を具
    備し、 前記光反射膜には、不規則に配列された凸部又は凹部が
    形成されてなることを特徴とする電気光学装置。
20. 【請求項２０】 前記光散乱膜のヘイズ値が１０％以上
    ６０％以下であることを特徴とする請求項１９に記載の
    電気光学装置。
21. 【請求項２１】 請求項１９に記載の前記電気光学装置
    であって、複数のドット領域を有してなり、 前記凸部又は凹部により形成されるパターンは、１ドッ
    ト又は２ドットにより定義される一単位内において不規
    則に配列されており、 前記光散乱膜のヘイズ値を４０〜６０％の範囲内の値と
    することを特徴とする電気光学装置。
22. 【請求項２２】 複数のドット領域と、それらに対応し
    て設けられた各々色が異なる複数の着色層とにより１画
    素が形成され、前記一単位内に少なくとも前記１画素が
    対応してなることを特徴とする請求項２１に記載の電気
    光学装置。
23. 【請求項２３】 請求項１９に記載の電気光学装置であ
    って、 複数のドット領域を有してなり、前記凸部又は凹部によ
    り形成されるパターンは、３以上のドットを含む一単位
    内において不規則に配列されており、 前記光散乱膜のヘイズ値が１０％以上４０％以下である
    ことを特徴とする電気光学装置。
24. 【請求項２４】 請求項１９に記載の電気光学装置であ
    って、前記一方の側に配置した保護板を具備することを
    特徴とする電気光学装置。
25. 【請求項２５】 電気光学装置を表示部として含む電子
    機器において、前記電気光学装置として請求項１３に記
    載の電気光学装置を採用したことを特徴とする電子機
    器。
26. 【請求項２６】 電気光学装置を表示部として含む電子
    機器において、前記電気光学装置として請求項１７に記
    載の電気光学装置を採用したことを特徴とする電子機
    器。
27. 【請求項２７】 電気光学装置を表示部として含む電子
    機器において、前記電気光学装置として請求項１９に記
    載の電気光学装置を採用したことを特徴とする電子機
    器。
28. 【請求項２８】 複数のドット領域を有する基材に光反
    射膜を形成する方法であって、 基材に感光性材料を塗布する工程と、 前記感光性材料を露光する工程と、 前記露光した感光性材料に凹凸を形成する工程と、 前記凹凸上に光反射膜を形成する工程と、を具備し、 前記凹凸のパターンが、前記ドット領域の数より少ない
    複数ドット分を一単位とし、かつその単位内において不
    規則になるように形成されること、 を特徴とする光反射膜の形成方法。
29. 【請求項２９】 複数のドット領域を有する基材に光反
    射膜を形成する方法であって、 基材に感光性材料を塗布する工程と、 前記感光性材料を露光する工程と、 前記露光した感光性材料に凹凸を形成する工程と、 前記凹凸上に光反射膜を形成する工程と、を具備し、 前記凹凸のパターンが、複数ドット分を一単位とし、か
    つその単位内において対称となる個所を含むよう形成さ
    れること、 を特徴とする光反射膜の形成方法。
30. 【請求項３０】 電気光学装置の製造方法において、請
    求項２８に記載の光反射膜の形成方法を工程として含む
    ことを特徴とする電気光学装置の製造方法。
31. 【請求項３１】 電気光学装置の製造方法において、請
    求項２９に記載の光反射膜の形成方法を工程として含む
    ことを特徴とする電気光学装置の製造方法。