JP2005265919A - 液晶表示装置の製造方法、液晶表示装置、及び電子機器 - Google Patents

Abstract

【課題】 樹脂層に対して複数の凹凸部のパターンを一括して形成することが可能となると共に、当該樹脂層上に形成された反射膜の反射光に指向性を付与し、その方向内で一層の明るい反射光を得ることが可能となる液晶表示装置の製造方法、液晶表示装置、及び電子機器を提供する。
【解決手段】 反射層を備えた液晶表示装置の製造方法であって、反射層を形成する工程は、基板２上に感光性樹脂層５２を形成する工程と、表面に指向性を示す傾斜面を備えた透光性型８０を接触させる工程と、フォトマスク９０を用いて露光を行う工程と、露光の後に透光性型８０を離脱させる工程と、感光性樹脂層５２の表面に反射膜を形成する工程とを有し、フォトマスク９０には、透過率が異なる複数の透光量調整部９１が設けられており、当該複数の透光量調整部９１を介して露光することで、感光性樹脂層５２に対する露光量を部分的に異ならせることを特徴とする。
【選択図】 図７

Description

本発明は、液晶表示装置の製造方法、液晶表示装置、及び電子機器に関する。

近年、液晶表示装置においては、外光を利用して画像を表示する反射型液晶表示装置や、外光と照明光を共に利用して画像を表示する半透過反射型液晶表示装置が知られている。このような液晶表示装置においては、反射表示を行う部分に、アルミニウム等の金属膜からなる反射膜が形成されている。また、反射膜の下地には、凹凸状の表面を有する樹脂層が形成されており、当該凹凸状の表面に倣って反射膜が形成されることで、反射膜に光散乱機能を付与している。

このような凹凸状の表面を樹脂層に形成する方法として、指向性を有する傾斜面を備えた透光性の型を感光性樹脂に押し付けながら露光を行うことにより、樹脂層に傾斜面を形成すると共に当該傾斜面に微細な凹凸パターンを形成する技術が知られている（例えば、特許文献１参照。）。

一方、半透過反射型液晶表示装置は、反射表示部と透過表示部を備えるため、当該液晶表示装置を製造するには、上記のような樹脂層や反射膜を所定のパターンで除去する必要がある。更に、透過表示部においては光が液晶層を１回しか通らないのに対して、反射表示部においては光が液晶層を２回通るために、透過表示部と反射表示部の電気光学特性（透過率−電圧特性、反射率−電圧特性）が同一にならない。そこで、透過表示部と反射表示部における液晶層の層厚を異ならせるための液晶層厚調整層を形成したマルチギャップ構造を採用するのが一般的である。当該マルチギャップ構造を採用することにより、透過表示部と反射表示部における電気光学特性が揃うこととなり、良好な表示特性が得られる。このようなマルチギャップ構造の形成方法としては、樹脂層を基板上に全面に形成した後に、透過表示部及び反射表示部に応じてパターニングすることが知られている（例えば、特許文献２参照。）。

また、半透過反射型液晶表示装置においては、上記のようなマルチギャップ構造を採用したとしても、透過表示ではカラーフィルタを１回しか通らないのに対して、反射表示ではカラーフィルタを２回通るために、透過表示よりも反射表示の色が濃くなってしまい、カラーフィルタの色合いが不均一になる。そこで、透過表示部よりも反射表示部におけるカラーフィルタの膜厚を薄くすることで、カラーフィルタの色合いを略均一にする方法が一般的である。このようなカラーフィルタの膜厚を異ならせるには、カラーフィルタの下層に形成される樹脂層に、透過表示部や反射表示部のパターンに応じた凹凸部を形成する方法が知られている。
特開２００４−０１３０６０号公報 特開平１１−２４２２２６号公報

しかしながら、上記のような液晶表示装置においては、樹脂層に凹凸部を形成したり、また、マルチギャップを形成したりするには、各々異なる工程で行われるため、工程数の増加によって液晶表示装置の製造コストを増加してしまうという問題があった。

本発明は、上述の課題に鑑み創案されたもので、樹脂層に対して複数の凹凸部のパターンを一括して形成することが可能となると共に、当該樹脂層上に形成された反射膜の反射光に指向性を付与し、その方向内で一層の明るい反射光を得ることが可能となる液晶表示装置の製造方法、液晶表示装置、及び電子機器を提供することを目的とする。

上記の目的を達成するために、本発明は以下の構成を採用した。
本発明の液晶表示装置の製造方法は、反射層を備えた液晶表示装置の製造方法であって、前記反射層を形成する工程は、基板上に感光性樹脂層を形成する工程と、表面に指向性を示す傾斜面を備えた透光性型を、当該傾斜面と前記感光性樹脂層が対向するように接触させる工程と、前記感光性樹脂層及び透光性型を積層した基板に対し、フォトマスクを用いて露光を行う工程と、前記露光の後に前記透光性型を離脱させる工程と、前記感光性樹脂層の表面に反射膜を形成する工程とを有し、前記フォトマスクには、透過率が異なる複数の透光量調整部が設けられており、当該複数の透光量調整部を介して露光することで、前記感光性樹脂層に対する露光量を部分的に異ならせることを特徴としている。

このようにすれば、透光性型の傾斜面と基板面とにより感光性樹脂層を挟圧しながら当該感光性樹脂層及び透光性型が基板上に積層されることで、透光性型の傾斜形状を感光性樹脂層に転写させることができる。また、その積層体に対してフォトマスクを用いて露光を行うことで、当該フォトマスクの透光量調整部のパターンに応じた配列の凹凸部を感光性樹脂層に形成することができる。
更に、フォトマスクの透光部には、透過率が異なる複数の透光量調整部が設けられているので、感光性樹脂層に対して透光部のパターンに応じて露光量を異ならせることが可能となる。従って、感光性樹脂層における露光量が多い部分と、露光量が少ない部分とにおいて、膜厚を異ならせることが可能となり、凹凸部を形成することができる。
また、透光性型に例えばフォトリソグラフィ法等にて指向性を備える傾斜面を形成することで、指向性の傾斜面を感光性樹脂層に転写することができ、一方、フォトマスクの透光量調整部のパターンを例えばランダムに形成することで、感光性樹脂層に対してランダムな凹凸部を形成することができる。
従って、このような凹凸部を有する感光性樹脂層表面に反射膜を形成することで、傾斜面及び凹凸部を備える反射層を得ることができるようになる。

また、このようにすれば、例えば、反射型液晶表示装置において、傾斜面を有する反射面に、複数の高さからなる凹凸部を形成することが可能となる。また、例えば、半透過反射型液晶表示装置において、傾斜面を有する反射面に、複数の高さからなる凹凸部を形成することが可能となると共に、透過表示部と反射表示部における液晶層厚を異ならせる液晶層厚調整層を形成したり、カラーフィルタの膜厚を異ならせるための凹凸部を形成したりすることができる。そして、このような複数の凹凸部や液晶層厚調整層等は、フォトマスクの透光部に設けられた複数の透光量調整部に露光光が透過し、感光性樹脂層を部分的に露光量を異ならせることによって形成されるので、１回の露光工程で各種光学特性を付与するための形状を有する樹脂層を形成することができる。
なお、本発明においては、前記露光後の感光性樹脂層に対して現像を行う工程が含まれてもよい。また、感光性樹脂層の種類としては、ポジ型やネガ型が適宜採用される。

また、前記液晶表示装置の製造方法においては、前記複数の透光量調整部のうちの一つは、マスクパターンの開口部であることを特徴としている。
このようにすれば、露光光を殆ど遮ることなく感光性樹脂層に到達させることができる。従って、感光性樹脂層の面内において、開口部に対応する位置には、露光量を最も多くすることができる。また、例えば、感光性樹脂層の材料として、ポジ型を採用した場合には、開口部を透過した露光光によって照射された感光性樹脂層の部分を、当該感光性樹脂層の他の部分よりも最も多く除去することができる。また、例えば、感光性樹脂層の材料として、ネガ型を採用した場合には、開口部を透過した露光光によって照射された感光性樹脂層の部分を、当該感光性樹脂層の他の部分よりも最も少なく除去することができる。

また、前記液晶表示装置の製造方法においては、前記複数の透光量調整部のうちの一つは、露光光を遮蔽する遮光部であることを特徴としている。
このようにすれば、感光性樹脂層に対して露光光を遮蔽することができる。また、例えば、感光性樹脂層の材料として、ポジ型を採用した場合には、遮光部に対応する感光性樹脂層の部分を除去すること無く残留させることができる。また、例えば、感光性樹脂層の材料として、ネガ型を採用した場合には、遮光部に対応する感光性樹脂層の部分を完全に除去することができる。

また、前記液晶表示装置の製造方法においては、前記複数の透光量調整部のうちの一つは、前記開口部よりも透過率が低い第１低透過率部であることを特徴としている。
このようにすれば、開口部よりも少ない光量の露光光を感光性樹脂層に到達させることができる。従って、感光性樹脂層の面内において、第１低透過率部に対応する位置には、露光量を開口部よりも少なくすることができる。また、例えば、感光性樹脂層の材料として、ポジ型を採用した場合には、第１低過率部を透過した露光光によって照射された感光性樹脂層の部分を、開口部によって露光される部分よりも少なく除去することができる。また、例えば、感光性樹脂層の材料として、ネガ型を採用した場合には、第１低透過率部を透過した露光光によって照射された感光性樹脂層の部分を、開口部によって露光される部分よりも多く除去することができる。

また、前記液晶表示装置の製造方法においては、前記複数の透光量調整部のうちの一つは、前記第１低透過率部よりも透過率が低い第２低透過率部であることを特徴としている。
このようにすれば、第１低透過率部よりも少ない光量の露光光を感光性樹脂層に到達させることができる。従って、感光性樹脂層の面内において、第２低透過率部に対応する位置には、露光量を第１低透過率部よりも少なくすることができる。また、例えば、感光性樹脂層の材料として、ポジ型を採用した場合には、第２低過率部を透過した露光光によって照射された感光性樹脂層の部分を、第１低透過率部によって露光される部分よりも少なく除去することができる。また、例えば、感光性樹脂層の材料として、ネガ型を採用した場合には、第２低透過率部を透過した露光光によって照射された感光性樹脂層の部分を、第１低透過率部によって露光される部分よりも多く除去することができる。

また、前記液晶表示装置の製造方法においては、前記感光性樹脂層に対する露光量を部分的に異ならせることによって、前記感光性樹脂層の傾斜面に当該傾斜面の表面からの高さが異なる凹凸部を形成することを特徴としている。
このようにすれば、感光性樹脂層の傾斜面上に高さが異なる複数の凹凸部を形成することができるので、当該感光性樹脂層上に反射膜を形成することにより凹凸部の形状に倣って反射膜を形成し、良好な光散乱性を有する反射膜を形成することができる。

また、前記液晶表示装置の製造方法においては、前記感光性樹脂層に対する露光量を部分的に異ならせることによって、前記凹凸部を有する前記感光性樹脂層の平均膜厚よりも薄い薄膜部を、当該感光性樹脂層に形成することを特徴としている。
このようにすれば、凹凸部を有する感光性樹脂層の平均膜厚よりも相対的に薄い部分を形成することができる。更に、薄膜部の膜厚を好適に調整することで、感光性樹脂層の上方に形成される各種層膜の膜厚を所望に設定することができる。

また、前記液晶表示装置の製造方法においては、前記感光性樹脂層に対する露光量を部分的に異ならせることによって、前記感光性樹脂層を貫通する貫通部を形成することを特徴としている。
このようにすれば、感光性樹脂層の表面に凹凸部を形成することができると共に、感光性樹脂層の下層に位置する層膜を露出することができる。

また、前記液晶表示装置の製造方法においては、前記感光性樹脂層に対する露光量を部分的に異ならせることによって、前記基板周辺の感光性樹脂層を除去することを特徴としている。
このようにすれば、基板周辺において当該基板の表面が露出するので、当該基板周辺にシール剤を配置することで、液晶表示装置の上基板と下基板のセルギャップが均一になるように貼り合わせることができる。

また、前記液晶表示装置の製造方法においては、前記感光性樹脂層と前記基板との間に能動素子を形成する工程を更に有し、前記貫通部を形成して前記能動素子の一端子又は前記能動素子の一端子と同電位となる導電体を露出させた後に、前記反射膜を形成して当該反射膜と前記能動素子の一端子を導通させることを特徴としている。
このようにすれば、感光性樹脂層に形成された貫通部を介して、反射膜と能動素子の一端子を確実に導通させることができる。また、感光性樹脂層の表面に凹凸部が形成されているので、反射層が光散乱性を有することとなる。
従って、感光性樹脂層に対して、光散乱のための凹凸部と、能動素子の一端子を露出するための貫通部を一括して形成することができる。
また、本発明においては、能動素子の一端子と反射膜を直接的に導通させても、また、能動素子の一端子と反射膜の間に導電体を設け、当該導電体を介して能動素子の一端子と反射膜を導通させてもよい。

また、前記液晶表示装置の製造方法においては、透過表示領域と反射表示領域とを有する半透過反射型の液晶表示装置の製造方法であって、前記透過表示領域に前記薄膜部又は前記貫通部を形成し、前記感光性樹脂層の膜厚差を利用して、前記反射表示領域の前記液晶層厚を前記透過表示領域の前記液晶層厚よりも小さくすることを特徴としている。

ここで、透過表示領域においては光が液晶層を１回しか通らないのに対して、反射表示領域においては光が液晶層を２回通るために、単に液晶層を同一の膜厚で形成した場合には透過表示領域と反射表示領域の電気光学特性が同一にならない。そこで、感光性樹脂層に薄膜部又は貫通部を形成し、透過表示領域と反射表示領域における液晶層の層厚を異ならせて、所謂マルチギャップ構造を形成することにより、透過表示領域と反射表示領域における電気光学特性が揃うことなり、良好な表示特性が得られる。

また、前記液晶表示装置の製造方法においては、透過表示領域と、反射表示領域とを有する半透過反射型の液晶表示装置の製造方法であって、前記感光性樹脂層の上方に、異なる複数色の着色層を形成する工程を有し、前記透過表示領域に前記薄膜部又は前記貫通部を形成し、前記感光性樹脂層の膜厚差を利用して、前記反射表示領域の着色層厚を前記透過表示領域の着色層厚よりも小さくすることを特徴としている。

ここで、透過表示領域では着色層を１回しか通らないのに対して、反射表示領域では着色層を２回通るために、透過表示領域よりも反射表示領域の色が濃くなってしまい、着色層の色合いが不均一になる。そこで、感光性樹脂層に薄膜部又は貫通部を形成し、透過表示領域よりも反射表示領域における着色層の膜厚を薄くすることで、着色層の色合いを略均一にすることができる。

また、前記液晶表示装置の製造方法においては、前記感光性樹脂層に対する露光量を部分的に異ならせることによって、前記着色層の色毎に、前記反射表示領域及び前記透過表示領域における前記感光性樹脂層の膜厚を異ならせることを特徴としている。
ここで、液晶表示装置を好適な色合いでフルカラー表示させるために、着色層の色の種類によってその膜厚を異ならせる場合がある。
従って、本発明のように、着色層の色毎に薄膜部の膜厚や傾斜面が形成される感光性樹脂層の平均膜厚を異ならせることによって、所望の膜厚で各色の着色層を形成することができる。これによって、好適な色合いでフルカラー表示を実現できる液晶表示装置を製造することができる。

また、本発明の液晶表示装置は、先に記載の製造方法によって製造されたことを特徴としている。
このようにすれば、明るい反射光を有する反射型液晶表示装置や、半透過反射型液晶表示装置を実現することができる。また、製造コストが低減された安価な液晶表示装置を実現することができる。

また、本発明の電子機器は、先に記載の液晶表示装置を備えることを特徴としている。
このような電子機器としては、例えば、携帯電話機、移動体情報端末、時計、ワープロ、パソコンなどの情報処理装置等を例示することができる。また、大型の表示画面を有するテレビや、大型モニタ等を例示することができる。このように電子機器の表示部に、本発明の液晶表示装置を採用することによって、明るい画像表示が実現された、安価な電子機器を提供することが可能となる。

（液晶表示装置の第１実施形態）
以下、本発明における液晶表示装置の第１実施形態について、図面を参照しつつ説明する。
図１は、本実施形態の液晶表示装置の全体構成を示す平面図、図２は同、液晶表示装置の表示領域を示す図であって、図１のＢ−Ｂ'線に沿う断面図（横方向に切断した状態を示す断面図）である。本実施形態は、パッシブマトリクス方式の反射型カラー液晶表示装置の例であり、基板の内面側に指向性を有する反射膜を具備した例を示している。なお、各図面においては、図面を見やすくするため、各構成要素の膜厚や寸法の比率などは適宜異ならせてある。

本実施形態の液晶表示装置１は、図１に示すように平面視矩形状の基板２と対向基板３とがシール材４を介して対向配置されている。シール材４の一部は各基板２、３の一辺（図１における上辺）側で開口して液晶注入口５となっており、双方の基板２、３とシール材４とに囲まれた空間内に液晶が封入され、液晶注入口５が封止材６によって封止されている。本実施形態では、対向基板３よりも基板２の外形寸法の方が大きく、対向基板３と基板２の１辺（図１における上辺）では縁が揃っているが、対向基板３の残りの３辺（図１における下辺、右辺、左辺）からは基板２の周縁部がはみ出すように配置されている。そして、基板２の下辺側の端部に対向基板３、基板２双方の電極を駆動するための駆動用半導体素子７が実装されている。なお、符号８は表示領域の周囲を遮光するための遮光層（周辺見切り）である。

本実施形態の場合、図１に示すように、基板２上に、図中縦方向に延在する複数のセグメント電極１０がストライプ状に形成されている。一方、対向基板３上には、セグメント電極１０と直交するように図中横方向に延在する複数のコモン電極１１がストライプ状に形成されている。カラー表示を行うべく、カラーフィルタのＲ、Ｇ、Ｂの各着色層は各セグメント電極１０の方向に対応して配置（縦ストライプ／ＲＧＢのそれぞれがストライプ状に縦に同色で形成配置）されており、横方向に並んだＲ、Ｇ、Ｂの３個の画素で画面上の１個のドットが構成されている。なお、本実施形態における「画素」とは、セグメント電極１０とコモン電極１１とが平面的に見て重なり合った各領域のことである。また、「表示領域」とは、遮光層８の内側における多数の画素がマトリクス状に配列された領域であって、実際に表示に寄与する領域のことを言う。

断面構造を見ると、図２に示すように、基板２上には樹脂層（感光性樹脂層）５２及び反射層５３が形成されている。ここで、基板２は、ガラス又はプラスチック等の材料からなる。更に、反射層５３上にはアクリル、ポリイミド等の樹脂層、シリコン酸化膜等の絶縁膜等からなる平坦化膜２７が形成され、平坦化膜２７上にインジウム錫酸化物（Indium Tin Oxide, 以下、ＩＴＯと略記する）からなるセグメント電極１０が紙面を貫通する方向にストライプ状に形成されており、その上に例えば表面にラビング処理が施されたポリイミド等からなる配向膜２０が形成されている。

一方、ガラス又はプラスチック等の透明基板からなる対向基板３上に、Ｒ、Ｇ、Ｂの各着色層１３ｒ、１３ｇ、１３ｂからなるカラーフィルタ１３が形成され、カラーフィルタ１３上には各着色層間の段差を平坦化すると同時に各着色層の表面を保護するための樹脂製のオーバーコート膜２１が形成されている。更に、オーバーコート膜２１上にＩＴＯ膜からなるコモン電極１１が紙面に平行な方向にストライプ状に形成されており、その上に例えば表面にラビング処理が施されたポリイミド等からなる配向膜２２が形成されている。

対向基板３と基板２との間にはＳＴＮ（Super Twisted Nematic）液晶等からなる液晶２３が挟持されている。また、例えば樹脂ブラックや比較的反射率の低いクロム等の金属などからなるブラックストライプ３３が、Ｒ、Ｇ、Ｂの各着色層１３ｒ、１３ｇ、１３ｂの間（境界）を区画するように設けられている。

次に、図３〜図５を参照し、樹脂層５２及び反射層５３について詳述する。
図３は反射層５３及び樹脂層５２を部分的に拡大して示す斜視図、図４は図３の反射層５３及び樹脂層５２の断面を拡大して示す断面模式図、図５は反射層５３及び樹脂層５２における凸部の高さを説明するための図である。なお、以下の全ての図面においては、図面を見やすくするため、各構成要素の膜厚や寸法の比率などは適宜異ならせてある。

図３に示すように、指向性を示す樹脂側傾斜面６１、６２を備える樹脂層５２と、樹脂層５２上に形成された反射層５３とが、基板２上に形成されている。また、樹脂層５２には複数の樹脂側凸部（凹凸部）６５ａ、６５ｂが形成されている。ここで、図５に示すように、樹脂層５２の傾斜面６１の表面を基準とする樹脂側凸部６５ａ、６５ｂの各々の高さは異なっており、樹脂側凸部６５ａの高さｈａが６５ｂの高さｈｂよりも高くなっている。
なお、図５においては、樹脂側傾斜面６１の表面に形成された樹脂側凸部６５ａ、６５ｂの高さについて説明したが、樹脂側傾斜面６２においても樹脂側凸部６５ａ、６５ｂの高さｈａ、ｈｂの相対関係は同様である。

樹脂層５２は感光性樹脂にて構成されている。具体的にはネガ型の感光性樹脂からなり、樹脂側凸部６５ａ、６５ｂは露光ないし現像処理に基づいて形成されたものである。本実施形態の場合、樹脂側凸部６５ａ、６５ｂは樹脂層５２の表面にランダムな配置にて形成され、指向性傾斜面６１、６２とは異なるパターン（配列）にて形成されている。

反射層５３は、樹脂層５２の表層に沿って積層され、樹脂層５２の樹脂側凸部６５ａ、６５ｂ、及び樹脂側傾斜面６１、６２の形状に倣って形成された層膜である。従って、反射層５３は、反射側凸部７５ａ、７５ｂ、及び反射層側傾斜面７１、７２を備えた構成となっている。ここで、反射層５３の表面形状は樹脂層５２の表面形状により定まるものとされ、従って、反射側傾斜面７１、７２は指向性反射面として構成されている。また、反射側凸部７５ａ、７５ｂの各々の高さは、樹脂側凸部６５ａ、６５ｂの高さに応じて決定され、反射側凸部７５ｂよりも反射側凸部７５ａの高さが高くなっている。樹脂側傾斜面６１、６２及び反射層側傾斜面７１、７２は、少なくとも一方向に規則性を有するパターン形状にて形成されてなり、本実施形態では、図３に示すように複数の傾斜面がストライプ状に配列して構成されている。
なお、反射層５３はＡｌ等の反射性金属膜にて構成され、例えば厚さ０．０５μｍ〜３．０μｍ程度の膜厚とされている。

また、樹脂層５２及び反射層５３においては、傾斜面を第１傾斜面６１、７１と第２傾斜面６２、７２とに分けることができ、第１傾斜面６１、７１の面積が第２傾斜面６２、７２の面積よりも大きく形成され、第１傾斜面６１、７１が指向性を示す主体をなしている。なお、第１傾斜面６１、７１の基板２の板面に対する傾斜角αは、第２傾斜面６２、７２の基板２の板面に対する傾斜角βよりも小さく形成されており、指向性の主体をなす第１傾斜面６１、７１がより広い面積で光を反射する構成とされている。

このように樹脂層５２上に形成された反射層５３においては、指向性を示す樹脂側傾斜面６１に倣って反射面（反射側傾斜面７１）が指向性を示すこととなり、所定方向に指向性を具備した反射光を得ることが可能となると共に、樹脂層５２に樹脂側凸部６５ａ、６５ｂを設け、それに倣う反射側凸部７５ａ、７５ｂが反射層５３にも形成されてなるため、反射光を拡散させることが可能となる。従って、所定方向に向いた明るい反射光を得ることが可能となる。

ここで、再び図２に戻り、液晶表示装置１について説明する。
図２に示すように、基板２上に形成された樹脂層５２及び反射層５３は、図３及び図４に示す複数の第１及び第２傾斜面６１、６２を備えており、これらは一つの画素内に多数配置されている。そして、このような第１及び第２傾斜面６１、６２の表面に沿ってアルミニウム等の金属膜が形成されることによって、樹脂層５２の傾斜面に沿って反射層５３が構成されている。この反射層５３は表示領域の縦方向において反射光の指向性があり、例えば縦方向上方から斜めに入射する光を、基板２と垂直方向に指向させることが可能となる。

なお、本実施形態では、樹脂層５２に樹脂側凸部を設ける例を示したが、凸部を凹部とし、若しくは凹部及び凸部の双方を樹脂層５２の表層に設けた場合にも上記と同様の効果が得られることとなる。また、樹脂層５２の材料としてネガ型の感光性樹脂材料を採用したが、これを限定するものではなく、ポジ型の感光性樹脂材料を採用した構成でもよい。
更に、本実施形態では、透過性型の指向性が１方向の例を示したが、指向性の方向を２方向以上設けた場合にも上記と同様の効果が得られることとなる。

このような液晶表示装置１は、所定の傾斜角度の反射面を有する反射膜５３を具備しているため、反射光を所定方向に指向させることが可能となり、その結果、照明環境に依存することなく、明るい反射表示が得られるようになる。また、反射膜５３の表面にはランダムなパターンの複数の凸部が形成されているため、所定方向に向いた明るい反射光を得ることが可能となる。

（液晶表示装置の製造方法の第１実施形態）
以下、本発明における液晶表示装置の製造方法の第１実施形態について、図６を参照して説明する。本実施形態は、上記の液晶表示装置を製造する方法を示している。
図６はその製造工程の一部を示す説明図であって、その概略は図６（ａ）〜図６（ｄ）にかけて、感光性樹脂層形成工程（ａ）、露光工程（ｂ）、型剥離工程（ｃ）、反射層形成工程（ｄ）を含んでなるものである。

本実施形態の製造方法においては、まず、図６（ａ）に示すように、基板２上にネガ型の感光性樹脂層５２を形成する。この際、図８に示したような断面が略鋸歯状に形成され、当該鋸歯状の傾斜面８１が平面視ストライプ状に配列された透光性型８０を用い、その鋸歯状の傾斜面８１を感光性樹脂層５２に押し当てながら感光性樹脂層５２及び透光性型８０を基板２上に形成する。その押し当ては、回転ロール８５により透光性型８０を感光性樹脂層５２に対してラミネートすることにより行うものとしており、基板２の基板面と傾斜面８１との間で感光性樹脂層５２を狭圧させながら基板２上に積層する。このような押し当てにより、傾斜面８１の形状を感光性樹脂層５２に転写させることが可能となる。

続いて、図６（ｂ）に示すように、所定のフォトマスク９０を用いて露光を行う。
ここで、図７を参照して、フォトマスクについて詳述する。図７（ａ）は透光性型上に配置されたフォトマスクを示す斜視図であり、図７（ｂ）はフォトマスクの部分断面図、図７（ｃ）は透光量調整部における透過率の分布を示す図、図７（ｄ）はフォトマスクを用いて露光した後の感光性樹脂層の残膜量を示す図である。

図７（ａ）に示すように、フォトマスク９０には、感光性樹脂層５２に対して露光量を部分的に異ならせて露光するための複数の透光量調整部９１が形成されている。当該複数の透光量調整部９１は、露光光を完全に透過させる開口部９２と、当該開口部９２よりも露光光の透過率が小さい第１低透過率部９３と、当該第１低透過率部９３よりも露光光の透過率が小さい第２低透過率部９４とからなる。ここで、開口部９２、第１低透過率部９３、及び第２低透過率部９４は、ランダムなパターンで形成されている。

また、図７（ｂ）、（ｃ）に示すように、開口部９２、第１低透過率部９３、及び第２低透過率部９４は各々透過率が異なっており、各透過率部の具体的な透過率は、例えば、開口部９２が１００％、第１低透過率部９３が７０％、第２低透過率部９４が４０％となっている。

このような透光量調整部９１を備えるフォトマスク９０を介して感光性樹脂層５２に露光光を照射すると、開口部９２に対応する位置における露光量が最も高くなり、また、第１低透過率部９３に対応する位置における露光量が開口部９２のそれよりも低くなり、また、第２低透過率部９４に対応する位置における露光量が低透過率部９３のそれよりも低くなる。

ここで、感光性樹脂層５２はネガ型であるので、露光量が多い部分の感光性樹脂層５２は現像後に残留し、露光量が少ない部分の感光性樹脂層５２は現像後に薄膜化し、全く露光されない部分の感光性樹脂層５２は現像後に除去される性質を有している。
従って、フォトマスク９０を用いて露光した後に現像処理を施すことによって、開口部９２を透過して露光光が照射された感光性樹脂層５２は除去されずに残留する。更に、第１低透過率部９３を透過して露光光が照射された感光性樹脂層５２の膜厚は、露光前の膜厚よりも薄くなり、開口部９２におけるそれよりも薄くなる。また、更に第２低透過率部９４を透過して露光光が照射された感光性樹脂層５２の膜厚は、露光前の膜厚よりも薄くなり、第１低透過率部９３におけるそれよりも薄くなる。

このように感光性樹脂層５２に対する露光量を部分的に異ならせ、また、３種類の透過率部を透過させて露光するので、感光性樹脂層５２は３種類の膜厚で形成される。即ち、開口部９２に対応する位置に樹脂側凸部６５ａが形成され、第１過率部９３に対応する位置に樹脂側凸部６５ｂが形成され、第２過率部９４に対応する位置に樹脂側傾斜面６１の表面が形成される。
更に、樹脂側凸部６５ａと樹脂側凸部６５ｂにおいては、各々の高さｈａ、ｈｂが異なり、ｈａ＞ｈｂとなる。

ここで、再び図６に戻り、液晶表示装置の製造方法について説明する。
上記のように露光工程が終了した後に、図６（ｃ）に示すように透光性型８０を剥離する。従って、本実施形態では基板２と樹脂層５２との接着力が、樹脂層５２と透光性型８０との接着力よりも強く構成されている。透光性型８０を剥離した後、現像、ポストベークを行い、傾斜面６１を備える樹脂層５２を基板２上に形成する。
本実施形態では、図７に示したような透光量調整部９１を備えたフォトマスク９０を用いることにより、ネガ型感光性樹脂を露光しため、樹脂層５２にランダムで、高さが異なる樹脂側凸部６５ａ、６５ｂ（図４参照）が形成されることとなる。

次に、図６（ｄ）に示すように、樹脂層５２上に反射層５３を形成する。反射層５３はＡｌ等の反射性金属材料からなり、例えばスパッタリング等にて全面ベタ状に成膜する。この反射層５３には、樹脂層５２に形成された樹脂側凸部６５ａ、６５ｂ（図４、図７参照）に対応した反射側凸部７５ａ、７５ｂ（図４参照）が形成され、樹脂層５２の傾斜面６１に対応した傾斜面７１が形成される。以上のような図６（ａ）〜図６（ｄ）に示す工程により、図３に示した反射膜５３が形成される。

次に、図１に示すように、反射膜５３上に平坦化膜２７、当該平坦化膜２７上にセグメント電極１０、当該セグメント電極１０上に配向膜２０を順次形成する。
一方、対向基板３上に着色層１３ｒ、１３ｇ、１３ｂからなるカラーフィルタ１３、当該カラーフィルタ１３上にオーバーコート膜２１、当該オーバーコート膜２１上にコモン電極１１、当該コモン電極１１上に配向膜２２を順次形成する。
そして、配向膜２０、２２間に液晶層２３を挟持させることにより、液晶表示装置１が完成となる。

なお、本実施形態においては、回転ロール８５を用いてラミネートすることにより、感光性樹脂層５２を基板２上に形成しており、また、図８に示すように透光性型８０の傾斜面８１は略鋸歯状かつ平面視ストライプ状に配列された構造となっており、また、図７に示すようにフォトマスク９０のパターンは略円形となっている。このような形態は、本発明を限定するものではなく、例えば、特開２００４−０１３０６０号公報に記載されたスタンパ法や、各種透光性型、及び各種フォトマスクが適用可能である。

次に、本実施形態の変形例について説明する。
本変形例は、上記実施形態のネガ型の感光性樹脂層５２に代えて、ポジ型の感光性樹脂層５２を露光するものである。
ここで、図９を参照して、上記同様のフォトマスク９０を使用し、ポジ型の感光性樹脂層５２を露光した場合について説明する。
図９に示すように、開口部９２を透過して露光光が照射した部分においては感光性樹脂層５２が完全に除去され、第１低透過率部９３を透過して露光光が照射した部分においては感光性樹脂層５２が膜厚ｈｃで形成され、第２低透過率部９４を透過して露光光が照射した部分においては感光性樹脂層５２が膜厚ｈｄで形成される。なお、第１低透過率部９３及び、第２低透過率部９４は完全に露光光を遮蔽するものではなく、各々７０％、４０％の透過率で露光光を透過させるので、感光性樹脂層５２は露光前の膜厚よりも薄膜化される。また、第１低透過率部９３の透過率が第２低透過率部９４のそれよりも高いので、感光性樹脂層５２の除去量が多くなる。従って、残膜量としてはｈｃ＜ｈｄとなる。
このように、ポジ型の感光性樹脂５２を用いることにより、当該感光性樹脂５２に膜厚ｈｃ、ｈｄの部分を形成することによって、樹脂側凸部６５ａ、６５ｂに相当する凹凸部を形成することもできる。

上述したように、本実施形態に示した液晶表示装置の製造方法、及び液晶表示装置においては、透光性型８０の傾斜面８１と感光性樹脂５２を接触させた後に露光するので、透光性型８０の傾斜面８１と基板２面とにより感光性樹脂層５２を挟圧しながら当該感光性樹脂層５２及び透光性型８０を基板２上に積層することが可能となり、透光性型８０の傾斜面８１の形状を感光性樹脂層５２に転写させることができる。

また、フォトマスク９０を用いて感光性樹脂層５２を露光し、感光性樹脂層５２に対する露光量を部分的に異ならせるので、当該フォトマスク９０の透光部のパターンに応じた配列の樹脂側凸部６５ａ、６５ｂを感光性樹脂層５２に形成することができる。
更に、フォトマスク９０は、透過率が異なる複数の透光量調整部９１が設けられているので、感光性樹脂層５２に対して透光量調整部９１のパターンに応じて露光量を異ならせることが可能となる。従って、感光性樹脂層５２における露光量が多い部分と、露光量が少ない部分とにおいて、膜厚を異ならせることが可能となり、当該樹脂側凸部６５ａ、６５ｂを形成することができる。
また、透光性型８０に例えばフォトリソグラフィ法等にて指向性を備える傾斜面８１を形成することで、指向性の傾斜面８１を感光性樹脂層５２に転写することができ、一方、フォトマスク９０の透光量調整部９１のパターンを例えばランダムに形成することで、感光性樹脂層５２に対してランダムな樹脂側凸部６５ａ、６５ｂを形成することができる。
従って、このような樹脂側凸部６５ａ、６５ｂを有する感光性樹脂層５２の表面に反射膜５３を形成することで、反射層側傾斜面７１、７２及び反射側凸部７５ａ、７５ｂを備える反射層５３を得ることができるようになる。

また、透光量調整部９１の一つは、開口部９２であるので、当該開口部９２を透過した露光光は殆ど遮られることなく感光性樹脂層５２に到達する。従って、感光性樹脂層５２の面内において、開口部９２に対応する位置には、露光量を最も多くすることができる。また、例えば、感光性樹脂層５２の材料として、ポジ型を採用した場合には、開口部９２を透過した露光光によって照射された感光性樹脂層５２の部分を、当該感光性樹脂層５２の他の部分よりも最も多く除去することができる。また、例えば、感光性樹脂層５２の材料として、ネガ型を採用した場合には、開口部を透過した露光光によって照射された感光性樹脂層５２の部分を、当該感光性樹脂層５２の他の部分よりも最も少なく除去する、又は完全に残留させることができる。

また、透光量調整部９１の一つは、第１低透過率部９３であるので、開口部９２よりも少ない光量の露光光を感光性樹脂層５２に到達させることができる。従って、感光性樹脂層５２の面内において、第１低透過率部９３に対応する位置には、露光量を開口部９２よりも少なくすることができる。また、例えば、感光性樹脂層５２の材料として、ポジ型を採用した場合には、第１低過率部９３を透過した露光光によって照射された感光性樹脂層５２の部分を、開口部９２によって露光される部分よりも少なく除去することができる。また、例えば、感光性樹脂層５２の材料として、ネガ型を採用した場合には、第１低透過率部９３を透過した露光光によって照射された感光性樹脂層５２の部分を、開口部９２によって露光される部分よりも多く除去することができる。

また、透光量調整部９１の一つは、第２低透過率部９４であるので、第１低透過率部９３よりも少ない光量の露光光を感光性樹脂層５２に到達させることができる。従って、感光性樹脂層５２の面内において、第２低透過率部９４に対応する位置には、露光量を第１低透過率部９３よりも少なくすることができる。また、例えば、感光性樹脂層５２の材料として、ポジ型を採用した場合には、第２低過率部９４を透過した露光光によって照射された感光性樹脂層５２の部分を、第１低透過率部９３によって露光される部分よりも少なく除去することができる。また、例えば、感光性樹脂層５２の材料として、ネガ型を採用した場合には、第２低透過率部９４を透過した露光光によって照射された感光性樹脂層５２の部分を、第１低透過率部９３によって露光される部分よりも多く除去することができる。

また、上記のように透光量調整部９１を備えるフォトマスクを用いて感光性樹脂層５２に対する露光量を部分的に異ならせることによって、感光性樹脂層５２の樹脂側傾斜面６１、６２に、当該樹脂側傾斜面６１、６２の表面からの高さが異なる樹脂側凸部６５ａ、６５ｂを形成するので、樹脂側傾斜面６１、６２上に高さが異なる複数の樹脂側凸部６５ａ、６５ｂを形成することができる。従って、当該樹脂側凸部６５ａ、６５ｂ上に反射膜５３を形成すれば、良好な光散乱性を有する反射膜５３を形成することができる。

また、このような実施形態を反射型の液晶表示装置に適用することにより、反射層側傾斜面７１、７２に、複数の高さからなる反射側凸部７５ａ、７５ｂを形成することが可能となる。また、このような実施形態を半透過反射型液晶表示装置に適用することにより、反射層側傾斜面７１、７２に、複数の高さからなる反射側凸部７５ａ、７５ｂを形成することが可能となると共に、透過表示部と反射表示部における液晶層厚を異ならせる液晶層厚調整層を形成することができる。また、カラーフィルタ１３の膜厚を異ならせるための凹凸部を形成したりすることができる。そして、このような複数の凹凸部や液晶層厚調整層等は、フォトマスクの透光部に設けられた複数の透光量調整部に露光光が透過して感光性樹脂層５２を部分的に露光量を異ならせることによって形成されるので、１回の露光工程で各種光学特性を付与するための形状を有する樹脂層５２を形成することができる。

（液晶表示装置の第２実施形態）
以下、本発明における液晶表示装置の第２実施形態について説明する。
本実施形態と上記第１実施形態とは、樹脂層５２のみが異なっている。
図１０は、本実施形態を説明するための図であって、基板２上に形成された感光性樹脂層５２の平面図である。図１０において、図１０（ａ）は基板２に多数形成される液晶表示装置の１つの全体を示す平面図、図１０（ｂ）は図１０（ａ）の符号Ａの拡大図である。なお、図１０（ａ）、（ｂ）においては、図面を見やすくするため、各構成要素の膜厚や寸法の比率などは適宜異ならせてある。また、本実施形態においては、上記第１実施形態と異なる部分についてのみ説明し、同一構成には同一符号を付して説明を簡略化する。

図１０（ａ）に示すように、基板２の周辺部には基板２と対向基板３とをシールする接着剤が配置される接着剤形成領域２ａが形成されており、また、周辺部の内側には複数の樹脂側凸部６５ａ、６５ｂが設けられる樹脂側凸部形成領域２ｂが形成されている。
ここで、接着剤形成領域２ａには樹脂側凸部６５ａ、６５ｂが形成されていない。また、樹脂側凸部形成領域２ｂにおいては、図１０（ｂ）を示すように、樹脂側凸部６５ａ、６５ｂはランダムなパターンで配置されていると共に、樹脂側凸部６５ａ、６５ｂを除く部分に基板２が露出している露出部２ｃが形成されている。また、樹脂側凸部６５ａ、６５ｂは、ポジ型の感光性樹脂を上記の露光工程によって露光し、その後に現像工程を行うことによって形成されている。

（液晶表示装置の製造方法の第２実施形態）
以下、本発明における液晶表示装置の製造方法の第２実施形態について説明する。
本実施形態は、上記の液晶表示装置を製造する方法を示している。
ここでは、図１１を参照して、上記の接着剤形成領域２ａ及び樹脂側凸部形成領域２ｂを形成する方法について説明する。
図１１は、本実施形態の製造方法で使用するフォトマスクを説明する図であって、図１１（ａ）はフォトマスクの部分断面図、図１１（ｂ）は透光量調整部における透過率の分布を示す図、図１１（ｃ）はフォトマスクを用いて露光した後の感光性樹脂層の残膜量を示す図である。

まず、基板２の全面にポジ型の感光性樹脂層５２を全面に形成する。
その後、当該感光性樹脂層５２に対向させて図１１に示すフォトマスク９０ａを配置する。当該フォトマスク９０ａは、その周辺部に開口部９２を有している。また、当該周縁部の内側には、複数の開口部９２、第１透過率部９３、及び第２透過率部９４を有している。

次に、フォトマスク９０ａを用いてポジ型の感光性樹脂層５２を露光する。
すると、開口部９２を透過して露光光が照射した部分においては感光性樹脂層５２が完全に除去され、第１低透過率部９３を透過して露光光が照射した部分においては感光性樹脂層５２が膜厚ｈａで形成され、第２低透過率部９４を透過して露光光が照射した部分においては感光性樹脂層５２が膜厚ｈｂで形成される。ここで、第１低透過率部９３の透過率が第２低透過率部９４のそれよりも高いので、感光性樹脂層５２の除去量が多くなる。従って、膜厚を比較するとｈａ＞ｈｂとなり、樹脂側凸部６５ａ、６５ｂがそれぞれ形成される。また、樹脂側凸部６５ａ、６５ｂに隣接するように、露出部２ｃが形成される。これによって、樹脂側凸部形成領域２ｂが形成される。
更に、フォトマスク９０ａの周辺部に設けられた開口部９２に対応して、感光性樹脂層５２が完全に除去されるので、基板２上に接着剤形成領域２ａが形成される。

上述したように、本実施形態に示した液晶表示装置の製造方法、及び液晶表示装置においては、感光性樹脂層５２に対する露光量を部分的に異ならせることによって、基板２の周辺の感光性樹脂層５２を除去するので、基板２の周辺において基板表面が露出する。このような露出面に接着剤を配置することで、基板２と対向基板３のセルギャップが均一になるように貼り合わせることができる。

（液晶表示装置の第３実施形態）
以下、本発明における液晶表示装置の第３実施形態について、図面を参照しつつ説明する。
先に記載した第１及び第２実施形態においては、パッシブマトリクス方式の液晶表示装置について説明したが、本実施形態はアクティブマトリクス方式の液晶表示装置について説明する。
図１２は、本実施形態を説明するための図であって、図１２（ａ）は基板上に形成された薄膜ダイオード（能動素子）、感光性樹脂、及び反射膜を示す断面図、図１２（ｂ）は反射膜側から見た平面図である。ここで、図１２（ａ）は図１２（ｂ）のＣ−Ｃ’面に沿う断面図を示している。また、図１２（ｂ）は３つの画素の平面図である。
なお、各図面においては、図面を見やすくするため、各構成要素の膜厚や寸法の比率などは適宜異ならせてある。また、本実施形態においては、上記第１及び第２実施形態と異なる部分についてのみ説明し、同一構成には同一符号を付して説明を簡略化する。

図１２に示すように、アクティブマトリクス方式の液晶表示装置においては、基板２上に、薄膜ダイオードＴＦＤと、樹脂層５２と、反射層５３を備えた構成となっている。
ここで、樹脂層５２にはコンタクトホール（貫通部）Ｃが形成されており、当該コンタクトホールＣを介して反射層５３と薄膜ダイオードＴＦＤ（Thin Film Diode）の一部が導通している。
また、薄膜ダイオードＴＦＤは、ＭＩＭ構造（Metal-Insulator-Metal）を有している。なお、本実施形態においては、能動素子として薄膜ダイオードＴＦＤからなるスイッチング素子を採用しているが、薄膜ダイオードＴＦＤに代えて薄膜トランジスタ（Thin Film Transistor）を採用してもよい。
このようなアクティブマトリクス方式の液晶表示装置においては、対向基板３に形成される透明電極をストライブ形状に形成する必要はなく、全面ベタの電極を形成すればよい。また、反射膜５３自体が基板２側の電極として機能するので、上記実施形態に記載したセグメント電極１０を設ける必要がない。

（液晶表示装置の製造方法の第３実施形態）
以下、本発明における液晶表示装置の製造方法の第３実施形態について説明する。
本実施形態は、上記のアクティブマトリクス方式の液晶表示装置を製造する方法を示している。
ここでは、図１３及び図１４を参照して、上記の薄膜ダイオードＴＦＤ、樹脂層５２、及び反射層５３を形成する方法について説明する。なお、図１３及び図１４の（ａ）、（ｂ）、（ｃ）の各々においては、上側に断面図、下側に平面図を示しており、これは図１２（ａ）、（ｂ）に示した断面図及び平面図に対応している。

図１３（ａ）に示すように、まず、基板２上に薄膜ダイオードＴＦＤを形成する。
薄膜ダイオードＴＦＤは、スパッタ法等によって形成したＴａからなる第１導電膜と、当該第１導電膜の表面を酸化処理することで形成したＴａ_２Ｏ_５からなる絶縁膜と、当該絶縁膜の表面にスパッタ法等によって形成したＣｒからなる第２導電膜とを備えてなるものである。また、第１及び第２導電膜は、公知のフォトリソグラフィ法によって形成される。
なお、基板２上に予め下地絶縁膜を形成し、当該下地絶縁膜上に薄膜ダイオードＴＦＤを形成してもよい。

次に、図１３（ｂ）に示すように、薄膜ダイオードＴＦＤを覆うように、感光性樹脂層５２を形成する。当該感光性樹脂層としてはネガ型が採用される。

次に、図１３（ｃ）に示すように、感光性樹脂層５２に対して透光性型８０を押し付け、回転ロール８５により透光性型８０を感光性樹脂層５２に対してラミネートし、基板２の基板面と傾斜面８１との間で感光性樹脂層５２を狭圧させながら基板２上に積層する。
これによって、感光性樹脂層５２に樹脂側傾斜面６１、６２が形成される。

次に、図１４（ａ）に示すように、透光性型８０上にフォトマスク９０を配置し、露光工程を行う。ここで、フォトマスク９０には、前述の開口部９２、第１低透過率部９３、第２低透過率部９４、及び遮光部９５が形成されている。当該遮光部９５は、露光光を完全に遮蔽するので、遮光部９５に対応する位置の感光性樹脂５２には露光光が照射されることがない。

次に、図１４（ｂ）に示すように、感光性樹脂層５２を現像することにより、樹脂側凸部６５ａ、６５ｂ等の複数の凹凸部を形成すると共に、感光性樹脂層５２を貫通するコンタクトホールＣが形成される。
ここで、開口部９２に対応する部分に樹脂側凸部６５ａ、第１低透過率部９３に対応する部分に樹脂側凸部６５ｂ、第２低透過率部９４に対応する部分に樹脂側凸部６５ｃ、遮光部９５に対応する部分にコンタクトホールＣが形成される。これによって、薄膜ダイオードＴＦＤの導電膜が露出する。
また、樹脂側凸部６５ｃとは樹脂側凸部６５ｂよりも高さが低い凸部を意味している。従って、現像工程によって樹脂側凸部６５ａ、６５ｂ、６５ｃが形成された凹凸部が感光性樹脂５２に形成される。

このように感光性樹脂５２を形成した後に、図１２に示す反射膜５３を形成する。当該反射膜５３は、樹脂側凸部６５ａ、６５ｂ、６５ｃの形状に倣って形成されると共に、コンタクトホールＣ内において、薄膜ダイオードＴＦＤの導電膜と導通することとなり、同電位となる。

上述したように、本実施形態に示した液晶表示装置の製造方法、及び液晶表示装置においては、フォトマスク９０は露光光を完全に遮蔽する遮光部９５を有しているので、当該遮光部９５に対応する感光性樹脂層５２に対して露光光を完全に遮蔽することができる。また、感光性樹脂層５２はネガ型であるので、遮光部９５に対応する感光性樹脂層５２の部分を完全に除去することができる。なお、例えば、感光性樹脂層５２の材料としてポジ型を採用した場合には、遮光部９５に対応する感光性樹脂層５２の部分を残留させることができる。

また、上記のフォトマスク９０を用いることにより、感光性樹脂層５２に対する露光量を部分的に異ならせるので、感光性樹脂層５２を貫通するコンタクトホールＣを形成し、薄膜ダイオードＴＦＤの導電膜を露出することができる。更に、当該薄膜ダイオードＴＦＤの導電膜と反射膜５３を確実に導通させることができる。

なお、本実施形態においては、薄膜ダイオードＴＦＤの導電膜と反射膜５３を直接的に導通させて、薄膜ダイオードＴＦＤの一端子と反射膜５３を直接的に導通させているが、本発明は、これを限定するものではない。薄膜ダイオードＴＦＤと反射膜５３の間に中継導電体を設けて、当該中継導電体を介して薄膜ダイオードＴＦＤの一端子と反射膜５３を導通させて、同電位にしてもよい。

（液晶表示装置の第４実施形態）
以下、本発明における液晶表示装置の第４実施形態について、図面を参照しつつ説明する。
先に記載した第１〜第３実施形態においては、反射型の液晶表示装置について説明したが、本実施形態は半透過反射型の液晶表示装置について説明する。
図１５は、本実施形態を説明するための図であって、半透過反射型の液晶表示装置の要部を示す断面図である。
なお、各図面においては、図面を見やすくするため、各構成要素の膜厚や寸法の比率などは適宜異ならせてある。また、本実施形態においては、上記第１〜第３実施形態と異なる部分についてのみ説明し、同一構成には同一符号を付して説明を簡略化する。

図１５に示すように、本実施形態の半透過反射型の液晶表示装置においては、基板２上に、樹脂層５２と、反射層５３と、配向膜２０、２２と、液晶層２３と、カラーフィルタ１３とを備えた構成となっている。
ここで、樹脂層５２が形成されている部分は、外光を利用して画像表示を行う反射表示領域１００となっている。また、樹脂層５２が形成されていない部分は、不図示のバックライト（光源）の出射光を利用して画像表示を行う透過表示領域２００となっている。このような反射表示領域１００と透過表示領域２００においては、樹脂層５２の膜厚が異なることによって、液晶層２３の膜厚が異なっている。即ち、液晶層２３は、反射表示領域１００において膜厚２３ａで形成されており、透過表示領域２００において膜厚２３ｂで形成されている。更に、膜厚２３ａは膜厚２３ｂの２倍程度となっている。

（液晶表示装置の製造方法の第４実施形態）
以下、本発明における液晶表示装置の製造方法の第４実施形態について説明する。
本実施形態は、上記の半透過反射型の液晶表示装置を製造する方法を示している。
まず、図１５に示すように、基板２上に樹脂層５２を形成する。更に、上記の実施形態に記載したように、透光量調整部９１を有するフォトマスク９０を用いて露光工程を行い、その後に現像処理を行うことで樹脂層５２の表面に凹凸部６５を形成する。ここで、同時に基板２を露出する穴部（貫通部）５２ａを形成する。次に、反射層５３を全面に形成した後に、フォトリソグラフィによって穴部５２ａの反射層５３を除去する。更に、反射層５３の表面及び穴部５２ａ内に配向膜２０を形成する。
一方、対向基板３（図１５内では不図示）側においては、カラーフィルタ１３を形成し、配向膜２２を形成する。
最後に、配向膜２０、２２を対向させつつ、両者間に液晶層２３を形成する。

このような半透過反射型の液晶表示装置においては、反射表示領域１００に凹凸状の表面を有する樹脂層５２が形成され、透過表示領域２００に穴部５２ａが形成されているので、膜厚２３ａ、２３ｂの異なる膜厚の液晶層２３が形成される。従って、反射表示領域１００における液晶層２３の膜厚が透過表示領域２００のそれよりも小さくなる。

上述したように、本実施形態に示した液晶表示装置の製造方法、及び液晶表示装置においては、樹脂層５２に穴部５２ａを設けることにより、液晶層厚調整層を形成することができ、所謂マルチギャップ構造が得られるので、反射表示領域１００と透過表示領域２００における液晶層２３の膜厚を好適に決定することができる。従って、透過表示領域２００と反射表示領域１００の電気光学特性が揃うことなり、良好な表示特性が得られる。

（液晶表示装置の第５実施形態）
以下、本発明における液晶表示装置の第５実施形態について、図面を参照しつつ説明する。
先に記載した第４実施形態においては、マルチギャップ構造の半透過反射型の液晶表示装置について説明したが、本実施形態においては、カラーフィルタの膜厚を異ならせた半透過反射型の液晶表示装置について説明する。
図１６は、本実施形態を説明するための図であって、半透過反射型の液晶表示装置の要部を示す断面図である。
なお、各図面においては、図面を見やすくするため、各構成要素の膜厚や寸法の比率などは適宜異ならせてある。また、本実施形態においては、上記第１〜第４実施形態と異なる部分についてのみ説明し、同一構成には同一符号を付して説明を簡略化する。

図１６に示すように、本実施形態の半透過反射型の液晶表示装置においては、基板２上に、樹脂層５２と、反射層５３と、カラーフィルタ（着色層）１３と、配向膜２０、２２と、ギャップ層２４と、液晶層２３と、を備えた構成となっている。
ここで、樹脂層５２には、その膜厚５２ｃが薄い薄膜部５２ｂが形成されている。当該薄膜部５２ｂは、不図示のバックライトの出射光を利用して画像表示を行う透過表示領域２００となっている。
また、樹脂層５２にはその表面に凹凸部６５を有しており、当該凹凸部６５は平均膜厚５２ｄで形成されている。このような凹凸部６５が形成されている部分は、外光を利用して画像表示を行う反射表示領域１００となっている。
また、このような反射表示領域１００と透過表示領域２００においては、樹脂層５２の膜厚が異なることによって、カラーフィルタ１３の膜厚が異なっている。即ち、カラーフィルタ１３は、反射表示領域１００において平均膜厚ｔｂで形成されており、透過表示領域２００において膜厚ｔａで形成されている。更に、膜厚ｔａは膜厚ｔｂの２倍程度となっている。
また、カラーフィルタ１３の上方には、反射透過領域１００のみにおいてギャップ層２４が形成されており、反射透過領域１００と透過表示領域２００における液晶層２３の膜厚を異ならせており、電気光学特性が揃うようになっている。

（液晶表示装置の製造方法の第５実施形態）
以下、本発明における液晶表示装置の製造方法の第５実施形態について説明する。
本実施形態は、上記の半透過反射型の液晶表示装置を製造する方法を示している。
まず、図１６に示すように、基板２上に樹脂層５２を形成する。更に、上記の実施形態に記載したように、透光量調整部９１を有するフォトマスク９０を用いて露光工程を行い、その後に現像処理を行うことで樹脂層５２の表面に凹凸部６５を形成する。ここで、同時に凹凸部６５が形成されている部分の平均膜厚５２ｄよりも、薄い膜厚を有する薄膜部５２ｂを形成する。次に、反射層５３を全面に形成した後に、フォトリソグラフィによって薄膜部５２ｂの反射層５３を除去する。更に、反射層５３の表面及び穴部５２ａ内にカラーフィルタ１３を形成する。ここで、カラーフィルタは、薄膜部５２ｂ及び凹凸部６５の形状に倣うので、透過表示領域２００においては膜厚ｔａ、反射表示領域においては平均膜厚ｔｂで形成される。次に、反射表示領域１００に応じてギャップ層２４を形成する。ここで、透過表示領域２００においてはギャップ層２４を形成しない。

一方、対向基板３（図１６内では不図示）側においては配向膜２２を形成する。
最後に、配向膜２０、２２を対向させつつ、両者間に液晶層２３を形成する。

このような半透過反射型の液晶表示装置においては、反射表示領域１００に凹凸状の表面を有する樹脂層５２が形成され、透過表示領域２００に穴部５２ａが形成されているので、膜厚ｔａ、ｔｂの異なる膜厚のカラーフィルタ１３が形成される。従って、反射表示領域１００におけるカラーフィルタ１３の膜厚が透過表示領域２００のそれよりも小さくなる。

上述したように、本実施形態に示した液晶表示装置の製造方法、及び液晶表示装置においては、樹脂層５２に対する露光量を部分的に異ならせることによって、薄膜部５２ｂを形成するので、樹脂層５２において凹凸部６５の平均膜厚よりも相対的に薄い部分を形成することができる。更に、薄膜部５２ｂの膜厚を好適に調整することで、樹脂層５２ｂの上方に形成される各種層膜の膜厚を所望に設定することができる。
また、このような薄膜部５２ｂを樹脂層５２に設けることにより、反射表示領域１００と透過表示領域２００におけるカラーフィルタ１３の膜厚を好適に決定することができる。そして、反射表示領域１００におけるカラーフィルタ１３の膜厚を透過表示領域２００のそれよりも薄くすることで、カラーフィルタ１３の色合いを略均一にすることができる。

（液晶表示装置の第５実施形態の変形例）
次に、本実施形態の液晶表示装置の第５実施形態の変形例について説明する。
上記の第５実施形態においては、半透過反射型の液晶表示装置において、カラーフィルタ１３の膜厚を反射表示領域と透過表示領域とで異ならせる形態について説明した。本変形例においては、更に、カラーフィルタ１３の各色に応じて、反射表示領域と透過表示領域における膜厚を異ならせる形態について説明する。
図１７は、本変形例を説明するための図であって、Ｒ、Ｇ、Ｂの各色画素を示している。また、図１７（ａ）は断面図であり、図１７（ｂ）は平面図である。

図１７においては、着色層１３ｒ、１３ｇ、１３ｂ毎に反射表示領域１００又は透過表示領域２００の膜厚を異ならせている。
このようにすれば、所望の膜厚で各色の着色層１３ｒ、１３ｇ、１３ｂを形成することができ、好適な色合いでフルカラー表示を実現できる液晶表示装置を製造することができる。

（電子機器）
次に、本発明の上記実施形態の液晶表示装置を備えた電子機器の具体例について説明する。
図１８は、携帯電話の一例を示した斜視図である。図１８において、符号１０００は携帯電話本体を示し、符号１００１は上記液晶表示装置を用いた表示部を示している。このような携帯電話等の電子機器の表示部に、上記実施形態の液晶表示装置を用いた場合、コントラストが高くて広視野角が達成され、表示特性が優れる液晶表示部を備えた電子機器を実現することができる。

なお、上述した例に加えて、他の例として、液晶テレビ、ビューファインダ型やモニタ
直視型のビデオテープレコーダ、カーナビゲーション装置、ページャ、電子手帳、電卓、
ワードプロセッサ、ワークステーション、テレビ電話、ＰＯＳ端末、電子ペーパー、タッ
チパネルを備えた機器等が挙げられる。本発明の電気光学装置は、こうした電子機器の表
示部としても適用できる。

なお、本発明の技術範囲は上記実施形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲において種々の変更を加えることが可能である。

本発明の第１実施形態の液晶表示装置の全体構成を示す平面図。 本発明の第１実施形態の液晶表示装置の表示領域を示す断面図。 本発明の第１実施形態の液晶表示装置における反射層及び樹脂層の斜視図。 本発明の第１実施形態の液晶表示装置における反射層及び樹脂層の断面図。 本発明の第１実施形態の液晶表示装置における反射層及び樹脂層の説明図。 本発明の第１実施形態の液晶表示装置の製造方法を説明するための説明図。 本発明の第１実施形態のフォトマスクを説明するための図。 本発明の第１実施形態の透光性型を示す斜視図。 本発明の第１実施形態の変形例を説明するための図。 本発明の第２実施形態の液晶表示装置における感光性樹脂層を示す図。 本発明の第２実施形態の液晶表示装置の製造方法を説明するための説明図。 本発明の第３実施形態の液晶表示装置の要部を示す図。 本発明の第３実施形態の液晶表示装置の製造方法を説明するための説明図。 本発明の第３実施形態の液晶表示装置の製造方法を説明するための説明図。 本発明の第４実施形態の液晶表示装置を示す断面図。 本発明の第５実施形態の液晶表示装置を示す断面図。 本発明の第５実施形態の液晶表示装置の変形例を説明するための図。 本発明の液晶表示装置を備える電子機器を示す図。

符号の説明

１…液晶表示装置、２…基板、１３…着色層、１３ｒ…着色層、１３ｇ…着色層、１３ｂ…着色層、２３…液晶層、５２…樹脂層（感光性樹脂層）、５２ａ…穴部（貫通部）、５２ｄ…平均膜厚、５２ｂ…薄膜部、５３…反射層、６１、６２…樹脂側傾斜面（傾斜面）、６５ａ、６５ｂ…樹脂側凸部（凹凸部）、８０…透光性型、８１…傾斜面、９０…フォトマスク、９１…透光量調整部、９２…開口部（透光量調整部）、９３…第１低透過率部（透光量調整部）、９４…第２低透過率部（透光量調整部）、９５…遮光部、１００…反射表示領域、２００…透過表示領域、１０００…携帯電話本体（電子機器）、Ｃ…コンタクトホール（貫通部）、ＴＦＤ…薄膜ダイオード（能動素子）

Claims (17)

1. 反射層を備えた液晶表示装置の製造方法であって、
   前記反射層を形成する工程は、
   基板上に感光性樹脂層を形成する工程と、
   表面に指向性を示す傾斜面を備えた透光性型を、当該傾斜面と前記感光性樹脂層が対向するように接触させる工程と、
   前記感光性樹脂層及び透光性型を積層した基板に対し、フォトマスクを用いて露光を行う工程と、
   前記露光の後に前記透光性型を離脱させる工程と、
   前記感光性樹脂層の表面に反射膜を形成する工程と、
   を有し、
   前記フォトマスクには、透過率が異なる複数の透光量調整部が設けられており、当該複数の透光量調整部を介して露光することで、前記感光性樹脂層に対する露光量を部分的に異ならせることを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
2. 前記複数の透光量調整部のうちの一つは、マスクパターンの開口部であることを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置の製造方法。
3. 前記複数の透光量調整部のうちの一つは、露光光を遮蔽する遮光部であることを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置の製造方法。
4. 前記複数の透光量調整部のうちの一つは、前記開口部よりも透過率が低い第１低透過率部であることを特徴とする請求項２に記載の液晶表示装置の製造方法。
5. 前記複数の透光量調整部のうちの一つは、前記第１低透過率部よりも透過率が低い第２低透過率部であることを特徴とする請求項４に記載の液晶表示装置の製造方法。
6. 前記感光性樹脂層は、ポジ型であることを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置の製造方法。
7. 前記感光性樹脂層は、ネガ型であることを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置の製造方法。
8. 前記感光性樹脂層に対する露光量を部分的に異ならせることによって、前記感光性樹脂層の傾斜面に、当該傾斜面の表面からの高さが異なる凹凸部を形成することを特徴とする請求項１から請求項７のいずれかに記載の液晶表示装置の製造方法。
9. 前記感光性樹脂層に対する露光量を部分的に異ならせることによって、前記凹凸部を有する前記感光性樹脂層の平均膜厚よりも薄い薄膜部を、当該感光性樹脂層に形成することを特徴とする請求項１から請求項７のいずれかに記載の液晶表示装置の製造方法。
10. 前記感光性樹脂層に対する露光量を部分的に異ならせることによって、前記感光性樹脂層を貫通する貫通部を形成することを特徴とする請求項１から請求項７のいずれかに記載の液晶表示装置の製造方法。
11. 前記感光性樹脂層に対する露光量を部分的に異ならせることによって、前記基板周辺の感光性樹脂層を除去することを特徴とする請求項１から請求項７のいずれかに記載の液晶表示装置の製造方法。
12. 前記感光性樹脂層と前記基板との間に能動素子を形成する工程を更に有し、
    前記貫通部を形成して、前記能動素子の一端子又は前記能動素子の一端子と同電位となる導電体を露出させた後に、
    前記反射膜を形成して、当該反射膜と前記能動素子の一端子を導通させることを特徴とする請求項１０に記載の液晶表示装置の製造方法。
13. 透過表示領域と反射表示領域とを有する半透過反射型の液晶表示装置の製造方法であって、
    前記透過表示領域に前記薄膜部又は前記貫通部を形成し、前記感光性樹脂層の膜厚差を利用して、前記反射表示領域の前記液晶層厚を前記透過表示領域の前記液晶層厚よりも小さくすることを特徴とする請求項９又は請求項１０に記載の液晶表示装置の製造方法。
14. 透過表示領域と、反射表示領域とを有する半透過反射型の液晶表示装置の製造方法であって、
    前記感光性樹脂層の上方に、異なる複数色の着色層を形成する工程を有し、
    前記透過表示領域に前記薄膜部又は前記貫通部を形成し、前記感光性樹脂層の膜厚差を利用して、前記反射表示領域の着色層厚を前記透過表示領域の着色層厚よりも小さくすることを特徴とする請求項９又は請求項１０に記載の液晶表示装置の製造方法。
15. 前記感光性樹脂層に対する露光量を部分的に異ならせることによって、前記着色層の色毎に、前記反射表示領域及び前記透過表示領域における前記感光性樹脂層の膜厚を異ならせることを特徴とする請求項１４に記載の液晶表示装置の製造方法。
16. 請求項１から請求項１５のいずれかに記載の製造方法によって製造されたことを特徴とする液晶表示装置。
17. 請求項１６に記載の液晶表示装置を備えることを特徴とする電子機器。
    
    
    
    

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