CN1392443A - 掩模、附有光反射膜的基板、光反射膜的形成方法 - Google Patents

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Abstract

本发明的课题是，提供用于制造干涉条纹产生得少的附有光反射膜的基板的掩模、使用它的附有光反射膜的基板、光反射膜的制造方法、具有干涉条纹产生得少的附有光反射膜的基板的电光器件，以及具有干涉条纹产生得少的附有光反射膜的基板的电子装置。以如下方式制作附有光反射膜的基板：以比点区数少的点数为一个单元形成透光部或不透光部，并且将其在该单元内不规则地排列，同时使用含有多个该单元的掩模，使在基体材料上形成的多个凸部的高度或凹部的深度实质上相等，以及将该多个凸部或凹部的平面形状制成独立的圆和多边形，或者某一方的平面形状，并且在平面方向随机排列多个凸部或凹部。

Description

掩模、附有光反射膜的基板、光反射膜的形成方法
[发明的详细说明]
[发明所属的技术领域]
本发明涉及掩模、附有光反射膜的基板、光反射膜的形成方法、电光器件的制造方法和电光器件，以及电子装置。
更详细地说，涉及用于制造干涉条纹产生得少的附有光反射膜的基板的掩模、使用该掩模的附有光反射膜的基板、光反射膜的形成方法、具有干涉条纹产生得少的附有光反射膜的基板的电光器件以及具有干涉条纹产生得少的附有光反射膜的基板的电子装置。
[现有的技术]
众所周知，从求得薄型化、节省电力等出发，液晶显示器件作为各种电子装置的显示装置正得到广泛应用。这样的液晶显示器件一般是在将液晶封入一对玻璃基板等之间的状态下，用密封材料将周边贴合起来的结构。而且，安装了这种液晶显示器件的电子装置，为了保护液晶显示器件不受来自外部的冲击等，采用了在该液晶显示器件的观察侧，即看到显示的观察者一侧设置保护板的结构。这种保护板通常是由具有透光性的材料，例如透明塑料等构成的板状构件。
但是，将这种保护板的与液晶显示器件相向的面制成完全的平滑面是困难的，往往存在微细的凹凸。因此，在将这种保护板设置在液晶显示器件上时，存在由表面的微细凹凸引起的显示品质显著降低的问题。
作为这种显示品质降低的原因之一，可以举出液晶显示器件的观察侧基板与保护板的间隔相应于保护板表面存在的凹凸而不一致。即，对应于这种间隔的不一致，从液晶显示器件射出的光在透过保护板时产生干涉，其结果是产生干涉条纹。因此，可以推断，由于产生的干涉条纹与显示图像相重叠而引起显示品质下降。
另外，在特开平6-27481号公报中，公开了如图26所示的反射型液晶显示器件400，在特开平11-281972号公报中，公开了如图27所示的反射透射两用型500，为减少干涉条纹的产生，分别设置了高度不同的多个凹凸结构404a、404b(504a、504b)，在其上形成了高分子树脂膜405(505)，再在其上形成了连续的波状反射电极409(509)。
另外，具有这种反射电极的液晶显示器件的制造工序被公开了，例如公开在图28中。首先，如图28(a)所示，在玻璃基板600上全面形成抗蚀剂膜602，其次，如图28(b)所示，经由直径不同的多个圆构成的图形604进行曝光。之后，如图28(c)所示，进行显影，设置具有高度不同的有多个角的凸部606a、606b，进而如图28(d)所示，进行加热，使凸部的角部软化，形成无角的凸部608a、608b。然后，如图28(e)所示，在这些凹凸结构间610充填规定量的高分子树脂620，形成具有波状表面的连续层后，再利用溅射法等层叠方法在高分子树脂膜620上形成连续的波状反射电极624。
[发明所要解决的课题]
但是，特开平6-27481号公报等公开的反射型液晶显示器件及反射透射两用型液晶显示器件，虽然打算用直径不同的多个圆等呈规则的或部分不规则的排列的掩模，利用紫外线曝光和显影，设置高度不同的多个凹凸结构。但是存在涂敷厚度不均匀等现象，严格地调整高度使得能有效地防止光干涉是困难的。另外，由于在高度不同的多个凹凸结构上形成反射电极，所以还发现断线、易短路等问题。此外，还发现公开的附有光反射膜的基板的制造方法存在工序数多，管理项目多这类制造方面的问题。
因此，在特开平6-27481号公报中公开的附有光反射膜的基板不仅难以有效地防止干涉条纹的产生，而且也难以稳定并且有效地制造这种附有光反射膜的基板。
于是，作为本发明的发明者对以上问题专心研究的结果，发现在附有光反射膜的基板的基体材料上设置多个凸部或凹部的同时，借助于实质上不改变该多个凸部或凹部的高度而在平面方向随机排列，可以容易地得到干涉条纹产生得少的附有光反射膜的基板。
即，本发明的目的在于提供可得到干涉条纹产生得少并且容易制造的附有光反射膜的基板的掩模、这种附有光反射膜的基板、这种光反射膜的形成方法、设置有这种附有光反射膜的基板的电光器件、以及具有这种附有光反射膜的基板的电子装置。
[解决课题用的方法]
根据本发明，可以提供用于在有多个点区的基板上形成图形的、具有如下特征的掩模：包括可透过入射光的透光部与实质上不透过光的不透光部，由上述透光部或不透光部形成的图形，以比点区数少的点数为一个单元而形成，同时在该一个单元内不规则地排列，并且含有多个该单元，因而可以解决上述问题。
即，借助于以使用附有光反射膜的基板的液晶显示器件等的、比点区数少的点数为基本单元，例如借助于以与像素对应的RGB点的3点、6点或12点为一个单元，在平面上随机排列透光部或不透光部，可以减少涉及由透光部或不透光部形成的图形的信息量。因此，在形成所希望的图形，例如由平面形状为独立的圆(含椭圆，下同)和多边形，或者某一方的形状的透光部或不透光部构成的图形时，通过使这样的基本单元重复，可以极容易地而且可在短时间内进行掩模设计。
另外，由于在平面方向随机排列透光部或不透光部，所以在制造附有光反射膜的基板时，能够发挥良好的光散射效果，有效地防止干涉条纹的产生。
还有，控制透光部或不透光部的平面形状的理由在于：构成附有光反射膜的基板的感光树脂存在被透过透光部的光照射的部位进行光分解后可以溶解于显影剂的正型与被透过透光部的光照射的部位在感光后不溶解于显影剂的负型。
另外，在构成本发明的掩模时，透光部或不透光部的直径最好取3～15μm范围内的值。
另外，在构成本发明的掩模时，最好是具有直径各不相同的多个透光部，或者直径各不相同的不透光部。
即，例如最好设置使透光部或不透光部的直径不同的2～10种透光部或不透光部。
还有，本发明的另外形态的掩模，是用于在有多个点区的基板上形成图形的掩模，该掩模的特征在于：包括可透过入射光的透光部与实质上不透过光的不透光部，由透光部或不透光部形成的图形，以比点区数少的点数为一个单元而形成，同时在该一个单元内包含对称的部位。
借助于这样进行构成，可以有效地制造干涉条纹产生得少的附有光反射膜的基板。即，在制造附有光反射膜的基板时，由于可以利用规定的对称图形，例如利用借助于一条假想线将掩模进行分割、对该假想线呈镜面对称的图形，使光适当地散射，所以能够有效地防止干涉条纹的产生。另外，由于利用对称图形，并重复使用该图形，所以能够减少涉及图形的信息量，使附有光反射膜的基板容易制造。
还有，本发明的另外形态是包含基体材料和反射层的附有光反射膜的基板，该附有光反射膜的基板的特征在于：包含具有凸部或凹部的光反射膜，由凸部或凹部形成的图形，在由多个点定义的一个单元内不规则地排列。
这样，由于凸部或凹部，譬如以与像素对应的RGB点的3点、6点或12点为一个单元在平面上随机排列，所以能够发挥良好的光散射效果，有效地防止干涉条纹的产生。
另外，在构成本发明的附有光反射膜的基板时，最好使凸部的高度或者凹部的深度在面内实质上相等。
例如对包含基体材料、光反射膜的附有光反射膜的基板，最好使在该基体材料表面独立形成的多个凸部或凹部的高度实质上相等。
这样，借助于使多个凸部的高度或凹部的深度实质上相等，在能够容易制造的同时，还能够得到均匀的反射特性。
另外，如果是这样的多个凸部的高度或凹部的深度实质上相等、并且是比较平坦的结构，即使在与光散射膜及液晶显示器件的保护板进行组合的场合，也能够有效地抑制由各间隙的凹凸引起的显示品质下降。
另外，在构成本发明的附有光反射膜的基板时，多个凸部或凹部的直径最好取3～15μm范围内的值。
例如，最好在将多个凸部或凹部的平面形状形成为独立的圆和多边形，或者某一方的平面形状的同时，使该直径取3～15μm范围内的值。
另外，在构成本发明的附有光反射膜的基板时，多个凸部或凹部的间隔最好取3.5～30μm范围内的值。
另外，在构成本发明的附有光反射膜的基板时，多个凸部的高度及凹部的深度最好取0.1～10μm范围内的值。
另外，在构成本发明的附有光反射膜的基板时，由多个点定义的单元最好比基板上的全部点数少，并且为构成整个基板而包含多个单元。
另外，在构成本发明的附有光反射膜的基板时，最好是具有各直径不相同的多个凸部，或者各直径不相同的多个凹部。
另外，本发明另外形态的附有光反射膜的基板是在有多个点区的基板上形成有光反射膜的附有光反射膜的基板，该附有光反射膜的基板的特征在于：包含具有凸部或凹部的光反射膜，由凸部或凹部形成的图形以多个点为一个单元而形成，并且在该单元内包含对称的部位。
还有，本发明的另外形态是具有多个点区的电光器件，该电光器件的特征在于：包含形成有具凸部或凹部的光反射膜的基板以及被基板支撑的电光层，由凸部或凹部形成的图形在由多个点定义的一个单元内不规则地排列。
另外，在构成本发明的电光器件时，最好使凸部的高度或者凹部的深度在面内实质上相等。
另外，在构成本发明的电光器件时，由多个点定义的一个单元(基本单元)最好比基板上的全部点区数少，并且为构成整个基板而包含多个该单元。
另外，在构成本发明的电光器件时，最好由对应于多个点设置的、颜色各不相同的多个着色层及与它们对应的多个点形成1个像素，在一个单元内至少有1个像素对应。
另外，本发明的另外形态的电光器件是具有多个点区的电光器件，该电光器件的特征在于：包含形成有具凸部或凹部的光反射膜的基板以及被基板支撑的电光层，由凸部或凹部形成的图形以多个点为一个单元而形成，并且在该单元内包含对称的部位。
另外，在构成本发明的电光器件时，最好由对应于多个点设置的、颜色各不相同的多个着色层及与它们对应的多个点形成1个像素，在一个单元内至少有1个像素对应。
另外，本发明的另外形态的电光器件是一种电光器件，其特征在于：包括电光层，在电光层的一侧配置的光散射膜及在电光层的另一侧配置的光反射膜，在光反射膜上形成了不规则排列的凸部或凹部。
另外，在构成本发明的电光器件时，同时使用的光散射膜的霾值最好在10％以上，60％以下。
另外，在构成本发明的电光器件时，最好具有多个点区，由凸部或凹部形成的图形在由1个点或2个点定义的一个单元内不规则地排列，对同时使用的光散射膜的霾值，最好取40～60％的范围内的值。
另外，在构成本发明的电光器件时，最好由多个点区及与它们对应设置的、颜色各不相同的多个着色层形成1个像素，在一个单元内至少有该1个像素对应。
另外，在构成本发明的电光器件时，最好具有多个点区，由凸部或凹部形成的图形在含有3个点的一个单元内不规则地排列，同时使用的光散射膜的霾值最好在10％以上，40％以下。
另外，在构成本发明的电光器件时，最好具有在一侧配置的保护板。
还有，本发明的另外形态是包含电光器件作为显示部的电子装置，该电子装置的特征在于：作为电光器件，在具有多个点区的电光器件中采用了：包含形成具有凸部或凹部的光反射膜的基板及被基板支撑的电光层，由凸部或凹部形成的图形在由多个点定义的一个单元内不规则排列而构成的电光器件。
还有，本发明的另外形态是包含电光器件作为显示部的电子装置，该电子装置的特征在于：作为电光器件采用了：包含形成具有凸部或凹部的光反射膜的基板及被基板支撑的电光层，由凸部或凹部形成的图形以多个点为一个单元而形成，并且在该单元内包含对称的部位的电光器件。
还有，本发明的另外形态是包含电光器件作为显示部的电子装置，该电子装置的特征在于：作为电光器件采用了：包括电光层、在电光层的一侧配置的光散射膜及在电光层的另一侧配置的光反射膜，在光反射膜上形成了不规则排列的凸部或凹部的电光器件。
还有，本发明的另外形态是在有多个点区的基体材料上形成光反射膜的方法，其特征在于：包括在基体材料上涂敷感光材料的工序、使感光材料曝光的工序、在曝光过的感光材料上形成凹凸的工序以及在凹凸上形成光反射膜的工序，凹凸图形以将比点区数少的多个点作为一个单元，并且在该单元内呈不规则状的方式形成。
还有，涉及本发明的另外的形成光反射膜的方法的形态是在有多个点区的基体材料上形成光反射膜的方法，其特征在于：包括在基体材料上涂敷感光材料的工序、使感光材料曝光的工序、在曝光过的感光材料上形成凹凸的工序以及在凹凸上形成光反射膜的工序，凹凸图形以将多个点作为一个单元，并且在该单元内包含对称的部位的方式形成。
另外，本发明的电光器件的制造方法是一种电光器件的制造方法，其特征在于，作为工序，包含如下的在有多个点区的基体材料上形成光反射膜的方法：此光反射膜形成方法包括在基体材料上涂敷感光材料的工序、使感光材料曝光的工序、在曝光过的感光材料上形成凹凸的工序以及在凹凸上形成光反射膜的工序，凹凸图形以将比基板上所有点区的数少的多个点作为一个单元，并且在该单元内呈不规则状的方式形成。
还有，本发明的另外的电光器件的制造方法是一种电光器件的制造方法，其特征在于，作为工序，包含如下的在有多个点区的基体材料上形成光反射膜的方法：此光反射膜形成方法包括在基体材料上涂敷感光材料的工序、使感光材料曝光的工序、在曝光过的感光材料上形成凹凸的工序以及在凹凸上形成光反射膜的工序，凹凸图形以将多个点作为一个单元，并且在该单元内包含对称的部位的方式形成。
[附图的单说明]
图1是为说明本发明的掩模而提供的平面图。
图2是为说明以1个像素(RGB：3点)为一个单元，在平面方向随机排列透光部或不透光部的掩模而提供的平面图。
图3是为说明以2个像素(RGB：6点)为一个单元，在平面方向随机排列透光部或不透光部的掩模而提供的平面图。
图4是为说明以4个像素(RGB：12点)为一个单元，在平面方向随机排列透光部或不透光部的掩模而提供的平面图。
图5是为说明透光部或不透光部的直径不同的掩模而提供的平面图。
图6是为说明透光部或不透光部呈镜面对称的掩模而提供的平面图。
图7是包含第1基板和第2基板的附有光反射膜的基板的剖面图。
图8是由非对称的、实质上为泪滴形的凸部构成的附有光反射膜的基板的平面图和剖面图。
图9是示出视觉感受到的光量与观察角度的关系的图。
图10是具有孔径部的附有光反射膜的基板的剖面图。
图11是附有光反射膜的基板的制造工序图。
图12是附有光反射膜的基板的制造工序的流程图。
图13是用于说明与TFT元件电连接的附有光反射膜的基板的剖面图。
图14是示出无源矩阵模式的液晶显示器件的结构的剖面图。
图15是示出另一液晶显示器件的结构的剖面图。
图16是示出作为电子装置之一例的个人计算机的结构的斜视图。
图17是示出作为电子装置之一例的移动电话机的结构的斜视图。
图18是由实质上为圆锥形的凹部构成的附有光反射膜的基板的平面图和剖面图。
图19是由非对称的、实质上为泪滴形的凹部构成的附有光反射膜的基板的平面图和剖面图。
图20是由非对称的、实质上为棱锥形的凹部构成的附有光反射膜的基板的平面图和剖面图。
图21是由实质上水平剖面为曲率半径小的抛物线、垂直剖面为曲率半径比其大的抛物线的凹部构成的附有光反射膜的基板的平面图和剖面图。
图22是由实质上水平剖面是矩形、在垂直方向为棱锥形的凹部构成的附有光反射膜的基板的平面图和剖面图。
图23是TFD方式的液晶显示器件的分解图。
图24是TFD方式的液晶显示器件的局部剖面图。
图25是TFD方式的液晶显示器件的局部斜视图。
图26是示出现有液晶显示器件的结构的剖面图。
图27是示出现有液晶显示器件的另一结构的剖面图。
图28是现有液晶显示器件的制造工序图。
[发明的实施例]
下面参照附图对本发明的实施例进行说明。另外，不言而喻，以下所示的实施例尽管只示出本发明的一种形态，但并不是对本发明作任何限定，在本发明的技术思想的范围内可以进行任意变更。
[第1实施例]
第1实施例是用于在有多个点区的基板上形成图形的掩模，该掩模具有可透过入射光的透光部和实质上不透过光的不透光部，由透光部或不透光部形成的图形以比点区数少的点数为一个单元而形成，同时在该一个单元内不规则地排列，并且含有多个该单元。
即，例如是图2所示的用于制造附有光反射膜的基板的掩模20，此掩模的特征在于：将透光部或不透光部22形成为独立的圆和多边形，或者其中任何一方的平面形状，同时以与规定的像素对应的RGB点为一个单元，在平面方向随机排列透光部或不透光部22。
1.透光部或不透光部
(1)形状
最好将掩模的透光部或不透光部制成如图1所示的独立的圆(含椭圆)和多边形，或者任何一方的平面形状。
其理由是借助于将透光部不透光部的平面形状制成圆(含椭圆)或多边形，在为制造附有光反射膜的基板而实施曝光工艺时，可以使树脂的凹凸配置复杂。另外，还由于圆或多边形是基本图形，故掩模本身容易制造。还有，作为理想的多边形，有四边形、五边形、六边形、八边形等。
(2)直径与间隔
另外，掩模的透光部或不透光部的直径以取3～15μm范围内的值为宜。
其理由如下：若透光部或不透光部的直径不到3μm，即使在制造附有光反射膜的基板时采用曝光工艺，也往往难以正确控制凸部或凹部的平面形状、配置图形。还有，若透光部或不透光部的直径不到3μm，掩模本身的制造往往也是困难的。
另一方面，透光部或不透光部的直径若超过15μm，所得到的附有光反射膜的基板难以使光适度地散射，散射特性下降，形成暗反射。
因此，掩模的透光部或不透光部的直径取5～13μm范围内的值较好，取6～12μm范围内的值更好。
另外，最好是掩模的透光部或不透光部中的至少一个的直径为5μm以上的值。即，在有直径不同的透光部或不透光部的场合，至少一个透光部或不透光部的直径为5μm以上的值，直径不同的另一透光部或不透光部的直径可以是不到5μm的值。
其理由如下：如果这些透光部或不透光部的平面形的每一个都是不到5μm的圆或多边形，则所得到的附有光反射膜的基板多半使光过度散射，形成暗反射。但是，当透光部或不透光部的直径过大时，光的散射效应降低，往往会产生干涉条纹。
因此，掩模的透光部或不透光部中的至少一个的直径取5～13μm范围内的值较好，取6～12μm范围内的值更好。
另外，掩模的透光部或不透光部的间隔(间距)以取3.5～30μm范围内的值为宜。
其理由如下：若这些透光部或不透光部的间隔为不到3.5μm的值，透光部或不透光部的独立性往往下降。另一方面，若这些透光部或不透光部的间隔超过30μm，透光部或不透光部的随机配置性往往下降。
因此，掩模的透光部或不透光部的间隔取5～20μm范围内的值较好，掩模的透光部或不透光部的间隔取7～15μm范围内的值更好。
还有，这些透光部或不透光部的间隔是指相邻的透光部或不透光部的中心到中心的距离，是10处以上的平均值。
(3)种类
另外，以使掩模的透光部或不透光部的直径不同，设置2～10种透光部或不透光部为宜。例如，如图5所示，将具有不同直径的透光部或不透光部设置在一个随机图形内。
其理由是：借助于存在这样直径不同的透光部或不透光部，能更有效地制造干涉条纹产生得少的附有光反射膜的基板。即，在使用这样的掩模制造附有光反射膜的基板时，得到的凸部或凹部的排列更分散，能够使光适当地散射。因此，在液晶显示器件等中使用这种附有光反射膜的基板，能更有效地防止干涉条纹的产生。
另外，作为由掩模的直径不同的透光部或不透光部形成的图形组合，可以列举出如下的例子：
1)7.5μm的六边形图形和9μm的六边形图形的组合，
2)5μm的六边形图形、7.5μm的六边形图形和9μm的六边形图形的组合，
3)4.5μm的正方形图形、5μm的正方形图形、7.5μm的六边形图形、9μm的六边形图形和11μm的六边形图形的组合，以以上这些组合为宜。
(4)面积比率
另外，掩模的透光部或不透光部的面积比率，相对于总面积，以取10～60％范围内的值为宜。
其理由如下，若该面积比率取不足10％的值，在制造附有光反射膜的基板时，多个凸部或凹部的占有面积减小，平坦部增加，光散射效应往往显著降低。另一方面，若该面积比率超过60％，则平坦部增加，光散射效应往往显著降低。
因此，掩模的透光部或不透光部的面积比率，相对于总面积，取15～50％范围内的值较好，取20～40％范围内的值更好。
还有，在作为构成基体材料的感光树脂使用正型的场合，透过透光部的光所照射的部位发生光分解，可以溶解于显影剂，因此，掩模的不透光部的面积比率成为问题；在感光树脂使用负型的场合，透过透光部的光所照射的部位感光后，不溶解于显影剂，因此，掩模的透光部的面积比率成为问题。
2.随机排列
(1)随机排列1
在第1实施例中，其特征在于：例如，如图1所示，在平面方向随机排列掩模10的透光部或不透光部12。
即，为了当利用这种掩模进行曝光工艺以形成附有光反射膜的基板时，能够容易地对基体材料随机地排列多个凸部或凹部，使之适当地进行光散射。
另外，所谓随机排列，意味着透光部或不透光部明显无序地进行排列，但更正确地说，意味着当将掩模切割成一个个的单元面积，将这些掩模重叠时，各图形完全不同，或者虽有部分重叠的部位，但不完全一致的状态。
(2)随机排列2
另外，最好是以形成使用光反射膜的液晶显示器件等的像素的RGB点为基准，在平面方向随机排列光反射膜用掩模图形的透光部或不透光部。
即，最好是以使用光反射膜的液晶显示器件等的1个像素(RGB：3点)、2个像素(RGB：6点)或4个像素(RGB：12点)为一个单元，将其重复地在平面方向随机排列。
例如，也可如图2所示，以分别用纵向线L1和L2分开的3种RGB点为一个单元，重复由透光部或不透光部22构成的随机图形。另外，也可如图3所示，以分别用纵向线L1和L2以及横向线L3分开的6种RGB点为一个单元，重复由透光部或不透光部32构成的随机图形。此外，也可如图4所示，以分别用纵向线L1～L5以及横向线L6分开的12种RGB点为一个单元，重复由透光部或不透光部42构成的随机图形。
其理由如下：通过制作具有以这样的RGB点的若干集合为基本单元的图形的掩模，由此获得的光反射膜的多个凸部或凹部能使光适当地散射，有效防止干涉条纹的产生。另外，由于以RGB点的若干集合为基本单元进行构图，因而能够减少图形的信息量，使制造光反射膜时，容易进行图形位置调整等。
另外，在本发明中，在以液晶显示器件等的RGB点为基准，在平面方向随机排列光反射膜用掩模图形的透光部或不透光部时，不一定需要同时使用具有像素的构件，例如滤色片，作为其结果，只要形成由RGB点单元规定的随机图形就可以。
(3)随机排列3
另外，最好是在构成掩模时，用至少一条假想线分割掩模，对该假想线镜面对称地排列由透光部或不透光部形成的图形。
借助于如此进行构成，能更有效地制造干涉条纹产生得少的附有光反射膜的基板。即，在制造附有光反射膜的基板时，利用多个凸部或凹部为镜面对称图形，能够使光适当地散射，因而能够更有效地防止干涉条纹的产生。
另外，由于利用镜面对称图形，所以能够借助于旋转移动形成同一图形。因此可以减少图形的信息量，使附有光反射膜的基板容易制造。
这里，参照图6(a)与(b)，对作为随机排列的镜面对称图形进一步具体地加以说明。另外，为能容易地理解镜面对称图形的关系，在图6(a)与(b)中，将借助由圆或多边形构成的透光部或不透光部形成的图形形成了字母图形(F)。
首先，如图6(a)所示，最好使由多个凸部或凹部构成的字母图形(F)对一条假想线(L1)呈镜面对称，即左右对称排列。这是由于借助于这样进行构成，利用一个图形，通过将其反转可以形成另一个图形。
另外，如图6(b)所示，最好使由多个凸部或凹部构成的字母图形(F)对两条假想线(L1与L2)，作为镜面对称，分别呈左右对称与上下对称排列。这是因为借助于这样进行构成，可以利用一个字母图形63，形成另外3个字母图形。即，通过以L1为轴将字母图形63进行反转，可以形成字母图形65。另外，通过以L2为轴将字母图形63进行反转，可以形成字母图形67。进而，通过以基点68为中心将字母图形63旋转180°，可以形成字母图形69。
而且，无论做成哪一种，在图形呈镜面对称的场合，不能够使以假想线作对称轴得到的图形之间在上下方向重合，所以作为在本发明中规定的随机图形的一种，能够产生适度的光散射。
[第2实施例]
第2实施例是在有多个点区的基板上形成光反射膜的附有光反射膜的基板，该附有光反射膜的基板的特征在于：包含具有凸部或凹部的光反射膜，由凸部或凹部形成的图形在由多个点定义的一个单元中不规则地排列。
即，如图7所示，作为一例，示出了使用负型感光树脂的情形，它是包含基体材料77和反射层72的附有光反射膜的基板70，该附有光反射膜的基板70的特征在于：使在该基体材料77上形成的多个凸部76的高度或者凹部的深度实质上相等，同时将该多个凸部76的平面形状制成独立的圆和多边形，或者某一方的平面形状，并且将多个凸部76在平面方向随机排列。
1.基体材料
作为基体材料的结构，如图7所示，从下方起依次包含第1基体材料76与第2基体材料79，该第1基体材料76由独立的多个凸部构成，第2基体材料79是连续层。
借助于这样进行构成，由于可以经作为连续层的第2基体材料79，将在其上形成的反射层72制成比较平缓的曲面，所以在应用于液晶显示器件等的场合，能够有效地防止干涉条纹的产生。下面，作为优选例，如图7所示，以基体材料77从下方起由第1基体材料76与第2基体材料79构成的情形为例，进行说明。
(1)第1基体材料
第1基体材料的独立的多个凸部的高度或凹部的深度以取0.5～5μm范围内的值为宜。
其理由如下：如果这些凸部的高度或凹部的深度为不到0.5μm的值，往往难以经第2基体材料设置具有适当曲面的反射层。另一方面，如果这些凸部的高度或凹部的深度超过5μm，则反射层的凹凸增大，因而往往或过度使光散射，或变得易于断线。
因此，第1基体材料的独立的多个凸部的高度或凹部的深度取0.8～4μm范围内的值较好，取1～3μm范围内的值更好。
(2)第2基体材料
第2基体材料的连续的凸部的高度或凹部的深度以取0.1～3μm范围内的值为宜。
其理由如下：如果这些凸部的高度或凹部的深度为不到0.1μm的值，往往难以在其上设置具有适当曲面的反射层。另一方面，如果这些凸部的高度或凹部的深度超过3μm，则在其上形成的反射层的凹凸增大，因而往往或过度使光散射，或变得易于断线。
因此，第2基体材料的独立的多个凸部的高度或凹部的深度取0.1～2μm范围内的值较好，取0.3～2μm范围内的值更好。
(3)多个凸部或凹部
①凸部或凹部的平面形状
另外，关于在基体材料上形成的多个凸部或凹部的平面形状，最好制成独立的圆和多边形，或者某一方的平面形状。
其理由如下：借助于制成独立的圆和多边形，或者某一方的平面形状，能够利用曝光工艺正确地控制多个凸部或凹部的平面形状和配置图形。另外，如果是这种平面形状的凸部或凹部，可以使光散射，能够有效地防止干涉条纹的产生。
另外，作为凸部平面形状的适当的例子，可以举出如图8(a)所示的偏椭圆形(液滴形状)与图8(b)所示的偏四边形(棱锥形)，或者作为凹部平面形状的适当的例子，可以举出如图18～图22所示的椭圆穹形与长圆穹形等。
其理由如下：借助于将多个凸部或凹部的平面形状制成这样的平面形状，与高度方向的斜面相结合，如图9所示，在保持规定的光散射性能的条件下提高了光的方向性。在图9中，单点点划线a表示在如图8(a)所示的偏椭圆形的场合视觉感受到的光量。实线b表示在无偏移的均等的圆形的场合视觉感受到的光量。因此，借助于制成这样的平面形状，当从一定方向上注视时，例如在角度为+15°的位置，进入眼中的光量较多，在此位置可以观测到明亮的图像。
②凸部或凹部的直径
另外，关于在基体材料上形成的多个凸部或凹部，该凸部或凹部的直径以取3～15μm范围内的值为宜。
其理由如下：若是具有这一范围内的直径的多个凸部或凹部，能够利用曝光工艺正确控制平面形状和配置图形，同时还能使光适度地散射，有效地防止干涉条纹的产生。另外，若是具有这一范围内的直径的多个凸部或凹部，在视觉上较少感受到不定形的污迹模样。
因此，多个凸部或凹部的直径取5～13μm范围内的值较好，取6～12μm范围内的值更好。
③凸部的高度与凹部的深度
另外，关于在基体材料上形成的多个凸部或凹部，其凸部的高度或凹部的深度以取0.1～10μm范围内的值为宜。
其理由如下：如果这些凸部的高度或凹部的深度为不到0.1μm的值，即使用曝光工艺，其凹凸也小，散射特性下降。另一方面，若这些凸部的高度或凹部的深度超过10μm，则反射层的凹凸增大，往往或过度使光散射，或变得易于断线。
因此，凸部的高度或凹部的深度取0.2～3μm范围内的值较好，取0.3～2μm范围内的值更好。
④随机排列1
另外，最好是使在基体材料表面形成的多个凸部或凹部，特别是构成第1基体材料的多个凸部的高度或者凹部的深度实质上相等，并且将该多个凸部或凹部在平面方向随机排列。
其理由如下：若多个凸部或凹部规则地排列，在应用于液晶显示器件等的场合，往往产生干涉条纹，显著降低图像的品质。
另外，使该多个凸部的高度或者凹部的深度实质上相等是由于：若反过来，如特开平6-27481号公报或特开平11-281972号公报所述那样，使多个凸部的高度或者凹部的深度不相同，则往往制造困难，不能稳定地抑制干涉条纹的产生。
另外，最好是使多个凸部或凹部的直径不同，例如设置2～10种凸部或凹部。
其理由是：借助于这样进行构成，可以得到由1种凸部或凹部得不到的复杂的光反射，能更为分散地使光散射。
因此，通过设置直径不同的多个凸部或凹部，能够更有效地防止干涉条纹的产生。
⑤随机排列2
最好是以使用光反射膜的液晶显示器件等的1个像素(RGB：3点)、2个像素(RGB：6点)或4个像素(RGB：12点)为一个单元，在平面方向随机排列多个凸部或凹部。
其理由如下：即使是以若干RGB点为单元的多个凸部，多个凸部也能使光适当地散射，因而能有效地防止干涉条纹的产生。另外，由于以RGB点为基本单元制作图形，所以能够减少图形的信息量，在制造光反射膜时，容易进行图形对位等。
另外，如上所述，利用曝光工艺，经图2～图4所示的光反射膜用掩模图形，能够容易地形成这样的随机排列。
⑥随机排列3
另外，最好是借助于假想线分割基体材料，对该假想线呈镜面对称地排列多个凸部或凹部。
借助于这样进行构成，由于可以利用镜面对称，使光适当地散射，所以能有效地防止干涉条纹的产生。另外，由于当利用镜面对称图形时，可以通过旋转移动使其一致，所以能够减少图形的信息量，使附有光反射膜的基板容易制造。
另外，当制作这样的镜面对称图形时，可以适当地使用第1实施例中说明过的具有镜面对称图形的掩模。
(4)孔径部
最好在附有光反射膜的基板上设置用于部分地使光通过的孔径部。借助于这样进行构成，可以在反射透射两用型液晶显示器件中使用。
即，如图10所示，借助于在光反射膜100的一部分上设置孔径部102，在可以借助于光反射膜100有效地反射来自外部的光的同时，对从内部发射的光，也可以通过孔径部102有效地发射到外部。
还有，对孔径部的大小没有特别的限制，最好根据附有光反射膜的基板的用途决定，例如，当设附有光反射膜的基板的总面积为100％时，以取5～80％范围内的值为宜，取10～70％范围内的值较好，取20～60％的范围内的值更好。
2.反射层
(1)厚度
附有光反射膜的基板的反射层厚度以取0.05～5μm范围内的值为宜。
其理由如下：当该反射层的厚度为不到0.05μm的值时，反射效应往往显著不足。另一方面，当该反射层的厚度超过5μm时，得到的附有光反射膜的基板的柔性往往降低，或者制造时间变得过长。
因此，该反射层的厚度取0.07～1μm范围内的值较好，取0.1～0.3μm范围内的值更好。
(2)种类
另外，对反射层的构成材料没有特别限制，以使用诸如铝(Al)、银(Ag)、铜(Cu)、金(Au)、铬(Cr)、钽(Ta)、钨(W)以及镍(Ni)等导电性、反光性优良的金属材料为宜。
另外，最好在上述反射层之上使用氧化铟锡(ITO)、氧化铟或氧化锡等透明导电材料。
但是，在当使用这些金属材料、透明导电材料时，在向液晶中有溶解的场合，最好是在由该金属材料等构成的反射膜的表面设置电绝缘膜，或采取将电绝缘物与金属材料等一起溅射之类的工艺。
(3)基底层
另外，在第2基板上形成反射层时，为了提高紧密附着力以及将反射层制成平缓的曲面，最好设置厚度为0.01～2μm的基底层。
还有，作为该基底层的构成材料，有硅烷偶联剂、钛偶联剂、铝偶联剂、铝-镁合金、铝-硅烷合金、铝-铜合金、铝-锰合金、铝-金合金等单独的一种或者两种以上的组合。
(4)镜面反射率
另外，反射层的镜面反射率以取5～50％范围内的值为宜。
其理由如下：当该镜面反射率为不足5％的值时，在应用于液晶显示器件等的场合，所得到的显示图像的明亮度往往显著下降。另一方面，该镜面反射率若超过50％，则散射特性下降，混杂背景的影像、外部光往往过度地被镜面反射。
因此，反射层的镜面反射率取10～40％范围内的值较好，取15～30％范围内的值更好。
最好将上述附有光反射膜的基板与其他结构构件，譬如，如图14与图15所示的滤色片150、遮光层151、外覆盖层157、多个透明电极154、取向膜等组合起来。
借助于如此进行组合，能够有效地提供干涉条纹产生得少的彩色液晶显示器件等的构件。例如，借助于使由例如RGB(红、蓝、绿)3色的色要素构成的条形排列、镶嵌形排列或三角形排列等的滤色片150组合起来，很容易实现彩色化，进而借助于与遮光层151组合，可以得到对比度优良的图像。另外，附有光反射膜的基板虽可以作反射电极使用，但通过设置其他电极，例如透明电极154，可以防止光吸收，并排除由多个凸部或凹部构成的反射膜的影响。
另外，最好也用由YMC(黄、深红、深蓝)构成的3色素组成滤色片以取代用由RGB(红、绿、蓝)构成的3色素组成的滤色片。这样，用YMC的3色素构成的滤色片，能得到光透射特性良好的，例如在应用于反射型液晶显示器件时更为明亮的显示。
[第3实施例]
第3实施例是在有多个点区的基体材料上形成光反射膜的方法，该光反射膜形成方法的特征在于：包括在基体材料上涂敷感光材料的工序、使感光材料曝光的工序、在曝光过的感光材料上形成凹凸的工序以及在凹凸上形成光反射膜的工序，凹凸图形以比点区数少的多个点作为一个单元，并且在该单元内呈不规则状的方式形成。
即，是一种附有光反射膜的基板的制造方法，该附有光反射膜的基板制造方法的特征在于，包括：使用将透光部或不透光部形成例如独立的圆和多边形，或者某一方的平面形状，并且在平面方向呈随机排列的掩模，通过对涂敷了的感光树脂进行的曝光工艺，形成具有高度实质上相等、在平面方向随机排列并且是独立的多个凸部或凹部的第1基体材料的工序；在该第1基体材料的表面涂敷感光树脂，通过曝光工艺形成具有连续的多个凸部或凹部的第2基体材料的工序；以及在该第2基体材料的表面形成反射层的工序。
下面适当地参照图11与图12，以在第1基体材料的表面形成凹部的情形为例，对附有光反射膜的基板的制造方法进行具体说明。另外，图11对附有光反射膜的基板的制造工序进行了图解，图12是其流程图。
1.形成第1基体材料的工序
最好是利用在第1实施例中对其在平面方向呈随机排列的多个凹部进行了说明的掩模，通过曝光工序，由正型感光树脂形成。
即，最好经过将透光部或不透光部制成独立的圆和多边形，或者某一方的平面形状，并且在平面方向呈随机排列的掩模，由感光树脂构成在平面方向呈随机排列的多个凹部。
(1)感光树脂
对构成第1基体材料的感光树脂的种类无特别的限制，例如可以列举出丙烯酸类树脂、环氧类树脂、硅酮类树脂、酚醛类树脂、氧杂环丁烷类树脂等单独一种或两种以上的组合。
另外，也可在感光树脂中添加二氧化硅微粒、氧化钛、氧化锆、氧化铝等无机填料，使之能够高精度地形成规定的圆或多边形。
还有，如上所述，作为构成第1基体材料的感光树脂，有被透过透光部的光照射的部位进行光分解后可以溶解于显影剂的正型和被透过透光部的光照射的部位固化不溶解于显影剂的负型，无论哪一种都能适当地使用。
(2)曝光工艺
如图11(a)与图12的工序P31所示，在形成有独立的多个凹部的第1基体材料时，最好利用旋转涂敷机等在支撑部114上均匀地涂敷构成第1基体材料的感光树脂，形成第1层110。这时，作为旋转涂敷机的条件，最好是以例如600～2000rpm的转速进行5～20秒涂敷。
接着，为提高分辨率，最好如图12的工序P32所示，对第1层110进行预烘烤。这时，最好用例如加热板在80～120℃、1～10分钟的加热条件下进行加热。
接着，如图11(b)和图12的工序P33所示，最好使用第1实施例的掩模119，在由均匀涂敷的感光树脂构成的第1层110上放置第1实施例的掩模119后，用i线等进行曝光。这时，i线等的曝光量最好取例如50～300mJ/cm2范围内的值。
接着，如图11(c)和图12的工序P34所示，最好借助于用显影液例如对透过掩模119的透光部117的部分进行正显影，形成由在平面方向呈随机排列的、独立的多个凹部构成的第1基体材料112。
另外，在形成第2基体材料113前，如图12的工序P35和图36所示，作为一个例子，最好以300mJ/cm2的曝光量对整个面进行后曝光后，借助于在220℃、50分钟的条件下加热，进行后烘烤，使第1基体材料112进一步加固。
2.形成第2基体材料的工序
形成第2基体材料的工序是通过树脂涂敷等在第1基体材料上，即在平面方向呈随机排列的多个凹部上，形成作为连续层的第2基体材料的工序。
(1)感光树脂
对构成第2基体材料的感光树脂的种类无特别的限制，例如可以列举出丙烯酸类树脂、环氧类树脂、硅酮类树脂、酚醛类树脂等。
另外，为提高第1基体材料与第2基体材料之间的紧密附着力，最好使构成第2基体材料的感光树脂和构成第1基体材料的感光树脂为同种树脂。
还有，为提高第1基体材料与第2基体材料之间的紧密附着力，最好对第1基体材料的表面进行硅烷偶联剂等处理。
(2)曝光工艺
在如图11(d)和图12的工序P37～P40所示，形成第2基体材料113时，最好在涂敷构成第2基体材料113的感光树脂后，在面板显示区周边的安装区，用i线等进行曝光，去掉树脂层。这时，与对第1基体材料112进行曝光的情形相同，i线等的曝光量最好取例如50～300mJ/cm2范围内的值。
另外，如图12的工序P41～P42所示，在形成第2基体材料113后，作为一个例子，最好以300mJ/cm2的曝光量对整个面进行后曝光后，借助于在220℃、50分钟的条件下加热，进行后烘烤，分别使第1基体材料112和第2基体材料113进一步加固。
3.形成反射层的工序
如图11(e)与图12的工序P43～P44所示，形成反射层的工序是在第2基体材料113的表面形成具有平滑曲面的反射层116，以进行适度的光散射的工序。
(1)反射层材料
作为反射层材料，如在第2实施例中说明过的那样，最好使用铝(Al)和银(Ag)等反光性优良的金属材料。
(2)形成方法
最好用溅射等方法形成反射层。另外，可以用光刻等方法去掉所希望部位以外的反射层材料。
另外，由于在第2基体材料的表面存在凹凸，所以往往不能以均匀的厚度层叠反射层材料，这时，最好采用旋转蒸发法或旋转溅射法。
另外还有，最好在形成反射层的同时，将该反射层对TFT(ThinFilm Transistor，薄膜晶体管)、MIM(Metal Insulator Metal，金属-绝缘体-金属)等的端子进行电连接。
[第4实施例]
第4实施例是采用2端型有源元件TFD(Thin Film Diode，薄膜二极管)作为有源元件的有源矩阵方式的液晶显示器件，该液晶显示器件的特征在于：包括夹在基板间的液晶元件和设置在与该液晶元件的观察侧相反一侧的基板上的附有光反射膜的基板，该附有光反射膜的基板由基体材料和反射层构成，使在该基体材料上形成的多个凸部的高度或凹部的深度实质上相等，同时将该多个凸部或凹部的平面形状制成独立的圆和多边形，或者某一方的平面形状，并且该多个凸部或凹部在平面方向呈随机排列。
下面参照图23～图25进行具体说明，以能够有选择地进行利用外部光的反射显示和利用照明装置的透射显示的半透射反射型液晶器件为例进行说明。
首先，在本实施例中，如图23所示，液晶器件230借助于密封材料(未图示)将第1基板231a和第2基板231b贴合在一起，再在被第1基板231a、第2基板231b和密封材料围成的间隙，即盒隙内封入液晶而形成。另外，最好在一块基板231b的表面，例如用COG(ChipOn Glass，在玻璃上键合芯片)方式直接安装液晶驱动用IC(未图示)。
而且，在图23中放大示出了构成液晶器件230的显示区的多个显示点之中的若干个的剖面结构，图24示出了1个显示点部分的剖面结构。
这里，如图23所示，在第2基板231b的被密封材料包围的内部区域，多个像素电极涉及行方向XX和列方向YY呈点矩阵状排列形成。另外，在第1基板231a的被密封材料包围的内部区域形成条形电极，该条形电极与第2基板231b一侧的多个像素电极相向配置。
另外，由第1基板231a上的条形电极和第2基板231b上的1个像素电极夹持液晶的部分形成1个显示点，多个该显示点，通过在被密封材料包围的内部区域内排列成点矩阵状而形成显示区。另外，液晶驱动用IC通过有选择地在多个显示点内的对置电极间施加扫描信号和数据信号，对每个显示点控制其液晶取向。即，借助于液晶的取向控制，调制通过该液晶的光，在显示区内显示文字、数字等图像。
另外，在图24中，第1基板231a具有由玻璃、塑料等形成的基体材料236a、在该基体材料236a的内侧表面形成的光反射膜231、在该光反射膜231上形成的滤色片242以及在该滤色片242上形成的透明条形电极243。在该条形电极243上形成了取向膜241a。对该取向膜241a进行作为取向处理的摩擦处理。条形电极243由例如ITO(Indium Tin Oxide，氧化铟锡)等透明导电材料形成。
另外，与第1基板231a相向的第2基板231b具有由玻璃、塑料等形成的基体材料236b、在该基体材料236b的内侧表面形成的具有开关元件功能的有源元件的TFD(Thin Film Diode，薄膜二极管)247以及与该TFD247连接的像素电极239。在TFD247与像素电极239上形成取向膜241b，对该取向膜241b进行作为取向处理的摩擦处理。像素电极239由例如ITO(Indium Tin Oxide，氧化铟锡)等透明导电材料形成。
另外，属于第1基板231a的滤色片242，最好在第2基板231b一侧的与像素电极239相向的位置具有R{红}、G(绿)B(蓝)或Y(黄)、M(深红)、C(深蓝)等各种颜色的中某种颜色的滤色元242a，在与像素电极239不相向的位置具有黑掩模242b。
另外，如图24所示，第1基板231a和第2基板231b之间的间隔，即盒隙，借助于在某一块基板的表面上散布的球状衬垫304维持其尺寸，在该盒隙内封入液晶。
这里，如图24所示，TFD247由第1金属层244、在该第1金属层244的表面形成的绝缘层246、在该绝缘层246上形成的第2金属层248构成。这样，TFD247由第1金属层/绝缘层/第2金属层构成的叠层结构，所谓的MIM(Metal Insulator Metal，金属-绝缘体-金属)结构构成。
另外，第1金属层244例如由钽单质、钽合金形成。在用钽合金作第1金属层244时，可以在主成分的钽中添加诸如钨、铬、钼、铼、钇、镧、镝等周期表中的VI～VIII族元素。
另外，第1金属层244与行布线249的第1层249a形成为一体。该行布线249将像素电极239夹在其间形成条形，起用于向像素电极239提供扫描信号的扫描线或向像素电极239提供数据信号的数据线的作用。
另外，绝缘层246由借助于例如用阳极氧化法对第1金属层244的表面进行氧化而形成的氧化钽(Ta2O5)构成。还有，在对第1金属层244进行阳极氧化时，行布线249的第1层249a的表面也同时被氧化，同样地形成了由氧化钽构成的第2层249b。
另外，第2金属层248由例如Cr等导电材料形成。像素电极239以其一部分与第2金属层248的前端重叠的方式，在基体材料236b的表面形成。还有，往往在形成第1金属层244和行布线的第1层249a前，用氧化钽等在基体材料236b的表面上形成基底层。这是由于通过第2金属层248淀积后的热处理使第1金属层244不从基底上剥落，以及杂质不向第1金属层244扩散。
而且，在第1基板231a上形成了的光反射膜231由例如铝等反光性金属形成，在属于第2基板231b的与各像素电极239对应的位置，即与各显示点对应的位置处形成光透过用孔径241。另外，最好在光反射膜231的液晶一侧表面，以例如如图8或图18～22所示的长圆形状形成穹形谷部或丘部80、84、180、190、200、210、220。即，该谷部或丘部80、84、180、190、200、210、220最好以行布线的延伸方向即X轴线方向为长轴，以与其成直角的Y轴线方向为短轴进行排列。另外，最好谷部或丘部80、84、180、190、200、210、220的长轴方向X被设定为对在基体材料的XX方向延伸的端边平行，短轴方向Y被设定为对在基体材料的YY方向延伸的端边平行。
由于第4实施例的液晶显示器件230以如上所述方式构成，所以该液晶显示器件230在进行反射型显示时，在图23中，从观察者一侧，即第2基板231b一侧，向液晶显示器件230的内部入射的外部光通过液晶到达光反射膜231，被该反射膜231反射后再次提供给液晶(参照图24中的箭头F1)。液晶按照施加在像素电极239与条形对置电极243之间的电压，即扫描信号与数据信号对每个显示点控制其取向，并据此对每个显示点调制向液晶提供的反射光，由此在观察者一侧显示文字、数字等图像。
另一方面，液晶显示器件230在进行透射型显示时，在第1基板231a的外侧配置的照明装置(未图示)，所谓的背光源，发射出光，该发射出的光通过偏振片233a、延迟片232a、基体材料236a、光反射膜231的孔径241、滤色片242、电极243以及取向膜241a后供给液晶(参照图24中的箭头F2)。其后，与反射型显示的场合一样进行显示。
而且，在第4实施例中，由于在附有光反射膜的基板的基体材料上设置了多个凸部或凹部，同时使该多个凸部或凹部的高度实质上不变，并在平面方向上随机排列，所以能够减少干涉条纹的产生。
另外，在第4实施例中，如上所述，在使多个凸部或凹部的沿X轴线的立体形状和沿Y轴线的立体形状互不相同的场合，在减少向一定视角方向反射的光量的基础上，能增加向其他特定的视角方向反射的光量。此结果使得在使用光反射膜进行的反射型显示时，观察者能够观察到在特定的视角方向呈非常明亮的显示的、在液晶显示器件的显示区内显示的像。
[第5实施例]
第5实施例是关于无源矩阵方式的反射型液晶显示器件的液晶显示器件，该液晶显示器件的特征在于：包括夹在基板间的液晶元件及设置在与该液晶元件的观察侧相反一侧的基板上的附有光反射膜的基板，该附有光反射膜的基板由基体材料与反射层构成，使在该基体材料上形成的多个凸部的高度或凹部的深度实质上相等，同时将该多个凸部或凹部的平面形状制成独立的圆和多边形，或者某一方的平面形状，并且该多个凸部或凹部在平面方向呈随机排列。
下面适当参照图14，对第5实施例的无源矩阵方式的反射型液晶显示器件进行具体说明。另外，在以下所示的各图中，为了将各层、各构件制成在图面上可看到程度的大小，往往对各层、各构件采用不同的比例尺。
1.结构
如图14所示，该液晶显示器件140是互相相向的第1基板141和第2基板142经密封材料158被贴合在一起，并在两基板间封入液晶144的结构。另外，在该液晶显示器件140的观察侧配置了有透光性的保护板145。该保护板145是用于保护该液晶显示器件140不受来自外部的冲击等的板状构件，例如可以设置在安装有液晶显示器件140的电子装置的框体内。另外，保护板145被设置成与液晶显示器件140的第1基板141(观察侧的基板)的基板面相接近。还有，在第5实施例中，假定将由塑料构成的保护板145与第1基板141的构成要素中的最靠近观察侧的偏振片146的表面相接的情形。在这样由塑料构成保护板的场合，具有易成型、可低成本制造的优点，但缺点是易在其表面上形成微细的凹凸。
另一方面，液晶显示器件140的第1基板141和第2基板142是玻璃、石英、塑料等具有透光性的板状构件。在其中的位于观察侧的第1基板141的内侧(液晶144侧)表面形成了在规定方向延伸的多个透明电极143。各透明电极143是由ITO(Indium Tin Oxide，氧化铟锡)等透明导电材料形成的条形电极。另外，形成有这些透明电极143的第1基板141的表面被取向膜(图示从略)覆盖。该取向膜为聚酰亚胺等有机薄膜，并进行了用于规定未施加电压时的液晶144的取向方向的摩擦处理。
2.光散射膜
在第1基板141的外侧(与液晶144相反的一侧)设置了使入射光在规定方向偏振的偏振片146、夹在第1基板141与偏振片146之间的散射层147。散射层147是用于散射透过该散射层147的光的层，它包括将偏振片146贴在第1基板141上的粘结剂148a与散布在该粘结剂148a中的许多微粒148b。作为该散射层147，例如可以采用将由二氧化硅构成的微粒148b分散在丙烯酸类或环氧类等粘结剂148a中的材料。而且，因粘结剂148a的折射率与微粒148b的折射率不同，入射至该散射层147的光在粘结剂148a与微粒148b的界面处折射。其结果是，能够使向散射层147入射的光以适度散射的状态射出。
另外，对第5实施例的散射层147，选择散布在粘结剂148a中的微粒148b的数量和两者的折射率等，以使其霾值H为10～60％范围内的值。这里，所谓的霾值H是表示向某构件入射的光在透过该构件时散射的程度的数值，它由下式定义。
霾值H＝(Td/Tt)×100(％)
这里，Tt是全光线透射率(％)，Td是散射光透射率(％)。全光线透射率Tt是表示向作为霾值H的测量对象的样品入射的光量中的透过该样品的光量的比例的数值。另一方面，散射光透射率Td是表示在从规定方向使光照射样品时，透过该样品的光量中的向上述规定方向以外的方向射出的光量，即散射光量的比例的数值。亦即，如果设从样品中出射的光量中的在与入射光平行的方向射出的光量的比例为平行光透射率Tp(％)，则上述散射光透射率Td由上述全光线透射率Tt与平行光透射率Tp之差(Td＝Tt-Tp)表示。如以上阐明的那样，可以说霾值越高，散射程度越大，即散射光量在透射光量中所占的比例越大，相反，霾值越低，散射程度越小，即散射光量在透射光量中所占的比例越小。
另外，关于上述霾值H，在JIS(Japanese IndustrialStandards)K6714-1977中进行了详述。
3.反射层(光反射膜)
另一方面，在第2基板142的内侧(液晶144侧)表面形成了反射层149。该反射层149是用于反射从观察侧对液晶显示器件140入射的光的层，由例如铝、银这样的具有光反射性的金属形成。
这里，如图14所示，第2基板142的内侧表面中的被反射层149覆盖的区域是形成有许多细小的突起与洼坑的粗糙面。更具体地说，是包含基体材料与反射层的附有光反射膜的基板，其反射层是使在该基体材料的表面独立形成的多个凸部的高度或者凹部的深度实质上相等，同时将该多个凸部或凹部的平面形状制成独立的圆和多边形，或者某一方的平面形状，并且将多个凸部或凹部在平面方向随机排列的反射层149。
因此，反射层149的表面是反映第2基板142表面的突起与洼坑的粗糙面。即，反射层149具有用于使该表面的反射光适度散射，实现宽视角的散射结构。更具体地说，反射层149在由多个凸部或凹部构成的基体材料上形成，并且是使在基体材料上形成的多个凸部的高度或者凹部的深度实质上相等，同时将该多个凸部或凹部的平面形状制成独立的圆和多边形，或者某一方的平面形状，以及该多个凸部或凹部在平面方向随机排列的结构。
4.其他结构
另外，在覆盖第2基板142的反射层149的面上形成了滤色片150、遮光层151、用于使由滤色片150与遮光层151形成的凹凸平坦化的外覆盖层157、多个透明电极154以及取向膜(图示从略)。
各透明电极154是在与第1基板141上的透明电极143的延伸方向相交叉的方向(图14中纸面上的左右方向)延伸的条形电极，它们与透明电极143一样，由ITO等透明导电材料形成。
在这样的结构下，液晶144的取向方向随着在透明电极143与透明电极154之间施加的电压而发生变化。即，透明电极143与透明电极154相交叉的区域具有作为像素(子像素)的功能。滤色片150是对应于这些像素的每一个而设置的树脂层，用染料或颜料着色成R、G、B的某一种。
另外，遮光层151是用于对各像素的间隙部分进行遮光的网格状层，由例如其中散布有碳黑的黑色树脂材料等形成。
5.工作
用以上说明的结构可以实现反射型显示。即，太阳光、室内照明光等外光透过保护板145入射至液晶显示器件140，在反射层149的表面反射。
该反射光透过液晶144和第1基板141，在散射层147中被适度散射后，透过偏振片146向液晶显示器件140的观察侧射出。然后，从液晶显示器件140射出的光透过保护板145被观察者观察到。
这里，如上所述，当用塑料作保护板145的材料时，难以将其表面制成完全的平面，容易形成多个微细的凹凸。当将这样形成微细凹凸的保护板145以接近液晶显示器件140的第1基板141的方式设置时，从该液晶显示器件140射出的光在透过保护板145时发生干涉，其结果是与该凹凸对应的干涉条纹重叠在显示图像上，招致显示品质下降。
但是，本发明者的实验结果得出如下见解：如上述实施例所示，在利用散射层147使通过液晶144到达保护板145的光散射时，能够实现高品质的显示。
另外，在图14所示结构中，从抑制干涉条纹产生的观点出发，希望散射层147的霾值H高，即散射程度高。但是，该霾值H取过高值(例如为70％以上的值)时，从液晶显示器件140到达保护板145的光散射过度，显示图像的对比度降低，即，会产生显示图像模糊这样的新问题。另一方面，当散射层147的霾值H取过低的值时，例如取10％以下的值时，容易出现由凹凸引起的斑痕。
本发明者的实验结果得出如下见解：由凸部或凹部形成的图形在由1点或2点定义的一个单元内不规则排列时，以将散射层147的霾值H设定为40％～60％范围内的值为宜，这既能避免显示图像的对比度显著降低，又能有效地抑制由保护板145表面的凹凸引起的显示品质降低，确保良好的显示品质。
另外，由凸部或凹部形成的图形在由3个以上的点定义的一个单元内不规则排列时，通过将散射层147的霾值H设定为10％～40％范围内的值，可以将对比度设定得较高。
还有，如第5实施例所示，当使用在粘结剂148a中散布微粒148b的散射层147时，通过调节例如微粒148b的添加量(数)，可以任意选择霾值H。
即，当增加散布在粘结剂148a中的微粒148b的添加量时，由于使向该散射层147入射的光更多地散射，因而能够使该散射层147的霾值H增高，相反，当减少微粒的添加量时，可以降低散射层147的霾值H。
另外，根据第5实施例，具有容易在宽的范围内选择从液晶显示器件140射出的光的散射程度的优点。即，在没有上述散射层147的液晶显示器件中，为调节从液晶显示器件140射出的光的散射程度，必须调节反射层149的表面形状，例如凸部的高度或凹部的深度，或者毗邻的凸部(或凹部)之间的距离等。
但是，要这样准确地将反射层149的表面制成所希望的形状，考虑在第2基板142上形成所希望的凹凸的制造技术上的情况未必是容易的。还有，仅依靠调节反射层149表面的形状，则对从液晶显示器件140射出的光的漫射程度的可调节幅度被限定在极为狭窄的范围内。
与此相对照，按照本实施例，具有如下优点：即使不大幅度地改变反射层149的表面形状，借助于改变散射层147的霾值H，例如借助于适当调节散布在粘结剂148a中的微粒148b的添加量等，也能够容易地在宽的范围内调节从液晶显示器件140射出的光的漫射程度。
[第6实施例]
第6实施例是无源矩阵方式的半透射反射型液晶显示器件，它是包括夹在基板间的液晶元件以及设置在与该液晶元件的观察侧相反一侧的基板上的附有光反射膜的基板的液晶显示器件，该附有光反射膜的基板由基体材料和反射层构成，并且使在该基体材料上形成的多个凸部的高度或凹部的深度实质上相等，同时将该多个凸部或凹部的平面形状制成独立的圆和多边形，或者某一方的平面形状，并且该多个凸部或凹部在平面方向随机排列。
这里，参照图15，对第6实施例的无源矩阵方式的半透射反射型液晶显示器件进行具体说明。
1.基本结构
如图15所示，在第6实施例中，在液晶显示器件160的背面侧(与观察侧相反的一侧)设置了背光源单元153。该背光源单元153包括具有作光源的功能的多个LED15(在图15中只图示出一个LED15)、将入射至侧端面的来自LED15的光引导至液晶显示器件160的第2基板142的整个面上的导光板152、使由该导光板152引导的光对液晶显示器件160均匀地漫射的漫射板155以及将由导光板152射至与液晶显示器件160相反一侧的光反射至液晶显示器件160一侧的反射板156。
这里，LED15并非总是点亮，当在外光几乎不存在的环境中使用时，根据用户的指令或传感器的测量信号而发光。
此外，在第6实施例的液晶显示器件160中，在反射层149中的与各像素的中央部附近对应的区域形成了孔径部159。另外，在第2基板142的外侧(与液晶144相反的一侧)粘贴了另外的偏振片，不过在图15中省略了该偏振片的图示。
2.工作
按照这样构成的液晶显示器件160，除能实现在上述第5实施例中示出的反射型显示外，还能实现透射型显示。即，从背光源单元153向液晶显示器件160照射的光，通过了反射层149的孔径部159。该光透过液晶144和第1基板141，在散射层147中散射后透过偏振片146射向液晶显示器件160的观察侧。然后，借助于该出射光透过保护板145射出至观察侧，实现透射型显示。
因此，在本实施例中，与上述第5实施例一样，在将表面上形成有微细凹凸的保护板145以接近液晶显示器件160的方式进行设置的场合，也能抑制由该凹凸引起的显示品质下降。
[第7实施例]
第7实施例是液晶显示器件的一些变例，该液晶显示器件是包括夹在基板间的液晶元件以及设置在与该液晶元件的观察侧相反一侧的基板上的附有光反射膜的基板的液晶显示器件，该附有光反射膜的基板由基体材料和反射层构成，并且使在该基体材料上形成的多个凸部的高度或凹部的深度实质上相等，同时将该多个凸部或凹部的平面形状制成独立的圆和多边形，或者某一方的平面形状，并且该多个凸部或凹部在平面方向随机排列。
(1)变例1
在上述各实施例中，形成了在第1基板141与偏振片146之间设置散射层147的结构，但散射层147的位置不限于此。例如，在将用于补偿干涉色的延迟片设置在偏振片146与第1基板141之间的场合，可以将散射层147插入该延迟片与第1基板141之间，或者也可以将散射层147插入延迟片与偏振片146之间。重要的是，只要是散射层147相对于液晶144设置在保护板145一侧的结构都可以。
另外，在上述各实施例中，使用了将许多微粒148b散布在粘结剂148a中的结构的散射层147，但散射层147的结构不限于此，只要是能对入射光进行散射的层，什么样的结构都可以。不过，当使用含粘结剂148a的散射层147时，由于可以用该粘结剂148a粘结夹往该散射层147的构件，例如上述各实施例中的第1基板141和偏振片146，所以与使用不含粘结剂148a的散射层147的场合相比，具有可以得到制造成本低与制造工序简化的优点。
(2)变例2
在上述第5实施例中，例示了反射型液晶显示器件，在第6实施例中，例示了半透射反射型液晶显示器件，但对于没有反射层149、只进行透射型显示的透射型液晶显示器件也能应用本发明。即，在透射型液晶显示器件中，可以制成去掉图15所示的半透射反射型液晶显示器件中的反射层149的结构。
另外，在上述第4实施例中，制成了借助于具有孔径部159的反射层149实现反射型显示与透射型显示这两者的结构，但是不言而喻，也可将本发明应用于采用透过照射光中的一部分而反射其另一部分的所谓半反射镜的半透射反射型液晶显示器件，以代替该反射层149。
(3)变例3
在上述各实施例中例示了用塑料的板状构件作为保护板145的情形。由于在该保护板145的表面上易形成凹凸，所以借助于应用本发明，可以得到特别显著的效果。但是，保护板145的材料不限于此，此外也可以用各种材料的板状构件作为保护板145。
(4)变例4
在上述各实施例中例示了在第2基板142上形成滤色片150、遮光层151的情形，但是不言而喻，也可将本发明应用于在第1基板141上形成这些要素的结构的液晶显示器件，或者不具有滤色片150或遮光层151的液晶显示器件。这样，只要是靠近观察侧设置保护板145的结构的液晶显示器件160，不管其他要素的形态如何，都能应用本发明。
(5)变例5
在上述实施例4中例示了采用2端型有源元件TFD作为有源元件的有源矩阵方式的液晶显示器件，但也可如图13所示，是采用3端型有源元件TFT作有源元件的有源矩阵方式的液晶显示器件。这时，最好如图13所示，在遮光区设置TFT。
[第8实施例]
第8实施例是电子装置，该电子装置是包含具有附有光反射膜的基板的液晶显示器件的电子装置，其特征在于：附有光反射膜的基板包含基体材料和反射层，并且使在该基体材料上形成的多个凸部的高度或凹部的深度实质上相等，同时将该多个凸部或凹部的平面形状制成独立的圆和多边形，或者某一方的平面形状，并且将该多个凸部或凹部在平面方向随机排列。
(1)便携式计算机
首先，对将本发明的液晶显示器件应用于便携式个人计算机(所谓笔记本式个人计算机)的显示部的例子进行说明。图16是示出该个人计算机的结构的斜视图。如该图所示，个人计算机161具有包括键盘162的主机部163以及使用本发明的液晶显示器件(图示从略)的显示部164。显示部164是在对应于窗部165设置了塑料保护板145的框体166中装入本发明的液晶显示器件160的结构。更详细地说，液晶显示器件160以其观察侧的基板面接近保护板145的方式被装入框体166中。另外，在该个人计算机161中，为在外光不充分存在的情况下确保显示的可视性，最好如上述第6实施例所示，使用在背面一侧备有背光源单元153的半透射反射型液晶显示器件。
(2)移动电话机
下面对将本发明的液晶显示器件应用于移动电话机的显示部的例子进行说明。图17是示出该移动电话机的结构的斜视图。如该图所示，移动电话机170除有多个操作按键171外，还备有听筒172、送话口173以及使用本发明的液晶显示器件(未图示)的显示部174。在该移动电话机170中形成了在对应于窗部174b设置了塑料保护板175的框体176中装入本发明的液晶显示器件的结构。另外，在移动电话机170中，也与上述个人计算机一样，液晶显示器件以其观察侧的基板面接近保护板175的方式被装入框体176中。
再有，作为可以应用本发明的液晶显示器件的电子装置，除图16所示的个人计算机及图17所示的移动电话机外，还可举出液晶电视、取景器型·监测器直视型磁带录像机、车辆导行装置、寻呼机、电子记事本、计算器、文字处理器、工作站、电视电话、POS终端、备有触摸屏的装置等。
如上所述，按照本发明的液晶显示器件，在以与该液晶显示器件的基板面相接近的方式设置表面上有微细凹凸的保护板的场合，也能够抑制由该凹凸引起的显示品质下降。因此，借助于将保护板设置得接近于液晶显示器件，可以不降低显示品质而求得电子装置的薄型化和小型化。
[其他结构]
按照设置了本发明的附有光反射膜的基板的液晶显示器件，以及具有附有光反射膜的基板的电子装置，在以接近方式设置表面上有微细凹凸的保护板的场合，也能够抑制由该凹凸引起的显示品质下降。
这样的效果虽然在上述的液晶显示器件、电子装置的结构中得到，但借助于如下的结构也能达到。
(1)一种液晶显示器件，它是在互相相向的一对基板间具有液晶，与一对基板中的观察侧基板的基板面相接近地设置了保护板的液晶显示器件，其特征在于：具有为散射透过的光而设置的、相对于液晶设置在保护板侧的散射层，以及相对于上述液晶设置在与观察侧的相反一侧的、在表面上形成了多个凹凸的反射层。
(2)如(1)所述的液晶显示器件，其特征在于：散射层的霾值在10％以上，60％以下。
(3)如(1)或(2)所述的液晶显示器件，其特征在于：反射层具有使光透过的孔径部。
(4)一种液晶显示器件，它是在互相相向的一对基板间具有液晶，与一对基板中的观察侧基板的基板面相接近地设置了保护板的液晶显示器件，其特征在于：具有作为相对于液晶在保护板侧设置的、散射透过的光的散射层的、霾值在10％以上、60％以下的散射层。
(5)如(1)～(4)的任何一项所述的液晶显示器件，其特征在于：在设置于观察侧基板上的偏振片与该观察侧基板之间设置了散射层。
(6)如(1)～(5)的任何一项所述的液晶显示器件，其特征在于：散射层是在粘结剂中散布了多个微粒的层。
(7)一种电子装置，其特征在于，包括(1)～(6)的任何一项所述的液晶显示器件，以及靠近液晶显示器件的观察侧基板的基板面的保护板。
[发明的效果]
如上所述，按照本发明的掩模以及由它得到的附有光反射膜的基板，借助于透光部或不透光部，或者多个凸部或凹部分别具有特定的随机图形，可以在设计方面以及制造本身容易地在有多个凸部或凹部的基体材料上形成平坦部少的、有平滑斜面的反射层，在用于液晶显示器件等的场合，能够有效地抑制干涉条纹的产生。
另外，按照本发明的掩模，由于重复使用信息量少的图形，小型液晶显示器件等自不必说，即使对大型液晶显示器件等，也能够容易而迅速地设计可得到干涉条纹产生得少的附有光反射膜的基板的掩模。
另外，按照设置了本发明的附有光反射膜的基板的电光器件和电子装置，除干涉条纹的产生减少外，在设计与制造方面也容易。还有，按照设置了本发明的附有光反射膜的基板的电光器件和电子装置，借助于与光散射膜组合，对在将附有光反射膜的基板的多个凸部或凹部制成随机图形的场合所产生的不定形状的污迹模样，也能有效地进行抑制。
进而，按照设置了本发明的附有光反射膜的基板的电光器件以及具有附有光反射膜的基板电子装置，在接近表面上有微细凹凸的保护板进行设置的场合，也能抑制由该凹凸引起的显示品质下降。
另外，本发明的附有光反射膜的基板、电光器件以及电子装置，除实施例中说明的液晶显示器件等外，也能够适当地应用于利用电泳的显示器件等。

Claims (31)

1.一种掩模，用于在有多个点区的基板上形成图形，其特征在于，包括：
可透过入射光的透光部；以及
实质上不透光的不透光部，
由上述透光部或不透光部形成的图形以比上述点区的数目少的点数为一个单元而形成，同时在该一个单元内不规则地排列，并且
含有多个上述单元。
2.如权利要求1所述的掩模，其特征在于：
上述透光部或不透光部的直径取3～15μm范围内的值。
3.如权利要求1所述的掩模，其特征在于：
具有各直径不相同的多个上述透光部，或者各直径不相同的不透光部。
4.一种掩模，用于在有多个点区的基板上形成图形，其特征在于，包括：
可透过入射光的透光部；以及
实质上不透光的不透光部，
由上述透光部或不透光部形成的图形以比上述点区的数目少的点数为一个单元而形成，同时在该一个单元内包含对称的部位。
5.一种附有光反射膜的基板，在有多个点区的基板上形成光反射膜，其特征在于：
包含具有凸部或凹部的光反射膜，
由上述凸部或凹部形成的图形在由多个点所定义的一个单元内不规则地排列。
6.如权利要求5所述的附有光反射膜的基板，其特征在于：
上述凸部的高度或者凹部的深度在面内实质上相等。
7.如权利要求5所述的附有光反射膜的基板，其特征在于：
上述多个凸部或凹部的直径取3～15μm范围内的值。
8.如权利要求5所述的附有光反射膜的基板，其特征在于：
上述多个凸部或凹部的间隔取3.5～30μm范围内的值。
9.如权利要求5所述的附有光反射膜的基板，其特征在于：
上述多个凸部的高度或者凹部的深度取0.1～10μm范围内的值。
10.如权利要求5所述的附有光反射膜的基板，其特征在于：
由上述多个点定义的单元比上述点区的数目少，并且包含多个上述单元。
11.如权利要求5所述的附有光反射膜的基板，其特征在于：
具有各直径不相同的多个上述凸部，或者各直径不相同的多个上述凹部。
12.一种附有光反射膜的基板，在有多个点区的基板上形成光反射膜，其特征在于：
包含具有凸部或凹部的光反射膜，
由上述凸部或凹部形成的图形以多个点为一个单元而形成，并且在该单元内包含对称的部位。
13.一种电光器件，它具有多个点区，其特征在于，包含：
形成了具有凸部或凹部的光反射膜的基板；以及
被上述基板支撑的电光层，
由上述凸部或凹部形成的图形在由多个点所定义的一个单元内不规则地排列。
14.如权利要求13所述的电光器件，其特征在于：
上述凸部的高度或者凹部的深度在面内实质上相等。
15.如权利要求13所述的电光器件，其特征在于：
由上述多个点所定义的单元比上述点区的数目少，并且包含多个上述单元。
16.如权利要求13所述的电光器件，其特征在于：
由对应于多个点设置的、颜色各不相同的多个着色层及与它们对应的多个点形成1个像素，在上述一个单元内至少有1个像素对应而构成。
17.一种电光器件，它具有多个点区，其特征在于，包括：
形成了具有凸部或凹部的光反射膜的基板；以及
被上述基板支撑的电光层，
由上述凸部或凹部形成的图形以多个点为一个单元而形成，并且在该单元内包含对称的部位。
18.如权利要求17所述的电光器件，其特征在于：
由对应于多个点设置的、颜色各不相同的多个着色层及与它们对应的多个点形成1个像素，在上述一个单元内至少有1个像素对应而构成。
19.一种电光器件，其特征在于，包括：
电光层：
在上述电光层的一侧配置的光散射膜：以及
在上述电光层的另一侧配置的光反射膜，
在上述光反射膜上形成了不规则排列的凸部或凹部。
20.如权利要求19所述的电光器件，其特征在于：
上述光散射膜的霾值在10％以上、60％以下。
21.如权利要求19所述的电光器件，其特征在于：
具有多个点区，
由上述凸部或凹部形成的图形，在由1个点或2个点所定义的一个单元内不规则地排列，
对上述光散射膜的霾值取40-60％范围内的值。
22.如权利要求21所述的电光器件，其特征在于：
由多个点区及对应于它们设置的、颜色各不相同的多个着色层形成1个像素，在上述一个单元内至少有上述1个像素对应而构成。
23.如权利要求19所述的电光器件，其特征在于：
具有多个点区，
由上述凸部或凹部形成的图形在含有3个点的一个单元内不规则地排列，
上述光散射膜的霾值在10％以上、40％以下。
24.如权利要求19所述的上述电光器件，其特征在于：
具有在上述一侧配置的保护板。
25.一种电子装置，它是包含电光器件作为显示部的电子装置，其特征在于：
作为上述电光器件采用了权利要求13所述的电光器件。
26.一种电子装置，它是包含电光器件作为显示部的电子装置，其特征在于：
作为上述电光器件采用了权利要求17所述的电光器件。
27.一种电子装置，它是包含电光器件作为显示部的电子装置，其特征在于：
作为上述电光器件采用了权利要求19所述的电光器件。
28.一种形成光反射膜的方法，它是在有多个点区的基体材料上形成光反射膜的方法，其特征在于，包括：
在基体材料上涂敷感光材料的工序；
使上述感光材料曝光的工序；
在进行过上述曝光的感光材料上形成凹凸的工序；以及
在上述凹凸上形成光反射膜的工序，
上述凹凸图形以将比上述点区的数目少的多个点作为一个单元，并且在该单元内以呈不规则的方式被形成。
29.一种光反射膜的形成方法，它是在有多个点区的基体材料上形成光反射膜的方法，其特征在于，包括：
在基体材料上涂敷感光材料的工序；
使上述感光材料曝光的工序；
在进行过上述曝光的感光材料上形成凹凸的工序；以及
在上述凹凸上形成光反射膜的工序，
上述凹凸图形以将多个点作为一个单元，并且在该单元内包含对称的部位的方式被形成。
30.一种电光器件的制造方法，其特征在于：
作为工序，包含权利要求28所述的光反射膜的形成方法。
31.一种电光器件的制造方法。其特征在于：
作为工序，包含权利要求29所述的光反射膜的形成方法。
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101443681B (zh) * 2006-05-12 2012-01-11 罗利克有限公司 光学有效的表面起伏微观结构及其制造方法
CN102692664A (zh) * 2011-03-25 2012-09-26 富士胶片株式会社 光反射性膜的制造方法
CN103034046A (zh) * 2012-12-12 2013-04-10 京东方科技集团股份有限公司 掩模板、曝光系统和曝光方法
WO2017177725A1 (zh) * 2016-04-11 2017-10-19 京东方科技集团股份有限公司 金属层制作方法、功能基板及其制作方法、以及显示装置

Families Citing this family (19)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3823961B2 (ja) 2002-10-11 2006-09-20 セイコーエプソン株式会社 反射基板の製造方法及び電気光学装置の製造方法
KR100589801B1 (ko) 2002-12-12 2006-06-14 세이코 엡슨 가부시키가이샤 전기 광학 장치용 기판, 전기 광학 장치용 기판의 제조방법, 전기 광학 장치, 전기 광학 장치의 제조 방법, 전자기기 및 마스크
JP3972825B2 (ja) * 2003-01-28 2007-09-05 セイコーエプソン株式会社 アクティブマトリクス型表示装置の製造方法
KR20050000129A (ko) * 2003-06-23 2005-01-03 삼성전자주식회사 액정 표시 장치
JP4579580B2 (ja) * 2003-09-30 2010-11-10 キヤノン株式会社 表示装置
JP2005157272A (ja) 2003-11-04 2005-06-16 Seiko Epson Corp 電気光学装置用基板の製造方法、電気光学装置の製造方法、電気光学装置用基板、電気光学装置および電子機器
JP4608882B2 (ja) * 2003-12-22 2011-01-12 セイコーエプソン株式会社 露光用マスク及びその製造方法、並びに液晶装置の製造方法
JP2006133625A (ja) * 2004-11-09 2006-05-25 Nec Lcd Technologies Ltd 反射板及び該反射板を備える液晶表示装置
JP2007192969A (ja) 2006-01-18 2007-08-02 Epson Imaging Devices Corp 電気光学装置、電気光学装置の製造方法、及び電子機器
JP4179344B2 (ja) 2006-06-06 2008-11-12 エプソンイメージングデバイス株式会社 液晶装置及び電子機器
KR100923295B1 (ko) * 2006-10-20 2009-10-23 삼성전자주식회사 반사영역을 가지는 액정표시장치
KR100878762B1 (ko) * 2006-11-27 2009-01-14 삼성전자주식회사 반사영역을 가지는 액정표시장치
JP2008275761A (ja) * 2007-04-26 2008-11-13 Hitachi Displays Ltd 液晶表示装置とその製造方法
EP2048780B1 (en) * 2007-10-08 2012-02-29 Whirlpool Corporation Capacitive touch switch and domestic appliance provided with such switch
KR20110001600A (ko) * 2009-06-30 2011-01-06 삼성전자주식회사 표시기판, 이의 제조 방법 및 이를 갖는 액정표시장치
KR102013316B1 (ko) * 2012-11-20 2019-08-23 삼성디스플레이 주식회사 유기 발광 표시 장치 및 이의 제조 방법
US9939682B2 (en) 2013-02-15 2018-04-10 E-Vision, Llc Liquid crystal alignment layers and method of fabrication
TWI704411B (zh) 2017-04-25 2020-09-11 友達光電股份有限公司 光罩、對應之間隔物結構及應用其之液晶面板
CN109712997B (zh) * 2019-02-21 2021-02-26 京东方科技集团股份有限公司 阵列基板及其制造方法

Family Cites Families (35)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2698218B2 (ja) * 1991-01-18 1998-01-19 シャープ株式会社 反射型液晶表示装置及びその製造方法
EP0536898B1 (en) 1991-09-10 1997-07-02 Sharp Kabushiki Kaisha Reflection type liquid crystal display device and method of manufacturing the same
JP3066192B2 (ja) * 1992-07-10 2000-07-17 シャープ株式会社 反射型アクティブマトリクス基板の製造方法
TW540747U (en) * 1992-02-19 2003-07-01 Sharp Kk A reflective substrate and a liquid crystal display device using the same
JP2793076B2 (ja) * 1992-05-20 1998-09-03 シャープ株式会社 反射型液晶表示装置およびその製造方法
JPH0772815A (ja) 1992-12-15 1995-03-17 Koito Mfg Co Ltd 液晶表示装置
JP2948736B2 (ja) 1994-09-28 1999-09-13 シャープ株式会社 反射型液晶表示装置およびその製造方法
JP2768313B2 (ja) 1995-06-13 1998-06-25 日本電気株式会社 反射型液晶表示装置
JP3213242B2 (ja) * 1996-10-23 2001-10-02 シャープ株式会社 反射板、反射型液晶表示装置およびその製造方法
JP3043638B2 (ja) * 1996-11-05 2000-05-22 日本電気株式会社 反射型液晶表示装置およびその製造方法
JP3284187B2 (ja) * 1998-01-29 2002-05-20 シャープ株式会社 液晶表示装置およびその製造方法
JPH11133399A (ja) 1997-10-27 1999-05-21 Hitachi Ltd 反射型液晶表示装置とその製造方法
US6295109B1 (en) * 1997-12-26 2001-09-25 Sharp Kabushiki Kaisha LCD with plurality of pixels having reflective and transmissive regions
JPH11237623A (ja) 1998-02-20 1999-08-31 Seiko Epson Corp 液晶装置及び電子機器
JP3407641B2 (ja) 1998-02-24 2003-05-19 セイコーエプソン株式会社 液晶装置及び電子機器
JP3204642B2 (ja) 1998-05-29 2001-09-04 松下電器産業株式会社 凹凸散乱反射電極の凹部または凸部の配置位置決定方法
JP4223094B2 (ja) * 1998-06-12 2009-02-12 株式会社半導体エネルギー研究所 電気光学表示装置
JP2000047200A (ja) * 1998-07-31 2000-02-18 Hitachi Ltd 拡散反射板とそれを用いた液晶表示装置およびその製法
JP2000075132A (ja) 1998-08-27 2000-03-14 Nitto Denko Corp 散乱型楕円偏光板及び液晶表示装置
JP2000180833A (ja) 1998-12-14 2000-06-30 Sumitomo Chem Co Ltd 液晶表示装置
JP4120731B2 (ja) 1998-12-25 2008-07-16 ブリヂストンスポーツ株式会社 ゴルフボール
JP3471246B2 (ja) * 1999-03-29 2003-12-02 シャープ株式会社 液晶表示装置の製造方法
JP3858519B2 (ja) 1999-06-21 2006-12-13 株式会社日立製作所 反射型液晶表示装置
KR20010113660A (ko) * 1999-11-24 2001-12-28 마치오 나카지마 액정 표시 장치
JP2001154371A (ja) 1999-11-30 2001-06-08 Nikon Corp 回路デバイスや表示デバイスの製造方法、及び大型ディスプレー装置
JP2001194662A (ja) 2000-01-14 2001-07-19 Nec Corp 反射型液晶表示装置及びその製造方法
JP3626652B2 (ja) 2000-01-21 2005-03-09 日本電気株式会社 反射型液晶表示装置及びその製造方法
JP4761628B2 (ja) 2000-02-02 2011-08-31 三洋電機株式会社 反射型液晶表示装置
JP2002014211A (ja) 2000-04-24 2002-01-18 Matsushita Electric Ind Co Ltd 反射板、反射型液晶表示装置及びその製造方法、光学部材、表示装置、照明装置、表示板、並びに波動部材
JP5007777B2 (ja) * 2000-05-21 2012-08-22 Ｔｄｋ株式会社 透明導電積層体
JP2002072184A (ja) 2000-08-24 2002-03-12 Sony Corp 液晶表示装置
JP3365409B2 (ja) * 2000-11-08 2003-01-14 日本電気株式会社 反射板並びに反射型液晶表示装置及びその製造方法
JP3892715B2 (ja) 2000-12-26 2007-03-14 株式会社東芝 液晶表示装置
JP3990141B2 (ja) 2001-11-08 2007-10-10 Ｎｅｃ液晶テクノロジー株式会社 液晶表示装置
JP2003302742A (ja) 2002-04-10 2003-10-24 Seiko Epson Corp マスク、光反射膜付き基板、光反射膜の製造方法、および液晶表示装置、並びに電子機器

Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101443681B (zh) * 2006-05-12 2012-01-11 罗利克有限公司 光学有效的表面起伏微观结构及其制造方法
CN102495525B (zh) * 2006-05-12 2015-09-09 罗利克有限公司 光学有效的表面起伏微观结构及其制造方法
CN102692664A (zh) * 2011-03-25 2012-09-26 富士胶片株式会社 光反射性膜的制造方法
CN102692664B (zh) * 2011-03-25 2016-03-30 富士胶片株式会社 光反射性膜的制造方法
CN103034046A (zh) * 2012-12-12 2013-04-10 京东方科技集团股份有限公司 掩模板、曝光系统和曝光方法
CN103034046B (zh) * 2012-12-12 2014-07-02 京东方科技集团股份有限公司 掩模板、曝光系统和曝光方法
US9341938B2 (en) 2012-12-12 2016-05-17 Boe Technology Group Co., Ltd. Mask plate, exposure system and exposing method
WO2017177725A1 (zh) * 2016-04-11 2017-10-19 京东方科技集团股份有限公司 金属层制作方法、功能基板及其制作方法、以及显示装置
US10209584B2 (en) 2016-04-11 2019-02-19 Boe Technology Group Co., Ltd. Manufacturing method of metal layer, functional substrate and manufacturing method thereof, and display device

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US20060007530A1 (en) 2006-01-12

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