CN1207611C - 电光学面板及其制造方法以及电光学装置和电子机器 - Google Patents

Abstract

提供可以良好地进行标记的视认的电光学面板及其制造方法和电光学装置和电子机器。电光学面板(100)包括相对的第1基板(10)和第2基板(20)。第1基板具有通过(10)的缘部比第2基板的缘部向侧方突出而形成的突出部(12)。第2基板侧的第1基板的表面构成为凹凸面(14)。在第1基板的突出部(12)的凹凸面(14)之上形成平坦化层(60)，在平坦化层之上形成标记(对准标记(70))。电光学装置包含电光学面板。电子机器包含电光学装置。

Description

电光学面板及其制造方法以及电光学装置和电子机器

技术领域

本发明涉及具有标记例如对准标记、工序管理标记的电光学面板及其制造方法。另外，本发明涉及包括该电光学面板的电光学装置。此外，本发明涉及包括该电光学装置的电子机器。

背景技术

显示装置作为便携式机器、家庭、办公室、工厂、汽车等的信息显示终端已广泛地使用。特别是，液晶显示装置具有薄型、轻量、低电压、低电力消耗等的特征。近年来，根据进一步降低电力消耗的要求，推荐采用反射型液晶装置。反射型液晶装置是设置反射层、将外部的入射光作为光源来利用的液晶装置。该反射型液晶装置具有液晶显示面板。

下面，说明反射型液晶装置用的液晶显示面板。图16是模式地表示液晶显示面板的平面图。

液晶显示面板600具有第1基板610和第2基板620。

第1基板610与第2基板620相互相对。在液晶显示面板600的指定的侧缘部(在图16中为下侧)，第1基板610配置为第1基板610的缘部比第2基板620的缘部向侧方突出。即，第1基板610具有与第2基板620不重叠的部分(以下，称为「第1基板突出部」)612。

另外，在与液晶显示面板600的上述侧缘部相邻的侧缘部(在图16中为左侧)，第2基板620配置为第2基板620的缘部比第1基板610的缘部向侧方突出。即，第2基板620具有与第1基板610不重叠的部分(以下，称为「第2基板的突出部」)622。

在第1基板610的突出部612和第2基板620的突出部622的指定的位置，形成对准标记670。

图17是模式地表示沿图16的B-B线的部分的剖面图。

在第1基板610与第2基板620之间的周缘部分形成密封部件632。通过形成密封部件632，在第1基板610与第2基板620之间，保持指定的间隔(以下，称为「单元间隙」)630。并且，在单元间隙630内，封入液晶，形成液晶层634。

第2基板620侧的第1基板610表面，构成凹凸面614。之所以形成这样的凹凸面614，是为了分散显示光，扩大视野角。并且，在凹凸面614之上，形成反射层640。反射层640的上面的形状反映凹凸面的形状，呈凹凸状。在反射层640之上，形成由透明电极、取向膜等构成的集层结构(图中未示出)。

在与第1基板610相反侧的第2基板620的表面，形成相位差板684和偏振板686。在第1基板610侧的第2基板620的表面，形成由透明电极、取向膜等构成的集层结构(图中未示出)。

在第1基板610的突出部612的凹凸面614之上形成对准标记670。图18是将图17的B的部分放大的模式图。

如图18所示，在凹凸面614之上形成对准标记670时，对准标记670的上面674的形状反映凹凸面614的形状，呈凹凸状。在对准标记670的上面674的形状为凹凸状的状态将例如第1基板610与挠性的配线基板(图中未示出)组合定位时，将发生以下的问题。

该组合定位，是通过利用例如CCD摄像机(图中未示出)检测从光源(图中未示出)发射出的光而进行的。该光源和CCD摄像机设置在与对准标记670相对的位置。对准标记670的上面674的形状为凹凸状的状态进行组合定位时，如图18所示，在对准标记670的上面674上，光将发生散射，由CCD摄像机检测的像将模糊不清。于是，就难于用CCD摄像机视认对准标记670。因此，对准标记670用以上的结构难于进行组合定位。

发明内容

本发明的目的旨在提供可以良好地进行标记的视认的电光学面板及其制造方法。

本发明的其他目的旨在提供包括该电光学面板的电光学装置和电子机器。

(电光学面板)

本发明的电光学面板包括相对的第1基板和第2基板，上述第1基板具有通过该第1基板的缘部比上述第2基板的缘部向侧方突出而形成的突出部，上述第2基板侧的上述第1基板的表面构成凹凸面，在上述突出部的上述凹凸面之上设置平坦化层，在上述平坦化层之上设置标记。

这里，所谓上述标记，就是指对准标记或管理标记。

按照本发明的电光学面板，可以良好地进行标记的视认。

下面，说明其理由。本发明的电光学面板，标记在平坦化层之上形成。因此，在标记的上面，可以抑制光的散射。结果，便可良好地进行视认。因此，按照本发明的电光学面板，与标记在凹凸面的表面上形成的电光学面板相比，可以高精度地进行例如该电光学面板与挠性的配线基板的对准。

另外，本发明的电光学面板，在突出部之上形成对准标记。因此，本发明的电光学面板在连接用配线基板(例如挠性的配线基板)或驱动器IC与该电光学面板的对准时是特别有用的。

上述电光学面板极适合于作为液晶面板使用。另外，上述电光学面板特别适合于作为反射型液晶面板、半透过型液晶面板使用。

上述平坦化层的材质，不特别限定，但是，最好使用光学特性与上述第1基板相近的材质。这里，所谓光学特性，是指折射率。并且，所谓光学特性相近，是指折射率比较接近。作为该平坦化层的材质，可以是丙烯酰基、聚酰亚铵、聚酰胺、聚丙烯酰胺或聚对苯二甲酸乙二酯。

作为上述标记的材质，只要是可以进行标记的视认的就行，不特别限定，例如，可以是以氧化铟锡、铝、银、铬、钽或镍为主体的材质。

电光学面板可以采用以下2个样式中的任意1个样式。

(1)第1，上述电光学面板进而包含在上述第1基板之上形成的电极层，上述电极层和上述标记可以用同一材质构成。通过电极层和标记采用同一材质，可以在同一工序中形成电极层和标记。作为该材质，可以是例如以氧化铟锡、钽、铝、银、铬或镍为主体的材质。

(2)上述电光学面板进而包含在上述第1基板之上形成的反射层，上述反射层和上述标记可以由同一材质构成。通过反射层和标记采用同一材质，可以在同一工序中形成反射层和标记。作为该材质，可以是以铝、银、铬或镍为主体的材质。

此外，电光学面板还可以采用以下的样式。

上述电光学面板进而包含着色层和用于保护该着色层的保护层，上述平坦化层和上述保护层可以由同一材质构成。

该平坦化层和保护层通过采用同一材质，可以在同一工序中形成平坦化层和反射层。

(电光学面板的制造方法)

本发明的电光学面板可以利用例如以下的制造方法进行制造。

该制造方法是包括相对的第1基板和第2基板并且上述第1基板具有通过该第1基板的缘部比上述第2基板的缘部向侧方突出而形成的突出部而上述第2基板侧的上述第1基板的表面构成凹凸面的电光学面板的制造方法，包括以下的工序(a)～(b)。

(a)在上述突出部的上述凹凸面之上形成平坦化层的工序，和

(b)在上述平坦化层之上形成标记的工序。

这里，所谓上述标记，是指对准标记或管理标记。

按照该电光学面板的制造方法，由于在平坦化层之上形成标记，所以，用简易的方法便可形成视认良好的标记。

利用该电光学面板的制造方法而得到的电光学面板的极好的使用例，和在电光学面板的项目中说明的相同。

另外，上述平坦化层和上述标记的材质也和在电光学面板的项目中说明的相同。

该电光学面板的制造方法可以采用以下2个样式中的任意1个样式。

(1)第1，是进而在上述第1基板之上包含电极层的电光学面板的制造方法，是上述标记和上述电极层在同一工序中形成的电光学面板的制造方法。这时，作为上述标记和上述电极层的材质，可以是以氧化铟锡、钽、铝、银、铬或镍为主体的材质。

(2)第2，是进而在上述第1基板之上包含反射层的电光学面板的制造方法，是上述标记和上述反射层在同一工序中形成的电光学面板的制造方法。这时，上述标记和上述反射层的材质可以是以铝、银、铬或镍为主体的材质。

另外，该电光学面板的制造方法进而可以采用以下的样式。

即，是进而包含在上述第1基板之上形成的着色层和用于保护该着色层的保护层的电光学面板的制造方法，是上述平坦化层和上述保护层在同一工序中形成的电光学面板的制造方法。

(电光学装置)

本发明的电光学装置包含方案1～13的任一项所述的电光学面板。这些电光学装置利用电光学面板的优点，可以例如以很高的合格率进行制造。

(电子机器)

本发明的电子机器包含方案27所述的电光学装置。该电子机器利用电光学装置的优点，可以例如以很高的合格率进行制造。

附图说明

图1是模式地表示实施例1的液晶显示面板的平面图。

图2是模式地表示沿图1的A-A线的剖面的剖面图。

图3是将图2的A的部分放大的模式图。

图4是模式地表示实施例1的第1面板的制造工序的剖面图。

图5是模式地表示实施例1的第1面板的制造工序的剖面图。

图6是模式地表示实施例1的第2面板的制造工序的剖面图。

图7是表示实施例2的液晶显示面板的剖面的剖面模式图。

图8是模式地表示实施例2的第1面板的制造工序的剖面图。

图9是模式地表示实施例2的第2面板的制造工序的剖面图。

图10是表示实施例3的液晶显示面板的剖面的剖面模式图。

图11是模式地表示实施例3的第1面板的制造工序的剖面图。

图12是模式地表示应用本发明的电光学装置的无源矩阵驱动方式的液晶显示装置的平面图。

图13是表示应用本发明的液晶显示装置的电子机器(数码相机)的外观图。

图14是表示使用本发明的液晶显示装置的电子机器的外观图，(A)是手机，(B)是手表，(C)是便携式信息机器。

图15是模式地表示液晶显示面板的变形例的一部分的部分切断透视图。

图16是模式地表示先有例的液晶显示面板的平面图。

图17是模式地表示沿图16的B-B线的部分的剖面图。

图18是将图17的B的部分放大的模式图。

具体实施方式

下面，参照附图说明本发明的极佳的实施例。

(实施例1)

下面，说明实施例1的液晶显示面板(电光学面板)和液晶显示面板的制造方法。

[液晶显示面板]

先说明实施例1的液晶显示面板。实施例1的液晶显示面板是反射型液晶显示面板。具体而言，就是实施例1的液晶显示面板是无源矩阵驱动方式的反射型液晶显示装置使用的反射型液晶显示面板。

<平面结构>

首先，说明液晶显示面板的平面结构。图1是模式地表示实施例1的液晶显示面板的平面图。

液晶显示面板100具有第1基板10和第2基板20。第1基板10与第2基板20相互相对配置。

在液晶显示面板100的指定的侧缘部(在图1中为下侧)，第1基板10配置为第1基板10的缘部比第2基板20的缘部向侧方突出。即，第1基板10具有与第2基板20不重叠的部分(以下，称为「第1基板的突出部」)12。第1基板10的突出部12构成为第1配线接合区域12a。

在第1基板10的突出部12，在指定的位置形成对准标记70。第1基板10的对准标记70，形成于在第1基板10之上形成的平坦化层60之上。对准标记70的平面形状只要是可以视认对准标记70的形状就可以，不特别限定，例如可以是十字形(参见图1)、L形、圆形、方形等。

另外，第2基板20配置为第2基板20的缘部比第1基板10的缘部向侧方突出。即，第2基板20具有与第1基板10不重叠的部分(以下，称为「第1基板的突出部」)22。第2基板20的突出部22构成为第2配线接合区域22a。在第2基板20的突出部22，在指定的位置形成对准标记74。

<剖面结构>

其次，说明液晶显示面板100的剖面结构。图2是模式地表示沿图1的A-A线的剖面的剖面图。

在第1基板10与第2基板20之间的周缘部分形成密封部件32。通过形成密封部件32，在第1基板10与第2基板20之间保持指定的间隔(以下，称为「单元间隙」)30。并且，在单元间隙30内，封入液晶，形成液晶层34。

在第1基板10的表面上，形成集层体。以下，将第1基板10和在第1基板10的表面上形成的集层体总称为「第1面板16」。另外，在第2基板20的表面上，也形成集层体。以下，将第2基板20和在第2基板20的表面上形成的集层体总称为「第2面板26」。

下面，详细说明第1面板16和第2面板26。

(第1面板)

首先，详细说明第1面板16。

第2基板20侧的第1基板10的表面构成为凹凸面14。该凹凸面14具有与后面所述的反射层相辅地使从第2基板20侧入射的外光发生散射、扩大视野角的功能。第1基板10是透明的，由例如玻璃基板等构成。

在密封部件32的内侧(单元间隙30内)的凹凸面14之上，形成反射层40。反射层40的表面的形状反映凹凸面14的形状，呈凹凸状。反射层40具有反射从第2基板20侧入射的外光的功能。反射层40的材质只要是能反射从第2基板20侧入射的外光就可以，不特别限定，例如可以是以铝、银、铬或镍为主要成分的材质。

在反射层40之上，形成具有指定的图形的遮光层42。

遮光层42具有吸收显示光的光的功能。作为遮光层42的材质，可以是例如树脂碳黑、多层铬。

在反射层40和遮光层42之上，形成着色层44。着色层44由例如阿指定的图形配置的3色的树脂层即R(红)、G(绿)、B(蓝)的树脂层44R、44G、44B构成。

在着色层44之上，形成保护层46。保护层46的表面是平坦化的表面。保护层46具有保护着色层44的功能。作为保护层46的材质，不特别限定，但是，最好是光学特性与第1基板10的材质相近的材质。这里，所谓光学特性，是指折射率。作为光学特性与第1基板10相近的材质，可以是例如丙烯酰基、聚酰亚铵、聚酰胺、聚丙烯酰胺或聚对苯二甲酸乙二酯。

在保护层46之上，形成密合性提高层48。密合性提高层48延伸到第1基板10的突出部12的中途。密合性提高层48具有提高保护层46和第1基板10与后面所述的第1电极层50的密合性的功能。

在密合性提高层48之上，形成第1电极层50。第1电极层50由多条构成，沿指定的方向相互以指定间隔平行地配置(参见图1)。第1电极层50起信号电极或扫描电极的功能。第1电极层50的材料只要是对入射光和反射光(显示光)具有透明性的导电材料就可以，不特别限定，例如可以由ITO(Indium Tin Oxide)构成。

在密封部件32的内侧(单元间隙30内)的第1电极层50之上，形成第1取向膜52。第1取向膜52是使液晶分子相对于第1基板10成为一定的取向状态的膜。

下面，说明对准标记70的结构。对准标记70的结构是本实施例中的特征点之一。图3是将图2的A的部分放大的模式图。

在第1基板10的突出部12(密封部件32的外侧)的第1基板10的凹凸面14的指定的位置，形成平坦化层60。平坦化层60的上面62是平坦的。作为平坦化层60的材质，不特别限定，但是，最好是和保护层46相同的材质。平坦化层60的材质通过采用和保护层46相同的材质，可以在同一工序中形成平坦化层60和保护层46。另外，平坦化层60的材质最好是光学特性与第1基板10相近的材质。平坦化层60的材质通过采用光学特性和第1基板10相近的材质，在光学上可以视为同一体，从而可以防止在平坦化层60与第1基板10的界面的光的反射和折射。

在该平坦化层60之上，形成对准标记70。对准标记70的上面72是平坦面。这里，所谓平坦面，是指平坦化到可以可靠地进行对准标记70的视认的程度的面。作为对准标记70的材质，不特别限定，但是，最好是和第1电极层50相同的材质。如果对准标记70的材质是和第1电极层50相同的材质，就可以和第1电极层50在同一工序中形成对准标记70。

(第2面板)

下面，详细说明第2面板26。

在第1基板10侧的第2基板20的表面，形成第2电极层80。第2基板20是透明的，由例如玻璃基板等构成。第2电极层80由多条构成，沿指定的方向相互以指定间隔平行地配置(参见图1)。第2电极层80起信号电极或扫描电极的功能。第2电极层80的材料只要是对入射光和反射光(显示光)具有透明性的导电材料就可以，不特别限定，例如可以由ITO(Indium Tin Oxide)构成。在第1基板10上形成的第1电极层50与在第2基板20上形成的第2电极层80通过液晶层34相互正交。即，由第1电极层50和第2电极层80构成所谓的X-Y矩阵。另外，形成用以覆盖第2电极层80的第2取向膜82。第2取向膜82是使液晶分子相对于第2基板20成为一定的取向状态的膜。

从与第1基板10相反侧的第2基板20的表面开始顺序配置相位差板84和偏振板86。

(特征点和作用效果)

下面，说明本实施例的液晶显示面板100的特征点和作用效果。在本实施例中，特征点如下：

(1)对准标记70的上面72是平坦面。因此，在对准标记70的上面72上，可以抑制光的散射。结果，在例如进行液晶显示面板100与挠性配线基板的连接的对准时，在光学上可以良好地进行对准标记70的视认。这里，所谓挠性配线基板，是为了向液晶显示面板100输入驱动信号而与液晶显示面板100连接的基板。因此，按照本实施例的液晶显示面板100，与对准标记的上面是凹凸面的情况相比，可以高精度地进行液晶显示面板100与挠性配线基板的对准。

另外，不限于液晶显示面板100与挠性配线基板的对准，在将驱动用的半导体芯片直接装配到液晶显示面板100上时也一样。

对准标记也可以设置在第1基板10的突出部12上的装配挠性配线基板或半导体芯片的区域以外。

(2)对准标记70是在平坦化层60之上形成。这样，利用后面所述的简便的方法，就可以在凹凸面之上使对准标记70的上面72成为平坦面。

(3)在平坦化层60之上形成的对准标记70设置在第1搅拌10的突出部12之上即密封部件32的外侧。这样，与在密封部件32的内侧(单元间隙30内)形成对准标记70的情况相比，就可以避免例如对准标记70之上的媒体引起的光的吸收、折射、反射等。另外，由于形成于密封部件32的外侧，所以，在进行挠性配线基板或驱动器IC与液晶显示面板100的对准时，特别有用。

另外，本实施例的液晶显示面板100最好平坦化层60的材质在光学特性方面是与第1搅拌10的材质相近的材质。这时，在光学上可以视为同一体，从而可以防止在平坦化层60与第1搅拌10的界面上光的反射、折射。

上述液晶显示面板100可以采用例如以下方式进行制造。

[液晶显示面板的制造方法]

下面，说明实施例1的液晶显示面板100的制造方法。

液晶显示面板100可以个别地制造第1面板16和第2面板26、将第1面板16与第2面板26相互贴合并将液晶封入其间而形成。下面，详细说明本实施例的液晶显示面板100的制造方法。

(第1面板的制造方法)

下面，说明第1面板16的制造方法。图4和图5是模式地表示第1面板16的制造工序的剖面图。

(1)凹凸面的形成

首先，使用图4(a)进行说明。准备由玻璃基板构成的第1基板10。对该第1基板10的表面进行凹凸处理，如图4(b)所示的那样，形成凹凸面14。凹凸处理是使用凹凸处理液按指定的时间和温度处理第1基板10的表面而进行的。凹凸处理液，是对第1基板10的表面的各微小的部分蚀刻速度不同的处理液。作为该凹凸处理液，可以是例如含有氢氟酸(例如30重量％)和氢氟化铵(例如45重量％)的水溶液。使用该凹凸处理液时，在25℃的温度下，通过15秒钟的处理，就可以使第1基板10的表面成为凹凸面14。

(2)反射层的形成

其次，如图4(c)所示，在凹凸面14之上，形成具有指定的图形的反射层40。反射层40按例如以下的方式形成。在凹凸面14之上，形成具有反射性的层(图中未示出)。作为具有反射性的层的材质，只要是可以反射从第2基板20侧入射的外光的材质就可以，不特别限定，可以是例如以铝、银、铬或镍为主要成分的材质。作为具有反射性的层的形成方法，可以是溅射法、真空蒸发法(例如CVD法)等。作为具有反射性的层的厚度，只要是能发挥反射层40的功能的程度就可以了，不特别限定，例如可以是0.1～0.2μm。利用光刻和蚀刻使具有反射性的层形成指定的图形，从而形成反射层40。

(3)遮光层的形成

其次，如图4(d)所示，在反射层40之上，形成具有指定的图形的遮光层42。遮光层42按例如以下的方式形成。在反射层40之上，形成具有遮光性的层(图中未示出)。作为具有遮光性的层的材质，只要是吸收入射光和反射光(显示光)的材质就可以，不特别限定，例如可以是树脂碳黑、多层铬。具有遮光性的层由树脂碳黑构成时，通过涂布将黑色染料、黑色颜料或碳黑分散到聚酰亚铵系树脂或丙烯酰基系树脂中而得到的树脂，便可形成具有遮光性的层。具有遮光性的层由多层铬构成时，通过利用溅射法而集层铬和氧化铬，便可形成具有遮光性的层。

作为具有遮光性的层的膜厚，只要是能发挥遮光层42的功能的程度就可以了，不特别限定，例如可以是0.1～0.2μm。利用光刻和蚀刻使具有遮光性的层形成知道的图形，便形成遮光层42。

(4)着色层的形成

其次，如图5(a)所示，在反射层40和遮光层2之上，形成具有指定的图形的着色层44。着色层44可以利用众所周知的方法形成。着色层44由R、G、B的3色树脂层44R、44G、44B构成时，可以按例如以下的方式形成。涂布着色为红色的着色感光性树脂层(图中未示出)。然后，利用光刻和蚀刻使该着色感光性树脂层形成指定的图形，形成红色的树脂层44R。并且，利用和红色的树脂层44R相同的方法，形成绿色的树脂层44G和蓝色的树脂层44B。这样，就形成了着色层44。红、绿、蓝的树脂层44R、44G、44B的形成顺序。不特别限定。

(5)保护层和平坦化层的形成

其次，如图5(b)所示，在着色层44之上形成保护层46，在第1基板10的突出部12之上形成平坦化层60。保护层46和平坦化层60形成为使它们的上面46a和62成为平坦面。保护层46和平坦化层60可以在同一工序中形成。例如，可以按以下的方式在同一工序中形成保护层46和平坦化层60。

在第1基板10之上，形成覆盖层(图中未示出)。覆盖层的形成，使在着色层44的上方和第1基板10的突出部12的上方的覆盖层的上面成为平坦面。作为覆盖层的形成方法，不特别限定，可以是各种涂布方法，例如旋转涂布法、滚动涂布法和浸渍涂布法等。作为覆盖层的材质，不特别限定，但是，最好是光学特性与第1基板10相近的材质。作为光学特性与第1基板10相近的材质，可以是例如丙烯酰基、聚酰亚铵、聚酰胺、聚丙烯酰胺或聚对苯二甲酸乙二酯。作为覆盖层的厚度，只要是能发挥保护层46和平坦化层60的功能的程度就可以了，不特别限定，例如可以是1～3μm。利用光刻和蚀刻使该覆盖层成为指定的图形。这样，就在着色层44之上形成了保护层46，并在第1基板10的突出部12之上形成了平坦化层60。

(6)密合性提高层的形成

其次，如图5(c)所示，在保护层46之上形成具有指定的图形的密合性提高层48。密合性提高层48利用光刻和蚀刻形成指定的图形。作为密合性提高层48的形成方法，可以是类旋转涂布法。作为密合性提高层48的材质，可以是例如丙烯酰基。作为密合性提高层48的膜厚，例如是0.01～0.03μm。

(7)第1电极层和对准标记的形成

其次，如图5(c)所示，在密合性提高层48之上形成第1电极层50，在平坦化层60之上形成对准标记70。对准标记70形成为其上面72成为平坦面。第1电极层50和对准标记70可以在同一工序中形成。例如，可以按以下方式在同一工序中形成第1电极层50和对准标记70。

在第1基板10之上形成第1导电层(图中未示出)。第1导电层的形成，是使平坦化层60的上方的第1导电层的上面成为平坦面。由于平坦化层60的上面62是平坦面，所以，可以很容易使第1导电层的上面成为平坦面。作为第1导电层的形成方法，可以是例如溅射法、真空蒸发法(例如CVD法)。作为第1导电层的材质，只要是对入射光和反射光(显示光)具有透明性的导电材料就可以，不特别限定，例如可以是ITO(Indium Tin Oxide)。作为第1导电层的膜厚，只要是能发挥第1电极层50和对准标记70的馆的程度就可以，不特别限定，例如是0.1～0.2μm。然后，利用光刻和蚀刻使第1导电层形成指定的图形。这样，就在密合性提高层48之上形成了第1电极层50，并在平坦化层60之上形成了对准标记70。

(8)第1取向膜的形成

其次，如图5(d)所示，在第1电极层50之上形成第1取向膜52。第1取向膜52例如按以下方式形成。即，在第1基板10上，涂布聚酰亚铵树脂，通过进行200～300℃处理，形成第1取向膜52。然后，对该第1取向膜52的表面进行摩擦处理。所谓摩擦处理，就是指为了形成用于使液晶分子沿一个方向排列的摩擦沟的处理。这样，就完成了第1面板16。

(第2面板的制造方法)

下面，说明第2面板26的制造方法。图6是模式地表示第2面板26的制造工序的剖面图。

首先，在第2基板20之上形成具有指定的图形的第2电极层80。第2电极层80的形成，可以例如按以下方式形成。

在第2基板20之上形成第2导电层(图中未示出)。第2导电层的形成方法、材质、膜厚与上述第1导电层(第1电极层的形成)相同。然后，利用光刻和蚀刻使第2导电层形成指定的图形。这样，就形成了第2电极层80。另外，在进行该工序时，根据需要形成对准标记(图中未示出)。

其次，在第2基板20之上，形成第2取向膜82。第2取向膜82，按照和例如第1取向膜52相同的方法来形成。然后，对该第2取向膜82的表面进行摩擦处理。

其次，在形成第2电极层80侧的相反侧的第2基板20的表面，顺序配置相位差板84和偏振板86。

(面板的相互贴合和液晶封入)

下面，参照图2说明第1面板16与第2面板26的相互贴合工序～液晶封入工序。

将第1面板16和第2面板26配置为第1面板16与第2面板26相对。该配置是为了使第1取向膜52和第2取向膜82相互一致。

其次，在第1基板10和第2基板20中的任一方通过印刷而形成密封部件32。然后，将第1基板10和第2基板20的位置相互对准并加压。并且，将液晶封入到单元间隙30内。这样，就形成了液晶显示面板100。

(特征点和作用效果)

下面，说明本实施例的液晶显示面板100的制造方法的特征点和作用效果。在本实施例的液晶显示面板100的制造方法中，特征点如下：

(1)第1，是在第1基板10的突出部12之上按以下方式形成对准标记70。即，形成平坦化层60，然后在该平坦化层60之上形成对准标记70。

通过在平坦化层60之上形成对准标记70，利用简易的方法便可使对准标记70的上面72成为平坦面。

(2)第2，是在同一工序中形成保护层46和平坦化层60。这样，与在不同的工序中形成保护层46和平坦化层60的情况相比，可以减少工序数。

(3)第3，是在同一工序中形成第1电极层50和对准标记70。这样，与在不同的工序中形成第1电极层50和对准标记70的情况相比，可以减少工序数。

(实施例2)

下面，说明实施例2的液晶显示面板和液晶显示面板的制造方法。

[液晶显示面板]

先说明实施例2的液晶显示面板。

实施例2的液晶显示面板(电光学面板)是反射型液晶显示面板。具体而言，就是实施例2的液晶显示面板是无源矩阵驱动方式的反射型液晶显示装置使用的反射型液晶显示面板。该液晶显示面板的平面结构和实施例1的液晶显示面板100相同。因此，省略对实施例2的液晶显示面板的平面结构的说明。

图7是表示本实施例的液晶显示面板的剖面的剖面模式图。

图7的剖面模式图是与沿图1的A-A线的部分相当的本实施例的液晶显示面板的部分的剖面模式图。

实施例2的液晶显示面板200在剖面结构方面与实施例1不同。即，实施例2的液晶显示面板200在第1面板116和第2面板126的层结构方面与实施例1不同。更具体而言，就是实施例2的液晶显示面板200在第2面板126内形成遮光层142和着色层144方面与实施例1不同。除此以外，都和实施例1相同。因此，对于具有相同功能的部分标以相同的符号，并省略详细的说明。

下面，对实施例2的液晶显示面板200的剖面结构分为第1面板116和第2面板126进行说明。

(第1面板)

下面，详细说明第1面板116。

第2基板20侧的第1基板10的表面构成凹凸面14。在密封部件32的内侧(单元间隙30内)的凹凸面14之上形成反射层40。在实施例2中，反射层40具有反射入射光的功能，同时也具有作为电极层的功能。反射层40的材质只要是反射入射光并能起电极的功能的材质就可以，不特别限定，可以是例如以铝、银、铬或镍为主要成分的材质。在反射层40之上形成第1取向膜52。

其次，说明在实施例2中作为特征点之一的对准标记70的结构。对准标记70的结构在对准标记70的理想的材质方面与实施例1不同。

即，对准标记70的材质最好是与反射层40相同的材质。如果对准标记70是和反射层40相同的材质，就可以将对准标记70和反射层40在同一工序中形成。除此以外，对准标记70的结构方面和实施例1实际上是相同的，所以，省略详细的说明。

(第2面板)

下面，详细说明第2面板126。

在第1基板10侧的第2基板20的表面，形成具有指定的图形的遮光层142。在覆盖遮光层142和第2基板20的表面的位置形成着色层144。着色层144由例如按指定的图形配置的3色的树脂层即R(红)、G(绿)、B(蓝)的树脂层144R、144G、144B构成。在被覆着色层144的位置，形成保护层146。在保护层146和第2基板20的表面形成密合性提高层148。在密合性提高层148的表面形成具有指定的图形的第2电极层80。并且，形成第2取向膜82用以覆盖第2电极层80。

以上所说明的遮光层142～第2取向膜82的功能和材质都和实施例1相同。

(特征点和作用效果)

下面，说明实施例2的液晶显示面板200的特征点和作用效果。

实施例2的液晶显示面板200的特征点和作用效果与实施例1的特征点(1)～(3)相同。所以，省略其说明。

上述液晶显示面板200可以例如按以下方式进行制造。

[液晶显示面板的制造方法]

下面，说明实施例2的液晶显示面板200的制造方法。

实施例2的液晶显示面板200的制造方法在第1面板116和第2面板126的制造方法方面与实施例1不同。

下面，说明第1面板116和第2面板126的制造方法。

(第1面板的制造方法)

首先，说明第1面板116的制造方法。图8是模式地表示第1面板的制造工序的剖面图。

(1)凹凸面的形成

如图8(a)所示，对第1基板10的表面进行凹凸处理，形成凹凸面14。凹凸处理的方法可以和实施例1一样进行。

(2)平坦化层的形成

其次，在第1基板10的突出部12的指定的位置形成平坦化层60。平坦化层60可以用和实施例1相同的方法形成。即，平坦化层60可以通过形成覆盖层(图中未示出)并使该覆盖层形成指定的图形而形成。

(3)反射层和对准标记的形成

其次，如图8(b)所示，在凹凸面14上的指定位置形成反射层40，在平坦化层60之上形成对准标记70。对准标记70形成为其上面成为平坦面。反射层40和对准标记70可以在同一工序中形成。例如，按以下方式将反射层40和对准标记70在同一工序中形成。

在凹凸面14和平坦化层60之上形成具有反射性的层(图中未示出)。作为具有反射性的层的材质，只要是反射入射光的材质就可以，不特别限定，例如，可以是以铝、银、铬或镍为主要成分的材质。作为具有反射性的层的形成方法，可以是溅射法、真空蒸发法(例如CVD法)。作为具有反射性的层的厚度，只要是反射层40和对准标记70能发挥其功能的程度就可以，不特别限定，例如是0.1～0.2μm。利用光刻和蚀刻使具有反射性的层形成指定图形，从而形成反射层40和对准标记70。

(4)第1取向膜的形成

其次，如图8(c)所示，在反射层40之上形成第1取向膜52。第1取向膜52可以采用和实施例1一样的方法形成。这样，就完成了第1面板116。

(第2面板的制造方法)

下面，说明第2面板126的制造方法。图9是模式地表示第2面板的制造工序的剖面图。

如图9(a)所示，在第2基板20之上形成具有指定的图形的遮光层142。然后，如图9(b)所示，在遮光层142之上形成具有指定的图形的着色层144。其次，如图9(c)所示，形成保护层146用以覆盖着色层144。然后，如图9(d)所示，在保护层146之上形成密合层148和第2电极层80。其次，如图9(e)所示，在保护层146和第2电极层80之上形成第2取向膜82。然后，如图9(f)所示，在形成第2取向膜82侧的相反侧的面上配置相位差板84和偏振板86。

以上的遮光层142～第2取向膜82都可以采用和实施例1一样的方法形成。这样，就完成了第2面板126。

(特征点和作用效果)

下面，说明本实施例的液晶显示面板200的制造方法的特征点和作用效果。在本实施例的液晶显示面板200的制造方法中，特征点如下：

(1)第1，具有和实施例1的特征点(1)相同的特征点。因此，省略该特征点和作用效果的说明。

(2)第2，是将反射层40和对准标记70在同一工序中形成。这样，与将反射层40和对准标记用不同的工序形成的情况相比，可以减少工序数。

(实施例3)

下面，说明实施例3的液晶显示面板和液晶显示面板的制造方法。

[液晶显示面板]

先说明实施例3的液晶显示面板。实施例3的液晶显示面板(电光学面板)是半透过型液晶显示面板。具体而言，就是实施例3的液晶显示面板是无源矩阵驱动方式的半透过型液晶显示装置使用的半透过形液晶显示面板。该液晶显示面板的平面结构和实施例1的液晶显示面板100一样。因此，省略对实施例3的液晶显示面板的平面结构的说明。

图10是表示本实施例的液晶显示面板的剖面的剖面模式图。图10的剖面模式图是与沿图1的A-A线的成分相当的本实施例的液晶显示面板的部分的剖面模式图。

实施例3的液晶显示面板300在剖面结构方面与实施例1不同。具体而言，就是实施例3的液晶显示面板300在第1面板216的层结构方面与实施例1不同。除此以外的剖面结构都和实施例1一样。因此，对于具有相同功能的部分标以相同的符号，并省略详细的说明。

下面，说明第1面板216的结构。

第1基板10的表面构成为凹凸面14。在凹凸面14之上，形成具有指定的图形的反射层240。即，反射层240在指定的位置开口。利用该反射层240，可以反射从第2基板20的上方(图10的上侧)入射到单元间隙内的光。另外，通过反射层240开口，可以使从第1基板10的下方(图10的下侧)入射到第1基板10内的光进入到单元间隙30内。在第1基板10和反射层240之上，形成着色层244。

着色层244由3色的树脂层即R(红)、G(绿)、B(蓝)的树脂层244R、244G、244B构成。该3色的树脂层244R、244G、244B按指定的图形进行配置。并且，3色的树脂层244R、244G、244B集层的部分(反射层240的之上的部分)，其遮光层242的功能。

用于着色层244之上的结构和实施例1相同，所以，省略其说明。

在第1基板10的下面，顺序配置相位差板284和偏振板286。

(特征点和作用效果)

实施例3的液晶显示面板300的特征点和作用效果与实施例1相同。因此，省略其说明。

上述液晶显示面板300可以按例如以下方式进行制造。

[液晶显示面板的制造方法]

下面，说明实施例3的液晶显示面板300的制造方法。

本实施例的液晶显示面板300的制造方法在第1面板216的制造方法中与实施例1不同。第2面板26的制造工序和相互贴合及液晶封入工序与实施例1相同。因此，省略第2面板26的制造工序和相互贴合及液晶封入工序的说明。

(第1面板的制造方法)

下面，说明第1面板216的制造方法。图11是模式地表示第1面板216的制造工序的剖面图。

(1)凹凸面的形成

首先，使用图11(a)进行说明。对第1基板10的表面和实施例1一样进行凹凸处理，形成凹凸面14。

(2)反射层的形成

其次，在凹凸面14之上形成具有指定的图形的反射层240。

即，反射层240形成为在指定的位置开口。反射层240可以按例如以下的方式形成。在凹凸面之上形成具有反射性的层(图中未示出)。利用光刻和蚀刻使具有反射性的层形成指定的图形，从而形成具有指定的图形的反射层240。具有反射性的层的材质、形成方法和厚度都和实施例1一样。

(3)着色层和遮光层的形成

其次，如图11(b)所示，在反射层240和凹凸面14之上同时形成着色层244和遮光层242。着色层244和遮光层242可以按以下方式同时形成。

先涂布着色为红色的着色感光性树脂层(图中未示出)。然后，利用光刻和蚀刻使该着色感光性树脂层形成指定的图形，从而形成红色的树脂层244R。在使红色的着色感光性树脂层形成指定的图形时，为了形成遮光层242，在反射层240上保留下了红色的树脂层244R。

其次，使用和红色的树脂层244R同样的方法形成绿色的树脂层244G。在绿色的树脂层244G的形成中，还在反射层240之上具体而言就是红色的树脂层244R之上保留绿色的树脂层244G。

其次，使用和红色的树脂层同样的方法，形成蓝色的树脂层244B。在蓝色的树脂层244B的形成中，还在反射层240之上具体而言就是在绿色的树脂层244G之上保留蓝色的树脂层244B。这样，就形成了着色层244。另外，同时在反射层240之上集层红色、绿色和蓝色的树脂层244R、244G、244B，形成遮光层242。

红、绿和蓝的树脂层244R、244G、244B的形成顺序，不特别限定。

其次，如图11(d)所示，顺序形成保护层46和第1取向膜50。保护层46～第1取向膜的形成，可以采用和实施例1同样的方法形成。

(特征点和作用效果)

下面，说明本实施例的液晶显示面板300的制造方法的特征点和作用效果。本实施例的液晶显示面板300的制造方法的特征点和作用效果与实施例1相同。因此，省略其说明。

(实施例4)

下面，说明应用本发明的液晶显示面板的电光学装置。在本实施例中，说明应用本发明的电光学装置的无源驱动方式的液晶显示装置。

(液晶显示装置)

图12是模式地表示应用板的电光学装置的无源驱动方式的液晶显示装置的平面图。

本实施例的液晶显示装置400包括本发明的液晶显示面板410、印刷电路板420和挠性配线基板430。液晶显示面板410和印刷电路板420通过挠性配线基板430而电气连接。

液晶显示面板410具有第1基板10和第2基板20。第1基板10和第2基板20具有突出部12、22。驱动器IC 412、414装配在第1基板10的突出部12和第2基板20的突出部22上。另外，液晶显示面板410具有在第1基板10上形成的第1电极层50和在第2基板20上形成的第2电极层80。第1电极层50前信号电极的功能，第2电极层80前扫描电极的功能。

印刷电路板420具有骤了电源用IC等各种电子部件422的配线电路。

挠性配线基板430具有第1挠性配线基板432和第2挠性配线基板434。第1挠性配线基板432与第1基板10连接。具体而言，第1毛性配线基板432与第1基板10的突出部12(第1配线接合区域12a)连接。第2挠性配线基板434与第2基板20连接。具体而言，第2挠性配线基板434与第2基板20的突出部22(第2配线接合区域22a)连接。并且，第1和第2挠性配线基板432、434分别与印刷电路板420的指定的位置连接。

(液晶显示面板与挠性配线基板的定位方法)

下面，说明液晶显示面板410与挠性配线基板430的定位方法。首先，说明液晶显示面板410与第1挠性配线基板432的定位方法。

(1)将各向异性的导电薄膜(图中未示出)粘贴到第1基板10的突出部12的指定的部分。

(2)将摄像机(图中未示出)与对准标记70相对地配置到第1基板10的突出部12的上方或下方。作为摄像机，可以是例如CCD(Charge Coupled Device)摄像机。

(3)将挠性配线基板432相对于液晶显示面板410移动以使第1挠性配线基板432的对准标记432a与在第1基板10的突出部12上形成的对准标记70重叠。该移动通过借助于摄像机观察着对准标记70、432a而进行。另外，也可以通过目视观察对准标记70和432a。

(4)将第1挠性配线基板432向第1基板10挤压。

(5)将各向异性的导电薄膜硬化，从而将第1挠性配线基板432与第1基板10接合。

另外，采用和上述定位方法相同的方法，将液晶显示面板410与第2挠性配线基板434相互定位。这样，就完成了液晶显示面板410与挠性配线基板430的相互定位。

(特征点和作用效果)

本实施例的液晶显示装置400应用了本发明的液晶显示面板410。因此，利用液晶显示面板410的特征点(对准标记70的结构)的作用效果，可以很容易地进行例如液晶显示面板410与挠性配线基板432的定位。结果，与不应用本发明的液晶显示面板410的液晶显示装置相比，本实施例的液晶显示装置400可以简便地君制造。

(变形例)

在本实施例中，对准标记70应用于液晶显示面板410与第1挠性配线基板432的定位。但是，不限定于第1挠性配线基板432，例如，也可以应用于液晶显示面板410与驱动器IC 412的定位、液晶显示面板100与偏振板的定位以及液晶显示面板100与相位差板的定位等。

(实施例5)

(电子机器)

下面，说明作为本发明的电光学装置而应用液晶显示装置的电子机器。

(1)数码相机

下面，说明将本发明的液晶显示装置应用于取景器的数码相机。图13是表示该数码相机的结构的透视图，此外，也简易地表示出了与外部机器的连接。

通常的照相机是由被摄体的光像使胶片感光的，与此相反，数码相机1200则是利用CCD等摄像元件将被摄体的光像进行光电变换而生成摄像信号的。这里，在数码相机1200的机身1202的背面(在图13中为前面侧)设置液晶显示装置1000的液晶显示面板，根据CCD的摄像信号进行显示。因此，液晶显示装置1000起显示被摄体的取景器的功能。另外，在机身1202的前面侧(在图13中为背面侧)设置包含赅透镜及CCD等的受光单元1204。

这里，在摄影者确认液晶显示装置1000所显示的被摄体像后按下快门按钮1206时，则该时刻的CCD的摄像信号就传输并存储到电路基板1208的存储器中。另外，该数码相机1200还在机身1202的侧面设置有视频信号输出端子1212和数据通信用的输入输出端子1214。并且，如图13所示，根据需要电视监视器1300还与前者的视频信号输出端子1212连接，另外，电脑1400与后者的数据通信用的输入输出端子1214连接。此外，通过指定的操作，电路基板1208的存储器存储的摄像信号向电视监视器1300或电脑1400输出。

(2)便携电话及其他电子机器

图14(A)、(B)和(C)是表示作为本发明的电光学装置而使用液晶显示装置的其他电子机器的例子的外观图。图14(A)是便携电话3000，在其前面的上方具有液晶显示装置1000。图14(B)是手表4000，在本体的前面中央设置了使用液晶显示装置1000的显示部。图14(C)是便携式信息机器5000，具有由液晶显示装置1000构成的显示部和输入部5100。

这些电子机器除了液晶显示装置1000外，图中虽然未示出，但是，还包括显示信息输出源、显示信息处理电路、时钟发生电路等各种电路和由向这些电路供给电力的电源电路等构成的显示信号生成部。

在显示部上，例如在便携式信息机器500的情况时通过供给根据从输入部5100输入的信息等而由显示信号生成部生成的显示信号形成显示图像。

作为组装了本发明的液晶显示装置的电子机器，不限于数码相机、便携电话、手表和便携式信息机器等，还可以考虑电子记事簿、呼机、POS终端、IC卡、迷你CD机、液晶投影仪、多媒体对应的微电脑(PC)和工程技术工作站(EWS)、笔记本电脑、文字处理器、电视机、取景式或监视直视型的电视摄象机、电子计算器、汽车驾驶员导向装置、具有触摸面板的装置和钟表等各种各样的电子机器。

就驱动方式而言，液晶显示面板有板本身不使用开关元件的单纯矩阵液晶显示面板及静态驱动液晶显示面板以及使用由TFT(薄膜晶体管)代表的三端子开关元件或由TFD(薄膜二极管)代表的二端子开关元件的有源矩阵液晶显示面板，就电光学特性而言，可以使用TN型、STN型、宾主型、相转移型、强介电性型等各种类型的液晶显示面板。

(变形例)

本发明的液晶显示面板、电光学装置和电子机器不限于上述结构，在本发明的主旨的范围内可以进行各种变更。

(液晶显示面板的变形例)

本发明的液晶显示面板不限于上述实施例1～4所示的液晶显示面板，可以是例如以下的变形。

实施例1～4的液晶显示面板100、200、300是用于无源驱动方式的液晶显示装置的液晶显示面板。但是，本发明的液晶显示面板也可以应用于作为开关元件而使用TFD(Thin Film Diode)元件的有源矩阵驱动方式的液晶显示装置。

下面，说明应用于有源矩阵驱动方式的液晶显示装置的液晶显示面板。

图15表示液晶显示面板的变形例。在图15中，对于实际上具有和图1相同功能的部分标以相同的符号，并省略其详细的说明。

该液晶显示面板1100的平面结构与图1的液晶显示面板相同，所以，图示了密封部件内部的结构。

液晶显示面板500具有相互相对配置的第1基板10和第2基板20。在这些第1和第2基板10、20之间，围绕显示区域配置了密封部件(图中未示出)。并且，在由这些第1和第2基板10、20和密封部件形成的区域，封入图中未示出的液晶层。

另外，图中虽然未示出，但是，第1基板10的第2基板20(液晶层)侧的面构成为凹凸面。另外，和实施例1一样，在第1基板10上，图中虽然未示出，从第1基板10侧开始顺序设置了反射层/着色层/保护层。并且，在其上配置了配置为矩阵状的多个像素电极1034和在X方向延伸的信号电极50，同时，1列的像素电极1034分别通过TFD元件1020共同与1条信号电极50连接。像素电极1034由对入射光和反射光(显示光)具有透明性的导电材料例如ITO(Indium Tim Oxide)形成。TFD元件1020从第1基板10侧看时由第1金属膜1022、将该第1金属膜1采用金属/绝缘体/金属的夹层结构。因此，TFD元件1020具有正负双向的二极管开关特性。

另一方面，是第2基板20的面，在与第1基板10相对的一侧的面配置多个扫描电极80。这些扫描电极80沿与信号电极50正交的指定的方向(在图15中为Y方向)相互间隔指定的间隔平行地配置，并且成为像素电极1034的对向电极。着色层在图15中虽然省略了图示，但是，与扫描电极80和像素电极1034相互交叉的区域对应地设置。

另外，虽然未图示，但是，可以是以下的样式。即，在具有凹凸面的基板上，从该基板侧开始顺序形成反射层/着色层/保护层/片状电极(例如ITO)。并且，在对向的基板上(外部的光入射的一侧的基板)，也可以形成像素电极和TFD元件。

(其他变形例)

在上述实施例中，作为在平坦化层上形成的标记，给出了对准标记的例子。但是，在平坦化层上形成的标记不限于对准标记，也可以是工序管理标记。作为工序管理标记，可以是例如数值化的、条码化的2维条码图形化(删除代码)。

在上述实施例中，在挠性配线基板或驱动器IC与液晶显示面板的定位中使用对准标记。但是，对准标记也可以应用于面板组装、面板裁断等。

在上述实施例中，是在平坦化层上直接形成对准标记。但是，也可以在对准标记与平坦化层之间插入密合性提高层。

Claims (26)

1.一种电光学面板，其特征在于：包含相对的第1基板和第2基板，上述第1基板具有通过该第1基板的缘部比上述第2基板的缘部向侧方突出而形成的突出部，上述第2基板侧的上述第1基板的表面构成为凹凸面，在上述突出部的上述凹凸面之上设置平坦化层，在上述平坦化层之上设置标记。

2.按权利要求1所述的电光学面板，其特征在于：上述标记是对准标记或工序管理标记。

3.按权利要求1或2所述的电光学面板，其特征在于：上述电光学面板是液晶面板。

4.按权利要求3所述的电光学面板，其特征在于：上述液晶面板是反射型液晶面板。

5.按权利要求3所述的电光学面板，其特征在于：上述液晶面板是半透过型液晶面板。

6.按权利要求1所述的电光学面板，其特征在于：上述平坦化层的材质由光学特性与上述第1基板相近的材质构成.

7.按权利要求6所述的电光学面板，其特征在于：上述平坦化层的材质是丙烯酰基、聚酰亚铵、聚酰胺、聚丙烯酰胺或聚对苯二甲酸乙二酯。

8.按权利要求1所述的电光学面板，其特征在于：上述标记的材质是以氧化铟锡、铝、银、铬、钽或镍为主体的材质。

9.按权利要求1所述的电光学面板，其特征在于：上述电光学面板进而包含在上述第1基板之上形成的电极层，上述电极层和上述标记由同一种材质构成。

10.按权利要求9所述的电光学面板，其特征在于：上述电极层和上述标记的材质是以氧化铟锡、钽、铝、银、铬或镍为主体的材质。

11.按权利要求1所述的电光学面板，其特征在于：上述电光学面板进而包含在上述第1基板上形成的反射层，上述反射层和上述标记由同一种材质构成。

12.按权利要求11所述的电光学面板，其特征在于：上述反射层和上述标记的材质是以铝、银、铬或镍为主体的材质。

13.按权利要求1所述的电光学面板，其特征在于：上述电光学面板进而包含着色层和用于保护该着色层的保护层，上述平坦化层和上述保护层由同一种材质构成。

14.一种包含相对的第1基板和第2基板、而上述第1基板具有通过该第1基板的缘部比上述第2基板的缘部向侧方突出而形成的突出部并且上述第2基板侧的上述第1基板的表面构成为凹凸面的电光学面板的制造方法，其特征在于包括以下的工序：

(a)在上述突出部的上述凹凸面之上形成平坦化层的工序，

(b)在上述平坦化层之上形成标记的工序。

15.按权利要求14所述的电光学面板的制造方法，其特征在于：上述标记是对准标记或工序管理标记。

16.按权利要求14或15所述的电光学面板的制造方法，其特征在于：上述电光学面板是液晶面板。

17.按权利要求16所述的电光学面板的制造方法，其特征在于：上述液晶面板是反射型液晶面板。

18.按权利要求16所述的电光学面板的制造方法，其特征在于：上述液晶面板是半透过型液晶面板。

19.按权利要求14所述的电光学面板的制造方法，其特征在于：上述平坦化层的材质由光学特性与上述第1基板相近的材质构成。

20.按权利要求19所述的电光学面板的制造方法，其特征在于：上述平坦化层的材质是丙烯酰基、聚酰亚铵、聚酰胺、聚丙烯酰胺或聚对苯二甲酸乙二酯。

21.按权利要求14所述的电光学面板的制造方法，其特征在于：上述标记的材质是以氧化铟锡、铝、银、铬、钽或镍为主体的材质。

22.按权利要求14所述的电光学面板的制造方法，其特征在于：是进而包含在上述第1基板之上形成的电极层的电光学面板的制造方法，上述标记和上述电极层在同一工序中形成。

23.按权利要求22所述的电光学面板的制造方法，其特征在于：上述标记和上述电极层的材质是以氧化铟锡、铝、银、铬、钽或镍为主体的材质。

24.按权利要求14所述的电光学面板的制造方法，其特征在于：是进而在上述第1基板之上包含反射层的电光学面板的制造方法，上述标记和上述反射层在同一工序中形成。

25.按权利要求24所述的电光学面板的制造方法，其特征在于：上述标记和上述反射层的材质是以铝、银、铬或镍为主体的材质。

26.按权利要求14所述的电光学面板的制造方法，其特征在于：是进而包含在上述第1基板之上形成的着色层和用于保护该着色层的保护层的电光学面板的制造方法，上述平坦化层和上述保护层在同一工序中形成。

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