JP3633591B2 - 電気光学装置用基板、電気光学装置用基板の製造方法、電気光学装置、電気光学装置の製造方法、及び、電子機器 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は電気光学装置用基板、電気光学装置用基板の製造方法、電気光学装置、電気光学装置の製造方法に係り、特に、反射半透過型の液晶装置に適用する場合に好適な構造及び製造技術に関する。
【0002】
【従来の技術】
従来から、外光を利用した反射型表示と、バックライト等の照明光を利用した透過型表示とのいずれをも視認可能とした反射半透過型の液晶表示パネルが知られている。この反射半透過型の液晶表示パネルは、そのパネル内に外光を反射するための反射層を有し、この反射層をバックライト等の照明光が透過できるように構成したものである。この種の反射層としては、液晶表示パネルの画素毎に所定面積の開口(スリット)を備えたものがある。
【0003】
図13は、従来の反射半透過型の液晶表示パネル100の概略構造を模式的に示す概略断面図である。この液晶表示パネル100は、基板101と基板102とがシール材103によって貼り合せられ、基板101と基板102との間に液晶104を封入した構造を備えている。
【0004】
基板101の内面上には、画素毎に開口部111hを有する反射層111が形成され、この反射層111の上に着色層112r,112g,112b及び表面保護層112pを備えたカラーフィルタ112が形成されている。カラーフィルタ112の表面保護層112pの表面上には透明電極113が形成されている。
【0005】
一方、基板102の内面上には透明電極121が形成され、対向する基板101上の上記透明電極113と交差するように構成されている。なお、基板101上の透明電極113上、及び、基板102上の透明電極121の上には、配向膜や硬質透明膜などが必要に応じて適宜に形成される。
【0006】
また、上記の基板102の外面上には位相差板(1/4波長板)105及び偏光板106が順次配置され、基板101の外面上には位相差板(1/4波長板)107及び偏光板108が順次配置される。
【0007】
以上のように構成された液晶表示パネル100は、携帯電話、携帯型情報端末などの電子機器に設置される場合、その背後にバックライト109が配置された状態で取付けられる。この液晶表示パネル100においては、昼間や屋内などの明るい場所では反射経路Rに沿って外光が液晶104を透過した後に反射層111にて反射され、再び液晶104を透過して放出されるので、反射型表示が視認される。一方、夜間や野外などの暗い場所ではバックライト109を点灯させることにより、バックライト109の照明光のうち開口部111hを通過した光が透過経路Tに沿って液晶表示パネル100を通過して放出されるので、透過型表示が視認される。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上記従来の反射半透過型の液晶表示パネル100においては、上記反射経路Rでは光がカラーフィルタ112を2回通過するのに対し、上記透過経路Tでは光がカラーフィルタ112を一度だけ通過するため、反射型表示の彩度に対して透過型表示における彩度が悪くなるという問題点がある。すなわち、反射型表示では一般的に表示の明るさが不足しがちであるので、カラーフィルタ112の光透過率を高く設定して表示の明るさを確保する必要があるが、このようにすると、透過型表示において十分な彩度を得ることができなくなる。
【0009】
また、上記のように反射型表示と透過型表示とにおいては光がカラーフィルタを通過する回数が異なるので、反射型表示の色彩と、透過型表示の色彩とが大きく異なってしまうため、違和感を与えるという問題点もある。
【0010】
そこで本発明は上記問題点を解決するものであり、その課題は、反射型表示と透過型表示の双方を可能にする表示装置に用いた場合に、反射型表示の明るさと透過型表示の彩度とを共に確保することの可能なカラーフィルタ基板を提供することにある。また、反射型表示の明るさと透過型表示の彩度とを共に確保することの可能な反射半透過型の電気光学装置を提供することにある。さらに、反射型表示と透過型表示との間の色彩の差異を低減することのできる表示技術を実現することを目的とする。
【0011】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するために本発明の電気光学装置用基板は、基板と、前記基板上に配置され、前記基板に対して傾斜している傾斜面を有する実質的に光が透過できる透光層と、前記透光層上の一部に配置された反射層と、前記透光層上及び前記反射層上に配置された着色層とを備え、前記反射層は前記傾斜面上に前記基板に対して傾斜している傾斜反射面を有しており、前記反射層の縁は前記傾斜面上に配置されており、前記着色層は、前記傾斜反射面上に配置され、前記傾斜反射面上に配置された前記着色層は、前記傾斜反射面上を除く前記反射層上に配置された前記着色層よりも膜厚が厚い部分を有し、前記傾斜反射面は、反射する光が前記厚い部分を通過するように配置されてことを特徴とする。
【0012】
この発明によれば、反射層の開口部の縁が傾斜面上に配置されていることにより、電気光学装置を構成した場合に、反射光の反射角度範囲を広くすることができ、反射型表示における視野角特性を改善することができる。また、開口部の縁に段差を形成する場合に較べて反射層のパターニングを容易かつ正確に行うことが可能になる。
更に、斜め方向に出射する光が着色層のうち膜厚が厚い部分を斜めに通過するので、正反射する光と比較して着色層中を通過する光路が長くなる。従って、着色層中を通過する光路が長い分だけ斜め方向に出射する光の彩度が向上し、表示面を斜め方向から観察した場合に、鮮やかな表示を得ることが可能になる。
【0013】
本発明において、前記透光層は前記傾斜面によって構成される谷状部を有することが好ましい。
【0014】
この発明によれば、谷状部が構成されていることにより谷状部を構成する傾斜面が多方向を向いているので、外光の反射方向をさらに広げることができる。したがって、この電気光学装置用基板を電気光学装置に用いることにより、電気光学装置の反射型表示における視野角特性を改善することが可能になる。
【0015】
また、本発明の電気光学装置用基板は、基板と、前記基板上に配置され開口を有する実質的に光が透過できる透光層と、前記透光層上の一部に配置された反射層と、前記開口内及び前記反射層上に配置された着色層とを備え、前記透光層は、前記開口の周囲に前記基板に対して傾斜した傾斜面を有し、前記反射層は前記傾斜面上に前記基板に対して傾斜している傾斜反射面を有しており、前記反射層の縁は前記傾斜面と重なって若しくは前記透光層の前記開口内に配置されており、前記着色層は、前記傾斜反射面上に配置され、
前記傾斜反射面上に配置された前記着色層は、前記傾斜反射面上を除く前記反射層上に配置された前記着色層よりも膜厚が厚い部分を有し、前記傾斜反射面は、反射する光が前記厚い部分を通過するように配置されていることを特徴とする。
【0016】
この発明によれば、反射層の開口部の縁が傾斜面上若しくはその内側の前記透光層の開口内に配置されていることにより、電気光学装置を構成した場合に、反射光の反射角度範囲を広くすることができ、反射型表示における視角依存性を改善することができる。また、開口部の縁に段差を形成する場合に較べて反射層のパターニングを容易かつ正確に行うことが可能になる。
更に、斜め方向に出射する光が着色層のうち膜厚が厚い部分を斜めに通過するので、正反射する光と比較して着色層中を通過する光路が長くなる。従って、着色層中を通過する光路が長い分だけ斜め方向に出射する光の彩度が向上し、表示面を斜め方向から観察した場合に、鮮やかな表示を得ることが可能になる。
【0017】
本発明において、前記反射層は前記基板に対して傾斜している傾斜反射面を有し、前記傾斜反射面は少なくとも前記傾斜面上に配置されていることが好ましい。
【0018】
この発明によれば、傾斜反射面によって反射光の反射角度範囲が広がり、反射型表示における視野角特性を改善できる。
【0019】
さらには、前記透光層は前記基板に対して平行な平行面を有し、前記傾斜反射面は前記平行面上から前記傾斜面上に張り出すように配置されていることが好ましい。
【0020】
この発明によれば、傾斜反射面を平坦な反射面と一体に構成することができるので、反射層のパターニングが容易になる。
【0021】
本発明において、前記反射層は可視光を散乱可能な微細な凹凸を有することが好ましい。
【0022】
この発明によれば、この電気光学装置用基板を電気光学装置に用いることにより、電気光学装置の反射型表示において背景が映り込んだり、照明光による幻惑が生じたりすることを防止できる。
【0023】
本発明において、前記透光層上に着色層が配置されていることが好ましい。
【0024】
この発明によれば、この着色層は反射層の開口部と平面的に重なる領域が、透光層の傾斜面や開口に対応した厚肉部となっている。したがって、この電気光学装置用基板を電気光学装置に用いることにより、反射型表示の明るさを確保しつつ(すなわち反射型表示の明るさを犠牲にすることなく)、透過型表示の彩度を向上させることができる。また、着色層の厚肉部が透光層の傾斜面上や反射層の傾斜反射面上に、或いは、これらに囲まれた透光層の開口内に設けられることにより、着色層を構成する素材を充填しやすくなるため、着色層の表面の平坦性を向上させることが可能になる。
【0025】
次に、本発明の別の電気光学装置用基板は、基板と、前記基板上の一部に配置された反射層と、前記反射層上に配置され、前記基板に対して傾斜した傾斜面を有する実質的に光が透過できる透光層と、前記透光層上に配置された着色層とを備え、前記傾斜面は前記反射層の縁と重なって配置され、前記傾斜面の前記基板に対する傾斜角は、68〜79度の範囲内であることを特徴とする。
【0026】
この発明によれば、反射層の開口部は、少なくとも透光層の傾斜面の一部と重なっており、さらにその開口部上に着色層が配置されていることから、開口部上には着色層がその他の部分よりも厚く配置される。したがって、この電気光学装置用基板を電気光学装置に用いることにより、反射型表示の明るさを確保しつつ(すなわち反射型表示の明るさを犠牲にすることなく)、透過型表示の彩度を向上させることができる。また、着色層の厚肉部が透光層の傾斜面上や反射層の傾斜反射面上に設けられることにより、着色層を構成する素材を充填しやすくなるため、着色層の表面の平坦性を向上させることが可能になる。
そして、傾斜角が、基板の表面に対して68〜79度の範囲内であることから、着色層の素材を流れ込み易くし、充填性を向上させることにより、着色層の表面の平坦性を向上させることができる。
【0027】
さらに、本発明のまた別の電気光学装置用基板は、基板と、前記基板上の一部に配置された反射層と、前記反射層上に配置され、前記反射層が配置されていない領域に重なる開口を有する実質的に光が透過できる透光層と、前記透光層上及び前記開口内に配置された着色層とを備え、前記透光層は、前記開口の周囲に前記基板に対して傾斜した傾斜面を有し、前記反射層の縁が、前記傾斜面と重なって若しくは前記透光層の前記開口内に配置されており、前記傾斜面の前記基板に対する傾斜角は、68〜79度の範囲内であることを特徴とする。
【0028】
この発明によれば、反射層の開口部は透光層の開口に重なり、開口の周囲には傾斜面が形成されていることにより、透光層の開口及び傾斜面上においては着色層がその他の部分よりも厚く形成される。したがって、この電気光学装置用基板を電気光学装置に用いることにより、反射型表示の明るさを確保しつつ(すなわち反射型表示の明るさを犠牲にすることなく)、透過型表示の彩度を向上させることができる。また、着色層の厚肉部が透光層の傾斜面上や反射層の傾斜反射面上に、並びに、これらに囲まれた透光層の開口内に設けられることにより、着色層を構成する素材を充填しやすくなるため、着色層の表面の平坦性を向上させることが可能になる。
そして、傾斜角が、基板の表面に対して68〜79度の範囲内であることから、着色層の素材を流れ込み易くし、充填性を向上させることにより、着色層の表面の平坦性を向上させることができる。
【0029】
次に、本発明の電気光学装置用基板の製造方法は、基板上に実質的に光が透過できる透光層を形成する工程と、前記透光層を軟化させて素材を流動させることにより前記透光層の一部に前記基板に対して傾斜している傾斜面を形成する工程と、前記透光層上の一部に反射層を形成する工程と、前記透光層上及び前記反射層上に着色層を形成する工程とを有し、前記反射層を形成する工程では、前記傾斜面上に前記反射層の縁が設けられ、前記傾斜面上に前記基板に対して傾斜している傾斜反射面が形成され、前記着色層を形成する工程では、前記傾斜反射面上に、当該傾斜反射面上を除く前記反射層上に配置された前記着色層よりも膜厚が厚い部分を形成し、前記傾斜反射面は、反射する光が前記厚い部分を通過するように形成されていることを特徴とする。
【0030】
この発明によれば、透光層を軟化させることによってその流動性を利用して容易に傾斜面を形成することが可能になる。また、透光層上に反射層が形成され、透光層の傾斜面上に反射層の開口部が形成されていることにより、その上にカラーフィルタの着色層を形成する際に、反射層の開口部上に厚肉部を形成することが可能になる。また、基板の製造過程において傾斜面部上の反射層を除去して開口部を形成する時点で、除去部分に大きな段差が生じないので、開口部の形成が容易になるとともに高精度に開口部を形成することが可能になる。
更に、斜め方向に出射する光が着色層のうち膜厚が厚い部分を斜めに通過するので、正反射する光と比較して着色層中を通過する光路が長くなる。従って、着色層中を通過する光路が長い分だけ斜め方向に出射する光の彩度が向上し、表示面を斜め方向から観察した場合に、鮮やかな表示を得ることが可能になる。
【0031】
また、本発明の別の電気光学装置用基板の製造方法は、基板上に開口を有する実質的に光が透過できる透光層を形成する工程と、前記透光層を軟化させて素材を流動させることにより前記開口の周囲に前記基板に対して傾斜した傾斜面を形成する工程と、前記透光層上の一部に反射層を形成する工程と、前記開口内及び前記反射層上に着色層を形成する工程とを有し、前記反射層を形成する工程では、前記傾斜面上若しくは前記透光層の前記開口内に前記反射層の縁が設けられ、前記傾斜面上に前記基板に対して傾斜している傾斜反射面が形成され、前記着色層を形成する工程では、前記傾斜反射面上に、当該傾斜反射面上を除く前記反射層上に配置された前記着色層よりも膜厚が厚い部分を形成し、前記傾斜反射面は、反射する光が前記厚い部分を通過するように形成されていることを特徴とする。
【0032】
この発明によれば、透光層を流動させることによって開口の周囲に傾斜面を容易に形成することが可能になる。また、透光層上に反射層が形成され、透光層の開口と重なる開口部が反射層に設けられ、反射層の開口部の縁が透光層の傾斜面上若しくは開口内に設けられることにより、その上に着色層を形成する際に、反射層の開口部上に着色層の厚肉部を形成することが可能になる。また、基板の製造過程において傾斜面部上の反射層を除去して開口部を形成する時点で、除去部分に大きな段差が生じないので、開口部の形成が容易になるとともに高精度に開口部を形成することが可能になる。
更に、斜め方向に出射する光が着色層のうち膜厚が厚い部分を斜めに通過するので、正反射する光と比較して着色層中を通過する光路が長くなる。従って、着色層中を通過する光路が長い分だけ斜め方向に出射する光の彩度が向上し、表示面を斜め方向から観察した場合に、鮮やかな表示を得ることが可能になる。
【0033】
また、前記透光層を形成する工程では、前記透光層を軟化させたときに、前記透光層の縁部近傍において素材が流動して前記傾斜面が形成されるように、前記透光層を前記基板上に部分的に形成することが好ましい。
【0034】
この発明によれば、透光層を軟化させたときに透光層が形成されていない部分に素材を流れ込ませることで、透光層に傾斜面を容易に形成することができる。
【0035】
また、本発明の別の電気光学装置用基板の製造方法は、基板上に下地層を部分的に形成する工程と、前記下地層上に前記基板に対して傾斜している傾斜面を有する実質的に光が透過できる透光層を形成する工程と、前記透光層上の一部に反射層を形成する工程と、前記透光層上及び前記反射層上に着色層を形成する工程とを有し、前記透光層を形成する工程では、前記下地層の縁部近傍と重ねて前記傾斜面が形成され、前記反射層を形成する工程では、前記傾斜面上に前記反射層の縁が設けられ、前記傾斜面上に前記基板に対して傾斜している傾斜反射面が形成され、前記着色層を形成する工程では、前記傾斜反射面上に、当該傾斜反射面上を除く前記反射層上に配置された前記着色層よりも膜厚が厚い部分を形成し、前記傾斜反射面は、反射する光が前記厚い部分を通過するように形成されていることを特徴とする。
【0036】
この発明によれば、部分的に形成した下地層上に透光層を形成することによって、下地層によって形成された段差に沿って傾斜面が自然に構成されるので、簡単に傾斜面を形成できる。
更に、斜め方向に出射する光が着色層のうち膜厚が厚い部分を斜めに通過するので、正反射する光と比較して着色層中を通過する光路が長くなる。従って、着色層中を通過する光路が長い分だけ斜め方向に出射する光の彩度が向上し、表示面を斜め方向から観察した場合に、鮮やかな表示を得ることが可能になる。
【0037】
また、本発明において、前記反射層を形成する工程では、前記透光層の前記基板に対して平行な平行面上から前記傾斜面上に張り出すように前記反射層を形成することが好ましい。
【0038】
この発明によれば、傾斜面に沿って形成されている反射層のうち傾斜面の下部分に形成されている反射層をエッチング液等の薬液で除去する際に、精度よく反射層を除去できる。
【0039】
また、本発明において、前記反射層を形成する工程では、前記反射層の表面に可視光を散乱可能な微細な凹凸を形成することが好ましい。さらには、前記透光層の表面に凹凸を形成することが好ましい。
【0040】
この発明によれば、この電気光学装置用基板を電気光学装置に用いた際、電気光学装置の反射型表示において背景が映り込んだり、照明光による幻惑が生じたりすることを防止できる。また、透光層の表面にあらかじめ凹凸が形成してあれば、その透光層上に反射層を形成することで容易に反射層に凹凸を形成することができる。また、反射層の凹凸を透光層表面の凹凸形状によって制御することができるので、反射層が凹凸を形成することが難しい素材であっても、容易に所望の凹凸形状を形成することができる。
【0041】
また、本発明において、前記下地層を形成する工程では、前記下地層の表面上に凹凸が形成され、前記透光層を形成する工程では、前記下地層の前記凹凸上に前記透光層を形成することにより前記透光層の表面上に凹凸を形成し、前記反射層を形成する工程では、前記透光層の前記凹凸上に前記反射層を形成することにより前記反射層に可視光を散乱可能な微細な凹凸を形成することが好ましい。
【0042】
この発明によれば、下地層の表面にあらかじめ凹凸を形成しておけば、その下地層上に透光層を形成するだけで少なくとも透光層の表面に凹凸を容易に形成することができ、また、その透光層上に反射層を形成するだけで反射層上に凹凸を容易に形成できる。
【0043】
さらに、本発明の異なる電気光学装置用基板の製造方法は、基板上の一部に反射層を形成する工程と、前記反射層上に前記基板に対して傾斜している傾斜面を有する実質的に光が透過できる透光層を形成する工程と、前記透光層上に着色層を形成する工程とを有し、前記透光層を形成する工程では、前記傾斜面が前記反射層の縁に重ねて設けられるように形成され、かつ、前記傾斜面の前記基板に対する傾斜角が、68〜79度の範囲内となるように形成されることを特徴とする。
【0044】
さらに、本発明の異なる電気光学装置用基板の製造方法は、基板上の一部に反射層を形成する工程と、前記反射層上に、前記反射層が形成されていない領域に重なる開口を有する実質的に光が透過できる透光層を形成する工程と、前記透光層上及び前記開口内に着色層を形成する工程とを有し、前記透光層を形成する工程では、前記開口の周囲に設けられ前記基板に対して傾斜した傾斜面を、前記反射層の縁が前記傾斜面と重なるように若しくは前記透光層の前記開口の内側に設けられるように、かつ、前記傾斜面の前記基板に対する傾斜角が、68〜79度の範囲内となるように形成することを特徴とする。
【0045】
次に、本発明の電気光学装置は、基板と、前記基板上に配置された前記基板に対して傾斜している傾斜面を有する実質的に光が透過できる透光層と、前記透光層上の一部に配置された反射層と、前記透光層上及び前記反射層上に配置された着色層とを備え、前記反射層は前記傾斜面上に前記基板に対して傾斜している傾斜反射面を有しており、前記反射層の縁が前記傾斜面上に配置されており、前記着色層は、前記傾斜反射面上に配置され、前記傾斜反射面上に配置された前記着色層は、前記傾斜反射面上を除く前記反射層上に配置された前記着色層よりも膜厚が厚い部分を有し、前記傾斜反射面は、反射する光が前記厚い部分を通過するように配置されていることを特徴とする。
【0046】
この発明によれば、反射層の開口部の縁が透光層の傾斜面上に配置されていることにより、電気光学装置を構成した場合に、反射光の反射角度範囲を広くすることができ、反射型表示における視野角特性を改善することができる。また、開口部の縁に段差を形成する場合に較べて反射層のパターニングを容易かつ正確に行うことが可能になる。
更に、斜め方向に出射する光が着色層のうち膜厚が厚い部分を斜めに通過するので、正反射する光と比較して着色層中を通過する光路が長くなる。従って、着色層中を通過する光路が長い分だけ斜め方向に出射する光の彩度が向上し、表示面を斜め方向から観察した場合に、鮮やかな表示を得ることが可能になる。
【0047】
また、前記透光層は、前記傾斜面によって構成される谷状部を有することが好ましい。
【0048】
この発明によれば、谷状部が構成されていることにより谷状部を構成する傾斜面が多方向を向いているので、外光の反射方向をさらに広げることができる。したがって、反射型表示における視野角特性を改善することが可能になる。
【0049】
さらに、本発明の異なる電気光学装置は、基板と、前記基板上に配置され開口を有する実質的に光が透過できる透光層と、前記透光層上の一部に配置された反射層と、前記開口と重なる前記反射層が配置されていない領域と、前記透光層上及び前記開口内に配置された着色層とを備え、前記透光層は、前記開口の周囲に前記基板に対して傾斜した傾斜面を有し、前記反射層は前記傾斜面上に前記基板に対して傾斜している傾斜反射面を有しており、前記反射層の縁は、前記傾斜面と重なって若しくは前記透光層の前記開口内に配置されており、前記着色層は、前記傾斜反射面上に配置され、前記傾斜反射面上に配置された前記着色層は、前記傾斜反射面上を除く前記反射層上に配置された前記着色層よりも膜厚が厚い部分を有し、前記傾斜反射面は、反射する光が前記厚い部分を通過するように配置されていることを特徴とする。
【0050】
この発明によれば、反射層の開口部の縁が透光層の傾斜面上若しくは開口内に配置されていることにより、電気光学装置を構成した場合に、反射光の反射角度範囲を広くすることができ、反射型表示における視野角特性を改善することができる。また、開口部の縁に段差を形成する場合に較べて反射層のパターニングを容易かつ正確に行うことが可能になる。
更に、斜め方向に出射する光が着色層のうち膜厚が厚い部分を斜めに通過するので、正反射する光と比較して着色層中を通過する光路が長くなる。従って、着色層中を通過する光路が長い分だけ斜め方向に出射する光の彩度が向上し、表示面を斜め方向から観察した場合に、鮮やかな表示を得ることが可能になる。
【0051】
本発明において、前記反射層は前記基板に対して傾斜している傾斜反射面を有し、前記傾斜反射面は少なくとも前記傾斜面上に配置されていることが好ましい。さらには、前記透光層は前記基板に対して平行な平行面を有し、前記傾斜反射面は前記平行面上から前記傾斜面上に張り出すように配置されていることが好ましい。
【0052】
この発明によれば、傾斜反射面によって外光の反射方向を広げることができるので、反射型表示における視野角特性を改善することが可能になる。
【0053】
さらに、前記反射層は可視光を散乱可能な微細な凹凸を有することが好ましい。
【0054】
この発明によれば、電気光学装置の反射型表示において背景が映り込んだり、照明光による幻惑が生じたりすることを防止できる。
【0055】
本発明において、前記透光層上に着色層が配置されていることが好ましい。
【0056】
この発明によれば、着色層は反射層の開口部を平面的に重なる領域が、透光層の傾斜面に対応した厚肉部となる。したがって、反射型表示の明るさを確保しつつ(すなわち反射型表示の明るさを犠牲にすることなく)、透過型表示の彩度を向上させることができる。
【0057】
また、本発明の別の電気光学装置は、基板と、前記基板上の一部に配置された反射層と、前記反射層上に配置された前記基板に対して傾斜した傾斜面を有する実質的に光が透過できる透光層と、前記透光層上に配置された着色層とを備え、前記傾斜面は前記反射層の縁と重なって配置され、前記傾斜面の前記基板に対する傾斜角は、68〜79度の範囲内であることを特徴とする。
【0058】
この発明によれば、反射層の開口部は、少なくとも透光層の傾斜面の一部と重なっており、さらにその開口部上に着色層が配置されていることから、開口部上には着色層がその他の部分よりも厚く配置される。したがって、反射型表示の明るさを確保しつつ(すなわち反射型表示の明るさを犠牲にすることなく)、透過型表示の彩度を向上させることができる。
そして、傾斜角が、基板の表面に対して68〜79度の範囲内であることから、着色層の素材を流れ込み易くし、充填性を向上させることにより、着色層の表面の平坦性を向上させることができる。
【0059】
さらに、本発明の異なる電気光学装置は、基板と、前記基板上の一部に配置された反射層と、前記反射層上に配置され前記反射層が配置されていない領域に重なる開口を有する実質的に光が透過できる透光層と、前記透光層上及び前記開口内に配置された着色層とを備え、前記透光層は、前記開口の周囲に前記基板に対して傾斜した傾斜面を有し、前記反射層の縁が、前記傾斜面と重なって若しくは前記透光層の前記開口内に配置され、前記傾斜面の前記基板に対する傾斜角は、68〜79度の範囲内であることを特徴とする。
【0060】
この発明によれば、反射層の開口部は透光層の開口と重なり、この開口の周囲において透光層に傾斜面が設けられていて、さらにその開口部上に着色層が配置されていることから、開口部上には着色層がその他の部分よりも厚く配置される。したがって、反射型表示の明るさを確保しつつ(すなわち反射型表示の明るさを犠牲にすることなく)、透過型表示の彩度を向上させることができる。
そして、傾斜角が、基板の表面に対して68〜79度の範囲内であることから、着色層の素材を流れ込み易くし、充填性を向上させることにより、着色層の表面の平坦性を向上させることができる。
【0061】
次に、本発明の電気光学装置の製造方法は、基板上に実質的に光が透過できる透光層を形成する工程と、前記透光層を軟化させて素材を流動させることにより前記透光層の一部に前記基板に対して傾斜している傾斜面を形成する工程と、前記透光層上に開口部を有する反射層を形成する工程とを有し、前記反射層を形成する工程では、前記傾斜面上に前記開口部の縁が設けられるように前記開口部が形成されることを特徴とする。
【0062】
この発明によれば、透光層を軟化させることによってその流動性を利用して容易に傾斜面を形成することが可能になる。また、透光層上に反射層が形成され、透光層の傾斜面上に反射層の開口部が形成されていることにより、その上にカラーフィルタの着色層を形成する際に、反射層の開口部上に厚肉部を形成することが可能になる。また、基板の製造過程において傾斜面部上の反射層を除去して開口部を形成する時点で、除去部分に大きな段差が生じないので、開口部の形成が容易になるとともに高精度に開口部を形成することが可能になる。
【0063】
また、本発明の別の電気光学装置の製造方法は、基板上に開口を有する実質的に光が透過できる透光層を形成する工程と、前記透光層を軟化させて素材を流動させることにより前記開口の周囲に前記基板に対して傾斜した傾斜面を形成する工程と、前記透光層上に前記開口と重なる開口部を有する反射層を形成する工程とを有し、前記反射層を形成する工程では、前記傾斜面上若しくはその内側の前記透光層の前記開口上に前記開口部の縁が設けられるように前記開口部が形成されることを特徴とする。
【0064】
この発明によれば、透光層を軟化させることによってその流動性を利用して開口の周囲に傾斜面を容易に形成することが可能になる。また、透光層上に反射層が形成され、透光層の開口上に反射層の開口部が形成され、透光層の開口の周囲に傾斜面が形成されていることにより、その上にカラーフィルタの着色層を形成する際に、反射層の開口部上に厚肉部を形成することが可能になる。また、基板の製造過程において開口上の反射層を除去して開口部を形成する時点で、除去部分に大きな段差が生じないので、開口部の形成が容易になるとともに高精度に開口部を形成することが可能になる。
【0065】
本発明において前記透光層を形成する工程では、前記透光層を軟化させたときに、前記透光層の縁部近傍において素材が流動して前記傾斜面が形成されるように、前記透光層を前記基板上に部分的に形成することが好ましい。
【0066】
この発明によれば、透光層を軟化させたときに透光層が形成されていない部分に素材を流れ込ませることで、透光層に傾斜面を容易に形成することができる。
【0067】
また、本発明の別の電気光学装置の製造方法は、基板上に下地層を部分的に形成する工程と、前記下地層上に前記基板に対して傾斜している傾斜面を有する実質的に光が透過できる透光層を形成する工程と、前記透光層上に開口部を有する反射層を形成する工程とを有し、前記透光層を形成する工程では、前記下地層の縁部近傍上に前記傾斜面が形成され、前記反射層を形成する工程では、前記傾斜面上に前記開口部の縁が設けられるように前記開口部が形成されることを特徴とする。
【0068】
この発明によれば、部分的に形成した下地層上に透光層を形成することによって、下地層によって形成された段差に沿って傾斜面が自然に構成されるので、簡単に傾斜面を形成できる。
【0069】
本発明において、前記反射層を形成する工程では、前記透光層の前記基板に対して平行な平行面上から前記傾斜面上に張り出すように前記反射層を形成することが好ましい。
【0070】
この発明によれば、傾斜面に沿って形成されている反射層のうち傾斜面の下部分に形成されている反射層をエッチング液等の薬液で除去する際に、精度よく反射層を除去できる。
【0071】
また、本発明において、前記反射層を形成する工程では、前記反射層の表面に可視光を散乱可能な微細な凹凸を形成することが好ましい。さらには、前記透光層の表面に凹凸を形成することが好ましい。
【0072】
この発明によれば、反射型表示において背景が映り込んだり、照明光による幻惑が生じたりすることを防止できる。また、透光層の表面にあらかじめ凹凸が形成してあれば、その透光層上に反射層を形成することで容易に反射層に凹凸を形成することができる。また、反射層の凹凸を透光層表面の凹凸形状によって制御することができるので、反射層が凹凸を形成することが難しい素材であっても、容易に所望の凹凸形状を形成することができる。
【0073】
さらに、前記下地層を形成する工程では、前記下地層の表面上に凹凸を形成し、前記透光層を形成する工程では、前記下地層の前記凹凸上に前記透光層を形成することにより前記透光層の表面上に凹凸を形成し、前記反射層を形成する工程では、前記透光層の前記凹凸上に前記反射層を形成することにより前記反射層に可視光を散乱可能な微細な凹凸を形成することが好ましい。
【0074】
この発明によれば、下地層の表面にあらかじめ凹凸を形成しておけば、その下地層上に透光層を形成するだけで少なくとも透光層の表面に凹凸を容易に形成することができ、また、その透光層上に反射層を形成するだけで反射層上に凹凸を容易に形成できる。
【0075】
次に、本発明の別の電気光学装置の製造方法は、基板上に開口部を有する反射層を形成する工程と、前記反射層上に前記基板に対して傾斜している傾斜面を有する実質的に光が透過できる透光層を形成する工程と、前記透光層上に着色層を形成する工程とを有し、前記透光層を形成する工程では、前記傾斜面が前記開口部の縁上に設けられるように形成されることを特徴とする。
【0076】
さらに、本発明の異なる電気光学装置の製造方法は、基板上に開口部を有する反射層を形成する工程と、前記反射層上に前記開口部に重なる開口を有する実質的に光が透過できる透光層を形成する工程と、前記透光層上に着色層を形成する工程とを有し、前記透光層を形成する工程では、前記開口の周囲に前記基板に対して傾斜した傾斜面を、前記反射層の前記開口部の縁上に前記傾斜面若しくはその内側の前記透光層の前記開口が設けられるように形成することを特徴とする。
【0077】
上記各手段において、光学特性を重視する場合には、上記透光層の開口や傾斜面によって着色層に設けられる厚肉部の厚さは、開口部周辺の着色層の部分(厚肉部以外の着色層の部分)、或いは、透光層の傾斜面や開口以外の透光層上に設けられる着色層の部分、の厚さに対してほぼ2〜6倍の範囲内であることが好ましい。厚肉部の厚さが2倍未満である場合には、透過領域の色表現を最適化すると反射領域の明度を充分に確保することが難しくなり、反射領域の明度を最適化すると透過領域の彩度を確保することが難しくなる。厚肉部の厚さが6倍を越える場合には、透過領域の色表現を最適化すると反射領域の彩度を確保することが難しくなり、反射領域の色表現を最適化するとバックライトの光量を増大しないと透過領域の明度を確保することが難しくなるとともに、カラーフィルタ基板の平坦性を確保することも困難になる。
【0078】
さらに、カラーフィルタの平坦性と光学特性とを両立させるためには、反射層の開口部と重なる範囲における厚肉部の厚さの平均値を1.0〜3.0μmの範囲内の値とし、開口部周辺の反射層と重なる領域の着色層の部分の厚さ(開口部以外の着色層の部分の厚さ)を0.2〜1.5μmの範囲内の値とすることが好ましい。このようにすると、厚肉部の存在に起因するカラーフィルタの厚さの不均一性を低減しつつ、反射領域と透過領域の色表示の品位を向上させることが可能になる。
【0079】
また、本発明の電子機器は、上記のいずれかの電気光学装置と、該電気光学装置を制御する制御手段とを備えたものである。本発明の電子機器としては、特に、携帯電話、携帯型情報端末などの携帯型電子機器であることが、反射半透過型の電気光学装置を有効に用いることが出来る点で好ましい。
【0080】
【発明の実施の形態】
次に、添付図面を参照して本発明に係る電気光学装置用基板、その製造方法、電気光学装置、その製造方法、及び電子機器の実施形態について詳細に説明する。
【0081】
[第1実施形態]
まず、図1及び図2を参照して本発明の第1実施形態の電気光学装置について説明する。
図1は、本発明に係る第1実施形態の液晶装置を構成する液晶パネル200の外観を示す概略斜視図であり、図2(a)は液晶パネル200の模式的な概略断面図であり、図2(b)は液晶パネル200を構成するカラーフィルタ基板210の拡大部分平面図である。
【0082】
この液晶装置は、いわゆる反射半透過方式のパッシブマトリクス型構造を有する液晶パネル200に対して、必要に応じて図示しないバックライトやフロントライト等の照明装置やケース体などを適宜に取付けてなる。
【0083】
図1に示すように、液晶パネル200は、ガラス板や合成樹脂板等からなる透明な第1基板211を基体とするカラーフィルタ基板210と、これに対向する同様の第2基板221を基体とする対向基板220とがシール材230を介して貼り合わせられ、シール材230の内側に注入口230aから液晶232が注入された後、封止材231にて封止されてなるセル構造を備えている。
【0084】
第1基板211の内面(第2基板221に対向する表面)上には複数並列したストライプ状の透明電極216が形成され、第2基板221の内面上には複数並列したストライプ状の透明電極222が形成されている。また、上記透明電極216は配線218Aに導電接続され、上記透明電極222は配線228に導電接続されている。透明電極216と透明電極222とは相互に直交し、その交差領域はマトリクス状に配列された多数の画素を構成し、これらの画素配列が液晶表示領域Aを構成している。
【0085】
第1基板211は第2基板221の外形よりも外側に張り出してなる基板張出部210Tを有し、この基板張出部210T上には、上記配線218A、上記配線228に対してシール材230の一部で構成される上下導通部を介して導電接続された配線218B、及び、独立して形成された複数の配線パターンからなる入力端子部219が形成されている。また、基板張出部210T上には、これら配線218A,218B及び入力端子部219に対して導電接続されるように、液晶駆動回路等を内蔵した半導体IC261が実装されている。また、基板張出部210Tの端部には、上記入力端子部219に導電接続されるように、フレキシブル配線基板263が実装されている。
【0086】
この液晶パネル200において、図2(a)に示すように、第1基板211の外面には位相差板(1/4波長板)240及び偏光板241が配置され、第2基板221の外面には位相差板(1/4波長板)250及び偏光板251が配置されている。
【0087】
<カラーフィルタ基板210の構造>
次に、図2(a)及び(b)を参照して、本発明の電気光学装置用基板に相当するカラーフィルタ基板210の構造を詳細に説明する。第1基板211の表面には、可視光に対して透光性を有する透光層212が形成される。この透光層は、アクリル樹脂やエポキシ樹脂などの有機樹脂層などで構成することができる。また、透光層は、可視光に対してほぼ透明であることが望ましい。例えば、可視光領域においてほぼ70%以上の光透過率を有し、可視光領域内における光透過率の変動範囲が10%以下であるものなどが好ましい。
【0088】
透光層212の表面の一部には、第1基板211の表面に対して傾斜した傾斜面212aが上記の画素毎に設けられている。図示例では、傾斜面212aは全体として断面谷状(V字状)に構成されている。
【0089】
上記透光層212上には反射層213が形成されている。反射層213は、アルミニウム、アルミニウム合金、クロム、クロム合金、銀、銀合金などの金属薄膜で構成することができる。反射層213には、上記画素毎に開口部213hが設けられている。この開口部213hは、上記透光層212の傾斜面212a上に開口部の縁213aが位置するように形成されている。
【0090】
また、反射層213は、透光層212の平坦な表面上においてほぼ平坦な反射面を有する平坦部となっているが、上記開口部213h周辺において上記傾斜面212a上に配置され、傾斜面212aの傾斜角度とほぼ等しく傾斜した反射面を備えた傾斜反射面213bとなっている。この傾斜反射面213bは、反射層213の平坦部から上記傾斜面212aに張り出すように構成されている。
【0091】
反射層212の上には画素毎に着色層214が形成され、その上を透明樹脂等によって構成される表面保護層(オーバーコート層)215が被覆している。この着色層214と表面保護層214とによってカラーフィルタが形成される。
【0092】
着色層214は、通常、透明樹脂中に顔料や染料等の着色材を分散させて所定の色調を呈するものとされている。着色層の色調の一例としては原色系フィルタとしてR(赤)、G(緑)、B(青)の3色の組合せからなるものがあるが、これに限定されるものではなく、補色系その他の種々の色調で形成できる。通常、基板表面上に顔料や染料等の着色材を含む感光性樹脂からなる着色レジストを塗布し、フォトリソグラフィ法によって不要部分を除去することによって、所定のカラーパターンを有する着色層を形成する。ここで、複数の色調の着色層を形成する場合には上記工程を繰り返す。
【0093】
本実施形態においては、着色層214が透光層213の傾斜面213aをも含む領域に形成されている結果、傾斜面213a上に形成された着色層214は他の部分よりも厚く形成されている。より具体的に述べると、透光層213には断面谷状(V字状)の傾斜面213aが形成されているので、この上に形成される着色層214の厚肉部214a(図3参照)は、第1基板211に向けた断面山状に形成されている。
【0094】
なお、着色層の配列パターンとして、図2(b)に示す図示例ではストライプ配列を採用しているが、このストライプ配列の他に、デルタ配列や斜めモザイク配列等の種々のパターン形状を採用することができる。
【0095】
表面保護層215の上には、ITO(インジウムスズ酸化物)等の透明導電体からなる透明電極216が形成されている。透明電極216は図2(b)の図示上下方向に伸びる帯状に形成され、複数の透明電極216が相互に並列してストライプ状に構成されている。透明電極216の上にはポリイミド樹脂等からなる配向膜217が形成されている。
【0096】
一方、上記カラーフィルタ基板210と対向する対向基板220は、ガラス等からなる第2基板221上に、上記と同様の透明電極222、SiO2やTiO2などからなる硬質保護膜223、上記と同様の配向膜224を順次積層させたものである。
【0097】
以上のように構成された本実施形態において、対向基板220側から入射した外光は液晶232を透過してカラーフィルタを透過した後に反射層213にて反射し、再び液晶232及び対向基板220を透過して出射する。このとき、反射光はカラーフィルタの着色層214を2回通過する。
【0098】
一方、着色層214は反射層213の開口部213hを覆っているので、例えばカラーフィルタ基板210の背後にバックライト等を配置して、背後から照明光を照射した場合には、当該照明光の一部が透光層212の傾斜面212a及び反射層213の開口部213hを通過して着色層214を透過し、液晶232及び対向基板220を通過して出射する。このとき、透過光は着色層214を1回だけ透過する。
【0099】
本実施形態では、第1基板211上に透光層212が形成され、この透光層212に傾斜面212aが設けられ、この傾斜面212a上に開口部の縁213aを有する反射層213が形成されているので、後述する製造方法の実施形態において詳述するように、反射層213のパターニングが容易になり、開口部213hを高精度に形成することが可能になる。
【0100】
図3は、上記液晶パネル200のカラーフィルタ基板210における1画素の部分を示す拡大部分断面図(a)及び拡大部分平面図(b)である。この図に示すように、本実施形態では、透光層212の傾斜面212a上の一部に反射層213の一部である傾斜反射面213bが配置されていることにより、外光の反射方向の範囲が広がるため、液晶パネル200の視野角特性がなだらかになり、液晶パネル200の基板表面に対して傾斜した方向から見た場合の反射型表示の視認性が向上する。
【0101】
また、本実施形態の着色層214には、透光層212の傾斜面212a上に厚肉部214aが形成され、この厚肉部214aは反射層213の開口部213hと平面的に重なる領域に設けられている。したがって、透過光OTは第1基板211及び傾斜面212aを経て着色層214の厚肉部214aを通過した後に液晶を透過し、さらに対向基板220から出射する。一方、反射光ORは反射層213で反射されるので、着色層214の厚肉部214a以外の部分(薄肉部分)を2回通過した後に出射される。
【0102】
このように、反射光ORは着色層214の薄肉部分を2回通過するのに対して透過光OTは1回だけではあるが着色層214の厚肉部214aを通過するため、図13に示す従来構造の液晶パネル100に較べて、反射型表示の明るさを確保しつつ、すなわち反射型表示の明るさを犠牲にすることなく、透過型表示の彩度を高めることができる。換言すれば、反射型表示と透過型表示の色彩の相違を低減できる。
【0103】
本実施形態において、カラーフィルタの光学特性を重視する場合、すなわち、透過表示と、反射表示のいずれにおいてもそのカラー表示態様が共に良好な色再現性を持つことを優先する場合には、反射層213の開口部213hと重なる部分における厚肉部214aの厚さの平均値は、反射層の平坦部上の着色層の厚さの2〜6倍の範囲内であることが好ましい。厚肉部214aの厚さの上記平均値が2倍未満である場合には、透過領域の色表現を最適化すると反射領域の明度を充分に確保することが難しくなり、反射領域の明度を最適化すると透過領域の彩度を確保することが難しくなる。厚肉部214aの厚さの上記平均値が6倍を越える場合には、透過領域の色表現を最適化すると反射領域の彩度を確保することが難しくなり、反射領域の色表現を最適化するとバックライトの光量を増大しないと透過領域の明度を確保することが難しくなるため、バックライトの消費電力の増大を招くとともに、カラーフィルタ基板の平坦性を確保することも困難になる。
【0104】
ところで、実際に液晶表示装置を構成する場合において、カラーフィルタの平坦性は液晶層の厚さの均一性や再現性を担保することによってその表示品位を向上させる上で重要であり、また、カラーフィルタの光学特性は透過表示と反射表示におけるカラー表示態様の品位を共に向上させるために重要である。本発明者らは、カラーフィルタの平坦性と光学特性とを共に満足させるためには、着色層214の厚さを所定範囲内に限定することが有効であることを見出した。すなわち、着色層214の厚肉部214aの厚さ(透過領域における着色層の厚さ)の平均値Dtを1.0〜3.0μm、その他の部分の厚さ(反射領域における着色層の厚さ)Dsを0.2〜1.5μmの範囲内にすることによって、カラーフィルタの平坦性と光学特性とを両立させることができる。厚さDtが上記範囲を越えると着色層の段差が大きくなるため平坦性を確保することが困難になり、厚さDtが上記範囲を下回ると透過表示の彩度を維持することが困難になる。また、厚さDsが上記範囲を越えると着色層の段差が大きくなるために平坦性を確保することが困難になり、厚さDsが上記範囲を下回ると反射表示の彩度を維持することが困難になる。なお、このような着色層の厚さDt,Dsの条件範囲内であっても、DtとDsの比は、上述と同様に2〜6の範囲内であることが望ましいことは当然である。
【0105】
本実施形態では、反射層213上に透光層212を形成することによって上記着色層214の厚さDtとDsを設定するようにしているが、これによって着色層214を形成した場合に、その厚肉部214aの上部表面に窪みが発生し、これが保護層215の表面の窪みの原因となる。上記Dt,Dsを上記範囲内に設定することによって両窪みの深さを小さくし、それによって液晶層の厚さの均一性及び再現性を高めることができる。より具体的には、着色層214の窪みの深さを0.5μm以下、保護層215の窪みの深さを0.2μm以下とすることが好ましい。特に、保護層215の窪みの深さを0.1μm以下にすることによって表示ムラ等のない高品位の液晶表示を実現することができる。
【0106】
また、上記着色層214の素材を流れ込み易くし、充填性を向上させることにより、着色層214の表面の平坦性を向上させるためには、上記透光層212の傾斜面212aの傾斜角(本実施形態では反射層213の傾斜反射面213bの傾斜角でもある。)は、基板211の表面に対して68〜79度(基板211の法線に対して11〜22度)の範囲内であることが好ましい。この角度範囲よりも傾斜面212aが急峻になると、素材の流れ込み性或いは充填性を向上させる効果が低下する。また、上記角度範囲よりも傾斜面212aをなだらかに形成することは製造上困難である。
【0107】
[第2実施形態]
次に、図4(a)及び(b)を参照して、本発明に係る第2実施形態の液晶パネル200’の構造について説明する。この液晶パネル200’は、基本的に第1実施形態の液晶パネル200とほぼ同様の構造を有し、第1実施形態と同様のカラーフィルタ基板210に設けられた第1基板211、透光層212、着色層214、表面保護層215、透明電極216及び配向膜217と、第2基板221、硬質保護膜223及び配向膜224を備えた対向基板220とを有し、さらに、第1実施形態と同様のシール材230、液晶232、位相差板240,250、偏光板241,251を備えているので、これらについての説明は省略する。
【0108】
本実施形態では、透光層212上に形成された反射層213’が画素毎に分離した状態に設けられている。この反射層213’には、第1実施形態と同様に画素毎に開口213h’が設けられている。また、画素毎に形成された着色層214の間の画素間領域には黒色遮光膜(ブラックマトリクス或いはブラックマスク)214BMが形成されている。この黒色遮光膜214BMとしては、例えば黒色の顔料や染料等の着色材を樹脂その他の基材中に分散させたものや、R(赤)、G(緑)、B(青)の3色の着色材を共に樹脂その他の基材中に分散させたものなどを用いることができる。
【0109】
なお、上記第1実施形態及び第2実施形態においては、透光層と反射層との積層構造の上に着色層を形成した例を示したが、カラーフィルタを必要としない液晶パネルである場合(例えばモノクロ表示を行う液晶パネルなど)、或いは、対向基板220側(第2基板221上)にカラーフィルタを形成する場合には、反射層の上に絶縁膜等を介して直接透明電極を形成しても構わない。
【0110】
本実施形態においても、反射層213’の開口部213h’と重なる部分における厚肉部の厚さの平均値は、反射層の平坦部上の着色層の厚さの2〜6倍の範囲内であることが好ましい。また、着色層214の厚肉部の厚さ(透過領域における着色層の厚さ)の平均値Dtを1.0〜3.0μm、その他の部分の厚さ(反射領域における着色層の厚さ)Dsを0.2〜1.5μmの範囲内にすることが好ましい。
【0111】
[第3実施形態]
次に、図5(a)〜(e)を参照して、本発明に係る液晶装置の製造方法において、或いは、本発明に係る液晶装置用基板の製造方法において用いることのできるカラーフィルタ基板210の製造プロセスについて説明する。
【0112】
まず、図5(a)に示すように、第1基板211上に透光層212Xを全面的に形成する。透光層212Xの素材としては、アクリル樹脂やエポキシ樹脂などを塗布、乾燥させて形成した透明樹脂体などを用いることができる。
【0113】
次に、図5(b)に示すように、フォトリソグラフィ技術とエッチング法を用いて、上記透光層212Xに第1基板211上の画素毎に開口部212Yを形成する。その後、透光層212Xを加熱して軟化させることによって流動化させ、図5(c)に示すように、上記開口部212Yに臨む縁部近傍の表面に傾斜面212aを形成する。
【0114】
その後、上記透光層212上において全面的にアルミニウム、アルミニウム合金、クロム、クロム合金、銀、銀合金等の金属を蒸着法やスパッタリング法等によって被着し、図5(d)に示す反射層213Xを形成する。そして、反射層213Xに対してフォトリソグラフィ技術及びエッチング法を施して、図5(e)に示すように、上記透光層212の傾斜面212a上に開口部の縁213aが配置されるように開口部213hを形成して、反射層213を完成させる。ここで、反射層213は、透光層212の平坦な表面部分上から傾斜面212aの一部(外周部分)上に張り出した状態に形成される。
【0115】
なお、上記各実施形態及び本実施形態においては、透光層212の傾斜面212aを断面V字状に図示しているが、これはあくまでも模式的に描いたものであって、実際には、曲面状に傾斜した表面を有するものであってもよい。
【0116】
なお、第1実施形態の液晶装置用基板であるカラーフィルタ基板を形成するには、その後、図3に示す着色層214を画素毎に形成すればよい。着色層214の形成は、例えば透明樹脂中に所定の色相を呈する顔料や染料等の着色材を分散させたものをパターニングして行う。例えば、所定の色相を呈する感光性樹脂を基板上に塗布して、所定の露光パターンにて露光し、その後、現像処理を行って着色層を形成する。複数の色(例えばR、G,B)の着色層を所定の配列パターンで形成するには、上記手順を色毎に繰り返せばよい。
【0117】
本実施形態においては、反射層213に開口部213hを設ける際に、その開口部213hを形成するために除去される部分が透光層212の傾斜面212a上に位置することから、当該部分に大きな段差が存在せず、なだらかに傾斜しているため、開口部213hを形成するためのレジスト等からなるマスクの形成工程やエッチング等のパターニング処理工程を容易に、かつ、高精度に行うことができるという利点がある。
【0118】
[第4実施形態]
次に、図6(a)〜(e)を参照して本発明に係る液晶装置の製造方法において用いるカラーフィルタ基板210の別の製造プロセスについて説明する。
【0119】
この実施形態では、まず、図6(a)に示すように、第1基板211上に下地層212Aを形成し、図6(b)に示すように、この下地層212Aに画素毎に開口部212Aaを形成する。下地層212Aとしては、透光性を有するものであることが好ましいが、必ずしも透光性を有するものでなくてもよい。また、この下地層212Aを軟化させ、流動させる必要はないので、SiO2やTiO2などの硬質膜で形成することも可能である。
【0120】
次に、図6(c)に示すように、上記下地層212A上に透光層212Bを形成する。この透光層212Bの素材や形成方法は第3実施形態と同様の素材や方法を用いることができるが、この透光層212Bを軟化させ、流動させる必要はないので、SiO2やTiO2などの硬質膜で形成することも可能である。
【0121】
このとき、透光層212Bはほぼ全面的に形成されるが、上記の下地層212Aには画素毎に開口部212Aaが形成されていることにより、下地層212Aの開口縁部近傍において透光層212Bの表面には傾斜面212aが形成される。
【0122】
その後は、上記第3実施形態と同様に、図6(d)に示すように反射層213Xを形成し、その後、開口部213hを形成することにより図6(e)に示す反射層213を完成させる。
【0123】
なお、第1実施形態の液晶装置用基板であるカラーフィルタ基板を形成するには、その後、図3に示す着色層214を画素毎に形成すればよい。この着色層の形成工程は上記第3実施形態と同様である。
【0124】
[第5実施形態]
次に、図7を参照して、本発明の第5実施形態の液晶パネル及び液晶装置用基板の構造について説明する。本実施形態においては、上記第1実施形態の液晶パネル200と基本的に同じ構造を有するので、同一部分の構造については図示及び説明を省略し、異なる部分についてのみ説明する。
【0125】
この実施形態においては、第1基板211上に透光層312が形成され、この透光層312の表面には微細な凹凸が形成されている。この透光層312において、傾斜面312aは上記第1実施形態と同様に構成されている。
【0126】
透光層312上には反射層313が形成されている。この反射層313は第1実施形態と同様に透光層312の傾斜面312a上に開口部の縁313aが設けられている。この反射層313は、上記透光層312の微細な凹凸上に形成されているために、当該透光層312の凹凸を反映した微細な凹凸状の反射面を備えている。そして、この微細な凹凸状の反射面は、可視光を散乱させるように構成されている。
【0127】
この実施形態では、反射層313の特に平坦な反射面領域が微細な凹凸状(すなわち粗面状)に形成されているので、液晶パネルの反射型表示において、反射層による正反射に起因して生ずる背景の写りこみや照明光による幻惑を防止することができる。
【0128】
[第6実施形態]
次に、図8(a)〜(e)を参照して、本発明の液晶装置及び液晶装置用基板の製造方法に関する第6実施形態として、上記第5実施形態のカラーフィルタ基板(液晶装置用基板)を形成するための製造プロセスについて説明する。
【0129】
この実施形態においては、まず、図8(a)に示すように、第1基板211上に第3実施形態と同様の素材を用いて同様の方法で透光層312Xを形成する。次に、図8(b)に示すように、第3実施形態と同様にフォトリソグラフィ技術及びエッチング法を用いて透光層313Xに開口部312Yを形成し、さらに、フォトリソグラフィ技術及びエッチング法を用いて透光層312Xの表面上に微細な凹凸を形成する。
【0130】
次に、図8(c)に示すように、第3実施形態と同様に透光層312Xを加熱することにより軟化させ、その開口縁を流動させて、傾斜面312aを備えた透光層312を形成する。このとき、透光層312Xの表面上の微細な凹凸も素材の軟化によって若干崩れるが、凹凸自体は透光層312の表面上に残存するようにする。
【0131】
次に、図8(d)に示すように、反射層313Xを第3実施形態と同様の素材を用いて同様の方法で形成する。このとき、反射層313Xには、上記透光層312の表面上に微細な凹凸が残存していることにより、当該凹凸を反映して微細な凹凸状の反射面を有するものとなる。
【0132】
最後に、上記反射層313Xをフォトリソグラフィ技術及びエッチング法を用いてパターニングし、開口部313hを有する反射層313を完成させる。
【0133】
なお、第5実施形態の液晶装置用基板であるカラーフィルタ基板を形成するには、第3実施形態に記載したところと同様に、その後、図7に示す着色層214を画素毎に形成すればよい。
【0134】
[第7実施形態]
次に、図9を参照して、本発明の液晶装置及び液晶装置用基板の製造方法に関する第6実施形態として、上記第5実施形態のカラーフィルタ基板(液晶装置用基板)を形成するための製造プロセスについて説明する。
【0135】
この実施形態においては、まず、図9(a)に示すように、第1基板211上に第4実施形態と同様の下地層312Aを形成する。そして、図9(b)に示すように、この下地層312Aの表面には、さらにフォトリソグラフィ技術及びエッチング法により微細な凹凸を形成する。
【0136】
次に、図9(c)に示すように、上記下地層312A上に透光層312Bを形成する。この透光層312Bの素材や形成方法は第4実施形態と同様である。このとき、透光層312Bはほぼ全面的に形成されるが、上記の下地層312Aには画素毎に開口部312Aaが形成されていることにより、下地層312Aの開口縁部近傍において、透光層312Bには傾斜面部312aが形成される。また、下地層312Aの表面上には上記のように微細な凹凸が形成されているので、この凹凸を反映して、透光層312Bの表面にも微細な凹凸が形成される。
【0137】
その後、上記第4実施形態と同様に、図9(d)に示すように反射層313Xを形成し、その後、開口部313hを形成することにより図9(e)に示す反射層313を完成させる。このとき、反射層313は、透光層312Bの表面上の微細な凹凸を反映して、微細な凹凸を有する反射面を備えたものとなる。この反射面の微細な凹凸は、可視光を散乱させることができるように構成される。
【0138】
なお、第1実施形態の液晶装置用基板であるカラーフィルタ基板を形成するには、その後、図7に示す着色層214を画素毎に形成すればよい。この着色層の形成工程は上記第3実施形態と同様である。
【0139】
[その他の構成例]
次に、上記各実施形態に適用可能な他の構成例について図10(a)〜(d)を参照して詳細に説明する。
【0140】
図10(a)に示す構成例1は、基板411上に、傾斜面412aを有する透光層412を形成し、この透光層412上に、上記傾斜面412a上に開口部の縁413aを有する反射層413を形成し、この開口部の縁413aは傾斜面412a上に配置され、さらに、この反射層413上に着色層414を形成している点で上記各実施形態と同様である。
【0141】
この構成例1においては、透光層412の傾斜面412aのうち最も低い部分が基板411の表面から或る程度離れるように、すなわち当該部分においても透光層412が或る程度の層厚を有するように、構成されている点で上記各実施形態とは若干異なる。この場合、着色層414に所定の厚さ増加分を有する厚肉部414aを形成するに必要な厚さ以上に透光層412が厚く形成されていることとなるが、光学的には上記各実施形態と同様の作用効果が得られる。
【0142】
図10(b)に示す構成例2も、基板511上に、傾斜面512aを備えた透光層512を形成し、この透光層512上に、上記傾斜面512a上に開口部の縁513aを有する反射層513を形成し、この開口部の縁513aは傾斜面512a上に配置され、さらに、この反射層513上に着色層514を形成している点で上記各実施形態と同様である。
【0143】
この構成例2においては、透光層512の傾斜面512aの内側に透光素材の存在しない開口512bが設けられている点で、上記各実施形態とは若干異なる。しかしながら、この構成例2においても光学的には上記各実施形態と同様の作用効果が得られる。また、開口512bを設けることにより、傾斜面512aの角度を変えることなく、反射層の開口部の大きさに応じて透光層512の厚さを調整することができる。透光層512の厚さは、上記第1実施形態において説明したように、着色層514における厚肉部の厚さの平均と、反射層513の平坦部上の厚さとの関係を規制するため、透光層512の厚さを調整することにより、反射型表示と透過型表示の色表示特性を最適化することが可能になる。
【0144】
図10(c)に示す構成例3においては、基板611上に、画素毎に開口部613hを有する反射層613が形成され、この反射層613上に透光層612が形成される。この透光層612には上記と同様の傾斜面612aが形成されている。透光層612は上記各実施形態と同様の素材及び方法で形成される。そして、透光層612上に着色層614が形成される。透光層612の傾斜面612aは、反射層613の開口部の縁613a上に配置されている。
【0145】
この構成例3においても、傾斜面612aを有する透光層612上に着色層614が形成されることにより、着色層614における傾斜面612a上に厚肉部614aが形成され、この厚肉部614aは反射層の開口部613hと平面的に重なる領域に位置しているので、反射型表示の明るさを確保しつつ、透過型表示の彩度を向上させることが出来る点で上記各実施形態と同様である。
【0146】
図10(d)に示す構成例4においては、構成例3と同様に、基板711上に、画素毎に開口部713hを有する反射層713が形成され、この反射層713上に透光層712が形成される。この透光層712には開口712bが設けられ、この開口712bの周囲に上記と同様の傾斜面712aが形成されている。透光層712の傾斜面712aは、反射層713の開口部の縁713a上に配置されている。
【0147】
この実施形態でも、上記構成例3と同様の効果が得られるが、さらに、開口712bを設けることにより、傾斜面712aの角度を変えることなく、反射層の開口部の大きさに応じて透光層712の厚さを調整することができる。透光層712の厚さは、上記第1実施形態において説明したように、着色層714における厚肉部の厚さの平均と、反射層713の平坦部上の厚さとの関係を規制するため、透光層712の厚さを調整することにより、反射型表示と透過型表示の色表示特性を最適化することが可能になる。
【0148】
上記構成例1〜4のいずれにおいても、透光層に傾斜面が設けられ、この傾斜面と反射層の開口部の縁とが重なるように配置されている。したがって、液晶装置の透過領域は反射層の開口部によって画成されるとともに、反射層の開口部は、透光層の傾斜面(及び存在する場合には透光層の開口)によって設けられた着色層の厚肉部と重なることになる。ここで、厚肉部となる部分の下に透光層の傾斜面或いはその傾斜面上に設けられた反射層の傾斜反射面が存在するため、着色層を形成する際における感光性着色樹脂等の着色材料の充填性を高めることが可能になり、また、着色材料の充填性の向上と、開口部近傍における透光層の高低差の緩和により当該厚肉部の表面に窪みが発生したり窪みの深さが大きくなったりすることを防止することができるので、着色層の表面の平坦性を向上させることができる。
【0149】
上記構成例2及び構成例4においては、図10(b)及び(d)に示すようにいずれも透光層に開口が設けられ、この開口の周囲に傾斜面が形成されている。この場合、反射層の開口部の縁は透光層の傾斜面と重なる位置に設ける必要は必ずしもない。
【0150】
例えば、構成例2においては図10(b)に示すように反射層513の開口部の縁513aは透光層512の傾斜面512a上に配置されているが、図14(a)及び(b)に示す変形例では、反射層の開口部の縁の位置が構成例2とは異なる構造となっている。
【0151】
図14(a)に示す例では、基板1501上に透光層1512が形成され、この透光層1512には開口1512bが設けられている。開口1512bの周囲には傾斜面1512aが形成されている。透光層1512上には反射層1513が設けられ、反射層1513には開口部1513hが形成されている。反射層1513上には着色層1514が形成されている。
【0152】
この例では、反射層1513が透光層1512の傾斜面1512a上を完全に覆い、反射層1513の開口部の縁1513aは、透光層1512の開口1512bの開口縁とほぼ一致する位置に配置されている。したがって、着色層1514において透過型表示に用いられる部分は、透光層1512の開口1512b上にある部分だけとなり、透過領域における着色層1514の厚肉部の厚さの平均値は、各層の厚さが上記構成例2と同じであっても、構成例2よりも大きく(最大に)なる。したがって、透過型表示の彩度を構成例2よりも高めることができる。
【0153】
図14(b)に示す例では、基板2501上に透光層2512が形成され、この透光層2512には開口2512bが設けられている。開口2512bの周囲には傾斜面2512aが形成されている。透光層2512上には反射層2513が設けられ、反射層2513には開口部2513hが形成されている。反射層2513上には着色層2514が形成されている。
【0154】
この例では、反射層2513が透光層2512の傾斜面2512aを完全に覆い、反射層2513の開口部の縁2513aは、透光層2512の開口2512bの内部に配置されている。したがって、透光層2512の開口2512bの面積は、反射層2513の開口部2513hの面積よりも大きくなっている。したがって、着色層2514において透過型表示に用いられる部分は、透光層2512の開口2512b内における反射層2513の開口部2513h上にある部分だけとなり、透過領域における着色層2514の厚肉部の厚さの平均値は、各層の厚さが上記構成例2と同じであっても、構成例2よりも大きく(最大に)なる。したがって、透過型表示の彩度を構成例2よりも高めることができる。
【0155】
また、構成例4においては図10(d)に示すように反射層713の開口部の縁713a上に透光層712の傾斜面712aが配置されているが、図14(c)及び(d)に示す変形例では、反射層の開口部の縁の位置が構成例4とは異なる構造となっている。
【0156】
図14(c)に示す例では、基板1701上に開口部1713hを有する反射層1713が形成されている。そして、反射層1713上に透光層1712が形成されている。この透光層1712には開口1712bが設けられ、この開口1712bの周囲に傾斜面1712aが形成されている。透光層1712上には着色層1714が形成されている。
【0157】
この例では、透光層1712が反射層1713を完全に覆い、透光層1712の開口1712bの開口縁は、反射層1713の開口部1713hの縁1713aとほぼ一致する位置に配置されている。したがって、着色層1714において透過型表示に用いられる部分は、透光層1712の開口1712b上にある部分だけとなり、透過領域における着色層1714の厚肉部の厚さの平均値は、各層の厚さが上記構成例4と同じであっても、構成例4よりも大きく(最大に)なる。したがって、透過型表示の彩度を構成例4よりも高めることができる。
【0158】
図14(d)に示す例では、基板2701上に開口部2713hを有する反射層2713が形成されている。そして、反射層2713上に透光層2712が形成されている。この透光層2712には開口2712bが設けられ、この開口2712bの周囲に傾斜面2712aが形成されている。透光層2712上には着色層2714が形成されている。
【0159】
この例では、透光層2712が反射層2713を完全に覆い、反射層2713の開口部の縁2713aは、透光層2712の開口2712bの内部に配置されている。したがって、透光層2712の開口2712bの面積は、反射層2713の開口部2713hの面積よりも大きくなっている。したがって、着色層2714において透過型表示に用いられる部分は、透光層2712の開口2712b内における反射層2713の開口部2713h上にある部分だけとなり、透過領域における着色層2714の厚肉部の厚さの平均値は、各層の厚さが上記構成例4と同じであっても、構成例4よりも大きく(最大に)なる。したがって、透過型表示の彩度を構成例4よりも高めることができる。
【0160】
本発明においては、反射層の開口部の縁を、透光層の傾斜面や開口を基準としてどの位置に配置するかによって、着色層の光学特性を変えることができる。例えば、反射層の開口部の縁の位置を透光層の傾斜面と重なる範囲で変化させた場合には、透過型表示に寄与する着色層の厚さの平均値を変化させることができる。例えば、反射層の開口部の形状や面積を一定に設定してある場合には、透過層の傾斜面の位置を調整することによって透過型表示に用いられる着色層の厚さを実質的に調整することが可能になり、透過型表示における彩度を調整することが可能になる。
【0161】
[電子機器の実施形態]
最後に、上記液晶パネルを含む液晶装置を電子機器の表示装置として用いる場合の実施形態について説明する。図11は、本実施形態の全体構成を示す概略構成図である。ここに示す電子機器は、上記と同様の液晶パネル200と、これを制御する制御手段1200とを有する。ここでは、液晶パネル200を、パネル構造体200Aと、半導体IC等で構成される駆動回路200Bとに概念的に分けて描いてある。また、制御手段1200は、表示情報出力源1210と、表示処理回路1220と、電源回路1230と、タイミングジェネレータ1240とを有する。
【0162】
表示情報出力源1210は、ROM(Read Only Memory)やRAM(Random Access Memory)等からなるメモリと、磁気記録ディスクや光記録ディスク等からなるストレージユニットと、デジタル画像信号を同調出力する同調回路とを備え、タイミングジェネレータ1240によって生成された各種のクロック信号に基づいて、所定フォーマットの画像信号等の形で表示情報を表示情報処理回路1220に供給するように構成されている。
【0163】
表示情報処理回路1220は、シリアル−パラレル変換回路、増幅・反転回路、ローテーション回路、ガンマ補正回路、クランプ回路等の周知の各種回路を備え、入力した表示情報の処理を実行して、その画像情報をクロック信号CLKと共に駆動回路200Bへ供給する。駆動回路200Bは、走査線駆動回路、データ線駆動回路及び検査回路を含む。また、電源回路1230は、上述の各構成要素にそれぞれ所定の電圧を供給する。
【0164】
図12は、本発明に係る電子機器の一実施形態である携帯電話を示す。この携帯電話2000は、ケース体2010の内部に回路基板2001が配置され、この回路基板2001に対して上述の液晶パネル200が実装されている。ケース体2010の前面には操作ボタン2020が配列され、また、一端部からアンテナ2030が出没自在に取付けられている。受話部2040の内部にはスピーカが配置され、送話部2050の内部にはマイクが内蔵されている。
【0165】
ケース体2010内に設置された液晶パネル200は、表示窓2060を通して表示面(上記の液晶表示領域A)を視認することができるように構成されている。
【0166】
尚、本発明の電気光学装置及び電子機器は、上述の図示例にのみ限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲内において種々変更を加え得ることは勿論である。例えば、上記各実施形態に示す液晶パネルは単純マトリクス型の構造を備えているが、TFT(薄膜トランジスタ)やTFD(薄膜ダイオード)等のアクティブ素子(能動素子)を用いたアクティブマトリクス方式の液晶装置にも適用することができる。また、上記実施形態の液晶パネルは所謂COGタイプの構造を有しているが、ICチップを直接実装する構造ではない液晶パネル、例えば液晶パネルにフレキシブル配線基板やTAB基板を接続するように構成されたものであっても構わない。
【0167】
さらに、上記各実施形態は液晶装置用基板及び液晶装置に関するものであるが、本発明は上記構成に限定されず、例えば、有機エレクトロルミネッセンス装置、プラズマディスプレイ装置、フィールドエミッションディスプレイ装置等の各種の電気光学装置用基板及び電気光学装置に適用することができる。
【0168】
【発明の効果】
以上説明したように本発明によれば、傾斜面部を備えた透光層上に開口を有する反射層を形成することにより、反射層を容易に、かつ、高精度にパターニングすることができる。
【0169】
また、反射層に、傾斜面部上に配置された傾斜反射部を設けることにより、電気光学装置の視野角特性を改善することができる。
【0170】
さらに、上記構造上に着色層を形成することにより、反射型表示の明るさを確保しつつ透過型表示の彩度を向上できる。或いは、反射型表示と透過型表示との間の色彩の差異を低減できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係る第1実施形態の液晶パネルの外観を示す概略斜視図である。
【図2】第1実施形態のパネル構造を模式的に示す概略断面図(a)及びカラーフィルタ基板の平面構造を示す拡大部分平面図(b)である。
【図3】第1実施形態のカラーフィルタ基板における画素内の表面構造を拡大して示す拡大部分断面図(a)及び拡大部分平面図(b)である。
【図4】本発明に係る第2実施形態のパネル構造を模式的に示す概略断面図(a)及びカラーフィルタ基板の平面構造を示す拡大部分平面図(b)である。
【図5】本発明に係る液晶装置の製造方法に関する第3実施形態を示す概略工程図(a)〜(e)である。
【図6】本発明に係る液晶装置の製造方法に関する第4実施形態を示す概略工程図(a)〜(e)である。
【図7】本発明に係る液晶装置の第5実施形態のカラーフィルタ基板における画素内の表面構造を拡大して示す拡大部分断面図(a)及び拡大部分平面図(b)である。
【図8】本発明に係る液晶装置の製造方法に関する第6実施形態を示す概略工程図(a)〜(e)である。
【図9】本発明に係る液晶装置の製造方法に関する第7実施形態を示す概略工程図(a)〜(e)である。
【図10】本発明に係る液晶装置用基板の構成例を示す概略断面図(a)〜(d)である。
【図11】本発明に係る電子機器の実施形態における構成ブロックを示す概略構成図である。
【図12】上記電子機器の実施形態の一例として携帯電話の外観を示す斜視図である。
【図13】従来の反射半透過型の液晶パネルの構造を模式的に示す概略断面図である。
【図14】図10に示す構成例2の変形例を示す拡大部分断面図(a)及び(b)、並びに、図10に示す構成例4の変形例を示す拡大部分断面図(c)及び(d)である。
【符号の説明】
200 液晶パネル
211 第1基板
212 透光層
212a 傾斜面
213 反射層
213a 開口部の縁
213b 傾斜反射面
213h 開口部
214 着色層
215 表面保護層
216 透明電極
221 第2基板
222 透明電極
Claims (13)
- 基板と、
前記基板上に配置され、前記基板に対して傾斜している傾斜面を有する実質的に光が透過できる透光層と、
前記透光層上の一部に配置された反射層と、
前記透光層上及び前記反射層上に配置された着色層とを備え、
前記反射層は前記傾斜面上に前記基板に対して傾斜している傾斜反射面を有しており、前記反射層の縁は前記傾斜面上に配置されており、
前記着色層は、前記傾斜反射面上に配置され、
前記傾斜反射面上に配置された前記着色層は、前記傾斜反射面上を除く前記反射層上に配置された前記着色層よりも膜厚が厚い部分を有し、
前記傾斜反射面は、反射する光が前記厚い部分を通過するように配置されていることを特徴とする電気光学装置用基板。 - 前記透光層は、前記傾斜面によって構成される谷状部を有することを特徴とする請求項1に記載の電気光学装置用基板。
- 基板と、
前記基板上に配置され開口を有する実質的に光が透過できる透光層と、
前記透光層上の一部に配置された反射層と、
前記開口内及び前記反射層上に配置された着色層とを備え、
前記透光層は、前記開口の周囲に前記基板に対して傾斜した傾斜面を有し、
前記反射層は前記傾斜面上に前記基板に対して傾斜している傾斜反射面を有しており、前記反射層の縁は前記傾斜面と重なって若しくは前記透光層の前記開口内に配置されており、
前記着色層は、前記傾斜反射面上に配置され、
前記傾斜反射面上に配置された前記着色層は、前記傾斜反射面上を除く前記反射層上に配置された前記着色層よりも膜厚が厚い部分を有し、
前記傾斜反射面は、反射する光が前記厚い部分を通過するように配置されていることを特徴とする電気光学装置用基板。 - 前記透光層は、前記基板に対して平行な平行面を有し、前記傾斜反射面は前記平行面上から前記傾斜面上に張り出すように配置されていることを特徴とする請求項1に記載の電気光学装置用基板。
- 前記反射層は、可視光を散乱可能な微細な凹凸を有することを特徴とする請求項1に記載の電気光学装置用基板。
- 基板上に実質的に光が透過できる透光層を形成する工程と、
前記透光層を軟化させて素材を流動させることにより前記透光層の一部に前記基板に対して傾斜している傾斜面を形成する工程と、
前記透光層上の一部に反射層を形成する工程と、
前記透光層上及び前記反射層上に着色層を形成する工程とを有し、
前記反射層を形成する工程では、前記傾斜面上に前記反射層の縁が設けられ、前記傾斜面上に前記基板に対して傾斜している傾斜反射面が形成され、
前記着色層を形成する工程では、前記傾斜反射面上に、当該傾斜反射面上を除く前記反射層上に配置された前記着色層よりも膜厚が厚い部分を形成し、
前記傾斜反射面は、反射する光が前記厚い部分を通過するように形成されていることを特徴とする電気光学装置用基板の製造方法。 - 基板上に開口を有する実質的に光が透過できる透光層を形成する工程と、
前記透光層を軟化させて素材を流動させることにより前記開口の周囲に前記基板に対して傾斜した傾斜面を形成する工程と、
前記透光層上の一部に反射層を形成する工程と、
前記開口内及び前記反射層上に着色層を形成する工程とを有し、
前記反射層を形成する工程では、前記傾斜面上若しくは前記透光層の前記開口内に前記反射層の縁が設けられ、前記傾斜面上に前記基板に対して傾斜している傾斜反射面が形成され、
前記着色層を形成する工程では、前記傾斜反射面上に、当該傾斜反射面上を除く前記反射層上に配置された前記着色層よりも膜厚が厚い部分を形成し、
前記傾斜反射面は、反射する光が前記厚い部分を通過するように形成されていることを特徴とする電気光学装置用基板の製造方法。 - 基板上に下地層を部分的に形成する工程と、
前記下地層上に前記基板に対して傾斜している傾斜面を有する実質的に光が透過できる透光層を形成する工程と、
前記透光層上の一部に反射層を形成する工程と、
前記透光層上及び前記反射層上に着色層を形成する工程とを有し、
前記透光層を形成する工程では、前記下地層の縁部近傍と重ねて前記傾斜面が形成され、
前記反射層を形成する工程では、前記傾斜面上に前記反射層の縁が設けられ、前記傾斜面上に前記基板に対して傾斜している傾斜反射面が形成され、
前記着色層を形成する工程では、前記傾斜反射面上に、当該傾斜反射面上を除く前記反射層上に配置された前記着色層よりも膜厚が厚い部分を形成し、
前記傾斜反射面は、反射する光が前記厚い部分を通過するように形成されていることを特徴とする電気光学装置用基板の製造方法。 - 前記下地層を形成する工程では、前記下地層の表面上に凹凸が形成され、前記透光層を形成する工程では、前記下地層の前記凹凸上に前記透光層を形成することにより前記透光層の表面上に凹凸が形成され、前記反射層を形成する工程では、前記透光層の前記凹凸上に前記反射層を形成することにより前記反射層に可視光を散乱可能な微細な凹凸が形成されることを特徴とする請求項8に記載の電気光学装置用基板の製造方法。
- 基板と、
前記基板上に配置された前記基板に対して傾斜している傾斜面を有する実質的に光が透過できる透光層と、
前記透光層上の一部に配置された反射層と、
前記透光層上及び前記反射層上に配置された着色層とを備え、
前記反射層は前記傾斜面上に前記基板に対して傾斜している傾斜反射面を有しており、前記反射層の縁が前記傾斜面上に配置されており、
前記着色層は、前記傾斜反射面上に配置され、
前記傾斜反射面上に配置された前記着色層は、前記傾斜反射面上を除く前記反射層上に配置された前記着色層よりも膜厚が厚い部分を有し、
前記傾斜反射面は、反射する光が前記厚い部分を通過するように配置されていることを特徴とする電気光学装置。 - 基板と、
前記基板上に配置され開口を有する実質的に光が透過できる透光層と、
前記透光層上の一部に配置された反射層と、
前記開口と重なる前記反射層が配置されていない領域と、
前記透光層上及び前記開口内に配置された着色層とを備え、
前記透光層は、前記開口の周囲に前記基板に対して傾斜した傾斜面を有し、
前記反射層は前記傾斜面上に前記基板に対して傾斜している傾斜反射面を有しており、前記反射層の縁は、前記傾斜面と重なって若しくは前記透光層の前記開口内に配置されており、
前記着色層は、前記傾斜反射面上に配置され、
前記傾斜反射面上に配置された前記着色層は、前記傾斜反射面上を除く前記反射層上に配置された前記着色層よりも膜厚が厚い部分を有し、
前記傾斜反射面は、反射する光が前記厚い部分を通過するように配置されていることを特徴とする電気光学装置。 - 請求項6に記載の電気光学装置用基板の製造方法を工程として備えることを特徴とする電気光学装置の製造方法。
- 請求項10に記載の電気光学装置と、該電気光学装置を制御する制御手段とを備えた電子機器。
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