JP2003140568A - 電気光学装置用基板、電気光学装置用基板の製造方法、電気光学装置、電気光学装置の製造方法、及び、電子機器 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 反射型表示の明るさと透過型表示の彩度とを
共に確保することの可能な反射半透過型の電気光学装置
を提供する。 【解決手段】 第１基板２１１上に透光層２１２が形成
され、この透光層２１２には断面谷状の傾斜面２１２ａ
が設けられる。透光層２１２上には、傾斜面２１２ａ上
に開口部２１３ｈを備えた反射層２１３が形成される。
そして、反射層２１３上には着色層２１４が形成され
る。着色層２１４には、上記透光層２１２の傾斜面２１
２ａに対応して形成された厚肉部２１４ａが形成されて
いる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は電気光学装置用基
板、電気光学装置用基板の製造方法、電気光学装置、電
気光学装置の製造方法に係り、特に、反射半透過型の液
晶装置に適用する場合に好適な構造及び製造技術に関す
る。

【０００２】

【従来の技術】従来から、外光を利用した反射型表示
と、バックライト等の照明光を利用した透過型表示との
いずれをも視認可能とした反射半透過型の液晶表示パネ
ルが知られている。この反射半透過型の液晶表示パネル
は、そのパネル内に外光を反射するための反射層を有
し、この反射層をバックライト等の照明光が透過できる
ように構成したものである。この種の反射層としては、
液晶表示パネルの画素毎に所定面積の開口（スリット）
を備えたものがある。

【０００３】図１３は、従来の反射半透過型の液晶表示
パネル１００の概略構造を模式的に示す概略断面図であ
る。この液晶表示パネル１００は、基板１０１と基板１
０２とがシール材１０３によって貼り合せられ、基板１
０１と基板１０２との間に液晶１０４を封入した構造を
備えている。

【０００４】基板１０１の内面上には、画素毎に開口部
１１１ｈを有する反射層１１１が形成され、この反射層
１１１の上に着色層１１２ｒ，１１２ｇ，１１２ｂ及び
表面保護層１１２ｐを備えたカラーフィルタ１１２が形
成されている。カラーフィルタ１１２の表面保護層１１
２ｐの表面上には透明電極１１３が形成されている。

【０００５】一方、基板１０２の内面上には透明電極１
２１が形成され、対向する基板１０１上の上記透明電極
１１３と交差するように構成されている。なお、基板１
０１上の透明電極１１３上、及び、基板１０２上の透明
電極１２１の上には、配向膜や硬質透明膜などが必要に
応じて適宜に形成される。

【０００６】また、上記の基板１０２の外面上には位相
差板（１／４波長板）１０５及び偏光板１０６が順次配
置され、基板１０１の外面上には位相差板（１／４波長
板）１０７及び偏光板１０８が順次配置される。

【０００７】以上のように構成された液晶表示パネル１
００は、携帯電話、携帯型情報端末などの電子機器に設
置される場合、その背後にバックライト１０９が配置さ
れた状態で取付けられる。この液晶表示パネル１００に
おいては、昼間や屋内などの明るい場所では反射経路Ｒ
に沿って外光が液晶１０４を透過した後に反射層１１１
にて反射され、再び液晶１０４を透過して放出されるの
で、反射型表示が視認される。一方、夜間や野外などの
暗い場所ではバックライト１０９を点灯させることによ
り、バックライト１０９の照明光のうち開口部１１１ｈ
を通過した光が透過経路Ｔに沿って液晶表示パネル１０
０を通過して放出されるので、透過型表示が視認され
る。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来の反射半透過型の液晶表示パネル１００においては、
上記反射経路Ｒでは光がカラーフィルタ１１２を２回通
過するのに対し、上記透過経路Ｔでは光がカラーフィル
タ１１２を一度だけ通過するため、反射型表示の彩度に
対して透過型表示における彩度が悪くなるという問題点
がある。すなわち、反射型表示では一般的に表示の明る
さが不足しがちであるので、カラーフィルタ１１２の光
透過率を高く設定して表示の明るさを確保する必要があ
るが、このようにすると、透過型表示において十分な彩
度を得ることができなくなる。

【０００９】また、上記のように反射型表示と透過型表
示とにおいては光がカラーフィルタを通過する回数が異
なるので、反射型表示の色彩と、透過型表示の色彩とが
大きく異なってしまうため、違和感を与えるという問題
点もある。

【００１０】そこで本発明は上記問題点を解決するもの
であり、その課題は、反射型表示と透過型表示の双方を
可能にする表示装置に用いた場合に、反射型表示の明る
さと透過型表示の彩度とを共に確保することの可能なカ
ラーフィルタ基板を提供することにある。また、反射型
表示の明るさと透過型表示の彩度とを共に確保すること
の可能な反射半透過型の電気光学装置を提供することに
ある。さらに、反射型表示と透過型表示との間の色彩の
差異を低減することのできる表示技術を実現することを
目的とする。

【００１１】

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に本発明の電気光学装置用基板は、基板と、前記基板上
に配置された前記基板に対して傾斜している傾斜面を有
する実質的に光が透過できる透光層と、前記透光層上に
配置された開口部を有する反射層とを備え、前記開口部
の縁は前記傾斜面上に配置されていることを特徴とす
る。

【００１２】この発明によれば、反射層の開口部の縁が
傾斜面上に配置されていることにより、電気光学装置を
構成した場合に、反射光の反射角度範囲を広くすること
ができ、反射型表示における視野角特性を改善すること
ができる。また、開口部の縁に段差を形成する場合に較
べて反射層のパターニングを容易かつ正確に行うことが
可能になる。

【００１３】本発明において、前記透光層は前記傾斜面
によって構成される谷状部を有することが好ましい。

【００１４】この発明によれば、谷状部が構成されてい
ることにより谷状部を構成する傾斜面が多方向を向いて
いるので、外光の反射方向をさらに広げることができ
る。したがって、この電気光学装置用基板を電気光学装
置に用いることにより、電気光学装置の反射型表示にお
ける視野角特性を改善することが可能になる。

【００１５】また、本発明の電気光学装置用基板は、基
板と、前記基板上に配置され開口を有する実質的に光が
透過できる透光層と、前記透光層の前記開口と重なる開
口部を有する反射層とを備え、前記透光層は、前記開口
の周囲に前記基板に対して傾斜した傾斜面を有し、前記
反射層の前記開口部の縁は、前記傾斜面上若しくはその
内側の前記透光層の前記開口内に配置されていることを
特徴とする。

【００１６】この発明によれば、反射層の開口部の縁が
傾斜面上若しくはその内側の前記透光層の開口内に配置
されていることにより、電気光学装置を構成した場合
に、反射光の反射角度範囲を広くすることができ、反射
型表示における視角依存性を改善することができる。ま
た、開口部の縁に段差を形成する場合に較べて反射層の
パターニングを容易かつ正確に行うことが可能になる。

【００１７】本発明において、前記反射層は前記基板に
対して傾斜している傾斜反射面を有し、前記傾斜反射面
は少なくとも前記傾斜面上に配置されていることが好ま
しい。

【００１８】この発明によれば、傾斜反射面によって反
射光の反射角度範囲が広がり、反射型表示における視野
角特性を改善できる。

【００１９】さらには、前記透光層は前記基板に対して
平行な平行面を有し、前記傾斜反射面は前記平行面上か
ら前記傾斜面上に張り出すように配置されていることが
好ましい。

【００２０】この発明によれば、傾斜反射面を平坦な反
射面と一体に構成することができるので、反射層のパタ
ーニングが容易になる。

【００２１】本発明において、前記反射層は可視光を散
乱可能な微細な凹凸を有することが好ましい。

【００２２】この発明によれば、この電気光学装置用基
板を電気光学装置に用いることにより、電気光学装置の
反射型表示において背景が映り込んだり、照明光による
幻惑が生じたりすることを防止できる。

【００２３】本発明において、前記透光層上に着色層が
配置されていることが好ましい。

【００２４】この発明によれば、この着色層は反射層の
開口部と平面的に重なる領域が、透光層の傾斜面や開口
に対応した厚肉部となっている。したがって、この電気
光学装置用基板を電気光学装置に用いることにより、反
射型表示の明るさを確保しつつ（すなわち反射型表示の
明るさを犠牲にすることなく）、透過型表示の彩度を向
上させることができる。また、着色層の厚肉部が透光層
の傾斜面上や反射層の傾斜反射面上に、或いは、これら
に囲まれた透光層の開口内に設けられることにより、着
色層を構成する素材を充填しやすくなるため、着色層の
表面の平坦性を向上させることが可能になる。

【００２５】次に、本発明の別の電気光学装置用基板
は、基板と、前記基板上に配置された開口部を有する反
射層と、前記反射層上に配置された前記基板に対して傾
斜した傾斜面を有する実質的に光が透過できる透光層と
を備え、前記傾斜面は前記開口部の縁上に配置され、前
記透光層上に着色層が配置されていることを特徴とす
る。

【００２６】この発明によれば、反射層の開口部は、少
なくとも透光層の傾斜面の一部と重なっており、さらに
その開口部上に着色層が配置されていることから、開口
部上には着色層がその他の部分よりも厚く配置される。
したがって、この電気光学装置用基板を電気光学装置に
用いることにより、反射型表示の明るさを確保しつつ
（すなわち反射型表示の明るさを犠牲にすることな
く）、透過型表示の彩度を向上させることができる。ま
た、着色層の厚肉部が透光層の傾斜面上や反射層の傾斜
反射面上に設けられることにより、着色層を構成する素
材を充填しやすくなるため、着色層の表面の平坦性を向
上させることが可能になる。

【００２７】さらに、本発明のまた別の電気光学装置用
基板は、基板と、前記基板上に配置された開口部を有す
る反射層と、前記反射層上に配置され前記開口部に重な
る開口を有する実質的に光が透過できる透光層とを備
え、前記透光層は、前記開口の周囲に前記基板に対して
傾斜した傾斜面を有し、前記反射層の前記開口部の縁
は、前記傾斜面上若しくはその内側の前記透光層の前記
開口内に配置され、前記透光層上に着色層が配置されて
いることを特徴とする。

【００２８】この発明によれば、反射層の開口部は透光
層の開口に重なり、開口の周囲には傾斜面が形成されて
いることにより、透光層の開口及び傾斜面上においては
着色層がその他の部分よりも厚く形成される。したがっ
て、この電気光学装置用基板を電気光学装置に用いるこ
とにより、反射型表示の明るさを確保しつつ（すなわち
反射型表示の明るさを犠牲にすることなく）、透過型表
示の彩度を向上させることができる。また、着色層の厚
肉部が透光層の傾斜面上や反射層の傾斜反射面上に、並
びに、これらに囲まれた透光層の開口内に設けられるこ
とにより、着色層を構成する素材を充填しやすくなるた
め、着色層の表面の平坦性を向上させることが可能にな
る。

【００２９】次に、本発明の電気光学装置用基板の製造
方法は、基板上に実質的に光が透過できる透光層を形成
する工程と、前記透光層を軟化させて素材を流動させる
ことにより前記透光層の一部に前記基板に対して傾斜し
ている傾斜面を形成する工程と、前記透光層上に開口部
を有する反射層を形成する工程とを有し、前記反射層を
形成する工程では、前記傾斜面上に前記開口部の縁が設
けられるように前記開口部が形成されることを特徴とす
る。

【００３０】この発明によれば、透光層を軟化させるこ
とによってその流動性を利用して容易に傾斜面を形成す
ることが可能になる。また、透光層上に反射層が形成さ
れ、透光層の傾斜面上に反射層の開口部が形成されてい
ることにより、その上にカラーフィルタの着色層を形成
する際に、反射層の開口部上に厚肉部を形成することが
可能になる。また、基板の製造過程において傾斜面部上
の反射層を除去して開口部を形成する時点で、除去部分
に大きな段差が生じないので、開口部の形成が容易にな
るとともに高精度に開口部を形成することが可能にな
る。

【００３１】また、本発明の別の電気光学装置用基板の
製造方法は、基板上に開口を有する実質的に光が透過で
きる透光層を形成する工程と、前記透光層を軟化させて
素材を流動させることにより前記開口の周囲に前記基板
に対して傾斜した傾斜面を形成する工程と、前記透光層
上に前記開口と重なる開口部を有する反射層を形成する
工程とを有し、前記反射層を形成する工程では、前記傾
斜面上若しくはその内側の前記透光層の前記開口内に前
記開口部の縁が設けられるように前記開口部が形成され
ることを特徴とする。

【００３２】この発明によれば、透光層を流動させるこ
とによって開口の周囲に傾斜面を容易に形成することが
可能になる。また、透光層上に反射層が形成され、透光
層の開口と重なる開口部が反射層に設けられ、反射層の
開口部の縁が透光層の傾斜面上若しくは開口内に設けら
れることにより、その上に着色層を形成する際に、反射
層の開口部上に着色層の厚肉部を形成することが可能に
なる。また、基板の製造過程において傾斜面部上の反射
層を除去して開口部を形成する時点で、除去部分に大き
な段差が生じないので、開口部の形成が容易になるとと
もに高精度に開口部を形成することが可能になる。

【００３３】また、前記透光層を形成する工程では、前
記透光層を軟化させたときに、前記透光層の縁部近傍に
おいて素材が流動して前記傾斜面が形成されるように、
前記透光層を前記基板上に部分的に形成することが好ま
しい。

【００３４】この発明によれば、透光層を軟化させたと
きに透光層が形成されていない部分に素材を流れ込ませ
ることで、透光層に傾斜面を容易に形成することができ
る。

【００３５】また、本発明の別の電気光学装置用基板の
製造方法は、基板上に下地層を部分的に形成する工程
と、前記下地層上に前記基板に対して傾斜している傾斜
面を有する実質的に光が透過できる透光層を形成する工
程と、前記透光層上に開口部を有する反射層を形成する
工程とを有し、前記透光層を形成する工程では、前記下
地層の縁部近傍上に前記傾斜面が形成され、前記反射層
を形成する工程では、前記傾斜面上に前記開口部の縁が
設けられるように前記開口部が形成されることを特徴と
する。

【００３６】この発明によれば、部分的に形成した下地
層上に透光層を形成することによって、下地層によって
形成された段差に沿って傾斜面が自然に構成されるの
で、簡単に傾斜面を形成できる。

【００３７】また、本発明において、前記反射層を形成
する工程では、前記透光層の前記基板に対して平行な平
行面上から前記傾斜面上に張り出すように前記反射層を
形成することが好ましい。

【００３８】この発明によれば、傾斜面に沿って形成さ
れている反射層のうち傾斜面の下部分に形成されている
反射層をエッチング液等の薬液で除去する際に、精度よ
く反射層を除去できる。

【００３９】また、本発明において、前記反射層を形成
する工程では、前記反射層の表面に可視光を散乱可能な
微細な凹凸を形成することが好ましい。さらには、前記
透光層の表面に凹凸を形成することが好ましい。

【００４０】この発明によれば、この電気光学装置用基
板を電気光学装置に用いた際、電気光学装置の反射型表
示において背景が映り込んだり、照明光による幻惑が生
じたりすることを防止できる。また、透光層の表面にあ
らかじめ凹凸が形成してあれば、その透光層上に反射層
を形成することで容易に反射層に凹凸を形成することが
できる。また、反射層の凹凸を透光層表面の凹凸形状に
よって制御することができるので、反射層が凹凸を形成
することが難しい素材であっても、容易に所望の凹凸形
状を形成することができる。

【００４１】また、本発明において、前記下地層を形成
する工程では、前記下地層の表面上に凹凸が形成され、
前記透光層を形成する工程では、前記下地層の前記凹凸
上に前記透光層を形成することにより前記透光層の表面
上に凹凸を形成し、前記反射層を形成する工程では、前
記透光層の前記凹凸上に前記反射層を形成することによ
り前記反射層に可視光を散乱可能な微細な凹凸を形成す
ることが好ましい。

【００４２】この発明によれば、下地層の表面にあらか
じめ凹凸を形成しておけば、その下地層上に透光層を形
成するだけで少なくとも透光層の表面に凹凸を容易に形
成することができ、また、その透光層上に反射層を形成
するだけで反射層上に凹凸を容易に形成できる。

【００４３】さらに、本発明の異なる電気光学装置用基
板の製造方法は、基板上に開口部を有する反射層を形成
する工程と、前記反射層上に前記基板に対して傾斜して
いる傾斜面を有する実質的に光が透過できる透光層を形
成する工程と、前記透光層上に着色層を形成する工程と
を有し、前記透光層を形成する工程では、前記傾斜面が
前記開口部の縁上に設けられるように形成されることを
特徴とする。

【００４４】さらに、本発明の異なる電気光学装置用基
板の製造方法は、基板上に開口部を有する反射層を形成
する工程と、前記反射層上に前記開口部に重なる開口を
有する実質的に光が透過できる透光層を形成する工程
と、前記透光層上に着色層を形成する工程とを有し、前
記透光層を形成する工程では、前記開口の周囲に前記基
板に対して傾斜した傾斜面を、前記反射層の前記開口部
の縁上に前記傾斜面若しくはその内側の前記透光層の前
記開口が設けられるように形成することを特徴とする。

【００４５】次に、本発明の電気光学装置は、基板と、
前記基板上に配置された前記基板に対して傾斜している
傾斜面を有する実質的に光が透過できる透光層と、前記
透光層上に配置された開口部を有する反射層とを備え、
前記開口部の縁は前記傾斜面上に配置されていることを
特徴とする。

【００４６】この発明によれば、反射層の開口部の縁が
透光層の傾斜面上に配置されていることにより、電気光
学装置を構成した場合に、反射光の反射角度範囲を広く
することができ、反射型表示における視野角特性を改善
することができる。また、開口部の縁に段差を形成する
場合に較べて反射層のパターニングを容易かつ正確に行
うことが可能になる。

【００４７】また、前記透光層は、前記傾斜面によって
構成される谷状部を有することが好ましい。

【００４８】この発明によれば、谷状部が構成されてい
ることにより谷状部を構成する傾斜面が多方向を向いて
いるので、外光の反射方向をさらに広げることができ
る。したがって、反射型表示における視野角特性を改善
することが可能になる。

【００４９】さらに、本発明の異なる電気光学装置は、
基板と、前記基板上に配置され開口を有する実質的に光
が透過できる透光層と、前記透光層の前記開口と重なる
開口部を有する反射層とを備え、前記透光層は、前記開
口の周囲に前記基板に対して傾斜した傾斜面を有し、前
記反射層の前記開口部の縁は、前記傾斜面上若しくはそ
の内側の前記透光層の前記開口内に配置されていること
を特徴とする。

【００５０】この発明によれば、反射層の開口部の縁が
透光層の傾斜面上若しくは開口内に配置されていること
により、電気光学装置を構成した場合に、反射光の反射
角度範囲を広くすることができ、反射型表示における視
野角特性を改善することができる。また、開口部の縁に
段差を形成する場合に較べて反射層のパターニングを容
易かつ正確に行うことが可能になる。

【００５１】本発明において、前記反射層は前記基板に
対して傾斜している傾斜反射面を有し、前記傾斜反射面
は少なくとも前記傾斜面上に配置されていることが好ま
しい。さらには、前記透光層は前記基板に対して平行な
平行面を有し、前記傾斜反射面は前記平行面上から前記
傾斜面上に張り出すように配置されていることが好まし
い。

【００５２】この発明によれば、傾斜反射面によって外
光の反射方向を広げることができるので、反射型表示に
おける視野角特性を改善することが可能になる。

【００５３】さらに、前記反射層は可視光を散乱可能な
微細な凹凸を有することが好ましい。

【００５４】この発明によれば、電気光学装置の反射型
表示において背景が映り込んだり、照明光による幻惑が
生じたりすることを防止できる。

【００５５】本発明において、前記透光層上に着色層が
配置されていることが好ましい。

【００５６】この発明によれば、着色層は反射層の開口
部を平面的に重なる領域が、透光層の傾斜面に対応した
厚肉部となる。したがって、反射型表示の明るさを確保
しつつ（すなわち反射型表示の明るさを犠牲にすること
なく）、透過型表示の彩度を向上させることができる。

【００５７】また、本発明の別の電気光学装置は、基板
と、前記基板上に配置された開口部を有する反射層と、
前記反射層上に配置された前記基板に対して傾斜した傾
斜面を有する実質的に光が透過できる透光層とを備え、
前記傾斜面は前記開口部の縁上に配置され、前記透光層
上に着色層が配置されていることを特徴とする。

【００５８】この発明によれば、反射層の開口部は、少
なくとも透光層の傾斜面の一部と重なっており、さらに
その開口部上に着色層が配置されていることから、開口
部上には着色層がその他の部分よりも厚く配置される。
したがって、反射型表示の明るさを確保しつつ（すなわ
ち反射型表示の明るさを犠牲にすることなく）、透過型
表示の彩度を向上させることができる。

【００５９】さらに、本発明の異なる電気光学装置は、
基板と、前記基板上に配置された開口部を有する反射層
と、前記反射層上に配置され前記開口部に重なる開口を
有する実質的に光が透過できる透光層とを備え、前記透
光層は、前記開口の周囲に前記基板に対して傾斜した傾
斜面を有し、前記反射層の前記開口部の縁は、前記傾斜
面上若しくはその内側の前記透光層の前記開口内に配置
され、前記透光層上に着色層が配置されていることを特
徴とする。

【００６０】この発明によれば、反射層の開口部は透光
層の開口と重なり、この開口の周囲において透光層に傾
斜面が設けられていて、さらにその開口部上に着色層が
配置されていることから、開口部上には着色層がその他
の部分よりも厚く配置される。したがって、反射型表示
の明るさを確保しつつ（すなわち反射型表示の明るさを
犠牲にすることなく）、透過型表示の彩度を向上させる
ことができる。

【００６１】次に、本発明の電気光学装置の製造方法
は、基板上に実質的に光が透過できる透光層を形成する
工程と、前記透光層を軟化させて素材を流動させること
により前記透光層の一部に前記基板に対して傾斜してい
る傾斜面を形成する工程と、前記透光層上に開口部を有
する反射層を形成する工程とを有し、前記反射層を形成
する工程では、前記傾斜面上に前記開口部の縁が設けら
れるように前記開口部が形成されることを特徴とする。

【００６２】この発明によれば、透光層を軟化させるこ
とによってその流動性を利用して容易に傾斜面を形成す
ることが可能になる。また、透光層上に反射層が形成さ
れ、透光層の傾斜面上に反射層の開口部が形成されてい
ることにより、その上にカラーフィルタの着色層を形成
する際に、反射層の開口部上に厚肉部を形成することが
可能になる。また、基板の製造過程において傾斜面部上
の反射層を除去して開口部を形成する時点で、除去部分
に大きな段差が生じないので、開口部の形成が容易にな
るとともに高精度に開口部を形成することが可能にな
る。

【００６３】また、本発明の別の電気光学装置の製造方
法は、基板上に開口を有する実質的に光が透過できる透
光層を形成する工程と、前記透光層を軟化させて素材を
流動させることにより前記開口の周囲に前記基板に対し
て傾斜した傾斜面を形成する工程と、前記透光層上に前
記開口と重なる開口部を有する反射層を形成する工程と
を有し、前記反射層を形成する工程では、前記傾斜面上
若しくはその内側の前記透光層の前記開口上に前記開口
部の縁が設けられるように前記開口部が形成されること
を特徴とする。

【００６４】この発明によれば、透光層を軟化させるこ
とによってその流動性を利用して開口の周囲に傾斜面を
容易に形成することが可能になる。また、透光層上に反
射層が形成され、透光層の開口上に反射層の開口部が形
成され、透光層の開口の周囲に傾斜面が形成されている
ことにより、その上にカラーフィルタの着色層を形成す
る際に、反射層の開口部上に厚肉部を形成することが可
能になる。また、基板の製造過程において開口上の反射
層を除去して開口部を形成する時点で、除去部分に大き
な段差が生じないので、開口部の形成が容易になるとと
もに高精度に開口部を形成することが可能になる。

【００６５】本発明において前記透光層を形成する工程
では、前記透光層を軟化させたときに、前記透光層の縁
部近傍において素材が流動して前記傾斜面が形成される
ように、前記透光層を前記基板上に部分的に形成するこ
とが好ましい。

【００６６】この発明によれば、透光層を軟化させたと
きに透光層が形成されていない部分に素材を流れ込ませ
ることで、透光層に傾斜面を容易に形成することができ
る。

【００６７】また、本発明の別の電気光学装置の製造方
法は、基板上に下地層を部分的に形成する工程と、前記
下地層上に前記基板に対して傾斜している傾斜面を有す
る実質的に光が透過できる透光層を形成する工程と、前
記透光層上に開口部を有する反射層を形成する工程とを
有し、前記透光層を形成する工程では、前記下地層の縁
部近傍上に前記傾斜面が形成され、前記反射層を形成す
る工程では、前記傾斜面上に前記開口部の縁が設けられ
るように前記開口部が形成されることを特徴とする。

【００６８】この発明によれば、部分的に形成した下地
層上に透光層を形成することによって、下地層によって
形成された段差に沿って傾斜面が自然に構成されるの
で、簡単に傾斜面を形成できる。

【００６９】本発明において、前記反射層を形成する工
程では、前記透光層の前記基板に対して平行な平行面上
から前記傾斜面上に張り出すように前記反射層を形成す
ることが好ましい。

【００７０】この発明によれば、傾斜面に沿って形成さ
れている反射層のうち傾斜面の下部分に形成されている
反射層をエッチング液等の薬液で除去する際に、精度よ
く反射層を除去できる。

【００７１】また、本発明において、前記反射層を形成
する工程では、前記反射層の表面に可視光を散乱可能な
微細な凹凸を形成することが好ましい。さらには、前記
透光層の表面に凹凸を形成することが好ましい。

【００７２】この発明によれば、反射型表示において背
景が映り込んだり、照明光による幻惑が生じたりするこ
とを防止できる。また、透光層の表面にあらかじめ凹凸
が形成してあれば、その透光層上に反射層を形成するこ
とで容易に反射層に凹凸を形成することができる。ま
た、反射層の凹凸を透光層表面の凹凸形状によって制御
することができるので、反射層が凹凸を形成することが
難しい素材であっても、容易に所望の凹凸形状を形成す
ることができる。

【００７３】さらに、前記下地層を形成する工程では、
前記下地層の表面上に凹凸を形成し、前記透光層を形成
する工程では、前記下地層の前記凹凸上に前記透光層を
形成することにより前記透光層の表面上に凹凸を形成
し、前記反射層を形成する工程では、前記透光層の前記
凹凸上に前記反射層を形成することにより前記反射層に
可視光を散乱可能な微細な凹凸を形成することが好まし
い。

【００７４】この発明によれば、下地層の表面にあらか
じめ凹凸を形成しておけば、その下地層上に透光層を形
成するだけで少なくとも透光層の表面に凹凸を容易に形
成することができ、また、その透光層上に反射層を形成
するだけで反射層上に凹凸を容易に形成できる。

【００７５】次に、本発明の別の電気光学装置の製造方
法は、基板上に開口部を有する反射層を形成する工程
と、前記反射層上に前記基板に対して傾斜している傾斜
面を有する実質的に光が透過できる透光層を形成する工
程と、前記透光層上に着色層を形成する工程とを有し、
前記透光層を形成する工程では、前記傾斜面が前記開口
部の縁上に設けられるように形成されることを特徴とす
る。

【００７６】さらに、本発明の異なる電気光学装置の製
造方法は、基板上に開口部を有する反射層を形成する工
程と、前記反射層上に前記開口部に重なる開口を有する
実質的に光が透過できる透光層を形成する工程と、前記
透光層上に着色層を形成する工程とを有し、前記透光層
を形成する工程では、前記開口の周囲に前記基板に対し
て傾斜した傾斜面を、前記反射層の前記開口部の縁上に
前記傾斜面若しくはその内側の前記透光層の前記開口が
設けられるように形成することを特徴とする。

【００７７】上記各手段において、光学特性を重視する
場合には、上記透光層の開口や傾斜面によって着色層に
設けられる厚肉部の厚さは、開口部周辺の着色層の部分
（厚肉部以外の着色層の部分）、或いは、透光層の傾斜
面や開口以外の透光層上に設けられる着色層の部分、の
厚さに対してほぼ２〜６倍の範囲内であることが好まし
い。厚肉部の厚さが２倍未満である場合には、透過領域
の色表現を最適化すると反射領域の明度を充分に確保す
ることが難しくなり、反射領域の明度を最適化すると透
過領域の彩度を確保することが難しくなる。厚肉部の厚
さが６倍を越える場合には、透過領域の色表現を最適化
すると反射領域の彩度を確保することが難しくなり、反
射領域の色表現を最適化するとバックライトの光量を増
大しないと透過領域の明度を確保することが難しくなる
とともに、カラーフィルタ基板の平坦性を確保すること
も困難になる。

【００７８】さらに、カラーフィルタの平坦性と光学特
性とを両立させるためには、反射層の開口部と重なる範
囲における厚肉部の厚さの平均値を１．０〜３．０μｍ
の範囲内の値とし、開口部周辺の反射層と重なる領域の
着色層の部分の厚さ（開口部以外の着色層の部分の厚
さ）を０．２〜１．５μｍの範囲内の値とすることが好
ましい。このようにすると、厚肉部の存在に起因するカ
ラーフィルタの厚さの不均一性を低減しつつ、反射領域
と透過領域の色表示の品位を向上させることが可能にな
る。

【００７９】また、本発明の電子機器は、上記のいずれ
かの電気光学装置と、該電気光学装置を制御する制御手
段とを備えたものである。本発明の電子機器としては、
特に、携帯電話、携帯型情報端末などの携帯型電子機器
であることが、反射半透過型の電気光学装置を有効に用
いることが出来る点で好ましい。

【００８０】

【発明の実施の形態】次に、添付図面を参照して本発明
に係る電気光学装置用基板、その製造方法、電気光学装
置、その製造方法、及び電子機器の実施形態について詳
細に説明する。

【００８１】［第１実施形態］まず、図１及び図２を参
照して本発明の第１実施形態の電気光学装置について説
明する。図１は、本発明に係る第１実施形態の液晶装置
を構成する液晶パネル２００の外観を示す概略斜視図で
あり、図２（ａ）は液晶パネル２００の模式的な概略断
面図であり、図２（ｂ）は液晶パネル２００を構成する
カラーフィルタ基板２１０の拡大部分平面図である。

【００８２】この液晶装置は、いわゆる反射半透過方式
のパッシブマトリクス型構造を有する液晶パネル２００
に対して、必要に応じて図示しないバックライトやフロ
ントライト等の照明装置やケース体などを適宜に取付け
てなる。

【００８３】図１に示すように、液晶パネル２００は、
ガラス板や合成樹脂板等からなる透明な第１基板２１１
を基体とするカラーフィルタ基板２１０と、これに対向
する同様の第２基板２２１を基体とする対向基板２２０
とがシール材２３０を介して貼り合わせられ、シール材
２３０の内側に注入口２３０ａから液晶２３２が注入さ
れた後、封止材２３１にて封止されてなるセル構造を備
えている。

【００８４】第１基板２１１の内面（第２基板２２１に
対向する表面）上には複数並列したストライプ状の透明
電極２１６が形成され、第２基板２２１の内面上には複
数並列したストライプ状の透明電極２２２が形成されて
いる。また、上記透明電極２１６は配線２１８Ａに導電
接続され、上記透明電極２２２は配線２２８に導電接続
されている。透明電極２１６と透明電極２２２とは相互
に直交し、その交差領域はマトリクス状に配列された多
数の画素を構成し、これらの画素配列が液晶表示領域Ａ
を構成している。

【００８５】第１基板２１１は第２基板２２１の外形よ
りも外側に張り出してなる基板張出部２１０Ｔを有し、
この基板張出部２１０Ｔ上には、上記配線２１８Ａ、上
記配線２２８に対してシール材２３０の一部で構成され
る上下導通部を介して導電接続された配線２１８Ｂ、及
び、独立して形成された複数の配線パターンからなる入
力端子部２１９が形成されている。また、基板張出部２
１０Ｔ上には、これら配線２１８Ａ，２１８Ｂ及び入力
端子部２１９に対して導電接続されるように、液晶駆動
回路等を内蔵した半導体ＩＣ２６１が実装されている。
また、基板張出部２１０Ｔの端部には、上記入力端子部
２１９に導電接続されるように、フレキシブル配線基板
２６３が実装されている。

【００８６】この液晶パネル２００において、図２
（ａ）に示すように、第１基板２１１の外面には位相差
板（１／４波長板）２４０及び偏光板２４１が配置さ
れ、第２基板２２１の外面には位相差板（１／４波長
板）２５０及び偏光板２５１が配置されている。

【００８７】＜カラーフィルタ基板２１０の構造＞次
に、図２（ａ）及び（ｂ）を参照して、本発明の電気光
学装置用基板に相当するカラーフィルタ基板２１０の構
造を詳細に説明する。第１基板２１１の表面には、可視
光に対して透光性を有する透光層２１２が形成される。
この透光層は、アクリル樹脂やエポキシ樹脂などの有機
樹脂層などで構成することができる。また、透光層は、
可視光に対してほぼ透明であることが望ましい。例え
ば、可視光領域においてほぼ７０％以上の光透過率を有
し、可視光領域内における光透過率の変動範囲が１０％
以下であるものなどが好ましい。

【００８８】透光層２１２の表面の一部には、第１基板
２１１の表面に対して傾斜した傾斜面２１２ａが上記の
画素毎に設けられている。図示例では、傾斜面２１２ａ
は全体として断面谷状（Ｖ字状）に構成されている。

【００８９】上記透光層２１２上には反射層２１３が形
成されている。反射層２１３は、アルミニウム、アルミ
ニウム合金、クロム、クロム合金、銀、銀合金などの金
属薄膜で構成することができる。反射層２１３には、上
記画素毎に開口部２１３ｈが設けられている。この開口
部２１３ｈは、上記透光層２１２の傾斜面２１２ａ上に
開口部の縁２１３ａが位置するように形成されている。

【００９０】また、反射層２１３は、透光層２１２の平
坦な表面上においてほぼ平坦な反射面を有する平坦部と
なっているが、上記開口部２１３ｈ周辺において上記傾
斜面２１２ａ上に配置され、傾斜面２１２ａの傾斜角度
とほぼ等しく傾斜した反射面を備えた傾斜反射面２１３
ｂとなっている。この傾斜反射面２１３ｂは、反射層２
１３の平坦部から上記傾斜面２１２ａに張り出すように
構成されている。

【００９１】反射層２１２の上には画素毎に着色層２１
４が形成され、その上を透明樹脂等によって構成される
表面保護層（オーバーコート層）２１５が被覆してい
る。この着色層２１４と表面保護層２１４とによってカ
ラーフィルタが形成される。

【００９２】着色層２１４は、通常、透明樹脂中に顔料
や染料等の着色材を分散させて所定の色調を呈するもの
とされている。着色層の色調の一例としては原色系フィ
ルタとしてＲ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）の３色の組合
せからなるものがあるが、これに限定されるものではな
く、補色系その他の種々の色調で形成できる。通常、基
板表面上に顔料や染料等の着色材を含む感光性樹脂から
なる着色レジストを塗布し、フォトリソグラフィ法によ
って不要部分を除去することによって、所定のカラーパ
ターンを有する着色層を形成する。ここで、複数の色調
の着色層を形成する場合には上記工程を繰り返す。

【００９３】本実施形態においては、着色層２１４が透
光層２１３の傾斜面２１３ａをも含む領域に形成されて
いる結果、傾斜面２１３ａ上に形成された着色層２１４
は他の部分よりも厚く形成されている。より具体的に述
べると、透光層２１３には断面谷状（Ｖ字状）の傾斜面
２１３ａが形成されているので、この上に形成される着
色層２１４の厚肉部２１４ａ（図３参照）は、第１基板
２１１に向けた断面山状に形成されている。

【００９４】なお、着色層の配列パターンとして、図２
（ｂ）に示す図示例ではストライプ配列を採用している
が、このストライプ配列の他に、デルタ配列や斜めモザ
イク配列等の種々のパターン形状を採用することができ
る。

【００９５】表面保護層２１５の上には、ＩＴＯ（イン
ジウムスズ酸化物）等の透明導電体からなる透明電極２
１６が形成されている。透明電極２１６は図２（ｂ）の
図示上下方向に伸びる帯状に形成され、複数の透明電極
２１６が相互に並列してストライプ状に構成されてい
る。透明電極２１６の上にはポリイミド樹脂等からなる
配向膜２１７が形成されている。

【００９６】一方、上記カラーフィルタ基板２１０と対
向する対向基板２２０は、ガラス等からなる第２基板２
２１上に、上記と同様の透明電極２２２、ＳｉＯ_２やＴ
ｉＯ _２などからなる硬質保護膜２２３、上記と同様の配
向膜２２４を順次積層させたものである。

【００９７】以上のように構成された本実施形態におい
て、対向基板２２０側から入射した外光は液晶２３２を
透過してカラーフィルタを透過した後に反射層２１３に
て反射し、再び液晶２３２及び対向基板２２０を透過し
て出射する。このとき、反射光はカラーフィルタの着色
層２１４を２回通過する。

【００９８】一方、着色層２１４は反射層２１３の開口
部２１３ｈを覆っているので、例えばカラーフィルタ基
板２１０の背後にバックライト等を配置して、背後から
照明光を照射した場合には、当該照明光の一部が透光層
２１２の傾斜面２１２ａ及び反射層２１３の開口部２１
３ｈを通過して着色層２１４を透過し、液晶２３２及び
対向基板２２０を通過して出射する。このとき、透過光
は着色層２１４を１回だけ透過する。

【００９９】本実施形態では、第１基板２１１上に透光
層２１２が形成され、この透光層２１２に傾斜面２１２
ａが設けられ、この傾斜面２１２ａ上に開口部の縁２１
３ａを有する反射層２１３が形成されているので、後述
する製造方法の実施形態において詳述するように、反射
層２１３のパターニングが容易になり、開口部２１３ｈ
を高精度に形成することが可能になる。

【０１００】図３は、上記液晶パネル２００のカラーフ
ィルタ基板２１０における１画素の部分を示す拡大部分
断面図（ａ）及び拡大部分平面図（ｂ）である。この図
に示すように、本実施形態では、透光層２１２の傾斜面
２１２ａ上の一部に反射層２１３の一部である傾斜反射
面２１３ｂが配置されていることにより、外光の反射方
向の範囲が広がるため、液晶パネル２００の視野角特性
がなだらかになり、液晶パネル２００の基板表面に対し
て傾斜した方向から見た場合の反射型表示の視認性が向
上する。

【０１０１】また、本実施形態の着色層２１４には、透
光層２１２の傾斜面２１２ａ上に厚肉部２１４ａが形成
され、この厚肉部２１４ａは反射層２１３の開口部２１
３ｈと平面的に重なる領域に設けられている。したがっ
て、透過光ＯＴは第１基板２１１及び傾斜面２１２ａを
経て着色層２１４の厚肉部２１４ａを通過した後に液晶
を透過し、さらに対向基板２２０から出射する。一方、
反射光ＯＲは反射層２１３で反射されるので、着色層２
１４の厚肉部２１４ａ以外の部分（薄肉部分）を２回通
過した後に出射される。

【０１０２】このように、反射光ＯＲは着色層２１４の
薄肉部分を２回通過するのに対して透過光ＯＴは１回だ
けではあるが着色層２１４の厚肉部２１４ａを通過する
ため、図１３に示す従来構造の液晶パネル１００に較べ
て、反射型表示の明るさを確保しつつ、すなわち反射型
表示の明るさを犠牲にすることなく、透過型表示の彩度
を高めることができる。換言すれば、反射型表示と透過
型表示の色彩の相違を低減できる。

【０１０３】本実施形態において、カラーフィルタの光
学特性を重視する場合、すなわち、透過表示と、反射表
示のいずれにおいてもそのカラー表示態様が共に良好な
色再現性を持つことを優先する場合には、反射層２１３
の開口部２１３ｈと重なる部分における厚肉部２１４ａ
の厚さの平均値は、反射層の平坦部上の着色層の厚さの
２〜６倍の範囲内であることが好ましい。厚肉部２１４
ａの厚さの上記平均値が２倍未満である場合には、透過
領域の色表現を最適化すると反射領域の明度を充分に確
保することが難しくなり、反射領域の明度を最適化する
と透過領域の彩度を確保することが難しくなる。厚肉部
２１４ａの厚さの上記平均値が６倍を越える場合には、
透過領域の色表現を最適化すると反射領域の彩度を確保
することが難しくなり、反射領域の色表現を最適化する
とバックライトの光量を増大しないと透過領域の明度を
確保することが難しくなるため、バックライトの消費電
力の増大を招くとともに、カラーフィルタ基板の平坦性
を確保することも困難になる。

【０１０４】ところで、実際に液晶表示装置を構成する
場合において、カラーフィルタの平坦性は液晶層の厚さ
の均一性や再現性を担保することによってその表示品位
を向上させる上で重要であり、また、カラーフィルタの
光学特性は透過表示と反射表示におけるカラー表示態様
の品位を共に向上させるために重要である。本発明者ら
は、カラーフィルタの平坦性と光学特性とを共に満足さ
せるためには、着色層２１４の厚さを所定範囲内に限定
することが有効であることを見出した。すなわち、着色
層２１４の厚肉部２１４ａの厚さ（透過領域における着
色層の厚さ）の平均値Ｄｔを１．０〜３．０μｍ、その
他の部分の厚さ（反射領域における着色層の厚さ）Ｄｓ
を０．２〜１．５μｍの範囲内にすることによって、カ
ラーフィルタの平坦性と光学特性とを両立させることが
できる。厚さＤｔが上記範囲を越えると着色層の段差が
大きくなるため平坦性を確保することが困難になり、厚
さＤｔが上記範囲を下回ると透過表示の彩度を維持する
ことが困難になる。また、厚さＤｓが上記範囲を越える
と着色層の段差が大きくなるために平坦性を確保するこ
とが困難になり、厚さＤｓが上記範囲を下回ると反射表
示の彩度を維持することが困難になる。なお、このよう
な着色層の厚さＤｔ，Ｄｓの条件範囲内であっても、Ｄ
ｔとＤｓの比は、上述と同様に２〜６の範囲内であるこ
とが望ましいことは当然である。

【０１０５】本実施形態では、反射層２１３上に透光層
２１２を形成することによって上記着色層２１４の厚さ
ＤｔとＤｓを設定するようにしているが、これによって
着色層２１４を形成した場合に、その厚肉部２１４ａの
上部表面に窪みが発生し、これが保護層２１５の表面の
窪みの原因となる。上記Ｄｔ，Ｄｓを上記範囲内に設定
することによって両窪みの深さを小さくし、それによっ
て液晶層の厚さの均一性及び再現性を高めることができ
る。より具体的には、着色層２１４の窪みの深さを０．
５μｍ以下、保護層２１５の窪みの深さを０．２μｍ以
下とすることが好ましい。特に、保護層２１５の窪みの
深さを０．１μｍ以下にすることによって表示ムラ等の
ない高品位の液晶表示を実現することができる。

【０１０６】また、上記着色層２１４の素材を流れ込み
易くし、充填性を向上させることにより、着色層２１４
の表面の平坦性を向上させるためには、上記透光層２１
２の傾斜面２１２ａの傾斜角（本実施形態では反射層２
１３の傾斜反射面２１３ｂの傾斜角でもある。）は、基
板２１１の表面に対して６８〜７９度（基板２１１の法
線に対して１１〜２２度）の範囲内であることが好まし
い。この角度範囲よりも傾斜面２１２ａが急峻になる
と、素材の流れ込み性或いは充填性を向上させる効果が
低下する。また、上記角度範囲よりも傾斜面２１２ａを
なだらかに形成することは製造上困難である。

【０１０７】［第２実施形態］次に、図４（ａ）及び
（ｂ）を参照して、本発明に係る第２実施形態の液晶パ
ネル２００’の構造について説明する。この液晶パネル
２００’は、基本的に第１実施形態の液晶パネル２００
とほぼ同様の構造を有し、第１実施形態と同様のカラー
フィルタ基板２１０に設けられた第１基板２１１、透光
層２１２、着色層２１４、表面保護層２１５、透明電極
２１６及び配向膜２１７と、第２基板２２１、硬質保護
膜２２３及び配向膜２２４を備えた対向基板２２０とを
有し、さらに、第１実施形態と同様のシール材２３０、
液晶２３２、位相差板２４０，２５０、偏光板２４１，
２５１を備えているので、これらについての説明は省略
する。

【０１０８】本実施形態では、透光層２１２上に形成さ
れた反射層２１３’が画素毎に分離した状態に設けられ
ている。この反射層２１３’には、第１実施形態と同様
に画素毎に開口２１３ｈ’が設けられている。また、画
素毎に形成された着色層２１４の間の画素間領域には黒
色遮光膜（ブラックマトリクス或いはブラックマスク）
２１４ＢＭが形成されている。この黒色遮光膜２１４Ｂ
Ｍとしては、例えば黒色の顔料や染料等の着色材を樹脂
その他の基材中に分散させたものや、Ｒ（赤）、Ｇ
（緑）、Ｂ（青）の３色の着色材を共に樹脂その他の基
材中に分散させたものなどを用いることができる。

【０１０９】なお、上記第１実施形態及び第２実施形態
においては、透光層と反射層との積層構造の上に着色層
を形成した例を示したが、カラーフィルタを必要としな
い液晶パネルである場合（例えばモノクロ表示を行う液
晶パネルなど）、或いは、対向基板２２０側（第２基板
２２１上）にカラーフィルタを形成する場合には、反射
層の上に絶縁膜等を介して直接透明電極を形成しても構
わない。

【０１１０】本実施形態においても、反射層２１３’の
開口部２１３ｈ’と重なる部分における厚肉部の厚さの
平均値は、反射層の平坦部上の着色層の厚さの２〜６倍
の範囲内であることが好ましい。また、着色層２１４の
厚肉部の厚さ（透過領域における着色層の厚さ）の平均
値Ｄｔを１．０〜３．０μｍ、その他の部分の厚さ（反
射領域における着色層の厚さ）Ｄｓを０．２〜１．５μ
ｍの範囲内にすることが好ましい。

【０１１１】［第３実施形態］次に、図５（ａ）〜
（ｅ）を参照して、本発明に係る液晶装置の製造方法に
おいて、或いは、本発明に係る液晶装置用基板の製造方
法において用いることのできるカラーフィルタ基板２１
０の製造プロセスについて説明する。

【０１１２】まず、図５（ａ）に示すように、第１基板
２１１上に透光層２１２Ｘを全面的に形成する。透光層
２１２Ｘの素材としては、アクリル樹脂やエポキシ樹脂
などを塗布、乾燥させて形成した透明樹脂体などを用い
ることができる。

【０１１３】次に、図５（ｂ）に示すように、フォトリ
ソグラフィ技術とエッチング法を用いて、上記透光層２
１２Ｘに第１基板２１１上の画素毎に開口部２１２Ｙを
形成する。その後、透光層２１２Ｘを加熱して軟化させ
ることによって流動化させ、図５（ｃ）に示すように、
上記開口部２１２Ｙに臨む縁部近傍の表面に傾斜面２１
２ａを形成する。

【０１１４】その後、上記透光層２１２上において全面
的にアルミニウム、アルミニウム合金、クロム、クロム
合金、銀、銀合金等の金属を蒸着法やスパッタリング法
等によって被着し、図５（ｄ）に示す反射層２１３Ｘを
形成する。そして、反射層２１３Ｘに対してフォトリソ
グラフィ技術及びエッチング法を施して、図５（ｅ）に
示すように、上記透光層２１２の傾斜面２１２ａ上に開
口部の縁２１３ａが配置されるように開口部２１３ｈを
形成して、反射層２１３を完成させる。ここで、反射層
２１３は、透光層２１２の平坦な表面部分上から傾斜面
２１２ａの一部（外周部分）上に張り出した状態に形成
される。

【０１１５】なお、上記各実施形態及び本実施形態にお
いては、透光層２１２の傾斜面２１２ａを断面Ｖ字状に
図示しているが、これはあくまでも模式的に描いたもの
であって、実際には、曲面状に傾斜した表面を有するも
のであってもよい。

【０１１６】なお、第１実施形態の液晶装置用基板であ
るカラーフィルタ基板を形成するには、その後、図３に
示す着色層２１４を画素毎に形成すればよい。着色層２
１４の形成は、例えば透明樹脂中に所定の色相を呈する
顔料や染料等の着色材を分散させたものをパターニング
して行う。例えば、所定の色相を呈する感光性樹脂を基
板上に塗布して、所定の露光パターンにて露光し、その
後、現像処理を行って着色層を形成する。複数の色（例
えばＲ、Ｇ，Ｂ）の着色層を所定の配列パターンで形成
するには、上記手順を色毎に繰り返せばよい。

【０１１７】本実施形態においては、反射層２１３に開
口部２１３ｈを設ける際に、その開口部２１３ｈを形成
するために除去される部分が透光層２１２の傾斜面２１
２ａ上に位置することから、当該部分に大きな段差が存
在せず、なだらかに傾斜しているため、開口部２１３ｈ
を形成するためのレジスト等からなるマスクの形成工程
やエッチング等のパターニング処理工程を容易に、か
つ、高精度に行うことができるという利点がある。

【０１１８】［第４実施形態］次に、図６（ａ）〜
（ｅ）を参照して本発明に係る液晶装置の製造方法にお
いて用いるカラーフィルタ基板２１０の別の製造プロセ
スについて説明する。

【０１１９】この実施形態では、まず、図６（ａ）に示
すように、第１基板２１１上に下地層２１２Ａを形成
し、図６（ｂ）に示すように、この下地層２１２Ａに画
素毎に開口部２１２Ａａを形成する。下地層２１２Ａと
しては、透光性を有するものであることが好ましいが、
必ずしも透光性を有するものでなくてもよい。また、こ
の下地層２１２Ａを軟化させ、流動させる必要はないの
で、ＳｉＯ_２やＴｉＯ_２などの硬質膜で形成することも
可能である。

【０１２０】次に、図６（ｃ）に示すように、上記下地
層２１２Ａ上に透光層２１２Ｂを形成する。この透光層
２１２Ｂの素材や形成方法は第３実施形態と同様の素材
や方法を用いることができるが、この透光層２１２Ｂを
軟化させ、流動させる必要はないので、ＳｉＯ_２やＴｉ
Ｏ_２などの硬質膜で形成することも可能である。

【０１２１】このとき、透光層２１２Ｂはほぼ全面的に
形成されるが、上記の下地層２１２Ａには画素毎に開口
部２１２Ａａが形成されていることにより、下地層２１
２Ａの開口縁部近傍において透光層２１２Ｂの表面には
傾斜面２１２ａが形成される。

【０１２２】その後は、上記第３実施形態と同様に、図
６（ｄ）に示すように反射層２１３Ｘを形成し、その
後、開口部２１３ｈを形成することにより図６（ｅ）に
示す反射層２１３を完成させる。

【０１２３】なお、第１実施形態の液晶装置用基板であ
るカラーフィルタ基板を形成するには、その後、図３に
示す着色層２１４を画素毎に形成すればよい。この着色
層の形成工程は上記第３実施形態と同様である。

【０１２４】［第５実施形態］次に、図７を参照して、
本発明の第５実施形態の液晶パネル及び液晶装置用基板
の構造について説明する。本実施形態においては、上記
第１実施形態の液晶パネル２００と基本的に同じ構造を
有するので、同一部分の構造については図示及び説明を
省略し、異なる部分についてのみ説明する。

【０１２５】この実施形態においては、第１基板２１１
上に透光層３１２が形成され、この透光層３１２の表面
には微細な凹凸が形成されている。この透光層３１２に
おいて、傾斜面３１２ａは上記第１実施形態と同様に構
成されている。

【０１２６】透光層３１２上には反射層３１３が形成さ
れている。この反射層３１３は第１実施形態と同様に透
光層３１２の傾斜面３１２ａ上に開口部の縁３１３ａが
設けられている。この反射層３１３は、上記透光層３１
２の微細な凹凸上に形成されているために、当該透光層
３１２の凹凸を反映した微細な凹凸状の反射面を備えて
いる。そして、この微細な凹凸状の反射面は、可視光を
散乱させるように構成されている。

【０１２７】この実施形態では、反射層３１３の特に平
坦な反射面領域が微細な凹凸状（すなわち粗面状）に形
成されているので、液晶パネルの反射型表示において、
反射層による正反射に起因して生ずる背景の写りこみや
照明光による幻惑を防止することができる。

【０１２８】［第６実施形態］次に、図８（ａ）〜
（ｅ）を参照して、本発明の液晶装置及び液晶装置用基
板の製造方法に関する第６実施形態として、上記第５実
施形態のカラーフィルタ基板（液晶装置用基板）を形成
するための製造プロセスについて説明する。

【０１２９】この実施形態においては、まず、図８
（ａ）に示すように、第１基板２１１上に第３実施形態
と同様の素材を用いて同様の方法で透光層３１２Ｘを形
成する。次に、図８（ｂ）に示すように、第３実施形態
と同様にフォトリソグラフィ技術及びエッチング法を用
いて透光層３１３Ｘに開口部３１２Ｙを形成し、さら
に、フォトリソグラフィ技術及びエッチング法を用いて
透光層３１２Ｘの表面上に微細な凹凸を形成する。

【０１３０】次に、図８（ｃ）に示すように、第３実施
形態と同様に透光層３１２Ｘを加熱することにより軟化
させ、その開口縁を流動させて、傾斜面３１２ａを備え
た透光層３１２を形成する。このとき、透光層３１２Ｘ
の表面上の微細な凹凸も素材の軟化によって若干崩れる
が、凹凸自体は透光層３１２の表面上に残存するように
する。

【０１３１】次に、図８（ｄ）に示すように、反射層３
１３Ｘを第３実施形態と同様の素材を用いて同様の方法
で形成する。このとき、反射層３１３Ｘには、上記透光
層３１２の表面上に微細な凹凸が残存していることによ
り、当該凹凸を反映して微細な凹凸状の反射面を有する
ものとなる。

【０１３２】最後に、上記反射層３１３Ｘをフォトリソ
グラフィ技術及びエッチング法を用いてパターニング
し、開口部３１３ｈを有する反射層３１３を完成させ
る。

【０１３３】なお、第５実施形態の液晶装置用基板であ
るカラーフィルタ基板を形成するには、第３実施形態に
記載したところと同様に、その後、図７に示す着色層２
１４を画素毎に形成すればよい。

【０１３４】［第７実施形態］次に、図９を参照して、
本発明の液晶装置及び液晶装置用基板の製造方法に関す
る第６実施形態として、上記第５実施形態のカラーフィ
ルタ基板（液晶装置用基板）を形成するための製造プロ
セスについて説明する。

【０１３５】この実施形態においては、まず、図９
（ａ）に示すように、第１基板２１１上に第４実施形態
と同様の下地層３１２Ａを形成する。そして、図９
（ｂ）に示すように、この下地層３１２Ａの表面には、
さらにフォトリソグラフィ技術及びエッチング法により
微細な凹凸を形成する。

【０１３６】次に、図９（ｃ）に示すように、上記下地
層３１２Ａ上に透光層３１２Ｂを形成する。この透光層
３１２Ｂの素材や形成方法は第４実施形態と同様であ
る。このとき、透光層３１２Ｂはほぼ全面的に形成され
るが、上記の下地層３１２Ａには画素毎に開口部３１２
Ａａが形成されていることにより、下地層３１２Ａの開
口縁部近傍において、透光層３１２Ｂには傾斜面部３１
２ａが形成される。また、下地層３１２Ａの表面上には
上記のように微細な凹凸が形成されているので、この凹
凸を反映して、透光層３１２Ｂの表面にも微細な凹凸が
形成される。

【０１３７】その後、上記第４実施形態と同様に、図９
（ｄ）に示すように反射層３１３Ｘを形成し、その後、
開口部３１３ｈを形成することにより図９（ｅ）に示す
反射層３１３を完成させる。このとき、反射層３１３
は、透光層３１２Ｂの表面上の微細な凹凸を反映して、
微細な凹凸を有する反射面を備えたものとなる。この反
射面の微細な凹凸は、可視光を散乱させることができる
ように構成される。

【０１３８】なお、第１実施形態の液晶装置用基板であ
るカラーフィルタ基板を形成するには、その後、図７に
示す着色層２１４を画素毎に形成すればよい。この着色
層の形成工程は上記第３実施形態と同様である。

【０１３９】［その他の構成例］次に、上記各実施形態
に適用可能な他の構成例について図１０（ａ）〜（ｄ）
を参照して詳細に説明する。

【０１４０】図１０（ａ）に示す構成例１は、基板４１
１上に、傾斜面４１２ａを有する透光層４１２を形成
し、この透光層４１２上に、上記傾斜面４１２ａ上に開
口部の縁４１３ａを有する反射層４１３を形成し、この
開口部の縁４１３ａは傾斜面４１２ａ上に配置され、さ
らに、この反射層４１３上に着色層４１４を形成してい
る点で上記各実施形態と同様である。

【０１４１】この構成例１においては、透光層４１２の
傾斜面４１２ａのうち最も低い部分が基板４１１の表面
から或る程度離れるように、すなわち当該部分において
も透光層４１２が或る程度の層厚を有するように、構成
されている点で上記各実施形態とは若干異なる。この場
合、着色層４１４に所定の厚さ増加分を有する厚肉部４
１４ａを形成するに必要な厚さ以上に透光層４１２が厚
く形成されていることとなるが、光学的には上記各実施
形態と同様の作用効果が得られる。

【０１４２】図１０（ｂ）に示す構成例２も、基板５１
１上に、傾斜面５１２ａを備えた透光層５１２を形成
し、この透光層５１２上に、上記傾斜面５１２ａ上に開
口部の縁５１３ａを有する反射層５１３を形成し、この
開口部の縁５１３ａは傾斜面５１２ａ上に配置され、さ
らに、この反射層５１３上に着色層５１４を形成してい
る点で上記各実施形態と同様である。

【０１４３】この構成例２においては、透光層５１２の
傾斜面５１２ａの内側に透光素材の存在しない開口５１
２ｂが設けられている点で、上記各実施形態とは若干異
なる。しかしながら、この構成例２においても光学的に
は上記各実施形態と同様の作用効果が得られる。また、
開口５１２ｂを設けることにより、傾斜面５１２ａの角
度を変えることなく、反射層の開口部の大きさに応じて
透光層５１２の厚さを調整することができる。透光層５
１２の厚さは、上記第１実施形態において説明したよう
に、着色層５１４における厚肉部の厚さの平均と、反射
層５１３の平坦部上の厚さとの関係を規制するため、透
光層５１２の厚さを調整することにより、反射型表示と
透過型表示の色表示特性を最適化することが可能にな
る。

【０１４４】図１０（ｃ）に示す構成例３においては、
基板６１１上に、画素毎に開口部６１３ｈを有する反射
層６１３が形成され、この反射層６１３上に透光層６１
２が形成される。この透光層６１２には上記と同様の傾
斜面６１２ａが形成されている。透光層６１２は上記各
実施形態と同様の素材及び方法で形成される。そして、
透光層６１２上に着色層６１４が形成される。透光層６
１２の傾斜面６１２ａは、反射層６１３の開口部の縁６
１３ａ上に配置されている。

【０１４５】この構成例３においても、傾斜面６１２ａ
を有する透光層６１２上に着色層６１４が形成されるこ
とにより、着色層６１４における傾斜面６１２ａ上に厚
肉部６１４ａが形成され、この厚肉部６１４ａは反射層
の開口部６１３ｈと平面的に重なる領域に位置している
ので、反射型表示の明るさを確保しつつ、透過型表示の
彩度を向上させることが出来る点で上記各実施形態と同
様である。

【０１４６】図１０（ｄ）に示す構成例４においては、
構成例３と同様に、基板７１１上に、画素毎に開口部７
１３ｈを有する反射層７１３が形成され、この反射層７
１３上に透光層７１２が形成される。この透光層７１２
には開口７１２ｂが設けられ、この開口７１２ｂの周囲
に上記と同様の傾斜面７１２ａが形成されている。透光
層７１２の傾斜面７１２ａは、反射層７１３の開口部の
縁７１３ａ上に配置されている。

【０１４７】この実施形態でも、上記構成例３と同様の
効果が得られるが、さらに、開口７１２ｂを設けること
により、傾斜面７１２ａの角度を変えることなく、反射
層の開口部の大きさに応じて透光層７１２の厚さを調整
することができる。透光層７１２の厚さは、上記第１実
施形態において説明したように、着色層７１４における
厚肉部の厚さの平均と、反射層７１３の平坦部上の厚さ
との関係を規制するため、透光層７１２の厚さを調整す
ることにより、反射型表示と透過型表示の色表示特性を
最適化することが可能になる。

【０１４８】上記構成例１〜４のいずれにおいても、透
光層に傾斜面が設けられ、この傾斜面と反射層の開口部
の縁とが重なるように配置されている。したがって、液
晶装置の透過領域は反射層の開口部によって画成される
とともに、反射層の開口部は、透光層の傾斜面（及び存
在する場合には透光層の開口）によって設けられた着色
層の厚肉部と重なることになる。ここで、厚肉部となる
部分の下に透光層の傾斜面或いはその傾斜面上に設けら
れた反射層の傾斜反射面が存在するため、着色層を形成
する際における感光性着色樹脂等の着色材料の充填性を
高めることが可能になり、また、着色材料の充填性の向
上と、開口部近傍における透光層の高低差の緩和により
当該厚肉部の表面に窪みが発生したり窪みの深さが大き
くなったりすることを防止することができるので、着色
層の表面の平坦性を向上させることができる。

【０１４９】上記構成例２及び構成例４においては、図
１０（ｂ）及び（ｄ）に示すようにいずれも透光層に開
口が設けられ、この開口の周囲に傾斜面が形成されてい
る。この場合、反射層の開口部の縁は透光層の傾斜面と
重なる位置に設ける必要は必ずしもない。

【０１５０】例えば、構成例２においては図１０（ｂ）
に示すように反射層５１３の開口部の縁５１３ａは透光
層５１２の傾斜面５１２ａ上に配置されているが、図１
４（ａ）及び（ｂ）に示す変形例では、反射層の開口部
の縁の位置が構成例２とは異なる構造となっている。

【０１５１】図１４（ａ）に示す例では、基板１５０１
上に透光層１５１２が形成され、この透光層１５１２に
は開口１５１２ｂが設けられている。開口１５１２ｂの
周囲には傾斜面１５１２ａが形成されている。透光層１
５１２上には反射層１５１３が設けられ、反射層１５１
３には開口部１５１３ｈが形成されている。反射層１５
１３上には着色層１５１４が形成されている。

【０１５２】この例では、反射層１５１３が透光層１５
１２の傾斜面１５１２ａ上を完全に覆い、反射層１５１
３の開口部の縁１５１３ａは、透光層１５１２の開口１
５１２ｂの開口縁とほぼ一致する位置に配置されてい
る。したがって、着色層１５１４において透過型表示に
用いられる部分は、透光層１５１２の開口１５１２ｂ上
にある部分だけとなり、透過領域における着色層１５１
４の厚肉部の厚さの平均値は、各層の厚さが上記構成例
２と同じであっても、構成例２よりも大きく（最大に）
なる。したがって、透過型表示の彩度を構成例２よりも
高めることができる。

【０１５３】図１４（ｂ）に示す例では、基板２５０１
上に透光層２５１２が形成され、この透光層２５１２に
は開口２５１２ｂが設けられている。開口２５１２ｂの
周囲には傾斜面２５１２ａが形成されている。透光層２
５１２上には反射層２５１３が設けられ、反射層２５１
３には開口部２５１３ｈが形成されている。反射層２５
１３上には着色層２５１４が形成されている。

【０１５４】この例では、反射層２５１３が透光層２５
１２の傾斜面２５１２ａを完全に覆い、反射層２５１３
の開口部の縁２５１３ａは、透光層２５１２の開口２５
１２ｂの内部に配置されている。したがって、透光層２
５１２の開口２５１２ｂの面積は、反射層２５１３の開
口部２５１３ｈの面積よりも大きくなっている。したが
って、着色層２５１４において透過型表示に用いられる
部分は、透光層２５１２の開口２５１２ｂ内における反
射層２５１３の開口部２５１３ｈ上にある部分だけとな
り、透過領域における着色層２５１４の厚肉部の厚さの
平均値は、各層の厚さが上記構成例２と同じであって
も、構成例２よりも大きく（最大に）なる。したがっ
て、透過型表示の彩度を構成例２よりも高めることがで
きる。

【０１５５】また、構成例４においては図１０（ｄ）に
示すように反射層７１３の開口部の縁７１３ａ上に透光
層７１２の傾斜面７１２ａが配置されているが、図１４
（ｃ）及び（ｄ）に示す変形例では、反射層の開口部の
縁の位置が構成例４とは異なる構造となっている。

【０１５６】図１４（ｃ）に示す例では、基板１７０１
上に開口部１７１３ｈを有する反射層１７１３が形成さ
れている。そして、反射層１７１３上に透光層１７１２
が形成されている。この透光層１７１２には開口１７１
２ｂが設けられ、この開口１７１２ｂの周囲に傾斜面１
７１２ａが形成されている。透光層１７１２上には着色
層１７１４が形成されている。

【０１５７】この例では、透光層１７１２が反射層１７
１３を完全に覆い、透光層１７１２の開口１７１２ｂの
開口縁は、反射層１７１３の開口部１７１３ｈの縁１７
１３ａとほぼ一致する位置に配置されている。したがっ
て、着色層１７１４において透過型表示に用いられる部
分は、透光層１７１２の開口１７１２ｂ上にある部分だ
けとなり、透過領域における着色層１７１４の厚肉部の
厚さの平均値は、各層の厚さが上記構成例４と同じであ
っても、構成例４よりも大きく（最大に）なる。したが
って、透過型表示の彩度を構成例４よりも高めることが
できる。

【０１５８】図１４（ｄ）に示す例では、基板２７０１
上に開口部２７１３ｈを有する反射層２７１３が形成さ
れている。そして、反射層２７１３上に透光層２７１２
が形成されている。この透光層２７１２には開口２７１
２ｂが設けられ、この開口２７１２ｂの周囲に傾斜面２
７１２ａが形成されている。透光層２７１２上には着色
層２７１４が形成されている。

【０１５９】この例では、透光層２７１２が反射層２７
１３を完全に覆い、反射層２７１３の開口部の縁２７１
３ａは、透光層２７１２の開口２７１２ｂの内部に配置
されている。したがって、透光層２７１２の開口２７１
２ｂの面積は、反射層２７１３の開口部２７１３ｈの面
積よりも大きくなっている。したがって、着色層２７１
４において透過型表示に用いられる部分は、透光層２７
１２の開口２７１２ｂ内における反射層２７１３の開口
部２７１３ｈ上にある部分だけとなり、透過領域におけ
る着色層２７１４の厚肉部の厚さの平均値は、各層の厚
さが上記構成例４と同じであっても、構成例４よりも大
きく（最大に）なる。したがって、透過型表示の彩度を
構成例４よりも高めることができる。

【０１６０】本発明においては、反射層の開口部の縁
を、透光層の傾斜面や開口を基準としてどの位置に配置
するかによって、着色層の光学特性を変えることができ
る。例えば、反射層の開口部の縁の位置を透光層の傾斜
面と重なる範囲で変化させた場合には、透過型表示に寄
与する着色層の厚さの平均値を変化させることができ
る。例えば、反射層の開口部の形状や面積を一定に設定
してある場合には、透過層の傾斜面の位置を調整するこ
とによって透過型表示に用いられる着色層の厚さを実質
的に調整することが可能になり、透過型表示における彩
度を調整することが可能になる。

【０１６１】［電子機器の実施形態］最後に、上記液晶
パネルを含む液晶装置を電子機器の表示装置として用い
る場合の実施形態について説明する。図１１は、本実施
形態の全体構成を示す概略構成図である。ここに示す電
子機器は、上記と同様の液晶パネル２００と、これを制
御する制御手段１２００とを有する。ここでは、液晶パ
ネル２００を、パネル構造体２００Ａと、半導体ＩＣ等
で構成される駆動回路２００Ｂとに概念的に分けて描い
てある。また、制御手段１２００は、表示情報出力源１
２１０と、表示処理回路１２２０と、電源回路１２３０
と、タイミングジェネレータ１２４０とを有する。

【０１６２】表示情報出力源１２１０は、ＲＯＭ（Read
Only Memory）やＲＡＭ（Random Access Memory）等か
らなるメモリと、磁気記録ディスクや光記録ディスク等
からなるストレージユニットと、デジタル画像信号を同
調出力する同調回路とを備え、タイミングジェネレータ
１２４０によって生成された各種のクロック信号に基づ
いて、所定フォーマットの画像信号等の形で表示情報を
表示情報処理回路１２２０に供給するように構成されて
いる。

【０１６３】表示情報処理回路１２２０は、シリアル−
パラレル変換回路、増幅・反転回路、ローテーション回
路、ガンマ補正回路、クランプ回路等の周知の各種回路
を備え、入力した表示情報の処理を実行して、その画像
情報をクロック信号ＣＬＫと共に駆動回路２００Ｂへ供
給する。駆動回路２００Ｂは、走査線駆動回路、データ
線駆動回路及び検査回路を含む。また、電源回路１２３
０は、上述の各構成要素にそれぞれ所定の電圧を供給す
る。

【０１６４】図１２は、本発明に係る電子機器の一実施
形態である携帯電話を示す。この携帯電話２０００は、
ケース体２０１０の内部に回路基板２００１が配置さ
れ、この回路基板２００１に対して上述の液晶パネル２
００が実装されている。ケース体２０１０の前面には操
作ボタン２０２０が配列され、また、一端部からアンテ
ナ２０３０が出没自在に取付けられている。受話部２０
４０の内部にはスピーカが配置され、送話部２０５０の
内部にはマイクが内蔵されている。

【０１６５】ケース体２０１０内に設置された液晶パネ
ル２００は、表示窓２０６０を通して表示面（上記の液
晶表示領域Ａ）を視認することができるように構成され
ている。

【０１６６】尚、本発明の電気光学装置及び電子機器
は、上述の図示例にのみ限定されるものではなく、本発
明の要旨を逸脱しない範囲内において種々変更を加え得
ることは勿論である。例えば、上記各実施形態に示す液
晶パネルは単純マトリクス型の構造を備えているが、Ｔ
ＦＴ（薄膜トランジスタ）やＴＦＤ（薄膜ダイオード）
等のアクティブ素子（能動素子）を用いたアクティブマ
トリクス方式の液晶装置にも適用することができる。ま
た、上記実施形態の液晶パネルは所謂ＣＯＧタイプの構
造を有しているが、ＩＣチップを直接実装する構造では
ない液晶パネル、例えば液晶パネルにフレキシブル配線
基板やＴＡＢ基板を接続するように構成されたものであ
っても構わない。

【０１６７】さらに、上記各実施形態は液晶装置用基板
及び液晶装置に関するものであるが、本発明は上記構成
に限定されず、例えば、有機エレクトロルミネッセンス
装置、プラズマディスプレイ装置、フィールドエミッシ
ョンディスプレイ装置等の各種の電気光学装置用基板及
び電気光学装置に適用することができる。

【０１６８】

【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、傾
斜面部を備えた透光層上に開口を有する反射層を形成す
ることにより、反射層を容易に、かつ、高精度にパター
ニングすることができる。

【０１６９】また、反射層に、傾斜面部上に配置された
傾斜反射部を設けることにより、電気光学装置の視野角
特性を改善することができる。

【０１７０】さらに、上記構造上に着色層を形成するこ
とにより、反射型表示の明るさを確保しつつ透過型表示
の彩度を向上できる。或いは、反射型表示と透過型表示
との間の色彩の差異を低減できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】 本発明に係る第１実施形態の液晶パネルの外
観を示す概略斜視図である。

【図２】 第１実施形態のパネル構造を模式的に示す概
略断面図（ａ）及びカラーフィルタ基板の平面構造を示
す拡大部分平面図（ｂ）である。

【図３】 第１実施形態のカラーフィルタ基板における
画素内の表面構造を拡大して示す拡大部分断面図（ａ）
及び拡大部分平面図（ｂ）である。

【図４】 本発明に係る第２実施形態のパネル構造を模
式的に示す概略断面図（ａ）及びカラーフィルタ基板の
平面構造を示す拡大部分平面図（ｂ）である。

【図５】 本発明に係る液晶装置の製造方法に関する第
３実施形態を示す概略工程図（ａ）〜（ｅ）である。

【図６】 本発明に係る液晶装置の製造方法に関する第
４実施形態を示す概略工程図（ａ）〜（ｅ）である。

【図７】 本発明に係る液晶装置の第５実施形態のカラ
ーフィルタ基板における画素内の表面構造を拡大して示
す拡大部分断面図（ａ）及び拡大部分平面図（ｂ）であ
る。

【図８】 本発明に係る液晶装置の製造方法に関する第
６実施形態を示す概略工程図（ａ）〜（ｅ）である。

【図９】 本発明に係る液晶装置の製造方法に関する第
７実施形態を示す概略工程図（ａ）〜（ｅ）である。

【図１０】 本発明に係る液晶装置用基板の構成例を示
す概略断面図（ａ）〜（ｄ）である。

【図１１】 本発明に係る電子機器の実施形態における
構成ブロックを示す概略構成図である。

【図１２】 上記電子機器の実施形態の一例として携帯
電話の外観を示す斜視図である。

【図１３】 従来の反射半透過型の液晶パネルの構造を
模式的に示す概略断面図である。

【図１４】 図１０に示す構成例２の変形例を示す拡大
部分断面図（ａ）及び（ｂ）、並びに、図１０に示す構
成例４の変形例を示す拡大部分断面図（ｃ）及び（ｄ）
である。

【符号の説明】

２００ 液晶パネル ２１１ 第１基板 ２１２ 透光層 ２１２ａ 傾斜面 ２１３ 反射層 ２１３ａ 開口部の縁 ２１３ｂ 傾斜反射面 ２１３ｈ 開口部 ２１４ 着色層 ２１５ 表面保護層 ２１６ 透明電極 ２２１ 第２基板 ２２２ 透明電極

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｇ０２Ｆ 1/1335 ５０５ Ｇ０２Ｆ 1/1335 ５０５ ５Ｇ４３５ ５２０ ５２０ Ｇ０９Ｆ 9/00 ３３８ Ｇ０９Ｆ 9/00 ３３８ 9/35 9/35 // Ｈ０５Ｂ 33/14 Ｈ０５Ｂ 33/14 Ａ Ｆターム(参考） 2H042 BA03 BA12 BA15 BA20 DA02 DA03 DA04 DA14 DA22 DC01 DE00 2H048 BA02 BA45 BB02 BB07 BB08 BB10 BB42 2H091 FA02Y FA14Y FC05 FD06 3K007 AB04 AB17 BA06 BB06 CA01 CC01 DB03 5C094 AA07 AA08 BA43 DA13 EA06 EB02 ED03 ED11 FA03 FB01 5G435 AA03 AA04 BB12 FF03 FF08 HH02 KK05 LL06 LL07 LL08

Claims (21)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 基板と、 前記基板上に配置された前記基板に対して傾斜している
   傾斜面を有する実質的に光が透過できる透光層と、 前記透光層上に配置された開口部を有する反射層とを備
   え、 前記開口部の縁は前記傾斜面上に配置されていることを
   特徴とする電気光学装置用基板。
2. 【請求項２】 前記透光層は前記傾斜面によって構成さ
   れる谷状部を有することを特徴とする請求項１に記載の
   電気光学装置用基板。
3. 【請求項３】 基板と、前記基板上に配置され開口を有
   する実質的に光が透過できる透光層と、 前記透光層の前記開口と重なる開口部を有する反射層と
   を備え、 前記透光層は、前記開口の周囲に前記基板に対して傾斜
   した傾斜面を有し、 前記反射層の前記開口部の縁は、前記傾斜面上若しくは
   その内側の前記透光層の前記開口内に配置されているこ
   とを特徴とする電気光学装置用基板。
4. 【請求項４】 前記反射層は前記基板に対して傾斜して
   いる傾斜反射面を有し、前記傾斜反射面は少なくとも前
   記傾斜面上に配置されていることを特徴とする請求項１
   に記載の電気光学装置用基板。
5. 【請求項５】 前記透光層は前記基板に対して平行な平
   行面を有し、前記傾斜反射面は前記平行面上から前記傾
   斜面上に張り出すように配置されていることを特徴とす
   る請求項４に記載の電気光学装置用基板。
6. 【請求項６】 前記反射層は可視光を散乱可能な微細な
   凹凸を有することを特徴とする請求項１に記載の電気光
   学装置用基板。
7. 【請求項７】 前記透光層上に着色層が配置されている
   ことを特徴とする請求項１に記載の電気光学装置用基
   板。
8. 【請求項８】 基板と、 前記基板上に配置された開口部を有する反射層と、 前記反射層上に配置された前記基板に対して傾斜した傾
   斜面を有する実質的に光が透過できる透光層とを備え、 前記傾斜面は前記開口部の縁上に配置され、 前記透光層上に着色層が配置されていることを特徴とす
   る電気光学装置用基板。
9. 【請求項９】 基板と、 前記基板上に配置された開口部を有する反射層と、 前記反射層上に配置され前記開口部に重なる開口を有す
   る実質的に光が透過できる透光層とを備え、 前記透光層は、前記開口の周囲に前記基板に対して傾斜
   した傾斜面を有し、 前記反射層の前記開口部の縁は、前記傾斜面上若しくは
   その内側の前記透光層の前記開口内に配置され、 前記透光層上に着色層が配置されていることを特徴とす
   る電気光学装置用基板。
10. 【請求項１０】 基板上に実質的に光が透過できる透光
    層を形成する工程と、 前記透光層を軟化させて素材を流動させることにより前
    記透光層の一部に前記基板に対して傾斜している傾斜面
    を形成する工程と、 前記透光層上に開口部を有する反射層を形成する工程と
    を有し、 前記反射層を形成する工程では、前記傾斜面上に前記開
    口部の縁が設けられるように前記開口部が形成されるこ
    とを特徴とする電気光学装置用基板の製造方法。
11. 【請求項１１】 基板上に開口を有する実質的に光が透
    過できる透光層を形成する工程と、 前記透光層を軟化させて素材を流動させることにより前
    記開口の周囲に前記基板に対して傾斜した傾斜面を形成
    する工程と、 前記透光層上に前記開口と重なる開口部を有する反射層
    を形成する工程とを有し、 前記反射層を形成する工程では、前記傾斜面上若しくは
    その内側の前記透光層の前記開口内に前記開口部の縁が
    設けられるように前記開口部が形成されることを特徴と
    する電気光学装置用基板の製造方法。
12. 【請求項１２】 基板上に下地層を部分的に形成する工
    程と、 前記下地層上に前記基板に対して傾斜している傾斜面を
    有する実質的に光が透過できる透光層を形成する工程
    と、 前記透光層上に開口部を有する反射層を形成する工程と
    を有し、 前記透光層を形成する工程では、前記下地層の縁部近傍
    上に前記傾斜面が形成され、 前記反射層を形成する工程では、前記傾斜面上に前記開
    口部の縁が設けられるように前記開口部が形成されるこ
    とを特徴とする電気光学装置用基板の製造方法。
13. 【請求項１３】 前記下地層を形成する工程では、前記
    下地層の表面上に凹凸が形成され、 前記透光層を形成する工程では、前記下地層の前記凹凸
    上に前記透光層を形成することにより前記透光層の表面
    上に凹凸が形成され、 前記反射層を形成する工程では、前記透光層の前記凹凸
    上に前記反射層を形成することにより前記反射層に可視
    光を散乱可能な微細な凹凸が形成されることを特徴とす
    る請求項１２に記載の電気光学装置用基板の製造方法。
14. 【請求項１４】 基板上に開口部を有する反射層を形成
    する工程と、 前記反射層上に前記基板に対して傾斜している傾斜面を
    有する実質的に光が透過できる透光層を形成する工程
    と、 前記透光層上に着色層を形成する工程とを有し、 前記透光層を形成する工程では、前記傾斜面が前記開口
    部の縁上に設けられるように形成されることを特徴とす
    る電気光学装置用基板の製造方法。
15. 【請求項１５】 基板上に開口部を有する反射層を形成
    する工程と、 前記反射層上に前記開口部に重なる開口を有する実質的
    に光が透過できる透光層を形成する工程と、 前記透光層上に着色層を形成する工程とを有し、 前記透光層を形成する工程では、前記開口の周囲に前記
    基板に対して傾斜した傾斜面を、前記反射層の前記開口
    部の縁上に前記傾斜面若しくはその内側の前記透光層の
    前記開口が設けられるように形成することを特徴とする
    電気光学装置用基板の製造方法。
16. 【請求項１６】 基板と、 前記基板上に配置された前記基板に対して傾斜している
    傾斜面を有する実質的に光が透過できる透光層と、 前記透光層上に配置された開口部を有する反射層とを備
    え、 前記開口部の縁は前記傾斜面上に配置されていることを
    特徴とする電気光学装置。
17. 【請求項１７】 基板と、 前記基板上に配置され開口を有する実質的に光が透過で
    きる透光層と、 前記透光層の前記開口と重なる開口部を有する反射層と
    を備え、 前記透光層は、前記開口の周囲に前記基板に対して傾斜
    した傾斜面を有し、 前記反射層の前記開口部の縁は、前記傾斜面上若しくは
    その内側の前記透光層の前記開口内に配置されているこ
    とを特徴とする電気光学装置。
18. 【請求項１８】 基板と、 前記基板上に配置された開口部を有する反射層と、 前記反射層上に配置された前記基板に対して傾斜した傾
    斜面を有する実質的に光が透過できる透光層とを備え、 前記傾斜面は前記開口部の縁上に配置され、 前記透光層上に着色層が配置されていることを特徴とす
    る電気光学装置。
19. 【請求項１９】 基板と、 前記基板上に配置された開口部を有する反射層と、 前記反射層上に配置され前記開口部に重なる開口を有す
    る実質的に光が透過できる透光層とを備え、 前記透光層は、前記開口の周囲に前記基板に対して傾斜
    した傾斜面を有し、 前記反射層の前記開口部の縁は、前記傾斜面上若しくは
    その内側の前記透光層の前記開口内に配置され、 前記透光層上に着色層が配置されていることを特徴とす
    る電気光学装置。
20. 【請求項２０】請求項１０に記載の電気光学装置用基板
    の製造方法を工程として備えることを特徴とする電気光
    学装置の製造方法。
21. 【請求項２１】 請求項１６に記載の電気光学装置と、
    該電気光学装置を制御する制御手段とを備えた電子機
    器。