JP2003186000A - 電気光学装置用基板及びその製造方法、電気光学装置並びに電子機器 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 携帯電話機、携帯型パーソナルコンピュータ
等の電子機器における電気光学装置に用いられる場合、
反射型における画像表示の明るさを高めるとともに、透
過型における画像表示の色調（色の濃さ）を相対的に向
上させ、反射型、透過型双方の画像表示における色彩の
差異を低減させることのできる電気光学装置用基板及び
その製造方法、電気光学装置並びに電子機器を提供す
る。 【解決手段】 一方の基板４１１には、実質的に光が透
過可能な透過部４１２ａ及び光を反射する反射部４１２
ｒを有する反射層４１２が設けられ、他方の基板４２１
には、反射層４１２に平面的に重なるように着色層４２
４、４２５が設けられ、着色層４２４、４２５は、反射
部４１２ｒに対応する領域にはドット形状に配置される
とともに、透過部４１２ａに対応する領域には少なくと
もその一部を覆うように配置されることを特徴とする電
気光学装置。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、電気光学装置用基
板及びその製造方法、電気光学装置並びに電子機器に関
する。さらに詳しくは、携帯電話機、携帯型パーソナル
コンピュータ等の電子機器における電気光学装置に用い
られる場合、反射型における画像表示の明るさを高める
とともに、透過型における画像表示の色調（色の濃さ）
を相対的に向上させ、反射型、透過型双方の画像表示に
おける色彩の差異を低減させることのできる電気光学装
置用基板及びその製造方法、電気光学装置並びに電子機
器に関する。

【０００２】

【従来の技術】近年、携帯電話機、携帯型パーソナルコ
ンピュータ等の電子機器に電気光学装置、例えば、液晶
装置が広く用いられるようになっている。この液晶装置
は用途により様々な形態があり、例えば、暗い場所で使
用する場合や、画像表示部の輝度を特に必要とする場合
等は、液晶装置の背面光源からの光を入射させて表示を
行う透過型の液晶装置が用いられており、また、使用場
所が十分に明るい場合や、特に画像表示部の輝度を必要
としない場合は、自然光や室内照明等の外光を画像表示
部前面から入射させ、この光を反射させて表示を行う反
射型が用いられている。さらに、これら反射型、透過型
双方の画像表示が可能な、いわゆる半透過反射型の液晶
装置も用いられている。

【０００３】図１１は、従来の半透過反射型の液晶装置
１００の構造を模式的に示す概略断面図である。この液
晶装置１００は、基板１０１と基板１０２とがシール材
１０３によって貼り合わせられ、基板１０１と基板１０
２との間に液晶１０４を封入した構造を備えている。

【０００４】基板１０１の内面上には、画素毎に透光部
（開口部）１１１ａと反射部１１１ｂとを有する反射層
１１１が形成され、この反射層１１１の上に着色層１１
２ｒ，１１２ｇ，１１２ｂ及び表面保護層１１２ｐを備
えたカラーフィルタ１１２が形成されている。カラーフ
ィルタ１１２の表面保護層１１２ｐの表面上には透明電
極１１３が形成されている。

【０００５】一方、基板１０２の内面上には透明電極１
２１が形成され、対向する基板１０１上の上記透明電極
１１３と交差するように構成されている。なお、基板１
０１上や基板１０２上には、配向膜や硬質透明膜等が必
要に応じて適宜に形成される。

【０００６】また、上記の基板１０２の外面上には位相
差板（１／４波長板）１０５及び偏光板１０６が順次配
置され、基板１０１の外面上には位相差板（１／４波長
板）１０７及び偏光板１０８が順次配置される。

【０００７】以上のように構成された液晶装置１００
は、携帯電話機、携帯型パーソナルコンピュータ等の電
子機器に設置される場合、その背後にバックライト１０
９が配置された状態で取付けられる。この液晶装置１０
０においては、昼間や屋内等の明るい場所では反射経路
Ｒに沿って外光が液晶１０４を透通過した後に反射部１
１１ｂにて反射され、再び液晶１０４を通過して放出さ
れるので、反射型表示が視認される。一方、夜間や野外
等の暗い場所ではバックライト１０９を点灯させること
により、バックライト１０９の照明光のうち透光部（開
口部）１１１ａを通過した光が透過経路Ｔに沿って液晶
装置１００を通過して放出されるので、透過型表示が視
認される。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うな半透過反射型の液晶装置には、異なる二つの表示方
式を採用していることから、次のような問題があった。

【０００９】半透過反射型の液晶装置を反射型として用
いた場合、画像表示部前面から入射した外光は着色層を
通過した後、反射層の反射部で反射し、再度着色層を通
過するため、着色層の通過距離が、着色層を一度だけ通
過する透過型の場合に比べ二倍以上になり、表示される
画像の明るさが低下することになる。このような反射型
として用いた場合に十分な明るさの画像表示を得るため
には、着色層の厚さを薄くしたり、顔料濃度を減少させ
る必要があるが、このような条件であると透過型として
用いる場合に、十分な色調（色の濃さ）の画像表示が得
られないことになる。逆に、着色層を厚くしたり、顔料
濃度を増加させたりすることによって透過型として十分
な色の濃さの画像表示を得るように着色層の条件を設定
すると、反射型として十分な明るさの画像表示を得るこ
とができないことになる。このように、反射型として十
分な明るさの画像表示を得ることと、透過型で十分な色
の濃さの画像表示を得ることとは、二律背反の関係にあ
り、両者を両立させることは極めて困難であるという問
題があった。また、反射型、透過型双方の画像表示方法
の違いから、反射型と透過型の色彩に差異が生じ、使用
者に違和感を与えるという問題もあった。

【００１０】本発明は、上述の問題に鑑みてなされたも
のであって、携帯電話機、携帯型パーソナルコンピュー
タ等の電子機器における電気光学装置に用いられる場
合、反射型における画像表示の明るさを高めるととも
に、透過型における画像表示の色調（色の濃さ）を相対
的に向上させ、反射型、透過型双方の画像表示における
色彩の差異を低減させることのできる電気光学装置用基
板及びその製造方法、電気光学装置並びに電子機器を提
供することを目的とする。

【００１１】

【課題を解決するための手段】上記の問題を解決するた
めに、本発明の電気光学装置用基板は、実質的に光が透
過可能な透過部、及び光を反射する反射部を有する反射
層と、前記反射層に設けられる着色層と、を備え、前記
透過部には、前記透過部を覆うように前記着色層が配置
され、前記反射部には、前記着色層がドット形状に複数
配置されることを特徴とする。

【００１２】また、本発明の電気光学装置用基板は、光
を反射する反射部を有する反射層と、前記反射層に設け
られる着色層と、を備え、前記反射部には、前記着色層
がドット形状に複数配置されることを特徴とする。

【００１３】このように構成することによって、電気光
学装置、例えば、液晶装置に用いられる場合、透過型に
おける画像表示の色の濃さを低下させることなく、反射
型における画像表示の色調（色の濃さ）を相対的に向上
させ、反射型、透過型双方の画像表示における色彩の差
異を低減させることができる。

【００１４】また、本発明の電気光学装置用基板の製造
方法は、実質的に光が透過可能な透過部、及び光を反射
する反射部を有する反射層を備える電気光学装置用基板
の製造方法において、所定の方向に走査可能なノズルか
ら着色層材料を前記反射部に塗布し、前記反射部に着色
層をドット形状に複数形成することを特徴とする。

【００１５】このように構成することによって、透過型
における画像表示の色の濃さを低下させることなく、反
射型における画像表示の色調（色の濃さ）を相対的に向
上させ、反射型、透過型双方の画像表示における色彩の
差異を低減させることができる電気光学装置用基板を、
効率的にかつ低コストで製造することができる。

【００１６】また、本発明の電気光学装置は、一対の基
板を有する電気光学装置において、一方の前記基板に
は、実質的に光が透過可能な透過部及び光を反射する反
射部を有する反射層が設けられ、他方の前記基板には、
前記反射層に平面的に重なるように着色層が設けられ、
前記着色層は、前記反射部に対応する領域にはドット形
状に配置されるとともに、前記透過部に対応する領域に
は少なくともその一部を覆うように配置されることを特
徴とする。

【００１７】このように構成することによって、透過型
における画像表示の色の濃さを低下させることなく、反
射型における画像表示の色調（色の濃さ）を相対的に向
上させ、反射型、透過型双方の画像表示における色彩の
差異を低減させることができる。

【００１８】また、本発明の電気光学装置は、一対の基
板を有する電気光学装置において、前記基板間には、表
示用の第１電極、着色層、表示用の第２電極及び反射層
が平面的に重なるように配置され、前記第１電極及び前
記第２電極が重なる領域に画素領域が定義され、前記反
射層は、前記画素領域内に、実質的に光が透過可能な透
過部及び光を反射する反射部を有しており、前記着色層
は、前記反射部に対応する領域にはドット形状に複数配
置されるとともに、前記透過部に対応する領域には少な
くともその一部を覆うように配置されることを特徴とす
る。

【００１９】このように構成することによって、透過型
における画像表示の色の濃さを低下させることなく、反
射型における画像表示の色調（色の濃さ）を相対的に向
上させ、反射型、透過型双方の画像表示における色彩の
差異を低減させることができる。また、反射部上の着色
層がドット形状に複数配置されることで、着色層が一部
に偏ることがなく、反射表示のコントラストを向上させ
ることができる。

【００２０】また、本発明の電気光学装置用基板は、複
数の透過部及び複数の反射部を有する反射層と、前記反
射層に設けられる各々色が異なる複数の着色層と、を備
え、各前記透過部には、各前記透過部を覆うように、対
応する前記着色層が配置され、各前記反射部には、対応
する前記着色層がドット形状に複数配置され、前記複数
の着色層の少なくとも一つは、その他と前記反射部に配
置される面積が異なることを特徴とする。

【００２１】このように構成することによって、ホワイ
トバランスに優れた画像表示を実現することができる。
例えば、Ｒ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）の三色のいずれ
かからなる着色層において、反射層の反射特性によって
画像表示が黄色く色付く場合、着色層の面積のうち、Ｂ
（青）に対応する部分を広げて、青色成分を補正するこ
とによって、白色表示が可能となり、ホワイトバランス
に優れた画像表示を実現することができる。

【００２２】

【発明の実施の形態】以下、本発明の電気光学装置用基
板及び電気光学装置の実施の形態について、液晶装置用
基板及び液晶装置を例にとって図面を参照しつつ具体的
に説明する。なお、本実施の形態の説明に用いた各図に
おいては、各層や各部材を図面上で認識可能な程度の大
きさとするため、各層や各部材毎に縮尺を異ならしめて
ある。

【００２３】［第１の実施の形態］図１は、本発明の電
気光学装置の第１の実施の形態である液晶装置２００の
外観構造を示す概略斜視図である。この液晶装置２００
は、いわゆる半透過反射型のパッシブマトリクス方式の
電気光学装置であり、必要に応じて図示しないバックラ
イトやフロントライト等の照明装置やケース体等を適宜
に取付けてなる。

【００２４】図１に示すように、液晶装置２００は、ガ
ラス板や合成樹脂板等からなる透明な第１基板２１１を
基体とする液晶装置用基板２１０と、これに対向する同
様の第２基板２２１を基体とする対向基板２２０とがシ
ール材２３０を介して貼り合わせられ、シール材２３０
の内側に注入口２３０ａから電気光学物質としての液晶
が注入された後、封止材２３１にて封止されてなるセル
構造を備えている。

【００２５】第１基板２１１の内面（第２基板２２１に
対向する表面）上には複数並列したストライプ状の表示
用の透明電極２１６が形成され、第２基板２２１の内面
上には複数並列したストライプ状の表示用の透明電極２
２２が形成されている。また、透明電極２１６は配線２
１８Ａに導電接続され、透明電極２２２は配線２２８に
導電接続されている。透明電極２１６と透明電極２２２
とは相互に直交し、その交差領域はマトリクス状に配列
された多数の画素を構成し、これらの画素配列が画像表
示領域Ａを構成している。

【００２６】第１基板２１１は第２基板２２１の外形よ
りも外側に張り出してなる基板張出部２１０Ｔを有し、
この基板張出部２１０Ｔ上には、上記配線２１８Ａ、上
記配線２２８に対してシール材２３０の一部で構成され
る上下導通部を介して導電接続された配線２１８Ｂ、及
び、独立して形成された複数の配線パターンからなる入
力端子部２１９が形成されている。また、基板張出部２
１０Ｔ上には、これら配線２１８Ａ、２１８Ｂ及び入力
端子部２１９に対して導電接続されるように、液晶駆動
回路等を内蔵した半導体ＩＣ２６１が実装されている。
また、基板張出部２１０Ｔの端部には、上記入力端子部
２１９に導電接続されるように、フレキシブル配線基板
２６３が実装されている。

【００２７】次に、図２（ａ）及び（ｂ）を参照して、
液晶装置用基板２１０の構造について説明する。（ａ）
は、液晶装置２００の拡大部分平面図、（ｂ）は、
（ａ）のＸ−Ｘ’線における概略断面図である。第１基
板２１１の表面には、反射層２１２が形成されている。
反射層２１２は、アルミニウム、銀もしくはこれらの合
金、又はアルミニウム、銀もしくはこれらの合金と、チ
タン、窒化チタン、モリブデン、タンタル等との積層膜
から構成され、反射層２１２には、上述の画素毎に、光
を反射する反射部２１２ｒと、光を透過する透光部（開
口部）２１２ａとが設けられている。

【００２８】反射層２１２の上には、透光部（開口部）
２１２ａを平面的に覆うように着色層２２４が形成さ
れ、反射部２１２ｒにおいては、複数のドット形状の着
色層２２５が形成されている。

【００２９】着色層２２４、２２５は、通常、透明樹脂
中に顔料や染料等の着色材を分散させて所定の色調を呈
するものとされている。また、本実施の形態では、着色
層２２４、２２５の色調は原色系フィルタとしてＲ
（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）の三色の組合せからなるも
のであるが、これに限定されるものではなく、シアン、
マゼンダ、イエローの三色からなるものであってもよ
い。通常、第１基板２１１上に顔料や染料等の着色材を
含む感光性樹脂からなる着色レジストを塗布し、フォト
リソグラフィ法によって不要部分を除去することによっ
て、所定のカラーパターンを有する着色層２２４、２２
５を形成する。ここで、複数の色調の着色層２２４、２
２５を形成する場合には上記工程を繰り返す。

【００３０】また、反射部２１２ｒ上に形成されるドッ
ト形状の着色層２２５は、反射部２１２ｒの面積の１０
％〜９０％であることが好ましく、２０〜８０％である
ことがさらに好ましい。このように反射部２１２ｒにお
いて着色層２２５をドット形状に形成し、その面積を減
少させることによって、通常色の薄くなりやすい透過型
表示の色の濃さを低下させることなく、反射型表示の色
の濃さのみを低下させ、透過型表示における画像表示の
色調（色の濃さ）を相対的に向上させることができる。

【００３１】このとき、着色層２２４の透過部２１２ａ
に配置される部分及び着色層２２５の反射部２１２ｒに
配置される部分は、同じ光濃度の材料を含むように構成
することができる。このように構成することによって、
製造工程を何ら複雑化させることなく着色層２２４、２
２５を形成することができる。

【００３２】ここで、光濃度とは、光の波長分布を偏ら
せる着色層の単位厚さ当たりの能力を意味し、光濃度が
高ければ（大きければ）透過光の彩度は強くなり、光濃
度が低ければ（小さければ）透過光の彩度は小さくな
る。着色層が顔料や染料等の着色材を含んでいる場合に
は、この光濃度は、通常、その着色層を構成する材料の
量と正の相関を有する。

【００３３】また、着色層２２４の透過部２１２ａに配
置される部分は第１の材料を含み、着色層２２５の反射
部２１２ｒに配置される部分は第２の材料を含み、第１
の材料及び第２の材料は、互いに光濃度が異なるように
構成することができる。このように構成することによっ
て、外光の分光特性や反射層２１２の反射特性等に応じ
て着色層２２５の着色材を選択し、照明光の分光特性等
に応じて着色層２２４の着色材を選択することができ、
色再現性に優れた画像表示を実現することができる。

【００３４】なお、着色層２２４、２２５の配列パター
ンとして、図２（ａ）に示す図示例ではストライプ配列
を採用しているが、このストライプ配列の他に、デルタ
配列や斜めモザイク配列等の種々のパターン形状を採用
することができる。また、Ｒ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ
（青）の各着色層２２５の周囲には、画素間領域の遮光
を行うための黒色遮光膜を形成することができる。ま
た、本実施の形態では、着色層２２５の各複数のドット
形状は、各々が離間するように配置されている。このよ
うに構成することによって、ドット形状の着色層２２５
が反射部２１２ｒ上に偏って配置されることがなくな
り、コントラストに優れた反射型表示を実現することが
できる。

【００３５】さらに、第１基板２１１上には、ＳｉＯ_２
やＴｉＯ_２等の無機材料又はアクリル樹脂やエポキシ樹
脂等の有機樹脂等から構成される表面保護層２１５が全
面に形成されている。

【００３６】表面保護層２１５の上には、ＩＴＯ（Ｉｎ
ｄｉｕｍ Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ）等の透明導電体からな
る透明電極２１６が形成されている。透明電極２１６は
図２（ａ）の図示上下方向に延びる帯状に形成され、複
数の透明電極２１６が相互に並列してストライプ状に構
成されている。透明電極２１６の上にはポリイミド樹脂
等からなる配向膜２１７が形成されている。

【００３７】本実施の形態においては、図２（ａ）に示
すように、カラーフィルタを構成する着色層２２４が、
各画素内において反射層２１２の透光部（開口部）２１
２ａを完全に覆うように平面的に重なっているととも
に、反射部２１２ｒ上においては、着色層２２５がドッ
ト形状に配置され、各ドットは不規則に配置されてい
る。

【００３８】一方、液晶装置２００において、液晶装置
用基板２１０と対向する対向基板２２０は、第２基板２
２１上に、上記と同様の透明電極２２２、ＳｉＯ_２やＴ
ｉＯ _２等からなる硬質保護膜２３３、上記と同様の配向
膜２３４を順次積層させたものである。透明電極２２２
は、図２（ａ）の図示左右方向に延びる帯状に形成さ
れ、複数の透明電極２２２が相互に並列してストライプ
状に構成されている。透明電極２２２と透明電極２１６
が重なり合う領域が画素領域となる。

【００３９】また、第１基板２１１の外面には位相差板
（１／４波長板）２４０及び偏光板２４１が配置され、
第２基板２２１の外面には位相差板（１／４波長板）２
５０及び偏光板２５１が配置されている。

【００４０】以上のように構成された本実施の形態にお
いて、対向基板２２０側から反射部２１２ｒに入射した
外光は、反射部２１２ｒ上にドット形状に配置された着
色層２２５を通過し反射部２１２ｒで反射される光（以
下、「着色反射光」という）と、着色層２２４の配置さ
れていない領域を通過し反射部２１２ｒで反射される光
（以下、「無色反射光」という）との二種類に分けられ
る。

【００４１】着色反射光は反射部２１２ｒで反射された
後、再び着色層２２５を通過して出射する。また、無色
反射光は着色層２２５を一度も通過することなく出射す
る。この無色反射光と着色反射光とが合わさり反射型表
示をすることによって、従来の着色反射光のみの画像表
示に比べて、色調（色の濃さ）を適度に低下させ画像表
示の明るさを向上させることができる。

【００４２】また、着色層２２４は反射層２１２の透光
部（開口部）２１２ａを全て覆っているので、例えば、
液晶装置２００の背後にバックライト等を配置して、背
後から照明光を照射した場合には、透光部（開口部）２
１２ａに入射した照明光は、着色層２２４、液晶２２３
及び対向基板２２０を通過して画像表示を実現する。こ
のように、透過光は着色層２２４を一回だけ通過するた
め、着色層２２４の色濃度（光を透過させた場合に可視
光領域のスペクトル分布に偏りを与える度合）に応じた
透過型表示の色彩が得られる。このとき、反射光の色調
（色の濃さ）は上記のようにドット形状の着色層２２５
を通過しない反射光成分が含まれているために低下する
ので、透過型表示の色調（色の濃さ）は相対的に高まる
ことになる。

【００４３】［第２の実施の形態］次に、図３（ａ）及
び（ｂ）を参照して本発明の第２の実施の形態について
説明する。（ａ）は、第２の実施の形態である液晶装置
３００の拡大部分平面図、（ｂ）は、（ａ）のＹ−Ｙ’
線における概略断面図である。本実施の形態の液晶装置
３００においては、上述の第１の実施の形態と同様の第
１基板３１１、第２基板３２１、着色層３２４、ドット
形状の着色層３２５、表面保護層３１５、透明電極３１
６、配向膜３１７、透明電極３２２、硬質保護膜３３
３、配向膜３３４、シール材３３０、液晶３２３、位相
差板３４０，３５０、偏光板３４１，３５１を有してい
るので、これらについては説明を省略する。

【００４４】液晶装置３００は、反射層３１２が画像表
示領域Ａ（図１参照）内のほぼ全面的に一体となって形
成されており、画素毎に透光部（開口部）３１２ａが設
けられている。この反射層３１２のうち、透光部（開口
部）３１２ａ以外の部分が実質的に光を反射する反射部
３１２ｒである。また、画素間領域には黒色樹脂等から
なる黒色遮光膜３２４ＢＭが形成されている。黒色樹脂
としては、黒色の顔料や染料等の着色材を透明樹脂中に
分散させたもの、又は、Ｒ（赤）、Ｇ（緑）及びＢ
（青）の三色の着色材を共に混合させて透明樹脂中に分
散させたもの等が用いられる。

【００４５】本実施の形態では、反射層３１２を複数の
画素に亘って一体に形成されたものとしたが、図２に示
した第１の実施の形態のように画素毎に反射層２１２を
形成し、反射層の間に黒色遮光膜を形成してもよい。

【００４６】以上のように構成された第２の実施の形態
は、上述の第１の実施の形態と同様に、反射型における
画像表示の明るさを高めるとともに、透過型における画
像表示の色調（色の濃さ）を相対的に向上させること
で、反射型、透過型双方の画像表示における色彩の差異
を低減させることができる。

【００４７】［第３の実施の形態］次に、図４（ａ）及
び（ｂ）を参照して本発明の第３の実施の形態について
説明する。（ａ）は、第３の実施の形態である液晶装置
４００の拡大部分平面図、（ｂ）は、（ａ）のＺ−Ｚ’
線における概略断面図である。本実施の形態の液晶装置
４００においては、上述の第２の実施の形態と同様の第
１基板４１１、第２基板４２１、透光部（開口部）４１
２ａと反射部４１２ｒとを有する反射層４１２、表面保
護層４１５、透明電極４１６、配向膜４１７、透明電極
４２２、シール材４３０、液晶４２３、位相差板４４
０，４５０、偏光板４４１，４５１を有しているので、
これらについては説明を省略する。

【００４８】本実施の形態においては、図４（ｂ）に示
すように、着色層４２４、ドット形状の着色層４２５及
び黒色遮光膜４２４ＢＭが、反射層４１２の形成された
第１基板４１１ではなく、第２基板４２１上に形成され
ている。具体的には、第２基板４２１上には画素毎に、
着色層４２４が透光部（開口部）４１２ａに対応する領
域をに覆うよう形成され、ドット形状の着色層４２５が
反射部４１２ｒに対応する領域に形成されている。画素
間領域には、上述の第２の実施の形態において用いたも
のと同様の黒色遮光膜４２４ＢＭが形成されている。着
色層４２４、ドット形状の着色層４２５及び黒色遮光膜
４２４ＢＭの上には透明な表面保護層４２６が形成され
ている。

【００４９】表面保護層４２６上には透明電極４２２が
形成され、この透明電極４２２の上には硬質保護膜４３
３と配向膜４３４が順次形成されている。

【００５０】本実施の形態のように反射層４１２と、着
色層４２４及びドット形状の着色層４２５とが異なる基
板上に形成されていても、反射層４１２と着色層４２４
及びドット形状の着色層４２５との平面的な重なり態様
が上記のように構成されていれば、第１の実施の形態及
び第２の実施の形態と同様の作用効果を奏することがで
きる。

【００５１】［その他の構成例］次に、図５（ａ）〜
（ｄ）を参照して、上記各実施の形態に適用可能なその
他の構成例について説明する。以下に説明する各構成例
では、反射層と着色層との平面的な位置関係についての
み図示し、説明する。

【００５２】図５（ａ）に示す構成例１においては、各
画素において、反射層５１２上の透光部（開口部）５１
２ａに対応する領域に、Ｒ（赤）の色相を呈する着色層
５２４ｒと、Ｇ（緑）の色相を呈する着色層５２４ｇ
と、Ｂ（青）の色相を呈する着色層５２４ｂとがそれぞ
れ平面的に重なるように形成され、反射部５２４ｒ上に
はＲ（赤）の色相を呈するドット形状の着色層５２５ｒ
と、Ｇ（緑）の色相を呈するドット形状の着色層５２５
ｇと、Ｂ（青）の色相を呈するドット形状の着色層５２
５ｂが形成されている。この構成例では、各画素内の着
色層５２４ｒ、５２４ｇ、５２４ｂがそれぞれ透光部
（開口部）５１２ａを完全に覆うように配置され、反射
部５１２ｒ上には、着色層５２５ｒ、５２５ｇ、５２５
ｂがドット形状に配置され、各ドット形状の少なくとも
二つは接するように配置されている。このように構成す
ることによって、反射部５１２ｒ上の着色層５２５の各
々の面積が大きくなり、反射層５１２と着色層５２５と
の接合を強固なものとすることができる。

【００５３】図５（ｂ）に示す構成例２においては、各
画素内の着色層６２４ｒ、６２４ｇ、６２４ｂがそれぞ
れ透光部（開口部）６１２ａを完全に覆うように構成さ
れ、透光部（開口部）６１２ａと平面的に重なる領域か
ら周囲の反射部６１２ｒと平面的に重なる領域に張り出
すように配置されている。また反射部６１２ｒには、ド
ット形状の着色層６２５ｒ、６２５ｇ、６２５ｂがラン
ダムに配置されている。このように構成された着色層６
２５ｒ、６２５ｇ、６２５ｂは、インクジェット方式を
用いた製造方法において、ノズルの制御等を簡略化する
ことができ、容易に形成することができる。

【００５４】図５（ｃ）に示す構成例３においては、各
画素内の着色層７２４ｒ、７２４ｇ、７２４ｂがそれぞ
れ透光部（開口部）７１２ａを完全に覆うように構成さ
れ、透光部（開口部）７１２ａと平面的に重なる領域か
ら周囲の反射部７１２ｒと平面的に重なる領域に配置さ
れている。また反射部７１２ｒには、ドット形状の着色
層７２５ｒ、７２５ｇ、７２５ｂが図５（ｃ）の図示上
下左右の方向に沿って配列するように配置されている。
このように着色層７２５ｒ、７２５ｇ、７２５ｂを均等
に配置することで、反射型の画像表示の彩度を管理する
ことが容易になり、色再現性に優れた画像表示を実現す
ることができる。

【００５５】図５（ｄ）に示す構成例４においては、各
画素内の着色層８２４ｒ、８２４ｇ、８２４ｂがそれぞ
れ透光部（開口部）８１２ａを完全に覆うように構成さ
れ、透光部（開口部）８１２ａと平面的に重なる領域か
ら周囲の反射部８１２ｒと平面的に重なる領域に配置さ
れている。また反射部８１２ｒには、ドット形状の着色
層８２５ｒ、８２５ｇ、８２５ｂが四角形のドット形状
を形成し配置されている。構成例４においてはドット形
状を四角形に形成しているが、その他の多角形及び楕円
形であってもよい。このような形状の着色層８２５ｒ、
８２５ｇ、８２５ｂは、その形成が容易であることか
ら、製造時間の短縮及び歩留まりの向上を実現すること
ができる。

【００５６】［電気光学装置用基板の製造方法］次に、
図６（ａ）〜（ｆ）を参照して、本発明の電気光学装置
用基板の製造方法を液晶装置用基板の製造方法を例にと
って説明する。

【００５７】図６（ａ）〜（ｆ）は液晶装置用基板９１
０を形成するための製造工程を工程順に示す概略断面図
である。図６（ａ）に示すように、超音波洗浄等により
清浄化したガラス製等の基板９１１上に、アルミニウ
ム、銀もしくはこれらの合金、又はアルミニウム、銀も
しくはこれらの合金と、チタン、窒化チタン、モリブデ
ン、タンタル等との積層膜を蒸着法やスパッタリング法
等によって、厚さ５０ｎｍ〜２５０ｎｍ程度の薄膜状に
成膜し、これを公知のフォトリソグラフィ法を用いてパ
ターニングすることによって、画素毎に透光部（開口
部）９１２ａと反射部９１２ｒを有する反射層９１２を
形成する。

【００５８】次に、図６（ｂ）に示すように、基板９１
１の表面上に、Ｒ（赤）の感光性レジスト、顔料レジス
ト又はアクリル樹脂等の感光性樹脂からなる着色層９２
４Ｒをスピンコート法等によって形成する。

【００５９】次に、図６（ｃ）に示すように、所定のパ
ターンを有するレジストマスク９５０を用いて、基板９
１１上の着色層９２４Ｒを露光する。着色層９２４Ｒの
感光性樹脂としてはネガタイプ及びポジタイプのいずれ
を用いてもよいが、図６（ｃ）には、感光性樹脂として
ネガタイプの場合を例示してあり、着色層９２４Ｒの余
分な部分を、レジストマスク９５０で保護するようにし
て紫外線を照射する。

【００６０】次に、図６（ｄ）に示すように、Ｒ（赤）
の着色層９２４Ｒを現像し、反射層９１２の透光部（開
口部）９１２ａを平面的に覆うように着色層９２４ｒを
形成し、反射層９１２の反射部９１２ｒにドット形状の
着色層９２５ｒを形成する。

【００６１】次に、以上の図６（ａ）〜（ｄ）までの工
程を、Ｒ（赤）の着色層９２４Ｒの代わりにＧ（緑）の
着色層を用いて繰り返し、次に、Ｂ（青）の着色層を用
いて繰り返す。このようにすることで、図６（ｅ）に示
すように、Ｒ（赤）の着色層９２４ｒ、Ｇ（緑）の着色
層９２４ｇ、Ｂ（青）の着色層９２４ｂが透光部（開口
部）９１２ａを覆うように形成され、Ｒ（赤）のドット
形状の着色層９２５ｒ、Ｇ（緑）のドット形状の着色層
９２５ｇ、Ｂ（青）のドット形状の着色層９２５ｂが反
射部９１２ｒ上に形成される。

【００６２】次に、図６（ｆ）に示すように、基板９１
１の上に、ＳｉＯ_２やＴｉＯ_２等の無機材料又はアクリ
ル樹脂やエポキシ樹脂等の有機樹脂等から構成される表
面保護層９１５を全面に形成し、表面保護層９１５の上
に、ＩＴＯ等の透明導電体からなる透明電極９１６が形
成されパターニングされる。透明電極９１６の上にはポ
リイミド樹脂等からなる配向膜９１７が形成される。

【００６３】図６では、Ｒ（赤）の着色層９２４Ｒを最
初に形成する場合を例示しているが、Ｇ（緑）又はＢ
（青）の着色層から形成してもよい。また、着色層を形
成する三色は、Ｒ（赤）、Ｇ（緑）及びＢ（青）だけで
はなく、シアン、マゼンダ及びイエローの三色であって
もよい。また、着色層９２５ｒ、９２５ｇ、９２５ｂの
それぞれの画素間領域には黒色樹脂等からなる黒色遮光
膜が形成されていてもよく、黒色樹脂としては、黒色の
顔料や染料等の着色材を透明樹脂中に分散させたもの、
又はＲ（赤）、Ｇ（緑）及びＢ（青）の三色の着色材を
共に混合させて透明樹脂中に分散させたもの等を用いる
ことができる。

【００６４】また、図６（ｂ）、（ｃ）の露光及び現像
の工程の代わりとして、所定の方向に走査可能なノズル
から着色層材料を反射部９１２ｒに塗布し、反射部９１
２ｒに着色層９２５をドット形状に複数形成することも
できる。具体的には、インクジェット方式を用いて着色
層９２４ｒ、９２４ｇ、９２４ｂ、９２５ｒ、９２５ｇ
及び９２５ｂを形成してもよい。例えば、Ｒ（赤）の着
色層９２４ｒ、９２５ｒを形成する場合には、インクジ
ェットヘッドを移動させて基板９１１の表面を走査させ
ながら、インクジェットヘッドに設けたノズルからＲ
（赤）の着色層材料をパターンに対応した所定のタイミ
ングで吐出して基板９１１上に付着させる。そして、熱
成処理、紫外線照射処理、又は真空乾燥処理により着色
層材料を乾燥、固化させてＲ（赤）の着色層９２４ｒ、
９２５ｒを形成する。この処理を各色毎に繰り返すこと
によって残りの着色層９２４ｇ、９２４ｂ、９２５ｇ及
び９２５ｂを形成する。これにより所望の色調（色の濃
さ）の着色層を形成することができる。

【００６５】なお、インクジェット方式を用いる場合、
各色毎にインクジェットヘッドの走査を繰り返して着色
層９２４ｒ、９２４ｇ、９２４ｂ、９２５ｒ、９２５ｇ
及び９２５ｂを形成してもよく、一つのインクジェット
ヘッドにＲ（赤）、Ｇ（緑）及びＢ（青）の三色のノズ
ルを配備しておいて一回の走査によってＲ（赤）、Ｇ
（緑）及びＢ（青）の三色を同時に形成してもよい。

【００６６】インクジェット法の具体例としては、例え
ば、ピエゾ素子方式、熱エネルギーを利用した方式等、
何でも利用できる。但し、５０ｐｌ以下の流体を±３０
μｍ以内の吐出精度で吐出することが好ましい。

【００６７】［変形例］次に、図７（ａ）〜（ｃ）及び
図８（ａ）〜（ｃ）を参照して、上記各実施の形態に適
用可能な変形例について説明する。以下に説明する各変
形例では、反射層と着色層との平面的な位置関係につい
てのみ図示し、説明する。

【００６８】図７（ａ）に示す変形例１は、反射層１０
１２の透光部（開口部）１０１２ａに形成される着色層
１０２４ｒ、１０２４ｇ、１０２４ｂと、反射部１０１
２ｒに形成されるドット形状の着色層１０２５ｒ、１０
２５ｇ、１０２５ｂとが異なる色材により形成されてい
る。このように構成することによって、反射型表示と透
過型表示のそれぞれの特性に合わせた色材を選択するこ
とができ、コントラストを向上させることができる。

【００６９】図７（ｂ）に示す変形例２は、透光部（開
口部）を有さない全反射型の反射層１１１２の全面に、
ドット形状の着色層１１２５ｒ、１１２５ｇ、１１２５
ｂが形成されている。このように構成することによっ
て、通常暗くなりやすい全反射型の電気光学装置におい
て明るさを向上させることができる。

【００７０】図７（ｃ）に示す変形例３は、反射層１２
１２の反射部１２１２ｒ上に形成されるドット形状の着
色層１２２５ｒ、１２２５ｇ、１２２５ｂの各画素毎の
総面積の比率を異なるように形成されている。透光部
（開口部）１２１ａ上の着色層１２２４ｒ、１２２４
ｇ、１２２４ｂの面積は同一になるように形成されてい
る。

【００７１】通常、反射層１２１２の反射率の分光特性
は、銀もしくは銀合金を主成分とする場合、波長が短く
なるにつれて反射率が次第に低下するという特性を有し
ている。これにより、画像表示が全体的に黄色を帯びて
しまうが、変形例３のように、例えば、波長の短いＢ
（青）、Ｇ（緑）、Ｒ（赤）の順に着色層１２２５ｂ、
１２２５ｇ、１２２５ｒの面積比率を小さくすること
で、黄色く色付くことが青味に補正され、白色表示が可
能となり、ホワイトバランスに優れた画像表示を実現す
ることができる。

【００７２】図８（ａ）に示す変形例４は、反射層１３
１２の透光部（開口部）１３１２ａが千鳥状に形成さ
れ、千鳥状に形成された透光部（開口部）１３１２ａの
上に着色層１３２４ｒ、１３２４ｇ、１３２４ｂが形成
され、反射層１３１２の反射部１３１２ｒ上には、ドッ
ト形状の着色層１３２５ｒ、１３２５ｇ、１３２５ｂが
形成されている。

【００７３】図８（ｂ）に示す変形例５は、反射層１４
１２の透光部（開口部）１４１２ａが、反射層１４１２
の両側に帯状（サイドスリット）に形成され、透光部
（開口部）１４１２ａに挟まれるように反射部１４１２
ｒが形成されている。透光部（開口部）１４１２ａ上に
は、着色層１４２４ｒ、１４２４ｇ、１４２４ｂが形成
され、反射部１４１２ｒ上には、ドット形状の着色層１
４２５ｒ、１４２５ｇ、１４２５ｂが形成されている。

【００７４】図８（ｃ）に示す変形例５は、反射層１５
１２の透光部（開口部）１５１２ａが、反射層１５１２
の四隅に形成され、反射部１５１２ｒが十字型に形成さ
れている。透光部（開口部）１５１２ａ上には、着色層
１５２４ｒ、１５２４ｇ、１５２４ｂが形成され、十字
型の反射部１５１２ｒ上には、ドット形状の着色層１５
２５ｒ、１５２５ｇ、１５２５ｂが形成されている。

【００７５】［電子機器の実施の形態］次に、これまで
に説明した液晶装置を表示部に用いた電子機器の実施の
形態について説明する。図９は、本実施の形態の全体構
成を示す概略構成図である。ここに示す電子機器は、上
記と同様の液晶装置２００と、これを制御する制御手段
１６００とを有する。ここでは、液晶装置２００を、パ
ネル構造体２００Ａと、半導体ＩＣ等で構成される駆動
回路２００Ｂとに概念的に分けて描いてある。また、制
御手段１６００は、表示情報出力源１６１０と、表示処
理回路１６２０と、電源回路１６３０と、タイミングジ
ェネレータ１６４０とを有する。

【００７６】表示情報出力源１６１０は、ＲＯＭ（Ｒｅ
ａｄ Ｏｎｌｙ Ｍｅｍｏｒｙ）やＲＡＭ（Ｒａｎｄｏ
ｍ Ａｃｃｅｓｓ Ｍｅｍｏｒｙ）等からなるメモリ
と、磁気記録ディスクや光記録ディスク等からなるスト
レージユニットと、デジタル画像信号を同調出力する同
調回路とを備え、タイミングジェネレータ１６４０によ
って生成された各種のクロック信号に基づいて、所定フ
ォーマットの画像信号等の形で表示情報を表示情報処理
回路１６２０に供給するように構成されている。

【００７７】表示情報処理回路１６２０は、シリアル−
パラレル変換回路、増幅・反転回路、ローテーション回
路、ガンマ補正回路、クランプ回路等の周知の各種回路
を備え、入力した表示情報の処理を実行して、その画像
情報をクロック信号ＣＬＫと共に駆動回路２００Ｂへ供
給する。駆動回路２００Ｂは、走査線駆動回路、データ
線駆動回路及び検査回路を含む。また、電源回路１６３
０は、上述の各構成要素にそれぞれ所定の電圧を供給す
る。

【００７８】図１０は、本実施の形態における一例であ
る携帯電話機を示す斜視図である。この携帯電話機２０
００は、ケース体２０１０の内部に回路基板２００１が
配置され、この回路基板２００１に対して上述の液晶装
置２００が実装されている。ケース体２０１０の前面に
は操作ボタン２０２０が配列され、また、一端部からア
ンテナ２０３０が出没自在に取付けられている。受話部
２０４０の内部にはスピーカが配置され、送話部２０５
０の内部にはマイクが内蔵されている。

【００７９】ケース体２０１０内に設置された液晶装置
２００は、表示窓２０６０を通して表示面（画像表示領
域Ａ（図１参照））を視認することができるように構成
されている。

【００８０】なお、本発明の電気光学装置は、上述の図
示例にのみ限定されるものではなく、本発明の要旨を逸
脱しない範囲内において種々変更を加え得ることは勿論
である。例えば、上記各実施の形態に示す電気光学装置
は単純マトリクス型の構造を備えているが、ＴＦＴ（薄
膜トランジスタ）素子やＴＦＤ（薄膜ダイオード）素子
等のアクティブ素子（能動素子）を用いたアクティブマ
トリクス方式の電気光学装置にも適用することができ
る。また、上記各実施の形態の液晶装置は所謂ＣＯＧタ
イプの構造を有しているが、ＩＣチップを直接実装する
構造ではない液晶装置、例えば、液晶装置にフレキシブ
ル配線基板やＴＡＢ基板を接続するように構成されたも
のであっても構わない。さらには液晶以外の電気光学物
質、例えば、ＥＬ発光素子等を用いた電気光学装置に本
発明を適用してもよい。

【００８１】

【発明の効果】以上、説明したように本発明によれば、
携帯電話機、携帯型パーソナルコンピュータ等の電子機
器における電気光学装置に用いられる場合、反射型にお
ける画像表示の明るさを高めるとともに、透過型におけ
る画像表示の色調（色の濃さ）を相対的に向上させ、反
射型、透過型双方の画像表示における色彩の差異を低減
させることのできる電気光学装置用基板及びその製造方
法、電気光学装置並びに電子機器を提供することができ
る。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の第１の実施の形態である液晶装置の外
観構造を示す概略斜視図である。

【図２】本発明の第１の実施の形態である液晶装置を示
す説明図であって、（ａ）は、拡大部分平面図、（ｂ）
は、（ａ）のＸ−Ｘ’線における概略断面図である。

【図３】本発明の第２の実施の形態である液晶装置を示
す説明図であって、（ａ）は、拡大部分平面図、（ｂ）
は、（ａ）のＹ−Ｙ’線における概略断面図である。

【図４】本発明の第３の実施の形態である液晶装置を示
す説明図であって、（ａ）は、拡大部分平面図、（ｂ）
は、（ａ）のＺ−Ｚ’線における概略断面図である。

【図５】本発明の電気光学装置の構成例１〜４の、反射
層と着色層との重なり状態を模式的に示す概略説明図
（ａ）〜（ｄ）である。

【図６】本発明の電気光学装置用基板を形成するための
製造工程を工程順に示す概略断面図である。

【図７】本発明の電気光学装置の変形例１〜３の、反射
層と着色層との重なり状態を模式的に示す概略説明図
（ａ）〜（ｃ）である。

【図８】本発明の電気光学装置の変形例４〜６の、反射
層と着色層との重なり状態を模式的に示す概略説明図
（ａ）〜（ｃ）である。

【図９】本発明の電子機器の実施の形態の全体構成を示
す概略構成図である。

【図１０】本発明の電子機器の実施の形態における一例
である携帯電話機を示す斜視図である。

【図１１】従来の半透過反射型の液晶装置の構造を模式
的に示す概略断面図である。

【符号の説明】

１００…液晶装置 １０１，１０２…基板 １０３…シール材 １０４…液晶 １０５，１０７…位相差板（１／４波長板） １０６，１０８…偏光板 １０９…バックライト １１１…反射層 １１１ａ…透過部（開口部） １１１ｒ…反射部 １１２…カラーフィルタ １１２ｒ，１１２ｇ，１１２ｂ…着色層 １１２ｐ…表面保護層 １１３、１２１…透明電極 ２００…液晶装置 ２００Ａ…パネル構造体 ２００Ｂ…駆動回路 ２１０…液晶装置用基板 ２１０Ｔ…基板張出部 ２１１…第１基板 ２１２…反射層 ２１２ａ…透光部（開口部） ２１２ｒ…反射部 ２１５…表面保護層 ２１６…透明電極 ２１７…配向膜 ２１８，２１８Ａ，２１８Ｂ…配線 ２１９…入力端子部 ２２０…対向基板 ２２１…第２基板 ２２２…透明電極 ２２３…液晶 ２２４，２２５…着色層 ２２８…配線 ２３０…シール材 ２３０ａ…注入口 ２３３…硬質保護膜 ２３４…配向膜 ２３１…封止材 ２４０，２５０…位相差板 ２４１，２５１…偏光板 ２６１…半導体ＩＣ ２６３…フレキシブル配線基板 ３００…液晶装置 ３１１…第１基板 ３１２…反射層 ３１２ａ…透光部（開口部） ３１２ｒ…反射部 ３１５…表面保護層 ３１６…透明電極 ３１７…配向膜 ３２０…対向基板 ３２１…第２基板 ３２２…透明電極 ３２３…液晶 ３２４，３２５…着色層 ３２４ＢＭ…黒色遮光膜 ３２８…配線 ３３０…シール材 ３３３…硬質保護膜 ３３４…配向膜 ３４０，３５０…位相差板 ３４１，３５１…偏光板 ４００…液晶装置 ４１１…第１基板 ４１２…反射層 ４１２ａ…透光部（開口部） ４１２ｒ…反射部 ４１５…表面保護層 ４１６…透明電極 ４１７…配向膜 ４２０…対向基板 ４２１…第２基板 ４２２…透明電極 ４２３…液晶 ４２４，４２５…着色層 ４２４ＢＭ…黒色遮光膜 ４２６…表面保護層 ４２８…配線 ４３０…シール材 ４３３…硬質保護膜 ４３４…配向膜 ４４０，４５０…位相差板 ４４１，４５１…偏光板 １６００…制御手段 １６１０…表示情報出力源 １６２０…表示処理回路 １６３０…電源回路 １６４０…タイミングジェネレータ ２０００…携帯電話機 ２０１０…ケース体 ２００１…回路基板 ２０２０…操作ボタン ２０４０…受話部 ２０５０…送話部 ２０６０…表示窓 Ａ…画像表示領域

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｇ０２Ｂ 5/20 １０１ Ｇ０２Ｂ 5/20 １０１ (72)発明者 瀧澤 圭二 長野県諏訪市大和３丁目３番５号 セイコ ーエプソン株式会社内 (72)発明者 田中 千浩 長野県諏訪市大和３丁目３番５号 セイコ ーエプソン株式会社内 (72)発明者 小田切 頼広 長野県諏訪市大和３丁目３番５号 セイコ ーエプソン株式会社内 Ｆターム(参考） 2H042 AA09 AA15 AA26 DA01 DA02 DA04 DA06 DA17 DA22 DB01 DE00 2H048 BA45 BA48 BA64 BB01 BB07 BB08 BB42 2H091 FA02Y FA14Y FB02 FB08 FB12 FD04 FD06 FD22 FD23 FD24 GA03 GA06 GA07 LA16

Claims (18)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 電気光学装置用基板において、 実質的に光が透過可能な透過部、及び光を反射する反射
   部を有する反射層と、 前記反射層に設けられる着色層と、 を備え、 前記透過部には、前記透過部を覆うように前記着色層が
   配置され、 前記反射部には、前記着色層がドット形状に複数配置さ
   れることを特徴とする電気光学装置用基板。
2. 【請求項２】 電気光学装置用基板において、 光を反射する反射部を有する反射層と、 前記反射層に設けられる着色層と、 を備え、 前記反射部には、前記着色層がドット形状に複数配置さ
   れることを特徴とする電気光学装置用基板。
3. 【請求項３】 請求項１に記載の電気光学装置用基板に
   おいて、前記反射部に配置される前記着色層の面積は、
   前記反射部の面積の１０％〜９０％であることを特徴と
   する電気光学装置用基板。
4. 【請求項４】 請求項１に記載の電気光学装置用基板に
   おいて、前記着色層の前記透過部に配置される部分及び
   前記着色層の前記反射部に配置される部分は、同じ光濃
   度の材料を含むことを特徴とする電気光学装置用基板。
5. 【請求項５】 請求項１に記載の電気光学装置用基板に
   おいて、 前記着色層の前記透過部に配置される部分は第１の材料
   を含み、 前記着色層の前記反射部に配置される部分は第２の材料
   を含み、 前記第１の材料及び前記第２の材料は、互いに光濃度が
   異なることを特徴とする電気光学装置用基板。
6. 【請求項６】 請求項１に記載の電気光学装置用基板に
   おいて、前記複数のドット形状は、各々が離間するよう
   に配置されることを特徴とする電気光学装置用基板。
7. 【請求項７】 請求項１に記載の電気光学装置用基板に
   おいて、前記複数のドット形状の少なくとも二つは接し
   ていることを特徴とする電気光学装置用基板。
8. 【請求項８】 請求項１に記載の電気光学装置用基板に
   おいて、各前記ドット形状は、所定の方向に沿って配列
   するように配置されることを特徴とする電気光学装置用
   基板。
9. 【請求項９】 請求項１に記載の電気光学装置用基板に
   おいて、各前記ドット形状は、ランダムに配置されるこ
   とを特徴とする電気光学装置用基板。
10. 【請求項１０】 請求項１に記載の電気光学装置用基板
    において、各前記ドット形状は、多角形又は楕円形を含
    むことを特徴とする電気光学装置用基板。
11. 【請求項１１】 実質的に光が透過可能な透過部、及び
    光を反射する反射部を有する反射層を備える電気光学装
    置用基板の製造方法において、 所定の方向に走査可能なノズルから着色層材料を前記反
    射部に塗布し、前記反射部に着色層をドット形状に複数
    形成することを特徴とする電気光学装置用基板の製造方
    法。
12. 【請求項１２】 一対の基板を有する電気光学装置にお
    いて、 一方の前記基板には、実質的に光が透過可能な透過部及
    び光を反射する反射部を有する反射層が設けられ、 他方の前記基板には、前記反射層に平面的に重なるよう
    に着色層が設けられ、 前記着色層は、前記反射部に対応する領域にはドット形
    状に配置されるとともに、前記透過部に対応する領域に
    は少なくともその一部を覆うように配置されることを特
    徴とする電気光学装置。
13. 【請求項１３】 一対の基板を有する電気光学装置にお
    いて、 前記基板間には、表示用の第１電極、着色層、表示用の
    第２電極及び反射層が平面的に重なるように配置され、 前記第１電極及び前記第２電極が重なる領域に画素領域
    が定義され、 前記反射層は、前記画素領域内に、実質的に光が透過可
    能な透過部及び光を反射する反射部を有しており、 前記着色層は、前記反射部に対応する領域にはドット形
    状に複数配置されるとともに、前記透過部に対応する領
    域には少なくともその一部を覆うように配置されること
    を特徴とする電気光学装置。
14. 【請求項１４】 請求項１２又は１３に記載の電気光学
    装置において、前記反射部に対応する領域に配置される
    前記着色層の面積は、前記反射部の面積の１０％〜９０
    ％であることを特徴とする電気光学装置。
15. 【請求項１５】 請求項１２又は１３に記載の電気光学
    装置において、前記着色層の前記透過部に対応する領域
    に配置される部分及び前記着色層の前記反射部に対応す
    る領域に配置される部分は、同じ光濃度の材料を含むこ
    とを特徴とする電気光学装置。
16. 【請求項１６】 請求項１２又は１３に記載の電気光学
    装置において、 前記着色層の前記透過部に対応する領域に配置される部
    分は第１の材料を含み、 前記着色層の前記反射部に対応する領域に配置される部
    分は第２の材料を含み、 前記第１の材料及び前記第２の材料は、互いに光濃度が
    異なることを特徴とする電気光学装置。
17. 【請求項１７】 電気光学装置用基板において、 複数の透過部及び複数の反射部を有する反射層と、 前記反射層に設けられる各々色が異なる複数の着色層
    と、を備え、 各前記透過部には、各前記透過部を覆うように、対応す
    る前記着色層が配置され、 各前記反射部には、対応する前記着色層がドット形状に
    複数配置され、 前記複数の着色層の少なくとも一つは、その他と前記反
    射部に配置される面積が異なることを特徴とする電気光
    学装置用基板。
18. 【請求項１８】 請求項１２〜１６のいずれか１項に記
    載された電気光学装置と、前記電気光学装置を制御する
    制御手段とを備えてなることを特徴とする電子機器。