JP2003107437A

JP2003107437A - 液晶装置用基板、液晶装置、及び、電子機器

Info

Publication number: JP2003107437A
Application number: JP2002188615A
Authority: JP
Inventors: Keiji Takizawa; 圭二瀧澤; Tadashi Tsuyuki; 正露木
Original assignee: Seiko Epson Corp
Current assignee: Seiko Epson Corp
Priority date: 2001-07-26
Filing date: 2002-06-27
Publication date: 2003-04-09

Abstract

(57)【要約】【課題】反射型表示の明るさと透過型表示の明るさと
をより高い次元で両立させることのできる液晶装置の構
造を提供する。【解決手段】第１基板２１１上には反射層２１２が形
成され、この反射層２１２には画素毎に開口部２１２ａ
が形成されている。反射層２１２上には着色層２１４が
形成され、着色層２１４上には表面保護層２１５が形成
されている。表面保護層２１５には開口部２１２ａの直
上に開口部２１５ａが設けられている。液晶２３２は、
表面保護層２１５の開口部２１５ａに対応して形成され
た表面凹部２１０ａ内に入り込み、反射層２１２の開口
部２１２ａ上において液晶厚が大きくなるように構成さ
れている。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は液晶装置用基板、液
晶装置、及び、電子機器に係り、特に、反射半透過型の
液晶装置に用いる場合に好適な構造に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来から、外光を利用した反射型表示
と、バックライト等の照明光を利用した透過型表示との
いずれをも視認可能とした反射半透過型の液晶表示パネ
ルが知られている。この反射半透過型の液晶表示パネル
は、そのパネル内に外光を反射するための反射層を有
し、この反射層をバックライト等の照明光が透過できる
ように構成したものである。この種の反射層としては、
液晶表示パネルの画素毎に所定面積の開口部（スリッ
ト）を備えたものがある。

【０００３】図１６は、従来の反射半透過型の液晶表示
パネル１００の概略構造を模式的に示す概略断面図であ
る。この液晶表示パネル１００は、基板１０１と基板１
０２とがシール材１０３によって貼り合せられ、基板１
０１と基板１０２との間に液晶１０４を封入した構造を
備えている。

【０００４】基板１０１の内面上には、画素毎に開口部
１１１ａを備えた反射層１１１が形成され、この反射層
１１１の上に着色層１１２ｒ，１１２ｇ，１１２ｂ及び
表面保護層１１２ｐを備えたカラーフィルタ１１２が形
成されている。カラーフィルタ１１２の表面保護層１１
２ｐの表面上には透明電極１１３が形成されている。

【０００５】一方、基板１０２の内面上には透明電極１
２１が形成され、対向する基板１０１上の上記透明電極
１１３と交差するように構成されている。なお、基板１
０１上の透明電極１１３上、及び、基板１０２上の透明
電極１２１の上には、配向膜や硬質透明膜などが必要に
応じて適宜に形成される。

【０００６】また、上記の基板１０２の外面上には位相
差板（１／４波長板）１０５及び偏光板１０６が順次配
置され、基板１０１の外面上には位相差板（１／４波長
板）１０７及び偏光板１０８が順次配置される。

【０００７】以上のように構成された液晶表示パネル１
００は、携帯電話、携帯型情報端末などの電子機器に設
置される場合、その背後にバックライト１０９が配置さ
れた状態で取付けられる。この液晶表示パネル１００に
おいては、昼間や屋内などの明るい場所では反射経路Ｒ
に沿って外光が液晶１０４を透過した後に反射層１１１
にて反射され、再び液晶１０４を透過して放出されるの
で、反射型表示が視認される。一方、夜間や野外などの
暗い場所ではバックライト１０９を点灯させることによ
り、バックライト１０９の照明光のうち開口部１１１ａ
を通過した光が透過経路Ｔに沿って液晶表示パネル１０
０を通過して放出されるので、透過型表示が視認され
る。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来の反射半透過型の液晶表示パネル１００において、反
射型表示を明るくするには反射層の開口面積を小さくす
ればよいが、反射層の開口面積が減少すると透過型表示
の明るさが低下してしまう。特に、反射型表示で視認さ
れる反射光は液晶層を２度通過した光であるのに対し
て、透過型表示において透過光は液晶層を１度だけ通過
するので、光透過状態において反射光と透過光の双方を
共に有効に表示に利用し、明るく視認できるように光学
的に構成することができない。例えば、通常は暗くなり
やすい反射型表示において反射光を有効に液晶パネルか
ら出射できるように光学的に構成されることが多いこと
から、透過型表示を実現する透過光の利用効率（液晶パ
ネルに入射する光量に対する液晶パネルを透過して出射
する光量の比）は低くなっており、これによって上記の
ように反射層の開口面積を低減しすぎると透過型表示が
暗くなってしまう。

【０００９】したがって、反射型表示と透過型表示とを
共に明るく構成することはきわめて困難であり、反射層
の開口面積を低減させて反射型表示を明るくすると、透
過型表示の明るさを確保するためにバックライトの照明
光量を大きくする必要が生じ、その結果、液晶装置の小
型化、薄型化、軽量化、或いは、消費電力の低減といっ
た、携帯型電子機器において重要な目標の達成を妨げる
という問題点がある。

【００１０】また、上述のように反射型表示では一般的
に表示の明るさが不足しがちであるので、カラーフィル
タ１１２の光透過率を高く設定して表示の明るさを確保
する必要があるが、このようにすると、カラーフィルタ
を１回だけ透過する光に基づく透過型表示において十分
な彩度を得ることができなくなる。

【００１１】そこで本発明は上記問題点を解決するもの
であり、その課題は、反射型表示の明るさと透過型表示
の明るさとをより高い次元で両立させることのできる液
晶装置の構造を提供することにある。また、反射型表示
の明るさと透過型表示の彩度とを共に確保することの可
能な構造を提供することにある。

【００１２】

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に本発明の液晶装置用基板は、基板と、前記基板上に配
置され、開口部を有する反射層と、前記反射層上に配置
された着色層と、前記着色層上に配置され、開口部もし
くは薄肉部を有する実質的に光が通過できる保護層とを
備え、前記保護層の前記開口部もしくは前記薄肉部は前
記反射層の前記開口部と重なる領域に配置され、前記保
護層は表面に前記保護層の前記開口部もしくは前記薄肉
部からなる凹部を有することを特徴とする。

【００１３】ここで、より具体的には、前記保護層上に
配置された配向膜を備え、前記配向膜は表面に凹部を有
することが好ましい。

【００１４】この発明によれば、液晶装置用基板の着色
層上の保護層に開口部若しくは薄肉部が形成されること
によって表面に凹部が形成されているので、この表面凹
部によって、反射半透過型の液晶装置を形成した場合に
反射層の開口部上の液晶厚がその他の部分よりも厚くな
る。したがって、反射型表示を実現する反射面上の領域
の液晶厚よりも透過型表示を実現する開口部上の領域の
液晶厚が厚くなるので、透過型表示を構成する透過光に
作用する液晶のリタデーション値（液晶層透過時の光学
的作用値）が、反射型表示を実現する反射光に作用する
液晶のリタデーション値（液晶層往復時の合計の光学的
作用値）に近くなるため、透過型表示における透過光の
利用効率を従来よりも高めることができる。透過光の利
用効率が高まることによって、透過型表示を得るための
照明光量を低減することが可能になり、また、反射層の
開口面積を低減して反射型表示をより明るくすることも
可能になる。

【００１５】ここで、前記基板は表面に凹部を有し、該
凹部上に前記反射層の前記開口部が配置されていること
が好ましい。基板の表面の凹部上に反射層の開口部が位
置することにより、反射層上に形成される着色層には凹
部に対応する厚肉部を形成することが可能になるので、
透過型表示の彩度を向上させることができる。また、こ
の場合にはさらに、前記着色層は表面に前記基板の前記
凹部に対応して凹部を有することが望ましい。基板表面
の凹部に対応して着色層の表面にも凹部が形成されてい
ることにより、上記保護層の開口部若しくは薄肉部によ
って形成される表面凹部をさらに深く形成することが容
易にできるので、透過型表示に寄与する領域の液晶厚を
さらに厚くすることが可能になり、透過型表示における
透過光の利用効率をさらに向上できる。

【００１６】また、前記基板上に配置され、開口部若し
くは薄肉部を有する下地層を備え、該下地層の前記開口
部若しくは前記薄肉部上に前記反射層の前記開口部が配
置され、該反射層上に前記着色層が配置され、前記下地
層の前記開口部若しくは前記薄肉部に対応して前記着色
層は表面に凹部を有することが好ましい。このようにす
ると、開口部若しくは薄肉部を備えた下地層の存在によ
って表面凹部をさらに深くすることが可能になるので、
透過型表示における透過光の利用効率をさらに向上でき
る。

【００１７】次に、本発明の液晶装置は、液晶層と、着
色層と、開口部と前記液晶層および前記着色層を通過す
る光を反射する反射部とを有する反射層と、前記着色層
を覆い、実質的に光が通過できる保護層とを備え、前記
保護層は前記反射層の前記開口部と重なる領域に開口部
もしくは薄肉部を有し、前記液晶層は前記保護層の前記
開口部もしくは前記薄肉部によって構成される凹部に配
置されていることを特徴とする。

【００１８】この発明によれば、保護層の開口部もしく
は薄肉部によって構成される凹部に液晶層が配置されて
いることによって、反射層の開口部が設けられている領
域の液晶層の厚さを厚く構成することが可能になるの
で、透過型表示の明るさを向上させることができる。し
たがって、透過型表示を得るための照明光量を低減する
ことが可能になり、また、反射層の開口面積を低減して
反射型表示をより明るくすることも可能になる。

【００１９】また、本発明の別の液晶装置は、一対の基
板と、前記一対の基板間に配置された液晶層と、前記一
対の基板のうち一方の基板上に配置され、開口部と前記
液晶層を通過した光を反射する反射部とを有する反射層
と、前記反射層上に配置された着色層と、前記着色層を
覆い、前記反射層の前記開口部と重なる領域に開口部も
しくは薄肉部を有する実質的に光が通過できる保護層と
を備え、前記液晶層は前記保護層の前記開口部もしくは
前記薄肉部によって構成される凹部に配置されているこ
とを特徴とする。

【００２０】この発明によっても、保護層の開口部もし
くは薄肉部によって構成される凹部に液晶層が配置され
ていることによって、反射層の開口部が設けられている
領域の液晶層の厚さを厚く構成することが可能になるの
で、透過型表示の明るさを向上させることができる。し
たがって、透過型表示を得るための照明光量を低減する
ことが可能になり、また、反射層の開口面積を低減して
反射型表示をより明るくすることも可能になる。

【００２１】さらに、本発明のさらに別の液晶装置は、
一対の基板と、前記一対の基板間に配置された液晶層
と、前記一対の基板のうち一方の基板上に配置され、開
口部と前記液晶層を通過した光を反射する反射部とを有
する反射層と、前記一対の基板のうち他方の基板上に配
置された着色層と、前記着色層を覆い、前記反射層の前
記開口部と重なる領域に開口部もしくは薄肉部を有する
実質的に光が通過できる保護層とを備え、前記液晶層は
前記保護層の前記開口部もしくは前記薄肉部によって構
成される凹部に配置されていることを特徴とする。

【００２２】この発明によっても、保護層の開口部もし
くは薄肉部によって構成される凹部に液晶層が配置され
ていることによって、反射層の開口部が設けられている
領域の液晶層の厚さを厚く構成することが可能になるの
で、透過型表示の明るさを向上させることができる。し
たがって、透過型表示を得るための照明光量を低減する
ことが可能になり、また、反射層の開口面積を低減して
反射型表示をより明るくすることも可能になる。

【００２３】本発明において、前記反射層の反射面と重
なる領域における前記液晶層の厚さをａとし、前記反射
層の開口部と重なる領域における前記液晶層の厚さをｂ
としたとき、ｂがａよりも大きく２ａ以下であることが
好ましい。

【００２４】この発明によれば、反射層の開口部と重な
る領域の液晶層の厚さｂが、反射面と重なる領域の液晶
層の厚さａよりも大きく、２ａ以下であると、透過型表
示における光の利用効率を向上させることができる。

【００２５】本発明において、前記液晶層が所定のツイ
スト角Ｔｗを有するネマチック液晶で構成され、７０
＜Ｔｗ≦９０のとき、ａ＜ｂ≦ａ＋１．０［μｍ］、
５０＜Ｔｗ≦７０のとき、ａ＜ｂ≦ａ＋２．２［μ
ｍ］、３０＜Ｔｗ≦５０のとき、ａ＜ｂ≦ａ＋３．５
［μｍ］、０＜Ｔｗ≦３０のとき、ａ＜ｂ≦ａ＋５．
０［μｍ］、を満たすことが好ましい。一般に、ツイス
ト角Ｔｗが９０度以下の場合には、開口部と重なる透過
領域の液晶層の厚さｂと、反射面と重なる反射領域の液
晶層の厚さａとが等しい状態に較べて、液晶層の厚さｂ
が厚さａよりも大きい上記の範囲内では透過率を高める
ことができる。例えば、透過領域の厚さｂが透過表示に
おける透過率について最適化されている場合には、上記
の範囲内で反射表示の透過率を高めることができる。ま
た、反射領域の厚さａが反射表示における透過率につい
て最適化されている場合には、上記の範囲内で透過表示
の透過率を高めることができる。

【００２６】また、前記一対の基板の少なくとも一方の
基板は表面に凹部を有し、該凹部上に前記反射層の前記
開口部が配置されていることが好ましい。特に、この凹
部に対応して液晶が入り込む表面凹部を形成することに
より、反射層の開口に重なる領域の液晶厚をさらに容易
に厚く構成できる。

【００２７】この場合に、前記基板表面の凹部上に前記
着色層の厚肉部を有することが好ましい。このようにす
ると、着色層の厚肉部を容易に形成できるとともに、厚
肉部を設けたことにより透過型表示の彩度を向上でき
る。

【００２８】また、前記一対の基板の少なくとも一方の
基板表面に配置され、前記反射層の前記開口部に重なる
領域に開口部若しくは実質的に光が通過できる薄肉部を
有する下地層を備えていることが好ましい。特に、この
下地層の開口部若しくは薄肉部に対応して液晶が入り込
む表面凹部を有することにより、反射層の開口部に重な
る領域の液晶厚をさらに容易に厚く構成できる。この場
合にも、前記下地層の前記開口部若しくは前記薄肉部上
に前記着色層の厚肉部を有することが望ましい。

【００２９】さらに、前記反射層上に配置され、前記反
射層の前記開口部に重なる領域に開口部若しくは薄肉部
を有する実質的に光が通過できる透明層を備えているこ
とが好ましい。特に、この透明層の開口部若しくは薄肉
部に対応して液晶が入り込む表面凹部を形成することに
より、反射層の開口部に重なる領域の液晶厚をさらに容
易に厚く構成できる。この場合にも、前記透明層の前記
開口部若しくは前記薄肉部上に前記着色層の厚肉部が形
成されていることが望ましい。

【００３０】上記の液晶装置においては、前記液晶層か
ら見て前記反射層とは反対側に観察側の位相差板（好ま
しくは１／４波長板）及び偏光板を有し、前記反射層か
ら見て前記液晶層とは反対側に背面側の位相差板（好ま
しくは１／４波長板）及び偏光板を有する場合がある。

【００３１】本発明の電子機器は、上記のいずれかの液
晶装置と、該液晶装置を制御する制御手段とを備えたも
のである。特に、本発明の電子機器としては、携帯電話
や携帯型情報端末などの携帯型電子機器であることが好
ましい。

【００３２】

【発明の実施の形態】次に、添付図面を参照して本発明
に係る液晶装置用基板、液晶装置及び電子機器の実施形
態について詳細に説明する。

【００３３】［第１実施形態］まず、図１及び図２を参
照して本発明の第１実施形態の液晶装置について説明す
る。図１は、本発明に係る第１実施形態の液晶装置を構
成する液晶パネル２００の外観を示す概略斜視図であ
り、図２（ａ）は、液晶パネル２００の模式的な概略断
面図、図２（ｂ）は、液晶パネル２００を構成するカラ
ーフィルタ基板２１０の拡大部分平面図である。

【００３４】この液晶装置は、いわゆる反射半透過方式
のパッシブマトリクス型構造を有する液晶パネル２００
に対して、必要に応じて図示しないバックライトやフロ
ントライト等の照明装置やケース体などを適宜に取付け
てなる。

【００３５】図１に示すように、液晶パネル２００は、
ガラス板や合成樹脂板等からなる透明な第１基板２１１
を基体とするカラーフィルタ基板２１０と、これに対向
する同様の第２基板２２１を基体とする対向基板２２０
とがシール材２３０を介して貼り合わせられ、シール材
２３０の内側に開口部２３０ａから液晶２３２が注入さ
れた後、封止材２３１にて封止されてなるセル構造を備
えている。

【００３６】第１基板２１１の内面（第２基板２２１に
対向する表面）上には複数並列したストライプ状の透明
電極２１６が形成され、第２基板２２１の内面上には複
数並列したストライプ状の透明電極２２２が形成されて
いる。また、上記透明電極２１６は配線２１８Ａに導電
接続され、上記透明電極２２２は配線２２８に導電接続
されている。透明電極２１６と透明電極２２２とは相互
に直交し、その交差領域はマトリクス状に配列された多
数の画素を構成し、これらの画素配列が液晶表示領域Ａ
を構成している。

【００３７】第１基板２１１は第２基板２２１の外形よ
りも外側に張り出してなる基板張出部２１０Ｔを有し、
この基板張出部２１０Ｔ上には、上記配線２１８Ａ、上
記配線２２８に対してシール材２３０の一部で構成され
る上下導通部を介して導電接続された配線２１８Ｂ、及
び、独立して形成された複数の配線パターンからなる入
力端子部２１９が形成されている。また、基板張出部２
１０Ｔ上には、これら配線２１８Ａ，２１８Ｂ及び入力
端子部２１９に対して導電接続されるように、液晶駆動
回路等を内蔵した半導体ＩＣ２６１が実装されている。
また、基板張出部２１０Ｔの端部には、上記入力端子部
２１９に導電接続されるように、フレキシブル配線基板
２６３が実装されている。

【００３８】この液晶パネル２００において、図２に示
すように、第１基板２１１の外面には位相差板（１／４
波長板）２４０及び偏光板２４１が配置され、第２基板
２２１の外面には位相差板（１／４波長板）２５０及び
偏光板２５１が配置されている。

【００３９】＜カラーフィルタ基板２１０の構造＞次
に、図２（ａ）及び（ｂ）を参照して、本発明の液晶装
置用基板に相当するカラーフィルタ基板２１０の構造を
詳細に説明する。第１基板２１１の表面には、反射層２
１２が形成されている。反射層２１２は、アルミニウ
ム、アルミニウム合金、クロム、クロム合金、銀、銀合
金などの金属薄膜で構成することができる。反射層２１
２には、上記画素毎に、反射面を有する反射部２１２ｒ
と、開口部２１２ａとが設けられている。

【００４０】反射層２１２の上には画素毎に着色層２１
４が形成され、その上をアクリル樹脂やエポキシ樹脂な
どの透明樹脂からなる表面保護層（オーバーコート層）
２１５が被覆している。この着色層２１４と表面保護層
２１５とによってカラーフィルタが形成される。

【００４１】着色層２１４は、通常、透明樹脂中に顔料
や染料等の着色材を分散させて所定の色調を呈するもの
とされている。着色層の色調の一例としては原色系フィ
ルタとしてＲ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）の３色の組合
せからなるものがあるが、これに限定されるものではな
く、補色系その他の種々の色調で形成できる。通常、基
板表面上に顔料や染料等の着色材を含む感光性樹脂から
なる着色レジストを塗布し、フォトリソグラフィ法によ
って不要部分を除去することによって、所定のカラーパ
ターンを有する着色層を形成する。ここで、複数の色調
の着色層を形成する場合には上記工程を繰り返す。

【００４２】上記のように画素毎に形成された着色層２
１４の間の画素間領域には黒色遮光膜（ブラックマトリ
クス或いはブラックマスク）２１４ＢＭが形成されてい
る。この黒色遮光膜２１４ＢＭとしては、例えば黒色の
顔料や染料等の着色材を樹脂その他の基材中に分散させ
たものや、Ｒ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）の３色の着色
材を共に樹脂その他の基材中に分散させたものなどを用
いることができる。

【００４３】なお、着色層の配列パターンとして、図２
（ｂ）に示す図示例ではストライプ配列を採用している
が、このストライプ配列の他に、デルタ配列や斜めモザ
イク配列等の種々のパターン形状を採用することができ
る。

【００４４】表面保護層２１５は、上記画素毎に、上記
反射層２１２の開口部２１２ａの直上領域（開口部２１
２ａと平面的に重なる領域）に開口部２１５ａが形成さ
れている。したがって、本実施形態の場合には、着色層
２１４の表面は開口部２１５ａにより上層構造に対して
露出した状態となっている。

【００４５】表面保護層２１５の上には、ＩＴＯ（イン
ジウムスズ酸化物）等の透明導電体からなる透明電極２
１６が形成されている。透明電極２１６は図２（ｂ）の
図示上下方向に伸びる帯状に形成され、複数の透明電極
２１６が相互に並列してストライプ状に構成されてい
る。透明電極２１６の上にはポリイミド樹脂等からなる
配向膜２１７が形成されている。

【００４６】透明電極２１６には、上記表面保護層２１
５に開口部２１５ａが形成されていることにより、その
表面に凹部２１６ａが形成される。この凹部２１６ａは
配向膜２１７に覆われているが、その凹部形状はそのま
まカラーフィルタ基板２１０の表面に反映し、カラーフ
ィルタ基板２１０に画素毎に表面凹部２１０ａを形成し
ている。

【００４７】＜対向基板２２０の構造＞一方、上記カラ
ーフィルタ基板２１０と対向する対向基板２２０は、ガ
ラス等からなる第２基板２２１上に、上記と同様の透明
電極２２２、ＳｉＯ_２やＴｉＯ _２などからなる硬質保護
膜２２３、上記と同様の配向膜２２４を順次積層させた
ものである。

【００４８】＜液晶層の構造＞図３に示すように、上記
のように構成されたカラーフィルタ基板２１０と対向基
板２２０との間に液晶２３２が充填されている。このと
き、カラーフィルタ基板２１０の内面上には上述のよう
に画素毎に表面凹部２１０ａが形成されているので、液
晶２３２はこの表面凹部２１０ａ内に入り込んだ状態
（すなわち、上記表面保護層２１５の開口部２１５ａの
内側に入り込んだ状態）に構成される。このため、液晶
層の厚さは、上記表面保護層２１５の開口部２１５ａの
形成された領域（すなわち、反射層２１２の開口部２１
２ａの形成された領域）において、それ以外の領域（す
なわち反射部２１２ｒの形成された領域）に較べて厚く
構成されていることとなる。

【００４９】以上のように構成された本実施形態におい
て、対向基板２２０側から入射した外光は液晶２３２を
透過してカラーフィルタを透過した後に反射部２１２ｒ
にて反射し、再び液晶２３２及び対向基板２２０を透過
して出射する。このとき、反射光はカラーフィルタの着
色層２１４を２回通過する。

【００５０】一方、着色層２１４は反射層２１２の開口
部２１２ａを覆っているので、例えばカラーフィルタ基
板２１０の背後にバックライト等を配置して、背後から
照明光を照射した場合には、当該照明光の一部が反射層
２１２の開口部２１２ａを通過して着色層２１４を透過
し、液晶２３２及び対向基板２２０を通過して出射す
る。このとき、透過光は着色層２１４を１回だけ透過す
る。

【００５１】本実施形態では、第１基板２１１上に形成
されたカラーフィルタの表面保護層２１５には、反射層
２１２の開口部２１２ａと重なる領域に、開口部２１５
ａが形成されていることにより、カラーフィルタ基板２
１０に表面凹部２１０ａが設けられ、この表面凹部２１
０ａ内に液晶２３２が入り込んでいることにより液晶層
の厚さが反射層の開口部２１２ａと重なる領域において
厚く構成されているため、透過型表示を構成する透過光
に作用する液晶層のリタデーション（Δｎ・ｄ、ここで
Δｎは屈折率異方性、ｄは厚さ）が増大し、その結果、
透過型表示における透過光の利用効率を高めることがで
きる。

【００５２】図１２は、上記のように液晶の厚さを変え
た場合の効果を説明するための説明図である。上記と同
様に、開口部Ｒａを備えた反射層Ｒの上に着色層Ｃを形
成し、その上に透光層Ｔを形成し、この透光層Ｔに、反
射層Ｒの開口部Ｒａ上に開口部を設けることにより、開
口部Ｒａと平面的に重なる領域の液晶厚ｂを、それ以外
の領域の液晶厚ａの２倍にしたとする。ここで、説明の
都合上、ホモジニアス方式の液晶セルが構成されている
とする。そして、この液晶セルのリタデーションがΔｎ
・ａ＝λ／４、Δｎ・ｂ＝λ／２（Δｎは液晶の光学異
方性、λは光の波長）であるとする。

【００５３】上記の状況では、液晶セルが光透過状態に
ある場合、透過型表示では、図１２中の（Ａ）に示すよ
うに、バックライト等からの照明光が偏光板Ｐ２を通過
して直線偏光となり、位相差板（１／４波長板）Ｄ２を
通過することにより例えば右回りの円偏光となった後に
セル厚Ｄ２の液晶層を通過することから位相差がさらに
１／２波長進んで左回りの円偏光となり、位相差板Ｄ１
を通過して元の直線偏光になり、偏光板Ｐ１を通過す
る。

【００５４】また、上記と同じく液晶セルが光透過状態
にあるとき、反射型表示では、図１２中の（Ｂ）に示す
ように、外光が偏光板Ｐ１を通過して直線偏光となり、
位相差板（１／４波長板）Ｄ１を通過することにより例
えば右回りの円偏光になり、セル厚Ｄ１の液晶層を往復
２度通過することから位相差がさらに１／２波長進んで
左回りの円偏光となり、再び位相差板Ｄ１を通過するこ
とにより元の直線偏光に戻って偏光板Ｐ１を通過する。

【００５５】上記透過型表示において、仮に通過する液
晶の厚さがａ（図１２中の（Ａ）に示す液晶厚ｂの半
分）であるとすると、そのリタデーションはλ／４とな
るので、図１２中の（Ｃ）に示すように、照明光が偏光
板Ｐ２、位相差板Ｄ２を経て液晶を通過した後の偏光状
態は、当初とは直交する方向の直線偏光となり、その
後、位相差板Ｄ１を通過して左回りの円偏光となり、さ
らに偏光板Ｐ１を通過する。このとき、偏光板Ｐ１を通
過できる偏光成分は、上記の液晶の厚さがｂのときに通
過できる光量のほぼ半分となる。

【００５６】以上説明したように、本実施形態のような
反射半透過型の液晶表示パネルの場合には、反射層の開
口部と平面的に重なる領域の液晶厚ｂがそれ以外の領域
の液晶厚ａより厚くなると、光透過状態における光透過
率が高くなり、特に、開口部と平面的に重なる領域の液
晶厚ｂがそれ以外の領域の液晶厚ａのほぼ２倍になると
光透過量もまたほぼ２倍になる。

【００５７】液晶セルがホモジニアス方式ではなく、液
晶層にツイストが存在すると透過率が向上しない場合も
あるが、例えば４０度ツイストの液晶では、開口部と平
面的に重なる領域の液晶厚をそれ以外の２倍にすれば４
０％程度の透過率の向上が得られる。一般的に、反射層
の開口部と重なる領域の液晶厚ｂは、反射面上の液晶厚
ａよりも大きく、２ａ以下であることが好ましい。この
ようにすることによって、透過型表示に対する透過光の
利用効率が向上し、透過型表示を明るくすることができ
るので、例えば、バックライトの照明光量を低減するこ
とができるため、バックライトの小型化、薄型化、軽量
化や消費電力の低減を図ることが可能になる。また、反
射層の開口面積を従来よりも低減することができるの
で、反射型表示の明るさを向上させることも可能にな
る。

【００５８】また、ネマチック液晶で構成される液晶層
にツイスト角Ｔｗが存在する場合には、液晶分子のツイ
ストに起因する旋光性と液晶層厚に比例する複屈折の寄
与によって、反射領域の液晶厚ａと、透過領域の液晶厚
ｂとの間の関係が決定されるため、上記のａ＜ｂ≦２ｂ
の範囲内においてツイスト角Ｔｗに応じて最適な範囲が
変化する。すなわち、以下の範囲内では、液晶厚ｂを液
晶厚ａよりも大きくすることによる透過率向上の効果が
得られる。７０＜Ｔｗ≦９０のとき、ａ＜ｂ≦ａ＋１．０［μ
ｍ］５０＜Ｔｗ≦７０のとき、ａ＜ｂ≦ａ＋２．２［μ
ｍ］３０＜Ｔｗ≦５０のとき、ａ＜ｂ≦ａ＋３．５［μ
ｍ］０＜Ｔｗ≦３０のとき、ａ＜ｂ≦ａ＋５．０［μｍ］

【００５９】上記〜の場合について、図２０には、
反射領域の液晶厚ａを最適化した状態で、透過領域の液
晶厚ｂを変化させたときの液晶パネルが透過状態（例え
ばノーマリーホワイト型パネルでは電界無印加状態）で
ある場合における透過領域の透過率を示す。これらの図
を見れば判るように、上記〜のいずれの場合につい
ても、液晶厚ｂが液晶厚ａに近づくと急激に透過率が低
下するとともに、液晶厚ｂが液晶厚ａよりもある程度大
きな値を超えるとやはり急激に透過率が低下する。上記
の透過率の高い範囲の上限を決める数値（１．０〜５．
０μｍ）は、ツイスト角Ｔｗが増加するに従って低下し
ていく。これは、ツイスト角Ｔｗが大きくなるに従って
光に対する液晶層の旋光性の寄与が大きくなるため、光
に対する作用が液晶厚に比例しなくなるからであるもの
と考えられる。すなわち、ツイスト角Ｔｗが大きくなる
と、一般に液晶厚ｂを液晶厚ａよりも大きくする効果が
低下していくものと考えられる。

【００６０】また、図２０（ｅ）には、透過領域の透過
率が最大になるツイスト角Ｔｗと、液晶厚ｂとの関係を
示す。このグラフからわかるように、液晶厚ｂがａから
約１．８ａまで増加するに従って透過領域の透過率が最
大になるツイスト角Ｔｗの値は徐々に増大し、ｂが約
１．８ａを越えると、透過率が最大になるツイスト角Ｔ
ｗの値は急激に低下していく。このとき、ａ＜ｂ≦２ａ
の範囲内では、ツイスト角Ｔｗの範囲が５０≦Ｔｗ≦７
０のときに透過率が高くなる。

【００６１】なお、本実施形態では、反射層２１２の開
口部２１２ａと重なる領域において表面保護層２１５に
開口部２１５ａ形成されているが、図２（ｂ）に示すよ
うに着色層２１４は透明電極２１６によって完全に被覆
されているので、着色層２１４は透明電極２１６により
十分に保護することができる。

【００６２】なお、一般的に液晶パネルにおいて上記表
面保護層２１５の厚さは３〜５μｍ程度であり、１５０
０〜３０００Å程度の厚さの透明電極２１６に較べてか
なり厚く形成される。したがって、保護層に開口部や薄
肉部を設けて液晶厚を厚くする方法はきわめて有効であ
る。また、上記実施形態では記載していないが、表面保
護層２１５（すなわち保護層）と透明電極２１６との間
に、透明電極２１６の密着性を高め、パターニング性を
向上させるために、ＳｉＯ_２やＴｉＯ_２等からなる絶縁
膜を形成してもよい。

【００６３】［第２実施形態］次に、図４を参照して本
発明に係る第２実施形態について説明する。この第２実
施形態は、以下に説明するカラーフィルタ基板の構造を
除いて上記第１実施形態と同様に構成されているので、
同様の部分には同一符号を付し、それらの説明は省略す
る。

【００６４】図４に示すように、本実施形態において
は、第１基板３２１上に、上記第１実施形態と同様に反
射部３１２ｒ及び開口部３１２ａを備えた反射層３１２
が形成され、この反射層３１２上に着色層３１４が形成
され、その上にさらに表面保護層３１５が形成されてい
る。この表面保護層３１５は第１実施形態と同様の素材
で構成されているが、反射層３１２の開口部３１２ａ上
に重なる領域に凹部３１５ｂが形成され、当該凹部３１
５ｂ下の部分が薄肉部３１５ｃとなっている点で、開口
部の形成された第１実施形態の表面保護層とは異なる。
表面保護層３１５上には第１実施形態と同様の透明電極
３１６及び配向膜３１７が形成されている。

【００６５】この実施形態においては、反射層３１２の
開口部３１２ａと重なる領域に薄肉部３１５ｃが存在す
るが、基本的に表面保護層３１５は透明であるため、光
学的には第１実施形態と同様の作用効果を得ることがで
きる。また、本実施形態においては、着色層３１４が開
口部３１２ａと重なる領域においても表面保護層３１５
に覆われていることとなるので、着色層３１４をより確
実に保護することが可能になる。

【００６６】［第３実施形態］次に、図５を参照して本
発明に係る第３実施形態について説明する。この第３実
施形態は、対向基板の構造を除いて上記第１実施形態と
同様に構成されているので、同様の部分には同一符号を
付し、それらの説明は省略する。

【００６７】この実施形態においては、対向基板におい
て、第２基板３２１の内面（第１基板２１１に対向する
表面）上に凹部３２１ａが形成されている。この凹部３
２１ａはフォトリソグラフィ技術及び弗酸系のエッチン
グ液を用いたエッチング処理によって容易に形成でき
る。そして、第２基板３２１には、上記凹部３２１ａも
含めた表面上に透明電極３２２、硬質保護層３２３、及
び配向膜３２４が積層されている。

【００６８】本実施形態では、カラーフィルタ基板の内
表面に表面凹部２１０ａが形成されているだけでなく、
この表面凹部２１０ａと対向する位置において対向基板
にも表面凹部３２０ａが形成され、これらの表面凹部２
１０ａ及び３２０ａの双方に液晶２３２が入り込んでい
る。したがって、反射層２１２の開口部２１２ａと重な
る領域において液晶層をさらに厚く形成することが可能
になる。

【００６９】［第４実施形態］次に、図６を参照して本
発明に係る第３実施形態について説明する。この第３実
施形態は、対向基板の構造を除いて上記第２実施形態と
同様に構成されているので、同様の部分には同一符号を
付し、それらの説明は省略する。

【００７０】この実施形態の対向基板は、第２基板４２
１上に透光層４２５が形成され、この透光層４２５に
は、反射層３１２の開口部３１２ａと平面的に重なる領
域に開口部４２５ａが設けられている。透光層４２５と
しては、ＳｉＯ_２やＴｉＯ_２などの無機透明層や、アク
リル樹脂やエポキシ樹脂などの有機樹脂層などで構成す
ることができる。また、透光層は、可視光に対してほぼ
透明であることが望ましい。例えば、可視光領域におい
てほぼ７０％以上の光透過率を有し、可視光領域内にお
ける光透過率の変動範囲が１０％以下であるものなどが
好ましい。

【００７１】上記透光層４２５上には透明電極４２２及
び配向膜４２４が積層されているが、対向基板の内面に
は上記開口部４２５ａを反映した表面凹部４２０ａが形
成される。そして、この表面凹部４２０ａに液晶２３２
が入り込むように構成されている。この実施形態でも、
カラーフィルタ基板と対向基板の双方の内面に表面凹部
３１０ａ、４２０ａが設けられているので、反射層３１
２の開口部３１２ａと平面的に重なる領域の液晶厚ｂを
反射面上の領域の液晶厚ａよりも容易に大きく構成する
ことが可能である。

【００７２】［第５実施形態］次に、図７を参照して本
発明に係る第５実施形態について説明する。この実施形
態において、カラーフィルタ基板の構造のみが第１実施
形態と異なるので、同様の部分には同一符号を付し、そ
れらの説明は省略する。

【００７３】この実施形態では、第１基板４１１の表面
上に凹部４１１ａが形成され、基板表面上に反射層４１
４が形成されている。反射層４１４は反射面を有する反
射部４１４ｒと、開口部４１４ａとを備えている。反射
層４１４は、この凹部４１１ａに開口部４１２ａが位置
するように形成されている。反射層４１２上には着色層
４１４が形成され、この着色層４１４上には表面保護層
４１５が形成されている。

【００７４】本実施形態の着色層４１４は、反射層４１
２の開口部４１２ａを介して第１基板４１１の凹部４１
１ａに入り込むように形成されており、これによって開
口部４１２ａと重なる領域において厚肉部４１４ａが設
けられている。また、この厚肉部４１４ａの表面部分に
は、上記凹部４１１ａと対応するように凹部４１４ｂが
形成されている。

【００７５】表面保護層４１５には上記と同様に開口部
４１５ａが形成され、この上に透明電極４１６及び配向
膜４１７が順次積層されている。このため、カラーフィ
ルタ基板の表面に設けられた表面凹部４１０ａは、着色
層４１４の凹部４１４ｂによって、第１実施形態よりも
さらに深く形成されている。

【００７６】また、第１基板４１１の凹部４１１ａによ
って着色層４１４には厚肉部４１４ａが反射層４１２の
開口部４１２ａと重なる領域に設けられているので、反
射型表示の明るさを犠牲にすることなく、透過型表示の
彩度を向上させることが可能になる。

【００７７】［第６実施形態］次に、図８を参照して本
発明に係る第６実施形態について説明する。この実施形
態においては、カラーフィルタ基板の構造のみが第１実
施形態と異なるので、同様の部分には同一符号を付し、
それらの説明は省略する。

【００７８】この実施形態では、第１基板５１１上に下
地層５１３が形成され、この下地層５１３には開口部５
１３ａが設けられている。下地層５１３は上記第４実施
形態の透光層と同様の素材を用いることができるが、透
光性を有しない素材であっても構わない。また、この下
地層５１３が透光性を有する場合には、上記開口部５１
３ａの代りに、上面側に凹部を構成する薄肉部を形成し
てもよい。

【００７９】下地層５１３上には反射層５１２が形成さ
れ、この反射層５１２には、反射面を備えた反射部５１
２ｒと、下地層５１３の開口部５１３ａ上に位置する開
口部５１２ａとが設けられる。また、反射層５１２上に
は着色層５１４が形成され、着色層５１４上には表面保
護層５１５が形成される。表面保護層５１５には、反射
層５１２の開口部５１２ａと重なる領域に開口部５１５
ａが設けられている。この上にはさらに透明電極５１６
及び配向膜５１７が形成される。

【００８０】本実施形態では、上記各実施形態と同様
に、上記表面保護層５１５の開口部５１５ａによってカ
ラーフィルタ基板の表面に表面凹部５１０ａが形成され
るが、反射層５１２の開口部と重なる領域において下地
層５１３の開口部５１３ａに起因して着色層５１４の表
面に凹部５１４ｂが形成されていることにより、上記表
面凹部５１０ａは第１実施形態よりも深く形成されてい
る。

【００８１】また、下地層５１３の開口部５１３ａによ
って着色層５１４には厚肉部５１４ａが反射層５１２の
開口部５１２ａと重なる領域に設けられているので、反
射型表示の明るさを犠牲にすることなく、透過型表示の
彩度を向上させることが可能になる。

【００８２】［第７実施形態］次に、図９を参照して本
発明に係る第７実施形態について説明する。この実施形
態においては、カラーフィルタ基板の構造のみが第１実
施形態と異なるので、同様の部分には同一符号を付し、
それらの説明は省略する。

【００８３】この実施形態では、第１基板６１１上に反
射層６１２が形成され、この反射層６１２には反射面を
備えた反射部６１２ｒと、開口部６１２ａとが形成され
る。反射層６１２上には透光層６１３が形成されてい
る。透光層６１３は、上記第４実施形態の透光層と同様
の素材で形成することができる。この透光層６１３には
開口部６１３ａが形成され、この開口部６１３ａは、反
射層６１２の開口部６１２ａと重なるように設けられて
いる。

【００８４】透光層６１３上には着色層６１４が形成さ
れ、着色層６１４上には表面保護層６１５が形成され
る。この表面保護層６１５には上記各実施形態と同様の
開口部６１５ａが設けられている。この開口部６１５ａ
は、上記反射層６１２の開口部６１２ａ及び上記透光層
６１３の開口部６１３ａと平面的に重なるように位置し
ている。表面保護層６１５上には透明電極６１６及び配
向膜６１７が順次積層されている。

【００８５】以上の構造によって、カラーフィルタ基板
には表面凹部６１０ａが形成され、この表面凹部６１０
ａによって反射層６１２の開口部６１２ａの設けられた
領域の液晶厚が周囲より厚くなるように構成されてい
る。

【００８６】本実施形態では、上記各実施形態と同様
に、上記表面保護層６１５の開口部６１５ａによってカ
ラーフィルタ基板の表面に表面凹部６１０ａが形成され
るが、反射層６１２の開口部と重なる領域において透光
層６１３の開口部６１３ａに起因して着色層６１４の表
面に凹部６１４ｂが形成されているので、表面凹部６１
０ａは、第１実施形態よりも深く形成されている。

【００８７】また、透光層６１３の開口部６１３ａによ
って着色層６１４には厚肉部６１４ａが反射層６１２の
開口部６１２ａと重なる領域に設けられているので、反
射型表示の明るさを犠牲にすることなく、透過型表示の
彩度を向上させることが可能になる。

【００８８】［第８実施形態］次に、図１０を参照して
本発明に係る第８実施形態について説明する。この実施
形態においては、第１基板７１１上に反射層７１２が形
成され、この反射層７１２には反射面を備えた反射部７
１２ｒと、開口部７１２ａとが設けられている。反射層
７１２上にはＳｉＯ_２，ＴｉＯ_２などの絶縁膜７１３が
形成され、この絶縁膜７１３上に透明電極７１６が形成
されている。透明電極７１６上には配向膜７１７が形成
されている。なお、反射層７１２が画素毎に分離して形
成されている場合には、反射層７１２上に絶縁膜７１３
を介することなく直接透明電極７１６を形成しても構わ
ない。

【００８９】一方、第２基板５２１上には着色層５２３
が形成され、画素間領域には黒色遮光層５２３ＢＭが形
成されている。着色層５２３上には表面保護層５２５が
形成され、この表面保護層５２５には開口部５２５ａが
設けられている。この開口部５２５ａは、上記第１基板
７１１上の反射層７１２の開口部７１２ａと平面的に重
なるように構成されている。表面保護層５２５上には透
明電極５２２が形成され、その上にはさらに配向膜５２
４が形成されている。

【００９０】本実施形態では、反射層７１２の形成され
た第１基板７１１とは反対側の第２基板５２１上にカラ
ーフィルタの着色層５２３が形成され、この上に表面保
護層５２５が形成されて、その開口部５２５ａによって
表面凹部５２０ａが構成されるようになっている。この
実施形態においても、反射層７１２の開口部７１２ａと
重なる領域における液晶厚が他の部分よりも厚く構成さ
れているので、上記各実施形態と基本的に同様の作用効
果を得ることができる。

【００９１】［第９実施形態］次に、図１１（ａ）〜
（ｅ）及び図１５を参照して、本発明に係る液晶装置或
いは液晶装置用基板の製造方法の実施形態について詳細
に説明する。本実施形態において製造する液晶装置は、
図１に示す上記第１実施形態の液晶パネル２００を備え
たものである。最初に、図１５を参照して、図１に示す
液晶パネル２００の概略構造について説明する。図１５
は、図１に示す液晶パネル２００における半導体ＩＣ及
びフレキシブル配線基板の実装前の状態を模式的に図示
するものであり、図面上、寸法は図示の都合上適宜に調
整し、構成要素も適宜に省略してある。

【００９２】液晶パネル２００は、第１基板２１１上に
上記反射層２１２、着色層２１４、表面保護層２１５の
積層構造の上に透明電極２１６が形成されたカラーフィ
ルタ基板２１０と、これに対向する対向基板２２０とが
シール材２３０にて貼り合わされ、内部に液晶２３２が
配置されたものである。この透明電極２１６は上述のよ
うに配線２１８Ａに接続され、この配線２１８Ａがシー
ル材２３０と第１基板２１１との間を通過して基板張出
部２１０Ｔの表面上に引き出されている。また、基板張
出部２１０Ｔ上には入力端子部２１９もまた形成されて
いる。

【００９３】図１１（ａ）〜（ｅ）は、図１５に示す液
晶パネルを構成するカラーフィルタ基板２１０を形成す
るための製造工程を示すものである。

【００９４】まず、図１１（ａ）に示すように、第１基
板２１１上には、図１に示す液晶表示領域Ａに相当する
領域に、上記の反射層２１２、黒色遮光層２１４ＢＭ、
着色層２１４を順次形成していく。ここで、開口部２１
２ａを備えた反射層２１２は、蒸着法やスパッタリング
法にて金属材料等を基板上に被着させた後、フォトリソ
グラフィ技術及びエッチング法を用いてパターニングす
ることにより形成される。また、黒色遮光層２１４ＢＭ
及び着色層２１４は、顔料や染料等の着色材を分散させ
た透明樹脂等からなる感光性樹脂を塗布し、これに露
光、現像処理を順次施すことによって形成する。ここ
で、複数の色の着色層２１４を配列形成する場合には、
色毎に上記工程を繰り返す。

【００９５】ここで、上記液晶表示領域Ａ以外の領域
（上記基板張出領域２１０Ｔを含む）には基本的に上記
の積層構造は形成されていない。

【００９６】次に、図１１（ｂ）に示すように、第１基
板２１１上に全面的に透光保護層２１５Ｘを形成する。
この透光保護層２１５Ｘは、例えば、アクリル樹脂、エ
ポキシ樹脂、イミド樹脂、フッ素樹脂などで構成するこ
とができる。これらの樹脂は流動性を有する未硬化状態
で基板上に塗布され、乾燥、光硬化、熱硬化などの適宜
の手段で硬化される。塗布方法としては、スピンコート
法や印刷法などを用いることができる。

【００９７】次に、上記透光保護層２１５Ｘにフォトリ
ソグラフィ技術及びエッチング法を用いてパターニング
を施し、図１１（ｃ）に示すように、液晶表示領域Ａに
限定された表面保護層２１５を形成する。このとき、こ
れと同時に表面保護層２１５には開口部２１５ａが形成
される。この工程によって、透光保護層２１５Ｘから液
晶表示領域Ａ以外の領域Ｂ、すなわち、図１５に示すシ
ール材２３０の外側に配置される領域（基板張出部２１
０Ｔを含む。）とほぼ同じ領域上から透光性素材が除去
される。

【００９８】本発明においては、表面保護層２１５に上
記開口部２１５ａや凹部３１５ｂ或いは薄肉部３１５ｃ
（第２実施形態参照）を形成することに特徴を有する
が、上記のように表面保護層２１５のパターニングと同
時に開口部や凹部或いは薄肉部を形成することができる
ので、従来工程に較べて工数を増やす必要もなく、パタ
ーニング時のパターン形状を変更するだけで、何ら手間
をかけずに製造することができる。

【００９９】次に、図１１（ｄ）に示すように、基板上
に全面的にＩＴＯ（インジウムスズ酸化物）等の透明導
電体からなる透明導電層２１６Ｘを形成する。この透明
導電層２１６Ｘはスパッタリング法により成膜できる。
そして、この透明導電層２１６Ｘに対してフォトリソグ
ラフィ技術及びエッチング法を用いてパターニングを施
し、図１１（ｅ）に示すように透明電極２１６、配線２
１８Ａ、入力端子部２１９を一度に形成する。なお、図
示していないが、図１に示す配線２１８Ｂも上記工程に
て同時に形成される。

【０１００】上記の液晶装置用基板の製造方法として
は、基板上に、開口部を有する反射層を形成する工程
と、前記反射層上に着色層を形成する工程と、前記着色
層上に、前記反射層の前記開口部に重なる領域に開口部
もしくは薄肉部を有し実質的に光が通過できる保護層を
形成する工程とを含み、前記保護層を形成する工程で
は、前記保護層の前記開口部もしくは前記薄肉部によっ
て前記保護層の表面に凹部を形成する。これによれば、
保護層に開口部もしくは薄肉部を設けてその表面に凹部
を形成することにより、この基板を用いて反射半透過型
の液晶装置を構成した場合に、反射層の開口部が設けら
れた領域の液晶層の厚さを他の領域よりも厚く構成する
ことが可能になる。より具体的には、一般に、着色層上
に形成される保護層は他の層構造（反射層や透明電極な
ど）に較べて厚いので、液晶層を部分的に厚く形成する
に足る凹部を容易に形成することが可能である。

【０１０１】ここで、前記保護層を形成する工程は、前
記着色層の非形成領域に重なる領域および前記反射層の
前記開口部に重なる領域から前記保護層を構成する素材
の少なくとも一部を除去する処理段階を含み、該処理段
階によって前記保護層の前記開口部若しくは前記薄肉部
が形成されることが好ましい。保護層を形成する際に、
基板上の着色層の非形成領域において透光素材の少なく
とも一部を除去する処理段階（パターニング段階）を含
む場合には、この処理段階において同時に上記開口部若
しくは薄肉部を形成することにより、製造工程の工数を
何ら増加させることなく、パターニングのパターンを変
更するだけで対応できる。

【０１０２】特に、液晶装置の製造方法としては、基板
上に、開口部を有する反射層を形成する工程と、着色層
を形成する工程と、前記着色層上に、前記反射層の前記
開口部に重なる領域に開口部もしくは薄肉部を有する実
質的に光が通過できる保護層を形成する工程と、前記保
護層上に液晶を配置する工程とを含み、前記液晶を配置
する工程では、前記保護層の前記開口部もしくは前記薄
肉部によって構成される凹部内に前記液晶を入り込ませ
る。これによれば、開口部もしくは薄肉部を備えた保護
層によって凹部を構成し、この凹部内に液晶を入り込ま
せることによって、反射層の開口部が設けられた領域に
おいて液晶層を厚く形成できる。特に、新たな層を設け
る必要もない上に、保護層は十分な厚さを備えているの
で、透過型表示における光の利用効率を高めるに足る液
晶層の厚さ変化を容易に形成することができる。

【０１０３】また、本発明の別の液晶装置の製造方法と
しては、一対の基板のうち一方の基板上に、開口部を有
する反射層を形成する工程と、前記反射層上に着色層を
形成する工程と、前記着色層上に、前記反射層の前記開
口部に重なる領域に開口部もしくは薄肉部を有する実質
的に光が通過できる保護層を形成する工程と、前記一対
の基板間に液晶を配置する工程とを含み、前記液晶を配
置する工程では、前記保護層の前記開口部もしくは前記
薄肉部によって構成される凹部内に前記液晶を入り込ま
せる。

【０１０４】さらに、本発明のさらに別の液晶装置の製
造方法としては、一対の基板のうち一方の基板上に、開
口部を有する反射層を形成する工程と、前記一対の基板
のうち他方の基板上に着色層を形成する工程と、前記着
色層上に、前記反射層の前記開口部に重なる領域に開口
部もしくは薄肉部を有する実質的に光が通過できる保護
層を形成する工程と、前記一対の基板間に液晶を配置す
る工程とを含み、前記液晶を配置する工程では、前記保
護層の前記開口部もしくは前記薄肉部によって構成され
る凹部内に前記液晶を入り込ませる。

【０１０５】上記いずれかの製造方法においては、前記
保護層を形成する工程は、前記着色層の非形成領域に重
なる領域および前記反射層の前記開口部に重なる領域か
ら前記保護層を構成する素材の少なくとも一部を除去す
る処理段階を含み、該処理段階によって前記保護層の前
記開口部若しくは薄肉部を形成することが好ましい。

【０１０６】［実施例］次に、図１７を参照して、上記
各実施形態に適用可能な、より詳細な実施例について説
明する。図１７は、カラーフィルタ基板の断面構造の一
部を模式的に示す拡大部分断面図及びこれに対応する領
域のカラーフィルタの概略平面図である。ここで、上記
拡大部分断面図は概略平面図のＰ−Ｑ線に沿った断面を
示すものである。

【０１０７】この実施例においては、基板１４０１上に
透光層１４１４が形成されている。この透光層１４１４
は、光を透過することの可能な素材（透光性素材）、例
えば透明素材で構成されている。特に、有機絶縁素材で
構成されることが好ましい。この透光層１４１４の表面
１４１４ａには、山部と谷部の規則的な又は不規則的な
繰り返しパターンからなる凹凸パターンが形成されてい
る。この凹凸パターンは、透明素材を選択的にエッチン
グ等で除去することにより凹凸形状を構成したり、さら
に加熱等によって上記凹凸形状を形成した透明素材に流
動性を付与してその凹凸形状を滑らかな曲面状に構成し
たりすることによって形成できる。この透光層１４１４
の厚さは例えば約２μｍである。また、透光層１４１４
を形成する代わりに、基板１４０１の表面にエッチング
等で凹凸パターンを形成してもよい。さらに、このよう
な透光層１４１４を設けたり、基板１４０１の表面に凹
凸パターンを形成したりする代わりに、後述する反射層
よりも観察側に拡散層、散乱層などを配置してもよい。

【０１０８】上記透光層１４１４上には、Ａｌ、Ａｌ合
金、銀、ＡＰＣ合金等の銀合金などで構成された反射層
１４１１が形成されている。この反射層１４１１は、ス
パッタリング法や蒸着法等で形成できる。反射層１４１
１は、上記透光層１４１４の表面上に形成されることに
よってその反射面が凹凸状に構成される。この反射層１
４１１の厚さは例えば約０．２μｍである。この反射層
１４１１には画素領域毎に開口部１４１１ａが設けられ
る。

【０１０９】上記透光層１４１４及び反射層１４１１上
には、公知の感光性樹脂材料等で構成されたカラーフィ
ルタ１４１２が形成されている。このカラーフィルタ１
４１２には、上記開口部１４１１ａ上に形成された濃色
部１４１２ｒｃ（赤濃色部），１４１２ｇｃ（緑濃色
部），１４１２ｂｃ（青濃色部）と、反射層１４１１上
に形成された淡色部１４１２ｒ（赤淡色部），１４１２
ｇ（緑淡色部），１４１２ｂ（青淡色部）とを有する着
色層が含まれる。

【０１１０】また、各画素領域の間には、上記淡色部１
４１２ｒ，１４１２ｇ，１４１２ｂ上に、上記濃色部１
４１２ｒｃ，１４１２ｇｃ，１４１２ｂｃが積層されて
なる重ね遮光部１４１２ＢＭが形成されている。この重
ね遮光部１４１２ＢＭにおいては、例えば、下層から順
に淡色部１４１２ｂが約１．０μｍ、淡色部１４１２ｇ
が約０．５μｍ、淡色部１４１２ｒが約０．５μｍとな
るように構成される。

【０１１１】上記のように構成された着色層上には、ア
クリル樹脂その他の有機樹脂等からなる透光素材で構成
された保護層１４１２ｐが形成される。保護層１４１２
ｐは、上記淡色部１４１２ｒ，１４１２ｇ，１４１２ｂ
上に形成されるが、濃色部１４１２ｒｃ，１４１２ｇ
ｃ，１４１２ｂｃ上には形成されていない。保護層１４
１２ｐは、例えば、全面的に無機層若しくは有機層を形
成した後にフォトリソグラフィ法等によって開口部１４
１１ａの直上領域の上にある部分を選択的に除去するこ
とによって形成できる。保護層１４１２ｐの素材として
は、透明なアクリル樹脂やエポキシ樹脂などの有機樹脂
の他に、ＳｉＯ_２やＴｉＯ_２などの透明な無機物を用い
ることもできる。保護層１４１２ｐの厚さは例えば約
２．２μｍである。

【０１１２】上記保護層１４１２ｐ上には、透明導電体
で形成された透明電極１４１３が形成される。透明電極
１４１３は、上記保護層１４１２ｐ上に形成されること
によって保護層１４１２ｐの有無をそのまま反映し、保
護層１４１２ｐが存在する部分上と存在しない部分上と
の間に主たる高低差Δｈを有する。この高低差Δｈは、
例えば約２．０μｍである。また、隣接する透明電極１
４１３の間隙部分は上記重ね遮光部１４１２ＢＭ上に配
置されている。隣接する透明電極１４１３の図示の間隙
は約８〜１０μｍ程度となっている。

【０１１３】本実施形態では、重ね遮光部１４１２ＢＭ
が濃色部１４１２ｒｃ，１４１２ｇｃ，１４１２ｂｃを
積層することによって構成されているため、淡色部を積
層した場合に較べてこの積層構造の透過率を低減できる
ため、画素領域間の遮光をより完全に行うことが可能に
なっている。また、重ね遮光部１４１２ＢＭが画素領域
内に形成された淡色部１４１２ｒ，１４１２ｇ，１４１
２ｂのいずれかの上にそのまま積層されているため、重
ね遮光部１４１２ＢＭの配置された領域の光透過率をさ
らに低減できるとともに、上記高低差Δｈを容易に設け
ることが可能になっている。なお、上記重ね遮光部１４
１２ＢＭは淡色部上に３層積層した構造を有するが、２
層又は１層のみを積層させた構造を有していても構わな
い。

【０１１４】本実施例では、上記の各例示で示した厚さ
寸法で構成した場合、カラーフィルタ基板の全体の厚さ
が５．２〜５．３μｍとなり、反射領域の液晶層の厚さ
を３．２５μｍとして、ＴＮ型液晶パネル或いはＳＴＮ
型液晶パネルを構成することが可能になる。このように
すると、透過領域の液晶層の厚さは５．２５μｍとな
る。ここで、液晶層はネマチック液晶で構成され、その
ツイスト角Ｔｗは約６０度であり、上記の条件を満た
した状態となっている。そして、透過領域の液晶層の厚
さが反射領域の液晶層の厚さに対して６０％程度増加し
ていることから、液晶層のリタデーション値を最適化す
ることにより、反射表示と透過表示における透過率を共
に向上させることができるため、明るい表示を得ること
が可能になる。

【０１１５】次に、図１８及び図１９を参照して本発明
に係る上記実施例のカラーフィルタ１４１２の構成例に
ついて説明する。なお、この構成例は、上記実施例以外
の上記各実施形態のカラーフィルタにも同様に適用でき
る。図１８は、上記カラーフィルタの濃色部の透過光の
分光特性を示す分光特性図（ａ）、同透過光のＣＩＥ
（１９３１）表色系のｘｙ色度図（ｂ）及び同透過光の
ＣＩＥ（１９７６）表色系のａ^＊ｂ^＊色度図（ｃ）であ
り、図１９は、上記カラーフィルタの淡色部の透過光の
分光特性を示す分光特性図（ａ）、同透過光のＣＩＥ
（１９３１）表色系のｘｙ色度図（ｂ）及び同透過光の
ＣＩＥ（１９７６）表色系のａ^＊ｂ^＊色度図（ｃ）であ
る。ここで、上記各図は、同じＣ光源を用いて各濃色部
又は各淡色部に光を一回透過させた透過光の分光透過率
及び色度座標を求めた結果を示すものである。

【０１１６】図１８に示すように、赤濃色部（Ｒ）の主
な透過領域は６００〜７００ｎｍであり、この領域の平
均透過率は約９０％であり、特に６４０〜７００ｎｍの
領域で透過率が最大（約９５％）になっている。緑濃色
部（Ｇ）の主な透過領域は４９５〜５７０ｎｍであり、
この領域の平均透過率は約８５％であり、特に５１０〜
５５０ｎｍの領域で透過率が最大（約９０％）になって
いる。青濃色部（Ｂ）の主な透過領域は４３５〜５００
ｎｍであり、この領域の平均透過率は約８５％であり、
特に４４５〜４８０ｎｍの領域で透過率が最大（約８８
％）となっている。

【０１１７】また、ＣＩＥ表色系（１９３１）のＹ値
は、赤濃色部（Ｒ）で２４〜２６、緑濃色部（Ｇ）で７
０〜７２、青濃色部（Ｂ）で２９〜３１程度である。Ｃ
ＩＥ表色系（１９７６）のＬ^＊値は、赤濃色部（Ｒ）で
５６〜５８、緑濃色部（Ｇ）で８６〜８８、青濃色部
（Ｂ）で６０〜６２程度である。

【０１１８】さらに、色度図上における上記赤濃色部
（Ｒ）、緑濃色部（Ｇ）及び青濃色部（Ｂ）の色相に対
応する３点を頂点とする三角形の面積は、約０．０５
（ｘｙ色度図上）及び約７０００（ａ^＊ｂ^＊色度図上）
である。

【０１１９】一方、図１９に示すように、赤淡色部
（Ｒ）の主な透過領域は５８５〜７００ｎｍであり、こ
の領域の平均透過率は約９３％であり、特に５９０〜７
００ｎｍの領域で透過率が最大（約９６％）になってい
る。緑淡色部（Ｇ）の主な透過領域は４８０〜６００ｎ
ｍであり、この領域の平均透過率は約９２％であり、特
に５００〜５８０ｎｍの領域で透過率が最大（約９４
％）になっている。青淡色部（Ｂ）の主な透過領域は４
３０〜５１０ｎｍであり、この領域の平均透過率は約８
９％であり、特に４４０〜５００ｎｍの領域で透過率が
最大（約９２％）となっている。

【０１２０】また、ＣＩＥ表色系（１９３１）のＹ値
は、赤淡色部（Ｒ）で４６〜４８、緑淡色部（Ｇ）で８
９〜９１、青淡色部（Ｂ）で４４〜４６である。ＣＩＥ
表色系（１９７６）のＬ^＊値は、赤濃色部（Ｒ）で７３
〜７５、緑濃色部（Ｇ）で９５〜９７、青濃色部（Ｂ）
で７２〜７４程度である。

【０１２１】さらに、色度図上における上記赤淡色部
（Ｒ）、緑淡色部（Ｇ）及び青淡色部（Ｂ）の色相に対
応する３点を頂点とする三角形の面積は、約０．０１
（ｘｙ色度図上）及び約１７００（ａ^＊ｂ^＊色度図上）
である。

【０１２２】上記のように、光濃度に関する濃色部と淡
色部との光学特性上の関係は、視感透過率乃至明度に相
当するＹ値或いはＬ^＊値において淡色部の方が濃色部よ
りも大きい。ここで、淡色部の値は濃色部の値の１．２
〜２．５倍程度であることが好ましい。また、彩度に対
応する色度図上の三角形の面積については、濃色部の色
度図上の三角形の面積は淡色部の色度図上の三角形の面
積よりも大きい。ここで、濃色部の色度図上の三角形の
面積は、淡色部の色度図上の三角形の面積の３〜８倍程
度であることが好ましい。

【０１２３】なお、光濃度としては、上記のような光学
特性上の指標だけでなく、製造条件や構造によって定義
することもできる。例えば、カラーフィルタの着色層を
形成する際に着色層中に分散した状態で混入される、顔
料や染料等の着色材の量の大小関係がある。すなわち、
濃色部においては、淡色部よりも単位体積当たりの着色
材の量（重量若しくは体積）が大きいことになる。

【０１２４】上記のように、カラーフィルタの着色層
に、透過領域に配置される濃色部と反射領域に配置され
る淡色部とを設けることによって、透過表示と反射表示
とにそれぞれ適した色表示を実現することができるの
で、上記実施例においては反射領域の液晶厚ａと透過領
域の液晶厚ｂとを上記範囲に設定したことによる透過率
の向上効果をさらに有効に利用することができ、高品位
のカラー表示を実現することが可能になる。

【０１２５】［電子機器の実施形態］最後に、上記液晶
パネルを含む液晶装置を電子機器の表示装置として用い
る場合の実施形態について説明する。図１３は、本実施
形態の全体構成を示す概略構成図である。ここに示す電
子機器は、上記と同様の液晶パネル２００と、これを制
御する制御手段１２００とを有する。ここでは、液晶パ
ネル２００を、パネル構造体２００Ａと、半導体ＩＣ等
で構成される駆動回路２００Ｂとに概念的に分けて描い
てある。また、制御手段１２００は、表示情報出力源１
２１０と、表示処理回路１２２０と、電源回路１２３０
と、タイミングジェネレータ１２４０とを有する。

【０１２６】表示情報出力源１２１０は、ＲＯＭ（Read
Only Memory）やＲＡＭ（Random Access Memory）等か
らなるメモリと、磁気記録ディスクや光記録ディスク等
からなるストレージユニットと、デジタル画像信号を同
調出力する同調回路とを備え、タイミングジェネレータ
１２４０によって生成された各種のクロック信号に基づ
いて、所定フォーマットの画像信号等の形で表示情報を
表示情報処理回路１２２０に供給するように構成されて
いる。

【０１２７】表示情報処理回路１２２０は、シリアル−
パラレル変換回路、増幅・反転回路、ローテーション回
路、ガンマ補正回路、クランプ回路等の周知の各種回路
を備え、入力した表示情報の処理を実行して、その画像
情報をクロック信号ＣＬＫと共に駆動回路２００Ｂへ供
給する。駆動回路２００Ｂは、走査線駆動回路、データ
線駆動回路及び検査回路を含む。また、電源回路１２３
０は、上述の各構成要素にそれぞれ所定の電圧を供給す
る。

【０１２８】図１４は、本発明に係る電子機器の一実施
形態である携帯電話を示す。この携帯電話２０００は、
ケース体２０１０の内部に回路基板２００１が配置さ
れ、この回路基板２００１に対して上述の液晶パネル２
００が実装されている。ケース体２０１０の前面には操
作ボタン２０２０が配列され、また、一端部からアンテ
ナ２０３０が出没自在に取付けられている。受話部２０
４０の内部にはスピーカが配置され、送話部２０５０の
内部にはマイクが内蔵されている。

【０１２９】ケース体２０１０内に設置された液晶パネ
ル２００は、表示窓２０６０を通して表示面（上記の液
晶表示領域Ａ）を視認することができるように構成され
ている。

【０１３０】尚、本発明の液晶装置及び電子機器は、上
述の図示例にのみ限定されるものではなく、本発明の要
旨を逸脱しない範囲内において種々変更を加え得ること
は勿論である。例えば、上記各実施形態に示す液晶パネ
ルは単純マトリクス型の構造を備えているが、ＴＦＴ
（薄膜トランジスタ）やＴＦＤ（薄膜ダイオード）等の
アクティブ素子（能動素子）を用いたアクティブマトリ
クス方式の液晶装置にも適用することができる。また、
上記実施形態の液晶パネルは所謂ＣＯＧタイプの構造を
有しているが、ＩＣチップを直接実装する構造ではない
液晶パネル、例えば液晶パネルにフレキシブル配線基板
やＴＡＢ基板を接続するように構成されたものであって
も構わない。

【０１３１】

【発明の効果】以上、説明したように本発明によれば、
透過型表示における透過光の利用効率を従来よりも高め
ることができるため、透過型表示を得るための照明光量
を低減することが可能になり、また、反射層の開口面積
を低減して反射型表示をより明るくすることも可能にな
る。また、着色層上の保護層に開口部若しくは薄肉部を
構成するだけでよいので、工程を複雑化することなく製
造できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に係る第１実施形態の液晶パネルの外
観を示す概略斜視図である。

【図２】第１実施形態のパネル構造を模式的に示す概
略断面図（ａ）及びカラーフィルタ基板の平面構造を示
す拡大部分平面図（ｂ）である。

【図３】第１実施形態の液晶パネルにおける画素内の
構造を拡大して示す拡大部分断面図である。

【図４】本発明に係る第２実施形態の液晶装置の画素
内の構造を模式的に示す概略断面図である。

【図５】本発明に係る第３実施形態の液晶装置の画素
内の構造を模式的に示す概略断面図である。

【図６】本発明に係る第４実施形態の液晶装置の画素
内の構造を模式的に示す概略断面図である。

【図７】本発明に係る第５実施形態の液晶装置の画素
内の構造を模式的に示す概略断面図である。

【図８】本発明に係る第６実施形態の液晶装置の画素
内の構造を模式的に示す概略断面図である。

【図９】本発明に係る第７実施形態の液晶装置の画素
内の構造を模式的に示す概略断面図である。

【図１０】本発明に係る第８実施形態の液晶装置の画
素内の構造を模式的に示す概略断面図である。

【図１１】本発明に係る液晶装置の製造方法に関する
第９実施形態を示す概略工程図（ａ）〜（ｅ）である。

【図１２】本発明に係る液晶装置の表示原理を示す概
略説明図である。

【図１３】本発明に係る電子機器の実施形態における
構成ブロックを示す概略構成図である。

【図１４】上記電子機器の実施形態の一例として携帯
電話の外観を示す斜視図である。

【図１５】第１実施形態の液晶パネルの主要構造を模
式的に示す概略断面図である。

【図１６】従来の反射半透過型の液晶パネルの構造を
模式的に示す概略断面図である。従来構造の反射半透過
型の液晶表示パネルの構造を模式的に示す概略断面図で
ある。

【図１７】より具体的な構造を示すための実施例のカ
ラーフィルタ基板の拡大部分断面図及びカラーフィルタ
の平面図である。

【図１８】上記実施例に形成されるカラーフィルタの
濃色部における分光透過率を示す図、ｘｙ色度図及びａ
^＊ｂ^＊色度図である。

【図１９】上記実施例に形成されるカラーフィルタの
淡色部における分光透過率を示す図、ｘｙ色度図及びａ
^＊ｂ^＊色度図である。

【図２０】液晶層のツイスト角Ｔｗの範囲別に透過領
域の液晶厚ｂと透過領域の透過状態における透過率との
関係を示すグラフ（ａ）〜（ｄ）、並びに、透過領域の
透過率が最大になるツイスト角Ｔｗと液晶厚ｂとの関係
を示すグラフ（ｅ）である。

【符号の説明】

２００液晶パネル２１０カラーフィルタ基板２１０ａ表面凹部２１１第１基板２１２反射層２１２ａ開口部２１４着色層２１５表面保護層２１５ａ開口部２１６透明電極２２０対向基板２２１第２基板２２２透明電極

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号ＦＩテーマコート゛(参考）Ｇ０２Ｆ 1/1335 ５２０Ｇ０２Ｆ 1/1335 ５２０ 1/1337 1/1337 1/139 1/139 Ｆターム(参考） 2H042 DA02 DA03 DA04 DA11 DA12 DA17 DA21 DA22 2H048 BA02 BB02 BB08 BB10 BB37 BB42 2H088 GA02 HA01 HA03 HA04 HA12 HA22 JA05 KA02 KA11 LA09 MA02 MA06 MA20 2H090 HA01 HA05 HA11 HA14 HD01 HD03 HD11 HD17 JA02 JC03 KA05 LA01 LA15 LA20 2H091 FA02X FA02Y FA15X FA15Y FA15Z FD04 FD22 FD23 GA01 GA06 GA07 GA16 HA07 KA03 KA10 LA11 LA16 LA17 LA18 LA30 MA10

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】基板と、前記基板上に配置され、開口部
を有する反射層と、前記反射層上に配置された着色層
と、前記着色層上に配置され、開口部もしくは薄肉部を
有する実質的に光が通過できる保護層とを備え、前記保護層の前記開口部もしくは前記薄肉部は前記反射
層の前記開口部と重なる領域に配置され、前記保護層は表面に前記保護層の前記開口部もしくは前
記薄肉部からなる凹部を有することを特徴とする液晶装
置用基板。
【請求項２】前記保護層上に配置された配向膜を備
え、前記配向膜は表面に凹部を有することを特徴とする
請求項１に記載の液晶装置用基板。
【請求項３】前記基板は表面に凹部を有し、該凹部上
に前記反射層の前記開口部が配置されていることを特徴
とする請求項１又は請求項２に記載の液晶装置用基板。
【請求項４】前記着色層は表面に前記基板の前記凹部
に対応して凹部を有することを特徴とする請求項３に記
載の液晶装置用基板。
【請求項５】前記基板上に配置され、開口部若しくは
薄肉部を有する下地層を備え、該下地層の前記開口部若
しくは前記薄肉部上に前記反射層の前記開口部が配置さ
れ、該反射層上に前記着色層が配置され、前記下地層の
前記開口部若しくは前記薄肉部に対応して前記着色層は
表面に凹部を有することを特徴とする請求項１乃至請求
項４のいずれか１項に記載の液晶装置用基板。
【請求項６】液晶層と、着色層と、開口部と前記液晶
層および前記着色層を通過する光を反射する反射部とを
有する反射層と、前記着色層を覆い、実質的に光が通過
できる保護層とを備え、前記保護層は前記反射層の前記開口部と重なる領域に開
口部もしくは薄肉部を有し、前記液晶層は前記保護層の前記開口部もしくは前記薄肉
部によって構成される凹部に配置されていることを特徴
とする液晶装置。
【請求項７】一対の基板と、前記一対の基板間に配置
された液晶層と、前記一対の基板のうち一方の基板上に
配置され、開口部と前記液晶層を通過した光を反射する
反射部とを有する反射層と、前記反射層上に配置された
着色層と、前記着色層を覆い、前記反射層の前記開口部
と重なる領域に開口部もしくは薄肉部を有する実質的に
光が通過できる保護層とを備え、前記液晶層は前記保護層の前記開口部もしくは前記薄肉
部によって構成される凹部に配置されていることを特徴
とする液晶装置。
【請求項８】一対の基板と、前記一対の基板間に配置
された液晶層と、前記一対の基板のうち一方の基板上に
配置され、開口部と前記液晶層を通過した光を反射する
反射部とを有する反射層と、前記一対の基板のうち他方
の基板上に配置された着色層と、前記着色層を覆い、前
記反射層の前記開口部と重なる領域に開口部もしくは薄
肉部を有する実質的に光が通過できる保護層とを備え、前記液晶層は前記保護層の前記開口部もしくは前記薄肉
部によって構成される凹部に配置されていることを特徴
とする液晶装置。
【請求項９】前記反射層の前記反射部と重なる領域に
おける前記液晶層の厚さをａとし、前記反射層の前記開
口部と重なる領域における前記液晶層の厚さをｂとした
とき、ｂがａよりも大きく２ａ以下であることを特徴とする請
求項６乃至請求項８のいずれか１項に記載の液晶装置。
【請求項１０】前記液晶層が所定のツイスト角Ｔｗを
有するネマチック液晶で構成され、７０＜Ｔｗ≦９０のとき、ａ＜ｂ≦ａ＋１．０［μ
ｍ］、５０＜Ｔｗ≦７０のとき、ａ＜ｂ≦ａ＋２．２［μ
ｍ］、３０＜Ｔｗ≦５０のとき、ａ＜ｂ≦ａ＋３．５［μ
ｍ］、０＜Ｔｗ≦３０のとき、ａ＜ｂ≦ａ＋５．０［μ
ｍ］、を満たすことを特徴とする請求項９に記載の液晶装置。
【請求項１１】前記一対の基板の少なくとも一方の基
板は表面に凹部を有し、該凹部上に前記反射層の前記開
口部が配置されていることを特徴とする請求項７又は請
求項８に記載の液晶装置。
【請求項１２】前記着色層は前記基板の前記凹部上に
厚肉部を有することを特徴とする請求項１１に記載の液
晶装置。
【請求項１３】前記一対の基板の少なくとも一方の基
板表面に配置され、前記反射層の前記開口部に重なる領
域に開口部若しくは実質的に光が通過できる薄肉部を有
する下地層を備えていることを特徴とする請求項７又は
請求項８に記載の液晶装置。
【請求項１４】前記着色層は前記下地層の前記開口部
若しくは前記薄肉部上に厚肉部を有することを特徴とす
る請求項１３に記載の液晶装置。
【請求項１５】前記反射層上に配置され、前記反射層
の前記開口部に重なる領域に開口部若しくは薄肉部を有
する実質的に光が通過できる透明層を備えていることを
特徴とする請求項７又は請求項８に記載の液晶装置。
【請求項１６】前記着色層は前記透明層の前記開口部
若しくは前記薄肉部上に厚肉部を有することを特徴とす
る請求項１５に記載の液晶装置。
【請求項１７】前記液晶層から見て前記反射層とは反
対側に観察側の位相差板及び偏光板を有し、前記反射層
から見て前記液晶層とは反対側に背面側の位相差板及び
偏光板を有することを特徴とする請求項６乃至請求項１
６のいずれか１項に記載の液晶装置。
【請求項１８】請求項６乃至請求項１７のいずれか１
項に記載された液晶装置と、該液晶装置を制御する制御
手段とを備えた電子機器。