JP3213242B2 - 反射板、反射型液晶表示装置およびその製造方法 - Google Patents
反射板、反射型液晶表示装置およびその製造方法Info
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、マトリクス型の表
示装置に用いられ、入射光を反射するための反射板およ
びその製造方法に関し、また入射光を画素電極表面で反
射することによって表示を行うバックライトを使用しな
い反射型液晶表示装置およびその製造方法に関する。
示装置に用いられ、入射光を反射するための反射板およ
びその製造方法に関し、また入射光を画素電極表面で反
射することによって表示を行うバックライトを使用しな
い反射型液晶表示装置およびその製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】液晶表示装置の中でも外部から入射した
光を反射させて表示を行う反射型液晶表示装置は、光源
であるバックライトが不要であるので消費電力が低く、
薄型であり軽量化が可能となることで注目されている。
反射型液晶表示装置でさらに明るい表示を得るために
は、入射光に対して、観測者の方向へ散乱する光の強度
を増加させることのできる、最適な反射特性を有する反
射板を作成する必要があり、ペーパホワイトが実現でき
るような表面に凹凸を有する反射板の形成技術が重要と
なっている。
光を反射させて表示を行う反射型液晶表示装置は、光源
であるバックライトが不要であるので消費電力が低く、
薄型であり軽量化が可能となることで注目されている。
反射型液晶表示装置でさらに明るい表示を得るために
は、入射光に対して、観測者の方向へ散乱する光の強度
を増加させることのできる、最適な反射特性を有する反
射板を作成する必要があり、ペーパホワイトが実現でき
るような表面に凹凸を有する反射板の形成技術が重要と
なっている。
【０００３】特開平５−３２３３７１には、フォトプロ
セスによって感光性樹脂で反射板の表面に凹凸を形成す
る技術が開示されている。図９は、反射板の表面に凹凸
を形成するために用いられる従来技術のマスク１ｂの形
状を示す平面図である。図９（ａ）は、マスク１ｂの１
画素６１を示す平面図である。図９（ｂ）は、マスク１
ｂの単位パターンの配置関係を示す図である。
セスによって感光性樹脂で反射板の表面に凹凸を形成す
る技術が開示されている。図９は、反射板の表面に凹凸
を形成するために用いられる従来技術のマスク１ｂの形
状を示す平面図である。図９（ａ）は、マスク１ｂの１
画素６１を示す平面図である。図９（ｂ）は、マスク１
ｂの単位パターンの配置関係を示す図である。
【０００４】マスク１ｂの１画素６１の形状は、反射光
の干渉を抑制するための凹凸を形成するために、たとえ
ば約２００個の円形領域６２が不規則的（ランダム）な
配置となるように設計される。１画素６１は、各辺の長
さ６３がたとえば１００μｍ〜１０００μｍの方形であ
り、その単位パターンを記号６４で表す。マスク１ｂ
は、記号６４で表される単位パターンを鏡面反転を利用
して繰返すことによって、全体の凹凸の配置を決めて設
計される。
の干渉を抑制するための凹凸を形成するために、たとえ
ば約２００個の円形領域６２が不規則的（ランダム）な
配置となるように設計される。１画素６１は、各辺の長
さ６３がたとえば１００μｍ〜１０００μｍの方形であ
り、その単位パターンを記号６４で表す。マスク１ｂ
は、記号６４で表される単位パターンを鏡面反転を利用
して繰返すことによって、全体の凹凸の配置を決めて設
計される。
【０００５】次にマスク１ｂを用いて、凹凸を有する反
射板の製造工程について説明する。図４は、一般的な反
射板の製造方法の中の露光工程を説明するための斜視図
である。予め定められた基板１０の上に感光性樹脂膜１
７が形成されている。基板１０の感光性樹脂膜１７側上
部にステッパ装置の球状の露光ランプ１８が配置され、
マスク１を介して感光性樹脂膜１７が露光される。１回
の露光によって照射できる面積は露光ランプ１８の大き
さに依存し、現状では最大で対角長が約１２．７ｃｍ以
下の場合なので、対角長が約１２．７ｃｍ以上の反射板
を作成する場合は、マスク１または基板１０の位置を移
動して露光工程を所定回数繰返す。たとえば基板１０で
は、１回の露光によって露光面Ａのみが露光される。そ
の後、マスク１または基板１０を移動することによっ
て、異なる露光面Ｂ〜Ｈが順次的にそれぞれ露光され
る。マスクとして用いられる従来技術のマスク１ｂが有
する円形領域６２を、たとえば光遮光部とすることによ
って、円形領域６２以外に対応する感光性樹脂膜１７の
領域が露光される。
射板の製造工程について説明する。図４は、一般的な反
射板の製造方法の中の露光工程を説明するための斜視図
である。予め定められた基板１０の上に感光性樹脂膜１
７が形成されている。基板１０の感光性樹脂膜１７側上
部にステッパ装置の球状の露光ランプ１８が配置され、
マスク１を介して感光性樹脂膜１７が露光される。１回
の露光によって照射できる面積は露光ランプ１８の大き
さに依存し、現状では最大で対角長が約１２．７ｃｍ以
下の場合なので、対角長が約１２．７ｃｍ以上の反射板
を作成する場合は、マスク１または基板１０の位置を移
動して露光工程を所定回数繰返す。たとえば基板１０で
は、１回の露光によって露光面Ａのみが露光される。そ
の後、マスク１または基板１０を移動することによっ
て、異なる露光面Ｂ〜Ｈが順次的にそれぞれ露光され
る。マスクとして用いられる従来技術のマスク１ｂが有
する円形領域６２を、たとえば光遮光部とすることによ
って、円形領域６２以外に対応する感光性樹脂膜１７の
領域が露光される。
【０００６】露光後の感光性樹脂膜１７を現像剤を用い
て現像すると、円形領域６２に対応する領域に円柱部が
形成される。該円柱部は、１２０℃〜２５０℃で熱処理
されることによって角がとれ、表面が滑らかな凸部とな
る。さらに凸部を覆って基板１０の全面に、金属薄膜か
ら成る光反射膜が形成される。光反射膜は、凸部によっ
て、連続的な曲面を有し、円錐状の緩やかな起伏の凹凸
形状に形成される。このようにして形成された凹凸形状
を有する反射板は、観測者へ向かう光の強度が増加し、
反射型液晶表示装置に用いたときにはペーパホワイトの
明るい表示が得られる。
て現像すると、円形領域６２に対応する領域に円柱部が
形成される。該円柱部は、１２０℃〜２５０℃で熱処理
されることによって角がとれ、表面が滑らかな凸部とな
る。さらに凸部を覆って基板１０の全面に、金属薄膜か
ら成る光反射膜が形成される。光反射膜は、凸部によっ
て、連続的な曲面を有し、円錐状の緩やかな起伏の凹凸
形状に形成される。このようにして形成された凹凸形状
を有する反射板は、観測者へ向かう光の強度が増加し、
反射型液晶表示装置に用いたときにはペーパホワイトの
明るい表示が得られる。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】従来技術のマスク１ｂ
は、上述したように円形領域６２を有する１画素６１を
単位パターンとし、該単位パターンを鏡面反転して繰返
すことによって設計される。このようなマスク１ｂによ
って反射板に凸部が形成され、該反射板を利用した反射
型液晶表示装置は、ペーパホワイトで明るい表示が得ら
れる。しかしながら、反射板が大型の場合に露光を複数
回行うことによって、反射特性が低下し、表示装置では
表示品位が低下する。以下にその詳細を説明する。
は、上述したように円形領域６２を有する１画素６１を
単位パターンとし、該単位パターンを鏡面反転して繰返
すことによって設計される。このようなマスク１ｂによ
って反射板に凸部が形成され、該反射板を利用した反射
型液晶表示装置は、ペーパホワイトで明るい表示が得ら
れる。しかしながら、反射板が大型の場合に露光を複数
回行うことによって、反射特性が低下し、表示装置では
表示品位が低下する。以下にその詳細を説明する。
【０００８】図１０は、ステッパ装置の露光ランプ１８
による露光強度分布を示す図である。露光可能領域２３
の露光強度の等しい点を曲線で結ぶことによって、露光
強度の強い部分と弱い部分とは、なだらかな山の起伏を
表す等高線２４によって表されている。露光強度は、矢
印２５が領域２６側に進むほど強く、領域２７側に進む
ほど弱くなる。このような露光強度の差によって約３％
の露光強度のばらつきが露光可能領域２３に存在するの
で、露光ムラが生じる。
による露光強度分布を示す図である。露光可能領域２３
の露光強度の等しい点を曲線で結ぶことによって、露光
強度の強い部分と弱い部分とは、なだらかな山の起伏を
表す等高線２４によって表されている。露光強度は、矢
印２５が領域２６側に進むほど強く、領域２７側に進む
ほど弱くなる。このような露光強度の差によって約３％
の露光強度のばらつきが露光可能領域２３に存在するの
で、露光ムラが生じる。
【０００９】図１１は、位置をかえて複数回露光を行っ
た場合の光強度分布を示す図である。たとえば露光面
Ａ，Ｂ，Ｃ，Ｄの順にそれぞれ露光を行う。面Ａのみの
露光では、露光強度はなだらかに変化するが、位置を変
えて２回以上の露光を行った場合は、面と面との各継ぎ
目２８の露光強度が急激に変化してしまう。露光強度の
急激な変化は、露光ムラとして観察される。
た場合の光強度分布を示す図である。たとえば露光面
Ａ，Ｂ，Ｃ，Ｄの順にそれぞれ露光を行う。面Ａのみの
露光では、露光強度はなだらかに変化するが、位置を変
えて２回以上の露光を行った場合は、面と面との各継ぎ
目２８の露光強度が急激に変化してしまう。露光強度の
急激な変化は、露光ムラとして観察される。
【００１０】図１２は、露光強度による凸部２１の形状
の違いを示す斜視図である。図１２（ａ）は露光強度が
強い場合を示し、図１２（ｂ）は露光強度が弱い場合を
示す。基板１０の表面に形成される各円柱部２０は、露
光強度が強いほど細くなる。円柱部２０の熱処理を行う
ことによって、角がとれて表面の滑らかな突部２１が形
成される。各凸部２１の高さｄは同じとすると、凸部２
１の形状は、露光強度が強いほど勾配が急であり、露光
強度が弱いほど勾配がなだらかである。このように露光
ムラによって、凸部２１の形状は異なる。
の違いを示す斜視図である。図１２（ａ）は露光強度が
強い場合を示し、図１２（ｂ）は露光強度が弱い場合を
示す。基板１０の表面に形成される各円柱部２０は、露
光強度が強いほど細くなる。円柱部２０の熱処理を行う
ことによって、角がとれて表面の滑らかな突部２１が形
成される。各凸部２１の高さｄは同じとすると、凸部２
１の形状は、露光強度が強いほど勾配が急であり、露光
強度が弱いほど勾配がなだらかである。このように露光
ムラによって、凸部２１の形状は異なる。
【００１１】図１３は、露光強度による凸部２１の反射
特性の違いを示すグラフである。図１３（ａ）は露光強
度が強い場合を示し、図１３（ｂ）は露光強度が弱い場
合を示す。横軸は方位角度を表し、縦軸は反射強度を表
している。露光強度の強い所と弱い所とでは、凸部２１
の形状が変化するので反射強度が異なる。具体的には、
露光強度の強い所は広い視角範囲にわたって反射強度の
変化が小さく、露光強度の弱い所は視角範囲内での反射
強度の変化が大きくなっている。
特性の違いを示すグラフである。図１３（ａ）は露光強
度が強い場合を示し、図１３（ｂ）は露光強度が弱い場
合を示す。横軸は方位角度を表し、縦軸は反射強度を表
している。露光強度の強い所と弱い所とでは、凸部２１
の形状が変化するので反射強度が異なる。具体的には、
露光強度の強い所は広い視角範囲にわたって反射強度の
変化が小さく、露光強度の弱い所は視角範囲内での反射
強度の変化が大きくなっている。
【００１２】図１４は、従来のマスク１ｂを用い、位置
をかえて複数回の露光を行った場合の反射板７１の反射
特性の変化を示す図である。図１４（ａ）は反射特性の
パターンを示し、図１４（ｂ）は露光面Ａと露光面Ｂと
の反射特性を示している。符号６５は反射強度の変化が
最も小さい状態であり、符号６６，６７，６８に進むに
従って、反射強度の変化が徐々に大きくなる状態を表し
ている。露光面Ａ，Ｂは、符号６５〜６８で示されるよ
うな反射特性を有する複数の画素６１によって形成され
る。破線６９は、前記露光ランプ１８による露光強度分
布を表す等高線である。領域６９ａは、露光量の強い領
域であり、領域６９ｂ，６９ｃに進むに従って露光量は
弱くなる。１回目の露光によって、たとえば面Ａが露光
される。１回の露光では、破線６９で示す露光ムラに対
応して、凹凸形状が連続的になだらかに変化し、それに
伴い反射特性も同様になだらかに変化するので、干渉色
による表示ムラは観測されない。
をかえて複数回の露光を行った場合の反射板７１の反射
特性の変化を示す図である。図１４（ａ）は反射特性の
パターンを示し、図１４（ｂ）は露光面Ａと露光面Ｂと
の反射特性を示している。符号６５は反射強度の変化が
最も小さい状態であり、符号６６，６７，６８に進むに
従って、反射強度の変化が徐々に大きくなる状態を表し
ている。露光面Ａ，Ｂは、符号６５〜６８で示されるよ
うな反射特性を有する複数の画素６１によって形成され
る。破線６９は、前記露光ランプ１８による露光強度分
布を表す等高線である。領域６９ａは、露光量の強い領
域であり、領域６９ｂ，６９ｃに進むに従って露光量は
弱くなる。１回目の露光によって、たとえば面Ａが露光
される。１回の露光では、破線６９で示す露光ムラに対
応して、凹凸形状が連続的になだらかに変化し、それに
伴い反射特性も同様になだらかに変化するので、干渉色
による表示ムラは観測されない。
【００１３】しかしながら、たとえば面Ａと面Ｂとな
ど、複数回の露光を行った場合、面Ａと面Ｂとの継ぎ目
７０では、露光強度の急激な変化によって凹凸の形状も
急激に変化する。この結果、継ぎ目７０では反射特性が
急激に変化するので、反射分布特性の差が明るさのムラ
となって観察され、表示を行った場合には、継ぎ目７０
の部分が線となって観察され、表示品位が低下する。
ど、複数回の露光を行った場合、面Ａと面Ｂとの継ぎ目
７０では、露光強度の急激な変化によって凹凸の形状も
急激に変化する。この結果、継ぎ目７０では反射特性が
急激に変化するので、反射分布特性の差が明るさのムラ
となって観察され、表示を行った場合には、継ぎ目７０
の部分が線となって観察され、表示品位が低下する。
【００１４】図１５は、従来の反射板７１において入射
光の平行度が高い場合の反射特性を示す図である。反射
板７１の各画素６１は、マスク１ｂの同一な単位パター
ンの繰返しによって、凹凸形状７２および反射特性が同
一なパターンの繰返しとなるので、入射光の平行度が高
い場合には反射光の平行度も高くなり、該反射光による
干渉色が観察され、表示品位は著しく低下する。
光の平行度が高い場合の反射特性を示す図である。反射
板７１の各画素６１は、マスク１ｂの同一な単位パター
ンの繰返しによって、凹凸形状７２および反射特性が同
一なパターンの繰返しとなるので、入射光の平行度が高
い場合には反射光の平行度も高くなり、該反射光による
干渉色が観察され、表示品位は著しく低下する。
【００１５】本発明の目的は、上述の問題を解決し、良
好な反射特性を有する反射板を提供すること、また該反
射板の製造方法を提供すること、さらに表示品位が向上
する反射型液晶表示装置および該反射型液晶表示装置の
製造方法を提供することである。
好な反射特性を有する反射板を提供すること、また該反
射板の製造方法を提供すること、さらに表示品位が向上
する反射型液晶表示装置および該反射型液晶表示装置の
製造方法を提供することである。
【００１６】
【課題を解決するための手段】本発明は、マトリクス状
に配列された複数の画素を有する光反射型の表示装置に
用いられる反射板において、該反射板表面の各画素に対
応する領域は凹凸状であり、１画素分の凹凸パターンは
複数種類あり、その複数種類のうち少なくとも１種類の
凹凸パターンは複数個あり、複数個ある特定種類の凹凸
パターンのうちのいずれか２パターンは、反射板表面内
で互いに平行移動させたもの、回転移動させたものおよ
び表裏反転させたもののうちの少なくとも平行移動を含
む１または複数の関係で、かつ不規則的に配置されてい
ることを特徴とする。本発明に従えば、反射板はマトリ
クス状に配列された複数の画素を有する光反射型の表示
装置に用いられ、各画素に対応する表面が凹凸状に形成
されることによって、入射光に対して、観測者の方向へ
散乱する光の強度を増加させることができる。また１画
素の凹凸パターンが、複数種類あり、その複数種類のう
ち少なくとも一種類の凹凸パターンは複数個あり上述の
ような関係を有することによって、反射特性の急激な変
化を防止することができ継ぎ目が発生しなく、また入射
光の平行度が高い場合でも、各画素の反射特性が異な
り、同期的な反射特性の変化が生じないので、反射光の
干渉を防止することができ、良好な反射特性を得ること
ができ、近隣付近の画素同士が反射特性の異なる凹凸パ
ターンを有するので、表示ムラが生じない。反射型の表
示装置に用いた場合、干渉や継ぎ目による表示品位の低
下を防止することができる。
に配列された複数の画素を有する光反射型の表示装置に
用いられる反射板において、該反射板表面の各画素に対
応する領域は凹凸状であり、１画素分の凹凸パターンは
複数種類あり、その複数種類のうち少なくとも１種類の
凹凸パターンは複数個あり、複数個ある特定種類の凹凸
パターンのうちのいずれか２パターンは、反射板表面内
で互いに平行移動させたもの、回転移動させたものおよ
び表裏反転させたもののうちの少なくとも平行移動を含
む１または複数の関係で、かつ不規則的に配置されてい
ることを特徴とする。本発明に従えば、反射板はマトリ
クス状に配列された複数の画素を有する光反射型の表示
装置に用いられ、各画素に対応する表面が凹凸状に形成
されることによって、入射光に対して、観測者の方向へ
散乱する光の強度を増加させることができる。また１画
素の凹凸パターンが、複数種類あり、その複数種類のう
ち少なくとも一種類の凹凸パターンは複数個あり上述の
ような関係を有することによって、反射特性の急激な変
化を防止することができ継ぎ目が発生しなく、また入射
光の平行度が高い場合でも、各画素の反射特性が異な
り、同期的な反射特性の変化が生じないので、反射光の
干渉を防止することができ、良好な反射特性を得ること
ができ、近隣付近の画素同士が反射特性の異なる凹凸パ
ターンを有するので、表示ムラが生じない。反射型の表
示装置に用いた場合、干渉や継ぎ目による表示品位の低
下を防止することができる。
【００１７】
【００１８】また本発明は、液晶層を介在して配置され
る一対の絶縁性基板を有し、いずれか一方絶縁性基板の
液晶層側には、光反射性を有する複数の画素電極がマト
リクス状に配列して配置され、透光性を有する他方絶縁
性基板側から入射した光を画素電極で反射して出射する
反射型液晶表示装置において、前記画素電極の表面は凹
凸状であり、１画素分の凹凸パターンは複数種類あり、
その複数種類のうち、少なくとも１種類の凹凸パターン
は複数個あり、複数個ある特定種類の凹凸パターンのう
ちのいずれか２パターンは、画素電極表面内で互いに平
行移動させたもの、回転移動させたものおよび表裏反転
させたもののうちの少なくとも平行移動を含む１または
複数の関係で、かつ不規則的に配置されていることを特
徴とする。本発明に従えば、反射型液晶表示装置は、マ
トリクス状に配列された光反射性を有する複数の画素電
極が配置され、各画素電極が凹凸状の表面を有すること
によって、入射光に対して、観測者の方向へ散乱する光
の強度を増加させることができるので、明るくペーパホ
ワイトな表示を得ることができる。また１画素分の凹凸
パターンが複数種類あり、その複数種類のうち、少なく
とも１種類の凹凸パターンは複数個あり、上述のような
関係を有することによって、反射特性の急激な変化を防
止することができ継ぎ目が発生しなく、さらに近隣付近
の画素電極同士が反射特性の異なる凹凸パターンを有す
るので、表示ムラが生じることがなく、また入射光の平
行度が高い場合でも、各画素の反射特性が異なり、周期
的な反射特性の変化が生じないので、反射光の干渉を確
実に防止することができ、表示品位は向上する。
る一対の絶縁性基板を有し、いずれか一方絶縁性基板の
液晶層側には、光反射性を有する複数の画素電極がマト
リクス状に配列して配置され、透光性を有する他方絶縁
性基板側から入射した光を画素電極で反射して出射する
反射型液晶表示装置において、前記画素電極の表面は凹
凸状であり、１画素分の凹凸パターンは複数種類あり、
その複数種類のうち、少なくとも１種類の凹凸パターン
は複数個あり、複数個ある特定種類の凹凸パターンのう
ちのいずれか２パターンは、画素電極表面内で互いに平
行移動させたもの、回転移動させたものおよび表裏反転
させたもののうちの少なくとも平行移動を含む１または
複数の関係で、かつ不規則的に配置されていることを特
徴とする。本発明に従えば、反射型液晶表示装置は、マ
トリクス状に配列された光反射性を有する複数の画素電
極が配置され、各画素電極が凹凸状の表面を有すること
によって、入射光に対して、観測者の方向へ散乱する光
の強度を増加させることができるので、明るくペーパホ
ワイトな表示を得ることができる。また１画素分の凹凸
パターンが複数種類あり、その複数種類のうち、少なく
とも１種類の凹凸パターンは複数個あり、上述のような
関係を有することによって、反射特性の急激な変化を防
止することができ継ぎ目が発生しなく、さらに近隣付近
の画素電極同士が反射特性の異なる凹凸パターンを有す
るので、表示ムラが生じることがなく、また入射光の平
行度が高い場合でも、各画素の反射特性が異なり、周期
的な反射特性の変化が生じないので、反射光の干渉を確
実に防止することができ、表示品位は向上する。
【００１９】
【００２０】また好ましくは、前記一方絶縁性基板の液
晶層側表面には、互いに絶縁性を保持しかつ直交する複
数の配線と、該配線が交差することによって形成される
矩形の画素領域にそれぞれ配置されて前記配線に接続さ
れるスイッチング素子とが形成され、さらに該配線およ
びスイッチング素子の少なくとも一部を覆って凹凸状の
表面を有する絶縁層が形成され、前記画素電極は該絶縁
層に形成されたスルーホールを介して各スイッチング素
子と個別的に接続されて絶縁層上に形成され、前記他方
絶縁性基板の液晶層側表面には、前記画素電極に対向す
る透光性を有する対向電極が形成されることを特徴と
し、反射型液晶表示装置は、複数の配線およびスイッチ
ング素子の少なくとも一部を覆って凹凸状の表面を有す
る絶縁層が形成され、絶縁層上の画素領域毎に画素電極
が形成されるので、表面が凹凸状の画素電極が形成され
る。画素電極によって、広い領域にわたって入射光に対
して、観測者の方向へ散乱する光の強度を増加させるこ
とができる。画素電極は、スルーホールを介してスイッ
チング素子と接続され、反射液晶表示装置は明るくペー
パホワイトな表示を得ることができる。
晶層側表面には、互いに絶縁性を保持しかつ直交する複
数の配線と、該配線が交差することによって形成される
矩形の画素領域にそれぞれ配置されて前記配線に接続さ
れるスイッチング素子とが形成され、さらに該配線およ
びスイッチング素子の少なくとも一部を覆って凹凸状の
表面を有する絶縁層が形成され、前記画素電極は該絶縁
層に形成されたスルーホールを介して各スイッチング素
子と個別的に接続されて絶縁層上に形成され、前記他方
絶縁性基板の液晶層側表面には、前記画素電極に対向す
る透光性を有する対向電極が形成されることを特徴と
し、反射型液晶表示装置は、複数の配線およびスイッチ
ング素子の少なくとも一部を覆って凹凸状の表面を有す
る絶縁層が形成され、絶縁層上の画素領域毎に画素電極
が形成されるので、表面が凹凸状の画素電極が形成され
る。画素電極によって、広い領域にわたって入射光に対
して、観測者の方向へ散乱する光の強度を増加させるこ
とができる。画素電極は、スルーホールを介してスイッ
チング素子と接続され、反射液晶表示装置は明るくペー
パホワイトな表示を得ることができる。
【００２１】また本発明は、マトリクス状に配列された
複数の画素を有する光反射型の表示装置に用いられる反
射板の製造方法であって、予め定められる基板上に感光
性樹脂膜を形成した後、所定のパターンを有するマスク
を介して、感光性樹脂膜を露光する工程を含む反射板の
製造方法において、前記マスクは、１画素分のパターン
を複数種類有し、該マスクまたは前記基板を移動して、
前記感光性樹脂膜を露光する工程を所定回数繰返した
後、現像する工程を含むことを特徴とする反射板の製造
方法である。本発明に従えば、継ぎ目のない反射板を、
凹凸パターンを複数種類有するマスクを用いて複数回の
露光を行って作成することができる。
複数の画素を有する光反射型の表示装置に用いられる反
射板の製造方法であって、予め定められる基板上に感光
性樹脂膜を形成した後、所定のパターンを有するマスク
を介して、感光性樹脂膜を露光する工程を含む反射板の
製造方法において、前記マスクは、１画素分のパターン
を複数種類有し、該マスクまたは前記基板を移動して、
前記感光性樹脂膜を露光する工程を所定回数繰返した
後、現像する工程を含むことを特徴とする反射板の製造
方法である。本発明に従えば、継ぎ目のない反射板を、
凹凸パターンを複数種類有するマスクを用いて複数回の
露光を行って作成することができる。
【００２２】また本発明は、前記マスクの少なくとも１
種類の凹凸パターンは複数個あり、複数個ある特定種類
の凹凸パターンのうちのいずれか２パターンは、マスク
表面内で互いに平行移動させたもの、回転移動させたも
のおよび表裏反転させたもののうちの少なくとも平行移
動を含む１または複数の関係で、かつ不規則的に配置さ
れていることを特徴とする。本発明に従えば、マスクは
少なくとも１種類の凹凸パターンを複数個有するので、
マスクの設計を簡略化することができる。また、そのう
ちのいずれか２パターンの関係は、上述したような関係
を有することによって、反射特性の異なる凹凸パターン
を容易にかつ確実に多数形成することができ、良好な反
射特性を有する反射板を得ることができる。
種類の凹凸パターンは複数個あり、複数個ある特定種類
の凹凸パターンのうちのいずれか２パターンは、マスク
表面内で互いに平行移動させたもの、回転移動させたも
のおよび表裏反転させたもののうちの少なくとも平行移
動を含む１または複数の関係で、かつ不規則的に配置さ
れていることを特徴とする。本発明に従えば、マスクは
少なくとも１種類の凹凸パターンを複数個有するので、
マスクの設計を簡略化することができる。また、そのう
ちのいずれか２パターンの関係は、上述したような関係
を有することによって、反射特性の異なる凹凸パターン
を容易にかつ確実に多数形成することができ、良好な反
射特性を有する反射板を得ることができる。
【００２３】また本発明は、液晶層を介在して配置され
る一対の絶縁性基板を有し、いずれか一方絶縁性基板の
液晶層側には、光反射性を有する複数の画素電極がマト
リクス状に配列して配置され、透光性を有する他方絶縁
性基板側から入射した光を画素電極で反射して出射する
反射型液晶表示装置の製造方法であって、一方絶縁性基
板上に形成されたスイッチング素子の少なくとも一部を
覆って該一方絶縁性基板上に感光性樹脂膜を形成した後
に、所定のパターンを有するマスクを介して、感光性樹
脂膜を露光する工程を含む反射板型液晶表示装置の製造
方法において、前記マスクは、１画素分のパターンを複
数種類有し、該マスクまたは前記一方絶縁性基板を移動
して、前記感光性樹脂膜を露光する工程を所定回数繰返
した後、現像する工程を含むことを特徴とする反射型液
晶表示装置の製造方法である。 本発明に従えば、継ぎ目の発生がなく、表示品位の向上
した反射型液晶表示装置を、凹凸パターンを複数種類有
するマスクを用いて、複数回の露光を行って作成するこ
とができる。
る一対の絶縁性基板を有し、いずれか一方絶縁性基板の
液晶層側には、光反射性を有する複数の画素電極がマト
リクス状に配列して配置され、透光性を有する他方絶縁
性基板側から入射した光を画素電極で反射して出射する
反射型液晶表示装置の製造方法であって、一方絶縁性基
板上に形成されたスイッチング素子の少なくとも一部を
覆って該一方絶縁性基板上に感光性樹脂膜を形成した後
に、所定のパターンを有するマスクを介して、感光性樹
脂膜を露光する工程を含む反射板型液晶表示装置の製造
方法において、前記マスクは、１画素分のパターンを複
数種類有し、該マスクまたは前記一方絶縁性基板を移動
して、前記感光性樹脂膜を露光する工程を所定回数繰返
した後、現像する工程を含むことを特徴とする反射型液
晶表示装置の製造方法である。 本発明に従えば、継ぎ目の発生がなく、表示品位の向上
した反射型液晶表示装置を、凹凸パターンを複数種類有
するマスクを用いて、複数回の露光を行って作成するこ
とができる。
【００２４】また本発明は、前記マスクの少なくとも１
種類の凹凸パターンは複数個あり、複数個ある特定種類
の凹凸パターンのうちのいずれか２パターンは、マスク
表面内で互いに平行移動させたもの、回転移動させたも
のおよび表裏反転させたもののうちの少なくとも平行移
動を含む１または複数の関係で、かつ不規則的に配置さ
れていることを特徴とする。本発明に従えば、マスクは
少なくとも１種類の凹凸パターンを複数個有するので、
マスクの設計を簡略化することができる。また、そのう
ちのいずれか２パターンの関係は、上述したような関係
を有することによって、反射特性の異なる凹凸パターン
を容易にかつ確実に多数形成することができ、表示品位
の向上した反射型液晶表示装置を得ることができる。
種類の凹凸パターンは複数個あり、複数個ある特定種類
の凹凸パターンのうちのいずれか２パターンは、マスク
表面内で互いに平行移動させたもの、回転移動させたも
のおよび表裏反転させたもののうちの少なくとも平行移
動を含む１または複数の関係で、かつ不規則的に配置さ
れていることを特徴とする。本発明に従えば、マスクは
少なくとも１種類の凹凸パターンを複数個有するので、
マスクの設計を簡略化することができる。また、そのう
ちのいずれか２パターンの関係は、上述したような関係
を有することによって、反射特性の異なる凹凸パターン
を容易にかつ確実に多数形成することができ、表示品位
の向上した反射型液晶表示装置を得ることができる。
【００２５】
【発明の実施の形態】図１は、本発明の一実施形態であ
る反射板および反射型液晶表示装置の作成に用いられる
マスク１ａを示す平面図である。図２は、前記マスク１
ａの凹凸パターンの関係を示す図である。反射板は、マ
トリクス状に配列された複数の画素を有する表示装置に
用いられる。また反射型液晶表示装置は、マトリクス状
に配列された複数の画素を有する。マスク１ａは、各画
素２の凹凸パターンを複数種類有する。たとえば各画素
２ａ〜２ｃは、それぞれ異なった種類の凹凸パターン
３，４，５を有する。
る反射板および反射型液晶表示装置の作成に用いられる
マスク１ａを示す平面図である。図２は、前記マスク１
ａの凹凸パターンの関係を示す図である。反射板は、マ
トリクス状に配列された複数の画素を有する表示装置に
用いられる。また反射型液晶表示装置は、マトリクス状
に配列された複数の画素を有する。マスク１ａは、各画
素２の凹凸パターンを複数種類有する。たとえば各画素
２ａ〜２ｃは、それぞれ異なった種類の凹凸パターン
３，４，５を有する。
【００２６】各凹凸パターン３〜５の有する円形領域６
は、たとえば光遮光部であり、反射板および表示装置を
構成する基板上に形成される円柱の凸部に対応する。そ
れ以外の他の領域は光透過部である。円形領域６の大き
さや配置は、基板上の各画素２の凸部の配置がランダム
になるように、たとえばＣＡＤ（Computer AidedDesig
n）を使用して設計される。たとえば円形領域６は、凸
部を形成したときに隣合う凸部同士の連結を防ぐため最
小２μｍの間隔を有し、１画素２に形成される凸部底面
の総面積が、１画素２の全面積の約８０％を占めるよう
に設計される。なお、本形態では３種類の凹凸パターン
３〜５の例について説明するが、複数種類であればいく
らでもよい。ただし、３〜５種類程度が製造する上で好
ましい。
は、たとえば光遮光部であり、反射板および表示装置を
構成する基板上に形成される円柱の凸部に対応する。そ
れ以外の他の領域は光透過部である。円形領域６の大き
さや配置は、基板上の各画素２の凸部の配置がランダム
になるように、たとえばＣＡＤ（Computer AidedDesig
n）を使用して設計される。たとえば円形領域６は、凸
部を形成したときに隣合う凸部同士の連結を防ぐため最
小２μｍの間隔を有し、１画素２に形成される凸部底面
の総面積が、１画素２の全面積の約８０％を占めるよう
に設計される。なお、本形態では３種類の凹凸パターン
３〜５の例について説明するが、複数種類であればいく
らでもよい。ただし、３〜５種類程度が製造する上で好
ましい。
【００２７】前記マスク１ａの凹凸パターンの説明を容
易にするため、凹凸パターン３〜５をそれぞれ記号７〜
９で表す。マスク１ａは、各凹凸パターン３〜５をそれ
ぞれ複数個有する。また、複数個ある同一種類の凹凸パ
ターンのうちのいずれか２つの凹凸パターンは、マスク
１ａの表面内で互いに平行移動させたもの、回転移動さ
せたものおよび表裏反転させたもののうちの少なくとも
平行移動を含む１または複数の関係で、かつランダムに
配置されている。
易にするため、凹凸パターン３〜５をそれぞれ記号７〜
９で表す。マスク１ａは、各凹凸パターン３〜５をそれ
ぞれ複数個有する。また、複数個ある同一種類の凹凸パ
ターンのうちのいずれか２つの凹凸パターンは、マスク
１ａの表面内で互いに平行移動させたもの、回転移動さ
せたものおよび表裏反転させたもののうちの少なくとも
平行移動を含む１または複数の関係で、かつランダムに
配置されている。
【００２８】たとえば画素２ｄの凹凸パターンは画素２
ａの記号７の凹凸パターンを表裏反転かつ平行移動させ
たものであり、画素２ｅの凹凸パターンは画素２ｂの記
号８の凹凸パターンを回転移動かつ平行移動させたもの
であり、画素２ｆの凹凸パターンは画素２ｃの記号９の
凹凸パターンを表裏反転かつ回転移動かつ平行移動させ
たものであり、画素２ｇの凹凸パターンは画素２ａの記
号７の凹凸パターンを平行移動させたものである。
ａの記号７の凹凸パターンを表裏反転かつ平行移動させ
たものであり、画素２ｅの凹凸パターンは画素２ｂの記
号８の凹凸パターンを回転移動かつ平行移動させたもの
であり、画素２ｆの凹凸パターンは画素２ｃの記号９の
凹凸パターンを表裏反転かつ回転移動かつ平行移動させ
たものであり、画素２ｇの凹凸パターンは画素２ａの記
号７の凹凸パターンを平行移動させたものである。
【００２９】このように、数種類のランダムに配置され
ている凹凸パターン３〜５をＣＡＤで設計し、該凹凸パ
ターン３〜５を平行移動、回転移動および表裏反転操作
などをすることによって、全ての画素２について凸部の
配置を割当て、マスク１ａを作成する。数種類のランダ
ムな凹凸パターン３〜５を複数回用いることによって、
反射特性の異なる凹凸パターンを容易に多数形成するこ
とができ、マスク１ａの設計を簡略化することができ
る。なお、本形態では３種類の凹凸パターン３〜５が全
て複数個ある例について説明したが、少なくとも１種類
の凹凸パターンが複数個あり、上述したような関係にあ
ればどのようなものであってもかまわない。
ている凹凸パターン３〜５をＣＡＤで設計し、該凹凸パ
ターン３〜５を平行移動、回転移動および表裏反転操作
などをすることによって、全ての画素２について凸部の
配置を割当て、マスク１ａを作成する。数種類のランダ
ムな凹凸パターン３〜５を複数回用いることによって、
反射特性の異なる凹凸パターンを容易に多数形成するこ
とができ、マスク１ａの設計を簡略化することができ
る。なお、本形態では３種類の凹凸パターン３〜５が全
て複数個ある例について説明したが、少なくとも１種類
の凹凸パターンが複数個あり、上述したような関係にあ
ればどのようなものであってもかまわない。
【００３０】図３は、本発明の第１実施形態である反射
板１３の製造方法を段階的に示す断面図である。反射板
１３は、基板１０、凸部２１および光反射膜２２を含ん
で構成される。基板１０は、たとえば横の長さが３２０
ｍｍであり、縦の長さが４００ｍｍである、コーニング
社製商品名７０５９から成る厚さ１．１ｍｍのガラス基
板が使用される。基板１０の一方表面に、感光性樹脂膜
１７として、たとえば東京応化社製商品名ＯＦＰＲ−８
００から成るレジスト材料をスピンコートして作成す
る。スピンコートは、５００ｒｐｍ〜３０００ｒｐｍの
回転数で行うことが好ましく、たとえば１０００ｒｐｍ
で３０秒間のスピンコートを行い、厚さ１．２μｍに成
膜される。その後、たとえば１００℃の温度で３０秒間
の熱処理を行う。これによって、図３（ａ）に示される
ように、基板１０上に感光性樹脂膜１７が形成される。
板１３の製造方法を段階的に示す断面図である。反射板
１３は、基板１０、凸部２１および光反射膜２２を含ん
で構成される。基板１０は、たとえば横の長さが３２０
ｍｍであり、縦の長さが４００ｍｍである、コーニング
社製商品名７０５９から成る厚さ１．１ｍｍのガラス基
板が使用される。基板１０の一方表面に、感光性樹脂膜
１７として、たとえば東京応化社製商品名ＯＦＰＲ−８
００から成るレジスト材料をスピンコートして作成す
る。スピンコートは、５００ｒｐｍ〜３０００ｒｐｍの
回転数で行うことが好ましく、たとえば１０００ｒｐｍ
で３０秒間のスピンコートを行い、厚さ１．２μｍに成
膜される。その後、たとえば１００℃の温度で３０秒間
の熱処理を行う。これによって、図３（ａ）に示される
ように、基板１０上に感光性樹脂膜１７が形成される。
【００３１】次に露光工程について説明する。一般的な
反射板の製造方法の中の露光工程を説明するための斜視
図である図４を参照して、基板１０は、対角長がたとえ
ば２１．４ｃｍの８．４型の反射板を２枚並列に並べる
ための各配置領域１１ａ，１２ａを一方表面に有する。
１回の露光によって照射できる面積には限度があるの
で、１回に照射できる面積を超える基板１０の露光を行
う場合には、たとえば各配置領域１１ａ，１２ａをそれ
ぞれ４等分して露光面Ａ〜Ｄ，Ｅ〜Ｈとし、順番に露光
する。
反射板の製造方法の中の露光工程を説明するための斜視
図である図４を参照して、基板１０は、対角長がたとえ
ば２１．４ｃｍの８．４型の反射板を２枚並列に並べる
ための各配置領域１１ａ，１２ａを一方表面に有する。
１回の露光によって照射できる面積には限度があるの
で、１回に照射できる面積を超える基板１０の露光を行
う場合には、たとえば各配置領域１１ａ，１２ａをそれ
ぞれ４等分して露光面Ａ〜Ｄ，Ｅ〜Ｈとし、順番に露光
する。
【００３２】感光性樹脂膜１７が形成された基板１０上
に、マスク１として前記マスク１ａが、たとえば露光面
Ａに対向して配置される。マスク１ａの基板１０とは反
対側に、ステッパ装置の球状の露光ランプ１８が配置さ
れる。露光ランプ１８は、マスク１ａを介して光１９を
照射し、感光性樹脂膜１７を露光する。面Ａの露光後、
マスク１ａまたは基板１０を移動させることによって、
露光面Ｂ〜Ｄ，Ｅ〜Ｈがそれぞれ順番に露光される。マ
スク１ａは、平行に移動するだけでもよいし、たとえば
表裏を変えて移動しても構わない。
に、マスク１として前記マスク１ａが、たとえば露光面
Ａに対向して配置される。マスク１ａの基板１０とは反
対側に、ステッパ装置の球状の露光ランプ１８が配置さ
れる。露光ランプ１８は、マスク１ａを介して光１９を
照射し、感光性樹脂膜１７を露光する。面Ａの露光後、
マスク１ａまたは基板１０を移動させることによって、
露光面Ｂ〜Ｄ，Ｅ〜Ｈがそれぞれ順番に露光される。マ
スク１ａは、平行に移動するだけでもよいし、たとえば
表裏を変えて移動しても構わない。
【００３３】図３（ｂ）は、図４の感光性樹脂膜１７が
形成された基板１０とマスク１とを拡大した断面図であ
る。マスク１ａの有する円形領域６は、光遮光部であ
り、前記露光ランプ１８からの光１９が円形領域６以外
の領域を透過することによって、感光性樹脂膜１７は露
光される。現像剤として、たとえば東京応化社製商品名
ＮＭＤ−３の２．３８％溶液を用いて現像を行うと、図
３（ｃ）に示されるように基板１０の表面に微細な円柱
部２０が形成される。円柱部２０の有する円の形状は、
マスク１ａの円形領域６に対応する。
形成された基板１０とマスク１とを拡大した断面図であ
る。マスク１ａの有する円形領域６は、光遮光部であ
り、前記露光ランプ１８からの光１９が円形領域６以外
の領域を透過することによって、感光性樹脂膜１７は露
光される。現像剤として、たとえば東京応化社製商品名
ＮＭＤ−３の２．３８％溶液を用いて現像を行うと、図
３（ｃ）に示されるように基板１０の表面に微細な円柱
部２０が形成される。円柱部２０の有する円の形状は、
マスク１ａの円形領域６に対応する。
【００３４】形成された円柱部２０は、１２０℃〜２５
０℃の温度で熱処理される。たとえば１８０℃で３０分
間の熱処理を行うと、図３（ｄ）に示されるように円柱
部２０の角がとれて、表面が滑らかな凸部２１が形成さ
れる。凸部２１を覆って基板１０の全面に、図３（ｅ）
に示されるように金属薄膜から成る光反射膜２２を形成
する。光反射膜２２は、たとえばＡｌを真空蒸着するこ
とによって、０．０１μｍ〜１．０μｍの膜厚に形成さ
れる。光反射膜２２は、反射率が高く薄膜形成が行いや
すいＮｉ，Ｃｒ，Ａｇなどの金属を用いて形成しても構
わない。
０℃の温度で熱処理される。たとえば１８０℃で３０分
間の熱処理を行うと、図３（ｄ）に示されるように円柱
部２０の角がとれて、表面が滑らかな凸部２１が形成さ
れる。凸部２１を覆って基板１０の全面に、図３（ｅ）
に示されるように金属薄膜から成る光反射膜２２を形成
する。光反射膜２２は、たとえばＡｌを真空蒸着するこ
とによって、０．０１μｍ〜１．０μｍの膜厚に形成さ
れる。光反射膜２２は、反射率が高く薄膜形成が行いや
すいＮｉ，Ｃｒ，Ａｇなどの金属を用いて形成しても構
わない。
【００３５】上述したような工程によって、反射板１３
が製造される。反射板１３の光反射膜２２は、凸部２１
によって連続な曲面を有し、円錐状の緩やかな起伏の凹
凸形状に形成される。光反射膜２２によって反射板１３
は、入射光に対して、観測者の方向へ散乱する光の強度
を増加させることができる。またマスク１ａによって反
射板１３は、隣合う各画素２が異なった凹凸パターンを
有するので、各画素２の反射特性が異なり、良好な反射
特性を得ることができる。
が製造される。反射板１３の光反射膜２２は、凸部２１
によって連続な曲面を有し、円錐状の緩やかな起伏の凹
凸形状に形成される。光反射膜２２によって反射板１３
は、入射光に対して、観測者の方向へ散乱する光の強度
を増加させることができる。またマスク１ａによって反
射板１３は、隣合う各画素２が異なった凹凸パターンを
有するので、各画素２の反射特性が異なり、良好な反射
特性を得ることができる。
【００３６】図５は、前記マスク１ａを用い、位置をか
えて複数回の露光を行った場合の反射板１３の反射特性
の変化を示す図である。図５（ａ）は反射特性のパター
ンを示し、図５（ｂ）は露光面Ａと露光面Ｂとの反射特
性の変化を示している。符号２９は、反射強度の変化が
最も小さい状態であり、符号３０，３１，３２に進むに
従って、反射強度の変化が徐々に大きくなる状態を表し
ている。
えて複数回の露光を行った場合の反射板１３の反射特性
の変化を示す図である。図５（ａ）は反射特性のパター
ンを示し、図５（ｂ）は露光面Ａと露光面Ｂとの反射特
性の変化を示している。符号２９は、反射強度の変化が
最も小さい状態であり、符号３０，３１，３２に進むに
従って、反射強度の変化が徐々に大きくなる状態を表し
ている。
【００３７】反射板１３の露光面Ａ，Ｂは、符号２９〜
３２で示されるような反射特性を有する複数の画素２に
よって構成される。破線３３は、露光ランプ１８による
露光強度分布を表す等高線である。領域３３ａは露光強
度の強い部分であり、領域３３ｂ，３３ｃに進むに従っ
て露光強度は弱くなる。破線３３で示されるような露光
ムラが生じても、近隣付近の画素２同士の凹凸形状が異
なるように配置されているので、符号２９〜３２で表さ
れる反射特性の差が連続的ではない。したがって反射特
性は露光ムラに対応しないので、面Ａと面Ｂとの継ぎ目
２８には反射特性の急激な変化が生じない。その結果、
反射板１３を表示装置に用いた場合、従来の表示に現れ
たような継ぎ目２８上の線は目立たなくなり、表示品位
は向上する。
３２で示されるような反射特性を有する複数の画素２に
よって構成される。破線３３は、露光ランプ１８による
露光強度分布を表す等高線である。領域３３ａは露光強
度の強い部分であり、領域３３ｂ，３３ｃに進むに従っ
て露光強度は弱くなる。破線３３で示されるような露光
ムラが生じても、近隣付近の画素２同士の凹凸形状が異
なるように配置されているので、符号２９〜３２で表さ
れる反射特性の差が連続的ではない。したがって反射特
性は露光ムラに対応しないので、面Ａと面Ｂとの継ぎ目
２８には反射特性の急激な変化が生じない。その結果、
反射板１３を表示装置に用いた場合、従来の表示に現れ
たような継ぎ目２８上の線は目立たなくなり、表示品位
は向上する。
【００３８】図６は、入射光の平行度が高い場合の反射
板１３の反射特性を示す図である。反射板１３は、近隣
付近の画素２同士の凹凸形状が異なるように配置されて
いるので、反射特性に差が生じる。したがって、たとえ
ば太陽光などの入射光の平行度が高い場合であっても、
光３４には、周期的な反射特性の変化が生じない。光３
４は、異なる反射特性によって様々な方向へ反射される
ので、反射板１３を表示装置に用いた場合でも、干渉色
は観察されず表示品位は向上する。
板１３の反射特性を示す図である。反射板１３は、近隣
付近の画素２同士の凹凸形状が異なるように配置されて
いるので、反射特性に差が生じる。したがって、たとえ
ば太陽光などの入射光の平行度が高い場合であっても、
光３４には、周期的な反射特性の変化が生じない。光３
４は、異なる反射特性によって様々な方向へ反射される
ので、反射板１３を表示装置に用いた場合でも、干渉色
は観察されず表示品位は向上する。
【００３９】なお、前記反射板１３の感光性樹脂膜１７
に使用する材料は、本実施形態ではポジタイプのものに
ついて説明したが、ネガタイプやポジタイプにかかわら
ず少なくともフォトリソグラフィ工程を用いてパターニ
ングできるものであればどのような材料であってもよ
い。たとえば東京応化社製商品名ＯＭＲ−８３，ＯＭＲ
−８５０，ＮＮＲ−２０，ＯＦＰＲ−２，ＯＦＰＲ−８
３０，ＯＦＰＲ−５０００、Ｓｈｉｐｌｅｙ社製商品名
ＴＦ−２０，１３００−２７，１４００−２７、東レ社
製商品名フォトニース、積水ファインケミカル社製商品
名ＲＷ１０１および日本化薬社製商品名Ｒ１０１，Ｒ６
３３などを用いることができる。また感光性樹脂膜１７
が、ポジタイプあるいはネガタイプのどちらのタイプで
あるかに応じて、作成するマスク１ａのパターン形状の
光透過部が対応して形成される。
に使用する材料は、本実施形態ではポジタイプのものに
ついて説明したが、ネガタイプやポジタイプにかかわら
ず少なくともフォトリソグラフィ工程を用いてパターニ
ングできるものであればどのような材料であってもよ
い。たとえば東京応化社製商品名ＯＭＲ−８３，ＯＭＲ
−８５０，ＮＮＲ−２０，ＯＦＰＲ−２，ＯＦＰＲ−８
３０，ＯＦＰＲ−５０００、Ｓｈｉｐｌｅｙ社製商品名
ＴＦ−２０，１３００−２７，１４００−２７、東レ社
製商品名フォトニース、積水ファインケミカル社製商品
名ＲＷ１０１および日本化薬社製商品名Ｒ１０１，Ｒ６
３３などを用いることができる。また感光性樹脂膜１７
が、ポジタイプあるいはネガタイプのどちらのタイプで
あるかに応じて、作成するマスク１ａのパターン形状の
光透過部が対応して形成される。
【００４０】また、基板１０と液晶パネル配置領域１１
ａ，１２ａとは、本形態で示した大きさに限らず、たと
えば液晶パネルとして対角長１２．７ｃｍの５型を得る
ための大きさとしてもよいし、基板１０上に液晶パネル
を１つだけ作成するための大きさとしても構わない。そ
のような場合であっても同様の効果を得ることができ
る。
ａ，１２ａとは、本形態で示した大きさに限らず、たと
えば液晶パネルとして対角長１２．７ｃｍの５型を得る
ための大きさとしてもよいし、基板１０上に液晶パネル
を１つだけ作成するための大きさとしても構わない。そ
のような場合であっても同様の効果を得ることができ
る。
【００４１】図７は、本発明の第２実施形態である反射
型液晶表示装置３５を示す断面図である。図８は、反射
型液晶表示装置３５を構成する基板３９ａとなる基板３
９と、２枚の液晶パネル１１，１２とを示す平面図であ
る。第１実施形態では凹凸形状の表面を有する反射板１
３について説明したが、第２実施形態では凹凸形状の表
面を有する反射画素電極４８を含むゲストホストモード
の反射型液晶表示装置３５について説明する。
型液晶表示装置３５を示す断面図である。図８は、反射
型液晶表示装置３５を構成する基板３９ａとなる基板３
９と、２枚の液晶パネル１１，１２とを示す平面図であ
る。第１実施形態では凹凸形状の表面を有する反射板１
３について説明したが、第２実施形態では凹凸形状の表
面を有する反射画素電極４８を含むゲストホストモード
の反射型液晶表示装置３５について説明する。
【００４２】反射型液晶表示装置３５は、一方基板部材
３６、他方基板部材３７および液晶層３８を含んで構成
される。一方基板部材３６が有する基板３９ａのための
基板３９は、たとえば横の長さ１４が３２０ｍｍであ
り、縦の長さ１５が４００ｍｍであり、表示対角長１６
が２１４ｍｍの８．４型の液晶パネルを２枚並列に並べ
て配置可能であり、１つの液晶パネルが反射型液晶表示
装置３５に相当する。１回の露光によって照射できる基
板３９の面積は、対角長が１２．７ｃｍ以下であるの
で、基板３９上の液晶パネルに相当する領域１１，１２
をそれぞれ４等分して露光面Ａ〜Ｄ，Ｅ〜Ｈとし、各露
光面Ａ〜Ｄ，Ｅ〜Ｈが順番に露光される。
３６、他方基板部材３７および液晶層３８を含んで構成
される。一方基板部材３６が有する基板３９ａのための
基板３９は、たとえば横の長さ１４が３２０ｍｍであ
り、縦の長さ１５が４００ｍｍであり、表示対角長１６
が２１４ｍｍの８．４型の液晶パネルを２枚並列に並べ
て配置可能であり、１つの液晶パネルが反射型液晶表示
装置３５に相当する。１回の露光によって照射できる基
板３９の面積は、対角長が１２．７ｃｍ以下であるの
で、基板３９上の液晶パネルに相当する領域１１，１２
をそれぞれ４等分して露光面Ａ〜Ｄ，Ｅ〜Ｈとし、各露
光面Ａ〜Ｄ，Ｅ〜Ｈが順番に露光される。
【００４３】一方基板部材３６は、たとえばコーニング
社製商品名７０５９から成る厚さ１．１ｍｍの絶縁性を
有するガラス製の基板３９ａ上に、互いに絶縁性を保持
しかつ直交する複数の配線が配置され、該配線が交差す
ることによって形成される矩形の各画素領域に、前記配
線に接続されるスイッチング素子として薄膜トランジス
タ素子（以下、「ＴＦＴ素子」と記す）４０がそれぞれ
形成される。ＴＦＴ素子４０は、ゲート電極４１、ゲー
ト絶縁膜４２、半導体層４３、ソース電極４４、ドレイ
ン電極４５および接続部材４６を含んで構成される。
社製商品名７０５９から成る厚さ１．１ｍｍの絶縁性を
有するガラス製の基板３９ａ上に、互いに絶縁性を保持
しかつ直交する複数の配線が配置され、該配線が交差す
ることによって形成される矩形の各画素領域に、前記配
線に接続されるスイッチング素子として薄膜トランジス
タ素子（以下、「ＴＦＴ素子」と記す）４０がそれぞれ
形成される。ＴＦＴ素子４０は、ゲート電極４１、ゲー
ト絶縁膜４２、半導体層４３、ソース電極４４、ドレイ
ン電極４５および接続部材４６を含んで構成される。
【００４４】基板３９ａ上に複数の配線およびＴＦＴ素
子４０の少なくとも一部を覆って、前記マスク１ａを用
いた第１実施形態と同様の露光によって、凹凸形状の表
面を有する絶縁層４７が形成される。絶縁層４７上に
は、凹凸形状の表面を有する複数の反射画素電極４８が
マトリクス状に配置される。反射画素電極４８は、絶縁
層４７に形成された各スルーホール４９を介して接続部
材４６と接続され、接続部材４６を通してさらにドレイ
ン電極４５に接続される。反射画素電極４８を覆って絶
縁層４７上に、たとえば日産化学社製、商品名ＳＥ−１
５０のポリイミド樹脂から成る配向膜材料がスピンコー
ト法によって塗布される。
子４０の少なくとも一部を覆って、前記マスク１ａを用
いた第１実施形態と同様の露光によって、凹凸形状の表
面を有する絶縁層４７が形成される。絶縁層４７上に
は、凹凸形状の表面を有する複数の反射画素電極４８が
マトリクス状に配置される。反射画素電極４８は、絶縁
層４７に形成された各スルーホール４９を介して接続部
材４６と接続され、接続部材４６を通してさらにドレイ
ン電極４５に接続される。反射画素電極４８を覆って絶
縁層４７上に、たとえば日産化学社製、商品名ＳＥ−１
５０のポリイミド樹脂から成る配向膜材料がスピンコー
ト法によって塗布される。
【００４５】他方基板部材３７は、透光性を有する絶縁
性基板５１上にカラーフィルタ５２が形成される。カラ
ーフィルタ５２は、画素毎に配置される赤色フィルタ５
２ａ、緑色フィルタ５２ｂおよび青色フィルタ５２ｃを
含んで形成される。カラーフィルタ５２上に平坦膜５３
が形成され、その上に反射画素電極４８に対向する透光
性を有する対向電極５４が形成される。さらにその上に
配向膜材料が、スピンコート法によって塗布される。
性基板５１上にカラーフィルタ５２が形成される。カラ
ーフィルタ５２は、画素毎に配置される赤色フィルタ５
２ａ、緑色フィルタ５２ｂおよび青色フィルタ５２ｃを
含んで形成される。カラーフィルタ５２上に平坦膜５３
が形成され、その上に反射画素電極４８に対向する透光
性を有する対向電極５４が形成される。さらにその上に
配向膜材料が、スピンコート法によって塗布される。
【００４６】前記基板３９ａ，５１は、配向膜材料を塗
布後、１８０℃の温度で焼成され、ラビング処理が施さ
れ、基板部材３６，３７間での液晶分子のツイスト角が
２４０°になるようにして配置される。基板３９ａと基
板５１とは、各反射画素電極４８と各フィルタ５２ａ〜
５２ｃとがそれぞれ一致するように対向して配置され、
４．５μｍのスペーサを混入した接着剤を使用して貼合
わせられる。液晶層３８の液晶材料には、たとえばメル
ク社製、商品名ＺＬＩ４７９２から成るネマティック液
晶に、黒色の２色性色素とメルク社製、商品名Ｓ−８１
１から成る１．３％のカイラル剤とが混入されたゲスト
ホスト型液晶を使用する。該カイラル剤を使用すること
によって、セル厚ｄｏと液晶分子の自然ピッチＰｏとの
比ｄｏ／Ｐｏは０．９となる。
布後、１８０℃の温度で焼成され、ラビング処理が施さ
れ、基板部材３６，３７間での液晶分子のツイスト角が
２４０°になるようにして配置される。基板３９ａと基
板５１とは、各反射画素電極４８と各フィルタ５２ａ〜
５２ｃとがそれぞれ一致するように対向して配置され、
４．５μｍのスペーサを混入した接着剤を使用して貼合
わせられる。液晶層３８の液晶材料には、たとえばメル
ク社製、商品名ＺＬＩ４７９２から成るネマティック液
晶に、黒色の２色性色素とメルク社製、商品名Ｓ−８１
１から成る１．３％のカイラル剤とが混入されたゲスト
ホスト型液晶を使用する。該カイラル剤を使用すること
によって、セル厚ｄｏと液晶分子の自然ピッチＰｏとの
比ｄｏ／Ｐｏは０．９となる。
【００４７】反射画素電極４８の表面がマスク１ａによ
る凹凸形状を有することによって、位置をかえて複数回
の露光を行った場合でも、各反射画素電極４８の反射特
性の差が連続的ではないので、第１実施形態と同様に各
露光面Ａ〜Ｄ，Ｅ〜Ｈの継ぎ目には反射特性の急激な変
化が生じない。したがって継ぎ目上の線は目立たなくな
り、良好な反射特性によって表示品位は向上する。
る凹凸形状を有することによって、位置をかえて複数回
の露光を行った場合でも、各反射画素電極４８の反射特
性の差が連続的ではないので、第１実施形態と同様に各
露光面Ａ〜Ｄ，Ｅ〜Ｈの継ぎ目には反射特性の急激な変
化が生じない。したがって継ぎ目上の線は目立たなくな
り、良好な反射特性によって表示品位は向上する。
【００４８】また入射光の平行度が高い場合でも、マス
ク１ａによって近隣付近の各反射画素電極４８の凹凸形
状が異なるように配置されているので、周期的な反射特
性の変化が生じず、異なる反射特性によって様々な方向
へ光が反射されるので、干渉色は観察されず表示品位は
向上する。
ク１ａによって近隣付近の各反射画素電極４８の凹凸形
状が異なるように配置されているので、周期的な反射特
性の変化が生じず、異なる反射特性によって様々な方向
へ光が反射されるので、干渉色は観察されず表示品位は
向上する。
【００４９】なお、基板３９，３９ａは、同様の効果が
発揮されるたとえばＳｉ基板のような不透明基板でも構
わない。不透明基板を用いた場合は、基板３９，３９ａ
上に回路を容易に集積することができる。また、絶縁層
４７上に形成される反射画素電極４８は、ＴＦＴ素子４
０の上または配線上に形成しても構わない。その場合、
開口率が向上し、明るい表示を得ることができる。
発揮されるたとえばＳｉ基板のような不透明基板でも構
わない。不透明基板を用いた場合は、基板３９，３９ａ
上に回路を容易に集積することができる。また、絶縁層
４７上に形成される反射画素電極４８は、ＴＦＴ素子４
０の上または配線上に形成しても構わない。その場合、
開口率が向上し、明るい表示を得ることができる。
【００５０】また、反射型液晶表示装置はゲストホスト
モードに限るものではない。さらに、ＴＦＴ素子以外の
スイッチング素子を用いたアクティブマトリクス型であ
ってもよく、またスイッチング素子を有さない単純マト
リクス型であっても構わない。
モードに限るものではない。さらに、ＴＦＴ素子以外の
スイッチング素子を用いたアクティブマトリクス型であ
ってもよく、またスイッチング素子を有さない単純マト
リクス型であっても構わない。
【００５１】
【発明の効果】以上のように本発明によれば、反射板は
各画素に対応する表面が凹凸形状に形成されることによ
って、あらゆる角度からの入射光に対して、観測者の方
向へ散乱する光の強度を増加させることができ、また１
画素分の凹凸パターンが複数種類あることによって、反
射特性の急激な変化を防止することができる。また入射
光の平行度が高い場合でも、各画素の反射特性が異なる
ので反射光の干渉を防止することができ、反射特性の良
好な反射板を得ることができる。光反射型の表示装置に
用いた場合、干渉や継ぎ目による表示品位の低下を防止
することができる。
各画素に対応する表面が凹凸形状に形成されることによ
って、あらゆる角度からの入射光に対して、観測者の方
向へ散乱する光の強度を増加させることができ、また１
画素分の凹凸パターンが複数種類あることによって、反
射特性の急激な変化を防止することができる。また入射
光の平行度が高い場合でも、各画素の反射特性が異なる
ので反射光の干渉を防止することができ、反射特性の良
好な反射板を得ることができる。光反射型の表示装置に
用いた場合、干渉や継ぎ目による表示品位の低下を防止
することができる。
【００５２】また本発明によれば、反射板は少なくとも
１種類の凹凸パターンを複数個有し、複数個ある特定種
類の凹凸パターンのうちのいずれか２パターンは、反射
板表面内で互いに平行移動させたもの、回転移動させた
ものおよび表裏反転させたもののうちの少なくとも平行
移動を含む１または複数の関係で、かつ不規則的に配置
され、近隣付近の画素同士が反射特性の異なる凹凸パタ
ーンを確実に有することによって、表示ムラが生じな
い。また入射光の平行度が高い場合でも、周期的な反射
特性の変化が生じないので、反射光の干渉を確実に防止
することができる。
１種類の凹凸パターンを複数個有し、複数個ある特定種
類の凹凸パターンのうちのいずれか２パターンは、反射
板表面内で互いに平行移動させたもの、回転移動させた
ものおよび表裏反転させたもののうちの少なくとも平行
移動を含む１または複数の関係で、かつ不規則的に配置
され、近隣付近の画素同士が反射特性の異なる凹凸パタ
ーンを確実に有することによって、表示ムラが生じな
い。また入射光の平行度が高い場合でも、周期的な反射
特性の変化が生じないので、反射光の干渉を確実に防止
することができる。
【００５３】また本発明によれば、上述したような反射
特性を有する反射型液晶表示装置が実現でき、明るくペ
ーパホワイトであって継ぎ目がなくて干渉色のない優れ
た表示品位を得ることができる。
特性を有する反射型液晶表示装置が実現でき、明るくペ
ーパホワイトであって継ぎ目がなくて干渉色のない優れ
た表示品位を得ることができる。
【００５４】また本発明によれば、上述したような凹凸
パターンによって、反射型液晶表示装置の干渉色をさら
に防止して表示品位を高めることができる。
パターンによって、反射型液晶表示装置の干渉色をさら
に防止して表示品位を高めることができる。
【００５５】また、反射型液晶表示装置は、複数の配線
およびスイッチング素子の少なくとも一部を覆って凹凸
状の表面を有する絶縁層を形成することによって、絶縁
層上の画素領域毎に凹凸状の画素電極を形成することが
でき、広い領域にわたって入射光に対して、観測者の方
向へ散乱する光の強度を増加させることができる。
およびスイッチング素子の少なくとも一部を覆って凹凸
状の表面を有する絶縁層を形成することによって、絶縁
層上の画素領域毎に凹凸状の画素電極を形成することが
でき、広い領域にわたって入射光に対して、観測者の方
向へ散乱する光の強度を増加させることができる。
【００５６】また本発明によれば、上述したような反射
板および反射型液晶表示装置を確実かつ容易に作成する
ことができる。
板および反射型液晶表示装置を確実かつ容易に作成する
ことができる。
【図１】本発明の一実施形態である反射板および反射型
液晶表示装置の作成に用いられるマスク１ａを示す平面
図である。
液晶表示装置の作成に用いられるマスク１ａを示す平面
図である。
【図２】前記マスク１ａの凹凸パターンの関係を示す図
である。
である。
【図３】本発明の第１実施形態である反射板１３の製造
方法を段階的に示す断面図である。
方法を段階的に示す断面図である。
【図４】一般的な反射板の製造方法の中の露光工程を説
明するための斜視図である。
明するための斜視図である。
【図５】前記マスク１ａを用い、位置をかえて複数回の
露光を行った場合の反射板１３の反射特性の変化を示す
図である。
露光を行った場合の反射板１３の反射特性の変化を示す
図である。
【図６】入射光の平行度が高い場合の反射板１３の反射
特性を示す図である。
特性を示す図である。
【図７】本発明の第２実施形態である反射型液晶表示装
置３５を示す断面図である。
置３５を示す断面図である。
【図８】反射型液晶表示装置３５を構成する基板３９ａ
となる基板３９と液晶パネル１１，１２を示す平面図で
ある。
となる基板３９と液晶パネル１１，１２を示す平面図で
ある。
【図９】反射板の表面に凹凸を形成するために用いられ
る従来技術のマスク１ｂの形状を示す平面図である。
る従来技術のマスク１ｂの形状を示す平面図である。
【図１０】ステッパ装置の露光ランプ１８による露光強
度分布を示す図である。
度分布を示す図である。
【図１１】位置をかえて複数回露光を行った場合の光強
度分布を示す図である。
度分布を示す図である。
【図１２】露光強度による凸部２１の形状の違いを示す
斜視図である。
斜視図である。
【図１３】露光強度による凸部２１の反射特性の違いを
示すグラフである。
示すグラフである。
【図１４】従来のマスク１ｂを用い、位置をかえて複数
回の露光を行った場合の反射板７１の反射特性の変化を
示す図である。
回の露光を行った場合の反射板７１の反射特性の変化を
示す図である。
【図１５】従来の反射板７１において、入射光の平行度
が高い場合の反射特性を示す図である。
が高い場合の反射特性を示す図である。
１ａ マスク ２，２ａ〜２ｇ 画素 ３〜５ 凹凸パターン ７〜９ 記号 １０，３９，３９ａ，５１ 基板 １３ 反射板 １７ 感光性樹脂膜 ２１ 凸部 ２２ 光反射膜 ３５ 反射型液晶表示装置 ３６ 一方基板部材 ３７ 他方基板部材 ３８ 液晶層 ４０ ＴＦＴ素子 ４１ ゲート電極 ４２ ゲート絶縁膜 ４３ 半導体層 ４４ ソース電極 ４５ ドレイン電極 ４６ 接続部材 ４７ 絶縁層 ４８ 反射画素電極 ４９ スルーホール ５４ 対向電極 Ａ〜Ｄ，Ｅ〜Ｈ 露光面
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 三ッ井 精一 大阪府大阪市阿倍野区長池町22番22号 シャープ株式会社内 (56)参考文献 特開 昭58−2821（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) G02F 1/1335 520 G02B 5/08 G02F 1/1343
Claims (6)
- 【請求項１】 マトリクス状に配列された複数の画素を
有する光反射型の表示装置に用いられる反射板におい
て、 該反射板表面の各画素に対応する領域は凹凸状であり、
１画素分の凹凸パターンは複数種類あり、その複数種類
のうち少なくとも１種類の凹凸パターンは複数個あり、 複数個ある特定種類の凹凸パターンのうちのいずれか２
パターンは、反射板表面内で互いに平行移動させたも
の、回転移動させたものおよび表裏反転させたもののう
ちの少なくとも平行移動を含む１または複数の関係であ
り、かつ不規則的に配置されていることを特徴とする反
射板。 - 【請求項２】 液晶層を介在して配置される一対の絶縁
性基板を有し、いずれか一方絶縁性基板の液晶層側に
は、光反射性を有する複数の画素電極がマトリクス状に
配列して配置され、透光性を有する他方絶縁性基板側か
ら入射した光を画素電極で反射して出射する反射型液晶
表示装置において、 前記画素電極の表面は凹凸状であり、１画素分の凹凸パ
ターンは複数種類ありその複数種類のうちの少なくとも
１種類の凹凸パターンは複数個あり、 複数個ある特定種類の凹凸パターンのうちのいずれか２
パターンは、画素電極表面内で互いに平行移動させたも
の、回転移動させたものおよび表裏反転させたもののう
ちの少なくとも平行移動を含む１または複数の関係であ
り、かつ不規則的に配置されていることを特徴とする反
射型液晶表示装置。 - 【請求項３】 マトリクス状に配列された複数の画素を
有する光反射型の表示装置に用いられる反射板の製造方
法であって、予め定められる基板上に感光性樹脂膜を形
成した後、所定のパターンを有するマスクを介して、感
光性樹脂膜を露光する工程を含む反射板の製造方法にお
いて、 前記マスクは、１画素分のパターンを複数種類有し、該
マスクまたは前記基板を移動して、前記感光性樹脂膜を
露光する工程を所定回数繰返した後、現像する工程を含
むことを特徴とする反射板の製造方法。 - 【請求項４】 前記マスクの少なくとも１種類の凹凸パ
ターンは複数個あり、複数個ある特定種類の凹凸パター
ンのうちのいずれか２パターンは、マスク表面内で互い
に平行移動させたもの、回転移動させたものおよび表裏
反転させたもののうちの少なくとも平行移動を含む１ま
たは複数の関係であり、かつ不規則的に配置されている
ことを特徴とする請求項３記載の反射板の製造方法。 - 【請求項５】 液晶層を介在して配置される一対の絶縁
性基板を有し、いずれか一方絶縁性基板の液晶層側に
は、光反射性を有する複数の画素電極がマトリクス状に
配列して配置され、透光性を有する他方絶縁性基板側か
ら入射した光を画素電極で反射して出射する反射型液晶
表示装置の製造方法であって、一方絶縁性基板上に形成
されたスイッチング素子の少なくとも一部を覆って該一
方絶縁性基板上に感光性樹脂膜を形成した後に、所定の
パターンを有するマスクを介して、感光性樹脂膜を露光
する工程を含む反射板型液晶表示装置の製造方法におい
て、 前記マスクは、１画素分のパターンを複数種類有し、該
マスクまたは前記一方絶縁性基板を移動して、前記感光
性樹脂膜を露光する工程を所定回数繰返した後、現像す
る工程を含むことを特徴とする反射型液晶表示装置の製
造方法。 - 【請求項６】 前記マスクの少なくとも１種類の凹凸パ
ターンは複数個あり、複数個ある特定種類の凹凸パター
ンのうちのいずれか２パターンは、マスク表面内で互い
に平行移動させたもの、回転移動させたものおよび表裏
反転させたもののうちの少なくとも平行移動を含む１ま
たは複数の関係であり、かつ不規則的に配置されている
ことを特徴とする請求項５記載の反射型液晶表示装置の
製造方法。
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28115396A JP3213242B2 (ja) | 1996-10-23 | 1996-10-23 | 反射板、反射型液晶表示装置およびその製造方法 |
| TW086115616A TW362163B (en) | 1996-10-23 | 1997-10-22 | Reflecting plate, reflection type liquid crystal display device and processes for manufacturing same |
| US08/955,632 US6313895B1 (en) | 1996-10-23 | 1997-10-23 | Reflecting plate, reflection type liquid crystal display device and processes for manufacturing same |
| CN97126077A CN1097745C (zh) | 1996-10-23 | 1997-10-23 | 反射板，反射式液晶显示装置及其制造方法 |
| KR1019970054490A KR100254753B1 (ko) | 1996-10-23 | 1997-10-23 | 반사판, 반사형 액정 표시 장치 및 그들의 제조 방법 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28115396A JP3213242B2 (ja) | 1996-10-23 | 1996-10-23 | 反射板、反射型液晶表示装置およびその製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10123508A JPH10123508A (ja) | 1998-05-15 |
| JP3213242B2 true JP3213242B2 (ja) | 2001-10-02 |
Family
ID=17635104
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP28115396A Expired - Fee Related JP3213242B2 (ja) | 1996-10-23 | 1996-10-23 | 反射板、反射型液晶表示装置およびその製造方法 |
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| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6313895B1 (ja) |
| JP (1) | JP3213242B2 (ja) |
| KR (1) | KR100254753B1 (ja) |
| CN (1) | CN1097745C (ja) |
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|---|---|---|---|---|
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| JP4352474B2 (ja) * | 1998-07-23 | 2009-10-28 | 凸版印刷株式会社 | 有機エレクトロルミネッセンス表示素子の製造方法 |
| TW480554B (en) * | 1999-07-22 | 2002-03-21 | Semiconductor Energy Lab | Semiconductor device and manufacturing method thereof |
| KR20020037758A (ko) * | 1999-10-21 | 2002-05-22 | 모리시타 요이찌 | 반사판, 그 제조방법, 표시소자, 표시장치 |
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