JP6625835B2 - 表示装置 - Google Patents

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Description

本発明は表示装置およびその製造方法に関する。本発明が開示する一実施形態は、表示装置の画素構造に関する。
有機エレクトロルミネッセンス(以下、有機ELと呼ぶ。)表示装置は、各画素に発光素子が設けられ、個別に発光を制御することで画像を表示する。発光素子は、一方を下部電極、他方を上部電極として区別される一対の電極間に有機EL材料を含む層(以下、「発光層」ともいう)を挟んだ構造を有している。
有機EL表示装置は、一方の電極が画素ごとに個別画素電極(単に、画素電極ともいう)として設けられ、他方の電極は複数の画素に跨がって共通の電位が印加される共通画素電極(共通電極ともいう)として設けられている。有機EL表示装置は、この共通画素電極に対し、個別画素電極から画素ごとに流す電流を制御することで、画素の発光を制御している。
特に、白色発光素子とカラーフィルタを組み合わせてフルカラーを実現する有機EL表示装置は、アレイ基板と、カラーフィルタ基板を貼り合わせて構成されるのが一般的である。アレイ基板は、行列状に配列された複数の発光素子を有している。カラーフィルタ基板は、例えばR(赤)、G(緑)、B(青)の三色が並ぶカラーフィルタと、各色のカラーフィルタを区画する遮光層(ブラックマトリックスとも呼ばれる)とが設けられている。
ところで、表示装置では、R(赤)画素、G(緑)画素、B(青)画素をサブ画素とし、これらのサブ画素を一組として一つの画素を構成する場合がある。表示装置では、画質の向上を図るために、サブ画素を含む画素の構造に工夫がされている。
たとえば、特許文献1は、液晶表示装置において、駆動回路チップの数を減らして表示装置の製造費用を減らし、また、表示装置の画質を向上するために、行列状に配列されている画素電極、及び該画素電極に連結されているスイッチング素子を各々有する複数の画素と、前記スイッチング素子に連結されており、行方向にのびている複数のゲート線と、前記スイッチング素子に連結されており、列方向にのびている複数のデータ線とを有し、各行は少なくとも2つのゲート線を有し、前記画素電極各々は第1側及び該第1側より前記データ線から遠い第2側を有しており、前記スイッチング素子は前記画素電極の第2側付近に位置する、との液晶表示装置を開示している。
また特許文献2は、反射型液晶表示装置において、位置をかえて複数回の露光を行った場合でも、継ぎ目なく表示装置を作成するために、反射板および表示品位マスクが、1画素分の凹凸パターンを複数種類有し、少なくとも1種類の凹凸パターンは複数個あり、複数個ある特定種類の凹凸パターンのうちのいずれか2パターンは、平行移動、回転移動、表裏反転のうちの少なくとも平行移動を含む1または複数の関係であり、かつ不規則的に配置されている。マスク1aを用いて感光性樹脂膜を露光して、凸部を有する反射板および反射型液晶表示装置を作成する、というものである。
特開2006−79104号公報 特開平10−123508号公報
有機EL表示装置のような自発光型の表示装置に求められる課題として、横方向へ出射される発光が無効成分になっており光の取出効率の向上を妨げていること、および、白色有機EL素子にカラーフィルタを用いる方式では、横方向へ出射される発光が光学的混色の一因となっていること、がある。
ここでいう光学的混色とは、屈折率が比較的大きな透明発光層中でほぼ等方的に発光した光の一部は発光層の界面で全反射してしまい発光層から外部に出ることができず、発光素子を出射した光の一部が発光層を伝播して横方向に伝わることで、他の画素のカラーフィルタを透過し、結果として意図しない発色を発生させる現象をいう。
本発明はこのような問題に鑑み、表示装置の光学的混色の低減を図ることを目的の一つとする。また、本発明は、外光反射の低減を図ることを目的の一つとする。また、本発明は、製造時においてカラーフィルタ開口形状が安定して同一形状に作成することができる開口形状とすることを目的の一つとする。
本発明の一実施形態に係る表示装置は、複数の画素が第1の方向と、第1の方向と交差する第2の方向とに、行列状に配置された表示領域を有する表示装置であって、複数の画素はそれぞれ、少なくとも一つのトランジスタと、トランジスタ上に、絶縁層を介して設けられた画素電極と、トランジスタのソース電極又はドレイン電極と、画素電極との接続箇所に設けられたコンタクトホールと、画素電極上に、前記画素電極の端部とコンタクトホールとを覆うように設けられたバンクと、画素電極の一部を露出するように、矩形、又は鈍角で形成された多角形でバンクに形成された開口部と、を有し、複数の画素のうち、第1の画素のコンタクトホール中心と、第1の画素と前記第1の方向または第2の方向に隣接する第2の画素のコンタクトホールの中心を結んだ線が、第1の方向または第2の方向と略平行であり、第1の画素の開口部の中心と前記第2の画素の開口部の中心とを結んだ線は、第1の方向または第2の方向と略平行であり、複数の画素の開口部が有する直線状の辺は、第1の方向、及び前記第2の方向のいずれとも角度を有することを特徴とする表示装置、である。
本発明の一実施形態に係る表示装置の構成を示す斜視図である。 本発明の一実施形態に係る表示装置の構成を示す平面図である。 本発明の一実施形態に係る表示装置の構成を示す断面図である。 本発明の一実施形態に係る表示装置の等価回路図である。 本発明の一実施形態に係る表示装置に設けられる画素の配置を示す平面図である。 本発明の一実施形態に係る表示装置に設けられる画素の配置を示す平面図である。 本発明の一実施形態に係る表示装置に設けられる絶縁層開口部の配置を示す平面図である。 本発明の一実施形態に係る表示装置に設けられる画素の配置を示す平面図である。 本発明の一実施形態に係る表示装置に設けられる画素の配置を示す平面図である。
以下、本発明の実施の形態を、図面等を参照しながら説明する。但し、本発明は多くの異なる態様で実施することが可能であり、以下に例示する実施の形態の記載内容に限定して解釈されるものではない。また、図面は説明をより明確にするため、実際の態様に比べ、各部の幅、厚さ、形状等について模式的に表される場合があるが、あくまで一例であって、本発明の解釈を限定するものではない。また、本明細書と各図において、既出の図に関して前述したものと同様の要素には、同一の符号を付して、詳細な説明を適宜省略することがある。
本明細書において、ある部材又は領域が、他の部材又は領域の「上に(又は下に)」あるとする場合、特段の限定がない限り、これは他の部材又は領域の直上(又は直下)にある場合のみでなく、他の部材又は領域の上方(又は下方)にある場合を含み、すなわち、他の部材又は領域の上方(又は下方)において間に別の構成要素が含まれている場合も含む。
本実施形態に係る表示装置100の構成を、図1を参照して説明する。表示装置100は、第1基板102に表示領域106が設けられている。表示領域106は複数の画素108が配列することによって構成されている。表示領域106の上面には第2基板104が設けられている。
第2基板104は表示領域106を囲むシール材110によって、第1基板102に固定されている。第1基板102に形成された表示領域106は、第2基板104とシール材110によって大気に晒されないように封止されている。このような封止構造により画素108に設けられる発光素子の劣化を抑制している。ただし、封止が目的であれば、特に第2基板104を設ける必要は無く、複数の画素108が設けられた表示領域106を覆うように、ガスバリア性の高い膜を形成して封止を行っても良い。
第1基板102は、一端部に端子領域114が設けられている。端子領域114は第2基板104の外側に配置されている。端子領域114は、複数の接続端子116によって構成されている。接続端子116には、映像信号を出力する機器や電源などと表示パネルとを接続する配線基板が配置される。配線基板と接続する接続端子116の接点は、外部に露出している。第1基板102には端子領域114から入力された映像信号を表示領域106に出力するドライバ回路112が設けられていてもよい。
図2〜図4を参照し、本実施形態に係る表示装置100の構成について説明する。図2は、本実施形態に係る表示装置100の構成を示す平面図である。図3は、本実施形態に係る表示装置100の構成を示す断面図である。図4は、本実施形態に係る表示装置の等価回路図である。
図2に示すように、第1基板102上に表示画面を形成する表示領域106には複数の画素108が、第1の方向L1(行)と、第2の方向L2(列)とに、行列状に配列されている。第1基板102上の周辺部には、他の要素として表示領域106に信号を入力する垂直走査回路、水平走査回路等が設けられていてもよい。
図3は、図2に示した一つの画素を通過するA―B間の断面図である。複数の画素108の各々は、複数の発光領域を有している。複数の発光領域の各々は、その周辺に設けられたバンク130によって、隣接する発光領域と分離されている。複数の発光領域の各々は、選択トランジスタ117と、白色光を発する発光素子120と、その上部に配置される赤、緑、青又は白のいずれかのカラーフィルタ122を有し、各色の光を発するサブピクセルを構成している。
発光素子120は、個別画素電極124(単に、画素電極とも言う)、有機層128、共通画素電極126(共通電極とも言う)の順に積層された構造を有している。個別画素電極124は各発光素子120に個別に設けられ、駆動トランジスタ118を介してサブピクセル毎に異なる電位が供給される。有機層128は発光層を含む。共通画素電極は全ての発光素子に共通して設けられる。
個別画素電極124は、有機層128で発生した光を共通画素電極126側に反射させるため、反射率の高い材料(たとえば、金属膜)で形成されていることが好ましい。或いは、個別画素電極124を金属膜と透明導電膜との積層構造とし、光反射面が含まれる構造としてもよい。
有機層128は複数の画素108に共通して設けられ、個別画素電極124及びサブピクセル間のバンク130を覆うように設けられる。有機層128については、図3のように、全ての発光素子に共通に設けられても良いし、発光色に応じて、個別画素電極上に独立して形成されても良い。
なお、図3で示すように、バンク130は個別画素電極124の周縁部を覆っている。有機層128と共通画素電極126は、個別画素電極124の上面からバンク130の上面に設けられる。発光素子120は、個別画素電極124、有機層128、共通画素電極126が重畳する領域が発光領域とみなすことができる。バンク130は、個別画素電極124の周縁部において、有機層128及び共通画素電極126を個別画素電極124から離隔している。このことから、バンク130は、発光領域を形成しているということもできる。
有機層128が、例えば有機EL層から成る場合、低分子系又は高分子系の有機材料を用いて形成される。低分子系の有機材料を用いる場合、有機層128は発光性の有機材料を含む発光層に加え、当該発光層を挟むように正孔注入層や電子注入層、更に正孔輸送層や電子輸送層等を含んで構成される。本実施形態においては、発光層は、白色発光を呈するものを用い、カラーフィルタによってフルカラー発光を実現している。なお、有機層128は、複数の発光層(例えば有機EL層)を重ねた、いわゆるタンデム型の構造を用いても良い。図3においては、有機層128が2層積層のように記載されているが、これに限らず、3層以上の積層であっても良いし、間に他の有機層を挟んでも良い。
共通画素電極126は、発光層で発光した光を透過させるため、透光性を有しかつ導電性を有するITO(酸化スズ添加酸化インジウム)やIZO(酸化インジウム・酸化亜鉛)等の透明導電膜で形成されていることが好ましい。または、共通画素電極126として、出射光が透過できる程度の膜厚で金属層を形成しても良い。
共通画素電極126上には、封止膜132が設けられる。封止膜132は、水分の浸入を遮断できる絶縁膜が好ましい。絶縁膜として無機絶縁膜又は有機絶縁膜を用いることができる。
例えば、絶縁膜として無機絶縁膜を使用する場合、酸化ケイ素(SiOx)、窒化系ケイ素(SiNx)、酸化窒化ケイ素(SiOxNy)、窒化酸化ケイ素(SiNxOy)、酸化アルミニウム(AlOx)、窒化アルミニウム(AlNx)、酸化窒化アルミニウム(AlOxNy)、窒化酸化アルミニウム(AlNxOy)等の膜を使用することができる(x、yは任意)。また、これらの膜を積層した構造を使用してもよい。成膜方法としてはプラズマCVD法やスパッタリング法を用いることができる。
絶縁膜として有機絶縁膜を使用する場合、ポリイミド樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、シリコーン樹脂、フッ素樹脂、シロキサン樹脂等の膜を使用することができる。また、これらの材料を積層した構造を使用してもよい。成膜方法としては蒸着法や蒸着重合法を用いることができる。
封止膜132としては更に、上記の無機絶縁膜及び有機絶縁膜を組み合わせて積層した構造を使用してもよい。
第1基板102には、シール材110によって第1基板102との間隔を保持された透明な第2基板104が被せられている。これら第2基板104、シール材110及び封止膜132によって囲まれた空間には、例えば透明なエポキシ樹脂からなる充填剤134が充填されていても良い。なお、第2基板は、第1基板に対向するため、対向基板とも称する。
図2には示していないが、表示領域は、複数の開口部を有する第1の遮光層136で覆われている。第1の遮光層136は、カラーフィルタ122の上方に(第2基板104の側に)配置され、発光領域を開口する複数の開口部142を有している。
画素108は、複数の副画素(サブピクセル)144を備えている。開口部142は、副画素(サブピクセル)144に対応して設けられている。尚、副画素(サブピクセル)144のことを単に画素ということもある。
図2において画素108は、点線で表される領域であり、副画素144は、点線で表される領域を4区画に分けた領域のうちの1つである。もちろん、4区画でなければならないわけではなく、RGBWの4色の場合には、点線で表される領域は4区画となるが、RGB等では3区画にもなるのであって、2以上の区画に分かれていてもよい。
図4は、図3で示す画素の等価回路図である。選択トランジスタ117は、ゲート信号線151に選択信号が与えられたとき、この選択信号と同期してデータ信号線153から与えられるデータ信号を駆動トランジスタ118のゲート電位として与え、容量素子152はそのゲート電位を保持する。電源線154に接続される駆動トランジスタ118は、当該ゲート電位に基づくドレイン電流を発光素子120に供給する。発光素子120はこのドレイン電流に基づく輝度で発光をする。
なお、図4のレイアウト及び図3で示す画素の等価回路図は一例であり、本発明の表示装置はこのような画素および回路構成に限定されない。例えば、駆動トランジスタ118の閾値電圧を補償する回路や、発光素子の発光を強制的に終了させるスイッチングトランジスタをさらに付加してもよい。
<画素の配列例1>
図5に本発明の一実施形態における画素の開口形状を示す。図5は開口部142、コンタクトホール138の場所と形状を示したものであるが、あくまで模式図であり、実際にはコンタクトホールが露出しているわけではない。図5に示した遮光層136が有する開口部142の形状は、略四角形の形状をしている。
また、開口部の形状は、本実施形態においては四角形の態様を示しているが、これに限定されるものではない。たとえば、円形の開口形状でもよい。ただし、たとえば五角形等の多角形では、開口部面積に対する辺の長さが長くなるため、製造に適さず、略四角形または円形等であることが望ましいといえる。また、四角形を選択したとしても、図面に示した正方形の態様を取ることが必須なわけではなく、略長方形でも構わない。もっとも、正方形に近いほうが、対称性が高く、後述の通り、外光反射の観点から優れる。すなわち、頂点が直線同士によって角をなさずとも、一定の曲率を有する曲線であってもよいことは当然である。
本実施形態においては、画素の開口部142は、それぞれ、副画素144として点線で示した四角形から、回転して傾いた形状となっている。そして、図5を見ると、第1の方向に隣り合う画素の開口部の中心を結ぶ線、第1の方向に隣り合う画素のコンタクトホールの中心を結ぶ線は、いずれも、第1の方向と略平行である。同様に、第2の方向に隣り合う画素の開口部の中心を結ぶ線、第2の方向に隣り合う画素のコンタクトホールの中心を結ぶ線は、いずれも、第2の方向と略平行である。
また、開口部が有する直線状の辺を延長させると、第1の方向、及び第2の方向のいずれとも角度を有している。これを、図5の平面図(模式図)で見ると、あたかも開口部が傾いた形状をしている。なお、この傾き、すなわち、前述の角度は、0度から90度まで任意の値を取ることができる。好ましくは、1つの開口部の辺が、第1の方向又は第2の方向となす角度のうち、より小さい値が、0度から45度の間であることが望ましい。これは後述の、開口部における外光反射(ちらつき)が、角度依存性を有するためである。なお、四角形の場合においては、この傾き(角度)は解像度との相関関係の中で好ましい値が変化する。
たとえば、開口部の大きさが一定程度小さく形成できるのであれば、1つの開口部のなす四角形における対角線の長さが十分小さくなるため、角度を45度に近づけることで、画素開口を高密度化することで高精細化を実現することができる。また、対称性が高くなるため、後述の通り外交反射を低減することができる。また、長辺同士の隣接箇所が低減するので、光学的混色低減を実現できる。
本実施形態においては、このような画素の配列構造を採ることによって、開口部に対称性を持たせることができるために、反射光に対する空間周波数が増大し、この結果、外光反射による虹模様のコントラストが低下し、それが視認されにくくなる。ここで、空間周波数とは、視角一度あたりの繰り返し数と定義され、単位はcpd(cycle per degree)である。本明細書においては、視角一度当たりの開口部の繰り返し数(或いは、単に視角一度当たりの開口部の数)である。そして、空間周波数の増大によって外光反射による二次模様のコントラストが低減する機序は、場所によって開口幅が大きく異なるという状態が低減するため、外光反射による虹模様の視野角依存性を低減できるというものである。
また、開口辺と開口辺が近接する辺が少ないことから、隣接するカラーフィルタに出射光が入り込む現象が低減され、光学的混色を防止できる。これは、長辺同士が近接することによって、たとえばバンクの斜面に当たった光が、隣接する画素のカラーフィルタ方向に出射すること等の現象が、開口辺と開口辺が近接する辺が少ないことによって低減されるためである。
また、カラーフィルタを略四角形にできるため、製造時においてカラーフィルタ開口形状が安定して同一形状に作成することができる。また、画素開口が四角形状であることから、一定面積に占める画素開口部の辺の量が減るため、製造時における寸法ばらつきを防止することができる。
また、カラーフィルタの開口部分を略四角形状にしても、コンタクトホールをカラーフィルタの開口部分外に配置可能であり、コンタクトホール部分が開口部とならないで済むことにより、反射特性が向上する。
なお、開口部の形状について、略四角形と円形では、略四角形の方が開口率を向上させることができる点で優位であるものの、製造プロセス上、完全な四角にすることは難しいため、本明細書における四角形とは、完全な四角形を意味するのではなく、略四角形を意味する。
<画素の配列例2>
図6に本発明の一実施形態における画素の開口形状を示す。本実施例は、開口部142、コンタクトホール138に加えて、絶縁層開口部140を設けたものである。
本実施形態における画素の開口部142の開口形状、コンタクトホール138の位置については、画素の配列例1と同様である。また、実際にはコンタクトホールが露出しているわけではないことも同様である。
本実施形態では、駆動トランジスタ上には、個別画素電極を平坦にするための平坦化膜を設けてもよく、また、平坦化膜上に、絶縁層131を設け、バンク130と、平坦化膜とが、絶縁層131を介さずに接触する領域である絶縁層開口部140を設ける。絶縁層開口部140は、図6で140として指示した箇所に設けることができる。絶縁層開口部140は、製造工程におけるリソグラフィー工程など(たとえばレジスト除去等)で使用された水分が、トランジスタ上に設けられた平坦化膜等にたまり、水分を透過しない絶縁層131によって保持されてトランジスタ等が劣化することを防止するために設けられるものである。
図6に示した遮光層136が有する開口部142の形状は、略四角形の形状をしているが、必ずしもこれに限定されるものではなく、頂点が直線同士によって角をなさず、一定の曲率を有する曲線であってもよいことは前述のとおりである。本実施形態においては、画素の開口部142は、それぞれ、副画素144として点線で示した四角形から、回転して傾いた形状となっている。この形状については、先に述べた画素の配列例1と同じである。
そして、本実施形態で設けられる絶縁層開口部140は、隣接する画素144の間に設けられる。図6では、絶縁層開口部140を第2の方向に隣接する画素144間に設けているが、第1の方向に隣接する画素144間に設けることも可能である。
本実施形態においては、このような画素の配列構造を採ることによって、対称性を持たせることができ、また、開口辺と開口辺が近接する辺が少ないことから、前記の通り光学的混色を防止できる。また、カラーフィルタを略四角形にできるため、製造時においてカラーフィルタ開口形状が安定して同一形状に作成することができる。また、画素開口が四角形状であることから、一定面積に占める画素開口部の辺の量が減るため、製造時における寸法ばらつきを防止することができる。カラーフィルタの開口部分を四角形状にしても、コンタクトホールをカラーフィルタの開口部分外に配置可能であり、コンタクトホール部分が開口部とならないで済むことにより、反射特性が向上する。
また、図7に示すように、平坦化膜とバンクとが、前述した開口部を通じて接触している領域があることによって、バンク形成後のフォトリソグラフィ工程や熱処理等を通じて、平坦化膜から脱離する水分や脱ガスを、バンクを通じて引き抜くことが可能であり、表示装置の劣化を防止することができる。なお、この開口部を、本明細書では絶縁層開口部140と称する。
(画素の配列例3)
本発明の一実施形態に係る表示装置の画素の配列を、図8を示して説明する。本実施形態において、開口部142の形状は、画素108を3か所開口する形状としたものである。この場合も、第1の方向に隣り合う画素の開口部の中心を結ぶ線、第1の方向に隣り合う画素のコンタクトホールの中心を結ぶ線は、いずれも、第1の方向と略平行である。同様に、第2の方向に隣り合う画素の開口部の中心を結ぶ線、第2の方向に隣り合う画素のコンタクトホールの中心を結ぶ線は、いずれも、第2の方向と略平行である。
このように配列することで、画素配列例3においても、光学的混色を防止できる。また、カラーフィルタを略四角形にできるため、製造時においてカラーフィルタ開口形状が安定して同一形状に作成することができる。また、画素開口が四角形状であることから、一定面積に占める画素開口部の辺の量が減るため、製造時における寸法ばらつきを防止することができる。また、開口辺と開口辺が近接する辺が少ないことから光学混色を防止することができる。カラーフィルタの開口部分を四角形状にしても、コンタクトホールをカラーフィルタの開口部分外に配置可能であり、コンタクトホール部分が開口部とならないで済むことにより、反射特性が向上する。
(画素の配列例4)
また、画素の配列例3において、絶縁層開口部140を設けることも可能である。この場合には、図9に示すように、隣接する画素144間に設けることが可能である。
このように画素配列例4によって、隣接する画素同士に距離を持たせることができるため光学的混色を防止できる。また、カラーフィルタを略四角形にできるため、製造時においてカラーフィルタ開口形状が安定して同一形状に作成することができる。また、画素開口が四角形状であることから、一定面積に占める画素開口部の辺の量が減り、製造時における寸法ばらつきを防止することができる。また、開口辺と開口辺が近接する辺が少ないことから光学混色を防止することができる。カラーフィルタの開口部分を四角形状にしても、コンタクトホールをカラーフィルタの開口部分外に配置可能であり、コンタクトホール部分が開口部とならないで済むことにより、反射特性が向上する。
以上、本発明の好ましい実施形態による表示装置100について説明した。本実施形態によれば、高精細な表示装置100を提供することができる。
以上の実施形態は単なる例示に過ぎず、本発明の技術的範囲はそれらには限定されない。当業者であれば、本発明の要旨を逸脱することなく、種々の変更が可能であろう。よって、それらの変更も当然に、本発明の技術的範囲に属すると解されるべきである。
100:表示装置
102、104:基板
106:表示領域
108:画素
110:シール材
112:ドライバ回路
114:端子領域
116:接続端子
117:選択トランジスタ
118:駆動トランジスタ
120:発光素子
122:カラーフィルタ
124:個別画素電極
126:共通画素電極
128:有機層
130:バンク
132:封止膜
131:絶縁層
134:充填材
136:遮光層(BM)
138:コンタクトホール
140:絶縁層開口部
142:開口部
144:サブピクセル
151:ゲート信号線
152:容量素子
153:データ信号線
154:電極線

Claims (5)

  1. 複数の画素が第1の方向と、前記第1の方向と交差する第2の方向とに、行列状に配置された表示領域を有する表示装置であって、
    前記複数の画素はそれぞれ、
    少なくとも一つのトランジスタと、
    前記トランジスタ上に、絶縁層を介して設けられた画素電極と、
    前記トランジスタを覆うと共に、前記トランジスタと前記画素電極との間に設けられた平坦化膜と、
    前記平坦化膜と前記画素電極との間に設けられた絶縁膜と
    記トランジスタのソース電極又はドレイン電極と、前記画素電極との接続箇所に設けられたコンタクトホールと、
    前記画素電極上に、前記画素電極の端部と前記コンタクトホールとを覆うように設けられたバンクと、
    前記画素電極の一部を露出するように、前記バンクに形成された第2開口部と、を有し、
    隣接する前記画素の所定方向の境界に、前記平坦化膜の一部を露出するように、前記絶縁膜に形成された第1開口部が設けられており、
    前記平坦化膜と前記バンクとは、前記第1開口部を介して互いに接しており、
    前記第1開口部は、前記第1の方向又は前記第2の方向のいずれか一に沿って平行移動した軌跡が前記コンタクトホール上を通り、かつ前記第1の方向又は前記第2の方向の他の一に沿って平行移動した軌跡が前記コンタクトホール上を通らず、前記第2開口部上を通る平面形状を有することを特徴とする表示装置。
  2. 前記第1開口部は、その開口端に少なくとも一の直線部分を有し、
    前記第1開口部の直線部分は、前記第1の方向及び前記第2の方向のいずれとも交わる方向に延在することを特徴とする、請求項1に記載の表示装置。
  3. 前記第2開口部は、その開口端に少なくとも一の直線部分を有し、
    前記第2開口部の直線部分は、前記第1の方向及び前記第2の方向のいずれとも交わる
    方向に延在することを特徴とする、請求項1又は2に記載の表示装置。
  4. 前記第1開口部の直線部分と、前記第2開口部の直線部分とは、互いに平行に延在する部分を有することを特徴とする、請求項3に記載の表示装置。
  5. 前記表示装置は、第1の基板と、前記第1の基板と対向する第2の基板と、をさらに有し、
    前記複数の画素は、それぞれ前記第1の基板上に形成され、
    前記第2の基板の前記複数の画素に対応する位置に、カラーフィルタが形成されていることを特徴とする、請求項1乃至4のいずれか一に記載の表示装置。
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