JP2015072770A - 有機エレクトロルミネッセンス装置及びその製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
本発明にかかる有機エレクトロルミネッセンス装置は、絶縁基板上に薄膜トランジスタを有する複数の画素回路がマトリクス状に配置された第一の基板と、有機絶縁材料によって形成され、前記第一の基板上に配置される、前記第一の基板の表面の凹凸を平坦化する有機平坦化膜と、前記有機平坦化膜の前記第一の基板側とは反対側の面の一部と接して備えられる陽極と、無機絶縁材料によって形成され、前記陽極の端部を覆って前記有機平坦化膜の前記第一の基板側とは反対側の面の一部と接して備えられる無機バンクと、前記陽極及び前記無機バンクの、前記有機平坦化膜と接する側とは反対側を覆い、一部を前記有機平坦化膜と接して備えられるOLED層と、前記OLED層の前記有機平坦化膜側とは反対側を覆って備えられる封止膜と、を備えることを特徴とする。
本実施形態にかかる有機エレクトロルミネッセンス装置1は、絶縁基板上に薄膜トランジスタを有する複数の画素回路100がマトリクス状に配置された第一の基板60と、有機絶縁材料によって形成され、前記第一の基板60上に配置される、前記第一の基板60に形成した層の表面の凹凸を平坦化する平坦化膜50と、前記平坦化膜50の前記第一の基板60側とは反対側の面の一部と接して備えられる陽極20と、無機絶縁材料によって形成され、前記陽極20の端部を覆って前記平坦化膜50の前記第一の基板60側とは反対側の面の一部と接して備えられるバンク30と、前記陽極20及び前記バンク30の、前記平坦化膜50と接する側とは反対側を覆い、一部を前記有機膜50と接して備えられるOLED層40と、前記OLED層40の前記平坦化膜50側とは反対側を覆って備えられる封止膜80と、を備え、前記第一の基板60は、マトリックス状の複数の前記画素回路100を区画する、配線70を有し、前記OLED層40と前記平坦化膜50とは、平面視において前記配線70と重なる領域で接していることを特徴とする。
図4は、本発明に係る有機エレクトロルミネッセンス装置1の平面図である。有機エレクトロルミネッセンス1には、前述の図1に示される画素を複数配置して表示領域12が形成されている。表示領域12の外側には、表示領域12を囲んで周辺領域13(図4における斜線で示される領域)が形成されている。周辺領域13には各画素にデータを送信するための配線や画像表示に寄与しないダミー画素等が配置されている。
図7は、第四の実施形態に係る有機エレクトロルミネッセンス装置における画素部の断面図である。第一の実施形態と同じ機能を有する部位には同じ参照番号を付してある。
図9は、第五の実施形態に係る有機エレクトロルミネッセンス装置における画素部の断面図である。第四の実施形態と同じ機能を有する部位には同じ参照番号を付してある。
図11は第四の実施形態及び第五の実施形態の有機エレクトロルミネッセンス装置1の製造プロセスを示す図である。図2に示した工程と同様に、本発明の有機エレクトロルミネッセンス装置1は、TFT工程(S−1)と、OLED工程(S−2)と、に大きく分類される。また図2と同様に、平坦化膜50上に形成される陽極20と、バンクの形成工程は、TFT工程(S−1)に含まれることとして説明する。
Claims (12)
- 絶縁基板上に薄膜トランジスタを有する複数の画素回路がマトリクス状に配置された第一の基板と、
有機絶縁材料によって形成され、前記第一の基板上に配置される、前記第一の基板の表面の凹凸を平坦化する有機平坦化膜と、
前記有機平坦化膜の前記第一の基板側とは反対側の面の一部と接して備えられる陽極と、
無機絶縁材料によって形成され、前記陽極の端部を覆って前記有機平坦化膜の前記第一の基板側とは反対側の面の一部と接して備えられる無機バンクと、
前記陽極及び前記無機バンクの、前記有機平坦化膜と接する側とは反対側を覆い、一部を前記有機平坦化膜と接して備えられるOLED層と、
前記OLED層の前記有機平坦化膜側とは反対側を覆って備えられる封止膜と、を備える、
ことを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス装置。 - 前記無機バンクには、無機バンク開口部が形成されており、
前記OLED層は、前記無機バンク開口部を介して前記有機平坦化膜と接して備えられている、
ことを特徴とする請求項1に記載の有機エレクトロルミネッセンス装置。 - 前記第一の基板は、マトリックス状の複数の前記画素回路を区画する、配線を有し、
前記無機バンク開口部は、平面視において前記配線と重なる領域に配置されている、
ことを特徴とする請求項2に記載の有機エレクトロルミネッセンス装置。 - 前記無機バンクを形成する無機絶縁材料は、SiN、SiO、及びこれらの混合物からなる群から選択される材料である、
ことを特徴とする請求項1乃至3いずれか一項に記載の有機エレクトロルミネッセンス装置。 - 前記有機平坦化膜の厚さは、1.5μm以上、3.5μm以下であり、
前記無機バンクの厚さは、0.15μm以上、0.35μm以下である、
ことを特徴とする請求項1乃至4いずれか一項に記載の有機エレクトロルミネッセンス装置。 - 前記配線は、薄膜トランジスタに含まれるゲート電極、ソース電極及びドレイン電極のそれぞれと接続される、ゲート電極線(走査配線)、信号配線、及び薄膜トランジスタに電源を供給する電源供給線から選択されるいずれかの配線である、
ことを特徴とする請求項3に記載の有機エレクトロルミネッセンス装置。 - 絶縁基板上に薄膜トランジスタを有する複数の画素回路がマトリクス状に配置された第一の基板を形成する第一工程と、
前記第一の基板上に、前記第一の基板の表面の凹凸を平坦化する有機平坦化膜を、有機絶縁材料によって形成する第二工程と、
前記有機平坦化膜の前記第一の基板側とは反対側の面の一部と接する、OLED層を構成する陽極を形成する第三工程と、
前記陽極の端部と前記有機平坦化膜の前記第一の基板側とは反対側の面とを覆って、前記OLED層を構成する無機バンクを、無機絶縁材料によって形成する第四工程と、
前記陽極及び前記無機バンクの、前記有機平坦化膜と接する側とは反対側を覆い、一部を前記有機平坦化膜と接して備えられるOLED層を形成する第五工程と、
を含む、
ことを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法。 - 前記第四工程は、前記無機バンクに無機バンク開口部を形成し、前記有機平坦化膜の前記第一の基板側とは反対側の面の一部を露出させる工程を含み、
前記第五工程は、前記無機バンクに形成された無機バンク開口部の形成によって露出した前記有機平坦化膜の前記第一の基板側とは反対側の面の一部と、前記無機バンクの前記平坦化膜側とは反対側の面と、を接して覆う前記OLED層を形成する工程である、
ことを特徴とする請求項7に記載の有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法。 - 前記第一工程は、マトリックス状の複数の前記画素回路を区画する、配線を形成する工程を含み、前記第四工程で形成される前記無機バンク開口部は、平面視において前記配線と重なる領域に形成される、
ことを特徴とする請求項7又は8に記載の有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法。 - 前記無機バンクを形成する無機絶縁材料は、SiN、SiO、及びこれらの混合物からなる群から選択される材料である、
ことを特徴とする請求項7乃至9いずれか一項に記載の有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法。 - 前記有機平坦化膜の厚さは、1.5μm以上、3.5μm以下であり、
前記無機バンクの厚さは、0.15μm以上、0.35μm以下である、
ことを特徴とする請求項7乃至10いずれか一項に記載の有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法。 - 前記配線は、薄膜トランジスタに含まれるゲート電極、ソース電極及びドレイン電極のそれぞれと接続される、ゲート電極線(走査配線)、信号配線、及び薄膜トランジスタに電源を供給する電源供給線から選択されるいずれかの配線である、
ことを特徴とする請求項9に記載の有有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法。
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