CN111293147B - 一种显示用基板及其制备方法、显示装置 - Google Patents
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Classifications
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- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
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Abstract
本发明实施例提供一种显示用基板及其制备方法、显示装置，涉及显示技术领域，可以解决像素界定层与平坦层的粘附力不足，导致像素界定层在显影工艺后容易发生脱落的问题，该显示用基板包括衬底，设置在所述衬底上的平坦层，以及第一像素界定层；第一像素界定层设置在平坦层远离衬底的一侧，且与平坦层相接触；平坦层的材料和第一像素界定层的材料均为极性材料，平坦层的材料与水的接触角和第一像素界定层的材料与水的接触角的差值小于或等于60°。
Description
技术领域
本申请涉及显示技术领域，尤其涉及一种显示用基板及其制备方法、显示装置。
背景技术
电致发光显示装置由于具有自发光、低功耗、宽视角、响应速度快以及高对比度等优点，因而成为目前显示装置的主流发展趋势。
电致发光显示装置包括显示用基板以及用于封装显示用基板的封装层。显示用基板包括依次层叠设置在衬底上的平坦层和像素界定层，且平坦层与像素界定层相接触。
然而，由于平坦层的材料与像素界定层的材料之间的粘附力不足，因而会导致像素界定层在显影工艺后发生脱落的问题，造成像素不良，影响显示效果。
发明内容
本申请的实施例提供一种显示用基板及其制备方法、显示装置，可以解决像素界定层与平坦层的粘附力不足，导致像素界定层在显影工艺后容易发生脱落的问题。
为达到上述目的，本申请的实施例采用如下技术方案：
第一方面、提供一种显示用基板包括：衬底；设置在所述衬底上的平坦层；第一像素界定层；所述第一像素界定层设置在所述平坦层远离所述衬底的一侧，且与所述平坦层相接触；所述平坦层的材料和所述第一像素界定层的材料均为极性材料；所述平坦层的材料与水的接触角和所述第一像素界定层的材料与水的接触角的差值小于等于60°。
在一些实施例中，所述平坦层的材料与水的接触角的范围为40°～50°；所述第一像素界定层的材料与水的接触角的范围为60°～80°。
在一些实施例中，所述第一像素界定层能够遮光。
在一些实施例中，所述显示用基板还包括设置在所述第一像素界定层远离所述衬底一侧的第二像素界定层，所述第一像素界定层包括多个第一开口部，所述第二像素界定层包括多个第二开口部，所述第二开口部将所述第一开口部露出；显示用基板还包括设置在所述第一开口部；其中，所述第一像素界定层的材料为亲液材料，所述第二像素界定层的材料为疏液材料；所述亲液材料对溶解有机电致发光材料的溶液具有亲液性能，所述疏液材料对溶解有机电致发光材料的溶液具有疏液性能。
在一些实施例中，所述第一像素界定层的材料主要由黑色亚克力组成，所述第二像素界定层的材料主要由含氟亚克力组成。
在一些实施例中，所述第二像素界定层的材料还正性感光剂或者负性感光剂。
在一些实施例中，所述第一像素界定层远离所述衬底一侧的表面在所述衬底上的正投影与所述第二像素界定层靠近所述衬底一侧的表面在所述衬底上的正投影重合。
在一些实施例中，其特征在于，所述平坦层的材料为有机硅氧烷树脂。
第二方面、提供一种显示装置，包括上述的显示用基板。
第三方面、提供一种显示用基板的制备方法，包括：在衬底上形成平坦层；在所述平坦层上形成第一像素界定层；所述平坦层的材料和所述第一像素界定层的材料均为极性材料；所述平坦层的材料与水的接触角和所述第一像素界定层的材料与水的接触角的差值小于等于60°。
在一些实施例中，还包括：在所述第一像素界定层上形成第二像素界定层；所述第一像素界定层包括多个第一开口部，所述第二像素界定层包括多个第二开口部，所述第二开口部将所述第一开口部露出；所述第一像素界定层的材料为亲液材料，所述第二像素界定层的材料为疏液材料；所述亲液材料对溶解有机电致发光材料的溶液具有亲液性能，所述疏液材料对溶解有机电致发光材料的溶液具有疏液性能；采用喷墨打印的方法在所述第一开口部形成发光层。
在一些实施例中，形成所述第一像素界定层和所述第二像素界定层包括：在所述平坦层上依次涂覆第一负性光阻和第二负性光阻以形成层叠设置的第一薄膜和第二薄膜；对所述第一薄膜和所述第二薄膜进行曝光、显影，以形成所述第一像素界定层和所述第二像素界定层；或者，在所述平坦层上涂覆所述第一负性光阻以形成所述第一薄膜，对所述第一薄膜进行曝光、显影，以形成所述第一像素界定层；在所述第一像素界定层上涂覆所述第二正性光阻以形成所述第二薄膜；对所述第二薄膜进行曝光、显影，以形成所述第二像素界定层。
本发明实施例提供一种显示用基板及其制备方法、显示装置，该显示用基板包括衬底，设置在所述衬底上的平坦层，以及第一像素界定层；第一像素界定层设置在平坦层远离衬底的一侧，且与平坦层相接触；平坦层的材料和第一像素界定层的材料均为极性材料，平坦层的材料与水的接触角和第一像素界定层的材料与水的接触角的差值小于或等于60°。由于本发明实施例提供的显示用基板中的像素界定层包括第一像素界定层，而平坦层的材料与水的接触角和第一像素界定层的材料与水的接触角的差值小于或等于60°，即平坦层的材料和第一像素界定层的材料极性相差较小，使得平坦层与第一像素界定层之间的亲和力较大，进而使得平坦层与第一像素界定层的粘附力较好，即与像素界定层的粘附力较好，从而能够避免像素界定层在显影工艺后容易发生脱落的问题。
附图说明
为了更清楚地说明本申请实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本申请的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为本发明实施例提供的一种显示装置的结构示意图；
图2为本发明实施例提供的一种显示用基板的结构示意图一；
图3为本发明实施例图2中发光功能层的放大结构示意图；
图4为本发明实施例提供的一种极性材料与水的接触角大小的结构示意图一；
图5为本发明实施例提供的一种极性材料与水的接触角大小的结构示意图二；
图6为本发明实施例提供的一种显示用基板的结构示意图二；
图7为本发明实施例提供的一种显示用基板的结构示意图三；
图8为本发明实施例提供的一种制备显示用基板的流程示意图。
附图标记：
1-显示用基板；2-封装层；10-衬底；11-平坦层；12-第一像素界定层；13-薄膜晶体管；14-阳极；15-发光功能层；16-阴极；17-第二像素界定层；18-钝化层；21-中间层的封装薄膜；22、23-封装薄膜；120-第一开口部；170-第二开口部；150-发光层；151-第一发光功能层；152-第二发光功能层。
具体实施方式
下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本申请一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本申请保护的范围。
本发明实施例提供一种显示装置，如图1所示，包括显示用基板1以及用于封装显示用基板1的封装层2。
本发明实施例提供的显示装置可以是有机电致发光显示装置(Organic Light-Emitting Diode，简称OLED)；也可以是量子点电致发光显示装置(Quantum Dot LightEmitting Diodes，简称QLED)。
此外，本发明实施例提供的显示装置可以为电视、数码相机、手机、平板电脑等具有任何显示功能的产品或者部件。
此处，封装层2可以为封装基板；也可以为封装薄膜。在封装层2为封装薄膜的情况下，对于封装层2包括的封装薄膜的层数不进行限定，可以是封装层2包括一层封装薄膜，也可以是封装层2包括层叠设置的两层或两层以上封装薄膜。在一些实施例中，如图1所示，封装层2包括依次层叠设置的三层封装薄膜。
在封装层2包括依次层叠设置的三层封装薄膜的情况下，可选的，位于中间层的封装薄膜21的材料为有机材料，位于两侧的封装薄膜22和23的材料为无机材料。
此处，对于有机材料不进行限定，有机材料例如可以为PMMA(Polymethylmethacrylate，聚甲基丙烯酸甲酯)。对于无机材料不进行限定，示例的，无机材料可以为SiNx(氮化硅)、SiOx(氧化硅)或SiOxNy(氮氧化硅)中的一种或多种。
在此基础上，可以利用喷墨打印工艺(Ink Jet Printer，简称IJP)制作位于中间层的封装薄膜21。此外，可以利用化学气相沉积法(Chemical Vapor Deposition，简称CVD)分别制作位于两侧的封装薄膜22和23。
本发明实施例，封装层2包括依次层叠设置的三层封装薄膜，由于位于中间层的封装薄膜21的材料为有机材料，而有机材料的韧性较好，因而有利于显示装置实现弯曲显示。由于位于两侧的封装薄膜22和23的材料为无机材料，因而一方面，可以隔绝外界空气中的水氧；另一方面，可以保护位于中间层的封装薄膜21，防止位于中间层的封装薄膜21被划伤损坏。
本发明实施例还提供一种显示用基板1，可以应用于上述的显示装置中。如图2所示，该显示用基板1包括衬底10，设置在所述衬底10上的平坦层11，以及第一像素界定层12；第一像素界定层12设置在平坦层11远离衬底10的一侧，且与平坦层11相接触；平坦层11的材料和第一像素界定层12的材料均为极性材料，平坦层11的材料与水的接触角和第一像素界定层12的材料与水的接触角的差值小于或等于60°。
如图2所示，显示用基板1还包括设置在衬底10上的发光器件和像素驱动电路，像素驱动电路中用于驱动一个发光器件的部分包括多个(至少两个)薄膜晶体管13。发光器件包括阳极14、发光功能层15以及阴极16，阳极14和多个薄膜晶体管13中作为驱动晶体管的薄膜晶体管13的漏极电连接。上述的第一像素界定层12包括多个第一开口部120，一个发光器件设置在一个第一开口部120中。在一些实施例中，发光功能层15包括发光层150。在另一些实施例中，如图3所示，发光功能层15除包括发光层150外，还包括第一发光功能层151和第二发光功能层152，第一发光功能层151包括空穴传输层(hole transporting layer，简称HTL)和\或空穴注入层(hole injection layer，简称HIL)；第二发光功能层152包括电子传输层(election transporting layer，简称ETL)和\或电子注入层(election injectionlayer，简称EIL)，发光层150设置在第一发光功能层151和第二发光功能层152之间。
需要说明的是，当阳极14设置在发光层150靠近衬底10的一侧，阴极16设置在发光层150远离衬底的一侧时，第一发光功能层151相对于第二发光功能层152靠近衬底10一侧设置；当阳极14设置在发光层150远离衬底10的一侧，阴极16设置在发光层150靠近衬底10的一侧时，第二发光功能层152相对于第一发光功能层151靠近衬底10一侧设置。
此处，发光层150的材料可以为有机电致发光材料或者量子点发光材料。在此基础上，可以采用真空蒸镀技术形成发光层150，即利用掩膜板采用真空加热的方法使有机电致发光材料或量子点发光材料蒸发，在开口部成膜；也可以采用溶液制程的喷墨打印技术，将有机电致发光材料或量子点发光材料溶液滴入第一开口部120中，溶剂挥发成膜。由于喷墨打印技术适用于大分子有机电致发光材料和小分子有机电致发光材料，在形成发光层时，能够使得有机电致发光材料的利用率高，设备成本低，生产效率高，更易于大规模、大尺寸产品的生产，基于此，在一些实施例中，采用喷墨打印技术形成发光层150。
应当理解到，在显示用基板1还包括第一发光功能层151和第二发光功能层152时，第一发光功能层151和第二发光功能层152也可以采用喷墨打印技术形成。在此基础上，发光功能层15设置在第一开口部120中。
此外，溶解有机电致发光材料的溶剂为丙二醇甲醚醋酸酯(PGMEA)。
如图2所示，平坦层11设置在驱动电路和阳极14之间。在一些实施例中，平坦层11的材料为有机硅氧烷树脂。由于平坦层11的材料为有机硅氧烷树脂，而有机硅氧烷树脂材料的流平性较好，因而形成的平坦层11能够进一步提高驱动电路表面的平整度，从而使得发光器件可设置在较为平坦的表面上。
需要说明的是，“极性材料”是指包含极性分子的化合物。在化学中，极性指一个共价键或一个共价分子中的电荷分布的不均匀性，如果电荷分布的不均匀，则称该键或分子为极性。在此基础上，极性材料的极性大小与亲水性有关，极性材料越亲水，极性材料的极性越大；相反地，极性材料越疏水，极性材料的极性越小。
此外，“亲水性”是指带有极性基团的分子对水有较大的亲和能力，可以吸引水分子，或易溶解于水。“疏水性”是指一个分子与水相互排斥的物理性质。“亲水性”和“疏水性”可以根据极性材料与水的接触角来进行判断。
本发明实施例中，“接触角”是指固-液交界线之间的夹角θ，是湿润程度的量度。如图4所示，若极性材料与水的接触角θ小于90°时，则表示该极性材料的表面是亲水性的，即水易于润湿极性材料，并且接触角θ越小，表示润湿性越好；如图5所示，若极性材料与水的接触角θ大于90°时，则表示该极性材料的表面是疏水性的，即水不容易润湿极性材料，水易于在极性材料的表面移动，并且接触角θ越大，表示润湿性越弱。
在一些实施例中，平坦层11的材料与水的接触角θ的范围为40°～50°；第一像素界定层12的材料与水的接触角θ的范围为60°～80°。
此处，在平坦层11的材料为有机硅氧烷树脂的情况下，有机硅氧烷树脂由外围含有羟基的有机硅氧烷加热脱水聚合而成，导致其外围存在大量羟基，从而使得有机硅氧烷树脂的极性较高，即亲水性较强，也即平坦层11的材料与水的接触角θ较小。
应当理解到，根据“相似相溶”的原理，由极性分子组成的溶质易溶于极性分子组成的溶剂，难溶于非极性分子组成的溶剂；非极性分子组成的溶质易溶于非极性分子组成的溶剂，难溶于非极性分子组成的溶剂。也就是说，当两个极性材料的极性大小的差值越小时，两个极性材料的亲和力越大，即粘附力越好；相反地，当两个极性材料的极性大小的差值越大时，两个极性材料的亲和力越小，即粘附力越差。
由于本发明实施例提供的显示用基板1中的像素界定层包括第一像素界定层12，而平坦层11的材料与水的接触角和第一像素界定层12的材料与水的接触角的差值小于或等于60°，即平坦层11的材料和第一像素界定层12的材料极性相差较小，使得平坦层11与第一像素界定层12之间的亲和力较大，进而使得平坦层11与第一像素界定层12的粘附力较好，即与像素界定层的粘附力较好，从而能够避免像素界定层在显影工艺后容易发生脱落的问题。
基于上述可知，由于平坦层11的材料为有机硅氧烷树脂，而有机硅氧烷树脂为透明材料，没有遮光功能，又由于显示用基板1中的薄膜晶体管13在受到光照后很容易发生负飘，即导致薄膜晶体管13的阈值电压(Vth)较小，进而影响显示装置的显示效果。基于此，在一些实施例中，第一像素界定层12能够遮光。
本发明实施例中，由于第一像素界定层12能够遮光，因而可以确保显示用基板1中的薄膜晶体管13不会受到光照的影响，即，薄膜晶体管13的阈值电压不会改变，从而确保了显示装置具有良好的显示效果。
在一些实施例中，如图6所示，显示用基板1还包括设置在第一像素界定层12远离衬底10一侧的第二像素界定层17，第一像素界定层12包括多个第一开口部120，第二像素界定层17包括多个第二开口部170，第二开口部170将第一开口部120露出；第一像素界定层12的材料为亲液材料，亲液材料对溶解发光材料的溶剂具有亲液性能；第二像素界定层17的材料为疏液材料，疏液材料对溶解发光材料的溶剂具有疏液性能。
在第一像素界定层12包括多个第一开口部120，第二像素界定层17包括多个第二开口部170，第二开口部170将第一开口部120露出的情况下，在一些实施例中，第一像素界定层12远离衬底10一侧的表面在衬底10上的正投影大于第二像素界定层17靠近衬底10一侧的表面在衬底上的正投影；在另一些实施例中，参考图6可以看出，第一像素界定层12远离衬底10一侧的表面在衬底10上的正投影与第二像素界定层17靠近衬底10一侧的表面在衬底上的正投影重合。即第一像素界定层12和第二像素界定层17的横截面为正梯形，正梯形的左右两边没有凸出或凹陷，即处于平滑状态。
此处，由于溶解有机电致发光材料的溶剂为丙二醇甲醚醋酸酯，而丙二醇甲醚醋酸酯的极性与水的极性相同，因此，当第一像素界定层12的材料为亲液材料时，也即第一像界定层12为亲水材料，第一像素界定层12的材料与丙二醇甲醚醋酸酯具有较强的吸引力；当第二像素界定层17的材料为疏液材料时，也即第二像素界定层17为疏水材料，第二像素界定层17与丙二醇甲醚醋酸酯具有较强的排斥力。
本发明实施例，由于第一像素界定层12的材料为亲液材料，第二像素界定层17的材料为疏液材料，并且第一像素界定层12相对于第二像素界定层17靠近衬底一侧设置，因此，在采用喷墨打印技术形成发光层150时，第一像素界定层12对喷墨打印的墨水(即丙二醇甲醚醋酸酯)具有亲液性能，即具有较强的吸引力，从而可以保证墨水在第一开口部120均匀的铺展，提高成膜的均一性，而第二像素界定层17对喷墨打印的墨水具有疏液性能，即具有较强的排斥力，从而可以确保墨水不在第二像素界定层17的顶部铺展流入相邻像素的开口部中，污染相邻像素，能够提高显示装置的显示效果与产品质量。
在一些实施例中，第一像素界定层12的材料主要由黑色亚克力组成，第二像素界定层17的材料主要由聚丙烯酸酯组成。
此处，黑色亚克力与液晶显示面板中设置在彩膜基板上的黑矩阵的材料相同。第一像素界定层12和第二像素界定层17的材料还可以包括其它材料，例如添加剂等。
需要说明的是，黑色亚克力材料是一种具有较强的亲水性能，且能够遮光的材料，聚丙烯酸酯(也称为含氟亚克力)材料的具有较强的疏水性能，且为透明的材料；而黑色亚克力材料的极性与含氟亚克力材料的极性相差较小，即黑色亚克力材料与水的接触角θ和含氟亚克力材料与水的接触角θ的差值小于等于60°。在一些实施例中，含氟亚克力材料与水的接触角的范围为120°-150°。
基于上述可知，在第一像素界定层12的材料主要由黑色亚克力组成，第二像素界定层17的材料主要由含氟亚克力组成的情况下，由于黑色亚克力材料不仅能够遮光，而且黑色亚克力材料与水的接触角θ和平坦层11的材料与水的接触角θ的差值小于等于60°，黑色亚克力材料与水的接触角θ和含氟亚克力材料与水的接触角θ的差值小于等于60°，因此，当平坦层11和第二像素界定层17之间还包括第一像素界定层12时，第一像素界定层12不仅可以保证驱动电路的薄膜晶体管13不受到光照的影响，而且还能够防止第二像素界定层17和第一像素界定层12之间发生脱落的问题。
在一些实施例中，第二像素界定层17的材料还包括正性感光剂或者负性感光剂。
此处，负性感光剂可选用硝基苯胺(Nitroaniline)、蒽醌(Anthraquinone)、二苯甲酮和N-乙酰-4-硝基萘胺中任意一种或多种的组合；正性感光剂为光致产酸剂，例如可以为叔丁基苯基碘鎓盐全氟辛烷磺酸(Tert-ButylphenyliodoniumPerfluorooctanesulfonate，TBI-PFOS)、三苯基锍全氟丁烷磺酸(TriphenylsulfoniumPerfluorobutanesulfonate,TPS-PFBS)等。
本发明实施例中，由于第二像素界定层17的材料还包括正性感光剂或者负性感光剂，在制备第二像素界定层17时，不需要在第二像素界定层17的材料表面涂覆光刻胶，使得在曝光、显影之后不用进行剥离光刻胶的工艺，因此能够简化制作工艺。
考虑到驱动电路中的多个薄膜晶体管13容易受到水氧的侵蚀，导致薄膜晶体管13的阈值电压会发生飘移，影响薄膜晶体管13的稳定性。基于此，在一些实施例中，如图7所示，显示用基板1还包括钝化层18，钝化层18设置在驱动电路与平坦层11之间，钝化层18的材料为无机材料。
对于无机材料不进行限定，示例的，无机材料可以为SiNx(氮化硅)、SiOx(氧化硅)或SiOxNy(氮氧化硅)中的一种或多种。在一些实施例中，无机材料为SiO2(二氧化硅)。
本发明实施例中，由于显示用基板1还包括钝化层18，钝化层18的材料为无机材料，因此在将钝化层18设置在驱动电路与平坦层11之间时，钝化层18可以进一步隔绝水氧，确保薄膜晶体管13不会受到水氧的侵蚀，从而能够提高薄膜晶体管13的稳定性，进而提高显示装置的显示效果。
本发明实施例还提供一种显示用基板1的制备方法，用于制备上述的显示用基板1。
如图8所示，显示用基板1的制备方法包括：
S100、在衬底10上形成平坦层11。
此处，在衬底10上形成平坦层11包括在衬底10上涂覆一层平坦层11的材料。
S101、在平坦层11上形成第一像素界定层12；平坦层11的材料和第一像素界定层12的材料均为极性材料；平坦层11的材料与水的接触角和第一像素界定层12的材料与水的接触角θ的差值小于等于60°。
应当理解到，在平坦层11上形成第一像素界定层12之前，还包括在平坦层11上形成阳极14。形成阳极14的方法包括：在平坦层11上涂覆一层金属导电薄膜，对金属导电薄膜采用掩膜、曝光、显影以及刻蚀工艺以形成阳极14。
在一些实施例中，如图8所示，显示用基板1的制备方法还包括：
S102、在第一像素界定层12上形成第二像素界定层17，第一像素界定层12包括多个第一开口部120，第二像素界定层17包括多个第二开口部170，第二开口部170将第一开口部120露出；第一像素界定层12的材料为亲液材料，第二像素界定层17的材料为疏液材料；亲液材料对溶解有机电致发光材料的溶液具有亲液性能，疏液材料对溶解有机电致发光材料的溶液具有疏液性能。
S103、采用喷墨打印的方法在第一开口部120形成发光层150。
在显示用基板1包括发光功能层15的情况下，采用喷墨打印的方法在第一开口部形成发光功能层15。
此处，由于第一像素界定层12的材料为亲液材料，第二像素界定层17的材料为疏液材料，因而在采用喷墨打印的方法在第一开口部120形成发光层150时，第一像素界定层12对喷墨打印的墨水(即丙二醇甲醚醋酸酯)具有亲液性能，从而可以保证墨水在第一开口部120均匀的铺展，提高成膜的均一性，而第二像素界定层17对喷墨打印的墨水具有疏液性能，从而可以确保墨水不在第二像素界定层17的顶部铺展流入相邻像素的第一开口部120中，污染相邻像素，能够提高显示装置的显示效果与产品质量。
在一些实施例中，上述的步骤S101和S102中形成第一像素界定层12和第二像素界定层17包括：
S200、在平坦层11上依次涂覆第一负性光阻和第二负性光阻以形成层叠设置的第一薄膜和第二薄膜。
需要说明的是，“光阻”包括树脂、感光剂和溶剂。在本发明实施例中，第一负性光阻主要包括黑色亚克力，黑色亚克力材料既包含树脂又包含感光剂。第二负性光阻主要包括含氟亚克力和负性感光剂。此外，第一负性光阻和第二负性光阻的溶剂均可以采用乙二醇单乙酸酯，乙二醇甲醚乙酸酯，N-甲基吡咯、丙二醇、乙二醇烷基醚乙酸酯、丙二醇单甲醚乙酸酯、乙酸乙氧乙酯、二甲氧基乙醛、丙二醇甲醚醋酸酯、3-乙氧基丙酸乙酯、丙二醇甲醚(PM)和乙酸乙二醇乙醚中任意一种或多种的组合。负性感光剂的材料可以参考上述实施例，此处不再一一赘述。
S201、对第一薄膜和第二薄膜进行曝光、显影，以形成第一像素界定层12和第二像素界定层17。
在一些实施例中，对第一薄膜和第二薄膜采用曝光、显影工艺之前，还包括对第一薄膜和第二薄膜采用前烘的工艺以及曝光、显影后采用后烘的工艺。
或者，上述的步骤S101和S102中形成第一像素界定层12和第二像素界定层17包括：
S300、在平坦层11上涂覆第一负性光阻以形成第一薄膜，对第一薄膜进行曝光、显影，以形成所述第一像素界定层12。
S301、在所述第一像素界定层12上涂覆第二正性光阻以形成第二薄膜。
第二正性光阻主要包括含氟亚克力和正性感光剂。正性感光剂的材料可以参考上述实施例，此处不再一一赘述。
S302、对第二薄膜进行曝光、显影，以形成第二像素界定层17。
本发明实施例中显示用基板1的制备方法具有与上述的显示用基板1相同的特征和效果，因而对于显示用基板1的制备方法的特征和有益效果可以参考上述实施例，此处不再一一赘述。
以上所述，仅为本申请的具体实施方式，但本申请的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本申请揭露的技术范围内，可轻易想到变化或替换，都应涵盖在本申请的保护范围之内。因此，本申请的保护范围应以所述权利要求的保护范围为准。
Claims (9)
1.一种显示用基板，其特征在于，包括：
衬底；
设置在所述衬底上的平坦层；
第一像素界定层；所述第一像素界定层设置在所述平坦层远离所述衬底的一侧，且与所述平坦层相接触；所述第一像素界定层能够遮光；
所述平坦层的材料和所述第一像素界定层的材料均为极性材料；所述平坦层的材料与水的接触角和所述第一像素界定层的材料与水的接触角的差值小于等于60°；所述第一像素界定层的材料主要由黑色亚克力组成；
所述显示用基板还包括设置在所述第一像素界定层远离所述衬底一侧的第二像素界定层，所述第一像素界定层包括多个第一开口部，所述第二像素界定层包括多个第二开口部，所述第二开口部将所述第一开口部露出；
所述显示用基板还包括：设置在所述第一开口部的发光层；其中，所述第一像素界定层的材料为亲液材料，所述第二像素界定层的材料为疏液材料；所述亲液材料对溶解发光层的材料的溶液具有亲液性能，所述疏液材料对溶解有机电致发光材料的溶液具有疏液性能。
2.根据权利要求1所述的显示用基板，其特征在于，所述平坦层的材料与水的接触角的范围为40°～50°；所述第一像素界定层的材料与水的接触角的范围为60°～80°。
3.根据权利要求2所述的显示用基板，其特征在于，所述第二像素界定层的材料主要由聚丙烯酸酯组成。
4.根据权利要求3所述的显示用基板，其特征在于，所述第二像素界定层的材料还包括正性感光剂或者负性感光剂。
5.根据权利要求1所述的显示用基板，其特征在于，所述第一像素界定层远离所述衬底一侧的表面在所述衬底上的正投影与所述第二像素界定层靠近所述衬底一侧的表面在所述衬底上的正投影重合。
6.根据权利要求1所述的显示用基板，其特征在于，所述平坦层的材料为有机硅氧烷树脂。
7.一种显示装置，其特征在于，包括权利要求1-6任一项所述的显示用基板。
8.一种显示用基板的制备方法，其特征在于，包括：
在衬底上形成平坦层；
在所述平坦层上形成第一像素界定层；所述第一像素界定层与所述平坦层相接触；
所述平坦层的材料和所述第一像素界定层的材料均为极性材料；所述平坦层的材料与水的接触角和所述第一像素界定层的材料与水的接触角的差值小于等于60°；所述第一像素界定层能够遮光；所述第一像素界定层的材料主要由黑色亚克力组成；
在所述第一像素界定层上形成第二像素界定层；所述第一像素界定层包括多个第一开口部，所述第二像素界定层包括多个第二开口部，所述第二开口部将所述第一开口部露出；
所述第一像素界定层的材料为亲液材料，所述第二像素界定层的材料为疏液材料；所述亲液材料对溶解有机电致发光材料的溶液具有亲液性能，所述疏液材料对溶解有机电致发光材料的溶液具有疏液性能；
采用喷墨打印的方法在所述第一开口部形成发光层。
9.根据权利要求8所述的制备方法，其特征在于，形成所述第一像素界定层和所述第二像素界定层包括：
在所述平坦层上依次涂覆第一负性光阻和第二负性光阻以形成层叠设置的第一薄膜和第二薄膜；
对所述第一薄膜和所述第二薄膜进行曝光、显影，以形成所述第一像素界定层和所述第二像素界定层；
或者，
在所述平坦层上涂覆所述第一负性光阻以形成所述第一薄膜，对所述第一薄膜进行曝光、显影，以形成所述第一像素界定层；
在所述第一像素界定层上涂覆第二正性光阻以形成所述第二薄膜；
对所述第二薄膜进行曝光、显影，以形成所述第二像素界定层。
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Citations (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN1599056A (zh) * | 2003-09-19 | 2005-03-23 | 株式会社半导体能源研究所 | 发光器件及其制造方法 |
| KR100658291B1 (ko) * | 2005-11-30 | 2006-12-14 | 삼성에스디아이 주식회사 | 평판표시장치 및 그 제조방법 |
| CN103298897A (zh) * | 2010-12-24 | 2013-09-11 | 日东电工株式会社 | 活性能量射线固化型粘接剂组合物、偏光板、光学薄膜及图像显示装置 |
| CN103839964A (zh) * | 2012-11-20 | 2014-06-04 | 乐金显示有限公司 | 有机发光二极管显示装置及其制造方法 |
| CN104517997A (zh) * | 2013-10-02 | 2015-04-15 | 株式会社日本显示器 | 显示装置及其制造方法 |
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|---|---|---|---|---|
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| KR100658291B1 (ko) * | 2005-11-30 | 2006-12-14 | 삼성에스디아이 주식회사 | 평판표시장치 및 그 제조방법 |
| CN103298897A (zh) * | 2010-12-24 | 2013-09-11 | 日东电工株式会社 | 活性能量射线固化型粘接剂组合物、偏光板、光学薄膜及图像显示装置 |
| CN103839964A (zh) * | 2012-11-20 | 2014-06-04 | 乐金显示有限公司 | 有机发光二极管显示装置及其制造方法 |
| CN104517997A (zh) * | 2013-10-02 | 2015-04-15 | 株式会社日本显示器 | 显示装置及其制造方法 |
| CN107046048A (zh) * | 2016-09-30 | 2017-08-15 | 广东聚华印刷显示技术有限公司 | 像素界定层及其制备方法和应用 |
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Legal Events
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| PB01 | Publication | ||
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| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
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| GR01 | Patent grant | ||
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