CN1097745C - 反射板，反射式液晶显示装置及其制造方法 - Google Patents

Abstract

一种反射式液晶显示装置。对于各像素，掩模有多种基本不平整斑点图案，并对于至少一种基本不平整斑点图案形成两种或多种不平整区域。两个或更多个不平整区域的任意两个在不平整斑点图案的平行、旋转和反转关系中至少为平行移出的关系，且不平整区域为不规则布置。通过用掩模对感光树脂膜曝光，制造都具有凸起的反射板和反射式液晶显示装置。因无接缝出现，故可阻止干涉色而提高反射特性和显示特性。

Description

反射板，反射式液晶显示装置及其制造方法

本发明涉及一种在反射入射光的矩阵显示装置中使用的反射板，和制造该反射板的方法。特别是，本发明涉及一种反射式液晶显示装置，其通过在像素电极表面反射入射光来完成显示而不使用任何背景光，以及制造该液晶显示装置的方法。

在液晶显示装置中，通过反射来自外部的入射光而实现反射的显示方式已以其低能量耗费而著称，这是因为它不需要背景光作为光源以及其薄而轻的结构。在反射式液晶显示装置中，为得到较明亮的显示，需要准备反射板，它具有最佳的反射特性来增加散射到观察者的光强。为此，具有能够实现“纸样白”的不平表面的反射板的成形被认为是一项重要的技术。

未审查的日本专利JP-A 5-323371(1993)揭示了一项技术，该技术使用一感光树脂通过照射处理在反射板的表面形成不平整斑点。图9A和9B为俯视图，显示出用于在反射板的表面形成不平点的现有技术中的一个掩模1b。图9A为俯视图，显示出掩模1b的一个像素61。图9B为一示意图，显示出掩模1b的单元图案的排列关系。

掩模1b的像素61的形状设计成诸如约两百个圆形区域62随机排列并形成不平整斑点以排除反射光的干涉。例如，像素61是一正方形，它有长为100μm至1000μm的边63，并具有如符号64所标明的一单元图案。通过重复单元图案64的镜面反射，设计掩模1b以决定整个不平整斑点的排列。

通过掩模1b描述制造具有不平整斑点的反射板的方法。图4为一透视图，用来解释在普通反射板制造方法中的曝光步骤。在一预定基片10上形成一感光树脂膜17。将步进装置的球形曝光灯18设在基片10的感光树脂膜17之上，通过掩模1将感光膜17曝光。一次曝光所照射的面积取决于曝光灯18的大小，目前最大的对角线长度不超过约12.7cm。在制造对角线长度大于或约等于12.7cm的反射板时，通过移动掩模1或基片10的位置，将曝光步骤重复预定次数。例如，一次曝光在基片10上仅曝光了曝光面A。此后，通过移动掩模1或基片10，依次曝光不同曝光面B至H。例如，通过使用如传统掩模1b所具有的圆形区域62作为光屏蔽部分，可将感光树脂膜17的区域而不是圆形区域62曝光。

在曝过光的感光树脂膜17由显影剂显影时，在对应于圆形区域62的区域上形成圆柱。通过在120°至250°下的热处理，这些圆柱变圆并凸出而具有圆形表面。在基片10的整个表面上形成由金属薄膜制成的光反射膜覆盖在凸起部分。通过凸起光反射膜形成具有略为圆锥形的不平整斑点的一连续曲面。这样形成的具有不平整表面的反射板在朝着观察者的方向上增强了光强，从而在这种反射式液晶显示装置中使用时，它可提供一明亮纸样白的显示。

如上所述，现有技术中的掩模1b是通过重复像素61的单元图案的镜面反射，像素61具有圆形区域62。通过掩模1b反射板形成凸起，以便为使用反射板的反射式液晶显示装置可提供一明亮纸样白的显示。但是，如果反射板的尺寸较大，曝光步骤需重复多次，因而使反射特性变低从而导致显示装置中的显示品质变差。在下面将详细描述。

图10为一示意图，说明步进装置中曝光灯18的曝光强度分布。通过将在要曝光的区域23中的每个都具有相等曝光强度的点用曲线连接，将高曝光强度与低曝光强度的部分用等强线24表示，等强线24代表不平整的斑点的。曝光强度沿着箭头25靠近曲域26时变高而沿着箭头25靠近区域27时变低。在曝光强度中的这种差异导致了在曝光区23中的约3％的耗散，结果造成在曝光中的不均匀现象。

图11为一示意图，说明在将曝光步骤在不同位置重复多次的情况下的光强分布。例如，以曝光面A，B，C和D的次序进行曝光。仅对于曝光面A的曝光强度是逐渐改变的，而对于两次或多次曝光的不同位置曝光面间的每个接缝处28的曝光强度则是突然改变的。观察到的曝光强度的这种突然改变为曝光不均匀性。

图12A和12B是透视图，说明由曝光强度造成的凸起21之间在形状上的差异。图12A显示曝光强度高的情况，而图12B显示曝光强度低的情况。在基片10的表面形成的每个圆柱20在较高曝光强度时较细。通过热处理圆柱20，凸起21变圆并具有光滑表面。如果凸起21有一高度d，那么在高曝光强度时凸起21较陡，而在低曝光强度时凸起21较缓。因为曝光不均匀，凸起21有不同形状。

图13A和13B是说明由曝光强度导致的凸起21间的反射特性的差异的图表。图13A说明曝光强度高的情况，而图13B说明曝光强度低的情况。横轴表示方位角，纵轴表示反射强度。在高、低曝光强度的部分反射强度不同，这是由于凸起21的不同形状所造成。尤其，反射强度在高曝光强度部分的宽视角范围上变化很小而在低曝光强度部分的视角范围上变化很大。

图14A和14B是说明在不同位置中使用传统掩模1b的情况下，反射板71的反射特性的变化的示意图。图14A是说明反射特性的图案，图14B说明曝光面A和B的反射特性。标号65表示反射强度的变化最小的状态，反射强度变化按标号66，67和68的顺序逐渐增大。曝光面A和B由多个像素61形成，这些像素具有由标号65至68所表示的反射特性。虚线69是等值线，表示曝光灯18的曝光强度的分布。区域69a为一大量曝光区，并且曝光按照区域69b和69c的顺序变小。例如，通过第一次曝光，将面A曝光。通过这次单次曝光，不平整斑点因曝光的不均匀性而连续、缓慢地变化，如虚线69所示。由于这种变化，反射特性也逐渐改变，以致观察不到显示不均，如可能在其它情况中引起的干涉色。

然而，例如在面A和B上将曝光步骤重复多次时，由于曝光强度的突然变化将导致在面A和B面的接缝70的不均匀性突然变化。因此，在接缝处70的反射特性的突然变化导致反射分布中的差异因亮度不均匀而观察到。在这种显示的情况下，可观察到接缝处70为一直线以致显示品质降低。

图15为一示意图，说明在传统反射板71中入射光的平行度很高的情况下的反射特性。通过对掩模1b的相同单元图案的复制，反射板71的各个像素61具有在不平整斑点形状72和反射特性等方面均相同的重复图案。因此，对平行光而言，反射光的平行度也变高以致可观察到由反射光形成的干涉色从而严重降低显示质量。

本发明的目的在于解决上述问题并提供一种具有极好反射特性的反射板，提供制造该反射板的方法，并且提供一种具有改善的显示质量的反射式液晶显示装置和制造该反射式液晶显示装置的方法。

本发明提供一种用于光反射式液晶显示装置的反射板，该装置具有排列成矩阵形式的多个像素，反射板在其表面上包含对应于各像素的不平整区域。

其中，用两种或多种基本不平整斑点图案形成不平整区域。

本发明的特点在于，两种或多种基本不平整斑点图案的至少一种由多个包括旋转和反转图案的不平整斑点图案组成，并且不平整区域由随机地从两种或多种基本图案中选择出的任何图案形成。根据本发明，反射板用于具有多个以矩阵形式排列的像素的光反射式液晶显示装置，在其对应于各像素的表面部分表面不平整，从而根据入射光可增加向着观察者的散射光的强度。由于不平整区域由两种或多种基本不平整斑点图案形成，而且，可避免反射特性的突然改变，因而无接缝形成。而且，在平行光的情况下，可使各像素的反射特性不同以防止反射光的干涉从而获得良好的反射特性。这样，在将反射板用于光反射式液晶显示装置时，可防止由干涉和接缝导致的显示品质的下降。

根据本发明，反射板具有上述一种关系或多种关系，并且它的邻接像素具有反射特性不同的不平整斑点图案，以致不会发生显示不均匀。而且，甚至在平行光的情况下，也不会导致周期性反射特性改变以成功防止反射光的干涉。

而且，本发明提供了一种反射式液晶显示装置，包括：液晶层设在其间的一对绝缘基片；和在绝缘基片的一个液晶层侧面以矩阵阵列形式设置的多个光反射像素电极，这样来自另一光透射隔离基片侧面的光线在像素电极上被反射并发射出去，其中像素电极具有不平整表面，并且对各个像素使用其中两种或多种基本不平整斑点图案。

本发明特征在于两种或多种基本不平整斑点图案的至少其中之一是由多个包括旋转或反转图案的不平整斑点图案组成，并且通过随机地从两种或多种基本图案中选出任何图案形成各像素电极。

根据本发明，在反射式液晶显示装置中，有多个光反射像素电极排列成矩阵形式，并且各像素电极具有不平整表面以便显示装置可增加向着观察者散射的光强，因此根据入射光提供明亮的纸样白的显示。为每个像素提供两种或多种基本不平整斑点图案，从而可避免光反射的任何突然变化，并且无接缝形成。另外，即使在平行光的情况下，各像素具有不同的反射性，从而可阻止干涉色，结果是显示品质获得提高。

根据本发明，像素电极具有上述一种关系或多种关系，并且它们的邻接像素电极具有不同反射性的不平整斑点图案，从而没有不均匀显示发生。而且，即使在平行光的情况下，也不会导致周期性反射特性的变化以成功防止反射光的干涉。

最好，在一个绝缘基片的液晶层侧面上形成多个布线，它们相互绝缘并以直角相交；开关器件分别排列在由布线相交形成的方形像素区中，且由布线相连，而且具有一不平整表面的绝缘层覆盖在至少一部分布线与开关器件上；像素电极形成在绝缘层上并且通过形成于绝缘层上的通孔各自与开关器件相连；面对另一绝缘基片的液晶层侧面上的像素电极形成光透射运算电极。在反射式液晶显示装置中，形成具有不平整表面的绝缘层覆盖住至少一部分布线和开关器件，并且在绝缘层上的每个像素区中形成像素电极，而使像素电极具有不平整表面。对于入射光来说，通过这些像素电极可增加向观察者散射的光强而超过入射光。像素电极通过通孔与开关器件相连以使反射式液晶显示装置可提供明亮的纸样白的显示。

此外，本发明提供一种制造反射板的制造方法，该反射板用于具有多个以矩阵形式排列的像素的光反射式显示装置。反射板的制造方法包括下列步骤：在预定基片上形成一感光树脂膜，然后通过具有预定图案区域的掩模使感光树脂膜曝光，其中对于每个像素，掩模包括两种或多种基本不平整斑点图案，并且反射板的制造方法还包括这个步骤：在通过移动掩模或基片重复曝光感光树脂膜预定次数后，使感光树脂膜显影。

根据本发明，通过使用具有两种或多种基本不平整斑点图案的掩模多次重复曝光步骤可制造无缝反射板。

本发明的特点还在于，两种或多种基本不平整斑点图案的至少其中之一由多个不平整斑点图案组成，不平整斑点图案包括一种基本不平整斑点图案的旋转图案和一种基本不平整斑点图案的反转图案，并且通过从两种或多种基本图案中随机选出的任何图案形成不平整区域。

根据本发明，掩模对于至少一种基本不平整斑点图案包括多个不平整区域，从而可简化其设计。任何两个图案均具有上述一种关系或多种关系，因此容易可靠地形成多个具有不同反射特性的不平整斑点图案，而提供一种具有良好反射特性的反射板。

而且，本发明提供一种制造反射式液晶显示装置的方法，该装置包括液晶层设置其间的一对绝缘基片，并且在绝缘基片的一个液晶层侧将多个光反射像素电极排列在一个矩阵阵列中以便在像素电极上反射来自另一光透射绝缘基片侧的光线并发射出去，该方法包括下述步骤：

在绝缘基片上形成感光树脂膜以便至少覆盖住形成于一个绝缘基片上的开关器件的一部分；然后

通过具有预定图案区域的掩模曝光该感光树脂膜，

其中，掩模包括各个像素的两种或多种基本不平整斑点图案，

该方法还包括下述步骤：

在通过移动掩模或基片重复曝光感光树脂膜预定次数后，使感光树脂膜显影。

根据本发明，可通过使用具有两种或多种基本不平整斑点图案的掩模重复曝光步骤制造反射式液晶显示装置，不产生接缝并在显示品质上有所提高。

而且，本发明的特征在于两种或多种基本不平整斑点图案的至少其中之一由多个包括其旋转和反转图案的不平整斑点图案组成，并通过从两种或多种基本图案中随机选出的任何图案形成不平整区。

根据本发明，掩模对于至少一个基本不平整斑点图案包括多个不平整区，从而可简化其设计。任何两个图案均具有上述一种关系或多种关系以致容易而可靠地形成多个具有不同反射特性的不平整斑点图案，因而提供具有良好反射特性的反射板。

从下面参照附图的具体描述中，将更清楚本发明的其它和进一步的目的、特征及优点：

图1为一俯视图，示出根据本发明的一实施例的用于制造反射板和反射式液晶显示装置的掩模1a；

图2为示出掩模1a的不平整斑点图案的关系的示意图；

图3A至3E为剖视图，显示出根据本发明的第一个实施例制造反射板13的方法步骤；

图4为用于说明传统反射板制造方法中的曝光步骤的示意图；

图5A和5B为说明在用掩模1a将曝光步骤在不同位置重复多次时反射板13的反射特性的变化的示意图；

图6为示意图，说明在入射光的高平行度情况下反射板13的反射特性；

图7为剖视图，示出根据本发明的第二个实施例的反射式液晶显示装置35；

图8为俯视图，显示出形成基片39a的基板39和构成反射式液晶显示装置35的液晶面板11和12；

图9A和9B为俯视图，显示出用于在反射板的表面上形成不平整斑点的现有技术的掩模1b的形状；

图10为说明通过步进装置的曝光灯18得到的曝光强度的示意图；

图11为说明在不同位置多次重复曝光步骤时的光强分布的示意图；

图12A和12B为透视图，说明由于曝光强度造成的凸起21间形状的差异；

图13A和13B为说明由于曝光强度造成的在凸起21间的反射特性差异的示意图；

图14A和14B为说明在使用现有技术的掩模1b在不同位置多次重复曝光步骤时反射板71反射特性的变化的示意图；

图15为说明在入射光的平行度很高时现有技术的反射板71反射特性的示意图。

现在参考附图，详细描述本发明的优选实施例。

图1为一俯视图，显示出根据本发明的实施例的用于制造反射板的掩模1a和反射式液晶显示装置，图2为显示出掩模1a的不平整斑点图案的关系的示意图。反射板用于具有多个以矩阵形式排列的像素的显示装置中。另一方面，反射式液晶显示装置具有多个以矩阵形式排列的像素。掩模1a具有各像素2的两种或多种基本不平整斑点图案。例如，像素2a至2c具有不同的基本不平整斑点图案3，4和5。

如各个不平整斑点图案3至5所具有的圆形区域6，通过与形成于反射板和构成显示装置的基片上的圆柱形凸起相对应的遮光部分举例说明。剩下的区域为光透射区。例如圆形区域6的尺寸和排列是用CAD(计算机辅助设计)设计的，以使基片上的各像素2的凸起可随机排列。例如，设计圆形区域6使它们具有至少2μm的间隙，以防止相邻凸起在形成时相连，以致在一个像素2上形成的凸起的底部的总面积占像素2总面积的约80％。这里，通过三个基本不平整斑点图案3至5举例说明本实施例，但基本不平整斑点图案的数量如果多于一个的话可以是任何数量。然而，对于制造而言三至五个基本不平整斑点图案最好。

为了便于描述掩模1a的不平整斑点图案，不平整斑点图案3至5分别由标号7至9标出。掩模1a包括两种或多种基本不平整斑点图案3至5。而且，两种或多种基本不平整斑点图案的至少一个由包括其旋转和反转图案的多个不平整斑点图案组成，并且，通过随机地从两种或多种基本图案中选出的任何图案形成不平整区。

例如，像素2d的不平整斑点图案是由像素2a的不平整斑点图案7反转并平行移出的；像素2e的不平整斑点图案是由像素2b的不平整斑点图案8旋转并平行移出的；像素2f的不平整斑点图案是由像素2c的不平整斑点图案9反转并平行移出的；像素2g的不平整斑点图案是由像素2a的不平整斑点图案7平行移出的。

这样，通过由CAD随机排列两种或多种基本不平整斑点图案3至5并通过将不平整斑点图案3至5平行移动，旋转和反转，对所有的像素2安排凸起的排列以形成掩模1a。通过随机地多次使用两种或多种基本不平整斑点图案3至5，可容易地形成多个反射特性不同的不平整斑点图案以简化掩模1a的设计。本实施例是在三种基本不平整斑点图案均为多个的情况下进行描述的。但是，如果对于至少一种基本不平整斑点图案形成两个或更多个不平整区并且不平整区都有上述关系，那么可采用任何不平整斑点图案。

图3A至3E为剖视图，显示出根据本发明的第一个实施例制造反射板13的方法步骤。反射板13包括基片10，凸起21和光反射膜22。例如，基片10宽为320mm，长为400mm，并且它由一厚度为1.1mm的玻璃基片，如已知的Corning Company名为“7059”的商品所制成。基片10用感光树脂膜17由诸如已知的Tokyo Ohka Company的商品名为“OFPR-800”的保护材料，旋转喷涂于其一个表面上。旋转喷涂最好在转速为500至3000rpm情况下进行，并且感光树脂膜最好以1000rpm旋转喷涂30秒，以具有诸如1.2μm的厚度。随后，在100℃进行热处理30秒。因此，感光树脂膜17于基片10上形成，这如图3A所示。

下面将描述曝光步骤。参见图4，其为一透视图，用于解释在传统的反射板制造方法中的曝光步骤，基片10在其一表面上设置有用于并列两个例如对角线长为21.4cm的8.4型(对角线程度为8.4英寸的液晶板)的反射板的排列区11a和12a。由于受到一次曝光照射的区域受到限制，所以如果基片10的曝光量大于一次照射的区域，将各排列区11a和12a分别四等分为曝光面A至D和曝光面E至H，将它们顺序曝光。

例如，将作为掩模1的掩模1a设成面对曝光面A，位于其上形成有感光树脂膜17的基片10的上方。在对着基片10的掩模1a的反面，设有步进装置的圆形曝光灯18。曝光灯18用光线19通过掩模1a照射并曝光感光树脂膜17。在面A曝光后，通过移动掩模1a或基片10以相继的顺序分别曝光曝光面B至D和E至H。掩模1a仅以诸如平行或反转方式移动。

图3B为放大剖视图，显示具有图4中感光树脂膜17的基片10和掩模1。掩模1a上的圆形区域6是光遮蔽部分以使感光树脂膜17暴露在光19下，光19来自曝光灯18并透射过圆形区域6以外的其它区域。当用已知的TokyoOhka Company产品名为NMD-3的2.38％的溶剂作为显影剂进行显影时，在基片10的表面形成微型柱20，如图3C所示。微型圆柱20的圆形对应于掩模1a的圆形区6成形。

如此形成的微型柱20在120℃至250℃的温度下进行热处理。例如，在180℃的温度下进行热处理30分钟，微型柱20变圆，如图3D所示，形成具有光滑表面的凸起21。在基片10的整个表面，如图3E所示，形成由金属薄膜制成的光反射膜22以覆盖凸起21。例如，通过真空淀积铝形成光反射膜22并使其具有0.01至1.0μm的厚度。光反射膜22可由具有高反射率并容易形成薄膜的金属，如镍，铬或银，形成。

通过已描述的步骤可制造反射板13。反射板13的光反射膜22形成为轻微不平整的圆锥形状，该形状因凸起21形成连续曲面形成。通过光反射膜22，反射板13能够增加从入射光向着观察者散射的光强。而且，通过掩模1a的使用，对应于相邻像素2的反射板13的不平整区域为不同的不平整斑点图案，从而可使各像素2的反射特性不同以提供良好的反射特性。

图5A和5B为示意图，说明在用掩模1a将曝光步骤在不同位置重复多次时反射板13的反射特性的变化。图5A示出反射特性的图案，而图5B示出曝光面A和曝光面B的反射特性的变化。标号29表示反射强度变化最小的状态，按照标号30，31和32的顺序反射强度的变化逐渐增大。

反射板13的曝光面A和B由多个具有反射特性的像素2组成，如标号29至32所示。虚线33为等值线，表示由曝光灯18造成的曝光强度分布。区域33a为曝光强度高的部分，以33b和33c的顺序递增的区域这种曝光强度变低。甚至在曝光不均的情况下，如虚线33所示，将邻接像素2安排成具有不同的不平整斑点形状，以致如标号29至32所示，反射特性的差别是不连续的。这样，反射特性不与曝光不均匀相对应，以致在面A和面B间的接缝处28无突然变化。因此，当将反射板13置于显示装置中时，在现有技术中可能显示出现在接缝处28上的线，在这里却不明显从而提高显示品质。

图6为示意图，说明在入射光的高平行度情况下反射板13的反射特性。因为反射板13设置成相邻像素2的不平整斑点的形状不同，故造成反射特性的差异。因此，甚至在入射光如阳光那样平行度很高的情况下，光34也没有造成反射特性的周期性变化。因为根据反射特性，光34在不同方向上反射，所以即使在将反射板13用于显示装置的情况下也观察不到干涉色从而提高了显示品质。

在本实施例中，已描述了用于反射板13的感光树脂膜17的材料，如以正型举证说明的。但是，不管材料为负型还是正型，如果能至少在光刻步骤使用时形成图案，则任何材料都适用。例如Tokyo Ohka Company的产品OMR-83，OMR-850，NNR-20，OFPR-2，OFPR-830或OFPR-5000，ShipleyCompany的产品TF-20，1300-27或1400-27，Toray Company的产品“photonees”，Sekisui Fine Chemical Company的产品RW101，或NipponKayaku Company的产品R101或R633。而且，制造的掩模1a的图案形状的光透射部分的形成取决于感光树脂膜17属于正型或负型。

而且，基片10和液晶面板排列区11a和12a的尺寸不受本实施例的这些例子的限制，但对于例如提供具有12.7cm对角线长度的5型(对角线为5英寸的液晶板)的液晶面板或在基片10上仅形成一块液晶面板是足够的。类似的改动也可获得相似的效果。

图7为剖视图，示出根据本发明的第二个实施例的反射式液晶显示装置35，而图8为俯视图，显示出形成基片39a的基片39和构成反射式液晶显示装置35的两个液晶面板11和12。结合具有不平整表面的反射板13已描述了第一个实施例，而第二个实施例将描述包括具有不平整表面的反射像素电极48的宾-主型反射式液晶显示装置35。

反射式液晶显示装置35包括一基片部件36，另一基片部件37和液晶层38。用于基片39a的属于基片部件36的基片39的宽度14为300mm和长度15为400mm，以便其可并排排列两个具有214mm对角显示长度的8.4型液晶面板，并且其一个液晶面板对应于反射式液晶显示装置35。因为作为单次曝光可照射到的基片39的面积具有12.7cm或更短的对角线长度，所以将对应于基片39上的液晶面板的区域11和12分别四等分形成曝光面A至D和E至H，并且顺序曝光这些曝光面A至D和E至H。

在基片部件36中，将多个相互绝缘并以直角相交的布线排列在由绝缘玻璃，如已知的Coming Company的商品名为7059且厚度为1.1mm的材料制成的基片39a上。分别形成薄膜晶体管器件(如将被称为“TFT器件”)作为开关器件连接到在由布线相交形成的方形像素区中的布线。TFT器件40包括一门极41，一门极绝缘膜42，一半导体层43，一源极44，一个漏极45和一个连接件46。

绝缘层47具有用掩模1a经曝光形成的不平整表面，它与在第一个实施例中形成于基片39a上的表面相似，以便覆盖布线与TFT器件40的至少一部分。在绝缘层47上，具有不平整表面的反射式像素电极48以矩阵形式排列。反射像素电极48经由形成于绝缘层47中的各通孔49与连接部件46相连并且经由连接部件46与漏极45相连。用由聚酰亚胺，如Nissan KayakuCompany制造的SE-150，制成的取向膜材料将绝缘层47旋转喷涂于反射像素电极48上。

在另一基片部件37中，彩色滤光器52形成于光透射绝缘基片51上。彩色滤光器52包括红色滤光器52a，绿色滤光器52b和蓝色滤光器52c，每像素都设有这些滤光器。在彩色滤光器52上形成一个平膜53，其上形成有面对反射像素电极48的光透射反向电极54。仍采用旋转喷涂方法将取向膜材料用于涂敷平膜和反向电极。

在用取向膜材料旋转喷涂后，将基片39a和51在180℃温度下烧结和摩擦，并设置成使液晶分子的扭转角在基片部件36和37间为240度。基片39a和51彼此相对，以致各反射像素电极48与各滤光器52a至52c相互面对，并包括一4.5μm的隔层通过粘合剂互相连接在一起。作为液晶层38的液晶材料，使用了宾-主型液晶，通过与Merck Company制造的ZLI4792的向列相液晶，两色黑颜料和1.3％Merck Company制造的S-811的手性试剂混合制备该宾-主型液晶。通过使用手性试剂，晶格厚do与固有间距po的比率do/po为0.9。

因为用掩模1a使反射像素电极48的表面具有不平整斑点形状，所以各反射像素电极48的反射特性的差异是不连续的，即使在不同位置多次重复曝光步骤时也是如此。如同第一个实施例，在各曝光面A至D和E至H的接缝处不产生反射特性的突然变化。因此，接缝处的线不明显而导致极好的反射特性，提高了显示品质。

另外，甚至在平行光的情况下，通过掩模1a各邻接反射像素电极48设置成具有不同的不平整斑点。因此，反射特性无周期性变化发生，由于不同的反射特性使光线向各个方向反射，以致观察不到干涉色而提高了显示品质。

这里，基片39和39a可为不透明基片，如能呈现相似效果的硅基片。在使用这种不透明基片时，电路可容易地在基片39和39a上集成。另外，形成于绝缘层47上的反射像素电极48可以形成于TFT器件或布线上。在该修改中，可提高数值孔径实现明亮显示。

此外，反射式液晶显示装置不限于宾-主型。显示装置还可以为采用开关器件而非TFT器件的有源矩阵型或没有开关器件的简单矩阵型。

本发明可在其它具体形式中实施而不背离其精神和本质特性。本实例仅是说明性的而非限制性的，本发明的范围由所述权利要求书说明而非前面的描述说明，因而包含了不脱离权利要求书的含义和等效范围内的各种变形。

Claims (4)

1.一种反射板，用于具有多个以矩阵形式排列的像素的光反射式显示装置，反射板包括：

在其一个表面上具有对应于各像素的不平整区域，

其中，用两种或多种基本不平整斑点图案形成所述不平整区域，

其特征在于，两种或多种基本不平整斑点图案的至少其中之一由多个包括其旋转和反转图案的不平整斑点图案组成，并且通过随机地从两种或多种基本图案中选出的任何图案形成所述不平整区域。

2.一种反射式液晶显示装置，包括：

液晶层设在其间的一对绝缘基片；和在所述绝缘基片的一个液晶层侧以矩阵形式排列的多个光反射像素电极，其反射来自像素电极上另一光透射绝缘基片的光线，并发射出去，其中，所述像素电极具有不平整表面，并且对于各个像素使用所述两种或多种基本不平整斑点图案，

其特征在于，所述两种或多种基本不平整斑点图案的至少其中之一是由多个包括其旋转或反转图案的不平整斑点图案组成，并且通过随机地从所述两种或多种基本图案中选出的图案形成所述各像素电极。

3.一种制造反射板的制造方法，该反射板用于具有多个以矩阵形式排列的像素的光反射式显示装置，该方法包括的步骤包括：

在预定基片上形成感光树脂膜，然后通过具有预定图案区域的掩模曝光所述感光性树脂膜，

其中，对于各像素，掩模包括所述两种或多种基本不平整斑点图案，所述方法还包括在通过移动所述掩模或所述基片重复曝光所述感光树脂膜预定次数后，使所述感光树脂膜显影的步骤，

其特征在于，所述两种或多种基本不平整斑点图案的至少其中之一由多个不平整斑点图案组成，所述不平整斑点图案包括所述一种基本不平整斑点图案的旋转图案和反转图案，并且通过随机地从所述两种或多种基本图案中选出的任何图案形成所述不平整区域。

4.一种制造反射式液晶显示装置的制造方法，所述装置包括中间设置有液晶层的一对绝缘基片，和在一个所述绝缘基片的液晶层侧以矩阵形式排列的多个光反射像素电极反射来自像素电极上另一光透射绝缘基片的光线以，并发射出去，所述方法包括步骤：

在所述一绝缘基片上形成感光树脂膜以覆盖形成于所述绝缘基片上的开关器件的至少一部分；然后

通过具有预定图案区域的掩膜曝光所述感光树脂膜，

其中对于各个像素，所述掩模包括两种或多种基本不平整斑点图案，

所述方法还包括下述步骤：

在通过移动所述掩模或所述基片重复曝光所述感光树脂膜预定次数后，使所述感光树脂膜显影，

其特征在于，所述两种或多种基本不平整斑点图案的至少其中之一由多个包括其旋转和反转图案的不平整斑点图案组成，并通过从所述两种或多种基本图案中随机选出的任何图案形成所述不平整区域。

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