JP2003302742A - マスク、光反射膜付き基板、光反射膜の製造方法、および液晶表示装置、並びに電子機器 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 干渉縞の発生が少ない光反射膜を製造するた
めのマスク、それを用いてなる光反射膜、光反射膜の製
造方法、および干渉縞の発生が少ない光反射膜を備えた
光学表示装置、並びに干渉縞の発生が少ない光反射膜を
備えた電子機器を提供する。 【解決手段】 光透過部又は光不透過部を、ＲＧＢドッ
ト１００〜２，０００又は画面全体を一単位として、平
面方向にランダムに配列してある光反射膜付き基板を製
造するためのマスクを用いて、ＲＧＢドット１００〜
２，０００又は画面全体を一単位として、当該複数の凸
部又は凹部を平面方向にランダムに配列した光反射膜付
き基板を作成する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、マスク、光反射膜
付き基板、光反射膜の製造方法、および光学表示装置、
並びに電子機器に関する。より詳細には、干渉縞の発生
が少ない光反射膜を製造するためのマスク、それを用い
てなる光反射膜付き基板、光反射膜の製造方法、および
干渉縞の発生が少ない光反射膜を備えた光学表示装置、
並びに干渉縞の発生が少ない光反射膜を備えた電子機器
にする。

【０００２】

【従来の技術】周知のように、薄型化や省電力化等が図
られることから、各種の電子機器における表示装置とし
て、液晶表示装置が広く用いられている。このような液
晶表示装置は、一対のガラス基板等の間に液晶を封入し
た状態で、シール材によって周囲を貼り合わせた構成が
一般的である。そして、このような液晶表示装置を搭載
した電子機器は、液晶表示装置を外部からの衝撃などか
ら保護すべく、当該液晶表示装置の観察側（すなわち、
表示を視認する観察者の側）に、保護板を配設した構成
が採られている。かかる保護板は、通常、光透過性を有
する材料（例えば、透明プラスチックなど）からなる板
状部材である。

【０００３】しかしながら、このような保護板における
液晶表示装置との対向面を完全な平滑面とすることは困
難であり、微細な凹凸が存在している場合が多い。そし
て、このような保護板を液晶表示装置に配設した場合、
表面の微細な凹凸に起因して表示品位が著しく低下して
しまうという問題があった。このように表示品位が低下
する原因の一つとして、液晶表示装置における観察側の
基板と保護板との間隔が、保護板の表面に存在する凹凸
に応じてばらつくことが挙げられる。すなわち、このよ
うな間隔のばらつきに対応して、液晶表示装置からの出
射光が保護板を透過する際に干渉を生じ、その結果、干
渉縞が発生する。そして、発生した干渉縞が表示画像と
重なりあうことによって、表示品位の低下が引き起こさ
れると推定される。

【０００４】また、特開平６−２７４８１号公報には、
図２５に示すように反射型液晶表示装置１８０を開示し
ており、特開平１１−２８１９７２号公報には、図２６
に示すように反射透過両用型５００を開示しており、そ
れぞれ干渉縞の発生を低下すべく、高さが異なる複数の
凹凸構造４０４ａ、４０４ｂ（５０４ａ、５０４ｂ）を
設け、その上に高分子樹脂膜４０５（５０５）を形成
し、さらにその上に、連続する波状の反射電極４０９
（５０９）が形成されている。また、かかる反射電極を
有する液晶表示装置の製造工程が開示されており、例え
ば、図２７に開示されている。まず、図２７（ａ）に示
すように、ガラス基板６００上にレジスト膜６０２を全
面的に形成し、次いで、図２７（ｂ）に示すように、直
径が異なる複数の円からなるパターン６０４を介して、
露光する。その後、図２７（ｃ）に示すように現像し、
高さが異なる複数の角のある凸部又は凹部６０６ａ、６
０６ｂを設け、さらに、図２７（ｄ）に示すように、加
熱して、凸部又は凹部の角部を軟化させて、角落ちした
凸部又は凹部６０８ａ、６０８ｂを形成する。そして、
図２７（ｅ）に示すように、かかる凹凸構造の間６１０
に所定量の高分子樹脂６２０を充填して波状表面を有す
る連続層とした後、さらに、高分子樹脂膜６２０の上
に、スパッタリング法等の積層手段によって、連続する
波状の反射電極６２４を形成するものである。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、特開平
６−２７４８１号公報等に開示された反射型液晶表示装
置や反射透過両用型の液晶表示装置は、直径が異なる複
数の円等が規則的又は一部不規則に配列されたマスクを
用い、紫外線露光および現像を利用して、高さが異なる
複数の凹凸構造を設けることを意図しているものの、塗
布厚のばらつき等もあり、光干渉を有効に防止できるよ
うに高さを厳密に調整することは困難であった。また、
高さが異なる複数の凹凸構造上に、反射電極が形成され
ていることから、断線したり、ショートしやすいなどの
問題も見られた。さらに、開示された光反射膜の製造方
法は、工程数が多く、管理項目が多いという製造上の問
題も見られた。したがって、特開平６−２７４８１号公
報等に開示された光反射膜は、干渉縞の発生を有効に防
止することが困難であるばかりか、かかる光反射膜を、
安定して、しかも効率的に製造することは困難であっ
た。

【０００６】そこで、光透過部又は光不透過部をランダ
ムに配列したマスクを作成し、それを用いて上述した反
射型液晶表示装置や反射透過両用型の液晶表示装置を製
造することも考えられるが、干渉縞の発生は少なくなる
ものの、今度は、画面上に不定形のシミ模様が発現し、
表示品位が著しく低下するという新たな問題が見られ
た。そのため、本発明の発明者らは、以上の問題を鋭意
検討した結果、光反射膜における基材上に、複数の凸部
又は凹部をランダムに設けるとともに、複数の凸部又は
凹部を特定配列することによって、液晶表示装置等に用
いた場合に、不定形のシミ模様の発現を抑制しながら、
干渉縞の発生が少ない光反射膜が得られることを見出し
たものである。すなわち、本発明は、不定形のシミ模様
の発現を抑制しながら、干渉縞の発生が少ない光反射膜
付き基板が得られるマスク、そのようなマスクから得ら
れる光反射膜付き基板、そのような光反射膜の製造方
法、およびそのような光反射膜を設けた液晶表示装置、
並びにそのような光反射膜を有する電子機器を提供する
ことを目的としている。

【０００７】

【課題を解決するための手段】本発明によれば、光反射
膜付き基板を製造するためのマスクであって、ＲＧＢド
ット１００〜２，０００又は画面全体を一単位として、
光透過部又は光不透過部を平面方向にランダムに配列し
てあるマスクが提供され、上述した問題を解決すること
ができる。すなわち、光透過部又は光不透過部が平面方
向にランダムに配列してあることから、光反射膜付き基
板を製造した場合に、優れた光散乱効果を発揮し、干渉
縞の発生を有効に防止することができる。一方、このよ
うにランダム配列した場合に発生する不定形のシミ模様
を、光反射膜付き基板が用いられる液晶表示装置等のＲ
ＧＢドットの所定ドット以上を基本単位とすることによ
り、著しく低下させることができる。なお、光透過部又
は光不透過部の平面形状を制御する理由は、光反射膜の
基材を構成する感光性樹脂に、光透過部を透過した光が
照射された箇所が光分解して、現像剤に対して可溶化す
るポジ型と、光透過部を透過した光が照射された箇所が
感光し、現像剤に対して不溶化するネガ型とがあるため
である。

【０００８】また、本発明のマスクを構成するにあた
り、予め作成したＲＧＢドット３〜１２を一単位とした
光透過部又は光不透過部のランダムパターンを分割し
て、あるいはそのままランダムに配列して、ＲＧＢドッ
ト１００〜２，０００又は画面全体を一単位とした光透
過部又は光不透過部が構成してあることが好ましい。こ
のように構成することにより、光透過部又は光不透過部
のパターンに関する情報量が比較的少なくとも、大面積
のマスクを容易かつ短時間に設計することができる。

【０００９】また、本発明のマスクを構成するにあた
り、光透過部又は光不透過部を横一列方向又は縦一列方
向に帯状のランダムパターンを形成し、当該帯状のラン
ダムパターンを複数列において繰り返すことが好まし
い。このように構成することにより、少ない情報量によ
って、全体として好ましい反射特性を有するランダムパ
ターンを、容易かつ短時間に設計することが可能であ
る。また、横方向又は縦方向に、所定単位のランダムパ
ターンを繰り返すため、全体として好ましい反射特性を
有するランダムパターンを、再現性良く得ることができ
る。

【００１０】また、本発明のマスクを構成するにあた
り、光透過部又は光不透過部の径を３〜１５μｍの範囲
内の値とすることが好ましい。このように構成すること
により、干渉縞の発生が少ない光反射膜付き基板を効率
的に製造することができる。すなわち、光反射膜付き基
板を製造した際に、このような径を有する凸部又は凹部
であれば、その平面形状や配置パターンを、露光プロセ
スを用いて、正確に制御することができるためである。
したがって、得られた光反射膜付き基板において光を安
定に散乱させることができるため、干渉縞の発生を有効
に防止することができる。

【００１１】また、本発明のマスクを構成するにあた
り、光透過部又は光不透過部の径を異ならせ、複数種類
の光透過部又は光不透過部を設けることが好ましい。こ
のように構成することにより、干渉縞の発生が少ない光
反射膜付き基板をさらに効率的に製造することができ
る。すなわち、光反射膜付き基板を製造した際に、径が
異なる複数の凸部又は凹部が存在することにより、複数
の凸部又は凹部の配列がより分散することになる。した
がって、得られた光反射膜付き基板において光を適当に
散乱させることができるため、干渉縞の発生をさらに有
効に防止することができる。なお、このように光透過部
又は光不透過部の径を異ならせる場合、少なくとも一つ
の径を５μｍ以上の値とすることが好ましい。逆に、い
ずれも５μｍ未満の円又は多角形となると、光反射膜付
き基板を製造した際に、光を過度に散乱させる場合が多
くなり、光反射膜付き基板による反射光量が著しく低下
する場合があるためである。

【００１２】また、本発明の別の態様は、基材および反
射層を含む光反射膜付き基板であって、当該基材に形成
された複数の凸部又は凹部を、ＲＧＢドット１００〜
２，０００又は画面全体を一単位として、平面方向にラ
ンダムに配列することを特徴とする光反射膜付き基板で
ある。このように複数の凸部又は凹部の平面方向の配置
をランダムにすることによって、干渉縞の発生を有効に
防止することができる。また、複数の凸部又は凹部から
なるランダムパターンが、ＲＧＢドット１００〜２，０
００又は画面全体を一単位としていることから、不定形
のシミ模様の発生を低下させることができる。

【００１３】また、本発明のマスクを構成するにあた
り、光透過部又は光不透過部を横一列方向又は縦一列方
向に帯状のランダムパターンを形成し、当該帯状のラン
ダムパターンを複数列において繰り返すことが好まし
い。このように構成することにより、少ない情報量によ
って、全体として好ましい反射特性を有するランダムパ
ターンを、容易かつ短時間に設計することが可能であ
る。また、横方向又は縦方向に、所定単位のランダムパ
ターンを繰り返すため、全体として好ましい反射特性を
有するランダムパターンを、再現性良く得ることができ
る。

【００１４】また、本発明の光反射膜付き基板を構成す
るにあたり、複数の凸部又は凹部の径を３〜１５μｍの
範囲内の値とすることが好ましい。このように構成する
ことにより、凸部又は凹部の平面形状や配置パターン
を、露光プロセスを用いて、正確に制御することができ
るとともに、光を適度に散乱させることができるため、
干渉縞の発生を有効に防止することができる。

【００１５】また、本発明の光反射膜付き基板を構成す
るにあたり、複数の凸部の高さ又は凹部の深さを０．１
〜１０μｍの範囲内の値とすることが好ましい。このよ
うに構成することにより、凸部又は凹部の平面形状や配
置パターンを、露光プロセスを用いて、正確に制御する
ことができる。また、液晶表示装置等に用いられた場合
に、光を適当に散乱させることができるため、干渉縞の
発生を有効に防止することができる。

【００１６】また、本発明の光反射膜付き基板を構成す
るにあたり、複数の凸部又は凹部の径を異ならせ、複数
種類の凸部又は凹部を設けることが好ましい。このよう
に構成することにより、液晶表示装置等に用いられた場
合に、複数の凸部又は凹部の配置がより分散して、光を
適当に散乱させることができるため、干渉縞の発生をさ
らに有効に防止することができる。

【００１７】また、本発明の光反射膜付き基板を構成す
るにあたり、基材が、下方から第１の基材および第２の
基材を順次に含み、当該第１の基材に複数の凸部又は凹
部が設けてあり、連続層である第２の基材上に、反射層
が設けてあることが好ましい。このように構成すること
により、連続層である第２の基材を介して、反射層を比
較的なだらかな曲面とすることができるため、液晶表示
装置等に用いられた場合に、干渉縞の発生をさらに有効
に防止することができる。

【００１８】また、本発明の別の態様は、基材および反
射層を含む光反射膜付き基板の製造方法であって、ＲＧ
Ｂドット１００〜２，０００又は画面全体を一単位とし
て、光透過部又は光不透過部を平面方向にランダムに配
列したマスクを使用して、塗布された感光性樹脂に対し
て、露光プロセスによって、ランダムに配列された複数
の凸部又は凹部を有する第１の基材を形成する工程と、
当該第１の基材の表面に感光性樹脂を塗布して、露光プ
ロセスによって、連続した複数の凸部又は凹部を有する
第２の基材を形成する工程と、当該第２の基材の表面に
反射層を形成する工程と、を含むことを特徴とする光反
射膜付き基板の製造方法である。このように実施する
と、複数の凸部又は凹部からなる第１の基材、およびそ
の上の連続層である第２の基材を介して、反射層を比較
的なだらかな曲面とすることができる。そのため、製造
が容易であって、しかも液晶表示装置等に用いられた場
合に、干渉縞の発生が少ない光反射膜付き基板を効率的
に提供することができる。

【００１９】また、本発明のさらに別の態様は、基板間
に挟持された光学素子と、当該光学素子の観察側とは反
対側の基板に設けられた光反射膜と、を具備した光学表
示装置であって、当該光反射膜が、基材および反射層か
らなり、当該基材に形成された複数の凸部又は凹部がＲ
ＧＢドット１００〜２，０００又は画面全体を一単位と
して、平面方向にランダムに配列してあることを特徴と
する光学表示装置である。このように構成することによ
り、光反射膜が適度に光散乱させ、光学表示装置におい
て、干渉縞の発生を有効に防止することができる。ま
た、複数の凸部又は凹部からなるランダムパターンが、
ＲＧＢドット１００〜２，０００又は画面全体を一単位
としていることから、不定形のシミ模様の発生を低下さ
せることができる。

【００２０】また、本発明の光学表示装置を構成するに
あたり、光学素子の観察側の基板に光散乱膜が設けてあ
ることが好ましい。このように光反射膜を光散乱膜と組
み合わせて使用することにより、不定形のシミ模様の発
現を効果的に抑制することができる。

【００２１】また、本発明の光学表示装置を構成するに
あたり、光学表示装置の観察側に保護板が設けてあるこ
とが好ましい。このように構成することにより、光学表
示装置の機械的強度を高めることができるとともに、光
学表示装置の見映えを良くすることができる。

【００２２】また、本発明のさらに別の態様は、光反射
膜を具備した光学表示装置を含む電子機器であって、光
反射膜が、基材および反射層を含み、当該基材に形成さ
れた複数の凸部又は凹部がＲＧＢドット１００〜２，０
００又は画面全体を一単位として、平面方向にランダム
に配列してあることを特徴とする電子機器である。この
ように構成することにより、光反射膜が適度に光散乱さ
せ、電子機器において、不定形のシミ模様の発生を抑制
しつつ、干渉縞の発生を有効に防止することができる。
また、このような光反射膜を備えた電子機器であれば、
比較的表面が平坦であって、光散乱膜や保護板をさらに
組み合わせた場合であっても、見映えを良くすることが
できる。

【００２３】

【発明の実施の形態】以下、図面を参照して、本発明の
実施の形態について説明する。なお、言うまでもなく、
以下に示す実施の形態は、本発明の一態様を示すもので
あり、何ら本発明を限定するものではなく、本発明の技
術的思想の範囲内で任意に変更可能である。

【００２４】[第１実施形態]第１実施形態は、例えば、
図１に示すような光反射膜付き基板を製造するためのマ
スク１０であって、光透過部又は光不透過部をＲＧＢド
ット１００〜２，０００又は画面全体を一単位として、
平面方向にランダムに配列してあることを特徴とするマ
スクである。なお、光透過部又は光不透過部がランダム
に配列されているとは、端的には光透過部又は光不透過
部が無秩序に配列されていることを意味するが、より正
確には、マスクを単位面積ごとに切り分け、それらのマ
スクを重ねた場合に、それぞれのパターンが完全に異な
っているか、あるいは部分的に重なる箇所はあっても、
完全には一致しない状態を意味する。

【００２５】１．光透過部又は光不透過部 （１）形状 マスクの光透過部又は光不透過部を、独立した又は一部
重なった円（楕円を含む。以下、同様である。）および
多角形、あるいはいずれか一方の平面形状とすることが
好ましい。この理由は、光透過部又は光不透過部の平面
形状をこのように円又は多角形とすることにより、光反
射膜を製造するために露光プロセスを実施する際、樹脂
の凹凸配置を複雑にすることができるためである。ま
た、円や多角形は、基本図形であることから、マスク自
体の製造も容易になるためである。なお、好ましい多角
形としては、四角形、五角形、六角形、八角形等が挙げ
られる。

【００２６】（２）径および間隔 また、マスクにおける光透過部又は光不透過部の径を３
〜１５μｍの範囲内の値とすることが好ましい。この理
由は、光透過部又は光不透過部の径が３μｍ未満となる
と、光反射膜を製造する際に露光プロセスを用いたとし
ても、凸部又は凹部の平面形状や配置パターンを、正確
に制御することが困難となる場合があるためである。ま
た、光透過部又は光不透過部の径が３μｍ未満となる
と、マスク自体の製造も困難となる場合があるためであ
る。一方、光透過部又は光不透過部の径が１５μｍを超
えると、得られた光反射膜光において、光を適度に散乱
させることが困難となって、散乱特性が落ちて暗い反射
となる。したがって、マスクの光透過部又は光不透過部
の径を５〜１３μｍの範囲内の値とすることがより好ま
しく、６〜１２μｍの範囲内の値とすることがさらに好
ましい。

【００２７】また、マスクにおける光透過部又は光不透
過部の少なくとも一つの径を５μｍ以上の値とすること
が好ましい。すなわち、径が異なる光透過部又は光不透
過部があった場合に、少なくとも一つの光透過部又は光
不透過部における径を５μｍ以上の値とするものであっ
て、径が異なる他の光透過部又は光不透過部にあって
は、その径が５μｍ未満の値であっても良い。この理由
は、かかる光透過部又は光不透過部の平面形状がいずれ
も５μｍ未満の円又は多角形となると、得られた光反射
膜において、光を過度に散乱させる場合が多くなり、暗
い反射となる。ただし、光透過部又は光不透過部の径
が、過度に大きくなると、光の散乱効果が低下し、干渉
縞が発生する場合がある。

【００２８】また、マスクにおける光透過部又は光不透
過部を独立に配置した場合、その間隔（ピッチ）を３．
５〜３０μｍの範囲内の値とすることが好ましい。この
理由は、かかる光透過部又は光不透過部の間隔が３．５
μｍ未満の値になると、光透過部又は光不透過部の独立
性が低下する場合があるためである。一方、かかる光透
過部又は光不透過部の間隔が３０μｍを越えると、光透
過部又は光不透過部のランダム配置性が低下する場合が
あるためである。したがって、マスクにおける光透過部
又は光不透過部の間隔（ピッチ）を５〜２０μｍの範囲
内の値とすることがより好ましく、マスクにおける光透
過部又は光不透過部の間隔（ピッチ）を７〜１５μｍの
範囲内の値とすることがさらに好ましい。なお、かかる
光透過部又は光不透過部の間隔は、隣接する光透過部又
は光不透過部の中心から中心までの距離であって、１０
箇所以上の平均値である。また、マスクにおける光透過
部又は光不透過部を重なり合うようにさせた場合は、上
記数値より数μｍ低目に設定される。

【００２９】（３）種類 また、マスクにおける光透過部又は光不透過部の径を異
ならせ、２〜１０種類の光透過部又は光不透過部を設け
ることが好ましい。この理由は、このように径の異なる
光透過部又は光不透過部が存在することにより、干渉縞
の発生が少ない光反射膜をさらに効率的に製造すること
ができるためである。すなわち、このようなマスクを用
いて光反射膜を製造した際に、得られる凸部又は凹部の
配列がより分散して、光を適当に散乱させることができ
るためである。したがって、このような光反射膜を液晶
表示装置等に使用した場合に、干渉縞の発生をさらに有
効に防止することができることになる。

【００３０】なお、マスクにおける径が異なる光透過部
又は光不透過部からなるパターンの組み合わせとして、
下記の例を挙げることができる。 １）７．５μｍの六角形パターンと、９μｍの六角形パ
ターンとの組み合わせ ２）５μｍの六角形パターンと、７．５μｍの六角形パ
ターンと、９μｍの六角形パターンとの組み合わせ ３）４．５μｍの正方形パターンと、５μｍの正方形パ
ターンと、７．５μｍの六角形パターンと、９μｍの六
角形パターンと、１１μｍの六角形パターンと、の組み
合わせが好ましい。

【００３１】（４）面積比率 また、マスクの光透過部又は光不透過部の面積比率を、
全体面積に対して、１０〜６０％の範囲内の値とするこ
とが好ましい。この理由は、かかる面積比率が、１０％
未満の値になると、光反射膜を製造した際に、複数の凸
部又は凹部の占有面積が小さくなって平坦部が増加し、
光散乱効果が著しく低下する場合があるためである。一
方、かかる面積比率が、６０％を越えても平坦部が増加
し、光散乱効果が著しく低下する場合があるためであ
る。したがって、マスクの光透過部又は光不透過部の面
積比率を、全体面積に対して、１５〜５０％の範囲内の
値とすることがより好ましく、２０〜４０％の範囲内の
値とすることがさらに好ましい。なお、基材を構成する
感光性樹脂として、ポジ型を使用した場合には、光透過
部を透過した光が照射された箇所が光分解して、現像剤
に対して可溶化することから、マスクの光不透過部の面
積比率が問題となり、ネガ型を使用した場合には、光透
過部を透過した光が照射された箇所が光硬化し、現像剤
に対して不溶化することから、マスクの光透過部の面積
比率が問題となる。

【００３２】２．ランダム配列 （１）ランダム配列１ 第１の実施形態では、図１に示すように、ＲＧＢドット
１００〜２，０００又は画面全体を一単位として、光透
過部又は光不透過部を平面方向にランダムに配列してあ
ることを特徴とする。この理由は、かかる一単位中のＲ
ＧＢドットの数が１００ドット未満の値となると、光反
射膜を形成し、それを液晶表示装置等に使用した場合
に、不定形のシミ模様が顕著に視覚される場合が多いた
めである。また、一単位中のＲＧＢドットの数が１００
ドット未満では、干渉縞の抑制が不十分な場合があるた
めである。ただし、かかる一単位中のＲＧＢドットの数
が２，０００を越えると、ランダムパターンの情報量が
過度に多くなって、マスクの作成が困難となる場合があ
る。したがって、ＲＧＢドット３００〜１，５００を一
単位として、光透過部又は光不透過部を平面方向にラン
ダムに配列してあることがより好ましく、ＲＧＢドット
５００〜１，２００を一単位として、光透過部又は光不
透過部を平面方向にランダムに配列してあることがさら
に好ましい。

【００３３】ここで、下記表１を参照して、一単位中の
ＲＧＢドットの数と、マスクの光透過部又は光不透過部
の配置性と、それから得られた光反射膜を液晶表示装置
に使用した場合の干渉縞の発生と、同様の条件における
シミ模様の視覚性との関係を説明する。すなわち、表１
は、左欄に一単位中のＲＧＢドットの数を１〜１１６６
４個まで採ってあり、その中で、光透過部又は光不透過
部をランダム配置した場合と、規則配置した場合に分け
て、液晶表示装置干渉縞の発生と、シミ模様の視覚性と
を相対的に評価した結果である。この結果から、一単位
中のＲＧＢドットの数を比較的多くした条件、例えば、
１９２〜１１６６４個において、光透過部又は光不透過
部をランダム配置することにより、相対的に干渉縞の発
生を抑制できるとともに、シミ模様の視覚性についても
低下させることが理解できる。また、一単位中のＲＧＢ
ドットの数が比較的少ない条件、例えば、１〜４８個に
おいて、光透過部又は光不透過部をランダム配置した場
合には、干渉縞の発生の抑制効果が若干低下する一方、
顕著にシミ模様が視覚されるようになる場合があること
が理解できる。一方、光透過部又は光不透過部を規則的
に配置した場合には、一単位中のＲＧＢドットの数に限
らず、シミ模様の視覚性は無いものの、干渉縞の発生が
顕著であることが理解される。したがって、干渉縞の発
生を抑制できるとともに、シミ模様の視覚性についても
低下させるためには、例えば、ＲＧＢドット１００〜
２，０００を一単位として、光透過部又は光不透過部を
平面方向にランダムに配列することが有効であると言え
る。

【００３４】

【表１】

【００３５】（２）ランダム配列２ また、本発明のマスクを構成するにあたり、図２〜図４
に示すように、予め作成したＲＧＢドット３〜１２を一
単位とした光透過部又は光不透過部のランダムパターン
を分割して、あるいはそのままランダムに配列して、Ｒ
ＧＢドット１００〜２，０００又は画面全体を一単位と
した光透過部又は光不透過部が構成してあることが好ま
しい。このように構成することにより、光透過部又は光
不透過部のパターンに関する情報量を少なくすることが
できるとともに、ＲＧＢドット３〜１２のランダムパタ
ーンを繰り返すことによって、大面積のマスクを容易か
つ短時間に設計することできる。なお、図２〜図４に示
すようなＲＧＢドット３〜１２を一単位とした光透過部
又は光不透過部のランダムパターンを分割する場合に
は、適当に分割しても良いし、あるいは、ランダム関数
等を用いて、恣意的条件を取り除いた条件下に、分割し
ても良い。

【００３６】（３）ランダム配列３ また、本発明のマスクを構成するにあたり、図５に示す
ように、光透過部又は光不透過部２４４を横一列方向又
は縦一列方向に帯状のランダムパターンを形成し、当該
帯状のランダムパターンを複数列において繰り返すこと
が好ましい。このように構成することにより、横一列方
向又は縦一列方向のいずれかの箇所において、一つの帯
状のランダムパターンを構成し、それを適宜繰り返すこ
とにより、光反射膜に起因した干渉縞の発生を有効に防
止することができるためである。また、このように構成
することにより、少ない情報量によって、全体として好
ましい反射特性を有するランダムパターンを、容易かつ
短時間に設計することが可能となるためである。例え
ば、１７インチのＬＣＤパネル用のマスクを横方向に、
１／ｎ（ｎは２〜１０００の範囲の自然数）に均等に分
割し、そのうちの横一列方向のマスクにおいて、光透過
部又は光不透過部をランダム関数によって割付け、それ
をｎ回繰り返せば、干渉縞の発生を有効に防止すること
ができる。また、このように横方向又は縦方向に、所定
単位のランダムパターンを繰り返すことにより、全体と
して好ましい反射特性を有するランダムパターンを、再
現性良く得ることができる。

【００３７】[第２実施形態]第２実施形態は、図６に示
すように、一例として、ネガ型の感光性樹脂を用いた場
合を示しているが、基材７７および反射層７２を含む光
反射膜付き基板７０であって、当該基材７７に形成され
た複数の凸部７６をＲＧＢドット１００〜２，０００又
は画面全体を一単位として、平面方向にランダムに配列
してあることを特徴とする光反射膜付き基板７０であ
る。

【００３８】１．基材 基材の構成として、図６に示すように、下方から第１の
基材７６および第２の基材７９を順次に含み、当該第１
の基材７６が独立した、又は一部重なった複数の凸部か
ら構成してあり、第２の基材７９が連続層であることが
好ましい。このように構成することにより、連続層であ
る第２の基材７９を介して、その上に形成される反射層
７２を、平坦部が少ない比較的なだらかな曲面とするこ
とができるため、液晶表示装置等に用いられた場合に、
干渉縞の発生を有効に防止することができるためであ
る。また、基材に形成された複数の凸部又は凹部といっ
た場合、基材が第１の基材および第２の基材を含むとき
には、通常、第１の基材を構成する複数の凸部又は凹部
を意味する。以下、好適例として、図６に示すように、
下方から基材７７が、第１の基材７６および第２の基材
７９から構成された場合を例にとって説明する。

【００３９】（１）第１の基材 第１の基材における複数の凸部の高さ又は凹部の深さを
０．５〜５μｍの範囲内の値とすることが好ましい。こ
の理由は、かかる凸部の高さ又は凹部の深さが０．５μ
ｍ未満の値になると、第２の基材を介して、適当な曲面
を有する反射層を設けることが困難になる場合があるた
めである。一方、かかる凸部の高さ又は凹部の深さが５
μｍを超えると、反射層の凹凸が大きくなって、過度に
光を散乱させたり、あるいは断線しやすくなったりする
場合があるためである。したがって、第１の基材におけ
る複数の凸部の高さ又は凹部の深さを０．８〜４μｍの
範囲内の値とすることがより好ましく、１〜３μｍの範
囲内の値とすることがさらに好ましい。

【００４０】（２）第２の基材 第２の基材における連続した凸部の高さ又は凹部の深さ
を０．１〜３μｍの範囲内の値とすることが好ましい。
この理由は、かかる凸部の高さ又は凹部の深さが０．１
μｍ未満の値になると、その上に、適当な曲面を有する
反射層を設けることが困難になる場合があるためであ
る。一方、かかる凸部の高さ又は凹部の深さが３μｍを
超えると、その上に形成される反射層の凹凸が大きくな
って、過度に光を散乱させたり、あるいは断線しやすく
なる場合があるためである。したがって、第２の基材に
おける複数の凸部の高さ又は凹部の深さを０．１〜２μ
ｍの範囲内の値とすることがより好ましく、０．３〜２
μｍの範囲内の値とすることがさらに好ましい。

【００４１】（３）複数の凸部又は凹部 ランダム配列１ 基材表面に形成された複数の凸部又は凹部、特に第１の
基材を構成する複数の凸部又は凹部をＲＧＢドット１０
０〜２，０００又は画面全体を一単位として、平面方向
にランダムに配列することを特徴とする。この理由は、
複数の凸部又は凹部が全て規則的に配列されていると、
液晶表示装置等に使用された場合に、干渉縞が発生し、
画像品質が著しく低下するためである。また、複数の凸
部又は凹部をＲＧＢドットの所定単位で平面方向にラン
ダムに配列するにあたり、ＲＧＢドット単位が１００ド
ット未満の値になると、液晶表示装置等に使用した場合
に、不定形のシミ模様が明確に認識されるためである。
したがって、ＲＧＢドット３００〜１，５００を一単位
として、光透過部又は光不透過部を平面方向にランダム
に配列してあることがより好ましく、ＲＧＢドット５０
０〜１，２００ドットを一単位として、光透過部又は光
不透過部を平面方向にランダムに配列してあることがさ
らに好ましい。

【００４２】また、かかる複数の凸部の高さ又は凹部の
深さを実質的に等しくすることが好ましい。この理由
は、特開平６−２７４８１号公報や特開平１１−２８１
９７２号公報に記載されたように、逆に、複数の凸部の
高さ又は凹部の深さを異ならせると、製造が困難となっ
て、安定して干渉縞の発生を抑制することができない。

【００４３】凸部又は凹部の平面形状 また、基材に形成された複数の凸部又は凹部の平面形状
に関して、独立した又は一部重なった円および多角形、
あるいはいずれか一方の平面形状とすることが好まし
い。この理由は、独立した又は一部重なった円および多
角形、あるいはいずれか一方の平面形状とすることによ
り、複数の凸部又は凹部の平面形状や配置パターンを、
露光プロセスを用いて、正確に制御することができるた
めである。また、このような平面形状の凸部又は凹部で
あれば、光を散乱させることができ、干渉縞の発生を有
効に防止することができるためである。また、凸部又は
凹部の平面形状の好適例として、図７（ａ）に示すよう
なオフセットした楕円形（液滴形状）や、図７（ｂ）に
示すようなオフセットした四角形（ピラミッド型）、あ
るいは凹部の平面形状の好適例として、図１７〜図２１
に示す楕円のドーム形状や長円のドーム形状等が挙げら
れる。この理由は、複数の凸部又は凹部の平面形状を、
このような非対称の平面形状とすることにより、高さ方
向の斜面と相俟って、図８に示すように、所定の光散乱
性を維持したまま、光指向性が向上するためである。図
８中、一点鎖線ａが図７（ａ）に示すようなオフセット
した楕円形の場合に視覚される光量を示しており、実線
ｂがオフセットしていない均等な円形の場合に視覚され
る光量を示している。したがって、このような非対称の
平面形状とすることにより、一定方向から眺めた場合、
例えば、角度が＋１５°の位置において目に入ってくる
光量が多くなり、その位置では明るい画像を認識するこ
とができる。

【００４４】凸部又は凹部の径 また、基材に形成された複数の凸部又は凹部に関して、
その凸部又は凹部の径を３〜１５μｍの範囲内の値とす
ることが好ましい。この理由は、かかる範囲の径を有す
る複数の凸部又は凹部であれば、平面形状や配置パター
ンを、露光プロセスを用いて、正確に制御することがで
きるとともに、光を適度に散乱させ、干渉縞の発生を有
効に防止することができるためである。また、かかる範
囲の径を有する複数の凸部又は凹部であれば、不定形の
シミ模様が観察されることが少なくなるためである。し
たがって、複数の凸部又は凹部の径を５〜１３μｍの範
囲内の値とすることがより好ましく、６〜１２μｍの範
囲内の値とすることがさらに好ましい。また、複数の凸
部又は凹部の径を異ならせ、例えば、２〜１０種類の凸
部又は凹部を設けることが好ましい。このように構成す
ることにより、１種類の凸部又は凹部によっては得られ
ないような複雑な光反射を可能とし、光をより分散して
散乱させることができるためである。したがって、径が
異なる複数の凸部又は凹部を設けることにより、干渉縞
の発生をさらに有効に防止することができる。

【００４５】凸部の高さ又は凹部の深さ また、基材に形成された複数の凸部又は凹部に関して、
その凸部の高さ又は凹部の深さを０．１〜１０μｍの範
囲内の値とすることが好ましい。この理由は、かかる凸
部の高さ又は凹部の深さが０．１μｍ未満の値になる
と、露光プロセスを用いても、凹凸が小さくなり、散乱
特性が低下する場合があるためである。一方、かかる凸
部の高さ又は凹部の深さが１０μｍを超えると、反射層
の凹凸が大きくなって、過度に光を散乱させたり、ある
いは断線しやすくなる場合があるためである。したがっ
て、凸部の高さ又は凹部の深さを０．２〜３μｍの範囲
内の値とすることがより好ましく、０．３〜２μｍの範
囲内の値とすることがさらに好ましい。

【００４６】（４）開口部 光反射膜において、光を部分的に通過させるための開口
部が設けてあることが好ましい。このように構成するこ
とにより、反射透過両用型の液晶表示装置等に使用する
ことができる。すなわち、図９に示すように、光反射膜
１００の一部に開口部１０２を設けることにより、光反
射膜１００によって外部からの光を効率的に反射するこ
とができるとともに、内部から発せられた光について
も、開口部１０２を通して、外部に効果的に放出するこ
とができる。なお、開口部の大きさは特に制限されるも
のでなく、光反射膜の用途等によって決定されることが
好ましいが、例えば、光反射膜の全体面積を１００％と
したときに、５〜８０％の範囲内の値とすることが好ま
しく、１０〜７０％の範囲内の値とすることがより好ま
しく、２０〜６０％の範囲内の値とすることがさらに好
ましい。

【００４７】２．反射層 （１）厚さ 光反射膜における反射層の厚さを０．０５〜５μｍの範
囲内の値とすることが好ましい。この理由は、かかる反
射層の厚さが０．０５μｍ未満の値になると、反射効果
が著しく乏しくなる場合があるためである。一方、かか
る反射層の厚さが５μｍを越えると、得られる光反射膜
のフレキシブル性が低下したり、製造時間が過度に長く
なる場合があるためである。したがって、かかる反射層
の厚さを０．０７〜１μｍの範囲内の値とすることがよ
り好ましく、０．１〜０．３μｍの範囲内の値とするこ
とがさらに好ましい。

【００４８】（２）種類 また、反射層の構成材料は特に制限されるものでなく、
例えば、アルミニウム（Ａｌ）、銀（Ａｇ）、銅（Ｃ
ｕ）、金（Ａｕ）、クロム（Ｃｒ）、タンタル（Ｗ）お
よびニッケル（Ｎｉ）等の導電性や光反射性に優れた金
属材料とすることが好ましい。また、上記反射層の上に
酸化インジスムスズ（ＩＴＯ）や酸化インジスム、ある
いは酸化スズ等の透明導電材料を使用することも好まし
い。ただし、このような金属材料や透明導電材料を用い
た際に、液晶への溶け込みがある場合には、当該金属材
料等からなる反射膜の表面に電気絶縁膜を設けたり、金
属材料等とともに、電気絶縁物をスパッタリング等する
ことも好ましい。

【００４９】（３）下地層 また、反射層を第２の基板の上に形成するにあたり、密
着力を向上させるとともに、反射層をなだらかな曲面と
するために、厚さ０．０１〜２μｍの下地層を設けるこ
とが好ましい。なお、このような下地層の構成材料とし
て、シランカップリング剤、チタンカップリング剤、ア
ルミニウムカップリング剤、アルミニウム−マグネシウ
ム合金、アルミニウム−シラン合金、アルミニウム−銅
合金、アルミニウム−マンガン合金、アルミニウム−金
合金等の一種単独あるいは二種以上の組み合わせが挙げ
られる。

【００５０】（４）鏡面反射率 また、反射層における鏡面反射率を５〜５０％の範囲内
の値とすることが好ましい。この理由は、かかる鏡面反
射率が５％未満の値となると、液晶表示装置等に使用し
た場合に、得られる表示画像の明るさが著しく低下する
場合があるためである。一方、かかる鏡面反射率が５０
％を超えると、散乱性が低下して、背景の写りこみや、
外部光が過度に鏡面反射する場合があるためである。し
たがって、反射層における鏡面反射率を１０〜４０％の
範囲内の値とすることがより好ましく、１５〜３０％の
範囲内の値とすることがさらに好ましい。

【００５１】３．他の構成部材との組み合わせ 上述した光反射膜を、他の構成部材、例えば、図１３お
よび図１４に示すように、カラーフィルタ１５０、遮光
層１５１、オーバーコート層１５７、複数の透明電極１
５４と、配向膜等と組み合わせることが好ましい。この
ように組み合わせることにより、干渉縞の発生が少な
い、カラー液晶表示装置等の部材を効率的に提供するこ
とができる。例えば、ＲＧＢ（赤、青、緑）の３色の色
要素により構成したストライプ配列、モザイク配列、あ
るいはデルタ配列等のカラーフィルタ１５０を組み合わ
せることにより、容易にカラー化が図れるし、さらに遮
光層１５１と組み合わせることにより、コントラストに
優れた画像を得ることができる。また、光反射膜は反射
電極として使用することもできるが、他の電極、例え
ば、透明電極１５４を設けることにより、光吸収を防ぎ
ながら、複数の凸部又は凹部からなる反射膜の影響を排
除することができる。さらに、ＹＭＣ（イエロー、マゼ
ンダ、シアン）からなる３色の色要素によってカラーフ
ィルタを構成することも好ましく、光透過特性に優れ、
反射型液晶表示装置として用いた場合に、さらに明るい
表示を得ることができる。

【００５２】[第３実施形態]第３実施形態は、基材およ
び反射層を含む光反射膜の製造方法であって、ＲＧＢド
ット１００〜２，０００又は画面全体を一単位として、
光透過部又は光非透過部が平面方向にランダムに配列さ
れたマスクを使用して、塗布された感光性樹脂に対し
て、露光プロセスによって平面方向にランダムに配列さ
れた複数の凸部又は凹部を有する第１の基材を形成する
工程と、当該第１の基材の表面に感光性樹脂を塗布し
て、露光プロセスによって、連続した複数の凸部又は凹
部を有する第２の基材を形成する工程と、当該第２の基
材の表面に反射層を形成する工程と、を含むことを特徴
とする光反射膜の製造方法である。以下、図１０および
図１１を適宜参照しながら、第１の基材の表面に凹部を
形成する場合を例に採って、光反射膜（光反射膜付き基
板）の製造方法を具体的に説明する。なお、図１０は、
光反射膜の製造工程を図式化したものであって、図１１
は、それのフローチャートである。

【００５３】１．第１の基材を形成する工程 平面方向にランダムに配列された複数の凸部又は凹部
を、第１の実施形態で説明したマスクを利用して、感光
性樹脂から、露光プロセスによって形成することが好ま
しい。すなわち、光透過部又は光不透過部を独立した、
又は一部重なった円および多角形、あるいはいずれか一
方の平面形状とし、平面方向にランダムに配列してある
マスクを介して、平面方向にランダムに配列された複数
の凸部又は凹部を、感光性樹脂、例えば、ポジ型感光性
樹脂から構成してあることが好ましい。

【００５４】（１）感光性樹脂 第１の基材を構成する感光性樹脂の種類は特に制限され
るものではないが、例えば、アクリル系樹脂、エポキシ
系樹脂、シリコーン系樹脂、フェノール系樹脂、オキセ
タン系樹脂等の一種単独又は二種以上の組み合わせが挙
げられる。また、精度良く、所定の円形又は多角形とす
ることができるように、感光性樹脂中に、シリカ粒子、
酸化チタン、酸化ジルコニア、酸化アルミニウム等の無
機フィラーを添加しておくことも好ましい。なお、上述
したように、第１の基材を構成する感光性樹脂として
は、光透過部を透過した光が照射された箇所が光分解し
て、現像剤に対して可溶化するポジ型と、光透過部を透
過した光が照射された箇所が硬化し、現像剤に対して不
溶化するネガ型とがあるが、いずれも好適に使用するこ
とができる。

【００５５】（２）露光プロセス 図１０（ａ）および図１１の工程Ｐ３１に示すように、
第１の基材１１２を形成するにあたり、スピンコーター
等を用いて、第１の基材を構成する感光性樹脂を、支持
部１１４上に均一に塗布して、第１層１１０を形成する
ことが好ましい。その場合、スピンコーターの条件とし
て、例えば、６００〜２、０００ｒｐｍの回転数で、５
〜２０秒とすることが好ましい。次いで、解像度を向上
させるために、図１１の工程Ｐ３２に示すように、第１
層１１０をプリベークすることが好ましい。その場合、
例えば、ホットプレートを用いて、８０〜１２０℃、１
〜１０分の加熱条件とすることが好ましい。次いで、図
１０（ｂ）および図１１の工程Ｐ３３に示すように、第
１の実施形態のマスク１１９を使用し、露光プロセス法
によって、平面方向にランダムに配列され、独立した又
は一部重なった複数の凸部又は凹部からなる第１の基材
１１２を形成することが好ましい。すなわち、均一に塗
布された感光性樹脂からなる第１層１１０の上に、第１
の実施形態のマスク１１９を載置した後、ｉ線等を露光
することが好ましい。その場合、ｉ線等の露光量を例え
ば５０〜３００ｍＪ／ｃｍ²の範囲内の値とすることが
好ましい。

【００５６】次いで、図１０（ｃ）および図１１の工程
Ｐ３４に示すように、現像液によって、例えばポジ現像
することにより、平面方向にランダムに配列され、独立
した又は一部重なった複数の凸部又は凹部からなる第１
の基材１１２を形成することができる。なお、第２の基
材１１３を形成する前に、図１１の工程Ｐ３５に示すよ
うに、一例として、露光量が３００ｍＪ／ｃｍ²となる
ように全面的にポスト露光した後、２２０℃、５０分の
条件で加熱することによってポストベークし、第１の基
材１１２をさらに強固にすることも好ましい。

【００５７】２．第２の基材を形成する工程 第２の基材を形成する工程は、樹脂塗布等によって、第
１の基材上、すなわち、平面方向にランダムに配列され
た複数の凹部上に、連続層としての第２の基材を形成す
る工程である。

【００５８】（１）感光性樹脂 第２の基材を構成する感光性樹脂の種類は特に制限され
るものではないが、例えば、アクリル系樹脂、エポキシ
系樹脂、シリコーン系樹脂、フェノール系樹脂等が挙げ
られる。また、第１の基材と第２の基材との間の密着力
が向上するため、第２の基材を構成する感光性樹脂と、
第１の基材を構成する感光性樹脂とを同種とすることが
好ましい。なお、第１の基材と第２の基材との間の密着
力が向上するため、第１の基材の表面に、シランカップ
リング剤等の処理を施しておくことが好ましい。

【００５９】（２）露光工程 図１０（ｄ）および図１１の工程Ｐ３７〜Ｐ４０に示す
ように、第２の基材１１３を形成するにあたっては、第
２の基材１１３を構成する感光性樹脂を塗布した後、パ
ネル表示領域周辺の実装領域にｉ線等を露光し、樹脂層
を除去することが好ましい。この場合も、第１の基材１
１２を露光させるのと同様に、ｉ線等の露光量を例えば
５０〜３００ｍＪ／ｃｍ²の範囲内の値とすることが好
ましい。さらに、図１１の工程Ｐ４１〜Ｐ４２に示すよ
うに、第２の基材１１３を形成した後に、一例として、
露光量が３００ｍＪ／ｃｍ²となるように全面的にポス
ト露光した後、２２０℃、５０分の条件で加熱すること
によってポストベークし、第１の基材１１２および第２
の基材１１３をそれぞれさらに強固にすることも好まし
い。

【００６０】３．反射層を形成する工程 反射層を形成する工程は、図１０（ｅ）および図１１の
工程Ｐ４３〜Ｐ４４に示すように、第２の基材１１３の
表面に、適度に光散乱させるように、滑らかな曲面を有
する反射層１１６を形成する工程である。

【００６１】（１）反射層材料 反射層材料としては、第２の実施形態で説明したよう
に、アルミニウム（Ａｌ）および銀（Ａｇ）等の光反射
性に優れた金属材料とすることが好ましい。

【００６２】（２）形成方法 スパッタリング等の手法を用いて、反射層を形成するこ
とが好ましい。また、所望の箇所以外の反射層材料は、
フォトエッチング等の手法で除去することができる。ま
た、第２の基材の表面に凹凸があるため、反射層材料が
均一な厚さに積層しない場合があるが、そのようなとき
には、回転蒸着法や回転スパッタリング法を採用するこ
とが好ましい。さらにまた、反射層を形成するととも
に、当該反射層をＴＦＴ（Thin Film Transistor）や、
ＭＩＭ(Metal Insulating Metal)等の端子に対して、電
気接続することが好ましい。

【００６３】［第４実施形態］第４実施形態は、アクテ
ィブ素子として２端子型の能動素子であるＴＦＤ（Thin
Film Diode）を用いたアクティブマトリクス方式の液
晶表示装置であって、基板間に挟持された液晶素子と、
当該液晶素子の観察側と反対側の基板に設けられた光反
射膜付基板と、を具備しており、当該光反射膜付基板
が、基材及び反射層からなり、当該基材に形成された複
数の凸部又は凹部を、ＲＧＢドット１００〜２，０００
又は画面全体を一単位として、ランダムに配列してある
ことを特徴とした液晶表示装置である。以下、図２２〜
図２４を参照して具体的に説明するが、外部光を用いた
反射表示と照明装置を用いた透過表示を選択的に行うこ
とができる方式の半透過反射型液晶装置を例にとって説
明する。

【００６４】まず、本実施形態においても液晶装置２３
０は、図２２に示すように、第１基板２３１ａと第２基
板２３１ｂとをシール材（図示せず）によって貼り合わ
せ、さらに、第１基板２３１ａ、第２基板２３１ｂ及び
シール材によって囲まれる間隙すなわちセルギャップ内
に液晶を封入することによって形成される。なお、一方
の基板２３１ｂの表面に、液晶駆動用ＩＣ（図示せず）
が、例えば、ＣＯＧ（Chip on glass）方式によって直
接的に実装されていることが好ましい。そして、図２２
において、液晶装置２３０の表示領域を構成する複数の
表示ドットのうち、数個の断面構造を拡大して示してお
り、図２３は、１つの表示ドット部分の断面構造を示し
ている。

【００６５】ここで、図２２に示すように、第２基板２
３１ｂのシール材によって囲まれる内部領域には、複数
の画素電極が、行方向ＸＸ及び列方向ＹＹに関してドッ
トマトリクス状の配列で形成される。また、第１基板２
３１ａのシール材によって囲まれる内部領域にはストラ
イプ状の電極が形成され、そのストライプ状電極が第２
基板２３１ｂ側の複数の画素電極に対向して配置される
ことになる。また、第１基板２３１ａ上のストライプ状
電極と、第２基板２３１ｂ上の１つの画素電極によって
液晶を挟んだ部分が１つの表示ドットを形成し、この表
示ドットの複数個がシール材によって囲まれる内部領域
内で、ドットマトリクス状に配列することによって表示
領域が形成される。また、液晶駆動用ＩＣは複数の表示
ドット内の対向電極間に選択的に走査信号及びデータ信
号を印加することにより、液晶の配向を表示ドット毎に
制御することになる。すなわち、液晶の配向制御により
該液晶を通過する光が変調されて、表示領域内に文字、
数字等といった像が表示される。

【００６６】また、図２３において、第１基板２３１ａ
は、ガラス、プラスチック等によって形成された基材２
３６ａと、その基材２３６ａの内側表面に形成された光
反射膜２３１と、その光反射膜２３１の上に形成された
カラーフィルタ２４２と、そのカラーフィルタ２４２の
上に形成された透明なストライプ状電極２４３とを有す
る。そのストライプ状電極２４３の上には、配向膜２４
１ａが形成される。この配向膜２４１ａに対して配向処
理としてのラビング処理が施される。ストライプ状電極
２４３は、例えばＩＴＯ（Indium Tin Oxide）等の透明
導電材料によって形成される。

【００６７】また、第１基板２３１ａに対向する第２基
板２３１ｂは、ガラス、プラスチック等によって形成さ
れた基材２３６ｂと、その基材２３６ｂの内側表面に形
成されたスイッチング素子として機能するアクティブ素
子としてのＴＦＤ（Thin Film Diode）２４７と、この
ＴＦＤ２４７に接続された画素電極２３９とを有する。
ＴＦＤ２４７及び画素電極２３９の上には、配向膜２４
１ｂが形成され、この配向膜２４１ｂに対して配向処理
としてのラビング処理が施される。画素電極２３９は、
例えばＩＴＯ（Indium Tin Oxide）等の透明導電材料に
よって形成される。

【００６８】また、第１基板２３１ａに属するカラーフ
ィルタ２４２は、第２基板２３１ｂ側の画素電極２３９
に対向する位置にＲ（赤），Ｇ（緑），Ｂ（青）又はＹ
（イエロー），Ｍ（マゼンタ），Ｃ（シアン）等といっ
た各色のいずれかの色フィルタエレメント２４２ａを有
し、画素電極２３９に対向しない位置にブラックマスク
２４２ｂを有することが好ましい。

【００６９】また、図２３に示すように、第１基板２３
１ａと第２基板２３１ｂとの間の間隔、すなわちセルギ
ャップはいずれか一方の基板の表面に分散された球状の
スペーサ３０４によって寸法が維持され、そのセルギャ
ップ内に液晶が封入される。ここで、ＴＦＤ２４７は、
図２３に示すように、第１金属層２４４と、その第１金
属層２４４の表面に形成された絶縁層２４６と、その絶
縁層２４６の上に形成された第２金属層２４８とによっ
て構成されている。このようにＴＦＤ２４７は、第１金
属層／絶縁層／第２金属層から成る積層構造、いわゆる
ＭＩＭ（Metal Insulator Metal）構造によって構成さ
れている。

【００７０】また、第１金属層２４４は、例えば、タン
タル単体、タンタル合金等によって形成される。第１金
属層２４４としてタンタル合金を用いる場合には、主成
分のタンタルに、例えば、タングステン、クロム、モリ
ブデン、レニウム、イットリウム、ランタン、ディスプ
ロリウム等といった周期律表において第６〜第８族に属
する元素が添加される。

【００７１】また、第１金属層２４４はライン配線２４
９の第１層２４９ａと一体に形成される。このライン配
線２４９は画素電極２３９を間に挟んでストライプ状に
形成され、画素電極２３９へ走査信号を供給するための
走査線又は画素電極２３９へデータ信号を供給するため
のデータ線として作用する。また、絶縁層２４６は、例
えば、陽極酸化法によって第１金属層２４４の表面を酸
化することによって形成された酸化タンタル（Ｔａ
₂Ｏ₅）によって構成される。なお、第１金属層２４４を
陽極酸化したときには、ライン配線２４９の第１層２４
９ａの表面も同時に酸化されて、同様に酸化タンタルか
ら成る第２層２４９ｂが形成される。

【００７２】また、第２金属層２４８は、例えばＣｒ等
といった導電材によって形成される。画素電極２３９
は、その一部が第２金属層２４８の先端に重なるように
基材２３６ｂの表面に形成される。なお、基材２３６ｂ
の表面には、第１金属層２４４及びライン配線の第１層
２４９ａを形成する前に酸化タンタル等によって下地層
を形成することがある。これは、第２金属層２４８の堆
積後における熱処理によって第１金属層２４４が下地か
ら剥離しないようにしたり、第１金属層２４４に不純物
が拡散しないようにしたりするためである。

【００７３】そして、第１基板２３１ａに形成された光
反射膜２３１は、例えば、アルミニウム等といった光反
射性の金属によって形成され、第２基板２３１ｂに属す
る各画素電極２３９に対応する位置、すなわち各表示ド
ットに対応する位置に光透過用の開口２４１が形成され
る。また、光反射膜２３１の液晶側表面には、例えば、
図７及び図１７〜図２１に示すような長円形状でドーム
形状の谷部又は山部８０、８４、１８０、１９０、２０
０、２１０、２２０が形成してあることが好ましい。す
なわち、かかる谷部又は山部８０、８４、１８０、１９
０、２００、２１０、２２０は、ライン配線の延在方向
であるＸ軸線方向を長軸とし、それと直角なＹ軸線方向
が短軸となるように配列されていることが好ましい。ま
た、谷部又は山部８０、８４、１８０、１９０、２０
０、２１０、２２０の長軸方向Ｘは、基材のＸＸ方向に
延びる端辺に対して平行に設定され、短軸方向Ｙは基材
のＹＹ方向に延びる端辺に対して平行に設定されている
ことが好ましい。

【００７４】第４実施形態の液晶表示装置２３０は以上
のように構成されているので、当該液晶表示装置２３０
が反射型表示を行う場合には、図２３において、観察者
側すなわち第２基板２３１ｂ側から液晶表示装置２３０
の内部へ入った外部光は、液晶を通過して光反射膜２３
１に到達し、当該反射膜２３１で反射して再び液晶へ供
給される（図２３の矢印Ｆ１参照）。液晶は、画素電極
２３９とストライプ状対向電極２４３との間に印加され
る電圧、すなわち走査信号及びデータ信号によって表示
ドット毎にその配向が制御され、これにより、液晶に供
給された反射光は表示ドット毎に変調され、これにより
観察者側に文字、数字等といった像が表示される。

【００７５】他方、液晶表示装置２３０が透過型表示を
行う場合には、第１基板２３１ａの外側に配置された照
明装置（図示せず）、いわゆるバックライトが発光し、
この発光が偏光板２３３ａ、位相差板２３２ａ、基材２
３６ａ、光反射膜２３１の開口２４１、カラーフィルタ
２４２、電極２４３及び配向膜２４１ａを通過した後に
液晶に供給される（図２３の矢印Ｆ２参照）。この後、
反射型表示の場合と同様にして表示が行われる。

【００７６】そして、第４実施形態では、光反射膜付基
板における基材上に、複数の凸部又は凹部を、ＲＧＢド
ット１００〜２、０００又は画面全体を一単位として、
平面方向にランダムに配列してあることから、干渉縞の
発生を少なくすることができる。また、第４実施形態に
おいて、上述したように、複数の凸部又は凹部における
Ｘ軸線に沿った立体形状とＹ軸線に沿った立体形状とを
互いに異ならせた場合には、一定の視野角方向への反射
光量を低く抑えた上で、別の特定の視野角方向への反射
光量を増大させることができる。この結果、観察者は、
光反射膜を用いて行われる反射型表示の際に、液晶表示
装置の表示領域内に表示される像を特定の視野角方向に
関して非常に明るい表示として観察できる。

【００７７】［第５実施形態］第５実施形態は、基板間
に挟持された液晶素子と、当該液晶素子の観察側とは反
対側の基板に設けられた光反射膜と、を具備した液晶表
示装置であって、当該光反射膜が、基材および反射層か
らなり、当該基材に形成された複数の凸部又は凹部は、
ＲＧＢドット１００〜２，０００又は画面全体を一単位
として、平面方向にランダムに配列してあることを特徴
とした液晶表示装置である。以下、図１３を適宜参照し
ながら、第５実施形態におけるパッシブマトリクス方式
の反射型液晶表示装置を、具体的に説明する。なお、以
下に示す各図においては、各層や各部材を図面上で認識
可能な程度の大きさとするため、各層や各部材ごとに縮
尺を異ならせてある場合がある。

【００７８】１．構成 図１３に示すように、この液晶表示装置１４０は、相互
に対向する第１基板１４１と第２基板１４２とがシール
材１５８を介して貼り合わされ、両基板の間に液晶１４
４が封入された構成となっている。さらに、この液晶表
示装置１４１の観察側には、光透過性を有する保護板１
４５が配設される。この保護板１４５は、当該液晶表示
装置１４０を外部から与えられる衝撃などから保護する
ための板状部材であり、例えば液晶表示装置１４０が搭
載される電子機器の筐体に設けられる。また、保護板１
４５は、液晶表示装置１４０における第１基板１４１
（観察側の基板）の基板面と近接するように配設され
る。なお、本実施形態においては、プラスチックからな
る保護板１４５を、第１基板１４１の構成要素のうち最
も観察側に位置する偏光板１４６の表面に当接させた場
合を想定する。このように保護板１４５をプラスチック
により構成した場合、成形が容易で安価に製造できると
いう利点がある反面、その表面に微細な凹凸が形成され
やすい。

【００７９】一方、液晶表示装置１４０の第１基板１４
１および第２基板１４２は、ガラスや石英、プラスチッ
ク等の光透過性を有する板状部材である。このうち、観
察側に位置する第１基板１４１の内側（液晶１４４側）
表面には、所定の方向に延在する複数の透明電極１４３
が形成されている。各透明電極１４３は、ＩＴＯ（Indi
um Tin Oxide）等の透明導電材料によって形成された帯
状の電極である。さらに、これらの透明電極１４３が形
成された第１基板１４１の表面は、配向膜（図示略）に
よって覆われている。この配向膜はポリイミド等の有機
薄膜であり、電圧が印加されていないときの液晶１４４
の配向方向を規定するためのラビング処理が施されてい
る。

【００８０】２．光散乱膜 第１基板１４１の外側（液晶１４４とは反対側）には、
入射光を所定方向に偏光させる偏光板１４６と、第１基
板１４１と偏光板１４６との間に介在する散乱層１４７
とが設けられている。散乱層１４７は、当該散乱層１４
７を透過する光を散乱させるための層であり、偏光板１
４６を第１基板１４１に貼着するための接着剤１４８ａ
と、当該接着剤１４８ａ中に分散された多数の微粒子１
４８ｂとを有する。この散乱層１４７としては、例えば
アクリル系又はエポキシ系等の接着剤１４８ａに、シリ
カからなる微粒子１４８ｂを分散させたものを用いるこ
とができる。そして、接着剤１４８ａの屈折率と微粒子
１４８ｂの屈折率とは異なっており、当該散乱層１４７
に入射した光は接着剤１４８ａと微粒子１４８ｂとの境
界において屈折するようになっている。この結果、散乱
層１４７への入射光を、適度に散乱させた状態で出射さ
せることができる。

【００８１】さらに、第５実施形態における散乱層１４
７は、そのヘイズ値（曇価）Ｈが１０〜６０％の範囲内
の値となるように、接着剤１４８ａ中に分散される微粒
子１４８ｂの数や両者の屈折率などが選定されている。
ここで、ヘイズ値Ｈとは、ある部材への入射光が当該部
材を透過する際に散乱する程度を表す値であり、以下の
式により定義される。 ヘイズ値（曇価）Ｈ＝（Ｔｄ／Ｔｔ）×１００（％）

【００８２】ここで、Ｔｔは全光線透過率（％）であ
り、Ｔｄは散乱光透過率（％）である。全光線透過率Ｔ
ｔは、ヘイズ値Ｈの測定対象となる試料への入射光量の
うち当該試料を透過した光量の割合を表す値である。一
方、散乱光透過率Ｔｄは、試料に対して所定方向から光
を照射した場合に、当該試料を透過した光量のうち上記
所定方向以外の方向に出射した光量（すなわち、散乱光
量）の割合を表す値である。つまり、試料からの出射光
量のうち入射光と平行な方向への出射光量の割合を平行
光透過率Ｔｐ（％）とすると、上記散乱光透過率Ｔｄ
は、上記全光線透過率Ｔｔと平行光透過率Ｔｐとの差
（Ｔｄ＝Ｔｔ−Ｔｐ）により表される。上記からも明ら
かなように、ヘイズ値Ｈが高ければ散乱の程度が大きく
（すなわち透過光量に占める散乱光量の割合が大き
く）、逆にヘイズ値Ｈが低ければ散乱の程度が小さい
（すなわち透過光量に占める散乱光量の割合が小さい）
ということができる。なお、上記ヘイズ値（曇価）Ｈに
ついては、JIS(Japanese Industrial Standards) K6714
-1977に詳述されている。

【００８３】３．反射層（光反射膜） 一方、第２基板１４２の内側（液晶１４４側）表面には
反射層１４９が形成されている。この反射層１４９は、
液晶表示装置１４０に対して観察側から入射した光を反
射させるための層であり、例えばアルミニウムや銀とい
った光反射性を有する金属によって形成される。ここ
で、図１３に示すように、第２基板１４２の内側表面の
うち反射層１４９によって覆われる領域は多数の微細な
突起および窪みが形成された粗面となっている。より具
体的には、基材と、反射層とを含む光反射膜であって、
当該基材の表面に形成された複数の凸部の高さ又は凹部
の深さを実質的に等しくするとともに、当該複数の凸部
又は凹部の平面形状を独立した又は一部重なった円およ
び多角形、あるいはいずれか一方の平面形状とし、か
つ、複数の凸部又は凹部を平面方向にランダムに配列し
た反射層１４９である。このため、反射層１４９の表面
は、第２基板１４２表面の突起および窪みを反映した粗
面となる。すなわち、反射層１４９は、当該表面におけ
る反射光を適度に散乱させて広い視野角を実現するため
の散乱構造を有している。より具体的には、反射層１４
９が、複数の凸部又は凹部からなる基材上に形成されて
おり、そして、基材に形成された複数の凸部の高さ又は
凹部の深さを実質的に等しくしてあるとともに、当該複
数の凸部又は凹部の平面形状を、独立した又は一部重な
った円および多角形、あるいはいずれか一方の平面形状
とし、かつ、当該複数の凸部又は凹部が平面方向にラン
ダムに配列してある構造である。

【００８４】４．その他の構成 さらに、第２基板１４２を覆う反射層１４９の面上に
は、カラーフィルタ１５０と、遮光層１５１と、カラー
フィルタ１５０および遮光層１５１によって形成される
凹凸を平坦化するためのオーバーコート層１５７と、複
数の透明電極１５４と、配向膜（図示略）とが形成され
ている。各透明電極１５４は、第１基板１４１上の透明
電極１４３の延在方向と交差する方向（図１３における
紙面左右方向）に延在する帯状の電極であり、透明電極
１４３と同様にＩＴＯ等の透明導電材料によって形成さ
れる。かかる構成の下、液晶１４４は、透明電極１４３
と透明電極１５４との間に印加された電圧に応じてその
配向方向が変化する。すなわち、透明電極１４３と透明
電極１５４とが交差する領域が画素（サブ画素）として
機能するのである。カラーフィルタ１５０は、これらの
画素の各々に対応して設けられた樹脂層であり、染料や
顔料によってＲ、Ｇ、Ｂのいずれかに着色されている。
また、遮光層１５１は、各画素の間隙部分を遮光するた
めの格子状の層であり、例えばカーボンブラックが分散
された黒色樹脂材料などによって形成される。

【００８５】５．動作 以上説明した構成によって反射型表示が実現される。す
なわち、太陽光や室内照明光等の外光は、保護板１４５
を透過して液晶表示装置１４０に入射し、反射層１４９
の表面で反射する。この反射光は、液晶１４４及び第１
基板１４１を透過し、散乱層１４７において適度に散乱
された後に偏光板１４６を透過して液晶表示装置１４０
の観察側に出射する。そして液晶表示装置１４０からの
出射光は、保護板１４５を透過して観察者に視認され
る。

【００８６】ここで、上述したように、保護板１４５の
材料としてプラスチックを用いた場合、その表面を完全
な平面とすることは困難であり、複数の微細な凹凸が形
成されやすい。このように微細な凹凸が形成された保護
板１４５を液晶表示装置１４０の第１基板１４１と近接
するように配設した場合、当該液晶表示装置１４０から
の出射光が保護板１４５を透過するときに干渉する結
果、当該凹凸に対応する干渉縞が表示画像に重なって表
示品位の低下を招き得る。しかしながら、本発明者によ
る試験の結果、上記実施形態に示したように、液晶１４
４を通過して保護板１４５に至る光を散乱層１４７によ
って散乱させた場合には、高品位の表示を実現すること
ができる。

【００８７】また、図１３に示した液晶表示装置の構成
において、干渉縞の発生を抑えるという観点からは、散
乱層１４７のヘイズ値Ｈが高い、つまり、散乱の程度が
高いことが望ましい。しかしながら、このヘイズ値Ｈを
あまりに高い値（例えば７０％以上の値）とした場合、
液晶表示装置１４０から保護板１４５に至る光が散乱し
過ぎて表示画像のコントラストが低下する、すなわち表
示画像がぼやけるという新たな問題が生じ得る。一方、
散乱層１４７のヘイズ値Ｈをあまりに低い値とした場
合、例えば１０％以下の値とした場合、凹凸に起因する
シミが見え易い。

【００８８】本発明者による試験の結果、散乱層１４７
のヘイズ値Ｈを１０％〜４０％の範囲内の値に設定した
場合には、表示画像のコントラストが著しく低下するの
を回避しつつ、保護板１４５の表面の凹凸に起因した表
示品位の低下を有効に抑えることができ、良好な表示品
位を確保できるという知見を得るに至った。したがっ
て、散乱層１４７のヘイズ値Ｈをこの範囲内の値に設定
することが望ましく、特に２０％近傍の値に設定するこ
とが望ましい。

【００８９】なお、第５実施形態に示したように、接着
剤１４８ａ中に微粒子１４８ｂを分散させた散乱層１４
７を用いた場合、例えば微粒子１４８ｂの添加量（数）
を調節することによってヘイズ値Ｈを任意に選定するこ
とができる。すなわち、接着剤１４８ａ中に分散させる
微粒子１４８ｂの添加量を増やせば、当該散乱層１４７
への入射光はより散乱することとなるため、当該散乱層
１４７のヘイズ値Ｈを高くすることができ、逆に微粒子
の添加量を減らせば散乱層１４７のヘイズ値Ｈを低くす
ることができるといった具合である。

【００９０】また、第５実施形態によれば、液晶表示装
置１４０から出射する光の散乱の程度を広範囲にわたっ
て容易に選定できるという利点がある。すなわち、上記
散乱層１４７を有しない液晶表示装置において、液晶表
示装置１４０から出射する光の散乱の程度を調節するた
めには、反射層１４９の表面の形状、例えば凸部の高さ
や凹部の深さ、もしくは隣接する凸部（又は凹部）間の
距離などを調節する必要がある。しかしながら、このよ
うに反射層１４９の表面を正確に所望の形状にすること
は、第２基板１４２上に所望の凹凸を形成する製造技術
上の事情などを考慮すると必ずしも容易ではない。さら
に、反射層１４９表面の形状を調節することのみによっ
ては、液晶表示装置１４０から出射する光の散乱の程度
を調節可能な幅が極めて狭い範囲に限定されてしまう。
これに対し、本実施形態によれば、反射層１４９の表面
の形状を大幅に変更しなくても、散乱層１４７のヘイズ
値Ｈを変更することによって、例えば接着剤１４８ａ中
に分散する微粒子１４８ｂの添加量などを適宜調節する
ことによって、液晶表示装置１４０から出射する光の散
乱の程度を広範囲にわたって容易に調節できるという利
点がある。

【００９１】［第６実施形態］第６実施形態は、基板間
に挟持された液晶素子と、当該液晶素子の観察側とは反
対側の基板に設けられた光反射膜と、を具備した液晶表
示装置であって、当該光反射膜が、基材および反射層か
らなり、当該基材に形成された複数の凸部又は凹部は、
ＲＧＢドット１００〜２，０００ドット又は画面全体を
一単位として、平面方向にランダムに配列してあるパッ
シブマトリクス方式の半透過反射型液晶表示装置であ
る。そこで、図１４を参照して、第６実施形態のパッシ
ブマトリクス方式の半透過反射型液晶表示装置につい
て、具体的に説明する。なお、図１４に示す構成要素の
うち、前掲図１３に示した構成要素と共通するものにつ
いては同一の符号を付してその説明を省略する。

【００９２】１．基本構成 図１４に示すように、第６実施形態においては、液晶表
示装置１６０の背面側（観察側とは反対側）にバックラ
イトユニット１５３が配設される。このバックライトユ
ニット１５３は、光源として機能する複数のＬＥＤ１５
（図１４においてはひとつのＬＥＤ１５のみが図示され
ている。）と、側端面に入射したＬＥＤ１５からの光を
液晶表示装置１６０における第２基板１４２の全面に導
く導光板１５２と、この導光板１５２により導かれた光
を液晶表示装置１６０に対して一様に拡散させる拡散板
１５５と、導光板１５２から液晶表示装置１６０とは反
対側に出射した光を液晶表示装置１６０側に反射させる
反射板１５６とを有する。ここで、ＬＥＤ１５は常に点
灯しているわけではなく、外光がほとんど存在しないよ
うな環境において使用される場合に、ユーザからの指示
やセンサからの検出信号に応じて点灯する。

【００９３】さらに、第６実施形態に係る液晶表示装置
１６０においては、反射層１４９のうち各画素の中央部
近傍に対応する領域に開口部１５９が形成されている。
また、第２基板１４２の外側（液晶１４４とは反対側）
にはもう一対の偏光板が貼着されるが、図１４において
はその偏光板については、図示が省略されている。

【００９４】２．動作 かかる構成の液晶表示装置１６０によれば、上記第５実
施形態において示した反射型表示に加えて、透過型表示
を実現することができる。すなわち、バックライトユニ
ット１５３から液晶表示装置１６０に照射された光は、
反射層１４９の開口部１５９を通過する。この光は、液
晶１４４および第１基板１４１を透過し、散乱層１４７
において散乱した後に偏光板１４６を透過して液晶表示
装置１６０の観察側に出射する。そして、この出射光が
保護板１４５を透過して観察側に出射することにより、
透過型表示が実現されるのである。したがって、本実施
形態においても、上述した第５実施形態と同様、表面に
微細な凹凸が形成された保護板１４５を液晶表示装置１
６０と近接して設けた場合であっても、当該凹凸に起因
した表示品位の低下を抑えることができる。

【００９５】[第７実施形態]第７実施形態は、基板間に
挟持された液晶素子と、当該液晶素子の観察側とは反対
側の基板に設けられた光反射膜と、を具備した液晶表示
装置であって、当該光反射膜が、基材および反射層から
なり、当該基材に形成された複数の凸部又は凹部は、Ｒ
ＧＢドット１００〜２，０００又は画面全体を一単位と
して、平面方向にランダムに配列してある液晶表示装置
の変形例である。

【００９６】（１）変形例１ 上記各実施形態においては、散乱層１４７を第１基板１
４１と偏光板１４６との間に設けた構成としたが、散乱
層１４７の位置はこれに限られるものではない。例え
ば、干渉色を補償するための位相差板を偏光板１４６と
第１基板１４１との間に設ける場合、当該位相差板と第
１基板１４１との間に散乱層１４７を介挿してもよい
し、又は位相差板と偏光板１４６との間に散乱層１４７
を介挿してもよい。要は、散乱層１４７が、液晶１４４
に対して保護板１４５側に設けられた構成であればよい
のである。

【００９７】また、上記各実施形態においては、接着剤
１４８ａ中に多数の微粒子１４８ｂを分散させた構成の
散乱層１４７を用いたが、散乱層１４７の構成はこれに
限られるものではなく、入射光を散乱させることができ
る層であれば、いかなる構成であってもよい。もっと
も、接着剤１４８ａを含む散乱層１４７を用いた場合に
は、当該散乱層１４７を挟む部材（例えば、上記各実施
形態における第１基板１４１と偏光板１４６同士を当該
接着剤１４８ａによって接着することができるから、接
着剤１４８ａを含まない散乱層１４７を用いた場合と比
較して、製造コストの低減および製造工程の簡素化を図
ることができるという利点がある。

【００９８】（２）変形例２ 上記第５実施形態においては反射型液晶表示装置を、第
６実施形態においては半透過反射型液晶表示装置を例示
したが、反射層１４９を有さず透過型表示のみを行う透
過型液晶表示装置にも本発明を適用可能である。すなわ
ち、透過型液晶表示装置においては、図１４に示した半
透過反射型液晶表示装置のうち反射層１４９を除いた構
成とすればよい。また、上記第４実施形態においては、
開口部１５９を有する反射層１４９によって反射型表示
と透過型表示の双方を実現する構成としたが、かかる反
射層１４９に代えて、照射された光のうちの一部を透過
させて他の一部を反射させる、いわゆるハーフミラーを
用いた半透過反射型液晶表示装置にも、本発明を適用で
きることはいうまでもない。

【００９９】（３）変形例３ 上記各実施形態においては、保護板１４５としてプラス
チックの板状部材を用いた場合を例示した。かかる保護
板１４５の表面には凹凸が形成されやすいため、本発明
を適用することによって特に顕著な効果を奏し得る。し
かしながら、保護板１４５の材料はこれに限られるもの
ではなく、他にも様々な材料の板状部材を保護板１４５
として用いることができる。

【０１００】（４）変形例４ 上記各実施形態においては、パッシブマトリクス方式の
液晶表示装置に本発明を適用した場合を例示したが、Ｔ
ＦＤ（Thin Film Diode）に代表される二端子型スイッ
チング素子や、ＴＦＴ（Thin Film Transistor）に代表
される三端子型スイッチング素子を用いたアクティブマ
トリクス方式の液晶表示装置にも、本発明を適用可能で
ある。また、上記各実施形態においては、カラーフィル
タ１５０や遮光層１５１が第２基板１４２上に形成され
た場合を例示したが、これらの要素が第１基板１４１上
に形成された構成の液晶表示装置や、カラーフィルタ１
５０又は遮光層１５１を具備しない液晶表示装置にも、
本発明を適用可能であることはいうまでもない。このよ
うに、観察側に近接して保護板１４５が配設される構成
の液晶表示装置１６０であれば、その他の要素の態様の
如何に拘わらず、本発明を適用することができる。

【０１０１】（５）変形例５ 上記第４実施形態においては、アクティブ素子として２
端子型の能動素子であるＴＦＤを用いたアクティブマト
リクス方式の液晶表示装置を例示したが、図１３に示す
ように、アクティブ素子として３端子型の能動素子であ
るＴＦＴを用いたアクティブマトリクス方式の液晶表示
装置でもよい。この場合には、図１３に示すように、遮
光領域にＴＦＴ素子を設けることが好ましい。

【０１０２】[第８実施形態]第８実施形態は、光反射膜
を具備した液晶表示装置を含む電子機器であって、光反
射膜が、基材および反射層を含み、当該基材に形成され
た複数の凸部又は凹部は、ＲＧＢドット１００〜２，０
００又は画面全体を一単位として、平面方向にランダム
に配列してあることを特徴とする電子機器である。

【０１０３】（１）モバイル型コンピュータ まず、本発明に係る液晶表示装置を、可搬型のパーソナ
ルコンピュータ（いわゆるノート型パーソナルコンピュ
ータ）の表示部に適用した例について説明する。図１５
は、このパーソナルコンピュータの構成を示す斜視図で
ある。同図に示すように、パーソナルコンピュータ１６
１は、キーボード１６２を備えた本体部１６３と、本発
明に係る液晶表示装置（図示略）を用いた表示部１６４
とを備えている。表示部１６４は、窓部１６５に対応し
てプラスチックの保護板１４５が配設された筐体１６６
に、本発明に係る液晶表示装置１６０が収容された構成
となっている。より詳細には、液晶表示装置１６０は、
その観察側の基板面が保護板１４５と近接するように、
筐体１６６に収容されている。なお、かかるパーソナル
コンピュータ１６１においては、外光が十分に存在しな
い状況下であっても表示の視認性を確保すべく、上記第
７実施形態に示したように、背面側にバックライトユニ
ット１５３を備えた半透過反射型液晶表示装置を用いる
ことが望ましい。

【０１０４】（２）携帯電話機 次に、本発明に係る液晶表示装置を、携帯電話機の表示
部に適用した例について説明する。図１６は、この携帯
電話機の構成を示す斜視図である。同図に示すように、
携帯電話機１７０は、複数の操作ボタン１７１のほか、
受話口１７２、送話口１７３とともに、本発明に係る液
晶表示装置（図示略）を用いた表示部１７４を備えてい
る。この携帯電話機１７０においては、窓部１７４ｂに
対応してプラスチックの保護板１７５が配設された筐体
１７６に、本発明に係る液晶表示装置が収容された構成
となっている。なお、携帯電話機１７０においても、上
記パーソナルコンピュータと同様、液晶表示装置は、そ
の観察側の基板面が保護板１７５に近接するように、筐
体１７６に収容されている。

【０１０５】なお、本発明に係る液晶表示装置を適用可
能な電子機器としては、図１５に示したパーソナルコン
ピュータや図１６に示した携帯電話機のほかにも、液晶
テレビや、ビューファインダ型・モニタ直視型のビデオ
テープレコーダ、カーナビゲーション装置、ページャ、
電子手帳、電卓、ワードプロセッサ、ワークステーショ
ン、テレビ電話、ＰＯＳ端末、タッチパネルを備えた機
器などが挙げられる。上述したように、本発明に係る液
晶表示装置によれば、表面に微細な凹凸を有する保護板
を、当該液晶表示装置の基板面と近接するように配設し
た場合であっても、当該凹凸に起因した表示品位の低下
を抑えることができる。したがって、表示品位を損なう
ことなく、保護板を液晶表示装置に近接して配設するこ
とによって電子機器の薄型化ないし小型化を図ることが
できる。

【０１０６】

【発明の効果】以上説明したように、本発明のマスクお
よびそれから得られる光反射膜によれば、それぞれ所定
数以上のＲＧＢドット数を一単位として、ランダムパタ
ーンが形成されていることから、液晶表示装置等に使用
した場合には、不定形のシミ模様の視覚を抑制しなが
ら、干渉縞の発生についても効果的に抑制することがで
きるようになった。また、本発明のマスクによれば、情
報量が少なくてすむことから、小型の液晶表示装置等は
もちろんのこと、大型の液晶表示装置等においても、干
渉縞の発生が少ない光反射膜が得られるマスクを、容易
かつ迅速に設計することができるようになった。

【０１０７】また、本発明の光反射膜を設けた液晶表示
装置および光反射膜を有する電子機器によれば、不定形
のシミ模様の視覚を抑制しながら、干渉縞の発生が少な
くなるとともに、設計や製造についても容易になった。
さらに、本発明の光反射膜を設けた液晶表示装置、並び
に光反射膜を有する電子機器によれば、表面に微細な凹
凸を有する保護板を近接して配設した場合であっても、
当該凹凸に起因した表示品位の低下を抑えることができ
るようになった。

【図面の簡単な説明】

【図１】 本発明のマスクを説明するために供する平面
図である。

【図２】 １画素（ＲＧＢ：３ドット）を一単位とし
て、光透過部又は光不透過部を平面方向にランダムに配
列したマスクを説明するために供する平面図である。

【図３】 ２画素（ＲＧＢ：６ドット）を一単位とし
て、光透過部又は光不透過部を平面方向にランダムに配
列したマスクを説明するために供する平面図である。

【図４】 ３画素（ＲＧＢ：１２ドット）を一単位とし
て、光透過部又は光不透過部を平面方向にランダムに配
列したマスクを説明するために供する平面図である。

【図５】 横一列を一単位として、光透過部又は光不透
過部を平面方向にランダムに配列したマスクを説明する
ために供する平面図である。

【図６】 第１の基板および第２の基板を含む光反射膜
の断面図である。

【図７】 非対称の実質的に涙型の凸部からなる光反射
膜の平面図および断面図である。

【図８】 視覚される光量と、視認する角度の関係を示
す図である。

【図９】 開口部を有する光反射膜の断面図である。

【図１０】 光反射膜の製造工程図である。

【図１１】 光反射膜の製造工程のフローチャートであ
る。

【図１２】 ＴＦＴ素子に電気接続された光反射膜を説
明するために供する断面図である。

【図１３】 パッシブマトリクス方式の液晶表示装置の
構成を示す断面図である。

【図１４】 別な液晶表示装置の構成を示す断面図であ
る。

【図１５】 電子機器の一例たるパーソナルコンピュー
タの構成を示す斜視図である。

【図１６】 電子機器の一例たる携帯電話機の構成を示
す斜視図である。

【図１７】 実質的に円錐型の凹部からなる光反射膜付
基板の平面図及び断面図である。

【図１８】 非対称の実質的に涙型の凹部からなる光反
射膜付基板の平面図及び断面図である。

【図１９】 非対称の実質的にピラミッド状の凹部から
なる光反射膜付基板の平面図及び断面図である。

【図２０】 実質的に水平断面が曲率半径の小さい放物
線で垂直断面がそれより曲率半径の大きい放物線の凹部
からなる光反射膜付基板の平面図及び断面図である。

【図２１】 実質的に水平断面が矩形であって、垂直方
向に角錐状の凹部からなる光反射膜付基板の平面図及び
断面図である。

【図２２】 ＴＦＤ方式の液晶表示装置の分解図であ
る。

【図２３】 ＴＦＤ方式の液晶表示装置の部分断面図で
ある。

【図２４】 ＴＦＤ方式の液晶表示装置の部分斜視図で
ある。

【図２５】 従来の液晶表示装置の構成を示す断面図で
ある。

【図２６】 従来の液晶表示装置の別の構成を示す断面
図である。

【図２７】 従来の液晶表示装置の製造工程図である。

【符号の説明】

１０：マスク ７０、１００：光反射膜 ７２、１１６：反射層 ７６、１１２：第１の基材 ７９、１１３：第２の基材 １０２：開口部 １４０：液晶表示装置 １４１：第１基板（観察側の基板） １４２：第２基板 １４３：透明電極 １４４：液晶 １４５：保護板 １４６：偏光板 １４７：散乱層 １４８ａ：接着剤 １４８ｂ：微粒子 １４９：反射層 １５０：カラーフィルタ １５１：遮光層 １５２：導光板 １５３：バックライトユニット １５４：透明電極 １５５：拡散板 １５６：反射板 １５７：オーバーコート層 １５８：シール材 １５９：開口部 １６０：液晶表示装置 １６１：パーソナルコンピュータ（電子機器） １７０：携帯電話機（電子機器） ２３０：液晶表示装置 ２４７：ＴＦＤ

フロントページの続き (72)発明者 露木 正 長野県諏訪市大和３丁目３番５号 セイコ ーエプソン株式会社内 Ｆターム(参考） 2H042 DA02 DA03 DA04 DA05 DA11 DA16 DC02 DC08 DE04 2H091 FA02Y FA11X FA11Z FA14Z FA41Z FB08 GA01 GA13 LA03 2H095 BA07 BA12 BB02 BB36 BC09

Claims (15)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 光反射膜付き基板を製造するためのマス
   クであって、１００〜２，０００ドット又は画面全体を
   一単位として、光透過部又は光不透過部を平面方向にラ
   ンダムに配列することを特徴とするマスク。
2. 【請求項２】 予め作成したＲＧＢドット３〜１２を一
   単位とした光透過部又は光不透過部のランダムパターン
   を分割して、あるいはそのままランダムに配列して、前
   記１００〜２，０００ドット又は画面全体を一単位とし
   た光透過部又は光不透過部が構成してあることを特徴と
   する請求項１に記載のマスク。
3. 【請求項３】 前記光透過部又は光不透過部を横一列方
   向又は縦一列方向に帯状のランダムパターンを形成し、
   当該帯状のランダムパターンを複数列において繰り返す
   ことを特徴とする請求項１又は２に記載のマスク。
4. 【請求項４】 前記光透過部又は光不透過部の径を３〜
   １５μｍの範囲内の値とすることを特徴とする請求項１
   〜３のいずれか一項に記載のマスク。
5. 【請求項５】 前記光透過部又は光不透過部の径を異な
   らせ、複数種類の光透過部又は光不透過部を設けること
   を特徴とする請求項１〜４のいずれか一項に記載のマス
   ク。
6. 【請求項６】 基材と、反射層とを含む光反射膜付き基
   板であって、当該基材の表面に形成された複数の凸部又
   は凹部を、１００〜２，０００ドット又は画面全体を一
   単位として、平面方向にランダムに配列することを特徴
   とする光反射膜付き基板。
7. 【請求項７】 前記複数の凸部又は凹部を、横一列方向
   又は縦一列方向に配列して帯状のランダムパターンを形
   成し、当該帯状のランダムパターンを複数列において繰
   り返すことを特徴とする請求項６に記載の光反射膜付き
   基板。
8. 【請求項８】 前記複数の凸部又は凹部の径を３〜１５
   μｍの範囲内の値とすることを特徴とする請求項６又は
   ７に記載の光反射膜付き基板。
9. 【請求項９】 前記複数の凸部又は凹部の径を異なら
   せ、複数種類の凸部又は凹部を設けることを特徴とする
   請求項６〜８のいずれか一項に記載の光反射膜付き基
   板。
10. 【請求項１０】 前記基材が、下方から第１の基材およ
    び第２の基材を順次に含み、当該第１の基材が複数の凸
    部又は凹部から構成してあり、第２の基材が連続した複
    数の凸部又は凹部から構成してあることを特徴とする請
    求項６〜９のいずれか一項に記載の光反射膜付き基板。
11. 【請求項１１】 基材および反射層を含む光反射膜の製
    造方法であって、１００〜２，０００ドット又は画面全
    体を一単位として、光透過部又は光不透過部を平面方向
    にランダムに配列したマスクを使用して、塗布された感
    光性樹脂に対して、露光プロセスによって、複数の凸部
    又は凹部を有する第１の基材を形成する工程と、当該第
    １の基材の表面に感光性樹脂を塗布して、露光プロセス
    によって、連続した複数の凸部又は凹部を有する第２の
    基材を形成する工程と、当該第２の基材の表面に反射層
    を形成する工程と、を含むことを特徴とする光反射膜の
    製造方法。
12. 【請求項１２】 基板間に挟持された光学素子と、当該
    光学素子の観察側とは反対側の基板に設けられた光反射
    膜と、を具備した光学表示装置であって、当該光反射膜
    が、基材および反射層からなり、当該基材に形成された
    複数の凸部又は凹部は、１００〜２，０００ドット又は
    画面全体を一単位として、平面方向にランダムに配列し
    てあることを特徴とする光学表示装置。
13. 【請求項１３】 前記光学素子の観察側の基板に光散乱
    膜が設けてあることを特徴とする請求項１２に記載の光
    学表示装置。
14. 【請求項１４】 光学表示装置の観察側に保護板が設け
    てあることを特徴とする請求項１２又は１３に記載の光
    学表示装置。
15. 【請求項１５】 光反射膜を具備した光学表示装置を含
    む電子機器であって、前記光反射膜が、基材および反射
    層を含み、当該基材に形成された複数の凸部又は凹部
    は、１００〜２，０００ドット又は画面全体を一単位と
    して、平面方向にランダムに配列してあることを特徴と
    する電子機器。