JP3365409B2 - 反射板並びに反射型液晶表示装置及びその製造方法 - Google Patents
反射板並びに反射型液晶表示装置及びその製造方法Info
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Description
射型液晶表示装置及びその製造方法に関し、特に、外部
からの入射光を反射して表示光源とする反射板並びに反
射型液晶表示装置及びその製造方法に関する。
射板により外部からの入射光を反射して表示光源とする
ことにより、光源としてのバックライトを備える必要の
ない反射型の液晶表示装置(liquid cryst
al display:LCD)が知られている。
て、例えば、フォトリソグラフィ工程により有機絶縁膜
を残して反射板の表面に孤立の凸部を形成し、この凸部
の上に層間膜を設けて、凸部からなる山の部分とそれ以
外の谷の部分からなる滑らかな凹凸形状とし、反射板の
表面に、凹凸パターンを形成したものがある(特許28
25713号公報参照)。
パターンの例を示す平面図である。図14に示すよう
に、凹凸パターン1は、反射板2の表面に、平面形状が
円形状の凸部3をベースとなる凸パターンとして、複数
個各々孤立状態に配置して形成されている。
反射板2の場合、入射光をある程度拡散させて反射させ
ることを目的としていたため、光の散乱性が強く、入射
光は、反射方向が円錐形状となるようにほぼ均等に反射
していた。
反射光の関係を示す説明図である。図15に示すよう
に、反射型液晶表示装置の表示面を見ている観察者の正
面方向から入射する、蛍光灯或いは太陽光による入射光
Liは、反射板2で反射し、ほぼ均等に四方八方に拡散
する反射光Lrとなる。
方向からの強い光(直接光)が支配的であって、壁等に
反射することによりパネルに入射する光(間接光)が弱
いような環境においては、次のような問題があった。す
なわち、略円形のパターンを用いる従来の凹凸パターン
からなる反射板2では、特定方向からの光を観察者側に
効率良く反射させることができないため、パネルに入射
する光を有効に利用することができなかった。従って、
観察者側に反射される光は弱くなり、暗い表示と感じる
表示となってしまった。
ようなエネルギの強い光源の光を有効に利用し、観察者
側に反射される光を多くして明るい表示が得られる反射
板並びに反射型液晶表示装置及びその製造方法を提供す
ることである。
め、この発明に係る反射板は、外部からの入射光を表示
光源とする反射型液晶表示装置に用いられる反射板にお
いて、表示面を見ている観察者及び表示面及び光源を含
む面において、光源から出射する光を前記観察者側に反
射させることを特徴としている。そして、該反射板の全
体について、表面が、凹凸形状を有し、該凹凸形状の凸
部同士を結んだ線、凹部同士を結んだ線、又は凸部と凹
部との中間部分同士をを結んだ線が、前記観察者及び前
記光源とを結ぶ方向に対しほぼ直交する成分を多く有す
ることを特徴とする(請求項1)。また、該反射板の全
体について、該反射板に対し第一の角度で光を入射させ
た場合の第二の角度で反射する光の反射率が、これらの
第一及び第二の角度を維持したまま該反射板を回転させ
たときの該反射板の方位に対して、一定の周期で異方性
を有することを特徴とする(請求項16)。
入射光を表示光源とする反射型液晶表示装置に用いられ
る反射板は、外部からの入射光に対する光反射方向に異
方性を与えることが可能となり、表示面を見ている観察
者及び表示面を結ぶ線の略延長面内に存在する光源の光
を有効に利用することができる。これにより、蛍光灯或
いは太陽光のようなエネルギの強い光源の光を有効に利
用し、観察者側に反射される光を多くして、直接光成分
が多い環境下においても明るい表示を得ることができ
る。
より、上記反射板を製造することができ、この発明に係
る反射型液晶表示装置により、上記反射板を有する反射
型液晶表示装置を実現することができ、この発明に係る
反射型液晶表示装置の製造方法により、上記反射型液晶
表示装置を実現することができる。
いて図面を参照して説明する。
射型液晶表示装置の部分断面図である。図1に示すよう
に、反射型液晶表示装置10は、装置内部に、下部側基
板11、下部側基板11に対向して配置された対向側基
板12、及び下部側基板11と対向側基板12の間に挟
み込まれた液晶層13を有している。
薄膜トランジスタ(thin film transi
stor:TFT)をスイッチング素子として各画素毎
に設けた、アクティブマトリクス方式を採用している。
保護膜15、TFT16、第1絶縁層17、凸パターン
18、第2絶縁層19、及び反射電極20を有してい
る。絶縁性基板14の上には、絶縁保護膜15が積層さ
れ、絶縁保護膜15の上には、TFT16が形成されて
いる。TFT16は、絶縁性基板14上のゲート電極1
6a、ゲート電極16aを覆う絶縁保護膜15上のドレ
イン電極16b、半導体層16c、及びソース電極16
dを有している。
第1絶縁層17或いはTFT16のソース電極16dを
介して、凸パターン18が形成されている。この凸パタ
ーン18、第1絶縁層17及びソース電極16dを覆っ
て、第2絶縁層19が積層され、第2絶縁層19には、
ソース電極16dに達するコンタクトホール21が開け
られている。
縁層19を覆って、反射電極20が積層されている。反
射電極20は、TFT16のソース電極16d又はドレ
イン電極16bに接続され、反射板及び画素電極として
の機能を有する。
た端子領域には、絶縁性基板14上のゲート端子部22
と共に、ゲート端子部22を覆う絶縁保護膜15上のド
レイン端子部23が形成されている。
に積層された、透明電極24、カラーフィルタ25及び
絶縁性基板26を有している。この絶縁性基板26から
対向側基板12に入射した入射光Liは、対向側基板1
2から液晶層13を経て下部側基板11に達し、反射電
極20に反射されて反射光Lrとなり、再び液晶層13
を経て透明電極24から対向側基板12の外に出射され
る。
ターンの例を示す平面図である。図2に示すように、反
射電極(反射板)20の表面には、凸パターン18が形
成されている。
面に形成される凹凸パターン(凹凸形状)のベースとな
るものであり、反射電極20の表面に沿う水平方向のラ
イン状成分が多くなるように、例えば、途中で折れ曲が
った棒状のものを並べて形成され((a)参照)、或い
は平面形状が円形状と細板状のものを組み合せて形成さ
れている((b)参照)。
射電極20に入射した光を、反射型液晶表示装置10の
表示面を見ている観察者側に多く反射させるような指向
性を持たせるように、形成されている。
示す説明図である。図3に示すように、観察者Pの正面
方向に位置する光源Sからの入射光Liは、反射電極2
0の凸パターン18で反射し、反射光の多くは表示面を
見ている観察者Pの目の方向へと向かう反射光Lrとな
る。
表面に沿い、入射光Liと観察者Pを結ぶ方向である水
平方向の縦方向に形成された分の平均傾斜角度と、縦方
向に直交する横方向に形成された分の平均傾斜角度とが
異なっている、凸パターン18により形成される。
沿うライン状成分が多くなる多角形状ベースにより形成
されることになり、水平方向のライン状成分を多く有す
ることで、反射電極20には、観察者Pの正面方向から
の入射光Liを観察者P側に反射させる面が多く形成さ
れ、入射光Liを観察者P側に効率よく反射させること
ができる。
向の成分よりも多く設けていない反射電極に比べ、蛍光
灯や太陽を光源とする直接光を有効に利用することがで
きるので、表示面がより明るい反射型液晶表示装置とす
ることができる。
向について説明する。特定方向とは、反射型液晶表示装
置10の外部から反射電極20に入射し得る外部光にお
いて、照度の強い外部光(直接光)が存在する方向であ
る。この直接光が存在する方向は、屋内の場合、蛍光灯
等の照明器具が位置する方向であり、屋外の場合、太陽
光の方向となる。
型の携帯端末機器等では、その向きを自由に変えること
ができるので、観察者が最も表示面を見易い位置に機器
を移動させて用いることが考えられる。
観察者の位置関係の説明図である。図4に示すように、
観察者Pが最も表示面を見易い位置は、通常、反射電極
20に入射する光源Sからの直接光と、反射型液晶表示
装置10と、表示面を見ている観察者Pとが、反射型液
晶表示装置10の法線を含む同一面上に存在する場合
((a),(b)参照)である。従って、これらの位置
関係を満たす方向を、特定方向及び観察者側方向と定義
する。
察者の目の間隔或いは機器との距離等、種々の関連要素
から決定され、法線方向に対して、入射光Liは0〜約
−60度、反射光Lrは約−10〜約+20度、また、
表示面に沿う水平方向に対して、入射光Li及び反射光
Lr共に約40度(約−20度〜約+20度)である。
いて説明する。水平方向とは、光源Sからの直接光と観
察者Pを結んだ直線に対し直交する方向とする(図4
(b)参照)。この発明に係る反射電極20の場合、従
来の全方位(360度)から均一に集光する場合と比較
して、特定方向(正面の中心から約+20度〜約−20
度の範囲)からの光の強さが2倍以上になることが望ま
しい。このような光学特性を得るためには、反射電極2
0の平面構造における凹凸のパターンは、水平方向に約
+10度から約−10度の角度範囲の割合が全体の約2
0%以上とすることが望ましい。
要件の説明図である。図5に示すように、反射電極20
上の凸パターン18(図2参照)は、長軸方向と短軸方
向の長さが異なる異方性を有する単位図形27により構
成される。
(長軸方向に直交する方向)の基準線Oに対する角度を
θ[deg]とし、反射電極20上の凸パターン18を
形成する単位図形27の数をn、各単位図形27の長軸
方向の長さをrnとすると、角度条件による場合分け
(θ<−20orθ>20,−20≦θ≦20)をした
長軸方向長さの総和Lterget、全ての長軸方向長
さの総和Lall、及び有効線分比Ratioは、
る。この有効線分比を約22%以上、望ましくは約33
%(約1.5倍)以上にすることで、基準方向O(若し
くはその直交方向)からの光を有効に利用することがで
きる。
ンの例を示す説明図である。図6には、各種凸パターン
18が形成された反射電極20の形状と、その凸パター
ン18を形成する基本となった図形とを、対照して表示
している((a)〜(f)参照)。この基本となった図
形は、単位図形27を無作為に配置して形成されるもの
であり、形成された種々の形状の代表的なものを示して
いる。
有効線分比を比べてみると、基本となった図形が、六角
形状の場合((c)参照)は約34%、三角形状の場合
((a)参照)は約35%、四角形状((b)参照)或
いは矩形状((f)参照)の場合は約47%、多点直線
形状((e)参照)の場合は約60%、直線形状の場合
((d)参照)は約100%となる。
インを多く有する、多角形状を基本とした図形により形
成することが望ましい。
の基本図形パターンの例を示す説明図である。図7に
は、各種凸パターン(図6参照)を形成するための基本
図形パターンと、その基本図形パターンの元となる各種
基本図形を、対照して表示している。
を基本図形とするSTDtr、四角形状を基本図形とす
るSTDsikaku、菱形形状を基本図形とするST
Dhishi、六角形状を基本図形とするSTDHex
1〜3、U字形状を基本図形とするSTDUgata1
〜4がある。
合、先ず、単位図形27(図5参照)を用いて、この基
本図形パターンを描写し、次に、基本図形パターンの頂
点の位置をずらして配置し変形することにより、所望の
凸パターン18を形成する。
平方向のライン)、三角形、四角形、六角形、これらの
扁平形、矩形、楕円、U字形、菱形、V/U構造等、こ
れらのパターンを回転させたもの、又は、これらのパタ
ーンを拡大若しくは縮小させたもの等を用い、パラメー
タとして、一辺の長さ、ラインの幅、ピッチ、又はラン
ダム性等を用いる。
製造工程における反射電極製造工程を示す説明図であ
る。図8に示すように、先ず、スイッチング素子として
のTFT16の基板を形成する((a)参照)。
を形成して絶縁保護膜15を積層し、絶縁保護膜15の
上に、ドレイン電極16b、半導体層16c及びソース
電極16dをそれぞれ形成する。更に、TFT16を覆
って第1絶縁層17を積層する。
に限るものではなく、例えば、ダイオード等、その他の
スイッチング素子の基板を形成しても良い。
布した後、露光・現像処理を行って、凸パターン形成マ
スクにより、反射電極20の表面に凹凸パターンを形成
するための複数条の凸パターン18を形成する((b)
参照)。その後、有機樹脂の熱焼成を行う((c)参
照)。
樹脂からなる層間膜を塗布して、滑らかな凹凸形状とし
た後、露光・現像処理を行ってコンタクトホール21を
開ける。その後、層間膜の熱焼成を行い第2絶縁層19
を形成する((d)参照)。
て、コンタクトホール21と共に第2絶縁層19を覆う
アルミニウム(Al)薄膜を形成した後、露光・現像処
理を行って、反射画素電極としての反射電極20を形成
する(図1参照)。なお、反射電極20の材料は、Al
に限るものではなく、他の導電性材料により形成しても
良い。
とTFT基板の間の有機層間膜(凹凸層)を2層で作る
他、有機層間膜を1層で作ってもよい。
凸が形成されるが、この凹凸を形成するための有機材料
等は、露光・現像、更には熱処理によって形状が変化す
るため、例えば、菱形と楕円等、基本図形のパターンの
違いによって明確な差が生じることはない。また、長方
形の場合、或いは長辺の長さが異なる場合でも、パター
ン同士を近接させることによって、最終的な凹凸の形状
に差が生じることはない。
過程で用いるマスクの遮光部(或いは透光部)の基本と
なる形状としては、長軸と短軸の2軸性を有する形状を
組み合わせて用いることが重要である。
として説明を行っているが、これが菱形や楕円等の形状
となっていても、この発明の有効性には何ら影響がない
ことは言うまでもない。また、この際、各々の図形は完
全に独立している必要は無く、重なっていても、又は、
つながっている形になっていてもかまわない。
ターンの他の例を示す平面図である。図9に示すよう
に、反射電極20に形成される凸パターン29は、平面
形状が略円形に形成され、水平方向を接近させて、水平
方向ピッチPhの平均値と垂直方向ピッチPvの平均値
に差を有するように、それぞれ孤立して配置されてい
る。従って、孤立した略円形の凸パターン29であって
も、特定方向からの入射光Liをより強く反射させるこ
とができる。
ン形成時に用いられるマスクの遮光部分を反映した凸部
或いは凹部を有しており、反射面上の一つの凸パターン
に注目すると、頂点を中心としてほぼ対照的な構造を有
している。
ズの大きい凸部と小さい凸部を近接させて、大きい部分
の残膜を多く小さい部分の残膜を少なくすることによ
り、即ち、サイズが異なる2種類以上のパターンを用い
ることによって、凸パターンに傾斜面を形成することも
可能である。
晶表示装置の反射電極20の表面に、特定方向からの入
射光Liを観察者P側に多く反射させるような凹凸形状
を形成することによって、明るい反射型液晶表示装置1
0を形成することができる。
特定方向を0度とした場合に、この特定方向に向いてい
る線分(ラインパターン)の割合を多くするために、
「反射電極20の表面に形成される凸パターン18は、
長軸と短軸が異なる異方性形状を有する、孤立状態或い
は連結状態の何れでも良い、長軸側方向が一定の向きに
集中している」、ことを要件としている。
ターンの場合、入射した光は、円錐形状にほぼ均等に反
射していたのが、この発明に係る反射電極の凹凸パター
ンの場合、入射した光は、表示面を見ている観察者の目
に近い方向に多く反射することになる。
示面を見ている観察者P及び表示面及び光源を含む面に
おいて、光源から出射する光を観察者P側に反射させて
おり、その表面が、凹凸形状を有し、この凹凸形状の凸
部、凹部、或いは凸部と凹部それぞれの中間部分を結ん
だ線が、観察者P及び光源とを結ぶ方向に対しほぼ直交
する成分を多く有している。
結んだ線の、観察者P及び光源を結んだ線に対しほぼ直
交する方向を中心として約+10度から約−10度の角
度範囲に存在する成分の割合が、全体の20%以上とな
っており、この凹凸形状の、観察者Pと光源を結ぶ方向
に形成された凹凸の平均傾斜角度と、これに直交する方
向に形成された凹凸の平均傾斜角度が異なって(望まし
くは、0.5度以上)いる。
20の表面に形成される凹凸パターンは、凸パターン1
8をベースとして形成されるが、凸パターン18に限る
ものではなく、例えば、凹パターンを凹凸パターンのベ
ースとして用いても良い。
定方法を説明するための図を示す。また、図11に、本
発明の反射板が有する反射特性の一例を示す。反射特性
の測定は、反射板の垂直方向に対して、−φの角度で平
行光を入射させ、反射板の垂直方向に対して、θの角度
に設置した受光部で反射光の強度を測定した。図11に
示す測定結果は、−φ,θの角度を維持したまま前記測
定を反射板の向きを変えることにより、様々な方位で測
定することにより得られる。
射する光の方位により異なり、反射率の大きい方位角度
と小さい方位角度が、一定の周期で表れることを特徴と
している。本例では、測定の基点を0度とし、反射板を
360度回転させたとき、60度毎に反射率が大きくな
っている。
態(請求項17に対応)における形状を示す平面図であ
る。本発明の反射板は、表面に凹凸形状を有し、その凹
凸形状の凸部30によって囲まれた凹部31が、三角形
となるように形成されている。反射板に光源を入射させ
たときに三角形の一辺が、観察者及び前記光源とを結ぶ
方向に対して、ほぼ直交するように形成されていること
を特徴としている。
り、反射板の反射特性を、図11に示すように、方位に
対する異方性を持たせることができ、観察者が存在する
方位を0度としたときに、観察者側により多くの光を反
射することができる反射板を形成することができる。
たが、凹部の形状は三角形だけでなく四角形やそれ以上
の多角形でもよく、形状を変えることにより、反射率、
および反射率の異方性の周期が変化する。また、本発明
の反射板では、多角形の頂点間の平均距離を5μm以上
あることを特徴としている。このように、距離を5μm
以上とすることで、凸部分と凹部にかけて形成される傾
斜面の法線成分が揃うため、反射率に方位に対する異方
性を持たせることができる。
表示装置の他の実施の形態(請求項20に対応)の表示
部を示す平面図である。本発明の反射板33は、表面に
凹凸形状を有し、その凹凸形状の凸部分が三角形となる
ように形成されている。
び前記光源とを結ぶ方向に対して、ほぼ直交するように
形成すると、観察者側の反射率は、図11に示す特性に
おいて、観察者が存在する方位が0度となり、観察者側
により多くの光を反射することができ、明るい反射型液
晶表示装置32を提供することができる。
が、凸部の形状は三角形に限定されるものではなく、四
角形、それ以上の多角形でもよい。
方法について概略的に説明する。図8に示すように、T
FT16等の素子を有する基板14上(図8(a)参照)
に、有機樹脂等により三角形以上の多角形状にパターニ
ングされた凸部18(又は凹部)を形成する(図8(b)
参照)。このようなパターンは、フォトリソグラフィー
工程や、エッチング処理等を経て形成することができ
る。
の先端部分を熱処理等によって丸める(図8(c)参
照)。
覆うように、有機樹脂等により層間膜19を形成し、全
体を滑らかな凹凸形状とする(図8(d)参照)。この
とき、層間膜19にコンタクトホール21を形成する。
層間膜19の上部に形成し、画素電極をパターニングす
ることで、図1に示すような反射型液晶表示装置を得
た。
ば、外部からの入射光を表示光源とする反射型液晶表示
装置に用いられる反射板は、外部からの入射光に対する
光反射方向に異方性を与えることが可能となり、表示面
を見ている観察者及び表示面を結ぶ線の略延長面内に存
在する光源の光を有効に利用することができるので、蛍
光灯或いは太陽光のようなエネルギの強い光源の光を有
効に利用し、観察者側に反射される光を多くして、直接
光成分が多い環境下においても明るい表示を得ることが
できる。
より、上記反射板を製造することができ、この発明に係
る反射型液晶表示装置により、上記反射板を有する反射
型液晶表示装置を実現することができ、この発明に係る
反射型液晶表示装置の製造方法により、上記反射型液晶
表示装置を実現することができる。
装置の部分断面図である。
示す平面図である。
ある。
関係の説明図である。
である。
説明図である。
ターンの例を示す説明図である。
ける反射電極製造工程を示す説明図である。
例を示す平面図である。
略図である。
る。
るための平面図である。
を示す平面図である。
を示す説明図である。
Claims (22)
- 【請求項1】 外部からの入射光を表示光源とする反射
型液晶表示装置に用いられる反射板において、 表示面を見ている観察者及び表示面及び光源を含む面に
おいて、光源から出射する光を前記観察者側に反射させ
る反射板であって、該反射板の全体について、 表面が、
凹凸形状を有し、該凹凸形状の凸部同士を結んだ線、凹
部同士を結んだ線、又は凸部と凹部との中間部分同士を
を結んだ線が、前記観察者及び前記光源とを結ぶ方向に
対しほぼ直交する成分を多く有することを特徴とする反
射板。 - 【請求項2】 前記凸部同士を結んだ線、凹部同士を結
んだ線、又は凸部と凹部との中間部分同士をを結んだ線
の、前記観察者及び光源を結んだ線に対しほぼ直交する
方向を中心として約+10度から約−10度の角度範囲
に存在する成分の割合が、全体の20%以上となること
を特徴とする請求項1記載の反射板。 - 【請求項3】 前記凹凸形状の、前記観察者と光源を結
ぶ方向に形成された凹凸の平均傾斜角度と、これに直交
する方向に形成された凹凸の平均傾斜角度が異なること
を特徴とする請求項1又は2記載の反射板。 - 【請求項4】 前記各平均傾斜角度は、0.5度以上異
なっていることを特徴とする請求項3に記載の反射板。 - 【請求項5】 前記凹凸形状は、長軸方向と短軸方向の
長さが異なる異方性を有する単位図形により構成される
ことを特徴とする請求項1乃至4のいずれかに記載の反
射板。 - 【請求項6】 前記単位図形の、短軸方向の基準線に対
する角度による場合分けをした長軸方向長さの総和と、
全ての長軸方向長さの総和の比である有効線分比が、約
22%以上であることを特徴とする請求項5記載の反射
板。 - 【請求項7】 前記角度による場合分けは、前記基準線
に対する角度が約−20度から約+20度の範囲に含ま
れる場合と、それ以外の場合とで行われることを特徴と
する請求項6記載の反射板。 - 【請求項8】 前記凹凸形状は、前記単位図形を用いて
描写した基本図形パターンの頂点の位置をずらしてラン
ダムな配置とした、凸パターンにより形成されることを
特徴とする請求項5乃至7のいずれかに記載の反射板。 - 【請求項9】 前記基本図形パターンは、形状として、
直線、三角形、四角形、六角形、これらの扁平形、矩
形、楕円、U字形、菱形、V/U構造、これらのパター
ンを回転させたもの、又はこれらのパターンを拡大若し
くは縮小させたものが用いられ、パラメータとして、一
辺の長さ、ラインの幅、ピッチ、又はランダム性が用い
られて形成された図形からなることを特徴とする請求項
8記載の反射板。 - 【請求項10】 前記凹凸形状は、平面形状が略円形に
形成され、水平方向を接近させて、水平方向ピッチの平
均値と垂直方向ピッチの平均値に差を有するように、そ
れぞれ孤立して配置された凸パターンにより形成される
ことを特徴とする請求項1乃至9のいずれかに記載の反
射板。 - 【請求項11】 光透過パターン又は遮光パターンを構
成する基本図形として長軸方向と短軸方向の長さが異な
る異方性を有する単位図形により構成されているマスク
を用いて、前記凹凸形状を作成し、請求項1乃至10の
いずれかに記載の反射板を製造することを特徴とする反
射板の製造方法。 - 【請求項12】 請求項1乃至10のいずれかに記載の
反射板を用い、外部からの入射光を前記反射板に反射さ
せた反射光を表示光源とすることを特徴とする反射型液
晶表示装置。 - 【請求項13】 請求項11に記載の反射板の製造方法
により製造された反射板を用い、外部からの入射光を前
記反射板に反射させた反射光を表示光源とすることを特
徴とする反射型液晶表示装置。 - 【請求項14】 各画素毎にスイッチング素子としての
薄膜トランジスタを設けたアクティブマトリクス方式に
より、液晶を駆動することを特徴とする請求項12又は
13記載の反射型液晶表示装置。 - 【請求項15】 スイッチング素子の基板を形成し、前
記スイッチング素子を覆って第1絶縁層を積層する工程
と、前記第1絶縁層の上に、請求項1乃至10のいずれ
かに記載の反射板の凹凸形状を形成する凸パターンを形
成し、熱焼成を行う工程と、前記凸パターンを覆う層間
膜を塗布して滑らかな凹凸の形状とし、前記層間膜の熱
焼成を行って第2絶縁層を形成する工程と、前記第2絶
縁層を覆う導電性薄膜を積層し、前記反射板を形成する
工程とを有することを特徴とする反射型液晶表示装置の
製造方法。 - 【請求項16】 外部からの入射光を表示光源とする反
射型液晶表示装置に用いられる反射板において、表示面を見ている観察者及び表示面及び光源を含む面に
おいて、光源から出射する光を前記観察者側に反射させ
る反射板であって、該反射板の全体について、 該反射板に対し第一の角度で光を入射させた場合の第二
の角度で反射する光の反射率が、これらの第一及び第二
の角度を維持したまま該反射板を回転させたときの該反
射板の方位に対して、一定の周期で異方性を有すること
を特徴とする反射板。 - 【請求項17】 表面が凹凸形状を有し、該凹凸形状の
凸部によって囲まれた凹部が、三角形以上の多角形にな
るように形成されていることを特徴とする請求項16記
載の反射板。 - 【請求項18】 前記多角形の形状を制御することによ
り、前記反射板における反射率の異方性の周期及び反射
率を制御することを特徴とする請求項17記載の反射
板。 - 【請求項19】 前記凹凸形状における多角形の頂点間
の距離が平均5μm以上であることを特徴とする請求項
17又は18記載の反射板。 - 【請求項20】 請求項16乃至19のいずれかに記載
の反射板を用い、外部からの入射光を前記反射板に反射
させた反射光を表示光源とする反射型液晶表示装置であ
って、 前記反射板の反射率が大きくなる方位を、前記反射型液
晶表示装置に入射させる光の光源と前記観察者を結ぶ方
向に対してほぼ平行となるようにしたことを特徴とする
反射型液晶表示装置。 - 【請求項21】 請求項16乃至19のいずれかに記載
の反射板を製造する方法であって、 前記凹凸形状を有する反射板を形成する工程が、基板上
に絶縁物質を用いて、前記凸パターンを形成する工程
と、前記凸パターンを覆うように第2の絶縁層を形成す
る工程と、前記第2の絶縁層の上部に反射膜を形成する
工程を有することを特徴とする反射板の製造方法。 - 【請求項22】 前記凹凸形状を形成する工程が、基板
上に前記凸部または凹部に相当する遮光領域を有するマ
スクを用いて、前記凸部パターン形状を有する絶縁層を
形成する工程と、前記凸パターンを覆うように絶縁層を
形成する工程とを備えた請求項21記載の反射板の製造
方法。
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