KR100664342B1 - 전기 광학 장치용 기판의 제조 방법, 전기 광학 장치의제조 방법, 전기 광학 장치용 기판, 전기 광학 장치 및전자기기 - Google Patents
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Abstract
Description
Claims (14)
- 요철 형상의 광 반사부를 갖는 전기 광학 장치용 기판의 제조 방법으로서,기판에 포지티브형 감광성 재료를 도포하는 도포 공정과,상기 도포 공정에 의해 도포된 감광성 재료에, 상기 광 반사부에 있어서의 볼록부에 대응한 영역을 형성하도록, 상기 감광성 재료의 막 두께의 깊이보다 얕은 깊이까지 광이 작용하도록 노광하는 요철 형성용 노광 공정과,상기 전기 광학 장치용 기판으로 되는 영역을 형성하도록, 상기 전기 광학 장치용 기판으로 되는 영역의 외측에 대하여, 상기 도포 공정에 의해 도포된 감광성 재료의 막 두께의 깊이 이상으로 광이 작용하도록 노광하는 기판 노광 공정과,노광이 행해진 상기 감광성 재료를 현상하고, 노광 시에 감광된 영역을 제거하는 현상 공정과,상기 현상 공정에 의해 상기 감광성 재료에 형성된 요철면 상에, 광 반사성을 갖는 반사층을 형성하는 반사층 형성 공정을 갖는 것을 특징으로 하는 전기 광학 장치용 기판의 제조 방법.
- 제 1 항에 있어서,상기 기판 노광 공정에서는, 광을 투과시키기 위한 개구부를 상기 전기 광학 장치용 기판으로 되는 영역 내에 형성하도록, 상기 전기 광학 장치용 기판으로 되 는 영역의 외측에 부가하여, 상기 전기 광학 장치용 기판으로 되는 영역 내의, 개구부에 대응하는 영역을 노광시키는 것을 특징으로 하는 전기 광학 장치용 기판의 제조 방법.
- 요철 형상의 광 반사부를 갖는 전기 광학 장치용 기판의 제조 방법으로서,기판에 네거티브형 감광성 재료를 도포하는 도포 공정과,상기 도포 공정에 의해 도포된 감광성 재료에, 상기 광 반사부에 있어서의 볼록부에 대응한 영역을 형성하도록, 상기 감광성 재료의 막 두께의 깊이보다 얕은 깊이까지 광이 작용하도록 노광하는 요철 형성용 노광 공정과,상기 전기 광학 장치용 기판으로 되는 영역을 형성하도록, 상기 전기 광학 장치용 기판으로 되는 영역의 외측을 차광하고, 상기 도포 공정에 의해 도포된 감광성 재료의 막 두께의 깊이 이상으로 광이 작용하도록 노광하는 기판 노광 공정과,노광이 행해진 상기 감광성 재료를 현상하고, 노광 시에 차광된 영역을 제거하는 현상 공정과,상기 현상 공정에 의해 상기 감광성 재료에 형성된 요철면 상에, 광 반사성을 갖는 반사층을 형성하는 반사층 형성 공정을 갖는 것을 특징으로 하는 전기 광학 장치용 기판의 제조 방법.
- 제 3 항에 있어서,상기 기판 노광 공정에서는, 광을 투과시키기 위한 개구부를 상기 전기 광학 장치용 기판으로 되는 영역 내에 형성하도록, 상기 전기 광학 장치용 기판으로 되는 영역의 외측에 부가하여, 상기 전기 광학 장치용 기판으로 되는 영역 내로서 개구부에 대응하는 영역을 차광하는 것을 특징으로 하는 전기 광학 장치용 기판의 제조 방법.
- 제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 있어서,상기 요철 형성용 노광 공정에서는 스테퍼 노광에 의해 노광을 행하고,상기 기판 노광 공정에서는 스테퍼 노광 또는 일괄 노광에 의해 노광을 행하는 것을 특징으로 하는 전기 광학 장치용 기판의 제조 방법.
- 청구항 1 내지 4 중 어느 한 항에 기재된 전기 광학 장치용 기판의 제조 방법을 포함하는 것을 특징으로 하는 전기 광학 장치의 제조 방법.
- 요철면을 갖는 하지층과, 광 반사성을 갖는 광 반사층을 갖는 전기 광학 장치용 기판으로서,상기 광 반사층은 상기 하지층 중 상기 요철면 상에 위치하도록 마련되고,상기 하지층은, 그 측단면이 평탄하며, 상기 요철면의 오목부의 깊이가 상기 하지층의 막 두께보다 얇은 것을 특징으로 하는 전기 광학 장치용 기판.
- 요철면을 갖는 하지층과, 광 반사성을 갖는 광 반사층과, 광을 차광하는 차광층을 갖는 전기 광학 장치용 기판으로서,상기 차광층은 흑색 수지 재료로 형성되고 상기 하지층 중 상기 요철면의 소정 영역에 마련되고,상기 광 반사층은 상기 하지층 중 상기 요철면 상에 위치하도록 마련되며,상기 하지층은, 그 측단면이 평탄하고, 상기 요철면의 오목부의 깊이가 상기 하지층의 막 두께보다 얇은 것을 특징으로 하는 전기 광학 장치용 기판.
- 요철면을 갖는 하지층과, 광 반사성을 갖는 광 반사층과, 광을 차광하는 차 광층을 갖는 전기 광학 장치용 기판으로서,상기 차광층은 금속 재료로 형성되고 상기 하지층 중 상기 요철면의 소정 영역에 마련되고,상기 광 반사층은 상기 하지층 중 상기 요철면 상에 위치하도록 마련되며,상기 하지층은, 그 측단면이 평탄하고, 상기 요철면의 오목부의 깊이가 상기 하지층의 막 두께보다 얇은 것을 특징으로 하는 전기 광학 장치용 기판.
- 요철면을 갖는 하지층과, 광 반사성을 갖는 광 반사층과, 광을 차광하는 차광층을 갖는 전기 광학 장치용 기판으로서,상기 차광층은 착색된 수지를 적층하여 형성되고 상기 하지층 중 상기 요철면의 소정 영역에 마련되고,상기 광 반사층은 상기 하지층 중 상기 요철면 상에 위치하도록 마련되며,상기 하지층은, 그 측단면이 평탄하고, 상기 요철면의 오목부의 깊이가 상기 하지층의 막 두께보다 얇은 것을 특징으로 하는 전기 광학 장치용 기판.
- 요철면을 갖는 하지층과, 광 반사성을 갖는 광 반사층을 갖는 전기 광학 장 치용 기판으로서,상기 광 반사층은 상기 하지층 중 상기 요철면 상에 위치하도록 마련되고,상기 하지층은, 포지티브형 감광성 재료로 이루어지고, 그 측단면이 평탄하며, 상기 요철면의 오목부의 깊이가 상기 하지층의 막 두께보다 얇은 것을 특징으로 하는 전기 광학 장치용 기판.
- 요철면을 갖는 하지층과, 광 반사성을 갖는 광 반사층을 갖는 전기 광학 장치용 기판으로서,상기 광 반사층은 상기 하지층 중 상기 요철면 상에 위치하도록 마련되고,상기 하지층은, 네거티브형 감광성 재료로 이루어지고, 그 측단면이 평탄하며, 상기 요철면의 오목부의 깊이가 상기 하지층의 막 두께보다 얇은 것을 특징으로 하는 전기 광학 장치용 기판.
- 서로 대향하여 전기 광학 물질을 사이에 유지하는 한 쌍의 기판과, 상기 한 쌍의 기판 중 한쪽 기판에 마련되고, 대향하는 기판 측으로부터의 입사광을 반사하는 전기 광학 장치용 기판과, 상기 전기 광학 장치용 기판의 측단면에 걸쳐서 위치하고, 상기 액정에 전압을 인가하기 위한 전극을 갖는 전기 광학 장치로서,상기 전기 광학 장치용 기판은 청구항 7 내지 12 중 어느 한 항에 기재된 전 기 광학 장치용 기판인 것을 특징으로 하는 전기 광학 장치.
- 청구항 13에 기재된 전기 광학 장치를 표시 장치로서 구비하는 것을 특징으로 하는 전자기기.
Applications Claiming Priority (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003374280 | 2003-11-04 | ||
JPJP-P-2003-00374280 | 2003-11-04 | ||
JP2004184090A JP2005157272A (ja) | 2003-11-04 | 2004-06-22 | 電気光学装置用基板の製造方法、電気光学装置の製造方法、電気光学装置用基板、電気光学装置および電子機器 |
JPJP-P-2004-00184090 | 2004-06-22 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20050042731A KR20050042731A (ko) | 2005-05-10 |
KR100664342B1 true KR100664342B1 (ko) | 2007-01-02 |
Family
ID=34635584
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020040088685A KR100664342B1 (ko) | 2003-11-04 | 2004-11-03 | 전기 광학 장치용 기판의 제조 방법, 전기 광학 장치의제조 방법, 전기 광학 장치용 기판, 전기 광학 장치 및전자기기 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7224505B2 (ko) |
JP (1) | JP2005157272A (ko) |
KR (1) | KR100664342B1 (ko) |
CN (1) | CN1293427C (ko) |
TW (1) | TWI281577B (ko) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101171190B1 (ko) * | 2005-11-02 | 2012-08-06 | 삼성전자주식회사 | 표시장치의 제조방법과 이에 사용되는 몰드 |
KR102324543B1 (ko) * | 2014-12-11 | 2021-11-11 | 엘지디스플레이 주식회사 | 표시장치 및 표시패널 |
Family Cites Families (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3239976B2 (ja) * | 1994-09-30 | 2001-12-17 | 株式会社東芝 | アライメントマーク、半導体装置の製造方法および半導体装置 |
JP3394926B2 (ja) | 1998-09-28 | 2003-04-07 | シャープ株式会社 | 液晶表示装置の製造方法 |
JP3394925B2 (ja) | 1998-09-28 | 2003-04-07 | シャープ株式会社 | 液晶表示装置の製造方法 |
JP3091190B1 (ja) * | 1999-06-30 | 2000-09-25 | 京セラ株式会社 | 半透過型液晶表示装置 |
JP2001290014A (ja) | 2000-04-04 | 2001-10-19 | Nikon Corp | 光学素子の製造方法及び製造システム並びにこの製造方法を用いて製作された光学素子及びこの光学素子を用いた露光装置 |
JP2003057640A (ja) * | 2001-06-05 | 2003-02-26 | Seiko Epson Corp | 電気光学装置、電子機器、および電気光学装置の製造方法 |
JP3753673B2 (ja) | 2001-06-20 | 2006-03-08 | セイコーエプソン株式会社 | 液晶表示装置の製造方法 |
KR100813027B1 (ko) * | 2001-08-18 | 2008-03-14 | 삼성전자주식회사 | 감광성 절연막 및 반사전극의 요철 형성방법 및 이를이용한 요철구조의 반사전극을 갖는 액정표시기의 제조방법 |
JP4137460B2 (ja) * | 2002-02-08 | 2008-08-20 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 半導体装置の作製方法 |
FR2836242B1 (fr) * | 2002-02-18 | 2004-04-30 | Synelec Telecom Multimedia | Procede de fabrication d'un ecran de retroprojection |
JP3733923B2 (ja) | 2002-04-10 | 2006-01-11 | セイコーエプソン株式会社 | マスク及び表示装置の製造方法 |
JP2003302740A (ja) | 2002-04-10 | 2003-10-24 | Seiko Epson Corp | マスク、光反射膜付基板、光反射膜の形成方法、電気光学装置の製造方法、及び電気光学装置、並びに電子機器 |
JP2003320742A (ja) | 2002-04-30 | 2003-11-11 | Osaka Sealing Printing Co Ltd | 耐光性に優れるインクジェット印刷体 |
US7175947B2 (en) * | 2002-05-17 | 2007-02-13 | Optrex Corporation | Light reflective structure, method for producing the same and display |
-
2004
- 2004-06-22 JP JP2004184090A patent/JP2005157272A/ja active Pending
- 2004-11-01 TW TW093133227A patent/TWI281577B/zh active
- 2004-11-03 KR KR1020040088685A patent/KR100664342B1/ko active IP Right Grant
- 2004-11-03 US US10/980,750 patent/US7224505B2/en active Active
- 2004-11-04 CN CNB2004100871988A patent/CN1293427C/zh active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2005157272A (ja) | 2005-06-16 |
US20050122567A1 (en) | 2005-06-09 |
KR20050042731A (ko) | 2005-05-10 |
CN1293427C (zh) | 2007-01-03 |
CN1614510A (zh) | 2005-05-11 |
TWI281577B (en) | 2007-05-21 |
US7224505B2 (en) | 2007-05-29 |
TW200517740A (en) | 2005-06-01 |
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Legal Events
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A201 | Request for examination | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
GRNT | Written decision to grant | ||
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20121130 Year of fee payment: 7 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20131119 Year of fee payment: 8 |
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FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20141203 Year of fee payment: 9 |
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FPAY | Annual fee payment |
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|
FPAY | Annual fee payment |
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|
FPAY | Annual fee payment |
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