JP2006189546A - 電気光学装置、電気光学装置用基板及び電子機器 - Google Patents

Abstract

【課題】
簡単な構造で外光による反射光が効率的に観察者に届くような電気光学装置、その電気光学装置に用いられる電気光学装置用基板及びその電気光学装置を用いた電子機器を提供すること。
【解決手段】
反射膜１５に重ねて設けられ、該反射膜１５により反射する光が屈折し散乱するように積層された互いに異なる屈折率の第１の層である樹脂層１６及び第２の層であるカラーフィルタ１８とを備え、その樹脂層１６は反射膜１５とカラーフィルタ１８との間に設けられ、該樹脂層１６とカラーフィルタ１８との境界面１９は凹凸に形成されていることとした。
【選択図】 図４

Description

本発明は、パーソナルコンピュータや携帯電話機等に用いられる電気光学装置、その電気光学装置に用いられる電気光学装置用基板及びその電気光学装置を用いた電子機器に関する。

現在、携帯電話機、携帯情報端末機等といった各種の電子機器において、電気光学装置が広く用いられており、これらの電気光学装置は、該電子機器で各種の情報を視覚的に表示するための表示部位に用いられている。また、電気光学装置において、電気光学物質として液晶を用いている装置、すなわち液晶装置が現在は広く知られている。更に他の電気光学物質を用いた表示装置としてＥＬ（Ｅｌｅｃｔｒｏ Ｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｃｅ）表示装置も知られている。

例えば電気光学物質として液晶を用いた液晶装置は一般的に、それぞれの電極を備えた一対の基板に液晶層を挟持させた構造を有する。すなわち、一対の基板にスペーサーで隔てられた隙間を有し、この隙間に液晶をシール剤を用いて封止することにより形成されている。この液晶装置において、該液晶層に印加する電圧を制御することにより液晶分子の配向状態を変調し、偏光板を通った外光がこの変調された液晶層を通過することにより、その偏光板の観測側には文字、数字、図形といった情報の表示が可能となる。

上記のように外光を液晶に供給し表示を行う方法として、反射型、透過型、および両方を選択できる反射半透過型がよく知られている。反射型の光供給の方法においては、内部に反射機能を有する反射膜を設け、室内光や太陽光といった外部光を反射膜により反射させ、液晶に供給する。この場合、より見やすい表示を得るための凹凸の形成が広く一般に行われている（たとえば、特許文献１参照）。
特開２００３−７５９８７号公報。

ところで、例えば観察者が反射型や反射半透過型の液晶装置を観察する際、室内光や太陽光といった外光が液晶装置内の反射膜で反射している光を見ていることになる。その外光は、反射膜に対してあらゆる角度で入射してくる。例えば従来の反射を説明する説明図１５（ａ）に示すように、凹凸層の上に反射膜が積層されている特許文献１に開示されている従来の反射膜の場合、入射光はθｉ＝θｆとなるように反射する。しかし、この反射光Ｌｆの基板に対する角度が小さすぎると対向基板で全反射されてしまい、反射光Ｌｆはパネルの外に出ることができず観察者にその反射光が届かない可能性があり、反射光の効率的利用が図れないという問題があった。

本発明は、上記課題に鑑みてなされたものであって、簡単な構造で外光による反射光が効率的に観察者に届くような電気光学装置、その電気光学装置に用いられる電気光学装置用基板及びその電気光学装置を用いた電子機器を提供することを目的とする。

上記目的を達成するために、本発明の主たる観点に係る電気光学装置は、電気光学物質を支持し複数の画素を有する基板と、前記基板上に設けられ、外部からの光を反射する反射膜と、前記反射膜に重ねて設けられ、該反射膜により反射する光が屈折し散乱するように積層された互いに異なる屈折率の第１及び第２の層とを備え、前記第１の層は前記反射膜と前記第２の層との間に設けられ、前記第１の層と第２の層との境界面は凹凸に形成されていることを特徴とする。

ここで、「電気光学物質」とは、電場や磁場といった電気的条件の変化に対応した光学的特性の変化が起こる物質のことであり、液晶装置では液晶、ＥＬ表示装置では発光材料が考えられる。また、「画素」とは、電気光学装置における表示の１単位であり、たとえば、互いに重なり合う一対の電極がある場合、重なり合った領域を基本とした画素単位が構成される。更に「第１の層」とは、例えば無色透明な樹脂層であり、「第２の層」とは、例えば着色層等をいう。

本発明は、反射膜に重ねて設けられ、該反射膜により反射する光が屈折し散乱するように積層された互いに異なる屈折率の第１及び第２の層とを備え、第１の層は反射膜と第２の層との間に設けられ、その第１の層と第２の層との境界面は凹凸に形成されているので、反射膜で反射された光が屈折率の異なる第１及び第２の層を通過するときにその屈折率の違いから屈折し、更にその境界面の凹凸により散乱され、従来なら反射膜の凹凸により基板に対し小さい角度で入射し、全反射していた外光の反射光をパネルの外に導くことが可能となり、表示面での反射特性が向上し、より明るい反射表示を有する電気光学装置を提供することができる。ここで、第１の層の屈折率は第２の層の屈折率より大きい方が好ましい。

尚、基板上に形成する反射膜は略鏡面に近い反射特性を示していることが望ましく、「全反射」とは図１５（ｂ）においてθｆ<０となることであり、反射光Ｌｆはパネルの内部の領域で反射を繰り返し観察者には届かない。電気光学装置においては、Ｌｆがパネルの外部に出射する割合が増えることが望ましいが、本発明の場合、全体の入射光に対してパネルの外に出射する割合を高くすることができる。

本発明の一の形態によれば、前記第１の層は、前記第２の層の屈折率より大きい屈折率であることを特徴とする。これにより、従来なら基板に対し小さい角度で入射し、全反射していた外光の反射光をパネルの外に導くことが可能となり、表示面での反射特性が向上し、より明るい反射表示を有する電気光学装置を提供することができる。

本発明の一の形態によれば、前記画素は、前記反射膜が設けられた反射領域と前記反射膜が設けられていない透過領域とを有することを特徴とする。これにより、反射膜が設けられていない透過領域からバックライト等の光を表示面側に出射させることができ、外光が十分得られないときも明るい表示を可能とできる。

本発明の一の形態によれば、前記第１の層が無色透明であり前記第２の層が着色されている又は前記第１の層が着色されており前記第２の層が無色透明であることを特徴とする。これにより、第１の層の上に積層される第２の層を例えば着色層（カラーフィルタ）とするときも反射光が必要以上に着色されることを防ぐことができ、表示品位をより向上させることができる。また、第１の層を例えば着色層とし、第１の層の上に積層される第２の層を保護層（オーバーコート層）等にして、材料点数を少なくしコストの軽減を図ることもできる。

ここで、「無色透明」とは完全な無色に限られず実際の製造では若干色づいてしまうものも含むものとする。

本発明の一の形態によれば、前記反射膜は、前記第１の層側の表面が平坦に形成されていることを特徴とする。これにより、反射膜は略鏡面に近い反射特性を得ることが容易となると共にその製造も低コストにできる。

本発明の一の形態によれば、前記反射膜は、前記第１の層側の表面が凹凸に形成されていることを特徴とする。これにより、第１の層と第２の層との境界面の凹凸で屈折され基板に出射される光の基板平面に対する入射角を大きくできるので、より反射光の表示への効率的利用が図れる。

また、本発明に係る電気光学装置において、観察者が表示領域を観察する観察点は、前記表示領域に対して法線から略１５°傾いた角度範囲に位置していることを特徴とする。このように、観察者の視点に対して所定の角度範囲において本発明を適用することが効果的である。

本発明の他の観点に係る電気光学装置用基板は、複数の画素を有する基板と、前記基板上に設けられ、外部からの光を反射する反射膜と、前記反射膜に重ねて設けられ、該反射膜により反射する光が屈折し散乱するように積層された互いに異なる屈折率の第１及び第２の層とを備え、前記第１の層は前記反射膜と前記第２の層との間に設けられ、前記第１の層と第２の層との境界面は凹凸に形成されていることを特徴とする。

本発明は、反射膜に重ねて設けられ、該反射膜により反射する光が屈折し散乱するように積層された互いに異なる屈折率の第１及び第２の層とを備え、第１の層は反射膜と第２の層との間に設けられ、その第１の層と第２の層との境界面は凹凸に形成されているので、反射膜で反射された光が屈折率の異なる第１及び第２の層を通過するときにその屈折率の違いから屈折し、更にその境界面の凹凸により散乱され、従来なら電気光学装置に組み込んだときに反射膜の凹凸により対向する基板に対し小さい角度で入射し、全反射していた外光の反射光をパネルの外に導くことが可能となり、電気光学装置の表示面での反射特性が向上し、より明るい反射表示が可能な電気光学装置用基板を提供することができる。ここで、第１の層の屈折率は第２の層の屈折率より大きい方が好ましい。

本発明の一の形態によれば、前記第１の層は、前記第２の層の屈折率より大きい屈折率であることを特徴とする。これにより、従来なら電気光学装置に組み込んだときに対向する基板に対し小さい角度で入射し、全反射していた外光の反射光をパネルの外に導くことが可能となり、電気光学装置の表示面での反射特性が向上し、より明るい反射表示が可能な電気光学装置用基板を提供することができる。

上記課題を解決するため、本発明に係わる電気光学装置用基板の製造方法は、複数の画素を有する基板を備えた電気光学装置用基板の製造方法であって、前記基板上に光を反射する反射膜を形成する工程と、前記反射による表示に寄与しない領域をフォトリソグラフィとエッチングとによって除去する工程と、前記反射膜上にポジ型の感光性材料を塗布する塗布工程と、前記塗布工程により塗布された感光性材料の表面に凹凸形状を形成するために、その感光性材料の膜厚の深さより浅い深さまで光が作用するように露光する第１の露光工程と、前記電気光学装置用基板となる領域を形成するべく、前記電気光学装置用基板となる領域外に対して、前記塗布工程により塗布された感光性材料の膜厚の深さ以上に光が作用するように露光する第２の露光工程と、前記第１及び第２の露光が行われた前記感光性材料を現像し、露光時に感光された領域を除去する現像工程と備えることを特徴とする。

この電気光学装置用基板の製造方法によれば、感光性材料に形成される凹凸面の凹部の深さが感光性材料の膜厚の深さより浅くなる一方、電気光学装置用基板となる領域以外の部分の感光性材料が除去されて、電気光学装置用基板の側端面が平坦となる。凹凸部の凹部が感光性材料の膜厚の深さとならないため、凹部の底に形成される反射層が平坦とならず、良好な散乱特性を得ることができる。また、電気光学装置用基板の側端面が平坦となるため、この側端面を跨いで設けられる電極が切れてしまうという不具合が解消される。

なお、この製造方法においては、第２の露光工程で、光を透過させるための透過領域を電気光学装置用基板となる領域内に形成するべく、該電気光学装置用基板となる領域外に加え、電気光学装置用基板となる領域内であって該透過領域に対応する領域を露光するようにしてもよい。

本発明の他の観点に係る電子機器は、上述の電気光学装置を備えることを特徴とする。

本発明は、簡単な構造で外光による反射光が効率的に観察者に届くような電気光学装置を備えることとしたので、反射光による表示でも明るさ等が不十分となることがない表示品位の高い電子機器を提供できる。

以下、本発明に係る実施形態を図面に基づき説明する。尚、以下実施形態を説明するにあたっては電気光学装置および電気光学装置用基板を、電気光学装置の一例である液晶装置及び液晶装置用基板を例に挙げて説明するが、本発明が当該実施形態に限定されないことはもちろんである。また、以下の図面においては各構成をわかりやすくするために、実際の構造と各構造における縮尺や数等が異なっている。

（第１の実施形態）

（液晶装置の構成）

図１は、本実施形態に係わる液晶装置の概略分解斜視図、図２は第２基板側の配向膜等を除いた部分平面図、図３は図２のＡ−Ａ線の概略断面図及び図４は境界面での光の進み具合を説明する概略部分断面図である。

まず、本発明の実施形態に係わる液晶装置１の構成について説明する。

液晶装置１は、例えば図１および図３に示したように、電気光学物質の一種である液晶２（図１においては図示略）を基板としての第１基板３および第２基板４により狭持する液晶パネル５と、当該液晶パネル５の第２基板側に配設されたバックライトユニット６とを有している。なお、以下の説明においては、便宜上、図１に示したように、液晶に対して第１基板側を、液晶装置１による表示画像を視認する観察者が位置する側という意味で「観察側」と表記し、液晶からみて第２基板側を「背面側」と表記する。また、液晶装置１には、バックライトユニット６の他にもその他の付帯機構が必要に応じ付設される（図示しない。）。

液晶パネル５の第１基板３は、ガラスなどの光透過性材料からなる板状部材である。第１基板３の観察側の面には、コントラストを改善するための位相差板７と、入射光を偏光させるための偏光板８が、第１基板側からこの順で積層されており、第１基板３の液晶側（背面側）の面には、ＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ）膜などの画素電極９がマトリックス状に配置されている。この各画素電極９の間隙には、一方向（図１に示すＹ方向）に延在する複数のデータ電極１０が形成されており、各画素電極９と各画素電極に隣接するデータ電極１０は、非線形な電流−電圧特性を有する二端子型スイッチング素子であるＴＦＤ（Ｔｈｉｎ Ｆｉｌｍ Ｄｉｏｄｅ）素子１１を介して接続されている。そして、図３に示すように、画素電極９、データ電極１０およびＴＦＤ素子１１が形成された第１基板３の表面は、配向膜１２（図１では図示略）により覆われている。この配向膜１２は、ポリイミドなどの有機薄膜であり、電圧が印加されていないときの液晶２の配向状態を規定するためのラビング処理が施されている。

また、液晶装置用基板としての第２基板４は、例えばガラスなどの光透過性材料からなる板状部材であり、その背面側の面には、第１基板３と同様に、位相差板１３および偏光板１４が、第２基板側からこの順で積層されている。一方、第２基板４の液晶側（観察側）の面には、例えば反射膜１５と、第１の層としての樹脂層１６と、第２の層としての３色のカラーフィルタ１８（１８Ｒ、１８Ｇ、１８Ｂ）と、光を遮光する遮光層２０と、マルチギャップ構造を形成する保護層３７と、走査電極２１と、配向膜２２（図１では図示略）とが第２基板側からこの順で積層されている。このうち配向膜２２は、配向膜１２と同様の有機薄膜であり、ラビング処理が施されている。

ここで、反射膜１５は例えばアルミまたは銀などの光反射性を有する金属材料が図３に示すように略一定の膜厚で薄膜形成されたものであり、略鏡面と同じ反射特性を有している。また、反射膜１５は例えば図２に示すように後述する画素毎に、外周が略矩形状に形成され、外部から入射した光を反射する反射領域Ｂを形成する。

更に反射膜１５は、その反射領域Ｂの略中央に略矩形状で外部から入射した光を透過する透過領域Ｃが設けられるように、当該透過領域Ｃを除いた反射領域Ｂに形成されている。当該透過領域Ｃは、反射表示に寄与しない部分であり、例えば該透過領域Ｃや液晶パネル外周領域は、フォトリソグラフィとエッチングなどで反射膜１５が除去されている。

また、樹脂層１６は例えば図３に示すように反射膜１５の上に形成されており、感光性材料を所定のマスクを用いて露光・現像処理することにより形成されている。

更に樹脂層１６は、例えば図２、図３及び図４に示すようにカラーフィルタ側表面に不規則に凹凸１７が形成されている。

更にカラーフィルタ１８（１８Ｒ、１８Ｇ、１８Ｂ）は、各画素に対応して設けられた着色層であり、各カラーフィルタは顔料などにより赤、緑、青などの色に着色されており、その色に対応する波長の光を選択的に反射あるいは透過させる。また、図１における１８Ｒ、１８Ｇ、１８Ｂは画素の各々がいずれのカラーフィルタ１８（１８Ｒ、１８Ｇ、１８Ｂ）が配置される画素かを示している。

また、カラーフィルタ１８は凹凸１７が形成されている樹脂層１６及び透過領域Ｃの上に積層され形成されるので、第１の層である樹脂層１６と第２の層である例えばカラーフィルタ１８との境界面１９は、凹凸に形成されることとなる。更に図３に示すように反射膜１５と樹脂層１６は同じ位置に透過領域Ｃを有しているのでカラーフィルタ１８は、例えばその透過領域Ｃ上で第２基板４に直接積層されることとなる。

ここで、樹脂層１６の屈折率ｎ１はカラーフィルタ１８の屈折率ｎ２より大きくなるように材料が選択されている。これにより、反射膜１５により反射された光は当該凹凸に形成された境界面１９を通過する際に、屈折され散乱することとなる。

また、遮光層２０は例えばカーボンブラックが分散された黒色樹脂材料や、クロムといった金属材料により形成されており、互いに隣接するカラーフィルタの間を遮光するように互いの間隙を埋めて、格子状に形成されている。また、遮光層２０は、特定の材料により形成されることに限定されず、各カラーフィルタ１８を２色あるいは３色積層することにより形成することも可能である。

更に保護層３７は、例えば図３に示すように反射領域Ｂでの厚さが透過領域Ｃでの厚さより厚く、反射領域Ｂでの保護層表面が透過領域Ｃでの保護層表面より液晶側に突き出すように形成されている。これにより、液晶２は透過領域Ｃでの液晶２の厚さが、反射領域Ｂでの液晶２の厚さより厚くなるというマルチギャップ構造を形成し、液晶２での透過領域Ｃと反射領域Ｂとの光路長差等を是正することができる。

また、複数の走査電極２１の各々はＩＴＯなどの透明導電性材料により形成された複数の電極である。走査電極２１はカラーフィルタ１８（１８Ｒ、１８Ｇ、１８Ｂ）と重なる領域に形成されており、上述したデータ電極１０と交差する方向にストライプ状に延在し、第一基板上に列をなす画素電極９と対向するように位置する。

以上説明した構成の第１基板３および第２基板４は、図３に示すように、図示しないシール材を介して貼り合わされるとともに、両基板上の構造物と、シール材とによって囲まれた領域に、例えばＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）型などの液晶２が封止される。

かかる構成の下、第１基板３と第２基板４とにより狭持された液晶２は、画素電極９とこれに対向する走査電極２１との間に電圧が印加されることにより、その配向方向が変化する。図２に示すように、この印加電圧に応じて液晶２の配向方向が変化する領域の最小単位はマトリックス状に配列されており、その各々が画素２４（ドット）として機能する。

この液晶パネル５に例えば図３に示すように観察側から外光が入射すると、外光は、電気光学装置用基板としての第２基板等により観察側に向けて散乱反射し、これにより反射型表示が実現される。一方、液晶パネル５の背面側からバックライトユニット６の光が入射すると、入射した光は、反射膜１５が設けられていない透過領域Ｃを通過して観察側に出射し、これにより透過型表示が実現される。

（液晶装置の動作）

次に、以上のように構成された液晶装置１の動作について樹脂層１６及びカラーフィルタ１８での光の進みかたを中心に簡単に説明する。

図１５は従来の凹凸が形成された反射膜での反射の説明図である。

例えば図１５（ａ）に示すように従来の反射膜２５では、その表面に凹凸２６が形成されているので、該凹凸表面で外部からの光が反射してしまい図示しない第１基板面からの角度βが小さくなってしまう傾向があった。

これに対し本発明の反射膜１５は、例えば図４に示すように凹凸１７が形成されている樹脂層１６とカラーフィルタ１８との境界面１９より更に先に光が進んだところの第２基板４の上に平坦に形成されているので、境界面１９のカラーフィルタ側から入射光Ｌｉが入射角θｉで入射したのちθ１で樹脂層内部に屈折していく。このときカラーフィルタ１８は屈折率ｎ２、樹脂層１６が屈折率ｎ１であるので、屈折後の光はｎ２ｓｉｎθｉ＝ｎ１ｓｉｎθ１に従い、ｎ１>ｎ２であるため、θｉ>θ１となる。

樹脂層内部に進む光は、例えば図４に示すように反射膜１５の平坦な面に入射し該反射膜１５により略鏡面反射し、入射角θ２と同じ角度の反射角θ２で境界面１９に向かって進むこととなる。

境界面１９まで進んだ光は、図４に示すように入射角θ３で入射した後、θｆでカラーフィルタ内部に屈折していく。このとき、屈折後の光はｎ１ｓｉｎθ３＝ｎ２ｓｉｎθｆに従い、ｎ１>ｎ２であるため、θｆ>θ３となり、カラーフィルタ内部に再び戻って行くこととなる。

この樹脂層１６及びカラーフィルタ１８での光路は、例えば図１５（ａ）に示すように反射膜２５により反射して更に外側に広がるように進むのではなく、より内側に窄まるように進む。従って出射光Ｌｆの例えば第１基板３の表面方向との角度αは、従来の反射膜２５の凹凸２６で反射する場合の出射光の角度βと比較するとα>βとなる。もし、角度βの出射光が全反射してしまう場合であっても本発明では全反射することなく観察者に届くこととなる。

（液晶装置の製造方法）

次に、以上のように構成された液晶装置の製造方法について説明する。
図５は、液晶装置用基板である第２基板側の製造工程を示す工程図、図６は、同製造工程における反射膜形成の説明図、図７は樹脂層に凹凸を形成する説明図、図８はポジ型感光性樹脂を用いる場合の凹凸用マスクの説明図及び図９はポジ型感光性樹脂を用いる場合の透過領域用マスクの説明図である。

まず、液晶装置用基板である第２基板側の製造方法を説明する。

例えば第２基板４を洗浄した後、洗浄した第２基板４を乾燥させる（図５中のＳＴ１０１）。そして、図６（ａ）に示すように、反射膜１５となるアルミニウムまたはアルミニウム合金の薄膜を略一定の厚みにて、例えばスパッタリングなどにより、第２基板上に成膜する（図５中のＳＴ１０２）。

その後、図６（ｂ）に示すように、アルミニウム膜２７のうち光を反射する反射領域Ｂと重なる領域以外の部分を除去すべく、反射領域Ｂ上にレジスト２８を形成する。具体的には、この後に形成される樹脂層１６の凹凸１７が形成される領域（図５中の反射領域Ｂ）に対応する部分をレジスト２８で覆う。そして、アルミニウム膜２７のうちレジスト２８で覆われていない部分をエッチングした後、レジスト２８を除去すると、図６（ｃ）に示すように透過領域Ｃと、樹脂層１６が形成されるための光反射性の反射領域Ｂが形成される。

次に、例えば図７（ａ）に示すように反射膜１５が形成された第２基板４のうち観察側となる面に、例えばスピンコート法などにより、感光性材料の一種であるポジ型の感光性樹脂２９を塗布する（図５中のＳＴ１０４）。この感光性樹脂２９としては、例えばＰＣ４０５Ｇ（ＪＳＲ株式会社製）などを用いることができる。

その後、第２基板４に塗布した感光性樹脂２９を減圧環境下において乾燥させ、乾燥した感光性樹脂２９を８５℃から１０５℃の範囲でホットプレート上で約１２０秒プリベークする（図５中のＳＴ１０５）。

次に、プリベークした感光性樹脂２９を、露光機により、図８に示したパターンの凹凸用マスク３０を用いて露光する（図５中のＳＴ１０６）。図７に示したように、凹凸用マスク３０は、ガラスなどの光透過性を有する基板に、クロムなどの遮光部（図中に黒色で塗潰して示す）が設けられたものである。図８の拡大図に示されるように、凹凸用マスク３０には、樹脂層１６の凹凸１７を形成するための微小な遮光領域である、凹凸用遮光部３１が複数設けられている。なお、感光性樹脂２９はポジ型であるため、光が照射されると、その部分は、後述の現像工程において現像液に溶解し除去される。

このような凹凸用マスク３０にて、例えば、露光時間を１，６００ｍｓｅｃとして露光すると、凹凸用マスク３０を透過した光は、図７（ｂ）に示すように、感光性樹脂２９上面のうち図中破線で示される面まで作用する。なお、感光性樹脂２９において、凹凸用マスク３０を透過した光が作用する深さは、感光性樹脂２９の材質や、露光時の光の強度に応じて異なるので、露光時間を変えることにより制御することができる。

例えば露光機を用いて、上述のような凹凸用マスク３０を順次ずらし、繰り返し露光処理を行って第２基板４全体の第１の露光工程である露光処理を行った後、次に、マスク３２を用いて第２の露光工程である露光を行う（図５中のＳＴ１０７）。図９は、この二回目の露光に用いられるマスク３２のパターンを示す図である。この図に示されるように、マスク３２には、ガラスなどの光透過性を有する基板に透過領域用遮光部３３（図中斜線で示す）が設けられている。

このマスク３２においては、パネル表示領域内に相当する部分が透過領域Ｃを除き遮光されており、液晶パネル５における画素２４各々に対応して、同一のパターンがマトリックス状に設けられている。そして、図９の拡大図に示されるように、マスク３２のうち１つの画素２４に対応する領域には、透過領域Ｃを形成するための透光部３４が設けられている。このようなマスク３２にて、第１の露光工程である一回目の露光時間と露光時間を異ならせ、例えば、露光時間を４，０００ｍｓｅｃとして第２の露光工程である二回目の露光を行うと、マスク３２の遮光されていない部分を透過した光、即ち、透光部３４と、パネル表示領域外に相当する部分を透過した光は、感光性樹脂２９の最下部にまで作用する。

露光機により、以上のようなマスク３２を順次ずらし、繰り返し露光処理を行って第２基板４全体の露光処理を行った後、感光性樹脂２９に現像処理を施すと（図５中のＳＴ１０８）、図７（ｄ）に示すように、露光工程において光が作用した深さの分、凹凸１７の凹部分と、透過領域Ｃの部分と、パネル表示領域外となる部分の感光性樹脂が除去され、表面に凹凸１７を有し、側端面３５が平坦な樹脂層１６が形成される。

以上で感光性樹脂２９の現像工程が終了すると、次いで、感光性樹脂２９に、例えば、ｉ線などの紫外線（ｕｌｔｒａｖｉｏｌｅｔ ｒａｙｓ：以下、ＵＶと称する）を照射しブリーチ露光する（図５中のＳＴ１０９）。本実施形態で用いた感光性樹脂２９（ＰＣ４０５Ｇ）は、現像直後は黄色味を帯びており、ＵＶを照射することにより黄色味が除去され光透過性が向上する。これは、もし樹脂層１６が着色されていたとすると、液晶装置用基板である第２基板側における外光の反射時に、その色が反射光に反映されてしまうため、その改善を目的としている。なお、この工程は、本実施形態で用いた感光性樹脂２９についての特有の工程であり、第２基板側の製造において必須の工程ではない。

この後、感光性樹脂２９を、例えば２２０℃にて５０分間焼成する（図５中のＳＴ１１０）。

引き続き、反射膜１５が形成された第２基板４上に構造物を形成する方法について前掲図３を参照して説明する。

凹凸１７のある樹脂層１６が形成されると、続いてその上に（第２基板４の反射面側（観察側））、例えばクロムからなる薄膜をスパッタリング法などにより形成する。この後、フォトリソグラフィ技術およびエッチング技術を用いて当該薄膜をパターニングすることにより、格子状の遮光層２０を得る。また、遮光層２０は、特定の材料によって形成されることに限られず、例えば、着色層を構成するカラーフィルタ１８（１８Ｒ、１８Ｇ、１８Ｂ）の各着色層を二色または三色重ねること、すなわち積層することによっても形成することができる。

続いて、第２基板４における樹脂層１６及び透過領域Ｃ上に赤色、緑色および青色のカラーフィルタ１８（１８Ｒ、１８Ｇ、１８Ｂ）の各々を、マトリックス状に形成する。これらのカラーフィルタ１８（１８Ｒ、１８Ｇ、１８Ｂ）の形成方法としては、例えば、顔料により着色された感光性樹脂により形成することができる。

次に、カラーフィルタ１８（１８Ｒ、１８Ｇ、１８Ｂ）および遮光層２０を覆うように透明樹脂層からなる保護層３７を形成したのち、ＩＴＯからなる薄膜を形成し、これをパターニングすることによって走査電極２１を形成する。ここで、樹脂層１６は現像工程により、パネル表示領域外に相当する部分の感光性樹脂が除去されて側端面３５が平坦となっているため、側端面３５を跨いでパネル表示領域外に配設される走査電極２１が切れてしまうといった問題が生じない。したがって、液晶装置用基板の品質が向上し、ひいては液晶装置１の品質が向上する。

そして、走査電極２１を形成した後、これらの走査電極２１を覆うように配向膜２２を形成し、配向膜２２の表面にラビング処理を施す。

以上が第２基板４上に設けられる各構造物の製造方法である。この製造方法により得られた第２基板側と、画素電極９、データ電極１０、ＴＦＤ素子１１および配向膜１２が形成された第１基板側とを、互いの配向膜１２と配向膜２２とを対向させた状態でシール材を介して貼り合わせる。

次いで、第１基板側と第２基板側とシール材とによって囲まれた空間に液晶２を注入し、その後、図示せぬ封止材により液晶２が注入された空間を封止する。

そして、一体化された第１基板３および第２基板４の各々の外側の面に、位相差板７，１３と偏光板８，１４とを貼着することによって、液晶パネル５が形成される。

最後に液晶パネル５に必要な回路基板やバックライトユニット６及びケース等を取り付けて、液晶装置１が完成する。

このように本実施形態によれば、反射膜１５に重ねて設けられ、該反射膜１５により反射する光が屈折し散乱するように積層された互いに異なる屈折率の第１の層である樹脂層１６及び第２の層であるカラーフィルタ１８とを備え、その樹脂層１６は反射膜１５とカラーフィルタ１８との間に設けられ、該樹脂層１６とカラーフィルタ１８との境界面１９は凹凸に形成されていることとしたので、反射膜１５で反射された光が屈折率の異なる樹脂層１６及びカラーフィルタ１８を通過するときにその屈折率の違いから屈折し、更にその境界面１９の凹凸により散乱され、従来なら反射膜１５の凹凸により第１基板３に対し小さい角度で入射し、全反射していた外光の反射光をパネルの外に導くことが可能となり、表示面での反射特性が向上し、より明るい反射表示を有する液晶装置１を提供することができる。

尚、上述した実施形態では、露光の時間により、光が感光性材料に作用する深さを制御しているが、これに限られるものではなく例えば光の強度を変えて光が感光性材料に作用する深さを制御するようにしてもよい。

また、上述した実施形態では、凹凸用マスク３０およびマスク３２を順次ずらして感光性材料の露光を行っているが、第２基板４全体をカバーし、凹凸１７を形成するためのマスクと、基板１２０全体をカバーし、透過領域Ｃおよびパネル表示領域外の部分を除去するためのマスクとを用意し、第１の露光工程および第２の露光工程において、各々一枚のマスクで第２基板４全体を露光する一括露光により、露光処理を行うようにしてもよい。

更に第１の露光工程においては、上述した実施形態のように露光を行い、第２の露光工程においては、一枚の大判マスクで第２基板４全体を露光する一括露光により露光を行うようにしてもよい。なお、二回目の露光を一括露光で行う場合、一回目の露光が完了した後、８０〜１６０ｍＪで二回目の露光を行うようにしてもよい。

また、上述した実施形態においては、現像工程の後、加熱処理を行うことにより、熱だれにより凹凸の形状を滑らかな形状に変形させるようにしてもよい。

更に上述した実施形態においてはポジ型の感光性材料を用いて凸形状を有する電気光学装置用基板を製造したが、凹型形状を有する電気光学装置用基板の製造も可能である。凹形状を形成するためには上述した凸形状形成用のマスクパターンを透過部に変えるだけで同等のプロセスで製造が可能となる。

また、上述した実施形態では反射膜１５などの観察側上に、表面に凹凸１７が形成された樹脂層１６を積層し、更にその上にカラーフィルタ１８を積層しその境界面１９で反射光が屈折、散乱されるようにしたが、これに限られるものではなく例えば反射膜１５などの上に直接、第１の層を着色された光を透過するものとして表面に凹凸１７が形成されたカラーフィルタ１８を積層し、その上に当該カラーフィルタ１８の屈折率より小さい屈折率の例えばオーバーコート層を積層してもよい。これによっても、カラーフィルタ１８とオーバーコート層との境界面の凹凸により、反射膜で反射された光が屈折、散乱され、例えば第１基板平面に対しより大きな角度で入射し、全反射する光を減らすことができる。また、第１の層としての樹脂層を省くことができ、材料点数を減らしより製造コストを低減できる。

以上、本発明の実施形態について説明したが、本発明は上述した実施形態に限定されることなく、他の様々な形態で実施可能である。例えば、上述の実施形態を以下のように変形して本発明を実施してもよい。

（変形例１）

本発明に係る液晶装置１の変形例１について説明する。本変形例１においては、露光により不溶化するネガ型の感光性材料を用いる点で第１の実施形態と異なるのでその点を中心に説明する。尚、第１の実施形態の構成要素と共通する構成要素については、第１の実施形態の構成要素と同一の符号を付しその説明を省略する。

（液晶装置の構成）

まず、本発明の変形例に係わる液晶装置１０１の構成は樹脂層１６の材料としてネガ型の感光性樹脂１２９を用いる点を除けば第１の実施形態と同様であるのでその説明を省略する。

（液晶装置の製造方法）

次に、液晶装置１０１の製造方法は樹脂層１６の材料としてネガ型の感光性樹脂１２９を用いる点が第１の実施形態と異なるのでその点を中心に説明する。

図１０は、ネガ型の感光性材料を用いた場合の液晶装置用基板の製造工程における第２基板側の説明図である。

液晶装置用基板である第２基板側の製造方法は、図５に示すＳＴ１０３までの工程により反射膜１５を第２基板上に形成するまでは第１の実施形態と同様であるのでその説明を省略する。

次に、図１０（ａ）に示すように、感光性材料の一種であるネガ型の感光性樹脂１２９をスピンコートなどにより第２基板４の反射膜１５等の上に塗布する（ＳＴ１０４）。

その後で当該ネガ型の感光性樹脂１２９が塗布された第２基板４をプリベークし、図１０（ｂ）に示すように、露光機によりネガ用マスク１３０を用いて露光する。

図１１は、この露光に用いられるネガ用マスク１３０のパターンを示す図である。ネガ型の感光性樹脂においては、露光された部分がパターンとして残るため、図１１の拡大図に示すように、樹脂層１６の凹凸１７の凸部が残るように、即ち、凸部に相当する部分に光が当たるように、ネガ用透光部１３４を設け、樹脂を除去したい部分を遮光する。

この際、例えば図１０（ｂ）及び図１１の拡大図に示すように凹凸１７の凹部に対応する部分は、透過領域Ｃ及びパネル表示領域外に対応する部分より遮光量が小さい半透光部１３６として形成されており、当該ネガ用マスク１３０は異なる遮光量の領域を有する所謂ハーフトーンマスクである。

このネガ用マスク１３０を用いて一回目の露光を行うと、図１０（ｂ）に示すように、ネガ用透光部１３４及び半透光部１３６を透過した光は、感光性樹脂１２９のうち図１０（ｂ）中破線で示される面まで作用する。なお、ネガ型の感光性樹脂において、不要な樹脂の除去は遮光をすればよいため、ポジ型の感光性樹脂の場合と異なり、露光工程はハーフトーンマスクであるネガ用マスク１３０を用いて一回で終了する。

以上のようなネガ用マスク１３０を用いた露光処理の後、感光性樹脂１２９に現像処理を施すと、図１０（ｃ）に示すような透過領域Ｃと、凹凸１７を表面に有し、側端面３５が平坦である樹脂層１６が形成される。

以上の感光性樹脂１２９の現像工程のあと、第１の実施形態のブリーチ露光はせずに当該感光性樹脂１２９を焼成するが、焼成以下の工程は第１の実施形態と同様であるのでその説明を省略する。

このように本変形例によれば、樹脂層１６の材料としてネガ型の感光性樹脂１２９を用い、所謂ハーフトーンマスクを用い露光することとしたので、境界面１９である樹脂層１６の表面に凹凸１７を形成する際に、一回の露光工程で透過領域Ｃと、凹凸１７を表面に有し、側端面３５が平坦である樹脂層１６が形成でき、製造工程を削減し液晶装置１０１の製造コストの低減を図ることが可能となる。

また、ネガ型の感光性樹脂１２９を用いた態様でも、ポジ型感光性樹脂２９の場合と同様、反射膜１５の上にカラーフィルタ１８より屈折率が大きい樹脂層１６と当該カラーフィルタ１８とを、その境界面１９に凹凸１７が形成されるように設けたので、反射膜１５で反射された光が屈折率の異なる樹脂層１６及びカラーフィルタ１８を通過するときにその屈折率の違いから屈折し、更にその境界面１９の凹凸１７により散乱され、従来なら反射膜の凹凸により第１基板に対し小さい角度で入射し、全反射していた外光の反射光を液晶パネル５の外に導くことが可能となり、表示面での反射特性が向上し、より明るい反射表示を有する液晶装置１０１を提供することができる。

更にパネル表示領域外となる部分の感光性樹脂１２９が除去され、液晶装置用基板の側端面３５が平坦となるため、走査電極２１が切れてしまうという問題が生じなくなる。

（第２の実施形態）

次に、本発明に係る液晶装置の第２の実施形態について説明する。本実施形態においては反射膜表面にも凹凸が形成されている点が第１の実施形態と異なるのでその点を中心に説明する。尚、第１の実施形態の構成要素と共通する構成要素については、第１の実施形態と同一の符号を付しその説明を省略する。

（液晶装置の構成）

図１２は本発明に係る液晶装置２０１の部分概略断面図、及び図１３は反射膜、樹脂層及びカラーフィルタの光の進み方の説明図である。

液晶装置２０１は、例えば電気光学物質の一種である液晶２を基板としての第１基板３および第２基板４により狭持する液晶パネル５と、当該液晶パネル５の第２基板側に配設されたバックライトユニット６とを有している。

ここで、液晶装置用基板としての第２基板４は、例えばガラスなどの光透過性材料からなる板状部材であり、その背面側の面には、第１基板３と同様に、位相差板１３及び偏光板１４が、第２基板側からこの順で積層されている。一方、第２基板４の液晶側（観察側）の面には、例えば下地層２４０と、反射膜２１５と、第１の層としての樹脂層１６と、第２の層としての３色のカラーフィルタ１８（１８Ｒ、１８Ｇ、１８Ｂ）と、光を遮光する遮光層２０と、マルチギャップ構造を形成する保護層２３７と、走査電極２１と、配向膜２２とが第２基板側からこの順で積層されている。このうち配向膜２２は、配向膜１２と同様の有機薄膜であり、ラビング処理が施されている。

下地層２４０は、第２基板上に合成樹脂等により積層され、その観察側表面には図１２に示すように不規則な凹凸が形成されている。また、下地層２４０は各画素の反射膜２１５が形成されない領域である略矩形の透過領域Ｃには形成されていない。

更に反射膜２１５は、例えばアルミまたは銀などの光反射性を有する金属材料が図１２に示すように略一定の膜厚で下地層２４０上に薄膜形成されたものであり、その観察側表面には下地層表面の凹凸が反映されており、下地層２４０と略同様不規則な凹凸２４１が形成されている。

また、反射膜２１５は例えば画素毎に、外周が略矩形状に形成され、外部から入射した光を反射する反射領域Ｂを形成すると共に、反射膜２１５はその反射領域Ｂの略中央に略矩形状で外部から入射した光を透過する透過領域Ｃが設けられている。当該透過領域Ｃは、反射表示に寄与しない部分であり、例えば該透過領域Ｃや液晶パネル外周領域は、フォトリソグラフィとエッチングなどで反射膜２１５が除去され形成されている。

更に樹脂層１６は例えば図１２に示すように反射膜２１５の上に形成されており、感光性材料を所定のマスクを用いて露光・現像処理することにより形成されている。

また、樹脂層１６は、例えば図１２及び図１３（ｂ）に示すようにカラーフィルタ側表面には不規則に凹凸１７が形成されている。

尚、図１２に示すように下地層２４０、反射膜２１５及び樹脂層１６は同じ位置に透過領域Ｃを有しているのでカラーフィルタ１８は、例えばその透過領域Ｃ上で第２基板４に直接積層されることとなる。

（液晶装置の動作）

次に、以上のように構成された液晶装置２０１の動作について樹脂層１６、反射膜２１５及びカラーフィルタ１８での光の進みかたを中心に簡単に説明する。

第１の実施形態のように反射膜の上に凹凸の境界面を有する樹脂層及びカラーフィルタを設けることにより、従来より全反射することが少なくなり反射光の効率的利用が図れるようになったが、例えば図１３（ａ）に示すように境界面１９の凹凸１７へ大きく倒れた角度で入射すると、反射膜１５で反射して境界面１９から出射する光Ｌｆは第１基板３に対し小さい角度α´で入射することとなり、全反射してしまうことがある。

具体的には、図１３（ａ）に示すように境界面１９のカラーフィルタ側から入射光Ｌｉが入射角θ´ｉで入射したのちθ４で樹脂層内部に屈折していく。このときカラーフィルタ１８は屈折率ｎ２、樹脂層１６が屈折率ｎ１であるので、屈折後の光はｎ２ｓｉｎθｉ＝ｎ１ｓｉｎθ４に従い、ｎ１>ｎ２であるため、θ´ｉ>θ４となる。

樹脂層内部に進む光は、例えば図１３（ａ）に示すように反射膜１５の平坦な面に入射し該反射膜１５により略鏡面反射し、入射角θ５と同じ角度の反射角θ５で境界面１９に向かって進むこととなる。

境界面１９まで進んだ光は、図１３（ａ）に示すように入射角θ６で入射した後θ´ｆでカラーフィルタ内部に屈折していく。このとき、屈折後の光はｎ１ｓｉｎθ６＝ｎ２ｓｉｎθ´ｆに従い、ｎ１>ｎ２であるため、θ´ｆ>θ６となり、カラーフィルタ内部に再び戻って行くこととなる。

これに対し本実施形態の反射膜２１５は、例えば図１３（ｂ）に示すように凹凸１７が形成されている樹脂層１６とカラーフィルタ１８との境界面１９より更に先に光が進んだところに、下地層２４０の上に当該下地層２４０の凹凸を反映させて当該反射膜２１５の表面にも不規則な凹凸２４１が形成されているので、境界面１９のカラーフィルタ側から入射光Ｌｉが入射角θ´ｉで入射したのちθ４で樹脂層内部に屈折していく。このときカラーフィルタ１８は屈折率ｎ２、樹脂層１６が屈折率ｎ１であるので、屈折後の光はｎ２ｓｉｎθ´ｉ＝ｎ１ｓｉｎθ４に従い、ｎ１>ｎ２であるため、θ´ｉ>θ４となる。

樹脂層内部に進む光は、例えば図１３（ｂ）に示すように反射膜２１５の凹凸２４１に入射し該反射膜２１５により反射し、入射角θ７と同じ角度の反射角θ７で境界面１９に向かって進むこととなる。

境界面１９まで進んだ光は、図１３（ｂ）に示すように入射角θ８で入射した後θ´ｆ１でカラーフィルタ内部に屈折していく。このとき、屈折後の光はｎ１ｓｉｎθ８＝ｎ２ｓｉｎθ´ｆ１に従い、ｎ１>ｎ２であるため、θ´ｆ１>θ８となり、カラーフィルタ内部に再び戻って行くこととなる。

この反射膜２１５及び樹脂層１６での光路は、例えば図１３（ａ）に示すように反射膜１５により反射して境界面１９の法線に対し左側から入射するのではなく、図１３（ｂ）に示すように反射膜２１５により反射して境界面１９の法線の右側から入射している。これにより、図１３（ｂ）に示すように境界面１９からの出射光Ｌｆは法線に対し左側から出射していくこととなる。

このことは、図１３（ａ）から明らかなように元々法線が右側に傾いている状態で、更に図１３（ａ）のように右側に出射光が傾けば図中のＹ軸方向である第１基板の表面方向に対する角度はより小さくなり、全反射する可能性が生じる。

これに対し図１３（ｂ）に示すように境界面１９の法線に対し左側から出射すれば、法線自体の傾きと相殺され、より起き上がった出射光となり、図中のＹ軸方向である第１基板の表面方向に対する角度は大きくなる。

従って、出射光Ｌｆの例えば第１基板３の表面方向（図中のＹ軸方向）との角度γは、第１の実施形態の反射膜１５の平坦面で反射する場合の出射光の角度α´と比較するとγ>α´となる。もし、角度α´の出射光が全反射してしまう場合であっても本実施形態では全反射することなく観察者に届くこととなる。

（液晶装置の製造方法）

次に、以上のように構成された液晶装置２０１の製造方法については、第１の実施形態と反射膜と第２基板との間に表面に凹凸形状を有する下地層２４０を形成することと、その凹凸が形成された下地層２４０の上に反射膜２１５を積層し、下地層の凹凸を反映させた凹凸２４１を表面に形成する点を除けば同様であり、当該下地層に凹凸を形成する方法も樹脂層の凹凸の形成と略同様であるのでその説明を省略する。

このように本実施形態によれば、反射膜２１５の第１の層である樹脂層側の表面に凹凸２４１を形成することとしたので、第１の層である樹脂層１６と第２の層であるカラーフィルタ１８との境界面１９の凹凸１７で屈折され第１基板３に出射される光の基板平面に対する入射角を大きくでき、より反射光の表示への効率的利用が図れる。

（第３の実施形態、電子機器）

次に、以上説明した液晶装置１，１０１，２０１を搭載した本発明の第３の実施形態に係る電子機器について説明する。尚、第１の実施形態の構成要素と共通する構成要素については、第１の実施形態の構成要素と同一の符号を付しその説明を省略する。

図１４は、例えば液晶装置１を表示部として有する携帯電話機３００の外観図である。この図において、携帯電話機３００は、複数の操作ボタン３１０の他、受話口３２０、送話口３３０とともに、電話番号などの各種情報を表示する表示部として、上記液晶装置１を備えている。また、携帯電話機３００以外にも、液晶装置１，１０１，２０１（電気光学装置）は、コンピュータや、プロジェクタ、デジタルカメラ、ムービーカメラ、車載機器、複写機、オーディオ機器などの各種電子機器の表示部として用いることができる。

このように本実施形態によれば、簡単な構造で外光による反射光が効率的に観察者に届くような液晶装置１を備えることとしたので、反射光による表示でも明るさ等が不十分となることがない表示品位の高い電子機器としての携帯電話機３００を提供できる。

なお、本発明の電気光学装置、電気光学装置用基板及び電子機器は、上述した例に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲において種々変更を加え得ることは勿論である。また、本発明の要旨を逸脱しない範囲において、上述した各実施形態や変形例を組み合わせても良い。

以上、好ましい実施形態を上げて本発明を説明したが、本発明は上述したいずれの実施形態にも限定されず、本発明の技術思想の範囲内で適宜変更して実施できる。

例えば、上述の実施形態や変形例では薄膜ダイオード素子アクティブマトリクス型の液晶装置について説明したがこれに限られるものではなく、例えば薄膜トランジスタ素子アクティブマトリクス型、パッシブマトリクス型の液晶装置であってもよい。更には反射半透過型に限らず例えば反射型であってもよい。これにより、多種多様な液晶装置についても、簡単な構造で外光による反射光が効率的に観察者に届くようすることができる。

また、上述の実施形態や変形例では、第１の層としての樹脂層と第２の層としてのカラーフィルタとの境界面に凹凸を設けることとしたがこれに限られるものではなく、例えば平坦な面に複数の凸部を設けたり、逆に凹部を複数設けてもよい。これによっても、当該凸部や凹部で反射膜からの反射光を屈折、散乱させ、基板との全反射をより少なくさせることができる。

更に上述の実施形態では露光用マスクとして遮光部の遮光量は各マスクで一種類のものを用いたがこれに限られるものではなく、例えば遮光量が複数の領域で異なるいわゆるハーフトーンマスクを用いてもよい。これにより、複数回の露光を一回で済ますことができ、製造工程の削減がより可能となる。

第１の実施形態に係る液晶装置の概略分解斜視図である。 第１の実施形態に係る第２基板の配向膜等を除く概略平面図である。 図２のＡ−Ａ線の概略断面図である。 第１の実施形態に係る境界面での光の進み具合の説明図である。 第１の実施形態に係る第２基板側の製造工程図である。 第１の実施形態に係る反射膜形成の説明図である。 第１の実施形態に係る樹脂層に凹凸を形成する説明図である。 ポジ型感光性樹脂を用いる場合の凹凸用マスクの説明図である。 ポジ型感光性樹脂を用いる場合の透過領域用マスクの説明図である。 変形例１に係る第２基板側の製造工程の説明図である 変形例１に係るネガ用マスクの説明図である。 第２の実施形態に係る液晶装置の概略部分断面図である。 第２の実施形態に係る境界面での光の進み具合の説明図である。 液晶装置１を表示部として有する携帯電話機３００の外観図である。 従来の凹凸が形成された反射膜での反射の説明図である。

符号の説明

１，１０１，２０１ 液晶装置、 ２ 液晶、 ３ 第１基板、 ４ 第２基板、 ５ 液晶パネル、 ６ バックライトユニット、 ７，１３ 位相差板、 ８，１４ 偏光板、 ９ 画素電極、 １０ データ電極、 １１ ＴＦＤ素子、 １２，２２ 配向膜、 １５，２５，２１５ 反射膜、 １６ 樹脂層、 １７，２６，２４１ 凹凸、 １８ カラーフィルタ、 １９ 境界面、 ２０ 遮光層、 ２１ 走査電極、 ２４ 画素、 ２７ アルミニウム膜、 ２８ レジスト、 ２９，１２９ 感光性樹脂、 ３０ 凹凸用マスク、 ３１ 凹凸用遮光部、 ３２ マスク、 ３３ 透過領域用遮光部、 ３４ 透光部、 ３５ 側端面、 ３７，２３７ 保護層、 １３０ ネガ用マスク、 １３４ ネガ用透光部、 １３６ 半透光部、 ２４０ 下地層、 ３００ 携帯電話機

Claims (9)

1. 電気光学物質を支持し複数の画素を有する基板と、
   前記基板上に設けられ、外部からの光を反射する反射膜と、
   前記反射膜に重ねて設けられ、該反射膜により反射する光が屈折し散乱するように積層された互いに異なる屈折率の第１及び第２の層とを備え、
   前記第１の層は前記反射膜と前記第２の層との間に設けられ、前記第１の層と第２の層との境界面は凹凸に形成されていることを特徴とする電気光学装置。
2. 前記第１の層は、前記第２の層の屈折率より大きい屈折率であることを特徴とする請求項１に記載の電気光学装置。
3. 前記画素は、前記反射膜が設けられた反射領域と前記反射膜が設けられていない透過領域とを有することを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の電気光学装置。
4. 前記第１の層が無色透明であり前記第２の層が着色されている又は前記第１の層が着色されており前記第２の層が無色透明であることを特徴とする請求項１から請求項３のうちのいずれか一項に記載の電気光学装置。
5. 前記反射膜は、前記第１の層側の表面が平坦に形成されていることを特徴とする請求項１から請求項４のうちのいずれか一項に記載の電気光学装置。
6. 前記反射膜は、前記第１の層側の表面が凹凸に形成されていることを特徴とする請求項１から請求項４のうちのいずれか一項に記載の電気光学装置。
7. 複数の画素を有する基板と、
   前記基板上に設けられ、外部からの光を反射する反射膜と、
   前記反射膜に重ねて設けられ、該反射膜により反射する光が屈折し散乱するように積層された互いに異なる屈折率の第１及び第２の層とを備え、
   前記第１の層は前記反射膜と前記第２の層との間に設けられ、前記第１の層と第２の層との境界面は凹凸に形成されていることを特徴とする電気光学装置用基板。
8. 前記第１の層は、前記第２の層の屈折率より大きい屈折率であることを特徴とする請求項７に記載の電気光学装置用基板。
9. 請求項１から請求項６のうちのいずれか一項に記載の電気光学装置を備えることを特徴とする電子機器。
   

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