JP4661148B2 - 電気光学装置用基板、電気光学装置、電気光学装置用基板の製造方法及び電子機器 - Google Patents

Description

本発明は、パーソナルコンピュータや携帯電話機に用いられる電気光学装置用基板、その電気光学装置用基板の製造方法、電気光学装置及びその電気光学装置を用いた電子機器に関する。

従来、パーソナルコンピュータや携帯電話機等といった電子機器の表示装置として液晶表示装置等の電気光学装置があり、その液晶表示装置の光源として自然光やバックライト等を用いた反射半透過型等の液晶表示装置がある。

また、例えば反射半透過型の液晶表示装置では表示画面への写り込みが生じることがあり、これを防ぐために外光を散乱させるための凹凸状の反射面を設けることが行われていたが、当該凹凸状の反射面の形成が必ずしもランダムに形成されておらず、反射半透過型等の液晶表示装置の表示品位としては不十分であった。

そこで、当該凹凸状の反射面の形状をよりランダムにしかも容易に形成し液晶表示装置の表示品位を向上させる方法が提案されている（例えば、特許文献１参照。） 。
特開２００３−７５９８７号公報（段落[０００７]から[００３７]、図１３）。

しかしながら上述の方法により凹凸状の反射面の形状をよりランダムにし液晶表示装置の表示品位を向上させることは可能になったが、一方で反射半透過型等の液晶表示装置における反射領域上の着色層の光路長と透過領域上の着色層の光路長との相違による問題があった。

例えば反射領域上の着色層と透過領域上の着色層とで異なる色材を用いるとすると製造工程が増加するという問題が生じ、その問題を解決するものとして反射領域上の着色層の色材に透過領域上の着色層の色材を用いることも考えられたが、その場合は反射領域上の着色層が濃すぎて暗くなるという問題が生じた。

これに対し濃すぎて暗くなる着色層の一部領域に着色しない領域、例えば開口部でありその開口部を通過した光には色が付かないような領域（以下「非着色領域」という。）を設けて反射領域上の全体として明るくするという方法も考えられた。

しかし、この方法も反射領域上の全体としての明るさを明るくすることはできても非着色領域を広くしすぎると今度は、着色領域との間で色再現性が低下するという問題が生じていた。

本発明は、上述の課題に鑑みてなされるもので、簡易な構造及び方法で表示の際の色再現性と明るさの両方の改善を図ることができる電気光学装置用基板、その電気光学装置用基板の製造方法、電気光学装置及びその電気光学装置を用いた電子機器を提供することを目的とする。

上記目的を達成するために、本発明の主たる観点に係る電気光学装置は、電気光学物質を間に保持する第１基板及び第２基板と、前記第１基板の、サブ画素内に設けられた光を透過させる透過領域及び光を反射させる反射膜が形成された反射領域と、前記透過領域及び前記反射領域に形成された着色層と、前記反射領域に設けられ、前記着色層が形成されていない非着色領域とを具備し、前記反射領域において、出射される光を散乱させるための散乱構造が設けられ、前記着色層が形成されている着色領域に対応する第１の領域を介して出射される光は、前記非着色領域に対応する第２の領域を介して出射される光よりも広く散乱することを特徴とする。

ここで、「透過領域」とは例えば反射膜中に形成された開口部をいう。ここでいう開口部とは、例えば開口部内に他の反射膜の厚さより薄く光が透過できる程度に反射膜が残っているようなものや完全に開口部内には反射膜が形成されていない様なものを含むものである。また、「広く散乱する」とは例えば凹凸からの反射光の反射角が大きくなるような場合をいう。

本発明は、反射領域において射出される光を散乱させるための散乱構造を設け、着色領域に対応する第１の領域を介して出射される光が、非着色領域に対応する第２の領域を介して出射される光よりも広く散乱されるものとしたので、例えば反射領域の色材に透過領域の色材を用いても、非着色領域を設け色の明るさを確保することができると共に非着色領域の形成による色再現性の低下に対し、該非着色領域に対応する第２の領域を介して射出される光が、着色領域に対応する第１の領域を介し射出される光より狭く散乱され該散乱光が明るくなり、非着色領域をその分小さくすることが可能となる。その結果、その分着色領域が増し、色再現性を向上させることが可能となる。

本発明の一の形態によれば、前記反射膜の表面には、前記散乱構造として複数の凹凸が形成され、前記複数の凹凸は、前記第１の領域と前記第２の領域とで相違するように形成されていることを特徴とする。これにより、凹凸の形状や密度等を第１の領域と第２の領域とで変更することにより容易に、例えば第２の領域を介して射出される反射光の平均反射角度と第１の領域を介して射出される反射光の平均反射角度とを異なるようにでき、非着色領域からの射出光をより明るくすることが可能となる。

本発明の一の形態によれば、前記第１基板に、前記第１の領域と前記第２の領域とで相違するように形成された複数の凹凸を有するように形成された散乱膜を具備し、前記反射膜の複数の凹凸は、前記散乱膜の凹凸に対応するように形成されていることを特徴とする。これにより、例えば散乱構造としての凹凸を形成容易な散乱膜の凹凸形状でまず形成し、その上に反射膜を形成して該散乱膜の凹凸形状を反射膜に反映させて当該反射膜に凹凸形状を形成することが可能となる。

本発明の一の形態によれば、前記反射膜の表面に形成される凹凸による光の平均反射角度は、前記第１の領域での該平均反射角度に比較して、前記第２の領域での該平均反射角度の方が小さくなるように形成されていることを特徴とする。これにより、第２の領域、すなわち非着色領域での散乱光が明るくなるため非着色領域をより小さくでき、着色層全体としての色再現性がより向上する。

本発明の一の形態によれば、前記反射膜の表面に形成される凹凸の平均高低差は、前記第１及び第２の領域で相違するように形成されていることを特徴とする。これにより、第２の領域、すなわち非着色領域での例えば凹凸の平均高低差を小さくすることにより平坦度が増すので、反射光が狭い角度範囲に散乱され散乱光が明るくなるため非着色領域をより小さくでき、着色層全体としての色再現性がより向上する。

本発明の一の形態によれば、前記反射膜の表面に形成される凹凸の平面方向の平均断面径は、前記第１の領域及び第２の領域で相違するように形成されていることを特徴とする。これにより、第２の領域、すなわち非着色領域での例えば凹凸の平均断面径を第１の領域に比較して小さくすることにより平坦度が増すので、反射光が狭い角度範囲に散乱され散乱光が明るくなるため非着色領域をより小さくでき、着色層全体としての色再現性がより向上する。

本発明の一の形態によれば、前記反射膜の表面に形成される凹凸の平均密度は、前記第１の領域及び第２の領域で相違するように形成されていることを特徴とする。これにより、第２の領域、すなわち非着色領域での例えば凹凸の平均密度を第１の領域に比較して大きくすることにより平坦度が増すので、反射光が狭い角度範囲に散乱され散乱光が明るくなるため非着色領域をより小さくでき、着色層全体としての色再現性がより向上する。

本発明の一の形態によれば、前記反射膜の表面に形成される凹凸の形状は、前記第１及び第２の領域で相違するように構成されていることを特徴とする。ここで、「凹凸の形状」とは例えば半球形状や角錐形状等をいう。これにより、第１及び第２の領域で形成される凹凸が平均密度や平均高低差のみならず、夫々の形状そのものも相違するように形成でき、より多種多様な色再現性を確保できる。

本発明の他の観点にかかる電気光学装置用基板の製造方法は、複数のサブ画素が規定され、電気光学物質を保持可能な基板と、前記サブ画素内に設けられた光を透過させる透過領域と光を反射させる反射領域とを備えた電気光学装置用基板の製造方法において、前記基板上に、感光性樹脂を塗布する工程と、前記感光性樹脂を、マスクを介して露光し現像することにより、前記サブ画素内の第１の領域と第２の領域とで相違する複数の凹凸を有する散乱膜を形成する工程と、前記サブ画素内の前記散乱膜上に、少なくとも該反射領域の前記第１及び第２の領域に対応する領域に前記散乱膜の複数の凹凸に対応する複数の凹凸を有するように反射膜を成膜する工程と、前記反射領域と前記透過領域とに、少なくとも前記反射領域で、前記第２の領域に対応する非着色領域を避けて、前記第１の領域に対応する着色領域を設けるように着色層を形成する工程とを具備し、前記マスクは、前記散乱膜の複数の凹凸に対応した複数の透光部または遮光部を備え、前記第１の領域での当該透光部または遮光部の大きさは、前記第２の領域での当該透光部または遮光部の大きさより大きいことを特徴とする。

本発明は、散乱膜の複数の凹凸に対応した複数の透光部または遮光部を備え、第１の領域での当該透光部または遮光部の大きさが、第２の領域での当該透光部または遮光部の大きさより大きいマスクを介して露光し現像することにより、第１の領域と第２の領域とで相違する複数の凹凸を有する散乱膜を形成する工程と、その散乱膜上に、少なくとも該反射領域の前記第１及び第２の領域に対応する領域に前記散乱膜の複数の凹凸に対応する複数の凹凸を有するように反射膜を成膜する工程と、少なくとも前記反射領域で、第２の領域に対応する非着色領域を避けて、第１の領域に対応する着色領域を設けるように着色層を形成する工程とを具備することとしたので、極めて容易に第１の領域と第２の領域とで相違する複数の凹凸を有する反射膜を形成することができ、例えば該非着色領域に対応する第２の領域を介して射出される光が、着色領域に対応する第１の領域を介し射出される光より狭く散乱させることが可能となる。これにより、該第２の領域の散乱光が明るくなり、非着色領域をその分小さくすることが可能となり、その分着色領域が増し、色再現性を向上させた液晶表示用基板を提供することが可能となる。

本発明の他の観点にかかる電気光学装置用基板の製造方法は、複数のサブ画素が規定され、電気光学物質を保持可能な基板と、前記サブ画素内に設けられた光を透過させる透過領域と光を反射させる反射領域とを備えた電気光学装置用基板の製造方法において、前記基板上に、感光性樹脂を塗布する工程と、前記感光性樹脂を、マスクを介して露光し現像することにより、前記サブ画素内の第１の領域と第２の領域とで相違する複数の凹凸を有する散乱膜を形成する工程と、前記サブ画素内の前記散乱膜上に、少なくとも該反射領域の前記第１及び第２の領域に対応する領域に前記散乱膜の複数の凹凸に対応する複数の凹凸を有するように反射膜を成膜する工程と、前記反射領域と前記透過領域とに、少なくとも前記反射領域で、前記第２の領域に対応する非着色領域を避けて、前記第１の領域に対応する着色領域を設けるように着色層を形成する工程とを具備し、前記マスクは前記散乱膜の複数の凹凸に対応した複数の透光部または遮光部を備え、前記第１の領域での当該透光部または遮光部の平均密度が、前記第２の領域での当該透光部または遮光部の平均密度より小さいことを特徴とする。

本発明は、散乱膜の複数の凹凸に対応した複数の透光部または遮光部を備え、第１の領域での当該透光部または遮光部の平均密度が、第２の領域での当該平均密度より小さいマスクを介して露光し現像することにより、第１の領域と第２の領域とで相違する複数の凹凸を有する散乱膜を形成する工程と、その散乱膜上に、少なくとも該反射領域の前記第１及び第２の領域に対応する領域に前記散乱膜の複数の凹凸に対応する複数の凹凸を有するように反射膜を成膜する工程と、少なくとも前記反射領域で、第２の領域に対応する非着色領域を避けて、第１の領域に対応する着色領域を設けるように着色層を形成する工程とを具備することとしたので、極めて容易に第１の領域と第２の領域とで相違する複数の凹凸を有する反射膜を形成することができ、例えば該非着色領域に対応する第２の領域を介して射出される光が、着色領域に対応する第１の領域を介し射出される光より狭く散乱させることが可能となる。これにより、該第２の領域の散乱光が明るくなり、非着色領域をその分小さくすることが可能となり、その分着色領域が増し、色再現性を向上させた液晶表示用基板を提供することが可能となる。

本発明の他の観点に係る電子機器は、上述の電気光学装置を備えたことを特徴とする。

本発明は、簡易な構造及び方法で表示の際の色再現性と明るさとの両立を図ることができる電気光学装置を備えるので、容易に電子機器の性能の信頼性を高めることができる。

以下、本発明に実施形態を図面に基づき説明する。なお、以下実施形態を説明するにあたっては、電気光学装置の例として液晶表示装置、具体的には反射半透過型でニ端子型スイッチング素子であるＴＦＤ（薄膜ダイオード）を用いたアクティブマトリックス方式の液晶表示装置及びその液晶表示装置を用いた電子機器について説明するがこれに限られるものではない。また、以下の図面においては各構成をわかりやすくするために、実際の構造と各構造における縮尺や数等が異なっている。

（第１の実施形態）

図１は本発明の第１の実施形態に係る液晶表示装置を構成する液晶パネルの概略分解斜視図、図２は液晶パネルの対向基板側の概略平面図、図３は図２におけるＡ−Ａ線及びＢ−Ｂ線の概略断面図及び図４は散乱構造の相違を説明する概略部分断面図である。

（液晶表示装置の構成）

液晶表示装置１は、例えば図１、図２及び図３に示すように液晶パネル２と、当該液晶パネル２に光を射出する照明装置３及び該液晶パネル２に接続された図示しない回路基板やその他の付帯機構が必要に応じて付設される。

液晶パネル２は、図１、図２及び図３に示すように相対向する基板であるカラーフィルタ基板４及び対向基板５と、該カラーフィルタ基板４及び対向基板５がシール材（図示しない）を介して貼り合わされ両基板の間隙に封入された電気光学物質例えばＴＮ（Ｔｗｉｓｔ Ｎｅｍａｔｉｃ）型の液晶である液晶層６とを有する。

ここで、カラーフィルタ基板４は、ガラス板又は合成樹脂板等から形成された透明な液晶表示装置用の基板である第１基板７を其体とし、対向基板５はカラーフィルタ基板４に対向し、ガラス板又は合成樹脂板等から形成された透明な液晶表示装置用の基板である第２基板８を其体とする。また、第１基板７の液晶層６と反対側には位相差板９及び偏光板１０が配置され、第２基板８の液晶層６と反対側には同様に位相差板１１及び偏光板１２が配置されている。

カラーフィルタ基板４は、図１及び図３に示すように第１基板７の液晶層側の表面に散乱膜１３が形成され、その散乱膜１３の表面には後述する光の透過領域である反射膜用開口部を有する反射膜１４及び光を遮蔽する光遮蔽層１５が形成されている。また、該反射膜用開口部を含めた反射膜１４の液晶層側には後述する非着色領域である着色層用開口部を有する着色層１６が光遮蔽層１５で区切られる領域に形成されている。この結果、反射膜用開口部では着色層１６が直接散乱膜１３の上に積層されることとなる。

また、カラーフィルタ基板４は該着色層１６及び光遮蔽層１５の表面を保護するオーバーコート層１７が該着色層１６及び光遮蔽層１５の表面を覆うように形成されており、更にオーバーコート層１７の液晶層側にはＩＴＯ（インジウムスズ酸化物）等の透明導電体からなる走査電極１８が形成されている。また、その走査電極１８の液晶層側には、例えばポリイミド樹脂等からなる配向膜１９が形成されている。

ここで、散乱膜１３は樹脂材料からなり、その表面には図１及び図３に示すように細かい例えば凹凸を有する散乱構造が形成されており、後述するサブ画素内の表面には当該散乱構造が相違する第１及び第２の領域Ｃ，Ｄを有する。また、その第１及び第２の領域Ｃ，Ｄは着色層１６の着色層用開口部に平面的に重なるように第２の領域Ｄが形成され、それ以外の散乱膜１３の領域に第１の領域Ｃが形成されている。

具体的には、例えば図４（ａ）に示すように散乱構造が相違する第１及び第２の領域Ｃ，Ｄは、第１の領域Ｃに形成された凹凸の平均高低差より第２の領域Ｄに形成された凹凸の平均高低差の方が小さくなるように形成されている。

更に反射膜１４は、例えばアルミニウムや銀等の単体金属膜であって、例えば図１、図２及び図３に示すように夫々のサブ画素の略中央に反射膜１４により散乱膜１３が覆われていない略矩形状の反射膜用開口部２０が形成されており、この反射膜用開口部２０の領域が透過領域Ｅとなる。

また、図２及び図３に示すように該反射膜用開口部２０の周囲は反射膜１４により外部から入射した光を反射させる反射領域Ｆが形成されている。これにより、後述するバックライト等の第１基板７から入射した光が透過領域Ｅから液晶層６へ透過できると共に、反射領域Ｆにより外部光を反射させることができる。

なお、反射膜用開口部２０はこの例に限られるものではなく、例えば円孔或は複数更には略中央でなくてもよい。これにより、種々多様な液晶表示装置１で、最も良い表示品位を提供できる。

更に反射膜１４は、例えば図１、図３及び図４に示すように散乱膜表面の散乱構造の凹凸により反射膜１４の表面にも当該散乱膜の散乱構造が略そのまま反映されている。

具体的に、反射膜１４は例えば図４（ａ）に示すように散乱構造が相違する第１及び第２の領域Ｃ，Ｄ上の領域に、第１の領域Ｃ上に形成された反射膜表面の凹凸の平均高低差（図４（ａ）中のＧ１）より第２の領域Ｄ上に形成された反射膜表面の凹凸の平均高低差（図４（ａ）中のＨ１）の方が小さく（Ｇ１>Ｈ１）なるように形成されている。

これにより、第２の領域上の反射膜表面の凹凸は全体に平坦化し、その凹凸により反射される光の平均反射角度（図４（ａ）中のＪ１）は、第１の領域上の反射膜表面の凹凸による平均反射角度（図４（ａ）中のＩ１）に比較して小さくなり（Ｉ１>Ｊ１）、散乱が狭くなるので第２の領域Ｄでの反射光は第１の領域の反射光より明るくなり、後述する着色層１６の非着色領域の大きさを変えることなく反射光の色の濃さを調整でき、全体としての色再現性を最も適した状態に調整することが可能となる。

また、着色層１６は例えば顔料又は染料等の着色材を含むネガ型の感光性樹脂を塗布し、フォトリソグラフィ法によって、透過領域Ｅ及びその透過領域の周りの反射領域Ｆを覆うように形成された原色フィルタであってＲ（赤）１６Ｒ、Ｇ（緑）１６Ｇ、Ｂ（青）１６Ｂ等の三色のいずれかで構成されている。

更に着色層１６は、例えば図１、図３及び図４に示すように反射領域Ｆ上で夫々のサブ画素の略中央に着色層用開口部２１が形成されており、この着色層用開口部２１が非着色領域Ｋとなる。これにより、例えば反射領域Ｆ上の色材に透過領域Ｅ上の色材と同じものを用いて該反射領域Ｆで反射した光が、透過領域Ｅで透過した光に比べ濃くなり暗くなっても、当該非着色領域Ｋから得られる明るい光により全体としての明るさを改善できることとなる。

また、非着色領域Ｋは散乱膜１３の第２の領域Ｄに平面的に重なるように形成されており、例えば図４（ａ）に示すように第１の領域Ｃの散乱構造に比較してその凹凸の平均高低差Ｈ１を小さくすれば、散乱を狭くすることが可能となり、よりその領域からの光の明度を明るくすることができる。

尚、着色層１６は例えば図１、図２、図３及び図４に示すように反射領域Ｆ上で、散乱膜１３の第１の領域Ｃに対応し光に所定の色を付ける領域である着色領域Ｌを非着色領域Ｋの周囲に形成されている。

また、着色層１６の配列パターンとして図１及び図２ではストライプ配列を採用しているが、これに限られるものではなく例えば斜めモザイク配列やデジタル配列等であってもよい。

光遮蔽層１５は、各サブ画素間の境界領域の遮光を行なうためのもので、その境界領域に第１基板７の走査電極１８の長手方向（図２のＸ方向）及びこれに交差する方向（図２のＹ方向）に延在される帯状に形成されており、例えば図３に示すように着色層１６Ｂを一番下層に配置し、その上に着色層１６Ｒ、着色層１６Ｇの順等に形成する。

更にオーバーコート層１７は、例えば図１及び図３に示すように着色層１６と光遮蔽層１５を覆うように形成されている。これにより、例えば非着色領域Ｋである着色層用開口部２１に当該オーバーコート層１７が入り込むことになる。尚、オーバーコート層１７は例えば酸化ケイ素、酸化チタン又はこれらの混合物等により形成されている。

また、走査電極１８は所定の方向（図１、図２及び図３のＸ方向）に延在する帯状に形成され、複数の走査電極１８が相互に並列してストライプ状に構成されている。

更に配向膜１９は、ポリイミド等の有機薄膜であり、液晶層６の配向状態を規定するためにラビング処理が施されている。

次に対向基板５は、例えば図１、図２及び図３に示すように第２基板８の液晶層側の表面に、マトリックス状に配列する複数の画素電極２２と、各画素電極２２の境界領域において上述した走査電極１８と交差する方向（図２のＹ方向）に帯状に延びる複数のデータ線２３と、該画素電極２２及びデータ線２３に電気的に接続されたＴＦＤ２４とが配置され、その液晶層側には配向膜２５が形成されている。

ここで、画素電極２２は例えばＩＴＯ等の透明導電体により形成されており、該走査電極１８と画素電極２２とによって特定される領域がサブ画素２６となる。

また、ＴＦＤ２４は例えば図３に示すように第２基板８の表面に成膜された下地層２７の上に形成されており、第１金属膜２８と、該第１金属膜２８の表面に形成された絶縁膜２９及び該絶縁膜２９の上に形成された第２金属膜３０とを有する。

第１金属膜２８は例えば、厚さが１００〜５００ｎｍ程度のＴａ単体膜、Ｔａ合金膜等によって形成されており、データ線２３に電気的に接続されている。

また、絶縁膜２９は例えば厚さが１０〜３５ｎｍ程度の酸化タンタル等によって形成されている。第２金属膜３０は、例えばクロム（Ｃｒ）等といった金属膜によって５０〜３００ｎｍ程度の厚さに形成されており、画素電極２２に電気的に接続されている。

更に配向膜２５は、第１基板７の配向膜１９と同様有機薄膜であり、ラビング処理が施されている。

次に、照明装置３は例えば図３に示すように図示しない光源、導光板３１、二枚のプリズムシート３２，３３、拡散シート３４、反射シート３５等を有する。

ここで、光源は例えばＬＥＤ（Ｌｉｇｈｔ Ｅｍｉｔｔｉｎｇ Ｄｉｏｄｅ）等が用いられ、導光板３１は光源から射出された光を拡散シート３４の全体に照射させるものであり、プリズムシート３２，３３は導光板３１から射出された光の輝度を向上させるものである。

また、反射シート３５は導光板３１の第１基板７と反対側面から射出した光を導光板３１に戻し光を有効利用できるようになっている。

尚、上述の説明では凹凸を有する散乱膜１３や反射膜１４等の散乱構造として図４（ａ）に示すように凹部、凸部を両方有する場合を説明したが、当該散乱構造はこれに限られるものではなく、例えば図４（ｂ）、（ｃ）に示すように凸部や凹部のみを平面的な表面に有する場合でもよい。

この場合でも例えば反射膜１４は、散乱構造が相違する第１及び第２の領域Ｃ，Ｄ上の領域に、第１の領域Ｃ上に形成された反射膜表面の凹凸の平均高低差（図４（ｂ）（ｃ）中のＧ２）より第２の領域Ｄ上に形成された反射膜表面の凹凸の平均高低差（図４（ｂ）（ｃ）中のＨ２）の方が小さく（Ｇ２>Ｈ２）なるように形成されている。

これにより、第２の領域上の反射膜表面の凹凸は全体に平坦化し、その凹凸により反射される光の平均反射角度（図中のＪ２）は、第１の領域上の反射膜表面の凹凸による平均反射角度（図４（ｂ）（ｃ）中のＩ２）に比較して小さくなり（Ｉ２>Ｊ２）、散乱が狭くなるので第２の領域Ｄでの反射光は第１の領域の反射光より明るくなり、着色層１６の非着色領域の大きさを変えることなく反射光の色の濃さを調整でき、全体としての色再現性を最も適した状態に調整することが可能となる。

また、散乱構造は図４（ａ）、（ｂ）、（ｃ）の形状に限られるものではないことは無論である。

（液晶表示装置の製造方法）

次に、液晶表示装置１の製造方法を散乱膜を中心に説明する。

図５は液晶表示装置の製造工程のフローチャート図、図６は一サブ画素の露光用マスクの概略平面図、図７は散乱膜の製造工程を説明するための概略部分断面図及び図８は反射膜、着色層の製造工程を説明するための概略部分断面図である。

まず、図５に示すように第１基板７上に均一に散乱膜用の例えばネガ型の感光性樹脂３６を例えば図７（ａ）に示すようにスピンコート等により塗布する（ＳＴ１０１）。

そしてサブ画素２６のストライプ配列に合わせたハーフトーンマスク３７の上から図７（ｂ）に示すように露光し更に現像することにより、例えば図７（ｃ）に示すように第１の領域Ｃと第２の領域Ｄとで散乱構造の異なる散乱膜１３が形成される（ＳＴ１０２）。

ここで、ハーフトーンマスク３７は例えば図６（ａ）に示すように一つのサブ画素２６に対応する領域では、光の遮光量が通常のマスクの半分程度のハーフ露光領域Ｍとその周囲に通常の遮光量の通常露光領域Ｎとが形成されており、散乱膜１３の第１の領域Ｃが通常露光領域Ｎに対応し、第２の領域Ｄがハーフ露光領域Ｍに対応するようになっている。

これにより、図７（ｂ）に示すように第２の領域Ｄの感光性樹脂３６の方が第１の領域Ｃの感光性樹脂３６より受ける光が少ないのでネガ型である感光性樹脂３６は現像後に図７（ｃ）に示すように第２の領域Ｄの方が第１の領域Ｃの凹凸よりその平均高低差が小さくなり、平坦化するので散乱が狭くなる。

次に、第１の領域及び第２の領域に散乱構造の相違する例えば図７（ｃ）のような凹凸が形成された散乱膜１３上に蒸着法やスパッタリング法等によってアルミニウム等を薄膜状に成膜し、これにフォトリソグラフィ法を用いてパターニングすることによって、例えば図２及び図３に示すように各サブ画素２６の略中央に透過領域Ｅである矩形状の反射膜用開口部２０を設けると共に、その周囲に反射領域Ｆを有する反射膜１４を図８（ａ）に示すように形成する（ＳＴ１０３）。

このとき、反射膜１４は、例えば図１、図３及び図４に示すように散乱膜表面の散乱構造の凹凸により反射膜１４の表面にも当該散乱膜の散乱構造が略そのまま反映される。

具体的に、反射膜１４は例えば図４（ａ）に示すように散乱構造が相違する第１及び第２の領域Ｃ，Ｄ上の領域に、第１の領域Ｃ上に形成された反射膜表面の凹凸の平均高低差（図４（ａ）中のＧ１）より第２の領域Ｄ上に形成された反射膜表面の凹凸の平均高低差（図４（ａ）中のＨ１）の方が小さく（Ｇ１>Ｈ１）なるように形成されている。

これにより、第２の領域上の反射膜表面の凹凸は全体に平坦化し、その凹凸により反射される光の平均反射角度（図４（ａ）中のＪ１）は、第１の領域上の反射膜表面の凹凸による平均反射角度（図４（ａ）中のＩ１）に比較して小さくなり（Ｉ１>Ｊ１）、散乱が狭くなるので第２の領域Ｄでの反射光は第１の領域の反射光より明るくなり、着色層１６の非着色領域の大きさを変えることなく反射光の色の濃さを調整でき、全体としての色再現性を最も適した状態に調整することが可能となる。

また、形成された反射膜１４の上に三色の内の例えば青色の感光性着色材が分散されたネガ型の感光性樹脂３８をスピンコート等により図８（ｂ）に示すように塗布し、露光現像して非着色領域Ｋである着色層用開口部２１を図８（ｃ）に示すように備えた青色の着色層１６Ｂが形成される（ＳＴ１０４）。尚、光遮蔽層１５となる部分にも着色層１６Ｂが形成される。この工程ＳＴ１０４を赤の着色層１６Ｒ、緑の着色層１６Ｇと同様に繰り返すことにより最終的に三色の着色層１６が形成されることとなる。また、光遮蔽層１５も三色の着色層が積層され光を遮蔽することができるようになる。

次に、三回目のＳＴ１０４により三色の着色層１６及び光遮蔽層１５が形成されているその上に、オーバーコート層１７が形成される（ＳＴ１０５）。

また、ＳＴ１０５により形成されたオーバーコート層１７の上に走査電極１８の材料であるＩＴＯ等をスパッタリング法により被着し、フォトリソグラフィ法によってパターニングして図１、図２及び図３に示すようにＸ軸方向に所定の幅をもって走査電極１８をストライプ状に形成する。更にその走査電極１８を形成した上に配向膜１９を形成し、ラビング処理を施して第１基板側の製造が終了する（ＳＴ１０６）。

次に、第２基板８上にＴＦＤ２４、データ線２３及び画素電極２２を形成する（ＳＴ１０７）。

ここで、ＴＦＤ２４は第２基板８上にＴａ酸化物等を一様な厚さに成膜し下地層２７を形成し、その上にＴａ等をスパッタリングにより一様な厚さで成膜して、フォトリソグラフィ法によりデータ線２３と第１金属膜２８とを同時に形成する。このとき、データ線２３と第１金属膜２８とはブリッジで繋がっている。

また、第１金属膜２８に絶縁膜である酸化タンタル等を一様な厚さで成膜し絶縁膜２９を形成して、更にその上にＣｒをスパッタリング法により一様な厚さで成膜し、フォトリソグラフィ法を利用して第２金属膜３０を形成する。

更に画素電極２２の形成予定領域の下地層２７を除去した後、ＩＴＯをスパッタリング等によって一様な厚さで成膜し、更にフォトリソグラフィ法等によって一サブ画素の大きさに近い所定形状の画素電極２２を、一部が第２金属膜３０と重なるように形成する。これら一連の処理により、ＴＦＤ２４及び画素電極２２が形成される。また、その上に配向膜２５を形成し、ラビング処理を施して第２基板側の製造が終了する（ＳＴ１０８）。

次に、第２基板側の配向膜２５上にギャップ材（図示せず）をドライ散布等により散布し、シール材を介して上述の第１基板７と第２基板８とを貼り合わせる（ＳＴ１０９）。その後、シール材の開口部から液晶を注入し（ＳＴ１１０）、シール材の開口部を紫外線硬化性樹脂等の封止材によって封止する。更に位相差板９，１１及び偏光板１０，１２を第１基板７及び第２基板８の各外面上に貼着等の方法により取り付ける（ＳＴ１１１）。

最後に必要な配線や照明装置３及びケース体等を取り付けて、液晶表示装置１が完成する（ＳＴ１１２）。

以上で液晶表示装置１の製造方法の説明を終了する。

尚、上述の説明では散乱膜１３の形成にネガ型の感光性樹脂３６を用いたがこれに限られるものではなく、例えばポジ型の感光性樹脂を用いてもよい。

この場合、露光に用いるマスクは図６（ａ）の黒丸とその背景とが反転したパターンが形成されたマスクを用いることとなる。

（液晶表示装置の動作）

次に、以上のように構成された液晶表示装置１の動作について光の進行を中心に簡単に説明する。

まず、第１基板７に形成された走査電極１８に走査信号を供給する一方、第２基板８に形成されたＴＦＤ２４を介して所定の画素電極２２にデータ線２３からデータ信号が供給されると、所定の走査電極１８と所定の画素電極２２とが対向する領域において保持されている液晶のみ駆動できることとなる。

従って、例えば図３に示すように第２基板８及び画素電極２２を透過して液晶層６に入射した外光は、該液晶層６によってサブ画素２６毎に光変調され、オーバーコート層１７を通過し着色領域Ｌの着色層１６（１６Ｂ）に入ると、着色層１６により着色されて反射領域Ｆの反射膜１４により反射される。その後再び着色領域Ｌの着色層１６及びオーバーコート層１７を通過し、画素電極２２及び第２基板８を通過して表示画面から射出されることとなる。

これに対し、非着色領域Ｋに入るとオーバーコート層１７を通過し、着色層１６により着色されず反射領域Ｆの反射膜１４により反射される。その後再びオーバーコート層１７の非着色領域Ｋを通過し、画素電極２２及び第２基板８を通過して表示画面から射出されることとなる。

従って、非着色領域Ｋから反射された光は着色による明度の低下もなく着色層１６全体の明度を明るくすることが可能となる。

また、照明装置３から射出された光は第１基板７及び透過領域Ｅの反射膜１４である反射膜用開口部２０を通過し、着色層１６及びオーバーコート層１７を通過して液晶層６に入射した後、該液晶層６によってサブ画素２６毎に光変調され、画素電極２２及び第２基板８を通過して表示画面から射出される。

以上で液晶表示装置１の動作の説明を終了する。

このように本実施形態によれば、反射領域Ｆにおいて射出される光を散乱させるための散乱構造を設け、着色領域Ｌに対応する第１の領域Ｃを介して射出される光が、非着色領域Ｋに対応する第２の領域Ｄを介して射出される光よりも広く散乱されるものとしたので、例えば反射領域Ｆの色材に透過領域Ｅの色材を用いても、非着色領域Ｋを設け色の明るさを確保することができると共に非着色領域Ｋの形成による色再現性の低下に対し、該非着色領域Ｋに対応する第２の領域Ｄを介して射出される光が、着色領域Ｌに対応する第１の領域Ｃを介し射出される光より狭く散乱され該散乱光が明るくなり、非着色領域Ｋをその分小さくすることが可能となる。その結果、その分着色領域Ｌが増し、色再現性を向上させることが可能となる。

また、反射膜１４は、その表面に形成される凹凸の少なくとも一方による光の平均反射角度が第１の領域上での該平均反射角度に比較して、第２の領域上での該平均反射角度の方が小さくなるように形成されているので、第２の領域Ｄ、すなわち非着色領域Ｋでの散乱光が明るくなるため非着色領域Ｋをより小さくすることもでき、着色層全体としての色再現性がより向上する。

更に反射膜１４は、例えばその表面に形成される凹凸の少なくとも一方の平均高低差が第１の領域上に対し第２の領域上の方が小さくなるように形成されているので、第２の領域上、すなわち非着色領域Ｋでの平坦度が増すので、反射光が狭い角度範囲に散乱され散乱光が明るくなるため非着色領域をより小さくでき、着色層全体としての色再現性がより向上する。

また、第１及び第２の領域での凹凸の高低差の相違を例えばハーフトーンマスク３７を用いて同時に形成することとしたので、製造工程を減らしコストの低減化を図ることができる。

（第２の実施形態）

次に、本発明に係る液晶表示装置の第２の実施形態について説明する。本実施形態においては液晶表示装置の散乱膜の第１及び第２の領域の散乱構造の相違を凹凸の平面方向の平均断面径が相違することとした点で第１の実施形態と異なるのでその点を中心に説明する。尚、第１の実施形態の構成要素と共通する構成要素については、第１の実施形態の構成要素と同一の符号を付しその説明を省略する。

図９は本発明の第２の実施形態に係る液晶表示装置の散乱構造を説明する概略部分断面図である。

（液晶表示装置の構成）

液晶表示装置１０１は、例えば図１、図２及び図３に示すように液晶パネル１０２と、当該液晶パネル１０２に光を射出する照明装置３及び該液晶パネル１０２に接続された図示しない回路基板やその他の付帯機構が必要に応じて付設される。

液晶パネル１０２は、図１、図２及び図３に示すように相対向する基板であるカラーフィルタ基板１０４及び対向基板５と、該カラーフィルタ基板１０４及び対向基板５がシール材（図示しない）を介して貼り合わされ両基板の間隙に封入された電気光学物質例えばＴＮ（Ｔｗｉｓｔ Ｎｅｍａｔｉｃ）型の液晶である液晶層６とを有する。

ここで、カラーフィルタ基板１０４は、ガラス板又は合成樹脂板等から形成された透明な液晶表示装置用の基板である第１基板７を其体とし、対向基板５はカラーフィルタ基板４に対向し、ガラス板又は合成樹脂板等から形成された透明な液晶表示装置用の基板である第２基板８を其体とする。

カラーフィルタ基板１０４は、図１及び図３に示すように第１基板７の液晶層側の表面に散乱膜１１３が形成され、その散乱膜１１３の表面には光の透過領域である反射膜用開口部を有する反射膜１１４及び光を遮蔽する光遮蔽層１５が形成されている。また、該反射膜用開口部を含めた反射膜１１４の液晶層側には非着色領域である着色層用開口部を有する着色層１６が光遮蔽層１５で区切られる領域に形成されている。この結果、反射膜用開口部では着色層１６が直接散乱膜１１３の上に積層されることとなる。

また、カラーフィルタ基板１０４は該着色層１６及び光遮蔽層１５の表面を保護するオーバーコート層１７が該着色層１６及び光遮蔽層１５の表面を覆うように形成されており、更にオーバーコート層１７の液晶層側にはＩＴＯ（インジウムスズ酸化物）等の透明導電体からなる走査電極１８が形成されている。また、その走査電極１８の液晶層側には、例えばポリイミド樹脂等からなる配向膜１９が形成されている。

ここで、散乱膜１１３は樹脂材料からなり、その表面には図１及び図３に示すように細かい例えば凹凸を有する散乱構造が形成されており、サブ画素内の表面には当該散乱構造が相違する第１及び第２の領域Ｃ，Ｄを有する。また、その第１及び第２の領域Ｃ，Ｄは着色層１６の着色層用開口部に平面的に重なるように第２の領域Ｄが形成され、それ以外の散乱膜１１３の領域に第１の領域Ｃが形成されている。

具体的には、例えば図９に示すように散乱構造が相違する第１及び第２の領域Ｃ，Ｄは、第１の領域Ｃに形成された凹凸の平面方向（図９中のＹ軸方向）の平均断面の径（平均断面径）より第２の領域Ｄに形成された凹凸の平面方向（図９中のＹ軸方向）の平均断面径の方が小さくなるように形成されている。

更に反射膜１１４は、例えばアルミニウムや銀等の単体金属膜であって、例えば図１、図２及び図３に示すように夫々のサブ画素の略中央に反射膜１１４により散乱膜１１３が覆われていない略矩形状の反射膜用開口部２０が形成されており、この反射膜用開口部２０の領域が透過領域Ｅとなる。

また、図２及び図３に示すように該反射膜用開口部２０の周囲は反射膜１１４により外部から入射した光を反射させる反射領域Ｆが形成されている。これにより、バックライト等の第１基板７から入射した光が透過領域Ｅから液晶層６へ透過できると共に、反射領域Ｆにより外部光を反射させることができる。

更に反射膜１１４は、例えば図１、図３及び図９に示すように散乱膜表面の散乱構造の凹凸により反射膜１１４の表面にも当該散乱膜の散乱構造が略そのまま反映されている。

具体的に、反射膜１１４は例えば図９に示すように散乱構造が相違する第１及び第２の領域Ｃ，Ｄ上の領域に、第１の領域Ｃ上に形成された反射膜表面の凹凸の平面方向（図９中のＹ軸方向）の平均断面の径（平均断面径）（図９中のＯ）より第２の領域Ｄ上に形成された反射膜表面の凹凸の平面方向（図９中のＹ軸方向）の平均断面径（図９中のＰ）の方が小さく（Ｏ>Ｐ）なるように形成されている。

これにより、第２の領域上の反射膜表面の凹凸は全体に平坦化し、その凹凸により反射される光の平均反射角度（図９中のＲ１）は、第１の領域上の反射膜表面の凹凸による平均反射角度（図９中のＱ１）に比較して小さくなり（Ｑ１>Ｒ１）、散乱が狭くなるので第２の領域Ｄでの反射光は第１の領域の反射光より明るくなり、着色層１６の非着色領域Ｋの大きさを変えることなく反射光の色の濃さを調整でき、全体としての色再現性を最も適した状態に調整することが可能となる。

尚、上述の説明では凹凸を有する散乱膜１１３や反射膜１１４等の散乱構造として図９に示すように凹部、凸部を両方有する場合を説明したが、当該散乱構造はこれに限られるものではなく、例えば図４（ｂ）、（ｃ）に示すように凸部や凹部のみを平面的な表面に有する場合でもよい。

（液晶表示装置の製造方法）

次に、液晶表示装置１０１の製造方法を散乱膜を中心に説明する。

図１０は散乱膜の製造工程を説明するための概略部分断面図である。

まず、図５に示すように第１基板７上に均一に散乱膜用の例えばネガ型の感光性樹脂３６を例えば図１０（ａ）に示すようにスピンコート等により塗布する（ＳＴ１０１）。

そしてサブ画素２６のストライプ配列に合わせた図６（ｂ）に示すようなマスク１３７の上から図１０（ｂ）に示すように露光し更に現像することにより、例えば図１０（ｃ）に示すように第１の領域Ｃと第２の領域Ｄとで散乱構造の異なる散乱膜１１３が形成される（ＳＴ１０２）。

ここで、マスク１３７は例えば図６（ｂ）に示すように一つのサブ画素２６に対応する領域では、散乱膜１１３の第１の領域Ｃでの平面方向の平均断面径が、第２の領域Ｄ（非着色領域Ｋ）での平面方向の平均断面径より大きくなるように遮光パターンが形成されている。

すなわち、図６（ｂ）に示すように第１の領域Ｃに対応するマスク１３７の領域での黒丸で表示された遮光部の大きさは、第２の領域Ｄに対応するマスク１３７の領域での黒丸で表示された遮光部の大きさより大きく形成されている。尚、図では遮光パターンは黒丸で表しているが実際はもっと細かく形成されており、形も黒丸に限られるものでないことは勿論である。

次に、第１の領域Ｃ及び第２の領域Ｄに散乱構造の相違する例えば図１０（ｃ）のような凹凸が形成された散乱膜１１３上に蒸着法やスパッタリング法等によってアルミニウム等を薄膜状に成膜し、これにフォトリソグラフィ法を用いてパターニングすることによって、例えば図２及び図３に示すように各サブ画素２６の略中央に透過領域Ｅである矩形状の反射膜用開口部２０を設けると共に、その周囲に反射領域Ｆを有する反射膜１１４を形成する（ＳＴ１０３）。

このとき、反射膜１１４は、例えば図１、図３及び図９に示すように散乱膜表面の散乱構造の凹凸により反射膜１１４の表面にも当該散乱膜１１３の散乱構造が略そのまま反映される。

以下ＳＴ１１１まで第１の実施形態の製造方法と同様であるのでその説明を省略する。

最後に必要な配線や照明装置３及びケース体等を取り付けて、液晶表示装置１０１が完成する（ＳＴ１１２）。

以上で液晶表示装置１の製造方法の説明を終了する。

尚、上述の説明では散乱膜１１３の形成にネガ型の感光性樹脂３６を用いたがこれに限られるものではなく、例えばポジ型の感光性樹脂を用いてもよい。

また、露光に用いるマスクは図６（ｂ）に限られるものではなく、例えば図６（ｂ）の黒丸とその背景とが反転したパターンが形成されたマスクを用いてもよい。この場合、例えば丸い透孔部が複数も受けられたマスクとなる。そして、その透孔部は第１の領域Ｃに対応する領域での大きさが、第２の領域Ｄでの大きさより大きくなるように透孔パターンが形成されることとなる。

（液晶表示装置の動作）

次に、以上のように構成された液晶表示装置１０１の動作については第１の実施形態の液晶表示装置１の動作と略同様であるのでその説明を省略する。

このように本実施形態によれば、反射膜１１４は、その表面に形成される凹凸の平面方向の平均断面径が第１及び第２の領域Ｃ，Ｄ上で相違するように形成されているので、第２の領域上、すなわち非着色領域Ｋでの例えば凹凸の平均断面径が第１の領域上に比較して小さくなりより平坦度が増すこととなり、その表面での反射光が狭い角度範囲に散乱され散乱光が明るくなるため非着色領域Ｋをより小さくすることもでき、着色層全体としての色再現性がより向上する。また、着色層１６の形状によらず散乱膜１１３の第１及び第２の領域Ｃ，Ｄの散乱構造の平均断面径を異ならせることにより色再現性を調整することもできる。

更に散乱膜１１３の複数の凹凸に対応した複数の透光部または遮光部を備え、第１の領域Ｃでの当該透光部または遮光部の大きさが、第２の領域Ｄでの当該透光部または遮光部の大きさより大きいマスクを介して露光し現像することとしたので、極めて容易に第１の領域Ｃと第２の領域Ｄとで相違する複数の凹凸を有する散乱膜１１３を形成することができる。

（変形例）

次に、本発明に係る液晶表示装置の変形例について説明する。本変形例においては液晶表示装置の散乱膜の第１及び第２の領域の散乱構造の相違を凹凸の平均密度が相違することとした点で第１の実施形態と異なるのでその点を中心に説明する。尚、第１の実施形態の構成要素と共通する構成要素については、第１の実施形態の構成要素と同一の符号を付しその説明を省略する。

図１１は本変形例の散乱構造を説明する概略部分断面図である。

（液晶表示装置の構造）

本変形例の液晶表示装置である液晶表示装置２０１の液晶パネル２０２には、図１及び図３に示すように第１基板７の液晶層側の表面に散乱膜２１３が形成され、その散乱膜２１３の表面には図１及び図３に示すように細かい例えば凸部を有する散乱構造が形成されており、サブ画素内の表面には当該散乱構造が相違する第１及び第２の領域Ｃ，Ｄを有する。

また、散乱膜２１３の第１及び第２の領域Ｃ，Ｄは着色層１６の着色層用開口部２１に平面的に重なるように第２の領域Ｄが形成され、それ以外の散乱膜２１３の領域に第１の領域Ｃが形成されている。

具体的には、例えば図１１に示すように散乱構造が相違する第１及び第２の領域Ｃ，Ｄは、第１の領域Ｃに形成された凸部の平均密度より第２の領域Ｄに形成された凸部の平均密度の方が大きくなるように形成されている。

更に反射膜２１４は、例えば図１、図３及び図１１に示すように散乱膜表面の散乱構造の凹凸により反射膜２１４の表面にも当該散乱膜の散乱構造が略そのまま反映されている。

具体的に、反射膜２１４は例えば図１１に示すように散乱構造が相違する第１及び第２の領域Ｃ，Ｄ上の領域に、第１の領域Ｃ上に形成された反射膜表面の凸部２１５の平均密度より第２の領域Ｄ上に形成された反射膜表面の凸部２１５の平均密度の方が大きくなるように形成されている。

これにより、第２の領域上の反射膜表面の凹凸は全体に平坦化し、その凹凸により反射される光の平均反射角度（図１１中のＲ２）は、第１の領域上の反射膜表面の凹凸による平均反射角度（図１１中のＱ２）に比較して小さくなり（Ｑ２>Ｒ２）、散乱が狭くなるので第２の領域Ｄでの反射光は第１の領域の反射光より明るくなり、着色層１６の非着色領域Ｋの大きさを変えることなく反射光の色の濃さを調整でき、全体としての色再現性を最も適した状態に調整することが可能となる。

尚、上述の説明では散乱構造を凸部の密度で考えたがこれに限られるものではなく、例えば凹部や凹凸の密度でも良いことは勿論である。

（液晶表示装置の製造方法）

次に、液晶表示装置２０１の製造方法を散乱膜を中心に説明する。

まず、図５に示すように第１基板７上に均一に散乱膜用のポジ型の感光性樹脂３６を例えばスピンコート等により塗布する（ＳＴ１０１）。

そしてサブ画素２６のストライプ配列に合わせた図６（ｃ）に示すようなマスク２３７の上から露光し更に現像することにより、例えば第１の領域Ｃと第２の領域Ｄとで散乱構造の異なる散乱膜２１３が形成される（ＳＴ１０２）。

ここで、マスク２３７は例えば図６（ｃ）に示すように一つのサブ画素２６に対応する領域では、散乱膜２１３の第１の領域Ｃでの平均密度が、第２の領域Ｄ（非着色領域Ｋ）での平均密度より小さくなるように遮光パターンが形成されている。

すなわち、図６（ｃ）に示すように第１の領域Ｃに対応するマスク２３７の領域での黒丸で表示された遮光部の平均密度は、第２の領域Ｄに対応するマスク２３７の領域での黒丸で表示された遮光部の平均密度より小さく形成されている。尚、図では遮光パターンは黒丸で表しているが実際はもっと細かく形成されており、形も黒丸に限られるものでないことは勿論である。

次に、第１の領域及び第２の領域に散乱構造の相違する例えば凹凸が形成された散乱膜２１３上に蒸着法やスパッタリング法等によってアルミニウム等を薄膜状に成膜し、これにフォトリソグラフィ法を用いてパターニングすることによって、例えば図２及び図３に示すように各サブ画素２６の略中央に透過領域Ｅである矩形状の反射膜用開口部２０を設けると共に、その周囲に反射領域Ｆを有する反射膜２１４を形成する（ＳＴ１０３）。

このとき、反射膜２１４は、例えば図１、図３及び図１１に示すように散乱膜表面の散乱構造の凹凸により反射膜２１４の表面にも当該散乱膜の散乱構造が略そのまま反映される。

以下ＳＴ１１１まで第１の実施形態の製造方法と同様であるのでその説明を省略する。

最後に必要な配線や照明装置３及びケース体等を取り付けて、液晶表示装置２０１が完成する（ＳＴ１１２）。

以上で液晶表示装置１の製造方法の説明を終了する。

尚、上述の説明では散乱膜２１３の形成にポジ型の感光性樹脂３６を用いたがこれに限られるものではなく、例えばネガ型の感光性樹脂を用いてもよい。この場合は、散乱構造を凹部の密度で考えることとなる。

また、露光に用いるマスクは図６（ｃ）に限られるものではなく、例えば図６（ｃ）の黒丸とその背景とが反転したパターンが形成されたマスクを用いてもよい。この場合、例えば丸い透孔部が複数も受けられたマスクとなる。そして、その透孔部は第１の領域Ｃに対応する領域での平均密度が、第２の領域Ｄでの平均密度より小さくなるように透孔パターンが形成されることとなる。

（液晶表示装置の動作）

次に、以上のように構成された液晶表示装置２０１の動作については第１の実施形態の液晶表示装置１の動作と略同様であるのでその説明を省略する。

このように本変形例によれば、第２の領域上、すなわち非着色領域Ｋでの例えば凸部２１５の平均密度を第１の領域上に比較して大きくすることにより平坦度が増すので、反射光が狭い角度範囲に散乱されて散乱光が明るくなるため非着色領域をより小さくすることもでき、着色層全体としての色再現性がより向上する。また、着色層１６の形状によらず散乱膜２１３の第１及び第２の領域Ｃ，Ｄの散乱構造の平均断面径を異ならせることにより色再現性を調整することもできる。

更に散乱膜２１３の複数の凹凸に対応した複数の透光部または遮光部を備え、第１の領域Ｃでの当該透光部または遮光部の平均密度が、第２の領域Ｄでの当該平均密度より小さいマスクを介して露光し現像することとしたので、極めて容易に第１の領域Ｃと第２の領域Ｄとで相違する複数の凹凸を有する散乱膜２１３を形成することができる。

（第３の実施形態・電子機器）

次に、上述した液晶表示装置１，１０１，２０１を備えた本発明の第３の実施形態に係る電子機器について説明する。尚、第１の実施形態、第２の実施形態、変形例の構成要素と共通する構成要素については、第１の実施形態、第２の実施形態、変形例の構成要素と同一の符号を付しその説明を省略する。

図１２は本発明の第３の実施形態に係る電子機器の表示制御系の全体構成を示す概略構成図である。

電子機器３００は、表示制御系として例えば図１２に示すように液晶パネル２及び表示制御回路３９０などを備え、その表示制御回路３９０は表示情報出力源３９１、表示情報処理回路３９２、電源回路３９３及びタイミングジェネレータ３９４などを有する。

また、液晶パネル２には表示領域Ｓを駆動する駆動回路３６１を有する。

表示情報出力源３９１は、ＲＯＭ（Ｒｅａｄ Ｏｎｌｙ Ｍｅｍｏｒｙ）やＲＡＭ（Ｒａｎｄｏｍ Ａｃｃｅｓｓ Ｍｅｍｏｒｙ）などからなるメモリと、磁気記録ディスクや光記録ディスクなどからなるストレージユニットと、デジタル画像信号を同調出力する同調回路とを備えている。更に表示情報出力源３９１は、タイミングジェネレータ３９４によって生成された各種のクロック信号に基づいて、所定フォーマットの画像信号などの形で表示情報を表示情報処理回路３９２に供給するように構成されている。

また、表示情報処理回路３９２はシリアル−パラレル変換回路、増幅・反転回路、ローテーション回路、ガンマ補正回路、クランプ回路などの周知の各種回路を備え、入力した表示情報の処理を実行して、その画像情報をクロック信号ＣＬＫと共に駆動回路３６１へ供給する。また、電源回路３９３は、上述した各構成要素に夫々所定の電圧を供給する。

このように本実施形態によれば、電子機器３００は、例えばその液晶パネル２の反射領域Ｆにおいて射出される光を散乱させるための散乱構造を設け、着色領域Ｌに対応する第１の領域Ｃを介して射出される光が、非着色領域Ｋに対応する第２の領域Ｄを介して射出される光よりも広く散乱されるものとしたので、例えば反射領域Ｆの色材に透過領域Ｅの色材を用いても、非着色領域Ｋを設け色の明るさを確保することができると共に非着色領域Ｋの形成による色再現性の低下に対し、該非着色領域Ｋに対応する第２の領域Ｄを介して射出される光が、着色領域Ｌに対応する第１の領域Ｃを介し射出される光より狭く散乱され該散乱光が明るくなり、非着色領域Ｋをその分小さくすることが可能となる。その結果、その分着色領域Ｌが増し、色再現性を向上させることが可能となる。

特に最近の電子機器にあっては、低価格且つ、高品質な表示機能を発揮できることが求められており、低コストで高い表示品位を提供する本発明の意義は大きいといえる。

具体的な電子機器としては、携帯電話機やパーソナルコンピュータなどの他に液晶表示装置が搭載されたタッチパネル、プロジェクタ、液晶テレビやビューファインダ型、モニタ直視型のビデオテープレコーダ、カーナビゲーション、ページャ、電子手帳、電卓、ワードプロセッサ、ワークステーション、テレビ電話、ＰＯＳ端末等が挙げられる。そして、これらの各種電子機器の表示部として、上述した例えば液晶表示装置１，１０１，２０１が適用可能なのは言うまでもない。

なお、本発明の電気光学装置及び電子機器は、上述した例に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲において種々変更を加え得ることは勿論である。また、本発明の要旨を逸脱しない範囲において、上記各実施形態同士を組み合わせ得る。

以上、好ましい実施形態を上げて本発明を説明したが、本発明は上述したいずれの実施形態にも限定されず、本発明の技術思想の範囲内で適宜変更して実施できる。

例えば、上述の実施形態や変形例では薄膜ダイオード素子アクティブマトリクス型の液晶表示装置について説明したがこれに限られるものではなく、例えば薄膜トランジスタ素子アクティブマトリクス型、パッシブマトリクス型の液晶表示装置であってもよい。これにより、多種多様な液晶表示装置についても、簡易な構造及び方法で表示の際の色再現性と明るさの両方の改善を図ることができる。

また、上述の実施形態や変形例では散乱構造として例えば第１及び第２の領域で凹凸等の平均高低差、平均断面径及び平均密度を夫々別々に異ならせたがこれに限られるものではなく、例えば平均高低差と平均断面径や平均密度を組み合わせて第１の領域Ｃからの反射光の平均反射角度が第２の領域Ｄからの反射光の平均反射角度より大きくなるようにしてもよい。これにより、多種多様な液晶表示装置についても、簡易な構造及び方法で表示の際の色再現性と明るさの両方の改善を図ることができる。また、凹凸の形状を変える事で、第１の領域Ｃからの反射光の平均反射角度が第２の領域Ｄからの反射光の平均反射角度より大きくなるようにしてもよい。また、反射膜の表面の凹凸は、ショットブラスト法やプレス法などの他の手段を用いて形成しても良い。

また、反射領域の散乱構造は、反射領域に対応する領域に透明樹脂と、当該透明樹脂に分散された散乱物質からなる光散乱膜を備え、当該光散乱膜が非着色領域に対応する領域と着色領域に対応する領域とで散乱特性が異なる構成でも良い。この場合、非着色領域に対応する領域の反射光は狭く散乱し（指向性が強く）、着色領域に対応する領域の反射光は広く散乱する（指向性が弱い）。

更に上述の実施形態や変形例では非着色領域Ｋである着色層用開口部２１として円形の形状を一サブ画素あたり一個設けたが、これに限られるものではなく例えば複数であってもよく、形も矩形状や多角形であってもよい。これにより、より多種多様な液晶表示装置についても、簡易な構造及び方法で表示の際の色再現性と明るさの両方の改善を図ることができると共に、色再現性での色むら等が生じる可能性をより低減できる。また、着色層用開口部として、単に反射領域内に着色層が設けられていない領域が存在する構造や、着色層用開口部内に他の領域よりも膜厚の薄い着色層を配置している構造であっても良い。なお、反射膜に形成された開口部においても、単に反射領域内に反射膜が設けられていない領域が存在する構造や、反射膜の開口部内に光を透過可能な程度に薄い反射膜が配置されている構造であっても良い。

第１の実施形態に係る液晶パネルの概略分解斜視図である。 第１の実施形態に係る液晶パネルの対向基板側の概略平面図である。 図２におけるＡ−Ａ線及びＢ−Ｂ線の概略断面図である。 第１の実施形態に係る散乱構造の相違を説明する概略部分断面図である。 第１の実施形態に係る液晶表示装置の製造工程のフローチャート図である。 一サブ画素の露光用マスクの概略平面図である。 第１の実施形態に係る散乱膜の製造工程の概略部分断面図である。 反射膜、着色層の製造工程を説明するための概略部分断面図である。 第２の実施形態に係る散乱構造を説明する概略部分断面図である。 第２の実施形態に係る散乱膜の製造工程の概略部分断面図である。 変形例の散乱構造を説明する概略部分断面図である。 第３の実施形態に係る電子機器の表示制御系の概略構成図である。

符号の説明

１，１０１，２０１ 液晶表示装置、 ２，１０２，２０２ 液晶パネル、 ３ 照明装置、 ４，１０４，２０４ カラーフィルタ基板、 ５ 対向基板、 ６ 液晶層、 ７ 第１基板、 ８ 第２基板、 ９，１１ 位相差板、 １０，１２ 偏光板、 １３，１１３，２１３ 散乱膜、 １４，１１４，２１４ 反射膜、 １５ 光遮蔽層、 １６ 着色層、 １７ オーバーコート層、 １８ 走査電極、 １９，２５， 配向膜、 ２０ 反射膜用開口部、 ２１ 着色層用開口部、 ２２ 画素電極、 ２３ データ線、 ２４ ＴＦＤ、 ２６ サブ画素、 ２７ 下地層、 ２８ 第１金属膜、 ２９ 絶縁膜、 ３０ 第２金属膜、 ３１ 導光板、 ３２，３３ プリズムシート、 ３４ 拡散シート、 ３５ 反射シート、 ３６，３８ 感光性樹脂、 ３７ ハーフトーンマスク、 １３７，２３７ マスク、 ２１５ 凸部、 ３００ 電子機器、 ３６１ 駆動回路、 ３９０ 表示制御回路、 Ｃ 第１の領域、 Ｄ 第２の領域、 Ｅ 透過領域、 Ｆ 反射領域、 Ｇ１，Ｇ２，Ｈ１，Ｈ２ 平均高低差、 Ｉ１，Ｉ２，Ｊ１，Ｊ２，Ｑ１，Ｑ２，Ｒ１，Ｒ２ 平均反射角度、 Ｋ 非着色領域、 Ｌ 着色領域、 Ｍ ハーフ露光領域、 Ｎ 通常露光領域、 Ｏ，Ｐ 平均断面径

Claims (11)

1. 電気光学物質を間に保持する第１基板及び第２基板と、
   前記第１基板の、サブ画素内に設けられた光を透過させる透過領域及び光を反射させる反射膜が形成された反射領域と、
   前記透過領域及び前記反射領域に形成された着色層と、
   前記反射領域に設けられ、前記着色層が形成されていない非着色領域と
   を具備し、
   前記反射領域において、出射される光を散乱させるための散乱構造が設けられ、前記着色層が形成されている着色領域に対応する第１の領域を介して出射される光は、前記非着色領域に対応する第２の領域を介して出射される光よりも広く散乱することを特徴とする電気光学装置。
2. 前記反射膜の表面には、前記散乱構造として複数の凹凸が形成され、
   前記複数の凹凸は、前記第１の領域と前記第２の領域とで相違するように形成されていることを特徴とする請求項１に記載の電気光学装置。
3. 前記第１基板に、前記第１の領域と前記第２の領域とで相違するように形成された複数の凹凸を有するように形成された散乱膜を具備し、
   前記反射膜の複数の凹凸は、前記散乱膜の凹凸に対応するように形成されていることを特徴とする請求項２に記載の電気光学装置。
4. 前記反射膜の表面に形成される凹凸による光の平均反射角度は、前記第１の領域での該平均反射角度に比較して、前記第２の領域での該平均反射角度の方が小さくなるように形成されていることを特徴とする請求項２又は請求項３に記載の電気光学装置。
5. 前記反射膜の表面に形成される凹凸の平均高低差は、前記第１及び第２の領域で相違するように形成されていることを特徴とする請求項２から請求項４のうちのいずれか一項に記載の電気光学装置。
6. 前記反射膜の表面に形成される凹凸の平面方向の平均断面径は、前記第１の領域及び第２の領域で相違するように形成されていることを特徴とする請求項２から請求項５のうちのいずれか一項に記載の電気光学装置。
7. 前記反射膜の表面に形成される凹凸の平均密度は、前記第１の領域及び第２の領域で相違するように形成されていることを特徴とする請求項２から請求項６のうちのいずれか一項に記載の電気光学装置。
8. 前記反射膜の表面に形成される凹凸の形状は、前記第１及び第２の領域で相違するように構成されていることを特徴とする請求項２から請求項７のうちのいずれか一項に記載の電気光学装置。
9. 複数のサブ画素が規定され、電気光学物質を保持可能な基板と、前記サブ画素内に設けられた光を透過させる透過領域と光を反射させる反射領域とを備えた電気光学装置用基板の製造方法において、
   前記基板上に、感光性樹脂を塗布する工程と、
   前記感光性樹脂を、マスクを介して露光し現像することにより、前記サブ画素内の第１の領域と第２の領域とで相違する複数の凹凸を有する散乱膜を形成する工程と、
   前記サブ画素内の前記散乱膜上に、少なくとも該反射領域の前記第１及び第２の領域に対応する領域に前記散乱膜の複数の凹凸に対応する複数の凹凸を有するように反射膜を成膜する工程と、
   前記反射領域と前記透過領域とに、少なくとも前記反射領域で、前記第２の領域に対応する非着色領域を避けて、前記第１の領域に対応する着色領域を設けるように着色層を形成する工程とを具備し、
   前記マスクは、前記散乱膜の複数の凹凸に対応した複数の透光部または遮光部を備え、前記第１の領域での当該透光部または遮光部の大きさは、前記第２の領域での当該透光部または遮光部の大きさより大きいことを特徴とする電気光学装置用基板の製造方法。
10. 複数のサブ画素が規定され、電気光学物質を保持可能な基板と、前記サブ画素内に設けられた光を透過させる透過領域と光を反射させる反射領域とを備えた電気光学装置用基板の製造方法において、
    前記基板上に、感光性樹脂を塗布する工程と、
    前記感光性樹脂を、マスクを介して露光し現像することにより、前記サブ画素内の第１の領域と第２の領域とで相違する複数の凹凸を有する散乱膜を形成する工程と、
    前記サブ画素内の前記散乱膜上に、少なくとも該反射領域の前記第１及び第２の領域に対応する領域に前記散乱膜の複数の凹凸に対応する複数の凹凸を有するように反射膜を成膜する工程と、
    前記反射領域と前記透過領域とに、少なくとも前記反射領域で、前記第２の領域に対応する非着色領域を避けて、前記第１の領域に対応する着色領域を設けるように着色層を形成する工程とを具備し、
    前記マスクは前記散乱膜の複数の凹凸に対応した複数の透光部または遮光部を備え、前記第１の領域での当該透光部または遮光部の平均密度が、前記第２の領域での当該透光部または遮光部の平均密度より小さいことを特徴とする電気光学装置用基板の製造方法。
11. 請求項１から請求項８のうちいずれか一項に記載の電気光学装置を備えたことを特徴とする電子機器。

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