JP2007114257A - 液晶表示装置及び電子機器 - Google Patents

Abstract

【課題】反射型表示における表示の色を補正することにより、液晶表示装置において色の
偏りがない表示を行う。
【解決手段】一対の基板７ａ，８ａ間に液晶を挟持し、一方の基板７ａには光反射膜２３
が設けられ、基板８ａと光反射膜との間には複数の色の異なる着色膜４１を有するカラー
フィルタが設けられ、表示の最小単位とされるサブ画素Ｄを複数備え、サブ画素Ｄの領域
内に光反射膜２３に対応した反射表示領域Ｒを有する液晶表示装置である。この液晶表示
装置において、カラーフィルタの着色膜４１は、サブ画素Ｄの領域の反射表示領域Ｒに配
置されるとともに、反射表示領域Ｒには着色膜４１が設けられていない非着色領域Ｑが設
けられ、非着色領域Ｑの少なくとも一部の領域は、光反射膜２３の光散乱特性が、他の反
射表示領域Ｒにおける光反射膜２３の光散乱特性よりも広い光散乱特性を有している。
【選択図】図３

Description

本発明は、液晶を用いて光を制御する液晶表示装置に関する。また、本発明は、その液
晶表示装置を用いて構成する電子機器に関する。

現在、携帯電話機、携帯情報端末機といった各種の電子機器では、当該電子機器に関す
る各種の情報を視覚的に表示するための表示部として、例えば、液晶表示装置が用いられ
ている。この液晶表示装置として、例えば、透光性のガラス基板上にＴＦＴ（Thin-Film-
Transistor）素子等といったスイッチング素子や信号線等といった導電パターンを形成し
、その上に樹脂膜を形成し、その上に光反射膜を形成した構造のものが知られている。こ
のような構造の液晶表示装置として、例えば半透過反射型の液晶表示装置がある。半透過
反射型液晶表示装置では、表示が行われるときのその表示の最小単位であるサブ画素内に
、光反射膜によって反射された反射光を用いて表示を行う反射表示領域と、透過光を用い
て表示を行う透過表示領域とが設けられる。

液晶表示装置によってカラー表示を行う場合には、各サブ画素に対応して、例えば、Ｂ
（青色）、Ｇ（緑色）、Ｒ（赤色）の着色膜が個々に設けられる。これにより、各サブ画
素からはＢ，Ｇ，Ｒのうちのいずれかの色の光が個々に出射され、これら各色の光を用い
てカラー表示が行われる。

上記のような構成の液晶表示装置として、従来、Ｂ，Ｇ，Ｒの３色の着色膜に加えて、
これら３色以外の他の１色の着色膜を有し、これら４色の着色膜が個々に各サブ画素に対
応して配置された構造のものが知られている（例えば、特許文献１参照）。また、着色膜
が有する色に応じてその着色膜の幅を異ならせて、反射表示領域内における着色膜の占有
面積を各色ごとに異ならせる構造の液晶表示装置も知られている（例えば、特許文献２参
照）。

特開２００１−３０６０２３号公報（第４頁、図３） 特開２００２−１８２１９１号公報（第５頁、図２）

ところで、特許文献１に開示された液晶表示装置では、Ｂ，Ｇ，Ｒの３色の着色膜のい
ずれか１つを備えた各サブ画素に加えて、これら３色以外の色の着色膜を備えたサブ画素
を用いることにより少なくとも４色の色を用いて表示を行っている。この場合には、Ｂ，
Ｇ，Ｒの３色のサブ画素によって表示を行う場合に比べて、液晶表示装置の表示において
再現できる色の範囲を広くすることができる。しかしながら、特許文献１には透過型の液
晶表示装置について開示されており半透過反射型の液晶表示装置に関しては開示されてい
ない。仮に、この構造を半透過反射型液晶表示装置に適用した場合には、反射表示領域に
おける表示の色が、Ｂ，Ｇ，Ｒの３色のうちのどれかであって４色目の色に近い色に偏る
おそれがあった。こうなると液晶表示装置の全体の表示の色が特定の色に偏るおそれがあ
った。

また、特許文献２に開示された液晶表示装置では、反射表示領域内において、着色膜の
幅を各色ごとに異ならせることにより、着色膜の占有面積を色によって異ならせている。
こうすることにより、表示の色が偏らないように色を補正している。しかしながら、こ
の液晶表示装置の構成では表示の色を補正することに関して十分でなかった。

本発明は、上記の問題点に鑑みて成されたものであって、反射型表示における表示の色
を補正することにより、液晶表示装置及び電子機器において色の偏りがない表示を行うこ
とを目的とする。

本発明に係る液晶表示装置は、一対の基板間に液晶を挟持し、前記一対の基板のうちの
一方の基板には光反射膜が設けられ、前記一対の基板のうちの他方の基板と前記光反射膜
との間には複数の色の異なる着色膜を有するカラーフィルタが設けられ、表示の最小単位
とされるサブ画素を複数備え、該サブ画素領域内に前記光反射膜に対応した反射表示領域
を有する液晶表示装置である。この液晶表示装置において、前記カラーフィルタの前記着
色膜は、前記サブ画素領域の前記反射表示領域に配置されるとともに、前記反射表示領域
には前記着色膜が設けられていない非着色領域が設けられ、該非着色領域の少なくとも一
部の領域は、前記光反射膜の光散乱特性が、他の前記反射表示領域における前記光反射膜
の光散乱特性よりも広い光散乱特性を有していることを特徴とする。

上記構成の液晶表示装置においては、着色膜を透過する光の波長領域に応じてその着色
膜の色がそれぞれ異なっている。そのため、液晶表示装置で行われる表示においては、光
反射膜で反射する光の分光特性の違い等によってある特定の色が強く表示されることによ
り、表示の色がその特定の色に偏るおそれがある。このことに鑑み、本発明に係る液晶表
示装置では、サブ画素領域内に配置された着色膜に部分的に非着色領域を設けた。非着色
領域を通過する光は白色光であるので、着色膜に非着色領域を設ければ、その着色膜を有
するサブ画素から出る光の色の強さを抑えることができる。

またさらに、本発明では、非着色領域に対向する光反射膜の少なくとも一部の散乱特性
をそれ以外の部分の散乱特性よりも広く設定した。このように光を広く散乱させることに
より、液晶表示装置のサブ画素の正面からは色の強さを抑えた光が出射されるので、サブ
画素の正面で観察する表示の色が偏ることを防止できる。また、光散乱手段によって散乱
した光はサブ画素の正面以外の方向に向かうことができるので、サブ画素の正面に対して
斜め方向から観察する表示を明るくできる。

次に、本発明に係る液晶表示装置において、前記複数の色の異なる着色膜は４色からな
り、前記４色のうち色度座標上で最も近い２色に対応する前記着色膜はそれぞれ部分的に
非着色領域を有し、該２色の着色膜の非着色領域の少なくとも一部の領域は、前記光反射
膜の光散乱特性が、他の前記反射表示領域における前記光反射膜の光散乱特性よりも広い
光散乱特性を有していることが望ましい。

液晶表示装置の分野においては、表示の色を定量化して示す表色系として、ＣＩＥ（Co
mmission Internationale de l'Eclairage：国際照明委員会）のＸＹＺ表色系が主に用い
られている。色度とは、このＸＹＺ表色系において光源や物体の色相及び彩度で決められ
る色の尺度である。この色度は、図１４に示すような２次元の座標上に座標（ｘ，ｙ）で
示される１点として表される。この座標が色度座標であり、液晶表示装置における色の再
現可能性を表したものである。この色度座標上において、例えば、Ｂ（青色），Ｇ（緑色
），Ｒ（赤色）の３つの色の座標を結んで得られる三角形の内側の領域が色再現範囲であ
る。この色再現範囲内にある色は、Ｂ，Ｇ，Ｒの３色を混合することによって得ることが
できる。

上記の色度座標上において最も近い２色の着色膜同士は、それらの着色膜を主に透過す
る光の波長領域が近いので、これら２色の着色膜を有したサブ画素の表示の色が他の着色
膜に対応したサブ画素よりも強く表されることが考えられる。こうなると、液晶表示装置
の表示の色がこれら２色に偏るおそれがある。

本発明に係る液晶表示装置では、異なる４色の着色膜のうち色度座標上で最も近い２色
の着色膜のそれぞれに部分的に非着色領域を設けた。非着色領域を通過する光は白色光で
あるので、着色膜に非着色領域を設ければ、それらの着色膜（すなわち、色度座標上でも
っとも近い２色に対応する着色膜）を有するサブ画素に関しては、そのサブ画素から出る
光の色の強さを抑えることができる。

またさらに、本発明では、それらの非着色領域に対向する光反射膜の少なくとも一部の
散乱特性をそれ以外の部分の散乱特性よりも広く設定した。このように光を広く散乱させ
ることにより、液晶表示装置のサブ画素の正面からは色の強さを抑えた光が出射されるの
で、サブ画素の正面で観察する表示の色が偏ることを防止できる。また、光散乱手段によ
って散乱した光はサブ画素の正面以外の方向に向かうことができるので、サブ画素の正面
に対して斜め方向から観察する表示を明るくできる。

次に、本発明に係る液晶表示装置において、前記着色膜は、Ｂ（青色）、Ｇ（緑色）及
びＲ（赤色）の各色に対応した着色膜を含むことに加えて、Ｂ，Ｇ，Ｒの各色の補色に対
応した着色膜の少なくとも１つを含むことが望ましい。補色とは、加法混色又は減法混色
によって混合したときに結果的に無彩色となる関係にある２つの色のことである。例えば
、Ｂ，Ｇ，Ｒの各色に対する補色としては、図１４に示すＣ（シアン），Ｍ（マゼンタ）
，Ｙ（イエロー）が考えられる。これらのＣ，Ｍ，Ｙといった補色に対応した着色膜をＢ
，Ｇ，Ｒの３色に加えれば、液晶表示装置の表示において再現できる色の範囲を広くでき
る。

また、この場合、Ｂ，Ｇ，Ｒのうちのいずれか１つの色と、Ｂ，Ｇ，Ｒの補色のうちの
いずれか１つの色とが色度座標上において近い２点にあることが考えられる。この場合に
は、色度座標上で近い２点の色に対応する色の着色膜を有したサブ画素の表示の色が強く
なる傾向にある。こうなると、液晶表示装置の表示がそれら２つの色に偏り過ぎるおそれ
がある。このような構成の液晶表示装置において、色度座標上で近い２色の着色膜の個々
に非着色領域を設け、さらにそれらの非着色膜に対向する光反射膜の散乱特性を広くすれ
ば、Ｂ，Ｇ，Ｒのうちのいずれか１つの色と、Ｂ，Ｇ，Ｒの補色のうちのいずれか１つの
色であって色度座標上で互いに近接する色の表示色を抑える色補正ができる。その結果、
液晶表示装置における表示の色が特定の色に偏ることを確実に防止できる。

次に、本発明に係る液晶表示装置においては、前記色度座標上において最も近い２色と
してＧとＣを選択することができる。これらＧとＣとは、図１４に示す色度座標上におい
てＢ，Ｇ，Ｒ，Ｃ，Ｍ，Ｙの各色を考えたときに最も近い２点であることが考えられる。
つまり、それらのＧとＣの色に対応する着色膜を透過する光の波長領域は互いに近いと考
えられる。従って、液晶表示装置の表示においてはＧ及びＣの表示の色が強くなる傾向に
ある。こうなると、液晶表示装置の表示がＧとＣの２つの色に偏り過ぎるおそれがある。
このような構成の液晶表示装置において、ＧとＣの２色の着色膜の個々に非着色領域を設
け、さらにそれらの非着色膜に対向する光反射膜の散乱特性を広くすれば、ＧとＣの色を
抑える色補正ができる。その結果、液晶表示装置における表示の色がＧとＣに偏ることを
防止できる。

また、本発明に係る液晶表示装置において、前記色度座標上において最も近い２色とし
てＧとＹを選択することができる。これらＧとＹとは、仮に、図１４に示す色度座標上に
おいてＢ，Ｇ，Ｒ，Ｃ，Ｍ，Ｙの各色を考えたときに最も近い２点であることが考えられ
る。つまり、ＧとＹの色に対応する着色膜を透過する光の波長領域は互いに近いと考えら
れる。従って、液晶表示装置の表示においてはＧ及びＹの表示の色が強くなる傾向にある
。こうなると、液晶表示装置の表示がＧとＹの２つの色に偏り過ぎるおそれがある。この
ような構成の液晶表示装置において、ＧとＹの２色の着色膜の個々に非着色領域を設け、
さらにそれらの非着色膜に対向する光反射膜の散乱特性を広くすれば、ＧとＹの色を抑え
る色補正ができる。その結果、液晶表示装置における表示の色がＧとＹに偏ることを防止
できる。

次に、本発明に係る液晶表示装置において、前記非着色領域は前記色度座標上において
最も近い２色に加えて、その他の２色のうち少なくとも１色に対応した前記着色膜にもさ
らに設けられていることが望ましい。こうすれば、液晶表示装置における表示の色をより
確実に補正できるので、液晶表示装置において表示の色が特定の色に偏ることをより確実
に防止できる。

次に、本発明は、一対の基板間に液晶を挟持し、前記一対の基板のうちの一方の基板に
は光反射膜が設けられ、前記一対の基板のうちの他方の基板と前記光反射膜との間には複
数色の着色領域および非着色領域を有するカラーフィルタが設けられ、表示の最小単位と
されるサブ画素を複数備え、該サブ画素領域内に前記光反射膜に対応した反射表示領域を
有する液晶表示装置であって、一の前記サブ画素領域内の前記反射表示領域に、前記カラ
ーフィルタの一の色の前記着色領域および前記非着色領域が配置され、当該非着色領域内
の少なくとも一部の領域における前記光反射膜の光散乱特性が、当該一部の領域外におけ
る前記光反射膜の光散乱特性よりも広い光散乱特性を有していることを特徴とする。

この発明に係る液晶表示装置では、サブ画素領域内に着色領域と非着色領域を設けた。
非着色領域を通過する光は白色光であるので、サブ画素から出る光の色の強さを抑えるこ
とができる。またさらに、本発明に係る液晶表示装置では、非着色領域内の少なくとも一
部の領域における光反射膜の光散乱特性を、それ以外の領域における光散乱特性よりも広
く設定した。これにより、非着色領域を設けたサブ画素からは色の強さを抑えた光が出射
されるので、表示面の正面で観察する表示の色が偏ることを防止できる。また、光散乱手
段によって散乱した光はそのサブ画素の正面以外の方向に向かうことができるので、表示
面に対して斜め方向から観察する表示を明るくできる。

次に、本発明に係る液晶表示装置において、前記カラーフィルタは、４色の前記着色領
域を有し、前記４色の着色領域は、波長に応じて色相が変化する可視光領域のうち、色相
が青系の色相範囲内で設定されている第１着色領域、色相が赤系の色相範囲内で設定され
ている第２着色領域、色相が青から黄までの色相範囲内で設定されている２種の第３およ
び第４着色領域、であり、前記第３および第４着色領域が配置される前記サブ画素領域に
、前記非着色領域が配置され、当該非着色領域内の少なくとも一部の領域における前記光
反射膜の光散乱特性が、当該一部の領域外における前記光反射膜の光散乱特性よりも広い
光散乱特性を有していることを特徴とする。
より好ましくは、前記第３着色領域は、その色相が青から緑までの色相範囲内で設定さ
れていることを特徴とする。
より好ましくは、前記第４の色相は、その色相が緑から橙までの色相範囲内で設定され
ていることを特徴とする。

第３および、第４着色領域は、その色相が近似しているので、これらの着色領域に対応
する色あいが相対的に強く表示されることが考えられる。この発明に係る液晶表示装置に
よれば、このような表示色の偏りを好適に補正することができる。

次に、本発明に係る液晶表示装置において、前記カラーフィルタは、４色の前記着色領
域を有し、前記４色の着色領域は、それぞれ、当該着色領域を透過する光のピーク波長が
４１５〜５００ｎｍの範囲内で設定されている第１着色領域、当該着色領域を透過する光
のピーク波長が６００ｎｍ以上の可視光範囲内で設定されている第２着色領域、当該着色
領域を透過する光のピーク波長が４８５〜５３５ｎｍの範囲内で設定されている第３波長
領域、当該着色領域を透過する光のピーク波長が５００〜５９０ｎｍの範囲内で設定され
ている第４着色領域、であり、前記第３および第４着色領域が配置される前記サブ画素領
域に、前記非着色領域が配置され、当該非着色領域内の少なくとも一部の領域における前
記光反射膜の光散乱特性が、当該一部の領域外における前記光反射膜の光散乱特性よりも
広い光散乱特性を有していることを特徴とする。
より好ましくは、前記第３着色領域は、当該着色領域を透過する光のピーク波長が４９
５〜５２０ｎｍの範囲内で設定されていることを特徴とする。
より好ましくは、前記第４着色領域は、当該着色領域を透過する光のピーク波長が５１
０〜５８５ｎｍの範囲内で設定されていることを特徴とする。

第３および、第４着色領域は、当該着色領域を透過する光のピーク波長が近似している
ので、これらの着色領域に対応する色あいが相対的に強く表示されることが考えられる。
この発明に係る液晶表示装置によれば、このような表示色の偏りを好適に補正することが
できる。

次に、本発明に係る液晶表示装置において、前記第１および第２着色領域が配置される
前記サブ画素領域に、前記非着色領域が配置され、当該非着色領域内の少なくとも一部の
領域における前記光反射膜の光散乱特性が、当該一部の領域外における前記光反射膜の光
散乱特性よりも広い光散乱特性を有していることを特徴とする。

この発明に係る液晶表示装置によれば、表示色の偏りをより好適に補正することができ
る。

次に、本発明に係る液晶表示装置において、前記光反射膜の表面には凹凸パターンが設
けられていることが望ましい。この光反射膜の凹凸パターンは、例えば複数の凹部又は凸
部を形成した樹脂膜を少なくとも光反射膜に対応する領域に設け、その樹脂膜の凹部上又
は凸部上に光反射膜を一定の膜厚で設けることにより形成できる。このように、光反射膜
に凹凸パターンを形成すれば、光反射膜によって反射する光を容易に散乱させることがで
きる。

次に、本発明に係る液晶表示装置において、前記凹凸パターンの光散乱特性は、前記凹
凸パターンの高さ及び／又はピッチを変えることによって変えられることが望ましい。凹
凸パターンの光散乱特性を変えるには種々の方法が考えられるが、凹凸パターンの高さ及
び／又はピッチを変える方法を用いれば、凹凸パターンの光散乱特性を容易且つ確実に変
えることができる。ここで凹凸パターンのピッチとは、凹凸パターンを形成する複数の凹
部のうち互いに隣接する２つの凹部の頂点間の距離、又は凹凸パターンを形成する複数の
凸部のうち互いに隣接する２つの凸部の頂点間の距離である。また、凹凸パターンの高さ
とは、ピッチに対して直角の方向における凸部の頂点から凹部の頂点までの距離である。

本発明は光反射膜の少なくとも一部に広い光散乱特性を持たせることを要旨とするもの
であるが、光を散乱させる手段として凹凸パターンを用いてその凹凸パターンに広い光散
乱特性を持たせる場合には、例えば、基準となる凹凸パターン（すなわち、非着色領域以
外の領域に対応する凹凸パターン）に対して、（１）凹凸パターンのピッチは同じとして
高さを高くするか、（２）凹凸パターンの高さは同じとしてピッチを小さくするか、又は
（３）凹凸パターンの高さ及びピッチを小さくすることにより実現できる。

次に、本発明に係る液晶表示装置は、一対の基板間に液晶を挟持し、前記一対の基板の
うちの一方の基板には光散乱特性を有する光反射膜が設けられ、前記一対の基板のうちの
他方の基板と前記光反射膜との間には複数の色の異なる着色膜を有するカラーフィルタが
設けられ、前記一方の基板の前記液晶層側とは反対側に照明装置を備えるとともに、表示
の最小単位とされるサブ画素を複数備え、該一つのサブ画素領域内に、前記照明装置から
の出射光を透過して透過表示を行う透過表示領域と、前記光反射膜によって反射された光
を用いて反射表示を行う反射表示領域とを備えた液晶表示装置である。この液晶表示装置
において、前記カラーフィルタの前記着色膜は、前記サブ画素領域の前記反射表示領域と
前記透過表示領域に配置されるとともに、前記反射表示領域には前記着色膜が設けられて
いない非着色領域が設けられ、該非着色領域の少なくとも一部の領域は、前記光反射膜の
光散乱特性が、他の前記反射表示領域における前記光反射膜の光散乱特性よりも広い光散
乱特性を有していることを特徴とする。

上記の照明手段としては、例えば、点状光源や線状光源から発せられた光を導光体を用
いて面状の光に変換してその面状の光を照明光として出射する構成の照明装置を用いるこ
とができる。

この第２の液晶表示装置では、サブ画素領域内に配置された着色膜に部分的に非着色領
域を設けた。非着色領域を通過する光は白色光であるので、着色膜に非着色領域を設けれ
ば、その着色膜を有するサブ画素から出る光の色の強さを抑えることができる。またさら
に、本発明では、非着色領域内のうちの少なくとも一部の領域に対応する反射表示領域の
散乱特性をそれ以外の反射表示領域の散乱特性よりも広く設定した。このように光を広く
散乱させることにより、液晶表示装置のサブ画素の正面からは色の強さを抑えた光が出射
されるので、サブ画素の正面で観察する表示の色が偏ることを防止できる。また、光散乱
手段によって散乱した光はサブ画素の正面以外の方向に向かうことができるので、サブ画
素の正面に対して斜め方向から観察する表示を明るくできる。

次に、本発明は、一対の基板間に液晶を挟持し、前記一対の基板のうちの一方の基板に
は光散乱特性を有する光反射膜が設けられ、前記一対の基板のうちの他方の基板と前記光
反射膜との間には複数色の着色領域および非着色領域を有するカラーフィルタが設けられ
、前記一方の基板の前記液晶層側とは反対側に照明装置を備えるとともに、表示の最小単
位とされるサブ画素を複数備え、該一つのサブ画素領域内に、前記照明装置からの出射光
を透過して透過表示を行う透過表示領域と、前記光反射膜によって反射された光を用いて
反射表示を行う反射表示領域とを備えた液晶表示装置であって、一の前記サブ画素領域内
の前記反射表示領域に、前記カラーフィルタの一の色の前記着色領域および前記非着色領
域が配置され、前記非着色領域内の少なくとも一部の領域における前記光反射膜の光散乱
特性が、当該一部の領域外における前記光反射膜の光散乱特性よりも広い光散乱特性を有
していることを特徴とする。

この発明に係る液晶表示装置では、サブ画素領域内に着色領域と非着色領域を設けた。
非着色領域を通過する光は白色光であるので、サブ画素から出る光の色の強さを抑えるこ
とができる。またさらに、本発明に係る液晶表示装置では、非着色領域内の少なくとも一
部の領域における光反射膜の光散乱特性を、それ以外の領域における光散乱特性よりも広
く設定した。これにより、非着色領域を設けたサブ画素からは色の強さを抑えた光が出射
されるので、表示面の正面で観察する表示の色が偏ることを防止できる。また、光散乱手
段によって散乱した光はそのサブ画素の正面以外の方向に向かうことができるので、表示
面に対して斜め方向から観察する表示を明るくできる。

次に、本発明に係る電子機器は、以上に記載した構成の液晶表示装置を有することを特
徴とする。本発明に係る液晶表示装置は、サブ画素領域内に配置された着色膜に部分的に
非着色領域を設け、その非着色領域に対向する光反射膜の少なくとも一部の散乱特性をそ
れ以外の部分の散乱特性よりも広くすることにより、液晶表示装置における表示の色を補
正して表示の色が特定の色に偏ることを確実に防止できる。従って、この液晶表示装置を
用いて構成される本発明に係る電子機器においても、その電子機器における表示の色を補
正して表示の色が特定の色に偏ることを確実に防止できる。

（液晶表示装置の第１実施形態）
以下、本発明に係る液晶装置をその一実施形態を挙げて説明する。なお、本発明がこの
実施形態に限定されるものでないことは、もちろんである。また、これ以降の説明では図
面を用いて各種の構造を例示するが、これらの図面に示される構造は特徴的な部分を分か
り易く示すために実際の構造に対して寸法を異ならせて示す場合がある。本実施形態は、
スイッチング素子として３端子型のアクティブ素子であるＴＦＴ（Thin Film Transistor
）素子を用いたアクティブマトリクス方式の液晶表示装置に本発明を適用するものである
。

図１は、本発明に係る液晶表示装置の一実施形態を示している。図２は、図１のＺ１−
Ｚ１線に従った側面断面図である。図３は、図１の液晶表示装置における１つの画素部分
を拡大して平面的に示す図である。図４は、図３のＺ２−Ｚ２線に従ってサブ画素の長手
側の断面構造、すなわち図２の矢印Ｂで示す部分を示している。

図１において、液晶表示装置１は、液晶パネル２と、この液晶パネル２に付設された照
明手段としての照明装置３とを有する。液晶パネル２にはＦＰＣ（Flexible Printed Cir
cuit：可撓性プリント回路）基板４が接続されている。この液晶表示装置１に関しては矢
印Ａが描かれた側が観察側であり、上記の照明装置３は液晶パネル２に関して観察側と反
対側に配置されてバックライトとして機能する。

液晶パネル２は、長方形又は正方形で環状のシール材６によって互いに貼り合わされた
一対の基板７及び８を有する。基板７はスイッチング素子が形成される素子基板である。
また、基板８はカラーフィルタが形成されるカラーフィルタ基板である。シール材６は図
２に示すように素子基板７とカラーフィルタ基板８との間に間隙、いわゆるセルギャップ
Ｇを形成する。シール材６は図１に示すようにその一部に液晶注入口６ａを有し、この液
晶注入口６ａを介して素子基板７とカラーフィルタ基板８との間に電気光学物質としての
液晶が注入される。注入された液晶は図２に示すようにセルギャップＧ内で液晶層１２を
形成する。図１の液晶注入口６ａは液晶の注入が完了した後に樹脂によって封止される。
液晶の注入方法としては、上記のような液晶注入口６ａを通して行う方法以外に、液晶注
入口を持たない連続する環状のシール材６によって囲まれる領域内に液晶滴を供給する方
法も採用できる。

図２において、セルギャップＧの間隔、従って液晶層１２の層厚は、セルギャップＧ内
に設けられる複数のスペーサ（図示せず）によって一定に維持される。このスペーサは、
複数の球状の樹脂部材を素子基板７又はカラーフィルタ基板８の表面上にランダム（すな
わち、無秩序）に置くことによって形成できる。また、スペーサは、フォトリソグラフィ
処理によって所定の位置に柱状に形成することもできる。

図１において、照明装置３は、光源としてのＬＥＤ（Light Emitting Diode）１３と、
導光体１４とを有する。光源としては、ＬＥＤのような点状光源以外に、冷陰極管のよう
な線状光源を用いることもできる。導光体１４は、例えば、透光性を有する樹脂を材料と
する成形加工によって形成され、ＬＥＤ１３に対向する側面が光入射面１４ａであり、液
晶パネル２に対向する面が光出射面１４ｂである。矢印Ａで示す観察側から見て導光体１
４の背面には、必要に応じて、光反射層１６が設けられる。また、導光体１４の光出射面
１４ｂには、必要に応じて、光拡散層１７が設けられる。

素子基板７は、図２において、第１の透光性の基板７ａを有する。この第１透光性基板
７ａは、例えば、透光性のガラス、透光性のプラスチック等によって形成される。この第
１透光性基板７ａの外側表面には偏光板１８ａが、例えば、貼着によって装着される。必
要に応じて、偏光板１８ａ以外の光学要素を付加的に設けることもできる。他方、第１透
光性基板７ａの内側表面には、矢印Ｂで示す部分の拡大図である図４にも示すように、信
号線としてのソース電極線１９が列方向Ｙ（すなわち、左右方向）に延びている。また、
同じく信号線としてのゲート電極線２１が行方向Ｘ（すなわち、紙面垂直方向）に延びて
いる。そして、スイッチング素子として機能するアクティブ素子であるＴＦＴ（Thin Fil
m Transistor）素子３１がソース電極線１９及びゲート電極線２１に接続して形成されて
いる。

それらのＴＦＤ素子３１、ソース電極線１９及びゲート電極線２１の上に、それらを覆
う絶縁膜としての層間絶縁膜２２が形成され、その上に光反射膜２３が形成され、その上
に画素電極２４が形成され、その上に配向膜２６ａが形成されている。この配向膜２６ａ
に配向処理、例えばラビング処理が施され、これにより、素子基板７の近傍における液晶
分子の初期配向が決められる。

層間絶縁膜２２は、例えば、透光性、感光性、及び絶縁性を有する樹脂、例えばアクリ
ル樹脂、ポリイミド樹脂等をフォトリソグラフィ処理によってパターニングすることによ
って形成される。また、光反射膜２３は、例えば、Ａｌ（アルミニウム）、Ａｌ合金等と
いった光反射性材料をフォトエッチング処理によってパターニングすることによって形成
される。画素電極２４は、例えばＩＴＯ（Indium Tin Oxide：インジウムスズ酸化物）等
といった金属酸化物をフォトエッチング処理によってパターニングすることによって形成
される。配向膜２６ａは、例えばポリイミド等を塗布することによって形成される。

光反射膜２３及び画素電極２４は、図１の素子基板７上に矢印Ａ方向から見てドットマ
トリクス状に複数形成される。これらの光反射膜２３及び画素電極２４は、各ソース電極
線１９と各ゲート電極線２１とが交差する位置に設けられていて、個々のＴＦＴ素子３１
に接続されている。

図４において、層間絶縁膜２２には、光反射膜２３とＴＦＴ素子３１とを電気的に接続
するためのコンタクトホール２５が形成されている。このコンタクトホール２５は、層間
絶縁膜２２を厚み方向に貫通する穴であり、平面的に見てすなわち平面視でＴＦＴ素子３
１の素子本体部分に重ならない位置であって、光反射膜２３と重なる位置に形成される。

本実施形態で用いるＴＦＴ素子３１はアモルファスシリコンＴＦＴであり、このＴＦＴ
素子３１は、ゲート電極３２、ゲート絶縁層３３、ａ−Ｓｉ（アモルファスシリコン）等
によって形成された半導体層３４、ソース電極３５、そしてドレイン電極３６を有する。
ドレイン電極３６は、その一端が半導体層３４に接続し、その他端がコンタクトホール２
５を介して光反射膜２３及び画素電極２４に接続する。ソース電極３５は図４の左右方向
（列方向Ｙ）に延びるソース電極線１９の一部として形成されている。このソース電極線
１９は画素電極２４へデータ信号を供給するためのデータ線として機能する。また、ゲー
ト電極３２は、ソース電極線１９と直角の方向すなわち図４の紙面垂直方向（行方向Ｘ）
に延びるゲート電極線２１から延びている。このゲート電極線２１は画素電極２４へ走査
信号を供給するための走査線として機能する。

本実施形態では、画素電極２４の下に層間絶縁膜２２を設けることにより、画素電極２
４の層とＴＦＴ素子３１の層とを別の層に分けている。この構造は、画素電極２４とＴＦ
Ｔ素子３１とを同じ層に形成する構造に比べて、素子基板７の表面を有効に活用すること
を可能とする。例えば、画素電極２４の面積、すなわち画素面積を大きくすることができ
、そのため、液晶表示装置１において鮮明な表示を行うことができる。

図２において、素子基板７に対向するカラーフィルタ基板８は、矢印Ａで示す観察側か
ら見て長方形又は正方形の第２の透光性の基板８ａを有する。この第２透光性基板８ａは
、例えば、透光性のガラス、透光性のプラスチック等によって形成される。この第２透光
性基板８ａの外側表面には偏光板１８ｂが、例えば、貼着によって装着される。必要に応
じて、偏光板１８ｂ以外の光学要素を付加的に設けることもできる。

第２透光性基板８ａの内側表面には、図４にも示すように、着色膜４１が形成され、そ
の周囲に遮光膜４２が形成され、着色膜４１及び遮光膜４２の上にオーバーコート層４３
が形成され、その上に共通電極４４が形成され、その上に配向膜２６ｂが形成されている
。配向膜２６ｂは、例えばポリイミド等を塗布することによって形成される。

図５は、図３に示す画素部分のうち、主に、カラーフィルタ基板８に設けられた着色膜
４１を示している。図５において、着色膜４１は平面的に見て長方形のドット状に形成さ
れている。また、着色膜４１は複数個が行方向Ｘ及び列方向Ｙにマトリクス状に配列され
ている。このように複数の着色膜４１がマトリクス状に配列されてカラーフィルタが形成
されている。

これらの着色膜４１の個々はＢ（青色）、Ｇ（緑色）、Ｒ（赤色）の１つを通過させる
光学的特性に設定された着色領域を形成しており、それらＢ，Ｇ，Ｒの着色膜４１Ｂ，４
１Ｇ，４１Ｒが平面的に見て所定の配列、例えばストライプ配列に並べられている。スト
ライプ配列とは、列方向ＹにＢ，Ｇ，Ｒの同色が並び、行方向ＸにＢ，Ｇ，Ｒが交互に順
番に並ぶ配列である。なお、着色膜４１の配列はストライプ配列以外の任意の配列とする
ことができ、例えば、モザイク配列、デルタ配列等とすることもできる。また、着色膜４
１の光学的特性はＢ，Ｇ，Ｒの３原色に限られず、Ｃ（シアン）、Ｍ（マゼンタ）、Ｙ（
イエロー）の３原色を通過させる特性とすることもできる。

遮光膜４２は各着色膜４１を囲む格子状に形成されている。図４において、遮光膜４２
は、本実施形態では、Ｂ，Ｇ，Ｒの３原色のうちのいずれか２色を重ねることによって形
成されている。しかしながら、遮光膜４２は、Ｂ，Ｇ，Ｒの３色を重ねて形成することも
できるし、所定の材料をフォトリソグラフィ処理によってパターニングすることによって
形成することもできる。この場合の所定の材料としては、例えば、Ｃｒ（クロム）等とい
った遮光性の材料が考えられる。なお、本明細書において、複数色の着色膜を重ねて形成
された遮光膜は、重ね遮光膜と呼ばれることがある。

着色膜４１及び遮光膜４２の上に形成されたオーバーコート層４３は、着色膜４１及び
遮光膜４２の表面を平坦化するものであり、共通電極４４はこうして平坦化されたオーバ
ーコート層４３の上に形成される。共通電極４４は、例えばＩＴＯ等といった金属酸化物
をフォトエッチング処理によってパターニングすることによって形成される。共通電極４
４の上に形成された配向膜２６ｂには配向処理、例えばラビング処理が施され、これによ
り、カラーフィルタ基板８の近傍における液晶分子の初期配向が決められる。

図１において、共通電極４４は、カラーフィルタ基板８の表面の全面に設けられている
。一方、素子基板７上に設けられた複数の画素電極２４は矢印Ａ方向から平面的に見て、
行方向Ｘ及び列方向Ｙにマトリクス状に並んでいる。これらの画素電極２４とカラーフィ
ルタ基板８上に設けられた共通電極４４とは、矢印Ａ方向から平面的に見て複数のドット
状領域で重なっている。このように重なり合った領域が表示のための最小単位であるサブ
画素Ｄ（図４参照）を形成している。そして、複数のサブ画素Ｄが行方向Ｘ及び列方向Ｙ
にマトリクス状に並ぶことにより、矢印Ａ方向から見て長方形状又は正方形状の有効表示
領域Ｖが形成され、この有効表示領域Ｖ内に文字、数字、図形等といった像が表示される
。

本実施形態のように、図５においてＢ，Ｇ，Ｒの３色から成る着色膜４１を用いてカラ
ー表示を行う場合は、Ｂ，Ｇ，Ｒの３色に対応する３つの着色膜４１に対応する３つのサ
ブ画素Ｄによって１つの画素が形成される。他方、白黒又は任意の２色でモノカラー表示
を行う場合は、１つのサブ画素Ｄによって１つの画素が形成される。１つの画素部分を平
面的に示す図面である図３に示すように、サブ画素Ｄは長方形状に形成されている。

図４において、光反射膜２３は、例えばフォトエチング処理によって形成される。この
光反射膜２３はサブ画素Ｄのうちの一部の領域Ｒに設けられており、残りの領域Ｔには設
けられていない。本実施形態において、領域Ｒは図３に示すようにサブ画素Ｄ内の一部の
長方形状の領域であり、領域Ｔはサブ画素Ｄ内の残りの長方形状の領域である。

個々のサブ画素Ｄの中で光反射膜２３が存在する領域が反射表示領域Ｒであり、光反射
膜２３が存在しない領域Ｔが透過表示領域である。図４において矢印Ａで示す観察側から
入射した外部光Ｌ０は反射表示領域Ｒ内で反射する。一方、図１の照明装置３の導光体１
４から出射した図４の光Ｌ１は、透過表示領域Ｔを透過する。

層間絶縁膜２２の表面であって個々のサブ画素Ｄ内の反射表示領域Ｒに対応する部分に
は凸部又は凹部が形成されて光散乱手段としての凹凸パターンが形成されている。この凹
凸パターンは矢印Ａ方向から見てランダム（すなわち、無秩序）なパターンとなっている
。光反射膜２３は、そのような凹凸パターンが形成されている層間絶縁膜２２の上に形成
されていて、それ自身も同じ凹凸パターンを有している。このように光反射膜２３に凹凸
パターンを形成することにより、光反射膜２３で反射する光Ｌ０を、鏡面反射ではなくて
、散乱光や指向性を持った光とすることができる。

次に、図２において、素子基板７を構成する第１透光性基板７ａはカラーフィルタ基板
８の外側へ張り出す張出し部４６を有している。この張出し部４６の表面には、配線４７
がフォトエチング処理等によって形成されている。配線４７は矢印Ａ方向から見て複数本
形成されており、それらの複数本が紙面垂直方向へ互いに等間隔で平行に並べられている
。また、張出し部４６の辺端には複数の外部接続用端子４８が紙面垂直方向へ互いに等間
隔で平行に並ぶように形成されている。これらの外部接続用端子４８は、図１に示したＦ
ＰＣ基板４に形成される複数の配線（図示せず）に導電接続される。

図２に示す複数の配線４７は、シール材６に囲まれた領域内に向けて列方向Ｙに延びる
ように形成されている。これらの配線４７の一部は、素子基板７上のソース電極線１９（
図３参照）に直接に繋がってデータ線として機能する。また、複数の配線４７の他の一部
は、シール材６に囲まれた領域内において素子基板７の側辺に沿って列方向Ｙに延びるよ
うに形成され、さらに折れ曲って行方向Ｘに延びるように形成されている。これらの配線
４７は、素子基板７上のゲート電極線２１（図３参照）に直接に繋がって走査線として機
能する。

図２の張出し部４６の表面には、ＡＣＦ（Anisotropic Conductive Film：異方性導電
膜）５１を用いたＣＯＧ（Chip On Glass）技術によって、駆動用ＩＣ５２が実装されて
いる。駆動用ＩＣ５２は、本実施形態では図１に示すように複数、例えば３個実装されて
いる。例えば、中央の１つの駆動用ＩＣ５２は、列方向Ｙへ延びるソース電極線１９へデ
ータ信号を伝送する。他方、両側の駆動用ＩＣ５２，５２は、行方向Ｘへ延びるゲート電
極線２１へ走査信号を伝送する。

以上のように構成された液晶表示装置１によれば、図２において、液晶表示装置１が明
るい室外や明るい室内に置かれる場合は、太陽光や室内光等といった外部光を用いて反射
型の表示が行われる。一方、液晶表示装置１が暗い室外や暗い室内に置かれる場合は、照
明装置３をバックライトとして用いて透過型の表示が行われる。

上記の反射型表示を行う場合、図４において、観察側である矢印Ａの方向からカラーフ
ィルタ基板８を通して液晶パネル２内へ入射した外部光Ｌ０は、液晶層１２を通過して素
子基板７内へ入った後、反射表示領域Ｒにおいて光反射膜２３で反射して再び液晶層１２
へ供給される。他方、上記の透過型表示を行う場合、図２の照明装置３の光源１３が点灯
し、それからの光が導光体１４の光入射面１４ａから導光体１４へ導入され、さらに、光
出射面１４ｂから面状の光として出射する。この出射光は、図４の符号Ｌ１で示すように
透過表示領域Ｔにおいて光反射膜２３が存在しない領域を通って液晶層１２へ供給される
。

以上のようにして液晶層１２へ光が供給される間、素子基板７側の画素電極２４とカラ
ーフィルタ基板８側の共通電極４４との間には、走査信号およびデータ信号によって特定
される所定の電圧が印加され、これにより、液晶層１２内の液晶分子の配向がサブ画素Ｄ
ごとに制御され、この結果、液晶層１２に供給された光がサブ画素Ｄごとに変調される。
この変調された光が、カラーフィルタ基板８側の偏光板１８ｂ（図２参照）を通過すると
き、その偏光板１８ｂの偏光特性に従ってサブ画素Ｄごとに通過を許容又は通過を規制さ
れ、これにより、カラーフィルタ基板８の表面に文字、数字、図形等といった像が表示さ
れ、これが、矢印Ａ方向から視認される。

次に、光反射膜２３の光散乱特性、及び着色膜４１について詳しく説明する。まず、着
色膜４１に関して説明する。図３において、個々の着色膜４１（４１Ｂ，４１Ｇ，４１Ｒ
）のうち素子基板７に設けられた光反射膜２３に平面的に重なる領域内の一部には、着色
膜４１が設けられていない非着色領域Ｑ（Ｑｂ、Ｑｇ，Ｑｒ）がそれぞれ設けられている
。これらの非着色領域Ｑは、図５に示すように、平面的に見て楕円形状、方形状、又は円
形状に形成されている。これらの非着色領域Ｑは、必要に応じてその他任意の形状に形成
することもできる。これらの非着色要素Ｑを通過する光は、着色膜４１による波長選択が
行われないので白色光である。また、これらの非着色領域Ｑを通過する光は着色膜４１を
透過しないので、入射した光が強度を減衰されることなくこの領域Ｑを通過する。このた
め、本実施形態では、図４の光反射膜２３において反射する光を用いて行われる反射型表
示の際に明るい画像を表示できる。

図５においては、非着色領域Ｑｂ，Ｑｇ，Ｑｒのうち、Ｇ色の着色膜４１Ｇに設けられ
る非着色領域Ｑｇを最も大きく形成している。一方、着色膜４１Ｂ，４１Ｒの非着色領域
Ｑｂ，Ｑｒは、非着色領域Ｑｇに対して小さく形成されている。本実施形態において、こ
れら非着色領域Ｑの大きさは、Ｑｇ＞Ｑｒ＞Ｑｂの関係に設定されている。なお、必要に
応じて、非着色領域Ｑｂ及びＱｒを設けない構成とすることもできる。

次に、図６及び図７を用いて光反射膜２３の光散乱特性について説明する。図６は、図
３において平面的に示した画素部分のうち、主に光反射膜２３の凹凸パターンを示す図で
ある。また、図７は、層間絶縁膜２２の表面に形成される凹凸パターンの形状を示す断面
図である。図６において、反射表示領域Ｒに設けられた光反射膜２３のうち着色膜４１Ｇ
の非着色領域Ｑｇに重なる領域は、それ以外の領域に比べて広い光散乱特性を有している
。具体的には、光反射膜２３に形成された光散乱手段としての凹凸パターンのうち、非着
色領域Ｑｇに対応する領域の光散乱特性をその他の領域、すなわち着色膜４１が設けられ
た着色領域に比べて広く設定している。

上記のような凹凸パターンは、例えば、層間絶縁膜２２に複数の凹部を形成することに
よって設けることができる。また、凹凸パターンは、層間絶縁膜２２に複数の凸部を形成
することによって設けることもできる。本実施形態では、図７に示すように、複数の凹部
を形成することにより凹凸パターンを設けている。このような凹凸パターンの光散乱特性
を領域によって異ならせるには、図７に示すように、層間絶縁膜２２の表面に形成される
凹凸パターンの高さ及びピッチを変えることにより実現できる。

本実施形態において、凹凸パターンのピッチは、図７（ａ）に符号Ｐ０で示すように、
複数の凹部によって形成された凹凸パターンのうちの互いに隣接する凸部の頂点間の距離
のことである。一方、凹凸パターンの高さは、符号Ｈ０で示すように、ピッチに対して直
角の方向における凸部の頂点から凹部の頂点までの距離である。なお、ピッチは凹凸パタ
ーンのうちの互いに隣接する凹部の頂点間の距離Ｐ０'とすることもできる。

以下、散乱特性が異なる凹凸パターンの形状について具体的に説明する。仮に、図７（
ａ）に示す凹凸パターンが着色領域内に設けられる凹凸パターンであるとして、その凹凸
パターンのピッチＰ０及び高さＨ０を基準とすれば、図７（ｂ）から図７（ｆ）に示す凹
凸パターンの光散乱特性は以下の通りである。

まず、図７（ｂ）に示す凹凸パターンは、ピッチＰ１に関しては図７（ａ）のピッチＰ
０と同じ（Ｐ０＝Ｐ１）であり、高さＨ１に関しては図７（ａ）より高くなっている（Ｈ
０＜Ｈ１）。従って、図７（ｂ）に示す凹凸パターンの光散乱特性は図７（ａ）に比べて
広くなっている。次に、図７（ｃ）に示す凹凸パターンは、ピッチＰ２に関しては図７（
ａ）のピッチＰ０より小さく（Ｐ０＞Ｐ２）、高さＨ２に関しては図７（ａ）の高さＨ０
と同じ（Ｈ０＝Ｈ２）である。従って、図７（ｃ）に示す凹凸パターンの光散乱特性は図
７（ａ）に比べて広くなっている。

次に、図７（ｄ）に示す凹凸パターンは、ピッチＰ３に関しては図７（ａ）のピッチＰ
０より小さく（Ｐ０＞Ｐ３）、高さＨ３に関しても図７（ａ）より高くなっている（Ｈ０
＜Ｈ３）。次に、図７（ｅ）に示す凹凸パターンは、ピッチＰ４に関しては図７（ａ）の
ピッチＰ０と同じ（Ｐ０＝Ｐ４）であり、高さＨ４に関しては図７（ａ）の高さＨ０より
低い（Ｈ０＞Ｈ４）。従って、図７（ｅ）に示す凹凸パターンの光散乱特性は図７（ａ）
に比べて狭くなっている。次に、図７（ｆ）に示す凹凸パターンは、ピッチＰ５に関して
は図７（ａ）のピッチＰ０より大きく（Ｐ０＜Ｐ５）、高さＨ５に関しては図７（ａ）の
高さＨ０と同じ（Ｈ０＝Ｈ５）である。従って、図７（ｆ）に示す凹凸パターンの光散乱
特性は図７（ａ）に比べて狭くなっている。

以上のように、凹凸パターンの光散乱特性は、その凹凸パターンの高さ及び／又はピッ
チによって変えることができる。そして、本実施形態においては、非着色領域Ｑｇに対応
する光反射膜２３の光散乱特性を着色領域に比べて広く設定するので、非着色領域Ｑｇに
設けられる凹凸パターンは、図７（ｂ）、図７（ｃ）又は図７（ｄ）の凹凸パターンに形
成されることが望ましい。

ところで、液晶表示装置に設けられる着色膜は、透過する光の波長領域に応じてその着
色膜の色がそれぞれ異なっている。そのため、非着色領域及び着色領域を含む面内で凹凸
パターンが一定の大きさ及びピッチに形成されていた従来の液晶表示装置について考えれ
ば、その液晶表示装置で行われる表示においては、光反射膜で反射する光の分光特性の違
いによってある特定の色が強く表示されることにより、表示の色がその特定の色に偏るお
それがあった。例えば、Ｂ，Ｇ，Ｒの３色の着色膜によってカラー表示を行う場合は、表
示の色がＧ色に偏るおそれがあった。

これに対し、本発明に係る液晶表示装置では、図３に示すように、サブ画素Ｄ内に配置
された着色膜４１Ｇに部分的に非着色領域Ｑｇを設けた。非着色領域Ｑｇを通過する光は
着色膜によって波長選択されない光、すなわち白色光であるので、着色膜に非着色領域Ｑ
ｇを設ければ、着色膜４１Ｇを有したサブ画素Ｄが発する光の色の強さを抑えることがで
きる。

またさらに、本発明では、非着色領域Ｑｇに対向する凹凸パターンの散乱特性をそれ以
外の部分の散乱特性よりも広く設定した。このように光を広く散乱させることにより、図
２に示す液晶表示装置１の観察側Ａの正面からは色の強さを抑えた光が出射されるので、
観察側Ａの正面で観察する表示の色が偏ることを防止できる。また、凹凸パターンによっ
て散乱した光は観察側Ａの正面以外の方向に向かうことができるので、観察側Ａの正面に
対して斜め方向から観察する表示を明るくできる。なお、図３では非着色領域Ｑｇの全域
に対応して散乱特性を広く設定したが、それに代えて、非着色領域Ｑｇの一部に対応して
散乱特性を広く設定しても良い。

（液晶表示装置の第２実施形態）
次に、本発明に係る液晶表示装置の他の実施形態を説明する。本実施形態に係る液晶表
示装置の外観形状は、概ね、図１と同じである。図８は、本実施形態に係る液晶表示装置
の主要部を示しており、図１の液晶表示装置における１つの画素部分を拡大して平面的に
示す図である。また、図９は、図８の画素部分のうち、主にカラーフィルタ基板を示して
いる。また、図１０は、図８に示す画素部分のうち、主に光反射膜の凹凸パターンを示し
ている。

既述の第１実施形態では、図５に示したように、各サブ画素Ｄに対してＢ，Ｇ，Ｒの３
色の着色膜４１Ｂ，４１Ｇ，４１Ｒが個々に設けられ、それらの着色膜４１Ｂ，４１Ｇ，
４１Ｒの個々に非着色領域Ｑｂ，Ｑｇ，Ｑｒが設けられている。そして、それらのうちの
着色膜４１Ｇに設けられた非着色領域Ｑｇを他の非着色領域Ｑｂ，Ｑｒより大きく形成し
、さらに非着色領域Ｑｇに対応する光反射膜２３の光散乱特性が他の着色領域に比べて広
く設定されている。これに対し本実施形態では、図９に示すように、各サブ画素Ｄに対し
てＢ，Ｇ，Ｒ，Ｃ（シアン）の４色の着色膜を個々に設け、それらの着色膜の個々に非着
色領域Ｑｂ，Ｑｇ，Ｑｒ，Ｑｃを設けている。それらのうちＧとＣの着色膜４１Ｇ，４１
Ｃに設けられた非着色領域Ｑｇ、Ｑｃを他の非着色領域Ｑｂ，Ｑｒより大きく形成し、さ
らに、それら非着色領域Ｑｇ，Ｑｃに対応する光反射膜２３の光散乱特性を他の着色領域
に比べて広く設定している。

以下、本実施形態を図３に示した実施形態と異なる点を中心に説明する。なお、本実施
形態において、第１実施形態と同じ構成要素は同じ符号を付すことにして、その説明は省
略することにする。

本実施形態において、着色膜４１以外の液晶表示装置１の構成要素は、図１，図２及び
図４で示した第１実施形態の場合と同じとすることできる。また、図８のＺ３−Ｚ３線に
従った断面の構造は、図３の実施形態と同じく、図４の断面図に示されている。図４にお
いて、素子基板７は、第１の透光性の基板７ａを有している。この第１透光性基板７ａの
内側表面には、ソース電極線１９が列方向Ｙ（すなわち、左右方向）に延びている。また
、ゲート電極線２１が行方向Ｘ（すなわち、紙面垂直方向）に延びている。そしてＴＦＴ
（Thin Film Transistor）素子３１がソース電極線１９及びゲート電極線２１に接続して
形成されている。それらのＴＦＴ素子３１、ソース電極線１９及びゲート電極線２１の上
に、それらを覆う絶縁膜としての層間絶縁膜２２が形成され、その上に光反射膜２３が形
成され、その上に画素電極２４が形成され、その上に配向膜２６ａが形成されている。他
方、第１透光性基板７ａの外側表面には、図２に示すように、偏光板１８ａが、例えば、
貼着によって装着される。

素子基板７に対向するカラーフィルタ基板８は第２の透光性の基板８ａを有する。この
第２透光性基板８ａの内側表面には、図４に示すように、着色膜４１が形成され、その周
囲に遮光膜４２が形成され、着色膜４１及び遮光膜４２の上にオーバーコート層４３が形
成され、その上に共通電極４４が形成され、その上に配向膜２６ｂが形成されている。他
方、第２透光性基板８ａの外側表面には偏光板１８ｂが、例えば、貼着によって装着され
ている。

着色膜４１は、図９に示すように、平面的に見て長方形のドット状に形成されている。
また、着色膜４１は複数個が行方向Ｘ及び列方向Ｙにマトリクス状に配列されてカラーフ
ィルタを形成している。遮光膜４２は着色膜４１を囲む格子状に形成されている。着色膜
４１の個々は、Ｂ，Ｇ，Ｒ，Ｃの１つを通過させる光学的特性に設定され、それらＢ，Ｇ
，Ｒ，Ｃの着色膜４１が平面的に見て所定の配列、例えばストライプ配列に並べられてい
る。すなわち、着色膜４１Ｂ、４１Ｒ，４１Ｃ，４１Ｇは、それぞれ、本発明における第
１着色領域、第２着色領域、第３着色領域、第４着色領域を形成している。このように、
本実施形態においては、Ｂ，Ｇ，Ｒ，Ｃの４色から成る着色膜４１を用いてカラー表示が
行われる。そして、図８において、１つの画素は、Ｂ，Ｇ，Ｒ，Ｃの４色の着色膜４１Ｂ
、４１Ｇ，４１Ｒ，４１Ｃに対応する４つのサブ画素Ｄによって形成されている。

図４において、個々の着色膜４１には、素子基板７に設けられた光反射膜２３に平面的
に重なる領域内の一部に着色膜４１が設けられていない非着色領域Ｑが設けられている。
これらの非着色領域Ｑは、図９に示すように、Ｂ，Ｇ，Ｒ，Ｃの各着色膜４１Ｂ、４１Ｇ
，４１Ｒ，４１Ｃにそれぞれ設けられている。また、これらの非着色領域Ｑは、着色膜４
１の色によって形状及び面積が異なっている。具体的には以下の通りである。まず、Ｇの
着色膜４１Ｇには平面視で方形状の非着色領域Ｑｇが設けられている。また、Ｃの着色膜
４１Ｃには平面視で方形状の非着色領域Ｑｃが設けられている。また、Ｒの着色膜４１Ｒ
には平面視で楕円形状の非着色領域Ｑｒが設けられている。また、Ｂの着色膜４１Ｂには
平面視で円形状の非着色領域Ｑｂが設けられている。

着色膜４１Ｇの非着色領域Ｑｇと着色膜４１Ｃの非着色領域Ｑｃは略同じ形状及び大き
さに形成されている。また、着色膜４１Ｒの非着色領域Ｑｒは非着色領域Ｑｇ，Ｑｃより
小さく形成されている。また、着色膜４１Ｂの非着色領域Ｑｂは非着色領域Ｑｒよりさら
に小さく形成されている。すなわち、これら非着色領域Ｑの大きさは、Ｑｇ＝Ｑｃ＞Ｑｒ
＞Ｑｂの関係に設定されている。なお、これらの非着色領域Ｑｂ，Ｑｇ，Ｑｒ，Ｑｃの形
状は上記のものに限定されることなく、必要に応じて任意の形状に形成することもできる
。

次に、図１０において、反射表示領域Ｒに設けられた光反射膜２３のうち、非着色領域
Ｑｇ及びＱｃに重なる領域はそれ以外の領域に比べて広い光散乱特性を有している。具体
的には、光反射膜２３に形成された光散乱手段としての凹凸パターンのうち、非着色領域
Ｑｇ及びＱｃに対応する領域の光散乱特性をその他の着色領域に比べて広く設定している
。

より具体的には、非着色領域Ｑｂ及びＱｃに対向する部分には、図７（ｂ）、図７（ｃ
）又は図７（ｄ）に示す凹凸パターンが設けられる。図７（ｂ）の凹凸パターンは、着色
領域の凹凸パターンである図７（ａ）のパターンに比べて、ピッチは等しく（Ｐ０＝Ｐ１
）、高さは高く（Ｈ０＜Ｈ１）形成されている。また、図７（ｃ）の凹凸パターンは、図
７（ａ）のパターンに比べてピッチは小さく（Ｐ０＞Ｐ２）、高さは等しく（Ｈ０＝Ｈ２
）形成されている。また、図７（ｄ）の凹凸パターンは、図７（ａ）のパターンに比べて
ピッチは小さく（Ｐ０＞Ｐ３）、高さは高く（Ｈ０＜Ｈ３）形成されている。いずれの凹
凸パターンを非着色領域Ｑｇ及びＱｃに対向する部分に設けても、これらの非着色領域Ｑ
ｇ及びＱｃにおける光散乱特性を広くすることができる。

本実施形態においては、図８に示すように、Ｂ，Ｇ，Ｒの３原色にＣ色を加えて４色の
着色膜４１を用いてカラー表示が行われる。この４色目のＣ色は、図１４からわかるよう
に、Ｒに対する補色である。またＣは図１４の色度座標上においてＧにもっとも近い点で
ある。このようにＢ，Ｇ，Ｒ，Ｃの４色を用いた場合の色再現範囲は、図１４においてＢ
，Ｇ，Ｒ，Ｃの４点を結んだ線によって囲まれた内側の領域である。この色再現範囲は、
先の第１実施形態のようにＢ，Ｇ，Ｒの３色でカラー表示を行う場合の色再現範囲である
、Ｂ，Ｇ，Ｒの３点を結んだ線によって囲まれた領域に比べて広くなっている。従って、
本実施形態の液晶表示装置は、Ｂ，Ｇ，Ｒの３色でカラー表示を行う先の実施形態の液晶
表示装置に比べてより広範囲の色を用いた表示を行うことができる。

しかしながら、従来の液晶表示装置においては、図１４からわかるように、ＣとＧとは
色度座標上において最も近い２点である。つまり、それらのＧとＣの色に対応する図９の
着色膜４１Ｇ，４１Ｃを透過する光の波長領域は互いに近くなっている。従って、着色膜
４１Ｇを備えたサブ画素Ｄと、着色膜４１Ｃを備えたサブ画素Ｄとにおいて行われる表示
の色が、他の着色膜４１Ｂ，４１Ｒを備えたサブ画素Ｄよりも強くなり過ぎるおそれがあ
る。こうなると、液晶表示装置の表示の色がＧ及びＣに偏るおそれがある。

本実施形態の液晶表示装置では、各サブ画素Ｄに対して異なる４色の着色膜４１Ｂ、４
１Ｇ，４１Ｒ，４１Ｃを個々に設け、それらの着色膜の個々に非着色領域Ｑｂ，Ｑｇ，Ｑ
ｒ，Ｑｃを設けた。そして、それらのうち色度座標（図１４）上で最も近い２色であるＧ
とＣの着色膜４１Ｇ，４１Ｃに設けられた非着色領域Ｑｇ、Ｑｃを、他の非着色領域Ｑｂ
，Ｑｒより大きく形成した。非着色領域Ｑｇ，Ｑｃを通過する光は白色光であるので、各
着色膜４１Ｇ，４１Ｃに非着色領域Ｑｇ，Ｑｃを個々に設ければ、それらの着色膜４１Ｇ
，４１Ｃを有する各サブ画素Ｄが発する光の色の強さを抑えることができる。

またさらに、本発明では、それらの非着色領域Ｑｇ，Ｑｃに対向する凹凸パターンの光
散乱特性をそれ以外の部分の散乱特性よりも広く設定した。このように光を広く散乱させ
ることにより、図２に示す液晶表示装置１の観察側Ａの正面からは色の強さを抑えた光が
出射されるので、観察側Ａの正面で観察する表示の色が偏ることを防止できる。また、凹
凸パターンによって散乱した光は観察側Ａの正面以外の方向に向かうことができるので、
観察側Ａの正面に対して斜め方向から観察する表示を明るくできる。

（変形例）
第１〜第４の着色領域を形成する各着色膜４１の光学的特性は、波長に応じて色相が変
化する可視光領域のうち、その着色膜を透過する光のそれぞれが、青系の色相範囲内（第
１着色領域に対応）、赤系の色相範囲内（第２着色領域に対応）、青から黄までの色相範
囲内（第３および第４着色領域に対応）となるように設定することができる。ここで系と
用いているが、例えば青系であれば純粋の青の色相に限定されるものでなく、青紫や青緑
等を含むものである。赤系の色相であれば、赤に限定されるものでなく橙を含む。また、
これら着色領域は単一の着色層で構成されても良いし、複数の異なる色相の着色層を重ね
て構成されても良い。また、これら着色領域は色相で述べているが、当該色相は、彩度、
明度を適宜変更し、色を設定し得るものである。

上述の色相範囲について具体的に説明すると、第１着色領域に対応する色相範囲は、好
ましくは青紫から青緑までの色相範囲であり、より好ましくは藍から青までの色相範囲で
ある。また、第２着色領域に対応する色相範囲は、好ましくは橙から赤までの色相範囲で
ある。また、第３着色領域に対応する色相範囲は、好ましくは青から緑であり、より好ま
しくは青緑から緑である。また、第４着色領域に対応する色相範囲は、好ましくは緑から
橙であり、より好ましくは緑から黄である。もしくは緑から黄緑である。

４つの色相の組み合わせの具体例としては、上述の実施形態における（青、赤、シアン
、緑）の他、例えば、（青、赤、緑、黄）、（青、赤、深緑、黄）、（青、赤、エメラル
ド、黄）、（青、赤、深緑、黄緑）、（青緑、赤、深緑、黄緑）などを選択することが可
能である。

また、第１〜第４の着色領域を形成する各着色膜４１の光学的特性は、当該着色領域を
透過する光のピーク波長がそれぞれ、４１５〜５００ｎｍの範囲内（第１着色領域に対応
）、６００ｎｍ以上の可視光範囲内（第２着色領域に対応）、４８５〜５３５ｎｍの範囲
内（第３着色領域に対応）、５００〜５９０ｎｍの範囲内（第４着色領域に対応）となる
ように設定することができる。また好ましくは、第３着色領域に対応するピーク波長範囲
は、４９５〜５２９ｎｍの範囲内である。また好ましくは、第４着色領域に対応するピー
ク波長範囲は、５１０〜５８５ｎｍの範囲内であり、さらに好ましくは、５３０〜５６５
ｎｍの範囲内である。

また、第１〜第４の着色領域を形成する各着色膜４１の光学的特性は、当該着色領域を
透過する光の色度座標（図１４参照）がそれぞれ、ｘ≦０．１５１、ｙ≦０．０５６の可
視光範囲内（第１着色領域に対応）、０．６４３≦ｘ、ｙ≦０．３３３の可視光範囲内（
第２着色領域に対応）、ｘ≦０．１６４、０．４５３≦ｙの可視光範囲内（第３着色領域
に対応）、０．２５７≦ｘ、０．６０６≦ｙの可視光範囲内（第４着色領域に対応）とな
るように設定することができる。また好ましくは、第１着色領域に対応する色度座標は、
０．１３４≦ｘ≦０．１５１、０．０３４≦ｙ≦０．０５６の範囲内である。また好まし
くは、第２着色領域に対応する色度座標は、０．６４３≦ｘ≦０．６９０、０．２９９≦
ｙ≦０．３３３の範囲内である。また好ましくは、第３着色領域に対応する色度座標は、
０．０９８≦ｘ≦０．１６４、０．４５３≦ｙ≦０．７５９の範囲内である。また好まし
くは、第４着色領域に対応する色度座標は、０．２５７≦ｘ≦０．３５７、０．６０６≦
ｙ≦０．６７０の範囲内である。

このような着色膜（着色領域）の光学的特性の設定により、従来のＲＧＢの着色領域よ
りも広範囲の色再現性を実現することができる。また、非着色領域内の光散乱特性に係る
構成を上述の実施形態と同様にすることで、色合いの補正効果や、斜め観察における輝度
の補正効果を好適に得ることができる。

また、照明装置３の変形例として、ＲＧＢの光源としてＬＥＤ、蛍光管、有機ＥＬを備
えたものであってもよい。このとき、ＲＧＢ光源としては、そのピーク波長が４３５ｎｍ
−４８５ｎｍ（Ｂ）、５２０ｎｍ−５４５ｎｍ（Ｇ）、６１０ｎｍ−６５０ｎｍ（Ｒ）に
あるものが好ましい。また、波長が例えば、４５０ｎｍと５６５ｎｍにピークがくるよう
な、複数のピークを持つ光源を用いていも良い。そして、ＲＧＢ源の波長によって、上述
した着色膜（着色領域）の光学的特性の設定を適切に行えば、より広範囲の色再現性を得
ることができる。

（液晶表示装置の第３実施形態）
次に、本発明に係る液晶表示装置のさらに他の実施形態を図１１を用いて説明する。既
述の第１実施形態の液晶表示装置は、図５に示したように、Ｂ，Ｇ，Ｒの異なる３色の着
色膜４１Ｂ，４１Ｇ，４１Ｒを用いてカラー表示を行う構成である。また、第２実施形態
の液晶表示装置は、図９に示したように、Ｂ，Ｇ，Ｒ，Ｃの異なる４色の着色膜４１Ｂ，
４１Ｇ，４１Ｒ，４１Ｃを用いてカラー表示を行う構成である。本実施形態に係る液晶表
示装置は、図１１に示すように、Ｂ，Ｇ，Ｒ，Ｃ，Ｙ（黄色）の異なる５色の着色膜４１
Ｂ，４１Ｇ，４１Ｒ，４１Ｃ，４１Ｙを用いてカラー表示を行う構成である。

Ｂ，Ｇ，Ｒ，Ｃ，Ｙの５色のうち、ＧとＣとは図１４の色度座標上において最も近い２
点である。また、ＧとＹとは図１４の色度座標上において２番目に近い２点である。本実
施形態では、最も近い２点と、さらに他の１色である２番目に近い２点、すなわち、Ｇ，
Ｃ，Ｙの３色に関して本発明を適応するものである。

具体的には、図１１において、５色の各着色膜４１Ｂ，４１Ｇ，４１Ｒ，４１Ｃ，４１
Ｙに対応して非着色領域Ｑｂ，Ｑｇ，Ｑｒ，Ｑｃ，Ｑｙが個々に設けられている。このう
ち、着色膜４１Ｇ，４１Ｃ，４１Ｙに設けられた非着色領域Ｑｇ，Ｑｃ，Ｑｙに関して凹
凸パターン（図４参照）の散乱特性を広く設定している。凹凸パターンの散乱特性を広く
するには、先の第１実施形態及び第２実施形態と同じく、図７に示すように凹凸パターン
のピッチ及び／又は高さを変えることにより実現できる。

図１１に示すようにＢ，Ｇ，Ｒ，Ｃ，Ｙの５色を用いた場合、色再現範囲は、図１４に
おいてＢ，Ｇ，Ｒ，Ｃ，Ｙの５点を結んだ線によって囲まれた内側の領域である。この色
再現範囲は、先の第１実施形態のようにＢ，Ｇ，Ｒの３色でカラー表示を行う場合の色再
現範囲であるＢ，Ｇ，Ｒの３点を結んだ線によって囲まれた内側の領域、及び第２実施形
態のようにＢ，Ｇ，Ｒ，Ｃの４色でカラー表示を行う場合の色度再現範囲であるＢ，Ｇ，
Ｒ，Ｃの４点を結んだ線によって囲まれた内側の領域に比べて広くなっている。従って、
本実施形態の液晶表示装置は、３色又は４色の着色膜を用いて表示を行う液晶表示装置に
比べてより広範囲の色を用いた表示を行うことができる。

本実施形態の液晶表示装置では、図１１に示すように、各サブ画素Ｄに対して異なる５
色の着色膜４１Ｂ、４１Ｇ，４１Ｒ，４１Ｃ，４１Ｙを個々に設け、それらの着色膜の個
々に非着色領域Ｑｂ，Ｑｇ，Ｑｒ，Ｑｃ，Ｑｙを設けた。そして、それらのうち色度座標
（図１４）上で最も近い２色であるＧとＣ、及び２番目に近い２色であるＧとＹの各色に
対応する着色膜４１Ｇ，４１Ｃ，４１Ｙに設けられた非着色領域Ｑｇ，Ｑｃ，Ｑｙを、他
の非着色領域Ｑｂ，Ｑｒより大きく形成した。非着色領域Ｑｇ，Ｑｃ，Ｑｙを通過する光
は白色光であるので、各着色膜４１Ｇ，４１Ｃ，４１Ｙに非着色領域Ｑｇ，Ｑｃ，Ｑｙを
個々に設ければ、それらの着色膜４１Ｇ，４１Ｃ，４１Ｙを有する各サブ画素Ｄが発する
光の色の強さを抑えることができる。

またさらに、本発明では、それらの非着色領域Ｑｇ，Ｑｃ、Ｑｙに対向する凹凸パター
ンの光散乱特性をそれ以外の部分の散乱特性よりも広く設定した。このように光を広く散
乱させることにより、図２に示す液晶表示装置１の観察側Ａの正面からは色の強さを抑え
た光が出射されるので、観察側Ａの正面で観察する表示の色が偏ることを防止できる。ま
た、凹凸パターンによって散乱した光は観察側Ａの正面以外の方向に向かうことができる
ので、観察側Ａの正面に対して斜め方向から観察する表示を明るくできる。

（その他の実施形態）
以上、好ましい実施形態を挙げて本発明を説明したが、本発明はその実施形態に限定さ
れるものでなく、請求の範囲に記載した発明の範囲内で種々に改変できる。
例えば、以上に説明した各実施形態では、着色膜を３色、４色、又は５色設けた場合に
ついて説明したが、着色膜は５色より多く設けることもできる。

また、以上に説明した各実施形態では、スイッチング素子として３端子型素子であるア
モルファスシリコンＴＦＴを用いたが、その他の３端子型素子、例えば低温ポリシリコン
ＴＦＴ、高温ポリシリコンＴＦＴを用いることもできる。また、スイッチング素子として
２端子型素子を用いることもできる。この２端子型素子としては、例えば、ＴＦＤ（Thin
Film Diode）素子を用いることができる。

（電子機器の実施形態）
以下、本発明に係る電子機器を実施形態を挙げて説明する。なお、この実施形態は本発
明の一例を示すものであり、本発明はこの実施形態に限定されるものではない。

図１２は、本発明に係る電子機器の一実施形態を示している。ここに示す電子機器は、
液晶表示装置１０１と、これを制御する制御回路１００とを有する。制御回路１００は、
表示情報出力源１０４、表示情報処理回路１０５、電源回路１０６及びタイミングジェネ
レータ１０７によって構成される。そして、液晶表示装置１０１は液晶パネル１０２及び
駆動回路１０３を有する。

表示情報出力源１０４は、ＲＡＭ(Random Access Memory)等といったメモリや、各種デ
ィスク等といったストレージユニットや、ディジタル画像信号を同調出力する同調回路等
を備え、タイミングジェネレータ１０７により生成される各種のクロック信号に基づいて
、所定フォーマットの画像信号等といった表示情報を表示情報処理回路１０５に供給する
。

次に、表示情報処理回路１０５は、増幅・反転回路や、ローテーション回路や、ガンマ
補正回路や、クランプ回路等といった周知の回路を多数備え、入力した表示情報の処理を
実行して、画像信号をクロック信号ＣＬＫと共に駆動回路１０３へ供給する。ここで、駆
動回路１０３は、走査線駆動回路やデータ線駆動回路と共に、検査回路等を総称したもの
である。また、電源回路１０６は、上記の各構成要素に所定の電源電圧を供給する。

液晶表示装置１０１は、例えば、図２に示した液晶表示装置１を用いて構成できる。図
２の液晶表示装置１は、サブ画素Ｄ内に配置された着色膜４１に部分的に非着色領域Ｑ（
図４参照）を設け、その非着色領域Ｑに対向する凹凸パターンの少なくとも一部の散乱特
性をそれ以外の部分の散乱特性よりも広くすることにより、液晶表示装置１における表示
の色を補正して液晶表示装置１において表示の色が特定の色に偏ることを確実に防止でき
る。従って、この液晶表示装置１を用いて構成される本発明に係る電子機器においても、
表示の色を補正して液晶表示装置１において表示の色が特定の色に偏ることを確実に防止
できる。

図１３は、本発明に係る電子機器の他の実施形態である携帯電話機を示している。ここ
に示す携帯電話機１１０は、本体部１１１と、これに開閉可能に設けられた表示体部１１
２とを有する。液晶表示装置等といった電気光学装置によって構成された表示装置１１３
は、表示体部１１２の内部に配置され、電話通信に関する各種表示は、表示体部１１２に
おいて表示画面１１４によって視認できる。本体部１１１には操作ボタン１１５が配列さ
れている。

表示体部１１２の一端部にはアンテナ１１６が伸縮自在に取付けられている。表示体部
１１２の上部に設けられた受話部１１７の内部には、図示しないスピーカが配置される。
また、本体部１１１の下端部に設けられた送話部１１８の内部には図示しないマイクが内
蔵されている。表示装置１１３の動作を制御するための制御部は、携帯電話機の全体の制
御を司る制御部の一部として、又はその制御部とは別に、本体部１１１又は表示体部１１
２の内部に格納される。

表示装置１１３は、例えば、図２に示した液晶表示装置１を用いて構成できる。図２の
液晶表示装置１は、サブ画素Ｄ内に配置された着色膜４１に部分的に非着色領域Ｑ（図４
参照）を設け、その非着色領域Ｑに対向する凹凸パターンの少なくとも一部の散乱特性を
それ以外の部分の散乱特性よりも広くすることにより、液晶表示装置１における表示の色
を補正して液晶表示装置１において表示の色が特定の色に偏ることを確実に防止できる。
従って、この液晶表示装置１を用いて構成される本発明に係る電子機器においても、表示
の色を補正して液晶表示装置１において表示の色が特定の色に偏ることを確実に防止でき
る。

（変形例）
なお、電子機器としては、以上に説明した携帯電話機等の他にも、パーソナルコンピュ
ータ、液晶テレビ、ビューファインダ型又はモニタ直視型のビデオテープレコーダ、カー
ナビゲーション装置、ページャ、電子手帳、電卓、ワードプロセッサ、ワークステーショ
ン、テレビ電話機、ＰＯＳ端末器等が挙げられる。

本発明に係る液晶表示装置の一実施形態を示す斜視図。 図１のＺ１−Ｚ１線に従って示す断面図。 図１の液晶表示装置の１つの画素部分を示す平面図。 図２の矢印Ｂで示す部分を拡大して示す断面図。 図３の画素部分のうち主に着色膜を示す平面図。 図３の画素部分のうち主に凹凸パターンを示す平面図。 図６の凹凸パターンの形状を示す断面図であって、（ａ）は基準となる光散乱特性の場合を示す図、（ｂ）、（ｃ）及び（ｄ）は（ａ）に比べて高い光散乱特性を有する場合を示す図、（ｅ）及び（ｆ）は（ａ）に比べて低い光散乱特性を有する場合を示す図。 本発明に係る液晶表示装置の他の実施形態の１つの画素部分を示す平面図。 図８の画素部分のうち主に着色膜を示す平面図。 図８の画素部分のうち主に凹凸パターンを示す平面図。 本発明に係る液晶表示装置のさらに他の実施形態の１つの画素部分を示す平面図。 本発明に係る電子機器の一実施形態を示すブロック図。 本発明に係る電子機器の他の実施形態を示す斜視図。 ＣＩＥにおけるＸＹＺ表色系の色度座標を示す図。

符号の説明

１…液晶表示装置、２…液晶パネル、３…照明装置、４…ＦＰＣ基板、６…シール材、
６ａ…注入口、７…素子基板、７ａ…第１透光性基板、８…カラーフィルタ基板、８ａ…
第２透光性基板、１２…液晶層、１３…ＬＥＤ、１４…導光体、１６…光反射層、１７…
光拡散層、１８ａ，１８ｂ…偏光板、１９…ソース電極線、２１…ゲート電極線、２２…
層間絶縁膜、２３…光反射膜、２４…画素電極、２５…コンタクトホール、２６ａ，２６
ｂ…配向膜、３１…ＴＦＴ素子、３２…ゲート電極、３３…ゲート絶縁膜、３４…半導体
層、３５…ソース電極、３６…ドレイン電極、４１，４１Ｂ，４１Ｇ，４１Ｒ，４１Ｃ…
着色領域を形成する着色膜、４２…遮光膜、４３…オーバーコート層、４４…共通電極、
４６…張出し部、４７…配線、４８…外部接続用端子、５１…ＡＣＦ、５２…駆動用ＩＣ
、１００…制御回路、１０１…液晶表示装置、１０２…液晶パネル、１０３…駆動回路、
１１０…携帯電話機（電子機器）、１１１…本体部、１１２…表示体部、１１３…表示装
置、１１４…表示画面、１１５…操作ボタン、１１６…アンテナ、１１７…受話部、１１
８…送話部、Ｄ…サブ画素、Ｇ…セルギャップ、Ｈ０，Ｈ１，Ｈ２，Ｈ３，Ｈ４，Ｈ５…
凹凸パターンの高さ、Ｌ０，Ｌ１…光、Ｐ０，Ｐ１，Ｐ２，Ｐ３，Ｐ４，Ｐ５…凹凸パタ
ーンのピッチ、Ｑ，Ｑｂ，Ｑｇ，Ｑｒ，Ｑｃ…非着色領域、Ｒ…反射表示領域、Ｔ…透過
表示領域、Ｖ…有効表示領域。

Claims (19)

1. 一対の基板間に液晶を挟持し、前記一対の基板のうちの一方の基板には光反射膜が設け
   られ、前記一対の基板のうちの他方の基板と前記光反射膜との間には複数の色の異なる着
   色膜を有するカラーフィルタが設けられ、表示の最小単位とされるサブ画素を複数備え、
   該サブ画素領域内に前記光反射膜に対応した反射表示領域を有する液晶表示装置であって
   、
   前記カラーフィルタの前記着色膜は、前記サブ画素領域の前記反射表示領域に配置され
   るとともに、前記反射表示領域には前記着色膜が設けられていない非着色領域が設けられ
   、該非着色領域の少なくとも一部の領域は、前記光反射膜の光散乱特性が、他の前記反射
   表示領域における前記光反射膜の光散乱特性よりも広い光散乱特性を有していることを特
   徴とする液晶表示装置。
2. 請求項１記載の液晶表示装置において、前記複数の色の異なる着色膜は４色からなり、
   前記４色のうち色度座標上で最も近い２色に対応する前記着色膜はそれぞれ部分的に非着
   色領域を有し、該２色の着色膜の非着色領域の少なくとも一部の領域は、前記光反射膜の
   光散乱特性が、他の前記反射表示領域における前記光反射膜の光散乱特性よりも広い光散
   乱特性を有していることを特徴とする液晶表示装置。
3. 請求項１又は請求項２に記載の液晶表示装置において、前記着色膜は、青色、緑色及び
   赤色の各色に対応した着色膜を含むことに加えて、青色、緑色及び赤色の各色の補色に対
   応した着色膜の少なくとも１つを含むことを特徴とする液晶表示装置。
4. 請求項２記載の液晶表示装置において、前記色度座標上において最も近い２色は緑色と
   シアン色であることを特徴とする液晶表示装置。
5. 請求項２記載の液晶表示装置において、前記色度座標上において最も近い２色は緑色と
   黄色であることを特徴とする液晶表示装置。
6. 請求項２から請求項５のいずれか１つに記載の液晶表示装置において、前記非着色領域
   は前記色度座標上において最も近い２色に加えて、その他の２色のうち少なくとも１色に
   対応した前記着色膜にもさらに設けられていることを特徴とする液晶表示装置。
7. 一対の基板間に液晶を挟持し、前記一対の基板のうちの一方の基板には光反射膜が設け
   られ、前記一対の基板のうちの他方の基板と前記光反射膜との間には複数色の着色領域お
   よび非着色領域を有するカラーフィルタが設けられ、表示の最小単位とされるサブ画素を
   複数備え、該サブ画素領域内に前記光反射膜に対応した反射表示領域を有する液晶表示装
   置であって、
   一の前記サブ画素領域内の前記反射表示領域に、前記カラーフィルタの一の色の前記着
   色領域および前記非着色領域が配置され、
   当該非着色領域内の少なくとも一部の領域における前記光反射膜の光散乱特性が、当該
   一部の領域外における前記光反射膜の光散乱特性よりも広い光散乱特性を有していること
   を特徴とする液晶表示装置。
8. 請求項７に記載の液晶表示装置であって、
   前記カラーフィルタは、４色の前記着色領域を有し、
   前記４色の着色領域は、波長に応じて色相が変化する可視光領域のうち、色相が青系の
   色相範囲内で設定されている第１着色領域、色相が赤系の色相範囲内で設定されている第
   ２着色領域、色相が青から黄までの色相範囲内で設定されている２種の第３および第４着
   色領域、であり、
   前記第３および第４着色領域が配置される前記サブ画素領域に、前記非着色領域が配置
   され、
   当該非着色領域内の少なくとも一部の領域における前記光反射膜の光散乱特性が、当該
   一部の領域外における前記光反射膜の光散乱特性よりも広い光散乱特性を有していること
   を特徴とする液晶表示装置。
9. 前記第３着色領域は、その色相が青から緑までの色相範囲内で設定されていることを特
   徴とする請求項８に記載の液晶表示装置。
10. 前記第４の色相は、その色相が緑から橙までの色相範囲内で設定されていることを特徴
    とする請求項８または９に記載の液晶表示装置。
11. 請求項７に記載の液晶表示装置であって、
    前記カラーフィルタは、４色の前記着色領域を有し、
    前記４色の着色領域は、それぞれ、当該着色領域を透過する光のピーク波長が４１５〜
    ５００ｎｍの範囲内で設定されている第１着色領域、当該着色領域を透過する光のピーク
    波長が６００ｎｍ以上の可視光範囲内で設定されている第２着色領域、当該着色領域を透
    過する光のピーク波長が４８５〜５３５ｎｍの範囲内で設定されている第３波長領域、当
    該着色領域を透過する光のピーク波長が５００〜５９０ｎｍの範囲内で設定されている第
    ４着色領域、であり、
    前記第３および第４着色領域が配置される前記サブ画素領域に、前記非着色領域が配置
    され、
    当該非着色領域内の少なくとも一部の領域における前記光反射膜の光散乱特性が、当該
    一部の領域外における前記光反射膜の光散乱特性よりも広い光散乱特性を有していること
    を特徴とする液晶表示装置。
12. 前記第３着色領域は、当該着色領域を透過する光のピーク波長が４９５〜５２０ｎｍの
    範囲内で設定されていることを特徴とする請求項１１に記載の液晶表示装置。
13. 前記第４着色領域は、当該着色領域を透過する光のピーク波長が５１０〜５８５ｎｍの
    範囲内で設定されていることを特徴とする請求項１１または１２に記載の液晶表示装置。
14. 前記第１および第２着色領域が配置される前記サブ画素領域に、前記非着色領域が配置
    され、
    当該非着色領域内の少なくとも一部の領域における前記光反射膜の光散乱特性が、当該
    一部の領域外における前記光反射膜の光散乱特性よりも広い光散乱特性を有していること
    を特徴とする請求項８ないし１３のいずれか一項に記載の液晶表示装置。
15. 請求項１ないし１４のいずれか１つに記載の液晶表示装置において、前記光反射膜の表
    面には凹凸パターンが設けられていることを特徴とする液晶表示装置。
16. 請求項１５記載の液晶表示装置において、前記凹凸パターンの光散乱特性は、前記凹凸
    パターンの高さ及び／又はピッチを変えることによって変えられることを特徴とする液晶
    表示装置。
17. 一対の基板間に液晶を挟持し、前記一対の基板のうちの一方の基板には光散乱特性を有
    する光反射膜が設けられ、前記一対の基板のうちの他方の基板と前記光反射膜との間には
    複数の色の異なる着色膜を有するカラーフィルタが設けられ、前記一方の基板の前記液晶
    層側とは反対側に照明装置を備えるとともに、表示の最小単位とされるサブ画素を複数備
    え、該一つのサブ画素領域内に、前記照明装置からの出射光を透過して透過表示を行う透
    過表示領域と、前記光反射膜によって反射された光を用いて反射表示を行う反射表示領域
    とを備えた液晶表示装置であって、
    前記カラーフィルタの前記着色膜は、前記サブ画素領域の前記反射表示領域と前記透過
    表示領域に配置されるとともに、前記反射表示領域には前記着色膜が設けられていない非
    着色領域が設けられ、該非着色領域の少なくとも一部の領域は、前記光反射膜の光散乱特
    性が、他の前記反射表示領域における前記光反射膜の光散乱特性よりも広い光散乱特性を
    有していることを特徴とする液晶表示装置。
18. 一対の基板間に液晶を挟持し、前記一対の基板のうちの一方の基板には光散乱特性を有
    する光反射膜が設けられ、前記一対の基板のうちの他方の基板と前記光反射膜との間には
    複数色の着色領域および非着色領域を有するカラーフィルタが設けられ、前記一方の基板
    の前記液晶層側とは反対側に照明装置を備えるとともに、表示の最小単位とされるサブ画
    素を複数備え、該一つのサブ画素領域内に、前記照明装置からの出射光を透過して透過表
    示を行う透過表示領域と、前記光反射膜によって反射された光を用いて反射表示を行う反
    射表示領域とを備えた液晶表示装置であって、
    一の前記サブ画素領域内の前記反射表示領域に、前記カラーフィルタの一の色の前記着
    色領域および前記非着色領域が配置され、
    前記非着色領域内の少なくとも一部の領域における前記光反射膜の光散乱特性が、当該
    一部の領域外における前記光反射膜の光散乱特性よりも広い光散乱特性を有していること
    を特徴とする液晶表示装置。
19. 請求項１ないし１８のいずれか１つに記載の液晶表示装置を有することを特徴とする電
    子機器。
    

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