JP3091190B1 - 半透過型液晶表示装置 - Google Patents
半透過型液晶表示装置Info
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- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
- G02F1/133553—Reflecting elements
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Abstract
【要約】
【課題】反射型の表示モード時において後方散乱による
コントラストの低下をなくした半透過型液晶表示装置を
提供する 【解決手段】半透過型液晶表示装置１６において、ガラ
ス基板２上に凸状配列群を形成し、凸状配列群上に半透
過膜４ａと配向膜５を被覆し、また、ガラス基板６上に
カラーフィルタ７とオーバーコート層８と透明電極９と
配向膜１０を形成し、双方のガラス基板２、６を液晶１
１を介して対向配設し、さらにガラス基板６の外側に第
１位相差フィルム１３と第２位相差フィルム１４と偏光
板１５とを順次形成する。
コントラストの低下をなくした半透過型液晶表示装置を
提供する 【解決手段】半透過型液晶表示装置１６において、ガラ
ス基板２上に凸状配列群を形成し、凸状配列群上に半透
過膜４ａと配向膜５を被覆し、また、ガラス基板６上に
カラーフィルタ７とオーバーコート層８と透明電極９と
配向膜１０を形成し、双方のガラス基板２、６を液晶１
１を介して対向配設し、さらにガラス基板６の外側に第
１位相差フィルム１３と第２位相差フィルム１４と偏光
板１５とを順次形成する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は半透過型液晶表示装
置に関するものである。
置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】近年、バックライトを使用しない反射型
液晶表示装置の技術が開発されており、薄型、軽量およ
び低消費電力化に優れている。
液晶表示装置の技術が開発されており、薄型、軽量およ
び低消費電力化に優れている。
【０００３】反射型液晶表示装置には、後方に配設した
基板の面上に鏡面にした光反射層を設け、前方に配設し
た基板の外側に散乱板を設けた機能分離型と（特開平８
−２０１８０２号参照）、後方に配設した基板に対し凹
凸形状の光反射層を形成した散乱反射型とがあるが（特
開平４−２４３２２６号参照）、双方の型ともにバック
ライトを用いないことで、周囲の光を有効に利用してい
る。
基板の面上に鏡面にした光反射層を設け、前方に配設し
た基板の外側に散乱板を設けた機能分離型と（特開平８
−２０１８０２号参照）、後方に配設した基板に対し凹
凸形状の光反射層を形成した散乱反射型とがあるが（特
開平４−２４３２２６号参照）、双方の型ともにバック
ライトを用いないことで、周囲の光を有効に利用してい
る。
【０００４】ＴＮモードやＳＴＮモードの散乱反射型液
晶表示装置を図１１に示す。液晶表示装置１において、
ガラス基板２の上にフォトリソ工程により樹脂からなる
ほぼ半球状の凸部３を多数ランダムに並べることで凸状
配列群を形成し、凸状配列群上に金属からなる光反射層
４を被覆し、光反射層４上に配向膜５を被覆し、また、
ガラス基板６上にカラーフィルタ７を形成し、カラーフ
ィルタ７の上にオーバーコート層８を被覆し、オーバー
コート層８上にＩＴＯなどからなる透明電極９を帯状に
複数配列し、さらに配向膜１０を被覆する。そして、双
方の基板を液晶１１を介して対向配設し、液晶１１はシ
ール部材１２により囲まれた領域内に充填され、ガラス
基板６の外面に第１位相差フィルム１３と第２位相差フ
ィルム１４と偏光板１５とを順次形成する。
晶表示装置を図１１に示す。液晶表示装置１において、
ガラス基板２の上にフォトリソ工程により樹脂からなる
ほぼ半球状の凸部３を多数ランダムに並べることで凸状
配列群を形成し、凸状配列群上に金属からなる光反射層
４を被覆し、光反射層４上に配向膜５を被覆し、また、
ガラス基板６上にカラーフィルタ７を形成し、カラーフ
ィルタ７の上にオーバーコート層８を被覆し、オーバー
コート層８上にＩＴＯなどからなる透明電極９を帯状に
複数配列し、さらに配向膜１０を被覆する。そして、双
方の基板を液晶１１を介して対向配設し、液晶１１はシ
ール部材１２により囲まれた領域内に充填され、ガラス
基板６の外面に第１位相差フィルム１３と第２位相差フ
ィルム１４と偏光板１５とを順次形成する。
【０００５】上記光反射層４については、凸状配列群上
にＡｌなどの金属膜をスパッタリングにより被覆する。
このＡｌ膜は多数の帯を平行に配列したものであり、各
帯状膜が個々の電極（光反射層４）に相当する。
にＡｌなどの金属膜をスパッタリングにより被覆する。
このＡｌ膜は多数の帯を平行に配列したものであり、各
帯状膜が個々の電極（光反射層４）に相当する。
【０００６】上記構成の液晶表示装置１においては、偏
光板１５、第２位相差フィルム１４、ガラス基板６およ
び液晶１１を通して光入射されると、入射光が光反射層
４にて光反射され、その反射光がふたたび液晶１１を通
して出射されることで散乱反射型の構成となる。
光板１５、第２位相差フィルム１４、ガラス基板６およ
び液晶１１を通して光入射されると、入射光が光反射層
４にて光反射され、その反射光がふたたび液晶１１を通
して出射されることで散乱反射型の構成となる。
【０００７】このような反射型液晶表示装置以外に、携
帯情報端末などにおいては、屋外・屋内の双方に使用で
きるＳＴＮ型の半透過型液晶表示装置が開発されてい
る。
帯情報端末などにおいては、屋外・屋内の双方に使用で
きるＳＴＮ型の半透過型液晶表示装置が開発されてい
る。
【０００８】この半透過型液晶表示装置によれば、太陽
光、蛍光灯などの外部照明によって反射型の装置として
用いたり、あるいはバックライトを内部照明として装着
して透過型の装置として使用するが、双方の機能を併せ
もたせるために、半透過膜を使用している（特開平８−
２９２４１３号参照）。さらにアクティブマトリックス
型半透過型液晶表示装置に同様な目的で半透過膜を使用
することが提案されている（特開平７−３１８９２９号
参照）。
光、蛍光灯などの外部照明によって反射型の装置として
用いたり、あるいはバックライトを内部照明として装着
して透過型の装置として使用するが、双方の機能を併せ
もたせるために、半透過膜を使用している（特開平８−
２９２４１３号参照）。さらにアクティブマトリックス
型半透過型液晶表示装置に同様な目的で半透過膜を使用
することが提案されている（特開平７−３１８９２９号
参照）。
【０００９】かかる半透過型液晶表示装置においても、
後方に配設した基板の面上に半透過膜を設け、前方に配
設した基板の外側に光散乱板を設けたことで機能分離型
となしたものが知られている。
後方に配設した基板の面上に半透過膜を設け、前方に配
設した基板の外側に光散乱板を設けたことで機能分離型
となしたものが知られている。
【００１０】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
ような機能分離型の半透過型液晶表示装置においては、
光散乱板（前方散乱フィルムなど）を前方の基板の外側
に配設しているので、とくに反射型の装置として用いた
場合には、周囲光が装置に入射する際に、入射光は進行
方向に散乱すると同時に、光散乱板によって散乱される
光（後方散乱）が生じるという課題がある。
ような機能分離型の半透過型液晶表示装置においては、
光散乱板（前方散乱フィルムなど）を前方の基板の外側
に配設しているので、とくに反射型の装置として用いた
場合には、周囲光が装置に入射する際に、入射光は進行
方向に散乱すると同時に、光散乱板によって散乱される
光（後方散乱）が生じるという課題がある。
【００１１】このような後方散乱は各画素に対するＯＮ
／ＯＦＦに限らず、常に発生し、そのためにＯＦＦのと
きには後方散乱により黒輝度が高くなり、コントラスト
が低下していた。
／ＯＦＦに限らず、常に発生し、そのためにＯＦＦのと
きには後方散乱により黒輝度が高くなり、コントラスト
が低下していた。
【００１２】したがって本発明の目的は反射型の表示モ
ード時において後方散乱によるコントラストの低下をな
くした半透過型液晶表示装置を提供することにある。
ード時において後方散乱によるコントラストの低下をな
くした半透過型液晶表示装置を提供することにある。
【００１３】
【課題を解決するための手段】本発明の半透過型液晶表
示装置は、基板の一方主面上に多数の透明樹脂製凸部を
隣り合う各凸部が接続されるようランダムに並べた凸状
配列群を形成し、該凸状配列群上にストライプ状光半透
過性電極群を被覆し、このストライプ状光半透過性電極
群上に配向層を積層してなる一方部材と、透明基板上に
ストライプ状透明電極群と配向層とを順次積層してなる
他方部材とを、これらストライプ状光半透過性電極群と
ストライプ状透明電極群とが交差するようにネマチック
型液晶を介して貼り合わせて、マトリックス状に画素を
配列せしめるとともに、前記一方部材と他方部材の各外
面に、それぞれ位相差板と偏光板とを配設し、さらに一
方部材の外側にバックライトを配したことを特徴する。
示装置は、基板の一方主面上に多数の透明樹脂製凸部を
隣り合う各凸部が接続されるようランダムに並べた凸状
配列群を形成し、該凸状配列群上にストライプ状光半透
過性電極群を被覆し、このストライプ状光半透過性電極
群上に配向層を積層してなる一方部材と、透明基板上に
ストライプ状透明電極群と配向層とを順次積層してなる
他方部材とを、これらストライプ状光半透過性電極群と
ストライプ状透明電極群とが交差するようにネマチック
型液晶を介して貼り合わせて、マトリックス状に画素を
配列せしめるとともに、前記一方部材と他方部材の各外
面に、それぞれ位相差板と偏光板とを配設し、さらに一
方部材の外側にバックライトを配したことを特徴する。
【００１４】本発明の他の半透過型液晶表示装置は、基
板の一方主面上に多数の透明樹脂製凸部を隣り合う各凸
部が接続されるようランダムに並べた凸状配列群を形成
し、該凸状配列群上に光半透過膜を被覆し、この光半透
過膜上に透明電極と配向層とを積層してなる一方部材
と、透明基板上に透明電極と配向層とを順次積層してな
る他方部材との間にネマチック型液晶を介在させてマト
リックス状に画素を配列せしめるとともに、前記一方部
材と他方部材の各外面に、それぞれ位相差板と偏光板と
を配設し、さらに一方部材の外側にバックライトを配し
たことを特徴とする。
板の一方主面上に多数の透明樹脂製凸部を隣り合う各凸
部が接続されるようランダムに並べた凸状配列群を形成
し、該凸状配列群上に光半透過膜を被覆し、この光半透
過膜上に透明電極と配向層とを積層してなる一方部材
と、透明基板上に透明電極と配向層とを順次積層してな
る他方部材との間にネマチック型液晶を介在させてマト
リックス状に画素を配列せしめるとともに、前記一方部
材と他方部材の各外面に、それぞれ位相差板と偏光板と
を配設し、さらに一方部材の外側にバックライトを配し
たことを特徴とする。
【００１５】
【発明の実施の形態】以下、本発明を図１〜図１０によ
って詳述する。図１は半透過型液晶表示装置の断面概略
図、図２は凸状配列群の形成工程図、図３は凸状配列群
を形成するためのフォトマスクの平面図、図４は他のフ
ォトマスクの平面図である。また、図５は現像時間と凸
状配列群の凹凸高低差との関係を示し、図６は現像時間
の違いによる光感光性樹脂層の形状変化を示す。図７は
凸状配列群の拡大図、図８は凸状配列群の写真図であっ
て、図９は他の凸状配列群の拡大図である。さらに図１
０は本発明の他の半透過型液晶表示装置の断面概略図で
ある。なお、図１１に示す従来の液晶表示装置１と同一
箇所には同一符号を付す。
って詳述する。図１は半透過型液晶表示装置の断面概略
図、図２は凸状配列群の形成工程図、図３は凸状配列群
を形成するためのフォトマスクの平面図、図４は他のフ
ォトマスクの平面図である。また、図５は現像時間と凸
状配列群の凹凸高低差との関係を示し、図６は現像時間
の違いによる光感光性樹脂層の形状変化を示す。図７は
凸状配列群の拡大図、図８は凸状配列群の写真図であっ
て、図９は他の凸状配列群の拡大図である。さらに図１
０は本発明の他の半透過型液晶表示装置の断面概略図で
ある。なお、図１１に示す従来の液晶表示装置１と同一
箇所には同一符号を付す。
【００１６】半透過型液晶表示装置 図１によりカラー表示用の半透過型液晶表示装置１６を
説明する。２はセグメント側のガラス基板（０．７ｍｍ
厚）、６はコモン側のガラス基板（０．７ｍｍ厚）であ
って、前記一方部材については、ガラス基板２の一方主
面上に光透過性に優れた透明樹脂からなるほぼ半球状の
凸部１７（径：５〜１５μｍ）を多数配列することで凸
状配列群を形成し、凸状配列群上に前記ストライプ状光
半透過性電極群としてのクロムやアルミニウム、銀など
の薄い金属膜からなる光半透過性の半透過膜４ａ（膜厚
２５０Å）を被覆している。半透過膜４ａは多数の帯を
平行に配列したものであり、各帯状膜が個々の電極１８
に相当する。
説明する。２はセグメント側のガラス基板（０．７ｍｍ
厚）、６はコモン側のガラス基板（０．７ｍｍ厚）であ
って、前記一方部材については、ガラス基板２の一方主
面上に光透過性に優れた透明樹脂からなるほぼ半球状の
凸部１７（径：５〜１５μｍ）を多数配列することで凸
状配列群を形成し、凸状配列群上に前記ストライプ状光
半透過性電極群としてのクロムやアルミニウム、銀など
の薄い金属膜からなる光半透過性の半透過膜４ａ（膜厚
２５０Å）を被覆している。半透過膜４ａは多数の帯を
平行に配列したものであり、各帯状膜が個々の電極１８
に相当する。
【００１７】そして、半透過膜４ａ上に一定方向にラビ
ングしたポリイミド樹脂からなる配向膜５を被覆する。
半透過膜４ａを被覆した凸状配列群と配向膜５との間に
樹脂やＳｉＯ2 からなる平滑膜をスパッタリング法やデ
ィップ法、印刷法、スピンナー法等でもって形成しても
よい。
ングしたポリイミド樹脂からなる配向膜５を被覆する。
半透過膜４ａを被覆した凸状配列群と配向膜５との間に
樹脂やＳｉＯ2 からなる平滑膜をスパッタリング法やデ
ィップ法、印刷法、スピンナー法等でもって形成しても
よい。
【００１８】前記他方部材については、ガラス基板６上
に画素ごとに配したカラーフィルタ７を形成している。
カラーフィルタ７は顔料分散方式、すなわちあらかじめ
顔料（赤、緑、青）により調合された感光性レジストを
基板上に塗布し、フォトリソグラフィにより形成してい
る。その上にアクリル系樹脂からなるオーバーコート層
８と、多数平行に配列したＩＴＯからなる透明電極９と
を形成している。透明電極９は上記電極１８と直交して
いる。ただし、オーバーコート層８は必須不可欠ではな
く、カラーフィルタ７上に直に透明電極９を形成するこ
とで、オーバーコート層８を除外してもよい。さらに透
明電極９上に一定方向にラビングしたポリイミド樹脂か
らなる配向膜１０を形成している。なお、配向膜１０は
透明電極９上に直に成膜形成しているが、配向膜１０と
透明電極９との間に樹脂やＳｉＯ2 などからなる絶縁膜
を介在させてもよい。
に画素ごとに配したカラーフィルタ７を形成している。
カラーフィルタ７は顔料分散方式、すなわちあらかじめ
顔料（赤、緑、青）により調合された感光性レジストを
基板上に塗布し、フォトリソグラフィにより形成してい
る。その上にアクリル系樹脂からなるオーバーコート層
８と、多数平行に配列したＩＴＯからなる透明電極９と
を形成している。透明電極９は上記電極１８と直交して
いる。ただし、オーバーコート層８は必須不可欠ではな
く、カラーフィルタ７上に直に透明電極９を形成するこ
とで、オーバーコート層８を除外してもよい。さらに透
明電極９上に一定方向にラビングしたポリイミド樹脂か
らなる配向膜１０を形成している。なお、配向膜１０は
透明電極９上に直に成膜形成しているが、配向膜１０と
透明電極９との間に樹脂やＳｉＯ2 などからなる絶縁膜
を介在させてもよい。
【００１９】そして、上記構成の一方部材および他方部
材を、たとえば２００〜２６０°の角度でツイストされ
たカイラルネマチック液晶からなる液晶１１を介してシ
ール部材１２により貼り合わせる。また、両部材間には
液晶１１の厚みを一定にするためにスペーサを多数個配
している。
材を、たとえば２００〜２６０°の角度でツイストされ
たカイラルネマチック液晶からなる液晶１１を介してシ
ール部材１２により貼り合わせる。また、両部材間には
液晶１１の厚みを一定にするためにスペーサを多数個配
している。
【００２０】さらにガラス基板６の外側にポリカーボネ
イトなどからなる第１位相差フィルム１３と第２位相差
フィルム１４とヨウ素系の偏光板１５とを順次形成す
る。これらの配設については、アクリル系の材料からな
る粘着材を塗布することで貼り付ける。
イトなどからなる第１位相差フィルム１３と第２位相差
フィルム１４とヨウ素系の偏光板１５とを順次形成す
る。これらの配設については、アクリル系の材料からな
る粘着材を塗布することで貼り付ける。
【００２１】上記構成の液晶表示装置１６においては、
太陽光、蛍光灯などの外部照明による入射光は偏光板１
５、第２位相差フィルム１４、第１位相差フィルム１３
を通して、さらにガラス基板６を通過し、カラーフィル
タ７、液晶１１を通して半透過膜４ａに到達し、半透過
膜４ａにて光反射され、その反射光が出射される。
太陽光、蛍光灯などの外部照明による入射光は偏光板１
５、第２位相差フィルム１４、第１位相差フィルム１３
を通して、さらにガラス基板６を通過し、カラーフィル
タ７、液晶１１を通して半透過膜４ａに到達し、半透過
膜４ａにて光反射され、その反射光が出射される。
【００２２】かくして、凸状配列群上に半透過膜４ａを
被覆したことで、従来の光散乱板を使用しなくなり、こ
れによって後方散乱が発生しなくなり、その結果、反射
型表示モードのＯＦＦ時の輝度が低減し、コントラスト
が向上した。
被覆したことで、従来の光散乱板を使用しなくなり、こ
れによって後方散乱が発生しなくなり、その結果、反射
型表示モードのＯＦＦ時の輝度が低減し、コントラスト
が向上した。
【００２３】なお、上記液晶表示装置１６は図１でもっ
て反射型表示モードを示しているが、一方の透過型表示
モードについては、ガラス基板２の外側にポリカーボネ
イトなどからなる位相差フィルム（図示せず）とヨウ素
系の偏光板（図示せず）とを順次形成し、さらにバック
ライトを配設すればよい。
て反射型表示モードを示しているが、一方の透過型表示
モードについては、ガラス基板２の外側にポリカーボネ
イトなどからなる位相差フィルム（図示せず）とヨウ素
系の偏光板（図示せず）とを順次形成し、さらにバック
ライトを配設すればよい。
【００２４】〔凸状配列群の形成方法〕ガラス基板２上
の凸状配列群は、図２に示すように（ａ）〜（ｇ）の各
工程を経て形成する。
の凸状配列群は、図２に示すように（ａ）〜（ｇ）の各
工程を経て形成する。
【００２５】（ａ）工程 アクリル系樹脂を主成分とし、溶媒としてジエチレング
リコールメチルエチルエーテルを使用した光感光性樹脂
（商品：ＰＣ３３９Ｈ・ＪＳＲ株式会社製）をスピンコ
ート塗布する。この樹脂の膜厚はスピンナ回転数により
制御でき、本例ではスピンナ回転数を１０００ｒｐｍに
して２μｍ程度の厚さのポジ型光感光性樹脂を塗布し
た。
リコールメチルエチルエーテルを使用した光感光性樹脂
（商品：ＰＣ３３９Ｈ・ＪＳＲ株式会社製）をスピンコ
ート塗布する。この樹脂の膜厚はスピンナ回転数により
制御でき、本例ではスピンナ回転数を１０００ｒｐｍに
して２μｍ程度の厚さのポジ型光感光性樹脂を塗布し
た。
【００２６】（ｂ）工程 上記のように塗布された基板を、たとえば９０℃の温度
で２分間、ホットプレートによりプリベークした。
で２分間、ホットプレートによりプリベークした。
【００２７】（ｃ）工程 つぎにフォトリソ用マスクを用いて露光をおこなう。こ
の露光は基板の法線方向にＵＶを用いて全面露光する。
の露光は基板の法線方向にＵＶを用いて全面露光する。
【００２８】このフォトリソ用マスクを図３または図４
に示す。フォトマスク１９はガラス基板２０上にＣｒ金
属や酸化鉄などからなる多数の円状スポット２１（たと
えば６μｍ径）をランダム状態に配置したものであり、
画像表示面が５．７インチサイズである場合、一表示面
に対応するガラス基板２０上には約５０００万個のスポ
ットが配置される。
に示す。フォトマスク１９はガラス基板２０上にＣｒ金
属や酸化鉄などからなる多数の円状スポット２１（たと
えば６μｍ径）をランダム状態に配置したものであり、
画像表示面が５．７インチサイズである場合、一表示面
に対応するガラス基板２０上には約５０００万個のスポ
ットが配置される。
【００２９】また、スポットは円状以外に、図４に示す
フォトマスク２２のように、たとえば四角形、五角形、
六角形、さらにそれ以上の多角形スポット２３であって
もよいが、見る方向によって散乱特性に違いが生じない
ように円形にするのがよい。そして、このスポット形状
とほぼ同一形状の凸部１７を形成される。
フォトマスク２２のように、たとえば四角形、五角形、
六角形、さらにそれ以上の多角形スポット２３であって
もよいが、見る方向によって散乱特性に違いが生じない
ように円形にするのがよい。そして、このスポット形状
とほぼ同一形状の凸部１７を形成される。
【００３０】（ｄ）工程 （ｃ）工程を経た後、現像をおこなう。現像液として
は、たとえばＪＳＲ株式会社製のＰＤ５２３ＡＤ（濃度
０．０５％）を使用する。そして、現像時間を変えるこ
とで現像の進行を加減することができるが、現像を適度
に止めることで、隣り合う各凸部間にて双方の端部が接
続され、連続的に繋がる。
は、たとえばＪＳＲ株式会社製のＰＤ５２３ＡＤ（濃度
０．０５％）を使用する。そして、現像時間を変えるこ
とで現像の進行を加減することができるが、現像を適度
に止めることで、隣り合う各凸部間にて双方の端部が接
続され、連続的に繋がる。
【００３１】図５および図６により現像の進行程度によ
る凸部の状態を示す。図５において、現像時間による凹
凸高低差を示し、横軸は現像時間（秒）であり、縦軸は
凹凸高低差（μｍ）であり、黒点は測定データである。
る凸部の状態を示す。図５において、現像時間による凹
凸高低差を示し、横軸は現像時間（秒）であり、縦軸は
凹凸高低差（μｍ）であり、黒点は測定データである。
【００３２】現像時間が約２５秒までは時間の増大する
にしたがって凹凸高低差が大きくなるが、現像時間が約
２５秒を超えると、ガラス基板２が露出され、現像によ
る深度が一定になることで凹凸高低差の変動が非常に小
さくなっている。
にしたがって凹凸高低差が大きくなるが、現像時間が約
２５秒を超えると、ガラス基板２が露出され、現像によ
る深度が一定になることで凹凸高低差の変動が非常に小
さくなっている。
【００３３】図６においては、測定データである黒点の
うち（ａ）と（ｂ）と（ｃ）について、それぞれのガラ
ス基板２上の凸状配列群の断面形状を示す。
うち（ａ）と（ｂ）と（ｃ）について、それぞれのガラ
ス基板２上の凸状配列群の断面形状を示す。
【００３４】たとえば、現像時間を２０秒にすればよい
が、この現像時間もレジスト塗布量、現像液濃度、プリ
ベーク条件等により適宜変えればよい。
が、この現像時間もレジスト塗布量、現像液濃度、プリ
ベーク条件等により適宜変えればよい。
【００３５】なお、（ｃ）工程の露光においては、ＵＶ
がフォトマスク１９、２２を通過することで干渉が生じ
ることで、これらマスクの直ぐ下の部分の樹脂もわずか
に光分解反応しているので、その後の現像工程（ｄ）に
より凸部の角部が丸くなる。
がフォトマスク１９、２２を通過することで干渉が生じ
ることで、これらマスクの直ぐ下の部分の樹脂もわずか
に光分解反応しているので、その後の現像工程（ｄ）に
より凸部の角部が丸くなる。
【００３６】（ｅ）工程 この加熱処理でもって、たとえば低温（１３０℃、２
分）にて表面形状が大きく変化しない程度に熱溶融させ
る。
分）にて表面形状が大きく変化しない程度に熱溶融させ
る。
【００３７】（ｆ）工程 つぎのポストべークでもって、たとえば高温（２００
℃、３０分）にて全体を硬化させる。
℃、３０分）にて全体を硬化させる。
【００３８】このように（ｅ）工程によって若干溶解さ
せて表面形状をなめらかにして、凹凸形状に対し微調整
をおこない、ついで（ｆ）工程により硬化させる。
せて表面形状をなめらかにして、凹凸形状に対し微調整
をおこない、ついで（ｆ）工程により硬化させる。
【００３９】（ｇ）工程 最後に凸状配列群上にスパッタリングや蒸着法でもって
クロムやアルミニウム、銀などの金属からなる半透過膜
４ａを、たとえば膜厚２５０Åで被覆する。まず、膜厚
２５０Åにて面状に金属膜をスパッタリンングし、その
後、フォトレジストでもってストライプ状にパターニン
グすることで電極構造となす。
クロムやアルミニウム、銀などの金属からなる半透過膜
４ａを、たとえば膜厚２５０Åで被覆する。まず、膜厚
２５０Åにて面状に金属膜をスパッタリンングし、その
後、フォトレジストでもってストライプ状にパターニン
グすることで電極構造となす。
【００４０】以上の各工程（ａ）〜（ｇ）を経て得られ
た半透過膜４ａが被覆された凸状配列群に対し、その表
面性状をスキャニングしたり、写真撮影をおこなった。
た半透過膜４ａが被覆された凸状配列群に対し、その表
面性状をスキャニングしたり、写真撮影をおこなった。
【００４１】図７はキーエンス製表面形状測定顕微鏡を
用いて、その形状をスキャニングしたものであって、横
軸（Ｘ）はスキャニング方向であり、縦軸（Ｚ）は高さ
を示し、各単位はμｍである。また、図８は光学式顕微
鏡（オリンパス製ＢＨ３ＭＪＬ）を用いて５００倍にて
写真撮影した撮影図である。
用いて、その形状をスキャニングしたものであって、横
軸（Ｘ）はスキャニング方向であり、縦軸（Ｚ）は高さ
を示し、各単位はμｍである。また、図８は光学式顕微
鏡（オリンパス製ＢＨ３ＭＪＬ）を用いて５００倍にて
写真撮影した撮影図である。
【００４２】これらの図から明らかなとおり、熱溶融に
より凸部が滑らかな形状になり、さらに隣り合う各凸部
が接続されている。
より凸部が滑らかな形状になり、さらに隣り合う各凸部
が接続されている。
【００４３】そして、半透過型液晶表示装置１６におい
ては、凸状配列群の隣り合う各凸部１７を接続させるの
がよく、これによって各凸部１７の間に平坦部が存在し
なくなって、凸状配列群の平坦度が低下し、正反射成分
が減少し、光散乱性が改善され、その結果、視野角が広
くなった。なお、写真にて確認した限りでは、凸状配列
群における隣り合う各凸部１７がほぼ全面的に接続され
ているが、部分的にわずかに非接続部分があっても光散
乱性に影響がない。
ては、凸状配列群の隣り合う各凸部１７を接続させるの
がよく、これによって各凸部１７の間に平坦部が存在し
なくなって、凸状配列群の平坦度が低下し、正反射成分
が減少し、光散乱性が改善され、その結果、視野角が広
くなった。なお、写真にて確認した限りでは、凸状配列
群における隣り合う各凸部１７がほぼ全面的に接続され
ているが、部分的にわずかに非接続部分があっても光散
乱性に影響がない。
【００４４】また、凸状配列群を形成するに当たり、
（ｅ）工程の加熱処理（表面形状が大きく変化しない程
度の熱溶融工程）を除外して、その他の各工程（ａ）〜
（ｄ）、（ｆ）、（ｇ）でもって形成してもよい。
（ｅ）工程の加熱処理（表面形状が大きく変化しない程
度の熱溶融工程）を除外して、その他の各工程（ａ）〜
（ｄ）、（ｆ）、（ｇ）でもって形成してもよい。
【００４５】このように（ｅ）工程が除かれた形成方法
によって半透過膜４ａが被覆された凸状配列群を設け、
そして、その表面性状をスキャニングしたところ、図９
に示すような結果が得られた。熱溶融しない場合には、
凸部形状は上面に若干平坦部が存在するが、上記のよう
に凸状配列群の平坦度は低下し、同様に正反射成分が減
少し、これによって光散乱性が改善され、視野角が広く
なった。
によって半透過膜４ａが被覆された凸状配列群を設け、
そして、その表面性状をスキャニングしたところ、図９
に示すような結果が得られた。熱溶融しない場合には、
凸部形状は上面に若干平坦部が存在するが、上記のよう
に凸状配列群の平坦度は低下し、同様に正反射成分が減
少し、これによって光散乱性が改善され、視野角が広く
なった。
【００４６】他の半透過型液晶表示装置 つぎに他の半透過型液晶表示装置を説明する。図１０に
示すカラー表示用の半透過型液晶表示装置２５において
は、２６はコモン側のガラス基板（０．７ｍｍ厚）、２
７はセグメント側のガラス基板（０．７ｍｍ厚）であっ
て、前記一方部材については、ガラス基板２６の一方主
面上に透明樹脂からなるほぼ半球状の凸部１７を多数配
列することで、前記液晶表示装置１６と同じようなラン
ダム性の凸状配列群を形成し、この凸状配列群上にクロ
ムやアルミニウム、銀などの金属からなる半透過膜４ａ
（膜厚２５０Å）を被覆している。そして、凸状配列群
上に画素ごとに配したカラーフィルタ７を形成してい
る。さらにアクリル系樹脂からなるオーバーコート層８
と、多数平行に配列したＩＴＯからなる透明電極２８と
を形成している。この透明電極２８上に一定方向にラビ
ングしたポリイミド樹脂からなる配向膜２９を形成して
いる。
示すカラー表示用の半透過型液晶表示装置２５において
は、２６はコモン側のガラス基板（０．７ｍｍ厚）、２
７はセグメント側のガラス基板（０．７ｍｍ厚）であっ
て、前記一方部材については、ガラス基板２６の一方主
面上に透明樹脂からなるほぼ半球状の凸部１７を多数配
列することで、前記液晶表示装置１６と同じようなラン
ダム性の凸状配列群を形成し、この凸状配列群上にクロ
ムやアルミニウム、銀などの金属からなる半透過膜４ａ
（膜厚２５０Å）を被覆している。そして、凸状配列群
上に画素ごとに配したカラーフィルタ７を形成してい
る。さらにアクリル系樹脂からなるオーバーコート層８
と、多数平行に配列したＩＴＯからなる透明電極２８と
を形成している。この透明電極２８上に一定方向にラビ
ングしたポリイミド樹脂からなる配向膜２９を形成して
いる。
【００４７】なお、配向膜２９は透明電極２８上に直に
成膜形成しているが、配向膜２９と透明電極２８との間
に樹脂やＳｉＯ2 などからなる絶縁膜を介在させてもよ
く、しかも、オーバーコート層８は設けなくてもよい。
さらに凸状配列群上に樹脂やＳｉＯ2 からなる平滑膜を
形成し、この平滑膜上に画素ごとに配したカラーフィル
タ７を形成してもよい。
成膜形成しているが、配向膜２９と透明電極２８との間
に樹脂やＳｉＯ2 などからなる絶縁膜を介在させてもよ
く、しかも、オーバーコート層８は設けなくてもよい。
さらに凸状配列群上に樹脂やＳｉＯ2 からなる平滑膜を
形成し、この平滑膜上に画素ごとに配したカラーフィル
タ７を形成してもよい。
【００４８】他方部材については、ガラス基板２７上に
多数平行に配列したＩＴＯからなる透明電極３０と、一
定方向にラビングしたポリイミド樹脂からなる配向膜３
１とを順次形成している。透明電極３０と配向膜３１と
の間に樹脂やＳｉＯ2 からなる絶縁層を介在させてもよ
い。
多数平行に配列したＩＴＯからなる透明電極３０と、一
定方向にラビングしたポリイミド樹脂からなる配向膜３
１とを順次形成している。透明電極３０と配向膜３１と
の間に樹脂やＳｉＯ2 からなる絶縁層を介在させてもよ
い。
【００４９】そして、上記構成の一方部材および他方部
材を液晶１１を介してシール部材１２により貼り合わせ
る。さらにガラス基板２７の外側にポリカーボネイトな
どからなる第１位相差フィルム１３と第２位相差フィル
ム１４とヨウ素系の偏光板１５とを順次形成する。
材を液晶１１を介してシール部材１２により貼り合わせ
る。さらにガラス基板２７の外側にポリカーボネイトな
どからなる第１位相差フィルム１３と第２位相差フィル
ム１４とヨウ素系の偏光板１５とを順次形成する。
【００５０】上記構成の液晶表示装置２５においては、
太陽光、蛍光灯などの外部照明による入射光は偏光板１
５、第２位相差フィルム１４、第１位相差フィルム１３
およびガラス基板２７を通過し、液晶１１、カラーフィ
ルタ７などを通して半透過膜４ａに到達し、半透過膜４
ａにて光反射され、その反射光が出射される。
太陽光、蛍光灯などの外部照明による入射光は偏光板１
５、第２位相差フィルム１４、第１位相差フィルム１３
およびガラス基板２７を通過し、液晶１１、カラーフィ
ルタ７などを通して半透過膜４ａに到達し、半透過膜４
ａにて光反射され、その反射光が出射される。
【００５１】かくして本発明の液晶表示装置２５におい
ても、光散乱板を使用しないことで、従来のような後方
散乱という課題が解消され、その結果、反射型表示モー
ドのＯＦＦ時の明るさが低減し、コントラストが向上し
た。
ても、光散乱板を使用しないことで、従来のような後方
散乱という課題が解消され、その結果、反射型表示モー
ドのＯＦＦ時の明るさが低減し、コントラストが向上し
た。
【００５２】この液晶表示装置２５についてはガラス基
板２６の外側にポリカーボネイトなどからなる位相差フ
ィルム（図示せず）とヨウ素系の偏光板（図示せず）と
を順次形成し、さらにバックライトを配設することで、
透過型表示モードになる。
板２６の外側にポリカーボネイトなどからなる位相差フ
ィルム（図示せず）とヨウ素系の偏光板（図示せず）と
を順次形成し、さらにバックライトを配設することで、
透過型表示モードになる。
【００５３】また、液晶表示装置２５については、ガラ
ス基板２６上に凸部１７を多数配列してランダム性の凸
状配列群を形成し、この凸状配列群上に半透過膜４ａを
被覆した構成であるが、これに代えてガラス基板２７上
に凸部を多数配列した凸状配列群を形成し、この凸状配
列群上に半透過膜を被覆し、そして、樹脂やＳｉＯ2な
どからなる平滑膜を形成し、その上に多数平行に配列し
たＩＴＯからなる透明電極３０と、一定方向にラビング
したポリイミド樹脂からなる配向膜３１とを順次形成
し、そして、ガラス基板２６の外面に第１位相差フィル
ム１３と第２位相差フィルム１４と偏光板１５を配設
し、ガラス基板２６側より光入射するように構成した半
透過型液晶表示装置となしてもよい。
ス基板２６上に凸部１７を多数配列してランダム性の凸
状配列群を形成し、この凸状配列群上に半透過膜４ａを
被覆した構成であるが、これに代えてガラス基板２７上
に凸部を多数配列した凸状配列群を形成し、この凸状配
列群上に半透過膜を被覆し、そして、樹脂やＳｉＯ2な
どからなる平滑膜を形成し、その上に多数平行に配列し
たＩＴＯからなる透明電極３０と、一定方向にラビング
したポリイミド樹脂からなる配向膜３１とを順次形成
し、そして、ガラス基板２６の外面に第１位相差フィル
ム１３と第２位相差フィルム１４と偏光板１５を配設
し、ガラス基板２６側より光入射するように構成した半
透過型液晶表示装置となしてもよい。
【００５４】半透過膜４ａについて 半透過膜４ａは光透過性と光反射性の双方の特性を具備
しており、しかも、２枚の偏光板の間に挟んだ時に位相
差を生じないようにする。
しており、しかも、２枚の偏光板の間に挟んだ時に位相
差を生じないようにする。
【００５５】半透過膜４ａは前述したようなクロムやア
ルミニウム、銀などの金属からなる薄膜にするが、膜厚
が大きくなると、光透過性が小さくなり、光反射性が大
きくなる。かかる金属薄膜の厚みは、金属の種類により
光の吸収係数が異なり、しかも、反射型および透過型と
いう双方の用途にうち、いずれの用途に対し性能の向上
を求めるかによっても規定されるが、通常、５０〜５０
０Å、好適には１００〜４００Åにするとよい。これに
よって、反射率３０〜６５％、透過率１５〜５０％とい
う半透過型液晶表示装置としての特性が得られる。
ルミニウム、銀などの金属からなる薄膜にするが、膜厚
が大きくなると、光透過性が小さくなり、光反射性が大
きくなる。かかる金属薄膜の厚みは、金属の種類により
光の吸収係数が異なり、しかも、反射型および透過型と
いう双方の用途にうち、いずれの用途に対し性能の向上
を求めるかによっても規定されるが、通常、５０〜５０
０Å、好適には１００〜４００Åにするとよい。これに
よって、反射率３０〜６５％、透過率１５〜５０％とい
う半透過型液晶表示装置としての特性が得られる。
【００５６】たとえば、半透過膜４ａを膜厚２５０Åの
膜厚でもってアルミニウム金属薄膜により形成した場合
には、反射率が６５％、透過率が１５％となる。
膜厚でもってアルミニウム金属薄膜により形成した場合
には、反射率が６５％、透過率が１５％となる。
【００５７】上記半透過膜４ａについては、金属薄膜に
代えて、誘電体ハーフミラーにより形成してもよい。す
なわち、凸状配列群の上に低屈折率層と高屈折率層とを
交互に順次積層した積層構造にしてもよく、これによっ
て液晶１１を通して入射した光の一部は高屈折率層にて
反射され、それ他の高屈折率層を透過した光は低屈折率
層にて反射され、そして、これら反射光が干渉され、反
射性能が著しく高められ、いわゆる増反射が生じる。さ
らに上記の金属薄膜にて生じたような光吸収（アルミニ
ウム金属材であれば、可視光の領域にて２０％程度吸収
される）がほとんどなくなり、これにより、反射性能お
よび透過性能ともに高めることができ、反射率３０〜８
０％、透過率２０〜７０％という半透過型液晶表示装置
としての特性が得られる。
代えて、誘電体ハーフミラーにより形成してもよい。す
なわち、凸状配列群の上に低屈折率層と高屈折率層とを
交互に順次積層した積層構造にしてもよく、これによっ
て液晶１１を通して入射した光の一部は高屈折率層にて
反射され、それ他の高屈折率層を透過した光は低屈折率
層にて反射され、そして、これら反射光が干渉され、反
射性能が著しく高められ、いわゆる増反射が生じる。さ
らに上記の金属薄膜にて生じたような光吸収（アルミニ
ウム金属材であれば、可視光の領域にて２０％程度吸収
される）がほとんどなくなり、これにより、反射性能お
よび透過性能ともに高めることができ、反射率３０〜８
０％、透過率２０〜７０％という半透過型液晶表示装置
としての特性が得られる。
【００５８】上記のような高屈折率層と低屈折率層とは
その間にて屈折率差があれば、どのように材料でもって
構成してもよいが、たとえば高屈折率層の屈折率の範囲
は２．０〜２．８がよく、ＴｉＯ2 、ＺｒＯ2 、ＳｎＯ
2 などで構成するとよい。これに対する低屈折率層の屈
折率の範囲は１．３〜１．６がよく、たとえばＳｉ
Ｏ2 、ＡｌＦ3 、ＣａＦ2 、ＭｇＦ2 などで構成すると
よい。
その間にて屈折率差があれば、どのように材料でもって
構成してもよいが、たとえば高屈折率層の屈折率の範囲
は２．０〜２．８がよく、ＴｉＯ2 、ＺｒＯ2 、ＳｎＯ
2 などで構成するとよい。これに対する低屈折率層の屈
折率の範囲は１．３〜１．６がよく、たとえばＳｉ
Ｏ2 、ＡｌＦ3 、ＣａＦ2 、ＭｇＦ2 などで構成すると
よい。
【００５９】高屈折率層の厚み範囲は２５〜２０００
Å、低屈折率層の厚み範囲は２５〜２０００Åにするこ
とで、前述した増反射がもっとも顕著になる。さらに半
透過膜４ａの厚み範囲を５０〜１２０００Åにすること
で、この増反射が顕著になる。
Å、低屈折率層の厚み範囲は２５〜２０００Åにするこ
とで、前述した増反射がもっとも顕著になる。さらに半
透過膜４ａの厚み範囲を５０〜１２０００Åにすること
で、この増反射が顕著になる。
【００６０】また、半透過膜４ａは低屈折率層と高屈折
率層とを交互に順次積層した積層構造にしたことで、各
層の総数は２層、４層、６層、８層、１０層あるいはそ
れ以上の層数にて構成する。
率層とを交互に順次積層した積層構造にしたことで、各
層の総数は２層、４層、６層、８層、１０層あるいはそ
れ以上の層数にて構成する。
【００６１】さらにまた、このような積層構造の場合に
は、積層数を変えることで、反射率や透過率を所要とお
りに設定することができ、その設計が容易になること
で、製造歩留りが向上し、生産コストが低減できた。
は、積層数を変えることで、反射率や透過率を所要とお
りに設定することができ、その設計が容易になること
で、製造歩留りが向上し、生産コストが低減できた。
【００６２】たとえば、凸状配列群の上にＳｉＯ2 から
なる低屈折率層（膜厚：９４０Å）とＴｉＯ2 からなる
高屈折率層（膜厚：６３０Å）とを交互に順次積層した
積層し、その総数を８層にした積層構造の場合には、反
射率が７５％、透過率が２５％となる。
なる低屈折率層（膜厚：９４０Å）とＴｉＯ2 からなる
高屈折率層（膜厚：６３０Å）とを交互に順次積層した
積層し、その総数を８層にした積層構造の場合には、反
射率が７５％、透過率が２５％となる。
【００６３】
【実施例】つぎに各液晶表示装置１６、２５ならびに従
来例として特開平８−２０１８０２号にて提示されたも
のをＳＴＮ方式の機能分離型とした液晶表示装置につい
て、それぞれ反射モードにおける輝度とコントラストを
評価したところ、表１に示すような結果が得られた。
来例として特開平８−２０１８０２号にて提示されたも
のをＳＴＮ方式の機能分離型とした液晶表示装置につい
て、それぞれ反射モードにおける輝度とコントラストを
評価したところ、表１に示すような結果が得られた。
【００６４】さらに透過モードにおける輝度とコントラ
ストを評価したところ、表２に示すような結果が得られ
た。
ストを評価したところ、表２に示すような結果が得られ
た。
【００６５】
【表１】
【００６６】
【表２】
【００６７】輝度は装置に対する光入射方向を−３０°
（法線方向を０°として）に設定し、その反射光および
透過光を受光することで輝度を測定するが、受光方向を
法線方向に規定した。
（法線方向を０°として）に設定し、その反射光および
透過光を受光することで輝度を測定するが、受光方向を
法線方向に規定した。
【００６８】この輝度は標準白色板基準を用いて数値化
した。すなわち、標準白色板とはＪＩＳ規格においてＭ
ｇＯに光を当て、その反射率を１００％としているの
で、本発明における輝度とは、標準白色板（ＭｇＯ）の
反射光との相対値でもって表す。そして、コントラスト
は液晶パネルの〔ＯＮ時の明るさ／ＯＦＦ時の明るさ〕
である。
した。すなわち、標準白色板とはＪＩＳ規格においてＭ
ｇＯに光を当て、その反射率を１００％としているの
で、本発明における輝度とは、標準白色板（ＭｇＯ）の
反射光との相対値でもって表す。そして、コントラスト
は液晶パネルの〔ＯＮ時の明るさ／ＯＦＦ時の明るさ〕
である。
【００６９】表から明らかなとおり、反射型モードにお
いて、ＯＮ時にて輝度が顕著に大きくなり、ＯＦＦ時に
おいては輝度が著しく小さくなり、これによってコント
ラストが大きくなっている。透過型モードについては、
従来例との間にほとんど性能差がないことがわかる。
いて、ＯＮ時にて輝度が顕著に大きくなり、ＯＦＦ時に
おいては輝度が著しく小さくなり、これによってコント
ラストが大きくなっている。透過型モードについては、
従来例との間にほとんど性能差がないことがわかる。
【００７０】なお、本発明は上記実施形態例に限定され
るものでなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲内で種々
の変更や改善などは何ら差し支えない。
るものでなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲内で種々
の変更や改善などは何ら差し支えない。
【００７１】たとえば、上記の実施形態においては、Ｓ
ＴＮ型単純マトリックスタイプのカラー液晶表示装置で
もって説明しているが、その他にモノクロのＳＴＮ型単
純マトリックスタイプの液晶表示装置であっても、ある
いはＴＮ型単純マトリックスタイプの液晶表示装置やＴ
Ｎ型アクティブマトリックスタイプなどのツイストネマ
チック型液晶表示装置であっても、さらに双安定型の液
晶表示装置でも同様な作用効果が得られる。
ＴＮ型単純マトリックスタイプのカラー液晶表示装置で
もって説明しているが、その他にモノクロのＳＴＮ型単
純マトリックスタイプの液晶表示装置であっても、ある
いはＴＮ型単純マトリックスタイプの液晶表示装置やＴ
Ｎ型アクティブマトリックスタイプなどのツイストネマ
チック型液晶表示装置であっても、さらに双安定型の液
晶表示装置でも同様な作用効果が得られる。
【００７２】
【発明の効果】以上のとおり、本発明の半透過型液晶表
示装置においては、基板上に多数の透明樹脂製凸部をラ
ンダムに並べた凸状配列群を形成し、この凸状配列群上
にストライプ状光半透過性電極群を被覆したり、あるい
は基板上に多数の透明樹脂製凸部をランダムに並べた凸
状配列群を形成し、この凸状配列群上に光半透過膜を被
覆したことで、光散乱板を取り除くことができ、これに
よって従来の後方散乱が解消され、反射型表示モードの
ＯＦＦ時の明るさが低減し、その結果、コントラストが
向上した高性能な半透過型液晶表示装置が提供できた。
示装置においては、基板上に多数の透明樹脂製凸部をラ
ンダムに並べた凸状配列群を形成し、この凸状配列群上
にストライプ状光半透過性電極群を被覆したり、あるい
は基板上に多数の透明樹脂製凸部をランダムに並べた凸
状配列群を形成し、この凸状配列群上に光半透過膜を被
覆したことで、光散乱板を取り除くことができ、これに
よって従来の後方散乱が解消され、反射型表示モードの
ＯＦＦ時の明るさが低減し、その結果、コントラストが
向上した高性能な半透過型液晶表示装置が提供できた。
【図１】本発明の半透過型液晶表示装置の断面概略図で
ある。
ある。
【図２】本発明の半透過型液晶表示装置に係る凸状配列
群の形成工程図である。
群の形成工程図である。
【図３】凸状配列群を形成するためのフォトマスクの平
面図である。
面図である。
【図４】凸状配列群を形成するための他のフォトマスク
の平面図である。
の平面図である。
【図５】凸状配列群を形成する際の現像時間と凸状配列
群の凹凸高低差との関係を示す線図である。
群の凹凸高低差との関係を示す線図である。
【図６】凸状配列群を形成する際の現像時間の違いによ
る光感光性樹脂層の形状変化を示す図である。
る光感光性樹脂層の形状変化を示す図である。
【図７】凸状配列群の拡大図である。
【図８】凸状配列群の写真図である。
【図９】他の凸状配列群の拡大図である。
【図１０】本発明の他の半透過型液晶表示装置の断面概
略図である。
略図である。
【図１１】従来の半透過型液晶表示装置の断面概略図で
ある。
ある。
１、１６、２５ 液晶表示装置 ２、６ ガラス基板 ３、１７ 凸部 ４ａ 半透過膜 ５ 配向膜 ７ カラーフィルタ ９ 透明電極 １０ 配向膜 １１ 液晶 １３ 第１位相差フィルム １４ 第２位相差フィルム １５ 偏光板 １８ 電極
フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) G02F 1/1343 G02F 1/1335 520 G02F 1/136
Claims (2)
- 【請求項１】基板の一方主面上に多数の透明樹脂製凸部
を隣り合う各凸部が接続されるようランダムに並べた凸
状配列群を形成し、該凸状配列群上にストライプ状光半
透過性電極群を被覆し、このストライプ状光半透過性電
極群上に配向層を積層してなる一方部材と、透明基板上
にストライプ状透明電極群と配向層とを順次積層してな
る他方部材とを、これらストライプ状光半透過性電極群
とストライプ状透明電極群とが交差するようにネマチッ
ク型液晶を介して貼り合わせて、マトリックス状に画素
を配列せしめるとともに、前記一方部材と他方部材の各
外面に、それぞれ位相差板と偏光板とを配設し、さらに
一方部材の外側にバックライトを配した半透過型液晶表
示装置。 - 【請求項２】基板の一方主面上に多数の透明樹脂製凸部
を隣り合う各凸部が接続されるようランダムに並べた凸
状配列群を形成し、該凸状配列群上に光半透過膜を被覆
し、この光半透過膜上に透明電極と配向層とを積層して
なる一方部材と、透明基板上に透明電極と配向層とを順
次積層してなる他方部材との間にネマチック型液晶を介
在させてマトリックス状に画素を配列せしめるととも
に、前記一方部材と他方部材の各外面に、それぞれ位相
差板と偏光板とを配設し、さらに一方部材の外側にバッ
クライトを配した半透過型液晶表示装置。
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