JP2004258415A - 液晶表示装置 - Google Patents

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JP2004258415A JP2003050025A JP2003050025A JP2004258415A JP 2004258415 A JP2004258415 A JP 2004258415A JP 2003050025 A JP2003050025 A JP 2003050025A JP 2003050025 A JP2003050025 A JP 2003050025A JP 2004258415 A JP2004258415 A JP 2004258415A
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宏美 福岡
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Abstract

【課題】配向膜のラビング時に生じるラビング布の接触不十分や、それに伴う乱れなどによる表示異常が発生しなくする。
【解決手段】ガラス基板2上にストライプ状透明電極群3およびCr膜4とAl膜5との積層からなるストライプ状光反射性金属層を被着し、さらにストライプ状光反射性金属層に対し画素間および光透過部をパターニングして取り除く。そして、これらストライプ状の透明電極群3と光反射性金属層の上に配向膜6を形成する。ガラス基板1上にはカラーフィルター7とオーバーコート層8とストライプ状透明電極群9とを順次形成し、さらにストライプ状透明電極群9上に配向膜10を形成し、液晶層11を介して貼り合わせる。光反射性金属層に対しスリット形状の光透過部を設けたことで、この光透過部にて透過モードとなし、光透過部以外の領域にて反射モードとなす。そして、光反射性金属層に設けるスリットはラビング方向に実質上平行となるように配置する。
【選択図】図1

Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は反射型(反射モード)と透過型(透過モード)の双方の機能を有する液晶表示装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
近年、液晶表示装置は小型もしくは中型の携帯情報端末やノートパソコンの他に、大型かつ高精細のモニターにまで使用されている。とくに携帯情報端末などのように屋外・屋内両方にわたって使用される機器においては、外光が十分強い環境では表示装置の照明手段として積極的に外光を利用し、外光が弱い環境ではバックライトを使用するという半透過型の表示装置が主流として用いられている。
【0003】
従来の半透過型液晶表示装置を図2に示す。同図は半透過型液晶表示装置Aの断面模式図である。
【0004】
液晶表示装置Aによれば、1はコモン側のガラス基板、2はセグメント側のガラス基板であって、ガラス基板2上に多数平行に配列したITOからなるストライプ状透明電極群18と、一定方向にラビングしたポリイミド樹脂からなる配向膜19とを順次形成している。
【0005】
また、ガラス基板1上にスパッタリングによりアルミニウム金属からなる光半透過層20を形成し、光半透過層20上にカラーフィルター21とアクリル系樹脂からなるオーバーコート層22と、多数平行に配列したITOからなるストライプ状透明電極群23とを形成し、さらにストライプ状透明電極群23上に一定方向にラビングしたポリイミド樹脂からなる配向膜24を形成している。
【0006】
そして、これらガラス基板2とガラス基板1とをたとえば200〜260°の角度でツイストされたカイラルネマチック液晶からなる液晶層25を介して、双方のストライプ状透明電極群18、23が交差(直交)するように、シール部材(図示せず)により貼り合わせる。また、図示していないが、両ガラス基板1、2間には液晶層25の厚みを一定にするためにスペーサを多数個配している。
【0007】
さらにガラス基板2の外側に光散乱材11、ポリカーボネートからなる第1位相差板12、第2位相差板13およびヨウ素系の偏光板14とを順次積み重ね、他方のガラス基板1の外側にもポリカーボネートからなる第3位相差板15およびヨウ素系の偏光板16とを順次積み重ねている。これらの配設にあたっては、アクリル系の材料からなる粘着材を塗布することで貼り付ける。
【0008】
上記構成の液晶表示装置Aにおいては、太陽光、蛍光灯などの外部照明による照射光は偏光板14と第2位相差板13、第1位相差板12、光散乱材11、ガラス基板2とを順次通過し、この入射光がストライプ状透明電極群18と配向膜19と液晶層25、さらに配向膜24とストライプ状透明電極群23とオーバーコート層22とカラーフィルター21を通して光半透過層20に到達し、そして、光反射され、その反射光が入射時と逆の過程を経て光出射される。また、バックライトの光は偏光板16、第3位相差板15、ガラス基板1、光半透過層20、カラーフィルター21等を順次通過し、光出射される。
【0009】
このような構成の液晶表示装置Aにおいては、光半透過層20としてアルミニウム、クロム、銀などからなる薄膜あるいはアルミニウム合金、クロム合金、銀合金からなる薄膜を用い、その厚みを通常50〜500Å、好適には100〜400Åにすることによって反射型(反射モード)と透過型(透過モード)の双方の機能を持たせている。
【0010】
あるいは金属薄膜に代えて誘電体ハーフミラーにより光半透過層20を形成してもよい。すなわち、低屈折率層と高屈折率層とを交互に順次積層構造にし、低屈折率層としては、屈折率が1.3〜1.6のSiO、AlF、CaF、MgFなど、高屈折率層としては、屈折率が2.0〜2.8のTiO、ZrO、SrOなどで形成する構造である。
【0011】
また、カラーフィルター21については、R(赤)G(青)B(緑)により形成するが、かかる光半透過層20においては、これらRGBに対し、各一画素内にて均質かつ一様な半透過層でもって形成している。
【0012】
しかしながら、上述した如く、従来の半透過型液晶表示装置Aによれば、RGB各一画素内で均質な光半透過層20を形成し、カラーフィルター21についてもRGB各一画素内で均一な厚みで形成したことで、次のような課題があった。
【0013】
すなわち、光半透過層20をある反射率、透過率の割合で形成し、反射時と透過時の明るさ・色再現性をカラーフィルター21によって調整しようとすると、たとえば反射時の明るさを上げるためにカラーフィルター21の厚さを薄くする、あるいは透過率の高いカラーフィルター21を用いる場合には、透過時の色再現性が低くなっていた。また、透過時の色再現性を良くするために色の濃いカラーフィルター21を用いると、反射時の明るさが低下していた。
【0014】
このように反射時の特性と透過時の特性とは相反しており、実際には反射時の特性あるいは透過時の特性のいずれか一方を優先したり、双方の特性のバランスをとったりすることで妥協しなければならなかった。
【0015】
参考までに、反射膜に光透過用ホールを設ける技術がアクティブ素子に用いることが提案されているが(特許文献1参照)、同提案によれば、光透過用ホールでもって反射膜の透過率による明るさの低下がなくなり、さらに反射膜の透過率を気にせずに反射率を大きくするという技術である。
【0016】
また、本発明に関係する液晶表示装置として、特許文献2においても同様に反射膜に光透過用ホールを設ける技術が開示されている。
【0017】
【特許文献1】
特許2878231号公報
【特許文献2】
特開2002−341366号公報
【0018】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、これらの技術においては、画素内の透過用のスリットが画素を形成している金属の反射膜の中に形成された構成であることで、金属とスリット形成位置で、段差が生じ、配向処理として行われるラビング工程において、物理的な接触が不十分となり、これにより、液晶層を制御する配向規制力が低下し、表示異常を発生しやすくなっていた。
【0019】
【課題を解決するための手段】
本発明の液晶表示装置は、基板上に透明導電層と光反射性金属層との積層体をストライプ状に配列してなるストライプ状積層電極群を形成し、このストライプ状積層電極群上に配向層を積層してなる一方部材と、透明基板上にストライプ状透明電極群と配向層とを順次積層してなる他方部材とを、これらストライプ状積層電極群とストライプ状透明電極群とが交差するようネマチック液晶を介して貼り合わせて画素をマトリクス状に配列せしめるとともに、上記光反射性金属層に対し画素ごとに光透過部を設けて、この光透過部にて透過モードとなし、光透過部以外の領域にて反射モードとなすとともに、この光透過部を一方部材に形成した配向層に対するラビング方向と実質上平行にしたスリットにし、さらに他方部材に対し画素に対応するカラーフィルターを配したことを特徴とする。
【0020】
【発明の実施の形態】
本発明を図面により説明する。
図1は本発明の半透過型液晶表示装置Cの断面模式図である。
【0021】
液晶表示装置Cによれば、1はコモン側のガラス基板、2はセグメント側のガラス基板であって、ガラス基板2上に多数平行に配列したITOからなる前記透明導電層であるストライプ状透明電極群3を形成し、この透明電極群3上にCr膜4とAl膜5との積層からなるストライプ状光反射性金属層を被着する。
【0022】
このストライプ状光反射性金属層は、図4に示す如く、スパッタリングにより一様に成膜したCr膜4、Al膜5をフォトリソグラフィ工程によって、画素間および光透過部をパターニングして取り除くことにより得られる。
【0023】
同図によれば、セグメント側ガラス基板2(0.5mm厚)(同図にてGlassと表示する)上に多数平行に配列したITOからなるストライプ状透明電極群(セグメント電極)をフォトリソグラフィによって形成する。この工程は、従来周知のとおりであり、同図にて「レジスト塗布」、「露光、現像」、「ITOエッチング」、「レジスト剥離」として示す。
【0024】
ついでスパッタリングによりCr膜(350Å)、Al膜(1000Å)を一様に成膜し、フォトリソグラフィによって画素間および光透過部を同時にパターニングして取り除くことで、光透過部を設けた光反射性金属層とした。これらの工程は図4に示すとおり、「Cr、Al成膜」、「レジスト塗布」、「露光、現像」、「Al,Crエッチング」、「レジスト剥離」として示す。
【0025】
なお、Cr膜4はITO層とAl膜との接着性を高めるために介在させる。
【0026】
上記の如く光透過部を設けた光反射性金属層については、Cr層とAl層との積層構造を設けたが、この積層構造に代えて、AlNdなどのAl合金、Ag金属およびAg合金等の金属膜を使用しても良い。
【0027】
以上のように、ストライプ状光反射性金属層に対しフォトリソグラフィ工程によって、スリット状の光透過部をパターニングする。
【0028】
また、上記のような構成の光反射性金属層によれば、ITOからなるストライプ状透明電極群3上にCr膜4とAl膜5との積層からなるストライプ状光反射性金属層を被着し、さらに光透過部はその金属層を取り除くことで形成したことで、光透過部の形成部位には透明電極層が存在している。したがって、ストライプ状透明電極群3とCr膜4・Al膜5のストライプ状光反射性金属層との組み合わせ全体でもって電極機能を果たす。
【0029】
そして、これらストライプ状の透明電極群3と光反射性金属層の上に一定方向にラビングしたポリイミド樹脂からなる配向膜6を形成している。
【0030】
一方、ガラス基板1の上にはカラーフィルター7とアクリル系樹脂からなるオーバーコート層8と多数平行に配列したITOからなるストライプ状透明電極群9とを順次形成し、さらにストライプ状透明電極群9上に一定方向にラビングしたポリイミド樹脂からなる配向膜10を形成している。
【0031】
ついで、これらガラス基板2とガラス基板1とを、たとえば200〜260°の角度でツイストされたカイラルネマチック液晶からなる液晶層11を介して、双方のストライプ状透明電極群3、9が交差(直交)するように、シール部材(図示せず)により貼り合わせる。また、図示していないが、両ガラス基板1、2間には液晶層11の厚みを一定にするためにスペーサを多数個配している。
【0032】
さらにガラス基板1の外側に光散乱材12、ポリカーボネートからなる第1位相差板13、第2位相差板14、ヨウ素系の偏光板15とを順次積み重ね、ガラス基板2の外側にポリカーボネートからなる第3位相差板16、ヨウ素系の偏光板17とを順次積み重ねている。これらの配設にあたっては、アクリル系の材料からなる粘着材を塗布することで貼り付ける。
【0033】
かくして本発明の液晶表示装置Cによれば、光反射性金属層に対しスリット形状の光透過部を設けたことで、この光透過部にて透過モードとなし、光透過部以外の領域にて反射モードとなした。このように光反射性金属層に対してスリット状の光透過部を形成したことで、反射モードにおいても、全体の表示輝度を高めることができ、その結果、反射時の特性と透過時の特性との相反する調整を容易にすることができた。
【0034】
つぎにストライプ状光反射性金属層の光透過部について図6にて詳細を述べる。同図Aは本発明の光反射性金属層の要部拡大平面図であり、同図Bは比較例としての光反射性金属層の要部拡大平面図である。
【0035】
図6Bに示す液晶表示装置は、特許文献2(特開2002−341366号公報)に示す構成であり、スリット構造が異なる。
【0036】
従来の図6Bに示す液晶表示装置によれば、光透過部を作成した場合、反射層の金属とスリット領域で段差を生じ、セグメント側の配向膜6に対するラビング工程で、ラビングする際に金属部とスリット部でラビング布の接触状態が変化し、表示異常が発生するという課題があった。
【0037】
すなわち、ラビング時にラビングローラが入りこむ領域で、ラビング布の接触が不十分・乱れとなり、これにより、液晶の表示異常が発生していた。
【0038】
これに対する本発明によれば、図6Aに示す如く、光透過部の形状をスリット状にして、かかる課題を解消している。
【0039】
すなわち、光反射性金属層に設けるスリット(以下、このスリットを反射層スリットと呼ぶ)は、たとえば図6Aに示すようにラビング方向に実質上平行となるように配置すればよい。このようなスリット状にすることで、ラビング時のラビング布の接触が不十分・乱れという問題が生じなくなった。
【0040】
なお、このような構成の場合、カラーフィルター7に形成する画素間のブラックレジスト(遮光膜)については、図5に示すようにセグメント電極間部分にストライプ状に形成すれば、コモン電極間部分については金属層が遮光性を有するため、画素間のブラックレジスト(遮光層)をカラーフィルターにマトリックス状に配置したことによる効果、すなわち、カラーフィルターに遮光膜をマトリックスに形成した場合と同じ遮光効果がある。したがって、カラーフィルターに形成する画素間のブラックレジストは上記のようなストライプ状にすればよい。
【0041】
【発明の効果】
以上のとおり、本発明の液晶表示装置によれば、上記構成のように光反射性金属層に対し各画素ごとに光透過部を設けて、この光透過部にて透過モードとなし、光透過部以外の領域にて反射モードとなし、その光透過部をラビング方向と平行な位置にスリット状で形成することによって、ラビング時に生じるラビング布の接触不十分や、それに伴う乱れなどによる表示異常が発生しなくなった。
【0042】
また、本発明によれば、反射層スリットを光反射性金属層のストライプに直交するように配置すれば、カラーフィルターに形成する画素間のブラックレジストは、スリット状の光透過部と直交の画素間部分にストライプ状に形成すれば、画素間のブラックレジスト(遮光層)をマトリックス状に配置したことと同じ効果がある。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の液晶表示装置の断面模式図である。
【図2】従来の液晶表示装置の断面模式図である。
【図3】従来の液晶表示装置の断面模式図である。
【図4】本発明の液晶表示装置の製造方法を示す工程図である。
【図5】セグメント側基板とコモン側基板の双方の拡大図である。
【図6】Aは本発明であり、Bは比較例であって、A、Bはそれぞれセグメント側基板の拡大図である。
【符号の説明】
1・・・コモン側のガラス基板
2・・・セグメント側のガラス基板
3・・・ストライプ状透明電極群
4・・・Cr膜
5・・・Al膜
6、10・・・配向膜
7・・・カラーフィルター
8・・・オーバーコート層
9・・・ストライプ状透明電極群
11・・・液晶層

Claims (1)

  1. 基板上に透明導電層と光反射性金属層との積層体をストライプ状に配列してなるストライプ状積層電極群を形成し、このストライプ状積層電極群上に配向層を積層してなる一方部材と、透明基板上にストライプ状透明電極群と配向層とを順次積層してなる他方部材とを、これらストライプ状積層電極群とストライプ状透明電極群とが交差するようネマチック液晶を介して貼り合わせて画素をマトリクス状に配列せしめるとともに、上記光反射性金属層に対し画素ごとに光透過部を設けて、この光透過部にて透過モードとなし、光透過部以外の領域にて反射モードとなすとともに、この光透過部を一方部材に形成した配向層に対するラビング方向と実質上平行にしたスリットにし、さらに他方部材に対し画素に対応するカラーフィルターを配した液晶表示装置。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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CN100458504C (zh) * 2006-03-16 2009-02-04 财团法人工业技术研究院 半反射半穿透液晶显示器及其制造方法

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