CN107065281B - 一种彩色色阻的制作方法 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了一种彩色色阻的制作方法,包括:在衬底上形成具有第一标记、第二标记、第三标记、第一镂空区域、第二镂空区域和第三镂空区域的黑色矩阵层;依次移动光罩使对位标记分别与第一标记、第二标记和第三标记对齐;分别用光罩在黑色矩阵层上形成第一色阻和第一色块、第二色阻和第二色块、以及第三色阻和第三色块,并根据各色块和相应镂空区域的位置关系来核对各色阻位置;第一标记/第一镂空区域和第二标记/第二镂空区域之间间隔第一距离,第一标记/第一镂空区域和第三标记/第三镂空区域之间间隔第二距离;第一距离和第二距离被配置成使第一色块、第二色块和第三色块互不交叠。采用本方案可在不改变色块大小的前提下使各色块互不交叠。

Description

一种彩色色阻的制作方法
技术领域
本发明涉及彩膜基板的制造技术领域,尤其涉及一种彩色色阻的制作方法。
背景技术
目前,在制作彩色色阻时,可通过采用同一光罩制备彩色色阻及相应的检测用色块,来降低光罩数量和制作成本。
在开始制作彩色色阻时,需要利用黑色矩阵光罩在衬底基板上形成对位标记。图1为现有技术中对位标记的示意图。如图1所示,对位标记(Alignment Mark)包括对位标记101和对位标记102。其中,玻璃基板上的黑色矩阵(BM on Glass)具有对位标记101。而对位标记102则设置在RGB光罩(RGB Mask)上。
对位标记101具体包括三个黑色矩阵对位标记。其中,第一个黑色矩阵对位标记与第二个黑色矩阵对位标记相隔一个子像素的宽度H。第一个黑色矩阵对位标记与第三个黑色矩阵对位标记相隔两个子像素的宽度2*H。移动RGB光罩。当RGB光罩上的对位标记102依次与各个黑色矩阵对位标记101对准时,在相应的位置形成对应各个黑色矩阵对位标记101的色块和色阻。图2为现有技术中的对准监测标记的第一种示意图。如图2所示,对准检测标记包括R色块201、G色块202和B色块203。R色块201与G色块202相隔H,R色块201与B色块203相隔2*H。
图3为现有技术中的对准监测标记的第二种示意图。如图3所示,当在高PPI模式(即高像素密度模式,在此模式下像素尺寸小)下H小于色块的宽度C时,R色块201与G色块202会产生交叠,从而导致无法测量彩色色阻的位置误差的问题。
图4为现有技术中的对准监测标记的第三种示意图。为了使色块不产生交叠,如图4所示,可以将各色块做小。但是尺寸较小的色块会存在易被剥离的风险。
现有技术中彩色色阻的制作方法的缺陷在于:当在高PPI模式下子像素的宽度小于色块的宽度时,色块之间会产生交叠,从而导致无法测量彩色色阻的位置误差的问题,而将色块做小又会存在尺寸较小的色块易被剥离的风险。
发明内容
为了解决上述技术问题,本发明提供了一种彩色色阻的制作方法,包括:
在衬底基板上形成具有第一标记、第二标记、第三标记、第一镂空区域、第二镂空区域和第三镂空区域的黑色矩阵层;
移动光罩,使所述光罩上的对位标记与所述第一标记对齐;利用所述光罩在所述黑色矩阵层上形成第一色阻和第一色块,并根据所述第一色块和所述第一镂空区域的位置关系来核对所述第一色阻的位置;
移动所述光罩,使所述对位标记与所述第二标记对齐;利用所述光罩在所述黑色矩阵层上形成第二色阻和第二色块,并根据所述第二色块和所述第二镂空区域的位置关系来核对所述第二色阻的位置;
移动所述光罩,使所述对位标记与所述第三标记对齐;利用所述光罩在所述黑色矩阵层上形成第三色阻和第三色块,并根据所述第三色块和所述第三镂空区域的位置关系来核对所述第三色阻的位置;
其中,所述第一标记/第一镂空区域和所述第二标记/第二镂空区域之间间隔第一距离,所述第一标记/第一镂空区域和所述第三标记/第三镂空区域之间间隔第二距离;所述第一距离和第二距离被配置成使所述第一色块、第二色块和第三色块互不交叠。
在一个实施例中,所述第一距离H1满足:H1=(3*n1+1)*P;其中,n1为满足n1≥1或n1≦-1的整数,P为子像素的宽度;
所述第二距离H2满足:H2=(3*n2+2)*P;其中,n2为满足n2≥0或n2≦-2的整数。
在一个实施例中,所述第一标记、第二标记、第三标记、第一镂空区域、第二镂空区域和第三镂空区域利用同一光罩同步形成。
在一个实施例中,所述第一色阻、第二色阻和第三色阻各不相同,并且分别为红色色阻、绿色色阻和蓝色色阻中的一种。
在一个实施例中,所述第一色块、第二色块和第三色块位于子像素与子像素之间的位置。
在一个实施例中,所述第一标记、第二标记和第三标记位于非显示区。
在一个实施例中,还包括:在形成所述黑色矩阵层时,还使所述黑色矩阵层具有第四标记和第四镂空区域;
移动所述光罩,使所述光罩上的对位标记与所述第四标记对齐;利用所述光罩在所述黑色矩阵层上形成第四色阻和第四色块,并根据所述第四色块和所述第四镂空区域的位置关系来核对所述第四色阻的位置;
其中,所述第一标记/第一镂空区域和所述第四标记/第四镂空区域之间间隔第三距离;所述第一距离、第二距离和第三距离被配置成使所述第一色块、第二色块、第三色块和第四色块互不交叠。
在一个实施例中,所述第一距离H1满足:H1=(4*n1+1)*P;其中,n1为满足n1≥1或n1≦-1的整数,P为子像素的宽度;
所述第二距离H2满足:H2=(4*n2+2)*P;其中,n2为满足n2≥0或n2≦-2的整数;
所述第三距离H3满足H3=(4*n3+3)*P;其中,n3为满足n3≥0或n3≦-2的整数。
在一个实施例中,所述第一色阻、第二色阻、第三色阻和第四色阻各不相同,并且分别为红色色阻、绿色色阻、蓝色色阻和白色色阻中的一种。
在一个实施例中,所述第一色块、第二色块、第三色块和第四色块位于子像素与子像素之间的位置。
与现有技术相比,上述方案中的一个或多个实施例可以具有如下优点或有益效果:
应用本发明实施例提供的彩色色阻的制作方法,依次移动光罩使对位标记分别与第一标记、第二标记和第三标记对齐,并利用该光罩在黑色矩阵层上形成对应第一标记的第一色阻和第一色块,对应第二标记的第二色阻和第二色块、以及对应第三标记第三色阻和第三色块。第一标记和第二标记之间间隔第一距离,第一标记和第三标记之间间隔第二距离。当第一距离和第二距离被配置成使第一色块、第二色块和第三色块互不交叠时,能够在不改变色块大小的前提下使得各色块互不交叠。
本发明的其它特征和优点将在随后的说明书中阐述,并且部分地从说明书中变得显而易见,或者通过实施本发明而了解。本发明的目的和其他优点可通过在说明书、权利要求书以及附图中所特别指出的结构来实现和获得。
附图说明
附图用来提供对本发明的进一步理解,并且构成说明书的一部分,与本发明的实施例共同用于解释本发明,并不构成对本发明的限制。在附图中:
图1示出了现有技术中的对位标记的示意图;
图2示出了现有技术中的对准监测标记的第一种示意图;
图3示出了现有技术中的对准监测标记的第二种示意图;
图4示出了现有技术中的对准监测标记的第三种示意图;
图5示出了根据本发明第一实施例的彩色色阻的制作方法的流程示意图;
图6示出了根据本发明第一实施例的对位标记的示意图;
图7示出了根据本发明第一实施例的对准监测标记的示意图;
图8示出了根据本发明第一实施例形成的色阻的示意图;
图9示出了根据本发明第二实施例的彩色色阻的制作方法的流程示意图;
图10示出了根据本发明第二实施例的对位标记的示意图;
图11示出了根据本发明第二实施例的对准监测标记的示意图;
图12示出了根据本发明第二实施例形成的色阻的示意图。
具体实施方式
以下将结合附图及实施例来详细说明本发明的实施方式,借此对本发明如何应用技术手段来解决技术问题,并达成技术效果的实现过程能充分理解并据以实施。需要说明的是,只要不构成冲突,本发明中的各个实施例以及各实施例中的各个特征可以相互结合,所形成的技术方案均在本发明的保护范围之内。
第一实施例
作为示例,本实施例主要针对三个子像素的彩色色阻的制作方法的说明。
图5示出了根据本发明第一实施例的彩色色阻的制作方法的流程示意图。如图5所示,该制作方法可以包括如下步骤S510至S570。
以下工艺步骤S510至S570,可以仅利用两个光罩进行彩色色阻的制作。这两个光罩可以称为黑矩阵光罩和色阻光罩。黑矩阵光罩可以包括对位标记(Alignment Mask)(即,第一标记、第二标记和第三标记)的掩膜图样和镂空区域(即,第一镂空区域、第二镂空区域和第三镂空区域)的掩膜图样。色阻光罩可以包括对位标记、对位监测标记(Overlay Mask)(即,第一色块、第二色块和第三色块)和色阻(即,第一色阻、第二色阻和第三色阻)的掩膜图样。
在步骤S510中,在衬底基板上形成具有如图6所示的第一标记601、第二标记602、第三标记603、如图7所示的第一镂空区域701、第二镂空区域702和第三镂空区域703的黑色矩阵层。
优选的,第一标记601、第二标记602、第三标记603、第一镂空区域701、第二镂空区域702和第三镂空区域703利用同一光罩同步形成。这里所说的光罩为黑矩阵光罩。利用黑矩阵光罩的对位标记掩膜图样在例如为玻璃基板的衬底基板上形成第一标记601、第二标记602、第三标记603。同时,利用黑矩阵光罩的镂空区域的掩膜图样形成第一镂空区域701、第二镂空区域702和第三镂空区域703。
优选的,第一标记601、第二标记602和第三标记603位于非显示区,从而不影响正常显示,不会对液晶显示面板的开口率造成影响。第一镂空区域701、第二镂空区域702和第三镂空区域703位于显示区。具体地,第一镂空区域701、第二镂空区域702和第三镂空区域703位于子像素与子像素之间的位置。
在步骤S520中,移动光罩,使如图6所示的光罩上的对位标记604与第一标记601对齐。这里所说的光罩为色阻光罩。色阻光罩上的对位标记604与第一标记601对齐,色阻光罩定位完成,转到步骤S530。
在步骤S530中,利用色阻光罩在黑色矩阵层上形成如图8所示的第一色阻801和如图7所示的第一色块704,并根据第一色块704和第一镂空区域701的位置关系来核对第一色阻801的位置。
具体地,利用色阻光罩上的对位监测标记掩膜图样在黑色矩阵层上形成第一色块704。同时,利用色阻光罩上的色阻掩膜图样在黑色矩阵层上形成第一色阻801。
由于制作第一色块704和第一色阻801是在同一道光罩下进行的,那么可以通过检测第一色块704的位置误差来检测第一色阻801的位置。具体地,如图7所示,通过检测第一色块704是否位于第一镂空区域701的中心来核对第一色阻801的位置。如果第一色阻801的位置准确,则所形成的第一色块704恰位于第一镂空区域701的中心。
在步骤S540中,移动色阻光罩,使对位标记604与第二标记602对齐。色阻光罩上的对位标记604与第二标记602对齐,色阻光罩定位完成,转到步骤S550。
在步骤S550中,利用色阻光罩在黑色矩阵层上形成如图8所示的第二色阻802和如图6所示的第二色块705,并根据第二色块705和第二镂空区域702的位置关系来核对第二色阻802的位置。
具体地,利用色阻光罩上的对位监测标记掩膜图样在黑色矩阵层上形成第二色块705。同时,利用色阻光罩上的色阻掩膜图样在黑色矩阵层上形成第二色阻802。通过检测第二色块705是否位于第二镂空区域702的中心来核对第二色阻802的位置。如果第二色阻802的位置准确,则所形成的第二色块705恰位于第二镂空区域702的中心。
在步骤S560中,移动色阻光罩,使对位标记604与第三标记603对齐。色阻光罩上的对位标记604与第三标记603对齐,色阻光罩定位完成,转到步骤S570。
在步骤S570中,利用色阻光罩在黑色矩阵层上形成如图8所示的第三色阻803和第三色块706,并根据第三色块706和第三镂空区域703的位置关系来核对第三色阻803的位置。
具体地,利用色阻光罩上的对位监测标记掩膜图样在黑色矩阵层上形成第三色块706。同时,利用色阻光罩上的色阻掩膜图样在黑色矩阵层上形成第三色阻803。通过检测第三色块706是否位于第三镂空区域703的中心来核对第三色阻803的位置。如果第三色阻803的位置准确,则所形成的第三色块706恰位于第三镂空区域703的中心。
在本实施例中,第一标记601和第二标记602之间间隔第一距离。第一标记601和第三标记603之间间隔第二距离。第一镂空区域701和第二镂空区域702之间间隔第一距离。第一镂空区域701和第三镂空区域703之间间隔第二距离。重要地,第一距离和第二距离被配置成使第一色块704、第二色块705和第三色块706互不交叠。
优选的,第一色块704、第二色块705和第三色块706位于子像素与子像素之间的位置。
在应用本实施例的方法制作彩色色阻时,由于在步骤S520、步骤S540和步骤S560中,依次移动色阻光罩使得对位标记604分别与第一标记601、第二标记602和第三标记603对齐,因此理论上在步骤S530中形成的第一色块704与在步骤S550中形成的第二色块705之间应间隔第一距离,在步骤S530中形成的第一色块704与和步骤S570中形成的第三色块706之间应间隔第二距离。通过合理配置第一距离和第二距离的大小,可以在保持色块大小不变的基础上有效避免第一色块704、第二色块705和第三色块706的相互交叠。
本发明一优选的实施例给出了针对第一距离和第二距离的配置方案。
具体地,第一距离H1满足:H1=(3*n1+1)*P。其中,n1为满足n1≥1或n1≦-1的整数,P为子像素的宽度。第二距离H2满足:H2=(3*n2+2)*P。其中,n2为满足n2≥0或n2≦-2的整数,P为子像素的宽度。
需要说明的是,当n1为满足n1≥1的整数,且n2为满足n2≥0的整数时,色阻光罩右移。当n1为满足n1≦-1的整数,且n2为满足n2≦-2的整数时,色阻光罩左移。
具体地,如图8所示,取n1=1,n2=0,可得H1=4*P,H2=2*P。也即,色阻光罩进行初始对位形成第一色阻801和第一色块704后,色阻光罩从初始位置向右移动至第二标记602处(相当于向右移动4个子像素的宽度)形成第二色阻802和第二色块705,从初始位置向右移动至第三标记603处(相当于向右移动2个子像素的宽度)形成第三色阻803和第三色块706。第一色块704与第二色块705间隔4个子像素的宽度,第一色块704与第三色块706间隔2个子像素的宽度。第一色块704、第二色块705和第三色块706互不交叠。
可选的,还可以取n1=1,n2=2,可得H1=4*P,H2=8*P。这样,第一色块704与第二色块705间隔4个子像素的宽度,第一色块704与第三色块706间隔8个子像素的宽度。可以看出,第一色块704、第二色块705和第三色块706互不交叠。
优选的,第一色阻801、第二色阻802和第三色阻803各不相同,并且分别为红色色阻、绿色色阻和蓝色色阻中的一种。例如,第一色阻801为红色色阻。第二色阻802为绿色色阻。第三色阻803为蓝色色阻。
应用本发明实施例提供的彩色色阻的制作方法,依次移动光罩使对位标记604分别与第一标记601、第二标记602和第三标记603对齐,并利用该光罩在黑色矩阵层上形成对应第一标记601的第一色阻801和第一色块704,对应第二标记602的第二色阻802和第二色块705,以及对应第三标记603的第三色阻803和第三色块706。第一标记601和第二标记602之间间隔第一距离,第一标记601和第三标记603之间间隔第二距离。当第一距离和第二距离被配置成使第一色块704、第二色块705和第三色块706互不交叠时,能够在不改变色块大小的前提下使得各色块互不交叠,从而克服了现有技术中色块交叠以及存在色块剥落风险的缺陷。
第二实施例
作为示例,本实施例主要针对四个子像素的彩色色阻的制作方法的说明。
图9示出了根据本发明第二实施例的彩色色阻的制作方法的流程示意图。如图9所示,该制作方法可以包括如下步骤S910至S990。
与第一实施例相同,以下工艺步骤S910至S990也可以仅利用两个光罩进行彩色色阻的制作。这两个光罩可以称为黑矩阵光罩和色阻光罩。黑矩阵光罩可以包括对位标记(即,第一标记、第二标记、第三标记和第四标记)的掩膜图样和镂空区域(即,第一镂空区域、第二镂空区域、第三镂空区域和第四镂空区域)的掩膜图样。色阻光罩可以包括对位标记、对位监测标记(第一色块、第二色块、第三色块和第四色块)和色阻(即,第一色阻、第二色阻、第三色阻和第四色阻)的掩膜图样。
在步骤S910中,在衬底基板上形成具有如图10所示的第一标记601、第二标记602、第三标记603、第四标记1001、如图11所示的第一镂空区域701、第二镂空区域702、第三镂空区域703和第四镂空区域1101的黑色矩阵层。
在步骤S920中,移动光罩,使如图10所示的光罩上的对位标记604与第一标记601对齐。这里所说的光罩为色阻光罩。色阻光罩上的对位标记604与第一标记601对齐,色阻光罩定位完成,转到步骤S930。
在步骤S930中,利用光罩在黑色矩阵层上形成如图12所示的第一色阻801和如图11所示的第一色块704,并根据第一色块704和第一镂空区域701的位置关系来核对第一色阻801的位置。
具体地,利用色阻光罩上的对位监测标记掩膜图样在黑色矩阵层上形成第一色块704。同时,利用色阻光罩上的色阻掩膜图样在黑色矩阵层上形成第一色阻801。
由于制作第一色块704和第一色阻801是在同一道光罩下进行的,那么可以通过检测第一色块704的位置误差来检测第一色阻801的位置。具体地,如图11所示,通过检测第一色块704是否位于第一镂空区域701的中心来核对第一色阻801的位置。如果第一色阻801的位置准确,则所形成的第一色块704恰位于第一镂空区域701的中心。
在步骤S940中,移动色阻光罩,使对位标记604与第二标记602对齐。色阻光罩上的对位标记604与第二标记602对齐,色阻光罩定位完成,转到步骤S950。
在步骤S950中,利用色阻光罩在黑色矩阵层上形成如图12所示的第二色阻802和如图10所示的第二色块705,并根据第二色块705和第二镂空区域702的位置关系来核对第二色阻802的位置。
具体地,利用色阻光罩上的对位监测标记掩膜图样在黑色矩阵层上形成第二色块705。同时,利用色阻光罩上的色阻掩膜图样在黑色矩阵层上形成第二色阻802。通过检测第二色块705是否位于第二镂空区域702的中心来核对第二色阻802的位置。如果第二色阻802的位置准确,则所形成的第二色块705恰位于第二镂空区域702的中心。
在步骤S960中,移动色阻光罩,使对位标记604与第三标记603对齐。色阻光罩上的对位标记604与第三标记603对齐,色阻光罩定位完成,转到步骤S970。
在步骤S970中,利用色阻光罩在黑色矩阵层上形成如图12所示的第三色阻803和如图10所示的第三色块706,并根据第三色块706和第三镂空区域703的位置关系来核对第三色阻803的位置。
具体地,利用色阻光罩上的对位监测标记掩膜图样在黑色矩阵层上形成第三色块706。同时,利用色阻光罩上的色阻掩膜图样在黑色矩阵层上形成第三色阻803。通过检测第三色块706是否位于第三镂空区域703的中心来核对第三色阻803的位置。如果第三色阻803的位置准确,则所形成的第三色块706恰位于第三镂空区域703的中心。
在步骤S980中,移动色阻光罩,使对位标记604与第四标记1001对齐。色阻光罩上的对位标记604与第四标记1001对齐,色阻光罩定位完成,转到步骤S990。
在步骤S990中,利用色阻光罩在黑色矩阵层上形成如图12所示的第四色阻1201和第四色块1102,并根据第四色块1102和第四镂空区域1101的位置关系来核对第四色阻1201的位置。
具体地,利用色阻光罩上的对位监测标记掩膜图样在黑色矩阵层上形成第四色块1102。同时,利用色阻光罩上的色阻掩膜图样在黑色矩阵层上形成第四色阻1201。通过检测第四色块1102是否位于第四镂空区域1101的中心来核对第四色阻1201的位置。如果第四色阻1201的位置准确,则所形成的第四色块1102恰位于第四镂空区域1101的中心。
在本实施例中,第一标记601和第二标记602之间间隔第一距离。第一标记601和第三标记603之间间隔第二距离。第一标记601和第四标记1001之间间隔第三距离。第一镂空区域701和第二镂空区域702之间间隔第一距离。第一镂空区域701和第三镂空区域703之间间隔第二距离。第一镂空区域701和第四镂空区域1101之间间隔第三距离。重要地,第一距离、第二距离和第三距离被配置成使第一色块704、第二色块705、第三色块706和第四色块1102互不交叠。
在应用本实施例的方法制作彩色色阻时,由于在步骤S920、步骤S940、步骤S960和步骤S980中,依次移动色阻光罩使得对位标记604分别与第一标记601、第二标记602、第三标记603和第四标记1001对齐,因此理论上在步骤S930中形成的第一色块704与在步骤S950中形成的第二色块705之间应间隔第一距离,在步骤S930中形成的第一色块704与和步骤S970中形成的第三色块706之间应间隔第二距离,在步骤S930中形成的第一色块704与和步骤S990中形成的第四色块1102之间应间隔第三距离。通过合理配置第一距离、第二距离和第三距离的大小,可以在保持色块大小不变的基础上有效避免第一色块704、第二色块705、第三色块706和第四色块1102的相互交叠。
本发明一优选的实施例给出了针对第一距离、第二距离和第三距离的配置方案。
具体地,第一距离H1满足:H1=(4*n1+1)*P。其中,n1为满足n1≥1或n1≦-1的整数,P为子像素的宽度。第二距离H2满足:H2=(4*n2+2)*P。其中,n2为满足n2≥0或n2≦-2的整数,P为子像素的宽度。第三距离H3满足H3=(4*n3+3)*P。其中,n3为满足n3≥0或n3≦-2的整数,P为子像素的宽度。
需要说明的是,当n1为满足n1≥1的整数,n2为满足n2≥0的整数,且n3为满足n3≥0的整数时,色阻光罩右移。当n1为满足n1≦-1的整数,n2为满足n2≦-2的整数,且n3为满足n3≦-2的整数时,色阻光罩左移。
具体地,如图12所示,取n1=1,n2=2,n3=3,可得H1=5*P,H2=10*P,H3=15*P。也即,色阻光罩进行初始对位形成第一色阻801和第一色块704后,色阻光罩从初始位置向右移动至第二标记602处(相当于向右移动5个子像素的宽度)形成第二色阻802和第二色块705,从初始位置向右移动至第三标记603处(相当于向右移动10个子像素的宽度)形成第三色阻803和第三色块706,从初始位置向右移动至第四标记1001处(相当于向右移动15个子像素的宽度)形成第四色阻1201和第四色块1102。第一色块704与第二色块705间隔5个子像素的宽度,第一色块704与第三色块706间隔10个子像素的宽度,第一色块704与第四色块1102间隔15个子像素的宽度。第一色块704、第二色块705、第三色块706和第四色块1102互不交叠。
优选的,第一色阻801、第二色阻802、第三色阻803和第四色阻1201各不相同,并且分别为红色色阻、绿色色阻、蓝色色阻和白色色阻中的一种。例如,第一色阻801为红色色阻。第二色阻802为绿色色阻。第三色阻803为蓝色色阻。第四色阻1201为白色色阻。
优选的,第一色块704、第二色块705、第三色块706和第四色块1102位于子像素与子像素之间的位置。
应用本发明实施例提供的彩色色阻的制作方法,依次移动光罩使对位标记604分别与第一标记601、第二标记602、第三标记603和第四标记1001对齐,将利用光罩在黑色矩阵层上形成对应第一标记601的第一色阻801和第一色块704、对应第二标记602的第二色阻802和第二色块705、对应第三标记603的第三色阻803和第三色块706、以及对应第四标记的第四色阻1201和第四色块1102。第一标记601和第二标记602之间间隔第一距离,第一标记601和第三标记603之间间隔第二距离,第一标记601和第四标记1001之间间隔第三距离。当第一距离、第二距离和第三距离被配置成使第一色块704、第二色块705、第三色块706和第四色块1102互不交叠时,能够在不改变色块大小的前提下使得各色块互不交叠,从而克服了现有技术中色块交叠以及存在色块剥落风险的缺陷。
虽然本发明所公开的实施方式如上,但所述的内容只是为了便于理解本发明而采用的实施方式,并非用以限定本发明。任何本发明所属技术领域内的技术人员,在不脱离本发明所公开的精神和范围的前提下,可以在实施的形式上及细节上作任何的修改与变化,但本发明的保护范围,仍须以所附的权利要求书所界定的范围为准。

Claims (4)

1.一种彩色色阻的制作方法,其特征在于,包括:
在衬底基板上形成具有第一标记、第二标记、第三标记、第一镂空区域、第二镂空区域和第三镂空区域的黑色矩阵层;其中,所述第一标记、第二标记、第三标记、第一镂空区域、第二镂空区域和第三镂空区域利用同一黑矩阵光罩同步形成;移动色阻光罩,使所述色阻光罩上的对位标记与所述第一标记对齐;利用所述色阻光罩在所述黑色矩阵层上形成第一色阻和第一色块,并根据所述第一色块和所述第一镂空区域的位置关系来核对所述第一色阻的位置;
移动所述色阻光罩,使所述对位标记与所述第二标记对齐;利用所述色阻光罩在所述黑色矩阵层上形成第二色阻和第二色块,并根据所述第二色块和所述第二镂空区域的位置关系来核对所述第二色阻的位置;
移动所述色阻光罩,使所述对位标记与所述第三标记对齐;利用所述色阻光罩在所述黑色矩阵层上形成第三色阻和第三色块,并根据所述第三色块和所述第三镂空区域的位置关系来核对所述第三色阻的位置;
其中,所述第一标记与所述第二标记的距离或所述第一镂空区域与所述第二镂空区域之间间隔为第一距离H1,所述第一距离H1满足:H1=(3*n1+1)*P;其中,n1为满足n1≥1或n1≦-1的整数,P为子像素的宽度;
所述第一标记与所述第三标记的距离或第一镂空区域与所述第三镂空区域之间间隔为第二距离H2,所述第二距离H2满足:H2=(3*n2+2)*P;其中,n2为满足n2≥0或n2≦-2的整数 ;
所述第一距离H1和第二距离H2被配置成使所述第一色块、第二色块和第三色块互不交叠;其中,当n1为满足n1≥1的整数,且n2为满足n2≥0的整数时,所述色阻光罩右移;当n1为满足n1≦-1的整数,且n2为满足n2≦-2的整数时,所述色阻光罩左移。
2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述第一色阻、第二色阻和第三色阻各不相同,并且分别为红色色阻、绿色色阻和蓝色色阻中的一种。
3.根据权利要求2所述的方法,其特征在于,所述第一色块、第二色块和第三色块位于子像素与子像素之间的位置。
4.根据权利要求2所述的方法,其特征在于,所述第一标记、第二标记和第三标记位于非显示区。
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Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20070025155A (ko) * 2005-08-31 2007-03-08 엘지.필립스 엘시디 주식회사 아이디 마크가 형성된 액정표시장치 및 그 제조방법
CN101609227A (zh) * 2009-07-08 2009-12-23 友达光电股份有限公司 彩色滤光层及其制造方法
CN103969873A (zh) * 2014-04-23 2014-08-06 京东方科技集团股份有限公司 用于将掩膜版和基板对齐的方法及彩膜基板的制造方法
CN104317158A (zh) * 2014-11-14 2015-01-28 京东方科技集团股份有限公司 一种掩膜板、掩膜板组、彩膜基板及显示装置
CN105182680A (zh) * 2015-10-22 2015-12-23 深圳市华星光电技术有限公司 色阻掩膜板及其使用方法
CN105487333A (zh) * 2016-01-04 2016-04-13 重庆京东方光电科技有限公司 掩膜板组、彩膜基板及其制作方法、检测装置、显示装置

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3145827B2 (ja) * 1993-03-18 2001-03-12 松下電器産業株式会社 カラーフィルター基板及びその製造方法
TW510131B (en) * 2000-05-24 2002-11-11 Chi Mei Electronic Corp Image input/output device
CN1212548C (zh) * 2002-03-01 2005-07-27 南亚科技股份有限公司 利用多重曝光形成孤立线的方法
WO2011099211A1 (ja) * 2010-02-12 2011-08-18 大日本印刷株式会社 立体画像印刷物、立体画像印刷表示装置、及び立体画像印刷物における網点画像印刷物の印刷方法
CN102681251B (zh) * 2012-05-14 2015-09-09 京东方科技集团股份有限公司 一种彩色滤光片及其制作方法以及液晶面板和显示装置
KR20140024147A (ko) * 2012-08-20 2014-02-28 삼성전자주식회사 패턴을 구비한 디스플레이 장치
CN203502701U (zh) * 2013-10-17 2014-03-26 合肥京东方光电科技有限公司 一种基板及掩膜板
CN104102042B (zh) * 2014-06-30 2017-08-25 京东方科技集团股份有限公司 一种彩膜基板及其制作方法、显示装置
CN104849901B (zh) * 2015-06-05 2018-07-03 京东方科技集团股份有限公司 柱状隔垫物的对位标识的制备方法和精度检测方法
CN105652506B (zh) * 2016-01-22 2018-09-18 昆山龙腾光电有限公司 彩色滤光片及其制作方法和用于制作彩色滤光片的光罩
CN106918948B (zh) * 2017-04-12 2020-07-24 深圳市华星光电技术有限公司 一种彩色色阻的制作方法

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20070025155A (ko) * 2005-08-31 2007-03-08 엘지.필립스 엘시디 주식회사 아이디 마크가 형성된 액정표시장치 및 그 제조방법
CN101609227A (zh) * 2009-07-08 2009-12-23 友达光电股份有限公司 彩色滤光层及其制造方法
CN103969873A (zh) * 2014-04-23 2014-08-06 京东方科技集团股份有限公司 用于将掩膜版和基板对齐的方法及彩膜基板的制造方法
CN104317158A (zh) * 2014-11-14 2015-01-28 京东方科技集团股份有限公司 一种掩膜板、掩膜板组、彩膜基板及显示装置
CN105182680A (zh) * 2015-10-22 2015-12-23 深圳市华星光电技术有限公司 色阻掩膜板及其使用方法
CN105487333A (zh) * 2016-01-04 2016-04-13 重庆京东方光电科技有限公司 掩膜板组、彩膜基板及其制作方法、检测装置、显示装置

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