JP2007240711A - 液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法及び液晶表示装置用カラーフィルタ - Google Patents
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Abstract
【解決手段】分割露光を行う際に、ブラインドシャッターを具備する露光装置を用い、少なくとも着色画素42、配向制御突起Mv及び積層フォトスペーサーを有するカラーフィルタの製造にて、1)画面11内の積層フォトスペーサーに対応したマスクパターン配列の繰り返しの最小ピッチの画素数(T1)をL、画面外の積層フォトスペーサーに対応したマスクパターン配列の繰り返しの最小ピッチの画素数(T2)を、Lの約数以外、又はLの倍数以外のMとしたフォトマスクを用い、2)Lを検査単位としカラーフィルタの画面内の比較検査を行う。
【選択図】図3
Description
図4、及び図5に示すように、液晶表示装置に用いられるカラーフィルタ(4)は、ガラス基板(40)上にブラックマトリックス(41)、着色画素(42)、及び透明導電膜(43)が順次に形成されたものである。
図4、及び図5はカラーフィルタを模式的に示したもので、着色画素(42)は12個表されているが、実際のカラーフィルタにおいては、例えば、対角17インチの画面に数百μm程度の着色画素が多数個配列されている。
ブラックマトリックス(41)は、遮光性を有するマトリックス状のものであり、着色画素(42)は、例えば、赤色、緑色、青色のフィルタ機能を有するものであり、透明導電膜(43)は、透明な電極として設けられたものである。
ブラックマトリックスは、カラーフィルタの着色画素の位置を定め、大きさを均一なものとし、また、表示装置に用いられた際に、好ましくない光を遮蔽し、表示装置の画像をムラのない均一な、且つコントラストを向上させた画像にする機能を有している。
或いは、ガラス基板(40)上に、ブラックマトリックス形成用の黒色感光性樹脂を用いてフォトリソグラフィ法によってブラックマトリックス(41)を形成するといった方法がとられている。
また、透明導電膜(43)の形成は、着色画素が形成されたブラックマトリックス基板上
に、例えば、ITO(Indium Tin Oxide)を用いスパッタ法によって透明導電膜を形成するといった方法がとられている。
多様な液晶表示装置の開発、実用に伴い、液晶表示装置に用いられるカラーフィルタには、上記基本的な機能に付随して下記のような、種々な機能が付加されるようになった。
このスペーサーは透明な粒子であることから、画素内に液晶と一諸にスペーサーが入っていると、黒色表示時にスペーサーを介して光がもれてしまい、また、液晶材料が封入されている基板間にスペーサーが存在することによって、スペーサー近傍の液晶分子の配列が乱され、この部分で光もれを生じ、コントラストが低下し表示品質に悪影響を及ぼす、などの問題を有していた。
図7は、このような液晶表示装置用カラーフィルタの部分断面図である。図7に示すように、液晶表示装置用カラーフィルタ(7)は、ガラス基板(40)上にブラックマトリックス(41)、着色画素(42)、及び透明導電膜(43)が順次に形成され、ブラックマトリックス(41)上方の透明導電膜(43)上にスペーサー機能を有する突起部としてのフォトスペーサー(44)が形成されている。このような液晶表示装置用カラーフィルタ(7)を用いた液晶表示装置には、フォトスペーサー(44)が画素内を避けた位置に形成されているので、上記コントラストの改善がみられる。
しかし、多くの液晶表示装置に用いられているTN型液晶においては、原理的に広い視野角を得ることは困難であり、中間調表示状態では斜め視角において光がもれ、コントラストが低下し表示品質が悪化する。すなわち、コントラストが良好な視野角は狭いといった問題を有していた。
(22a)〜配向制御突起(23)間の液晶分子は、図中左斜めに傾斜し、配向制御突起(23)〜配向制御突起(22b)間の液晶分子は、右斜めに傾斜する。すなわち、ラビング処理に代わり、突起を設けることにより液晶分子の配向を制御するものである。
図8(a)に示す例では、一画素が2分割されたものとなり、一画素内で液晶分子の傾斜方向が2方向になり視野角特性の優れた液晶表示装置となる。また、図8(b)、(c)は、MVA−LCD用カラーフィルタの他例の一画素を拡大して示す平面図、及び断面図である。この例は、平面形状が円形の配向制御突起(93)が形成されたカラーフィルタ(9)である。一画素内で液晶分子の傾斜方向が多方向になる。
従って、例えば、図4に示すカラーフィルタ(4)にスペーサー機能及び配向分割機能が追加された仕様のカラーフィルタを製造する際には、図4に示すカラーフィルタ(4)を作製した後に、例えば、図8に示す配向制御突起(93)を形成し、続いて図7に示すフォトスペーサー(44)を形成する。
すなわち、配向制御突起を形成する工程と、フォトスペーサーを形成する工程の2工程が追加され所望する仕様のカラーフィルタを製造することになる。
この一例として示す積層フォトスペーサー(Ps)は、画素内遮光部(41P)上の第一色目の着色画素の延長パターン(P1)と、第二色目のスペーサーパターン(P2)と、第三色目のスペーサーパターン(P3)と、透明導電膜(43)と、上部パターン(P4)を積層した構成である。積層フォトスペーサー(Ps)の高さは、第一色目の着色画素(42)の上面から積層フォトスペーサーの上部パターン(P4)の上面までの高さ(H)である。
トスペーサー(Ps)などをフォトリソグラフィ法により形成する際の露光は、ガラス基板(40)のサイズと略同程度のサイズのフォトマスクを用いて露光する方法が広く採用されている。カラーフィルタの画面全体を1回の露光で一括して行う、所謂、一括露光法である。
フォトリソグラフィ法によりカラーフィルタを製造する際の露光方法として、この一括露光法は廉価に大量にカラーフィルタを製造することのできる優れた露光法といえる。
従って、1m×1.3m、或いは1.5m×1.8m程度のサイズのガラス基板への露光には、1枚の同一フォトマスクを用い、例えば、カラーフィルタの画面を左右に2分割した分割露光法が採用されることになる。
このパターン領域(12)内には、着色画素(42)を形成するためのマスクパターン(45)が全面に設けられている。図10では、その描画の多くを省略してある。
(X1 )、及び(Y1 )は、各々フォトマスク(PM1)のパターン領域(12)中心を通るX軸、及びY軸を表している。(Y3 )は、分割露光によって得られるカラーフィルタの画面(11)における左画面(11L)と右画面(11R)との間の継ぎ部に対応したフォトマスク(PM1)上の継ぎ部の位置を表している。また、(A1 )は、フォトマスク(PM1)のY軸(Y1 )上に形成されたアライメントマークを表している。
この左画面(11L)への第1露光の際には、右画面(11R)の内、Y軸(Y0 )近傍
の領域はフォトマスク(PM1)の右遮光帯(13R)によって遮光されるが、右画面(11R)の大部分は遮光されないので、フォトマスク(PM1)の光源側にブラインド・シャッター(図示せず)を設け右画面(11R)を遮光しておく。
上記分割露光に続き、現像処理が行われカラーフィルタの着色画素(42)が形成される。
これは、カラーフィルタと対向基板を貼り合わせてパネルを作製する際に、大きなサイズの基板間のギャップを全面にわたり均一に保たせるために行われるものである。
画面内に設けられたフォトスペーサー(44)は、例えば、前記着色画素(42)の配列に対応して設けられている。
図11(a)では、画面(11)内、画面左外(14L)、及び画面右外(14R)のフォトスペーサーの描画の多くを省略してある。
このパターン領域(12)内には、フォトスペーサー(44)を形成するためのマスクパターン(46)が全面に設けられている。
すなわち、図11(a)に示すカラーフィルタは、画面(11)内には、ブラックマトリックス(図示せず)、着色画素(42)、透明導電膜(図示せず)、及び1層からなるフォトスペーサー(44)が形成されており、画面左外(14L)及び画面右外(14R)には、ブラックマトリックス、着色画素、透明導電膜は形成されておらず、1層からなる画面左外フォトスペーサー(44L)及び画面右外フォトスペーサー(44R)のみが設けられているカラーフィルタである。
仮に、モザイク配列を設けず、着色画素(42)の形成時のように左画面に第1露光を行い、右画面に第2露光を行う分割露光によって配向制御突起(Mv)を形成したカラーフィルタを液晶表示装置に用いると、その液晶表示装置においては、液晶表示装置のY軸(Y0 )、すなわち、継ぎ部(Y3 )の左右近傍、図9中、上下方向(Y0 −Y0 ’)に継ぎ部(Y3 )の存在を示す継ぎムラが観視されるといった問題が発生する。
。
画面(11)内に形成されている配向制御突起(Mv)は、例えば、図9に示す着色画素(42)の配列に対応して設けられている。図13において、カラーフィルタの左右中央のY軸(Y0 )、すなわち、継ぎ部(Y3 )の左右近傍にはモザイク配列部(M0 )が設けられている。
符号(12L)は、カラーフィルタの左画面(11L)に対応した領域を、また、符号(12R)は、右画面(11R)に対応した領域を表している。このパターン領域(12)内には、配向制御突起(Mv)を形成するためのマスクパターン(47、47L、47R)が全面に設けられている。図14では、その描画の多くは個数は省略してある。
(X4 )、及び(Y4 )は、各々フォトマスク(PM4)のパターン領域(12)中心を通るX軸、及びY軸を表している。(Y3 )は、分割露光によって得られるカラーフィルタの画面(11)における左画面(11L)と右画面(11R)との間の継ぎ部(Y3 )に対応したフォトマスク(PM4)上の継ぎ部の位置を表している。また、(A4 )は、フォトマスク(PM4)のY軸(Y4 )上に形成されたアライメントマークを表している。モザイク配列の左端は(Y5 )、右端は(Y6 )で表している。
パターン領域中央部(C)には、配向制御突起(Mv)を形成するためのマスクパターン(47)が正規のマスクパターン配列をしている。また、右端モザイク配列部(MR )には、配向制御突起を形成するためのマスクパターン(47R)が左モザイク配列をしており、左端モザイク配列部(ML )には、配向制御突起を形成するためのマスクパターン(47L)が右モザイク配列をしている。
図15は、本発明によるフォトマスクにおける左モザイク配列と右モザイク配列が相互に補間する関係を説明する平面図である。図15に示す平面図は、図14に示す右端モザイク配列部(MR )の継ぎ部(Y3 )とX軸の交点(OR )と、左端モザイク配列部(ML )の継ぎ部(Y3 )とX軸の交点(OL )を重ね合わせた状態を表している。
この右端モザイク配列部(MR )と左端モザイク配列部(ML )とを重ね合わせた領域がモザイク配列部(MO )となる。図15に示すように、継ぎ部(Y3 )の左右近傍では右端モザイク配列部(MR )のマスクパターン(P1〜P8)と、左端モザイク配列部(ML )のマスクパターン(Q1〜Q8)とが相互に補間し、モザイク配列部(MO )ではパターン領域中央部(C)と同様に、正規のマスクパターン配列を構成している。従って、カラーフィルタにおいても、モザイク配列部(MO )では配向制御突起は正規の配列をしている。
図13に示す一例は、モザイク配列の概略を説明するものであり、モザイク配列部(MO )内にはY軸に平行に2列の配向制御突起が設けられている。しかし、実際には、例えば、200列程度のモザイク配列にすることによって、前記液晶表示装置において継ぎムラが観視されるのを回避することができる。
図6に示すように、基本的な機能のカラーフィルタに、配向制御突起(Mv)と積層フォトスペーサー(Ps)を加えたカラーフィルタにいおては、配向制御突起(Mv)の形成と同時に上部パターン(P4)を形成する。従って、画素内遮光部(41P)の形成と、延長パターン(P1)、スペーサーパターン(P2)、スペーサーパターン(P3)の積層の形成と、上部パターン(P4)の形成は切り離すことができず、上部パターン(P4)は、積層の位置、すなわち、延長パターン(P1)、スペーサーパターン(P2)、スペーサーパターン(P3)の積層上に配向制御突起(Mv)の形成と同時に形成する。
面に形成すべきパターンと、左画面に形成すべきでないパターンとが形成されてしまうといった現象が起こる。或いは左画面に形成すべきパターンが形成されないといった現象が起こる。
カラーフィルタを構成するパターンである、ブラックマトリックス(41)、画素内遮光部(41P)、着色画素(42)、配向制御用突起(Mv)、延長パターン(P1)、スペーサーパターン(P2)、スペーサーパターン(P3)、上部パターン(P4)の内、例えば、ブラックマトリックス(41)、着色画素(42)など画面(11)内にのみ形成されるパターンにおいては、形成すべきパターンの欠落、形成すべきでないパターンの形成などは容易に検出することができる。
図16及び図17は、図12に示すフォトマスク(PM2)を用い、図11(a)に示すカラーフィルタを分割露光によって製造する際の、ブラインドシャッターの作動の不具合による継ぎ部(Y3 )の近傍での二重露光の発生を説明する断面図である。図16は、図11(a)中、符号(SC)で示す継ぎ部(Y3 )の近傍を拡大した断面図である。
図11(a)に示す、Y軸(Y0 )の左側に形成された、フォトスペーサー(44)は、図12に示す、右側の継ぎ部(Y3 )の左方に設けられているマスクパターン(46)に対応している。また、図11(a)に示す、Y軸(Y0 )の右側に形成された、フォトスペーサー(44)は、図12に示す、左側の継ぎ部(Y3 )の右方に設けられているマスクパターン(46)に対応している。
フォトスペーサー(44)として、図6に示すスペーサーパターン(P2)を例にし、ネガ型のフォトレジストを用いている。
従って、フォトレジストへの二重露光はなく、現像処理後にフォトスペーサー(44)は正常に形成された場合を説明したものである。
図17(a)に示すように、ガラス基板(10)上に設けられたネガ型のフォトレジストの塗膜(17)に、フォトマスク(PM2)を介した第1露光(L1)を与え、現像処理を行うとY軸(Y0 )左側のフォトスペーサー(44)が形成される。
しかし、継ぎ部近傍での表示むらを引き起こすフォトスペーサーの平面形状の変化を比較検査によっては検出することはできない。
また、上記製造方法を用いて製造した、継ぎムラを観視させることのない液晶表示装置用カラーフィルタを提供することを課題とする。
これにより、液晶表示装置における、継ぎ部近傍でのギャップむらに起因した表示むらの発生を事前に回避することができる。
1)前記フォトマスクとして、前記画面内の積層フォトスペーサーに対応したマスクパターンの、前記画面内を比較検査する検査方向に対応した方向におけるマスクパターン配列の繰り返しの最小ピッチの画素数(T1)をLとするとき、前記カラーフィルタの画面外の積層フォトスペーサーに対応したマスクパターンの、前記画面内を比較検査する検査方向に対応した方向におけるマスクパターン配列の繰り返しの最小ピッチの画素数(T2)を、前記Lの約数以外、又は前記Lの倍数以外のMとしたフォトマスクを用い、
2)前記繰り返しの最小ピッチの画素数(T1)である前記Lを前記検査方向の検査単位として、前記カラーフィルタの画面内の比較検査を行うことを特徴とする液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法である。
1)前記フォトマスクとして、前記画面内の積層フォトスペーサーに対応したマスクパターンの、前記画面内を比較検査する検査方向に対応した方向におけるマスクパターン配列の繰り返しの最小ピッチの画素数(T1)をLとするとき、前記カラーフィルタの画面外の積層フォトスペーサーに対応したマスクパターンの、前記画面内を比較検査する検査方向に対応した方向におけるマスクパターン配列の繰り返しの最小ピッチの画素数(T3)を、前記Lの約数、又は前記Lの倍数のNとし、前記画面外の積層フォトスペーサーが設けられている着色画素とは異なる色の着色画素の位置に対応したフォトマスク上の位置に、さらに積層フォトスペーサー形成用のマスクパターンを設けたフォトマスクを用い、
2)前記繰り返しの最小ピッチの画素数(T1)である前記Lを前記検査方向の検査単位とし、前記着色画素及び該着色画素とは異なる色の着色画素を少なくとも含む画素数を前記検査方向と直角方向の検査単位として、前記カラーフィルタの画面内の比較検査を行うことを特徴とする液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法である。
1)前記フォトマスクとして、前記画面内の積層フォトスペーサーに対応したマスクパターンの、前記画面内を比較検査する検査方向に対応した方向におけるマスクパターン配列の繰り返しの最小単位(画素数)(T1)をLとするとき、前記カラーフィルタの画面外の積層フォトスペーサーに対応したマスクパターンの、前記画面内を比較検査する検査方向に対応した方向におけるマスクパターン配列の繰り返しの最小単位(画素数)(T2)
を、前記画面内の積層フォトスペーサーと前記画面外の積層フォトスペーサーによるパターン露光が合成されたときの最小ピッチが、前記L及び前記Lの約数以外のMとしたフォトマスクを用い、
2)前記繰り返しの最小単位(画素数)(T1)である前記Lを前記検査方向の検査単位として、前記カラーフィルタの画面内の比較検査を行うので、積層フォトスペーサーを形成する際の分割露光時におけるブラインドシャッターの作動の不具合の有無を、カラーフィルタの画面内を比較検査することによって容易に検出することのできる液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法となる。
図1は、本発明による液晶表示装置用カラーフィルタの一実施例における積層フォトスペーサーを説明する部分断面図である。本発明による液晶表示装置用カラーフィルタは、ガラス基板上に少なくともブラックマトリックス及び画素内遮光部、着色画素、透明導電膜、配向制御突起及び積層フォトスペーサーが順次に形成されたものであって、1枚のフォトマスクを用い画面を左右に2分割した分割露光によって製造された液晶表示装置用カラーフィルタである。
一方、図1(b)に示すように、画面外には第一色目の着色画素(42−1)は設けられておらず、画素内遮光部(41P)上の第一色目のスペーサーパターン(P1’)、第二色目のスペーサーパターン(P2)、第三色目のスペーサーパターン(P3)、透明導電膜(43)、上部パターン(P4)で積層フォトスペーサー(Ps−2)を構成している。
また、図3(a)においては、カラーフィルタを構成する各層の内、着色画素と積層フォトスペーサー(Ps−1)のみを示してある。符号(42−1)、(42−2)、(42−3)は各々第一色目、第二色目、第三色目の着色画素、例えば、赤色、緑色、青色の着色画素を示している。
−1)の配列が、有、有、無、有、有、無、・・・の順であるために、積層フォトスペーサー(Ps−1)の繰り返しの最小ピッチの画素数(T1)である(L)は、L=3となる。
隣接する検査単位(K1)での比較検査が繰り返し行われ、検査単位毎の良否判定がされる。白太矢印で示すY軸方向の比較検査が終了すると、同様にしてX軸方向に隣接する検査単位でのY軸方向へと比較検査を行うようになっている。
図3(b)は、繰り返しの最小ピッチの画素数(T1)をL=3において、MをLの約数以外であるM=2と設定した例である。
また、パターン領域左外(Q2L)及びパターン領域右外(Q2R)には、図3(b)に示す積層フォトスペーサー(Ps−2)を形成するためのマスクパターン(48L、48R)設けられている。
積層フォトスペーサー(Ps−1)として、図1に示すスペーサーパターン(P2)を例にし、ネガ型のフォトレジストを用いている。
図18(a)に示すように、ガラス基板(10)上に設けられたネガ型のフォトレジストの塗膜(17)に、フォトマスク(PM5)を介した第1露光(L1)を与え、現像処理を行うとY軸(Y0 )左側の積層フォトスペーサー(Ps−1(P2))が形成される。この積層フォトスペーサー(Ps−1)の配列は、図3(a)に示す積層フォトスペーサー(Ps−1)の配列である。
同時に、左ブラインドシャッター(BS−L)の端(E)の符号(Y10)への位置ズレによって、Y軸(Y0 )左側近傍には第2露光(L2)が与えられ、フォトマスク(PM5)のパターン領域左外(Q2L)のマスクパターン(48L)を介した光によって積層フォトスペーサー(Ps−2)が形成される。この積層フォトスペーサー(Ps−2)の配列は、図3(b)に示す積層フォトスペーサー(Ps−2)の配列である。
図3(c)は、図3(a)に示す配列のマスクパターン(48)と図3(b)に示す配列のマスクパターン(48L)が二重露光されたものなので、図3(c)に示すように、形成された積層フォトスペーサーは、Y軸方向に有、有、有、有、有、無、・・・の順に配列されたものとなる。
10、40・・・ガラス基板
11・・・カラーフィルタの画面
11L・・・カラーフィルタの左画面
11R・・・カラーフィルタの右画面
12・・・フォトマスクのパターン領域
13L・・・フォトマスクのパターン領域左外
13R・・・フォトマスクのパターン領域右外
14L・・・カラーフィルタの画面左外
14R・・・カラーフィルタの画面右外
44L・・・画面左外フォトスペーサー
44R・・・画面右外フォトスペーサー
45、46、46L、46R、47、47L、47R、48、48L、48R、・・・マスクパターン
21・・・液晶分子
22a、22b、23、93、Mv・・・配向制御突起
41・・・ブラックマトリックス
41P・・・画素内遮光部
42・・・着色画素
43・・・透明導電膜
44・・・フォトスペーサー
80・・・MVA−LCD
BS−L・・・左ブラインドシャッター
BS−R・・・右ブラインドシャッター
L・・・画面内のマスクパターン配列の繰り返しの最小ピッチの画素数
M・・・画面外のマスクパターン配列の繰り返しの最小ピッチの画素数
N・・・請求項2に係わる画面外のマスクパターン配列の繰り返しの最小ピッチの画素数M0 ・・・カラーフィルタのY軸(継ぎ部)の左右近傍のモザイク配列部
ML ・・・フォトマスク左端モザイク配列部
MR ・・・フォトマスク右端モザイク配列部
Mv−L・・・画面左外配向制御突起
Mv−R・・・画面右外配向制御突起
Ps・・・積層フォトスペーサー
Ps−1・・・画面内の積層フォトスペーサー
Ps−2・・・画面外の積層フォトスペーサー
P1・・・第一色目の着色画素の延長パターン
P2・・・第二色目のスペーサーパターン
P3・・・第三色目のスペーサーパターン
P4・・・上部パターン
PM5・・・本発明におけるフォトマスク
Q2L・・・本発明におけるフォトマスクのパターン領域左外
Q2R・・・本発明におけるフォトマスクのパターン領域右外
Y3 ・・・カラーフィルタの左画面と右画面との間の継ぎ部
Claims (3)
- 1枚のフォトマスクを用い該フォトマスクよりサイズの大きなカラーフィルタの画面を左右に2分割した分割露光を行う際に、該画面内の左画面への露光時には右画面をブラインドシャッターにて遮光し、右画面への露光時には左画面をブラインドシャッターにて遮光する露光装置を用い、ガラス基板上に少なくともブラックマトリックス、着色画素、透明導電膜、配向制御突起及び積層フォトスペーサーを順次に形成する液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法において、
1)前記フォトマスクとして、前記画面内の積層フォトスペーサーに対応したマスクパターンの、前記画面内を比較検査する検査方向に対応した方向におけるマスクパターン配列の繰り返しの最小ピッチの画素数(T1)をLとするとき、前記カラーフィルタの画面外の積層フォトスペーサーに対応したマスクパターンの、前記画面内を比較検査する検査方向に対応した方向におけるマスクパターン配列の繰り返しの最小ピッチの画素数(T2)を、前記画面内の積層フォトスペーサーと前記画面外の積層フォトスペーサーによるパターン露光が合成されたときの最小ピッチが、前記L及び前記Lの約数以外のMとしたフォトマスクを用い、
2)前記繰り返しの最小ピッチの画素数(T1)である前記Lを前記検査方向の検査単位として、前記カラーフィルタの画面内の比較検査を行うことを特徴とする液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法。 - 1枚のフォトマスクを用い該フォトマスクよりサイズの大きなカラーフィルタの画面を左右に2分割した分割露光を行う際に、該画面内の左画面への露光時には右画面をブラインドシャッターにて遮光し、右画面への露光時には左画面をブラインドシャッターにて遮光する露光装置を用い、ガラス基板上に少なくともブラックマトリックス、着色画素、透明導電膜、配向制御突起及び積層フォトスペーサーを順次に形成する液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法において、
1)前記フォトマスクとして、前記画面内の積層フォトスペーサーに対応したマスクパターンの、前記画面内を比較検査する検査方向に対応した方向におけるマスクパターン配列の繰り返しの最小ピッチの画素数(T1)をLとするとき、前記カラーフィルタの画面外の積層フォトスペーサーに対応したマスクパターンの、前記画面内を比較検査する検査方向に対応した方向におけるマスクパターン配列の繰り返しの最小ピッチの画素数(T3)を、前記Lの約数、又は前記Lの倍数のNとし、前記画面外の積層フォトスペーサーが設けられている着色画素とは異なる色の着色画素の位置に対応したフォトマスク上の位置に、さらに積層フォトスペーサー形成用のマスクパターンを設けたフォトマスクを用い、
2)前記繰り返しの最小ピッチの画素数(T1)である前記Lを前記検査方向の検査単位とし、前記着色画素及び該着色画素とは異なる色の着色画素を少なくとも含む画素数を前記検査方向と直角方向の検査単位として、前記カラーフィルタの画面内の比較検査を行うことを特徴とする液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法。 - 請求項1又は請求項2に記載の液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法を用いて製造したことを特徴とする液晶表示装置用カラーフィルタ。
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