JP2001356328A - 基板の製造方法 - Google Patents
基板の製造方法Info
- Publication number
- JP2001356328A JP2001356328A JP2000180164A JP2000180164A JP2001356328A JP 2001356328 A JP2001356328 A JP 2001356328A JP 2000180164 A JP2000180164 A JP 2000180164A JP 2000180164 A JP2000180164 A JP 2000180164A JP 2001356328 A JP2001356328 A JP 2001356328A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- boundary line
- divided
- pattern
- horizontal
- vertical
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/136—Liquid crystal cells structurally associated with a semi-conducting layer or substrate, e.g. cells forming part of an integrated circuit
- G02F1/1362—Active matrix addressed cells
- G02F1/13625—Patterning using multi-mask exposure
Landscapes
- Liquid Crystal (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】分割露光によって基板を製造する際に利用され
るマスクを容易に設計できるとともに、分割領域の継ぎ
目を視認し難くして品位良好な表示画面を表示すること
が可能な液晶表示装置に適用される基板の製造方法を提
供することを目的とする。 【解決手段】３箇所の隣接する分割領域Ａ１、Ｂ１、Ｄ
の水平境界線２２−１と垂直境界線２１−４とがＴ字状
に交差する場合、この交差部を形成する各分割領域の境
界線のパターンは、水平境界線２２−１と垂直境界線２
１−２とが十字状に交差する４箇所の隣接する分割領域
Ａ１、Ａ２、Ｂ１、Ｂ２の交差部を形成する境界線のパ
ターンと少なくとも一部が同一である。
るマスクを容易に設計できるとともに、分割領域の継ぎ
目を視認し難くして品位良好な表示画面を表示すること
が可能な液晶表示装置に適用される基板の製造方法を提
供することを目的とする。 【解決手段】３箇所の隣接する分割領域Ａ１、Ｂ１、Ｄ
の水平境界線２２−１と垂直境界線２１−４とがＴ字状
に交差する場合、この交差部を形成する各分割領域の境
界線のパターンは、水平境界線２２−１と垂直境界線２
１−２とが十字状に交差する４箇所の隣接する分割領域
Ａ１、Ａ２、Ｂ１、Ｂ２の交差部を形成する境界線のパ
ターンと少なくとも一部が同一である。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】この発明は、基板の製造方法
に係り、特に、アクティブマトリクス型液晶表示装置に
適用される基板の製造方法に関する。
に係り、特に、アクティブマトリクス型液晶表示装置に
適用される基板の製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】液晶表示装置は、走査線や信号線などの
配線、画素電極などの電極、薄膜トランジスタなどのス
イッチ素子を有している。これらは、導電体または誘電
体からなる薄膜を成膜する成膜工程、この薄膜上にフォ
トレジストを塗布する塗布工程、塗布されたフォトレジ
ストを所定のパターンを有するマスクを介して露光する
露光工程、露光されたフォトレジストを現像する現像工
程、フォトレジストが除去されて露出した薄膜を除去す
るエッチング工程などを繰り返すことによって形成され
る。
配線、画素電極などの電極、薄膜トランジスタなどのス
イッチ素子を有している。これらは、導電体または誘電
体からなる薄膜を成膜する成膜工程、この薄膜上にフォ
トレジストを塗布する塗布工程、塗布されたフォトレジ
ストを所定のパターンを有するマスクを介して露光する
露光工程、露光されたフォトレジストを現像する現像工
程、フォトレジストが除去されて露出した薄膜を除去す
るエッチング工程などを繰り返すことによって形成され
る。
【０００３】近年、液晶表示装置の大画面化に伴い、大
画面用の基板は、分割露光方式の露光処理を行うことに
よって形成されている。すなわち、基板を複数の領域に
分割して各領域のフォトレジストを順次対応するマスク
を介して露光している。
画面用の基板は、分割露光方式の露光処理を行うことに
よって形成されている。すなわち、基板を複数の領域に
分割して各領域のフォトレジストを順次対応するマスク
を介して露光している。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】上述したような分割露
光では、基板を水平方向及び垂直方向にそれぞれ分割す
る水平境界線及び垂直境界線において、露光時のマスク
の合わせずれが生じた場合、継ぎ目が視認される場合が
ある。特に、直線的な境界線においては、ずれが生じた
ときにより継ぎ目が視認されやすくなる。このため、液
晶表示装置に表示される表示画面の品位の低下といった
問題が発生する。
光では、基板を水平方向及び垂直方向にそれぞれ分割す
る水平境界線及び垂直境界線において、露光時のマスク
の合わせずれが生じた場合、継ぎ目が視認される場合が
ある。特に、直線的な境界線においては、ずれが生じた
ときにより継ぎ目が視認されやすくなる。このため、液
晶表示装置に表示される表示画面の品位の低下といった
問題が発生する。
【０００５】この対策として、境界線をジグザグに形成
することにより、境界の特性の変化勾配を緩衝化して継
ぎ目を視認し難くしている。しかしながら、この場合、
マスクにおける境界線のパターンが複雑化し、しかも、
継ぎ目において、隣接する各マスクを確実に噛み合わせ
るために、マスクの設計及び検査に多大な時間を費やし
ている。このため、製造コストの増大を招くといった問
題が発生する。
することにより、境界の特性の変化勾配を緩衝化して継
ぎ目を視認し難くしている。しかしながら、この場合、
マスクにおける境界線のパターンが複雑化し、しかも、
継ぎ目において、隣接する各マスクを確実に噛み合わせ
るために、マスクの設計及び検査に多大な時間を費やし
ている。このため、製造コストの増大を招くといった問
題が発生する。
【０００６】この発明は、上述した問題点に鑑みなされ
たものであって、その目的は、分割露光によって基板を
製造する際に利用されるマスクを容易に設計できるとと
もに、分割領域の継ぎ目を視認し難くして品位良好な表
示画面を表示することが可能な液晶表示装置に適用され
る基板の製造方法を提供することにある。
たものであって、その目的は、分割露光によって基板を
製造する際に利用されるマスクを容易に設計できるとと
もに、分割領域の継ぎ目を視認し難くして品位良好な表
示画面を表示することが可能な液晶表示装置に適用され
る基板の製造方法を提供することにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決し目的を
達成するために、請求項１に記載の基板の製造方法は、
絶縁基板上に配置された導電体及び誘電体からなる少な
くとも１層の薄膜をパターニングする際に、前記薄膜を
水平方向に分割する水平境界線と垂直方向に分割する垂
直境界線とで囲まれた複数の分割領域に分割して露光す
る基板の製造方法において、隣接する各分割領域間の境
界線は、互いに噛み合うように非直線的に形成され、２
箇所以上の隣接する分割領域の水平境界線と垂直境界線
とがＴ字状またはＬ字状に交差する場合、この交差部を
形成する各分割領域の境界線のパターンは、水平境界線
と垂直境界線とが十字状に交差する４箇所の隣接する分
割領域の交差部を形成する境界線のパターンと少なくと
も一部が同一であることを特徴とする。
達成するために、請求項１に記載の基板の製造方法は、
絶縁基板上に配置された導電体及び誘電体からなる少な
くとも１層の薄膜をパターニングする際に、前記薄膜を
水平方向に分割する水平境界線と垂直方向に分割する垂
直境界線とで囲まれた複数の分割領域に分割して露光す
る基板の製造方法において、隣接する各分割領域間の境
界線は、互いに噛み合うように非直線的に形成され、２
箇所以上の隣接する分割領域の水平境界線と垂直境界線
とがＴ字状またはＬ字状に交差する場合、この交差部を
形成する各分割領域の境界線のパターンは、水平境界線
と垂直境界線とが十字状に交差する４箇所の隣接する分
割領域の交差部を形成する境界線のパターンと少なくと
も一部が同一であることを特徴とする。
【０００８】請求項２に記載の基板の製造方法は、絶縁
基板上に配置された導電体及び誘電体からなる少なくと
も１層の薄膜をパターニングする際に、前記薄膜を水平
方向に分割する水平境界線と垂直方向に分割する垂直境
界線とで囲まれた複数の分割領域に分割して露光する基
板の製造方法において、隣接する各分割領域間の境界線
は、互いに噛み合うように非直線的に形成され、２箇所
以上の隣接する分割領域の水平境界線と垂直境界線とが
Ｔ字状またはＬ字状に交差する場合、この交差部を形成
する各分割領域の境界線のパターンは、水平境界線と垂
直境界線とを仮想的に十字状に交差させたときに分割さ
れる４箇所の分割領域の交差部を形成する境界線のパタ
ーンと少なくとも一部が同一であることを特徴とする。
基板上に配置された導電体及び誘電体からなる少なくと
も１層の薄膜をパターニングする際に、前記薄膜を水平
方向に分割する水平境界線と垂直方向に分割する垂直境
界線とで囲まれた複数の分割領域に分割して露光する基
板の製造方法において、隣接する各分割領域間の境界線
は、互いに噛み合うように非直線的に形成され、２箇所
以上の隣接する分割領域の水平境界線と垂直境界線とが
Ｔ字状またはＬ字状に交差する場合、この交差部を形成
する各分割領域の境界線のパターンは、水平境界線と垂
直境界線とを仮想的に十字状に交差させたときに分割さ
れる４箇所の分割領域の交差部を形成する境界線のパタ
ーンと少なくとも一部が同一であることを特徴とする。
【０００９】請求項３に記載の基板の製造方法は、絶縁
基板上に配置された導電体及び誘電体からなる少なくと
も１層の薄膜をパターニングする際に、前記薄膜を水平
方向に分割する水平境界線と垂直方向に分割する垂直境
界線とで囲まれた複数の分割領域に分割して露光する基
板の製造方法において、隣接する各分割領域間の境界線
は、互いに噛み合うように非直線的に形成され、水平境
界線及び垂直境界線のパターンは、水平境界線と垂直境
界線とが十字状に交差する４箇所の隣接する分割領域の
交差部を形成する境界線のパターンと少なくとも一部が
同一であることを特徴とする。
基板上に配置された導電体及び誘電体からなる少なくと
も１層の薄膜をパターニングする際に、前記薄膜を水平
方向に分割する水平境界線と垂直方向に分割する垂直境
界線とで囲まれた複数の分割領域に分割して露光する基
板の製造方法において、隣接する各分割領域間の境界線
は、互いに噛み合うように非直線的に形成され、水平境
界線及び垂直境界線のパターンは、水平境界線と垂直境
界線とが十字状に交差する４箇所の隣接する分割領域の
交差部を形成する境界線のパターンと少なくとも一部が
同一であることを特徴とする。
【００１０】
【発明の実施の形態】以下、この発明の基板の製造方法
の一実施の形態について図面を参照して説明する。
の一実施の形態について図面を参照して説明する。
【００１１】図１及び図２に示すように、液晶表示装置
は、アレイ基板１００と、アレイ基板１００に対して所
定の間隔をおいて対向配置された対向基板２００と、ア
レイ基板１００と対向基板２００との間の所定のギャッ
プに保持された液晶組成物を含む液晶層３００とを有し
ている。
は、アレイ基板１００と、アレイ基板１００に対して所
定の間隔をおいて対向配置された対向基板２００と、ア
レイ基板１００と対向基板２００との間の所定のギャッ
プに保持された液晶組成物を含む液晶層３００とを有し
ている。
【００１２】アレイ基板１００は、透明な絶縁性基板、
すなわちガラス基板１０１上に配置された複数の走査線
１０３、これらの走査線１０３に直交するように配置さ
れた信号線１０５、走査線１０３と信号線１０５との交
差部近傍に配置されたスイッチング素子としての薄膜ト
ランジスタすなわちＴＦＴ１１０などを備えている。ま
た、アレイ基板１００は、走査線１０３及び信号線１０
５によって区画された画素領域に設けられているととも
にＴＦＴ１１０を介して信号線１０５に接続された透明
導電性部材としてのＩＴＯによって形成された画素電極
１２０を備えている。この画素電極１２０は、画像を表
示する表示エリアにマトリクス状に配置されている。
すなわちガラス基板１０１上に配置された複数の走査線
１０３、これらの走査線１０３に直交するように配置さ
れた信号線１０５、走査線１０３と信号線１０５との交
差部近傍に配置されたスイッチング素子としての薄膜ト
ランジスタすなわちＴＦＴ１１０などを備えている。ま
た、アレイ基板１００は、走査線１０３及び信号線１０
５によって区画された画素領域に設けられているととも
にＴＦＴ１１０を介して信号線１０５に接続された透明
導電性部材としてのＩＴＯによって形成された画素電極
１２０を備えている。この画素電極１２０は、画像を表
示する表示エリアにマトリクス状に配置されている。
【００１３】走査線１０３及び信号線１０５の配線部
は、アルミニウムやモリブデン−タングステンなどの低
抵抗材料によって形成されている。
は、アルミニウムやモリブデン−タングステンなどの低
抵抗材料によって形成されている。
【００１４】ＴＦＴ１１０は、ガラス基板１０１上に配
置された、チャネル領域１１２Ｃ、ソース領域１１２
Ｓ、及び、ドレイン領域１１２Ｄを有するポリシリコン
薄膜１１２と、ゲート絶縁膜１１３を介して走査線１０
３からチャネル領域１１２Ｃ上に延出されたゲート電極
１１４と、ゲート絶縁膜１１３及び層間絶縁膜１１５を
貫通してポリシリコン薄膜１１２のソース領域１１２Ｓ
にコンタクトするとともに信号線１０５と一体に形成さ
れたソース電極１１６Ｓと、ゲート絶縁膜１１３及び層
間絶縁膜１１５を貫通してポリシリコン薄膜１１２のド
レイン領域１１２Ｄにコンタクトするドレイン電極１１
６Ｄと、を備えている。
置された、チャネル領域１１２Ｃ、ソース領域１１２
Ｓ、及び、ドレイン領域１１２Ｄを有するポリシリコン
薄膜１１２と、ゲート絶縁膜１１３を介して走査線１０
３からチャネル領域１１２Ｃ上に延出されたゲート電極
１１４と、ゲート絶縁膜１１３及び層間絶縁膜１１５を
貫通してポリシリコン薄膜１１２のソース領域１１２Ｓ
にコンタクトするとともに信号線１０５と一体に形成さ
れたソース電極１１６Ｓと、ゲート絶縁膜１１３及び層
間絶縁膜１１５を貫通してポリシリコン薄膜１１２のド
レイン領域１１２Ｄにコンタクトするドレイン電極１１
６Ｄと、を備えている。
【００１５】また、アレイ基板１００は、層間絶縁膜１
１５上、及びＴＦＴ１１０などの配線部上に、窒化シリ
コン（ＳｉＮ）によって形成されたパッシベーション膜
１１９を備えている。さらに、アレイ基板１００は、パ
ッシベーション膜１１９上における各画素領域毎に、赤
（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）にそれぞれ着色されたカラ
ーフィルタ層１３０（Ｒ、Ｇ、Ｂ）を備えている。
１５上、及びＴＦＴ１１０などの配線部上に、窒化シリ
コン（ＳｉＮ）によって形成されたパッシベーション膜
１１９を備えている。さらに、アレイ基板１００は、パ
ッシベーション膜１１９上における各画素領域毎に、赤
（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）にそれぞれ着色されたカラ
ーフィルタ層１３０（Ｒ、Ｇ、Ｂ）を備えている。
【００１６】画素電極１２０は、このカラーフィルタ層
１３０上に配置されている。カラーフィルタ層１３０上
に形成された画素電極１２０は、カラーフィルタ層１３
０に形成された第１コンタクトホール１１８Ａ、及び、
パッシベーション膜１１９に形成された第２コンタクト
ホール１１８Ｂを介して、ＴＦＴ１１０のドレイン電極
１１６Ｄに電気的に接続されている。アレイ基板１００
の表面には、カラーフィルタ層１３０や画素電極１２０
を覆うように配向膜１６０が設けられている。
１３０上に配置されている。カラーフィルタ層１３０上
に形成された画素電極１２０は、カラーフィルタ層１３
０に形成された第１コンタクトホール１１８Ａ、及び、
パッシベーション膜１１９に形成された第２コンタクト
ホール１１８Ｂを介して、ＴＦＴ１１０のドレイン電極
１１６Ｄに電気的に接続されている。アレイ基板１００
の表面には、カラーフィルタ層１３０や画素電極１２０
を覆うように配向膜１６０が設けられている。
【００１７】図２に示すように、対向基板２００は、透
明な絶縁性基板、すなわちガラス基板２０１上に配置さ
れた透明導電性部材としてのＩＴＯによって形成された
対向電極２０３を備えている。対向電極２０３の表面
は、液晶層３００に含まれる液晶組成物を基板に対して
垂直な方向に配向する配向膜２０７によって覆われてい
る。
明な絶縁性基板、すなわちガラス基板２０１上に配置さ
れた透明導電性部材としてのＩＴＯによって形成された
対向電極２０３を備えている。対向電極２０３の表面
は、液晶層３００に含まれる液晶組成物を基板に対して
垂直な方向に配向する配向膜２０７によって覆われてい
る。
【００１８】これらのアレイ基板１００及び対向基板２
００は、図示しないスペーサによって所定のギャップを
形成した状態で図示しないシール材によって貼り合わさ
れる。液晶層３００は、このアレイ基板１００と対向基
板２００との間に形成された所定のギャップに封入され
る。
００は、図示しないスペーサによって所定のギャップを
形成した状態で図示しないシール材によって貼り合わさ
れる。液晶層３００は、このアレイ基板１００と対向基
板２００との間に形成された所定のギャップに封入され
る。
【００１９】また、アレイ基板１００及び対向基板２０
０の外表面には、偏光方向が互いに直交するように配置
された偏光板１７０、２１０がそれぞれ配置されてい
る。
０の外表面には、偏光方向が互いに直交するように配置
された偏光板１７０、２１０がそれぞれ配置されてい
る。
【００２０】次に、この液晶表示装置の製造方法につい
て説明する。
て説明する。
【００２１】すなわち、厚さ０．７ｍｍのガラス基板１
０１上に、ポリシリコン薄膜からなる半導体層１１２、
走査線１０３と一体のゲート絶縁膜１１３、ゲート絶縁
膜１１４、層間絶縁膜１１５、ソース電極１１６Ｓと一
体の信号線１０５、ドレイン電極１１６Ｄ、パッシベー
ション膜１１９、カラーフィルタ層１３０、画素電極１
２０、配向膜１６０を順に形成する。
０１上に、ポリシリコン薄膜からなる半導体層１１２、
走査線１０３と一体のゲート絶縁膜１１３、ゲート絶縁
膜１１４、層間絶縁膜１１５、ソース電極１１６Ｓと一
体の信号線１０５、ドレイン電極１１６Ｄ、パッシベー
ション膜１１９、カラーフィルタ層１３０、画素電極１
２０、配向膜１６０を順に形成する。
【００２２】これら、走査線や信号線などの金属配線
部、ポリシリコン薄膜の半導体層を有するＴＦＴ、誘電
体によって形成された各種絶縁膜、画素電極などの電極
部は、薄膜を成膜した後に所定の形状にパターニングさ
れることによって形成される。すなわち、これらは、導
電体または誘電体からなる薄膜を成膜する成膜工程、こ
の薄膜上にフォトレジストを塗布する塗布工程、塗布さ
れたフォトレジストを所定のパターンを有するマスクを
介して露光する露光工程、露光されたフォトレジストを
現像する現像工程、フォトレジストが除去されて露出し
た薄膜を除去するエッチング工程などを繰り返すことに
よって形成される。
部、ポリシリコン薄膜の半導体層を有するＴＦＴ、誘電
体によって形成された各種絶縁膜、画素電極などの電極
部は、薄膜を成膜した後に所定の形状にパターニングさ
れることによって形成される。すなわち、これらは、導
電体または誘電体からなる薄膜を成膜する成膜工程、こ
の薄膜上にフォトレジストを塗布する塗布工程、塗布さ
れたフォトレジストを所定のパターンを有するマスクを
介して露光する露光工程、露光されたフォトレジストを
現像する現像工程、フォトレジストが除去されて露出し
た薄膜を除去するエッチング工程などを繰り返すことに
よって形成される。
【００２３】一方、厚さ０．７ｍｍのガラス基板２０１
上に、対向電極２０３と、配向膜２０７とを備えた対向
基板２００を形成する。
上に、対向電極２０３と、配向膜２０７とを備えた対向
基板２００を形成する。
【００２４】続いて、対向基板２００の配向膜２０７の
周辺に沿って接着剤を注入口を除いて印刷し、アレイ基
板１００から対向電極２０３に電圧を印加するための電
極転移材を接着剤の周辺の電極転移電極上に形成する。
周辺に沿って接着剤を注入口を除いて印刷し、アレイ基
板１００から対向電極２０３に電圧を印加するための電
極転移材を接着剤の周辺の電極転移電極上に形成する。
【００２５】続いて、それぞれの配向膜１６０及び２０
７が対向するように、且つ、それぞれのラビング方向が
９０度となるように、アレイ基板１００及び対向基板２
００を配置し、加熱して接着剤を硬化させ、両基板を貼
り合わせる。
７が対向するように、且つ、それぞれのラビング方向が
９０度となるように、アレイ基板１００及び対向基板２
００を配置し、加熱して接着剤を硬化させ、両基板を貼
り合わせる。
【００２６】続いて、注入口から液晶組成物を注入し、
この注入口を紫外線硬化樹脂によって封止する。
この注入口を紫外線硬化樹脂によって封止する。
【００２７】このようにして、液晶表示装置を製造す
る。
る。
【００２８】上述したような製造方法において、大画面
用の基板を製造する際には、薄膜上に配置されたフォト
レジストの露光工程では、分割露光方式が採用される。
用の基板を製造する際には、薄膜上に配置されたフォト
レジストの露光工程では、分割露光方式が採用される。
【００２９】例えば、アレイ基板１００の表示領域１１
は、図３に示すように、複数の境界線によって複数の分
割領域に分割されている。すなわち、表示領域１１は、
垂直方向に分割する第１乃至第５垂直境界線２１−１〜
２１−５、及び、水平方向に分割する水平境界線２２−
１により、８箇所の分割領域Ａ１、Ａ２、Ｂ１、Ｂ２、
Ｃ、Ｄ、Ｅ、Ｆに分割されている。
は、図３に示すように、複数の境界線によって複数の分
割領域に分割されている。すなわち、表示領域１１は、
垂直方向に分割する第１乃至第５垂直境界線２１−１〜
２１−５、及び、水平方向に分割する水平境界線２２−
１により、８箇所の分割領域Ａ１、Ａ２、Ｂ１、Ｂ２、
Ｃ、Ｄ、Ｅ、Ｆに分割されている。
【００３０】これら第１乃至第５垂直境界線２１−１〜
２１−５、及び、水平境界線２２−１は、境界線をほぼ
中心にある程度の幅を持った緩衝領域２３内において、
ジグザグ状、島状などのように非直線的に形成されてい
る。これらの境界線を挟んで隣接する各分割領域は、互
いに噛み合うようなパターンを有している。
２１−５、及び、水平境界線２２−１は、境界線をほぼ
中心にある程度の幅を持った緩衝領域２３内において、
ジグザグ状、島状などのように非直線的に形成されてい
る。これらの境界線を挟んで隣接する各分割領域は、互
いに噛み合うようなパターンを有している。
【００３１】各分割領域を露光するためのマスクパター
ンは、例えば３枚のレチクルに収容されている。すなわ
ち、分割領域Ａ１及びＡ２に対応したマスクパターンＭ
Ａを収容する第１レチクルと、分割領域Ｂ１及びＢ２に
対応したマスクパターンＭＢを収容する第２レチクル
と、分割領域Ｃ、Ｄ、Ｅ、Ｆに対応したそれぞれのマス
クパターンＭＣ、ＭＤ、ＭＥ、ＭＦを収容した第３レチ
クルとが準備される。
ンは、例えば３枚のレチクルに収容されている。すなわ
ち、分割領域Ａ１及びＡ２に対応したマスクパターンＭ
Ａを収容する第１レチクルと、分割領域Ｂ１及びＢ２に
対応したマスクパターンＭＢを収容する第２レチクル
と、分割領域Ｃ、Ｄ、Ｅ、Ｆに対応したそれぞれのマス
クパターンＭＣ、ＭＤ、ＭＥ、ＭＦを収容した第３レチ
クルとが準備される。
【００３２】各マスクパターンは、緩衝領域２３より内
側の主要部に対応したメインブロックと、それぞれの境
界線に沿った緩衝領域２３に対応する複数の基本ブロッ
クとによって構成されている。
側の主要部に対応したメインブロックと、それぞれの境
界線に沿った緩衝領域２３に対応する複数の基本ブロッ
クとによって構成されている。
【００３３】水平境界線を挟んで隣接する分割領域は、
それぞれ図４に示したような基本ブロックａを有してい
る。例えば、図３において、水平境界線２２−１を挟ん
で分割領域Ａ１とＢ１とが隣接する場合、分割領域Ａ１
は、基本ブロックａ２を有し、また、分割領域Ｂ１は、
基本ブロックａ１を有している。
それぞれ図４に示したような基本ブロックａを有してい
る。例えば、図３において、水平境界線２２−１を挟ん
で分割領域Ａ１とＢ１とが隣接する場合、分割領域Ａ１
は、基本ブロックａ２を有し、また、分割領域Ｂ１は、
基本ブロックａ１を有している。
【００３４】垂直境界線を挟んで隣接する分割領域は、
それぞれ図５に示したような基本ブロックｂを有してい
る。例えば、図３において、第２垂直境界線２１−２を
挟んで分割領域Ａ１とＡ２とが隣接する場合、分割領域
Ａ１は、基本ブロックｂ２を有し、また、分割領域Ａ２
は、基本ブロックｂ１を有している。
それぞれ図５に示したような基本ブロックｂを有してい
る。例えば、図３において、第２垂直境界線２１−２を
挟んで分割領域Ａ１とＡ２とが隣接する場合、分割領域
Ａ１は、基本ブロックｂ２を有し、また、分割領域Ａ２
は、基本ブロックｂ１を有している。
【００３５】水平境界線と垂直境界線とが十字状に交差
する４箇所の隣接する分割領域は、それぞれ図６に示し
たような基本ブロックｊを有している。例えば、図３に
おいて、第２垂直境界線２１−２と水平境界線２２−１
とが十字状に交差する場合、分割領域Ａ１は、基本ブロ
ックｊ１を有し、分割領域Ａ２は、基本ブロックｊ２を
有し、分割領域Ｂ１は、基本ブロックｊ３を有し、分割
領域Ｂ２は、基本ブロックｊ４を有している。
する４箇所の隣接する分割領域は、それぞれ図６に示し
たような基本ブロックｊを有している。例えば、図３に
おいて、第２垂直境界線２１−２と水平境界線２２−１
とが十字状に交差する場合、分割領域Ａ１は、基本ブロ
ックｊ１を有し、分割領域Ａ２は、基本ブロックｊ２を
有し、分割領域Ｂ１は、基本ブロックｊ３を有し、分割
領域Ｂ２は、基本ブロックｊ４を有している。
【００３６】水平境界線と垂直境界線とがＴ字状に交差
する３箇所の隣接する分割領域は、それぞれ図７または
図８に示したような基本ブロックｔｘまたはｔｙを有し
ている。これら基本ブロックｔｘ及びｔｙを構成する６
個のブロックは、基本ブロックｊを構成する４つのブロ
ックを元に形成されている。
する３箇所の隣接する分割領域は、それぞれ図７または
図８に示したような基本ブロックｔｘまたはｔｙを有し
ている。これら基本ブロックｔｘ及びｔｙを構成する６
個のブロックは、基本ブロックｊを構成する４つのブロ
ックを元に形成されている。
【００３７】すなわち、基本ブロックｔｘを構成する基
本ブロックｔ１は、基本ブロックｊ１と基本ブロックｊ
２とを組み合わせることによって形成されている。基本
ブロックｔ２は、実質的に基本ブロックｊ３と同一であ
る。基本ブロックｔ３は、実質的に基本ブロックｊ４と
同一である。
本ブロックｔ１は、基本ブロックｊ１と基本ブロックｊ
２とを組み合わせることによって形成されている。基本
ブロックｔ２は、実質的に基本ブロックｊ３と同一であ
る。基本ブロックｔ３は、実質的に基本ブロックｊ４と
同一である。
【００３８】また、基本ブロックｔｙを構成する基本ブ
ロックｔ４は、実質的に基本ブロックｊ１と同一であ
る。基本ブロックｔ５は、実質的に基本ブロックｊ２と
同一である。基本ブロックｔ６は、基本ブロックｊ３と
基本ブロックｊ４とを組み合わせることによって形成さ
れている。
ロックｔ４は、実質的に基本ブロックｊ１と同一であ
る。基本ブロックｔ５は、実質的に基本ブロックｊ２と
同一である。基本ブロックｔ６は、基本ブロックｊ３と
基本ブロックｊ４とを組み合わせることによって形成さ
れている。
【００３９】例えば、図３において、第４垂直境界線２
１−４と水平境界線２２−１とがＴ字状に交差する場
合、隣接する３箇所の分割領域Ａ１、Ｂ１、Ｄは、基本
ブロックｔｘに対応する基本ブロックを有している。す
なわち、分割領域Ａ１は、基本ブロックｔ１を有し、分
割領域Ｄは、基本ブロックｔ２を有し、分割領域Ｂ１
は、基本ブロックｔ３を有している。
１−４と水平境界線２２−１とがＴ字状に交差する場
合、隣接する３箇所の分割領域Ａ１、Ｂ１、Ｄは、基本
ブロックｔｘに対応する基本ブロックを有している。す
なわち、分割領域Ａ１は、基本ブロックｔ１を有し、分
割領域Ｄは、基本ブロックｔ２を有し、分割領域Ｂ１
は、基本ブロックｔ３を有している。
【００４０】また、図３において、第１垂直境界線２１
−１と水平境界線２２−１とがＴ字状に交差する場合、
隣接する３箇所の分割領域Ａ１、Ｃ、Ｄは、基本ブロッ
クｔｙに対応する基本ブロックを有している。すなわ
ち、分割領域Ａ１は、基本ブロックｔ５を有し、分割領
域Ｃは、基本ブロックｔ４を有し、分割領域Ｄは、基本
ブロックｔ６を有している。
−１と水平境界線２２−１とがＴ字状に交差する場合、
隣接する３箇所の分割領域Ａ１、Ｃ、Ｄは、基本ブロッ
クｔｙに対応する基本ブロックを有している。すなわ
ち、分割領域Ａ１は、基本ブロックｔ５を有し、分割領
域Ｃは、基本ブロックｔ４を有し、分割領域Ｄは、基本
ブロックｔ６を有している。
【００４１】例えば、分割領域Ｂ１及びＢ２に対応した
マスクパターンＭＢは、図９に示すように、緩衝領域よ
り内側の主要部に対応したメインブロックｍと、このメ
インブロックｍを囲むように境界線に沿った緩衝領域に
対応した基本ブロックａ１、ｂ１、ｂ２、ｔ３、（ｔ２
＋ｔ３）、ｊ３とを有して構成されている。
マスクパターンＭＢは、図９に示すように、緩衝領域よ
り内側の主要部に対応したメインブロックｍと、このメ
インブロックｍを囲むように境界線に沿った緩衝領域に
対応した基本ブロックａ１、ｂ１、ｂ２、ｔ３、（ｔ２
＋ｔ３）、ｊ３とを有して構成されている。
【００４２】このマスクパターンＭＢは、分割領域Ｂ１
を露光する際に用いられるとともに分割領域Ｂ２を露光
する際にも用いられる。マスクパターンＭＢを用いて分
割領域Ｂ１を露光する際、第４垂直境界線２１−４と水
平境界線２２−１とがＴ字状に交差する緩衝領域２３−
１は、ブロックｔｘの基本ブロックｔ３によって形成さ
れ、第２垂直境界線２１−２と水平境界線２２−１とが
十字状に交差する緩衝領域２３−２は、ブロックｊの基
本ブロックｊ３によって形成されている。また、マスク
パターンＭＢを用いて分割領域Ｂ２を露光する際、第２
垂直境界線２１−２と水平境界線２２−１とが十字状に
交差する緩衝領域２３−２は、実質的に基本ブロックｔ
３と同一のブロックｊの基本ブロックｊ４によって形成
され、第５垂直境界線２１−５と水平境界線２２−１と
がＴ字状に交差する緩衝領域２３−３は、実質的に基本
ブロックｊ３と同一のブロックｔｘの基本ブロックｔ２
によって形成されている。
を露光する際に用いられるとともに分割領域Ｂ２を露光
する際にも用いられる。マスクパターンＭＢを用いて分
割領域Ｂ１を露光する際、第４垂直境界線２１−４と水
平境界線２２−１とがＴ字状に交差する緩衝領域２３−
１は、ブロックｔｘの基本ブロックｔ３によって形成さ
れ、第２垂直境界線２１−２と水平境界線２２−１とが
十字状に交差する緩衝領域２３−２は、ブロックｊの基
本ブロックｊ３によって形成されている。また、マスク
パターンＭＢを用いて分割領域Ｂ２を露光する際、第２
垂直境界線２１−２と水平境界線２２−１とが十字状に
交差する緩衝領域２３−２は、実質的に基本ブロックｔ
３と同一のブロックｊの基本ブロックｊ４によって形成
され、第５垂直境界線２１−５と水平境界線２２−１と
がＴ字状に交差する緩衝領域２３−３は、実質的に基本
ブロックｊ３と同一のブロックｔｘの基本ブロックｔ２
によって形成されている。
【００４３】すなわち、２箇所以上の隣接する分割領域
の水平境界線と垂直境界線とがＴ字状に交差する場合、
この交差部を形成する各分割領域の境界線のパターン
は、水平境界線と垂直境界線とが十字状に交差する４箇
所の隣接する分割領域の交差部を形成する境界線のパタ
ーンと少なくとも一部が同一である。
の水平境界線と垂直境界線とがＴ字状に交差する場合、
この交差部を形成する各分割領域の境界線のパターン
は、水平境界線と垂直境界線とが十字状に交差する４箇
所の隣接する分割領域の交差部を形成する境界線のパタ
ーンと少なくとも一部が同一である。
【００４４】このため、境界線によって分割された境界
の特性の変化勾配を緩衝化して継ぎ目を視認しにくくす
ることが可能となり、品位良好な表示画面を表示するこ
とが可能となる。また、Ｔ字状に交差する緩衝領域の基
本ブロックは、十字状に交差する緩衝領域の基本ブロッ
クに基づいて形成することにより、隣接する各マスクを
確実に噛み合わせることが可能となるとともに、マスク
の設計及び検査に要する時間を短縮することができ、製
造コストを削減することが可能となる。
の特性の変化勾配を緩衝化して継ぎ目を視認しにくくす
ることが可能となり、品位良好な表示画面を表示するこ
とが可能となる。また、Ｔ字状に交差する緩衝領域の基
本ブロックは、十字状に交差する緩衝領域の基本ブロッ
クに基づいて形成することにより、隣接する各マスクを
確実に噛み合わせることが可能となるとともに、マスク
の設計及び検査に要する時間を短縮することができ、製
造コストを削減することが可能となる。
【００４５】また、２箇所の隣接する分割領域の水平境
界線及び垂直境界線のパターンも、水平境界線と垂直境
界線とが十字状に交差する４箇所の隣接する分割領域の
交差部を形成する境界線のパターンに基づいて形成する
ことにより、よりマスクの設計を簡略化することが可能
となる。
界線及び垂直境界線のパターンも、水平境界線と垂直境
界線とが十字状に交差する４箇所の隣接する分割領域の
交差部を形成する境界線のパターンに基づいて形成する
ことにより、よりマスクの設計を簡略化することが可能
となる。
【００４６】さらに、図示しないが、２箇所以上の隣接
する分割領域の水平境界線と垂直境界線とがＬ字状に交
差する場合も、この交差部を形成する各分割領域の境界
線のパターンを、十字状に交差する４箇所の隣接する分
割領域の交差部を形成する境界線のパターンに基づいて
形成する、すなわち少なくとも一部が同一となるように
形成することにより、マスクの設計を簡略化することが
可能となる。
する分割領域の水平境界線と垂直境界線とがＬ字状に交
差する場合も、この交差部を形成する各分割領域の境界
線のパターンを、十字状に交差する４箇所の隣接する分
割領域の交差部を形成する境界線のパターンに基づいて
形成する、すなわち少なくとも一部が同一となるように
形成することにより、マスクの設計を簡略化することが
可能となる。
【００４７】また、２箇所以上の隣接する分割領域の水
平境界線と垂直境界線とがＴ字状またはＬ字状に交差す
る場合、この交差部を形成する各分割領域の境界線のパ
ターンを、水平境界線と垂直境界線とを仮想的に十字状
に交差させたときに分割される４箇所の分割領域の交差
部を形成する境界線のパターンと少なくとも一部が同一
となるように形成しても良い。
平境界線と垂直境界線とがＴ字状またはＬ字状に交差す
る場合、この交差部を形成する各分割領域の境界線のパ
ターンを、水平境界線と垂直境界線とを仮想的に十字状
に交差させたときに分割される４箇所の分割領域の交差
部を形成する境界線のパターンと少なくとも一部が同一
となるように形成しても良い。
【００４８】すなわち、図１０に示すように、複数の垂
直境界線と水平境界線とで複数の分割領域に分割した場
合であって、垂直境界線と水平境界線とが十字状に交差
することなく、すべてＴ字状に交差する場合、ブロック
Ｔｘ及びＴｙを構成する基本ブロックは、水平境界線と
垂直境界線とを仮想的に十字状に交差させたとき、例え
ばＴ字状に交差する水平境界線２２−１と垂直境界線２
１−６とを仮想的に十字状に交差させたときに分割され
る４箇所の分割領域の交差部を形成する基本ブロックの
パターンと少なくとも一部が同一となるように形成され
る。
直境界線と水平境界線とで複数の分割領域に分割した場
合であって、垂直境界線と水平境界線とが十字状に交差
することなく、すべてＴ字状に交差する場合、ブロック
Ｔｘ及びＴｙを構成する基本ブロックは、水平境界線と
垂直境界線とを仮想的に十字状に交差させたとき、例え
ばＴ字状に交差する水平境界線２２−１と垂直境界線２
１−６とを仮想的に十字状に交差させたときに分割され
る４箇所の分割領域の交差部を形成する基本ブロックの
パターンと少なくとも一部が同一となるように形成され
る。
【００４９】つまり、垂直境界線２１−６を仮想的に延
長して水平境界線２２−１と十字状に交差させた場合、
ブロックＴＸは、仮想的に４つの基本ブロックに分割さ
れる。このとき、４分割されたブロックＴＸの基本ブロ
ックは、図６に示したブロックｊの基本ブロックｊ１〜
ｊ４と同一となる。ブロックＴｘ及びＴｙを構成する基
本ブロックは、この基本ブロックｊ１〜ｊ４を元に形成
されている。
長して水平境界線２２−１と十字状に交差させた場合、
ブロックＴＸは、仮想的に４つの基本ブロックに分割さ
れる。このとき、４分割されたブロックＴＸの基本ブロ
ックは、図６に示したブロックｊの基本ブロックｊ１〜
ｊ４と同一となる。ブロックＴｘ及びＴｙを構成する基
本ブロックは、この基本ブロックｊ１〜ｊ４を元に形成
されている。
【００５０】このため、境界線によって分割された境界
の特性の変化勾配を緩衝化して継ぎ目を視認しにくくす
ることが可能となり、品位良好な表示画面を表示するこ
とが可能となる。また、Ｔ字状に交差する緩衝領域の基
本ブロックは、仮想的に十字状に交差する緩衝領域の基
本ブロックに基づいて形成することにより、隣接する各
マスクを確実に噛み合わせることが可能となるととも
に、マスクの設計及び検査に要する時間を短縮すること
ができ、製造コストを削減することが可能となる。
の特性の変化勾配を緩衝化して継ぎ目を視認しにくくす
ることが可能となり、品位良好な表示画面を表示するこ
とが可能となる。また、Ｔ字状に交差する緩衝領域の基
本ブロックは、仮想的に十字状に交差する緩衝領域の基
本ブロックに基づいて形成することにより、隣接する各
マスクを確実に噛み合わせることが可能となるととも
に、マスクの設計及び検査に要する時間を短縮すること
ができ、製造コストを削減することが可能となる。
【００５１】なお、図１０に示した例では、水平境界線
と垂直境界線とがＴ字状に交差する場合のみについて説
明したが、Ｌ字状に交差する場合についても同様であ
り、上述した例と同様の効果を得ることができる。
と垂直境界線とがＴ字状に交差する場合のみについて説
明したが、Ｌ字状に交差する場合についても同様であ
り、上述した例と同様の効果を得ることができる。
【００５２】ところで、複数の分割領域に分割する水平
境界線及び垂直境界線は、上述した例では、非直線的、
すなわちジグザグ状に形成されている。例えば、分割領
域Ａ１と分割領域Ａ２との間の垂直境界線２１−２は、
図１１に示すように、ジグザグ状に形成されている。境
界線を挟んだ両側の領域における画素特性の差によって
生じた場合、その境界線が視認される。このため、この
例では、垂直境界線２１−２は、各画素領域の垂直方向
及び水平方向のほぼ中央を通過するように形成されてい
る。したがって、境界線付近の各画素領域を、境界線に
よって２分割することにより、境界線に沿った１画素領
域は、隣接する２つの分割領域で別々に形成されること
になる。これにより、境界線を挟んだ両側の領域で画素
特性に差が生じた場合であっても、境界線に沿った各画
素領域において、異なる画素特性を吸収し、境界線を目
立ちにくくすることが可能となる。
境界線及び垂直境界線は、上述した例では、非直線的、
すなわちジグザグ状に形成されている。例えば、分割領
域Ａ１と分割領域Ａ２との間の垂直境界線２１−２は、
図１１に示すように、ジグザグ状に形成されている。境
界線を挟んだ両側の領域における画素特性の差によって
生じた場合、その境界線が視認される。このため、この
例では、垂直境界線２１−２は、各画素領域の垂直方向
及び水平方向のほぼ中央を通過するように形成されてい
る。したがって、境界線付近の各画素領域を、境界線に
よって２分割することにより、境界線に沿った１画素領
域は、隣接する２つの分割領域で別々に形成されること
になる。これにより、境界線を挟んだ両側の領域で画素
特性に差が生じた場合であっても、境界線に沿った各画
素領域において、異なる画素特性を吸収し、境界線を目
立ちにくくすることが可能となる。
【００５３】ここでは、垂直境界線２１−２についての
み説明したが、他の境界線についても同様に、各画素領
域の垂直方向及び水平方向のほぼ中央を通過するように
形成されている。
み説明したが、他の境界線についても同様に、各画素領
域の垂直方向及び水平方向のほぼ中央を通過するように
形成されている。
【００５４】したがって、画面全体において、分割領域
の継ぎ目を視認しにくくすることが可能となり、品位良
好な表示画面を表示することが可能となる。
の継ぎ目を視認しにくくすることが可能となり、品位良
好な表示画面を表示することが可能となる。
【００５５】
【発明の効果】以上説明したように、この発明によれ
ば、分割露光によって基板を製造する際に利用されるマ
スクを容易に設計できるとともに、分割領域の継ぎ目を
視認し難くして品位良好な表示画面を表示することが可
能な液晶表示装置に適用される基板の製造方法を提供す
ることができる。
ば、分割露光によって基板を製造する際に利用されるマ
スクを容易に設計できるとともに、分割領域の継ぎ目を
視認し難くして品位良好な表示画面を表示することが可
能な液晶表示装置に適用される基板の製造方法を提供す
ることができる。
【図１】図１は、この発明の基板の製造方法によって製
造されるアレイ基板の構造を概略的に示す平面図であ
る。
造されるアレイ基板の構造を概略的に示す平面図であ
る。
【図２】図２は、図１に示したアレイ基板が適用される
液晶表示装置の構造を概略的に示す断面図である。
液晶表示装置の構造を概略的に示す断面図である。
【図３】図３は、この発明の基板の製造方法による分割
露光を説明するためのアレイ基板の分割例を示す図であ
る。
露光を説明するためのアレイ基板の分割例を示す図であ
る。
【図４】図４は、図３に示したアレイ基板におけるブロ
ックａを構成する基本ブロックを示す図である。
ックａを構成する基本ブロックを示す図である。
【図５】図５は、図３に示したアレイ基板におけるブロ
ックｂを構成する基本ブロックを示す図である。
ックｂを構成する基本ブロックを示す図である。
【図６】図６は、図３に示したアレイ基板におけるブロ
ックｊを構成する基本ブロックを示す図である。
ックｊを構成する基本ブロックを示す図である。
【図７】図７は、図３に示したアレイ基板におけるブロ
ックｔｘを構成する基本ブロックを示す図である。
ックｔｘを構成する基本ブロックを示す図である。
【図８】図８は、図３に示したアレイ基板におけるブロ
ックｔｙを構成する基本ブロックを示す図である。
ックｔｙを構成する基本ブロックを示す図である。
【図９】図９は、図３に示したアレイ基板における分割
領域Ｂ１及びＢ２を露光するためのマスクを示す図であ
る。
領域Ｂ１及びＢ２を露光するためのマスクを示す図であ
る。
【図１０】図１０は、この発明の基板の製造方法による
分割露光を説明するためのアレイ基板の他の分割例を示
す図である。
分割露光を説明するためのアレイ基板の他の分割例を示
す図である。
【図１１】図１１は、各画素領域における境界線の通過
位置を示す図である。
位置を示す図である。
２１−１〜２１−７…垂直境界線 ２２−１…水平境界線 ２３…緩衝領域 １００…アレイ基板 ２００…対向基板 ３００…液晶層
Claims (4)
- 【請求項１】絶縁基板上に配置された導電体及び誘電体
からなる少なくとも１層の薄膜をパターニングする際
に、前記薄膜を水平方向に分割する水平境界線と垂直方
向に分割する垂直境界線とで囲まれた複数の分割領域に
分割して露光する基板の製造方法において、 隣接する各分割領域間の境界線は、互いに噛み合うよう
に非直線的に形成され、 ２箇所以上の隣接する分割領域の水平境界線と垂直境界
線とがＴ字状またはＬ字状に交差する場合、この交差部
を形成する各分割領域の境界線のパターンは、水平境界
線と垂直境界線とが十字状に交差する４箇所の隣接する
分割領域の交差部を形成する境界線のパターンと少なく
とも一部が同一であることを特徴とする基板の製造方
法。 - 【請求項２】絶縁基板上に配置された導電体及び誘電体
からなる少なくとも１層の薄膜をパターニングする際
に、前記薄膜を水平方向に分割する水平境界線と垂直方
向に分割する垂直境界線とで囲まれた複数の分割領域に
分割して露光する基板の製造方法において、 隣接する各分割領域間の境界線は、互いに噛み合うよう
に非直線的に形成され、 ２箇所以上の隣接する分割領域の水平境界線と垂直境界
線とがＴ字状またはＬ字状に交差する場合、この交差部
を形成する各分割領域の境界線のパターンは、水平境界
線と垂直境界線とを仮想的に十字状に交差させたときに
分割される４箇所の分割領域の交差部を形成する境界線
のパターンと少なくとも一部が同一であることを特徴と
する基板の製造方法。 - 【請求項３】絶縁基板上に配置された導電体及び誘電体
からなる少なくとも１層の薄膜をパターニングする際
に、前記薄膜を水平方向に分割する水平境界線と垂直方
向に分割する垂直境界線とで囲まれた複数の分割領域に
分割して露光する基板の製造方法において、 隣接する各分割領域間の境界線は、互いに噛み合うよう
に非直線的に形成され、 水平境界線及び垂直境界線のパターンは、水平境界線と
垂直境界線とが十字状に交差する４箇所の隣接する分割
領域の交差部を形成する境界線のパターンと少なくとも
一部が同一であることを特徴とする基板の製造方法。 - 【請求項４】前記水平境界線及び前記垂直境界線は、ジ
グザグに形成されたパターンであることを特徴とする請
求項１乃至３のいずれか１つに記載された基板の製造方
法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000180164A JP4559590B2 (ja) | 2000-06-15 | 2000-06-15 | 基板の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000180164A JP4559590B2 (ja) | 2000-06-15 | 2000-06-15 | 基板の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001356328A true JP2001356328A (ja) | 2001-12-26 |
| JP4559590B2 JP4559590B2 (ja) | 2010-10-06 |
Family
ID=18681314
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000180164A Expired - Fee Related JP4559590B2 (ja) | 2000-06-15 | 2000-06-15 | 基板の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP4559590B2 (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003005346A (ja) * | 2001-06-21 | 2003-01-08 | Toshiba Corp | マスク製造方法及びマスク製造装置 |
| JP2005513529A (ja) * | 2001-12-14 | 2005-05-12 | サムスン エレクトロニクス カンパニー リミテッド | 液晶表示装置のパネル製造方法 |
| JP2006235258A (ja) * | 2005-02-25 | 2006-09-07 | Toppan Printing Co Ltd | フォトマスク及び液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法 |
| JP2007240711A (ja) * | 2006-03-07 | 2007-09-20 | Toppan Printing Co Ltd | 液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法及び液晶表示装置用カラーフィルタ |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH11258629A (ja) * | 1998-03-12 | 1999-09-24 | Toshiba Electronic Engineering Corp | 液晶表示装置の製造方法 |
-
2000
- 2000-06-15 JP JP2000180164A patent/JP4559590B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH11258629A (ja) * | 1998-03-12 | 1999-09-24 | Toshiba Electronic Engineering Corp | 液晶表示装置の製造方法 |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003005346A (ja) * | 2001-06-21 | 2003-01-08 | Toshiba Corp | マスク製造方法及びマスク製造装置 |
| JP2005513529A (ja) * | 2001-12-14 | 2005-05-12 | サムスン エレクトロニクス カンパニー リミテッド | 液晶表示装置のパネル製造方法 |
| JP2006235258A (ja) * | 2005-02-25 | 2006-09-07 | Toppan Printing Co Ltd | フォトマスク及び液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法 |
| JP2007240711A (ja) * | 2006-03-07 | 2007-09-20 | Toppan Printing Co Ltd | 液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法及び液晶表示装置用カラーフィルタ |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP4559590B2 (ja) | 2010-10-06 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP4643738B2 (ja) | 画素領域外郭部の光漏れを防止するｃｏｔ構造液晶表示装置及びその製造方法 | |
| KR100207136B1 (ko) | 전극기판, 그 제조방법 및 이를 사용한 표시장치 | |
| KR20080025544A (ko) | 액정표시패널 및 이의 제조 방법 | |
| JP4961077B2 (ja) | 液晶表示装置用の電極基板およびその製造方法 | |
| KR100271706B1 (ko) | 액티브 매트릭스형 액정표시소자 및 그 제조방법 | |
| KR100329210B1 (ko) | 액정표시장치의 제조방법 | |
| KR20140053667A (ko) | 박막 트랜지스터 표시판 및 그 제조 방법 | |
| KR20020011573A (ko) | 액정 표시 장치 및 그의 제조 방법 | |
| US7898641B2 (en) | Production process of a display device, and a display device | |
| KR101258082B1 (ko) | 액정표시소자 및 제조방법 | |
| JP4559590B2 (ja) | 基板の製造方法 | |
| JP4112672B2 (ja) | 表示装置用アレイ基板及びその製造方法 | |
| KR100386458B1 (ko) | 액정 표시 장치용 어레이 기판 및 그의 제조 방법 | |
| JP2010164750A (ja) | 液晶表示装置 | |
| KR20150061849A (ko) | 액정 표시 장치 및 그 제조 방법 | |
| KR100650400B1 (ko) | 액정 표시 장치용 어레이 기판 및 그의 제조 방법 | |
| JP2002182242A (ja) | 液晶表示装置の製造方法 | |
| KR101825608B1 (ko) | 액정표시장치 및 그 제조방법 | |
| JP2007322610A (ja) | 表示装置の製造方法および表示装置 | |
| JPH1031228A (ja) | 液晶表示装置及びその製造方法 | |
| KR20010066174A (ko) | 광차단막을 가지고 있는 액정 표시 장치 및 그 제조 방법 | |
| KR20040051073A (ko) | 액정표시장치용 어레이기판과 그 제조방법 | |
| KR100623985B1 (ko) | 광시야각 액정 표시 장치 및 그에 사용되는 기판 | |
| KR100777691B1 (ko) | 액정 표시 장치 | |
| KR100635939B1 (ko) | 액정 표시 장치 및 그에 사용되는 기판과 그 제조 방법 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A711 Effective date: 20070514 |
|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20070525 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20091215 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20091222 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100215 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20100629 |
|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20100723 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4559590 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130730 Year of fee payment: 3 |
|
| S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130730 Year of fee payment: 3 |
|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |