JP2009187039A - 液晶表示装置用基板及びそれを備えた液晶表示装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】ゲート電極と絶縁膜と動作半導体層とソース/ドレイン電極とを有する薄膜トランジスタと、ゲート電極形成層で形成されたダミーゲート電極4と、ダミーゲート電極4上に形成された絶縁膜と、絶縁膜上に動作半導体層形成層で形成され、ゲートバスラインに対して斜めに形成された斜端辺9を有するダミー動作半導体層と、ソース/ドレイン電極形成層によりダミー動作半導体層上に所定の間隙で対向して形成されたダミーソース/ドレイン電極10、12とを有し、配線パターンの重ね合わせずれを検出する重ね合わせずれ検出用薄膜トランジスタとを備えるように構成する。
【選択図】 図1
Description
また、本発明によれば、ウェットエッチング法を用いてパターニングした際のサイドエッチング量を測定できる。
(付記1)
複数のゲートバスラインと、
前記複数のゲートバスラインにほぼ直交して形成された複数のドレインバスラインと、
前記複数のゲートバスライン及び前記複数のドレインバスラインで画定された複数の画素領域と、
前記ゲートバスラインと電気的に接続されたゲート電極と、前記ゲート電極上に形成された絶縁膜と、当該絶縁膜上に形成された動作半導体層と、前記動作半導体層上に所定の間隙で対向して形成されたソース/ドレイン電極とを有し、前記画素領域毎に形成された薄膜トランジスタと、
前記ソース電極と電気的に接続され、前記画素領域に形成された画素電極と、
前記ゲート電極形成層で形成されたダミーゲート電極と、前記ダミーゲート電極上に形成された絶縁膜と、当該絶縁膜上に前記動作半導体層形成層で形成され、前記ゲートバスラインに対して斜めに形成された斜端辺を有するダミー動作半導体層と、前記ソース/ドレイン電極形成層により前記ダミー動作半導体層上に所定の間隙で対向して形成されたダミーソース/ドレイン電極とを有し、配線パターンの重ね合わせずれを検出する重ね合わせずれ検出用薄膜トランジスタと
を備えたことを特徴とする液晶表示装置用基板。
付記1記載の液晶表示装置用基板において、
前記ダミーソース/ドレイン電極のうち一方は、基板面に垂直な方向に見て前記斜端辺と重なるように形成されていること
を特徴とする液晶表示装置用基板。
付記2記載の液晶表示装置用基板において、
前記ダミーソース/ドレイン電極のうち一方は、他方と対向する先端部が基板面に垂直な方向に見て前記斜端辺と交差するように形成されていること
を特徴とする液晶表示装置用基板。
付記3記載の液晶表示装置用基板において、
前記ダミー動作半導体層は、前記ゲートバスラインの延びる方向に平行で長さの異なる2つの平行端辺を有し、
前記ダミーソース/ドレイン電極のうち一方は、前記先端部の両側の側端部の一方が、基板面に垂直な方向に見て、長さの短い一方の前記平行端辺に交差するように形成されていること
を特徴とする液晶表示装置用基板。
付記2記載の液晶表示装置用基板において、
前記ダミーソース/ドレイン電極のうち一方は、他方と対向する先端部の両側の側端部が基板面に垂直な方向に見て前記斜端辺と交差するように形成されていること
を特徴とする液晶表示装置用基板。
付記1乃至5のいずれか1項に記載の液晶表示装置用基板において、
前記重ね合わせずれ検出用薄膜トランジスタは、ダミー動作半導体層上に形成されたダミーチャネル保護膜を有すること
を特徴とする液晶表示装置用基板。
第1の不透明層で形成され、開口部を有する重ね合わせずれ検出用パターンαと、絶縁膜を介して第2の不透明層により前記開口部を塞ぐ大きさで形成され、基板面に垂直な方向に見て前記開口部の少なくとも一部に重なるように配置された重ね合わせずれ検出用パターンβとを備え、配線パターンの重ね合わせずれを検出する重ね合わせずれ検出用パターンを有すること
を特徴とする液晶表示装置用基板。
付記7記載の液晶表示装置用基板において、
前記重ね合わせずれ検出用パターンは、前記重ね合わせずれ検出用パターンαの前記開口部の大きさに対して前記重ね合わせずれ検出用パターンβの大きさを相対的に変化させて複数形成されていること
を特徴とする液晶表示装置用基板。
不透明層で形成され開口部を有する重ね合わせずれ検出用パターンαを備えた第1の基板と、
前記第1の基板に対向して配置され、前記開口部を塞ぐ大きさで不透明層により形成され、基板面に垂直な方向に見て少なくとも前記開口部の一部に重なるように配置された重ね合わせずれ検出用パターンβを備えた第2の基板と、
前記第1及び第2の基板間に封入された液晶と
を有することを特徴とする液晶表示装置。
第1の不透明層で形成され開口部を有するサイドエッチング量測定用パターンαと、絶縁膜を介し第2の不透明層により前記開口部を塞ぐ大きさで形成され基板面に垂直な方向に見て前記開口部の少なくとも一部に重なるように配置されたサイドエッチング量測定用パターンβとを備えたサイドエッチング量測定用パターンを有すること
を特徴とする液晶表示装置用基板。
付記10記載の液晶表示装置用基板において、
前記サイドエッチング量測定用パターンは、前記サイドエッチング量測定用パターンαの前記開口部の大きさに対して前記サイドエッチング量測定用パターンβの大きさを相対的に変化させて複数形成されていること
を特徴とする液晶表示装置用基板。
付記10又は11に記載の液晶表示装置用基板において、
前記サイドエッチング量測定用パターンαはウェット(又はドライ)エッチング法を用いてパターニングされ、前記サイドエッチング量測定用パターンβはドライ(又はウェット)エッチング法を用いてパターニングされていること
を特徴とする液晶表示装置用基板。
2 ガラス基板
4 ダミーゲート電極
6 ダミーチャネル保護膜
7 ダミー動作半導体層
8 台形状領域
9 斜端辺
10 ダミーソース電極
11、11’ 平行端辺
12 ダミードレイン電極
14 基準電流測定用TFT
15 外部接続端子
16 重ね合わせずれ検出用パターン
18 重ね合わせずれ検出用パターンα
20 重ね合わせずれ検出用パターンβ
22、30 開口部
24 サイドエッチング量測定用パターン
26 サイドエッチング量測定用パターンα
28 サイドエッチング量測定用パターンβ
Claims (5)
- 複数のゲートバスラインと、
前記複数のゲートバスラインにほぼ直交して形成された複数のドレインバスラインと、
前記複数のゲートバスライン及び前記複数のドレインバスラインで画定された複数の画素領域と、
前記ゲートバスラインと電気的に接続されたゲート電極と、前記ゲート電極上に形成された絶縁膜と、当該絶縁膜上に形成された動作半導体層と、前記動作半導体層上に所定の間隙で対向して形成されたソース/ドレイン電極とを有し、前記画素領域毎に形成された薄膜トランジスタと、
前記ソース電極と電気的に接続され、前記画素領域に形成された画素電極と、
前記ゲート電極形成層で形成されたダミーゲート電極と、前記ダミーゲート電極上に形成された絶縁膜と、当該絶縁膜上に前記動作半導体層形成層で形成され、前記ゲートバスラインに対して斜めに形成された斜端辺を有するダミー動作半導体層と、前記ソース/ドレイン電極形成層により前記ダミー動作半導体層上に所定の間隙で対向して形成されたダミーソース/ドレイン電極とを有し、配線パターンの重ね合わせずれを検出する重ね合わせずれ検出用薄膜トランジスタと
を備えたことを特徴とする液晶表示装置用基板。 - 請求項1記載の液晶表示装置用基板において、
前記ダミーソース/ドレイン電極のうち一方は、基板面に垂直な方向に見て前記斜端辺と重なるように形成されていること
を特徴とする液晶表示装置用基板。 - 第1の不透明層で形成され、開口部を有する重ね合わせずれ検出用パターンαと、絶縁膜を介して第2の不透明層により前記開口部を塞ぐ大きさで形成され、基板面に垂直な方向に見て前記開口部の少なくとも一部に重なるように配置された重ね合わせずれ検出用パターンβとを備え、配線パターンの重ね合わせずれを検出する重ね合わせずれ検出用パターンを有すること
を特徴とする液晶表示装置用基板。 - 不透明層で形成され開口部を有する重ね合わせずれ検出用パターンαを備えた第1の基板と、
前記第1の基板に対向して配置され、前記開口部を塞ぐ大きさで不透明層により形成され、基板面に垂直な方向に見て少なくとも前記開口部の一部に重なるように配置された重ね合わせずれ検出用パターンβを備えた第2の基板と、
前記第1及び第2の基板間に封入された液晶と
を有することを特徴とする液晶表示装置。 - 第1の不透明層で形成され開口部を有するサイドエッチング量測定用パターンαと、絶縁膜を介し第2の不透明層により前記開口部を塞ぐ大きさで形成され基板面に垂直な方向に見て前記開口部の少なくとも一部に重なるように配置されたサイドエッチング量測定用パターンβとを備えたサイドエッチング量測定用パターンを有すること
を特徴とする液晶表示装置用基板。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2009187039A true JP2009187039A (ja) | 2009-08-20 |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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2009
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