JP4478420B2 - カラーフィルタ及びその製造方法 - Google Patents
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Description
カラー液晶表示装置には、白色光源からの光をR、G、Bの3原色に変換し、これら3原色を混合して各色を出すためのカラーフィルタを用いたものがある。図6に示されるように、カラーフィルタ1は、各画素2がR、G、Bの着色層からなる3つのサブ画素3r、3g、3bに分割された構造を有しており、さらに各サブ画素の境界部分に遮光領域であるブラックマトリックス4が形成されている。
そこで、例えば、特許文献1には、図7(a)に示されるように、ガラス基板5の有効領域6のほぼ半分の面積のフォトマスク7を用いて有効領域6のほぼ左半分を露光した後、図7(b)に示されるように、フォトマスク7に対してガラス基板5を左方へ相対移動させて同じフォトマスク7で有効領域6の残り右半分を露光することにより、左右の露光領域8及び9を形成して大面積のカラーフィルタを製造する方法が開示されている。
特許文献1には、フォトマスク7による遮光部分が互いにわずかに重複するように露光領域8及び9の露光を行うことも記載されているが、製造工程の簡素化からネガ型のレジストを使用してブラックマトリックスを形成する場合には、ブラックマトリックスが露光領域のつなぎ部分で切断されることを防ぐために、遮光部分を互いに重複させることはできず、つなぎムラを解消することは困難であった。
また、この発明は、高品質で大面積のカラーフィルタを容易に製造することができるカラーフィルタの製造方法を提供することもまた目的としている。
好ましくは、各ぼかし部が、第1のライン及び第2のラインの長手方向に沿って1mm以上の長さを有している。
なお、露光量が変化しても基板上に転写されたブラックマトリックスの線幅がほとんど変化しないような飽和領域の露光量で露光を行うことが好ましい。
図1にこの発明の実施の形態に係るカラーフィルタの製造方法を実施するための露光装置の構成を示す。露光ステージ11の上方にマスク吸着ステージ12が配置され、マスク吸着ステージ12の上方に一対の遮光板13が配置されている。露光ステージ11及び一対の遮光板13はそれぞれ図示しない駆動装置により水平方向に移動することができるように構成されている。さらに、遮光板13の上方には曲面ミラー14が配置され、この曲面ミラー14に対向して光源となるUVランプ15が配置されている。
この第2回目の露光においても、第1回目の露光の際と同様に、UVランプ15からのUV光が遮光板13の陰部にまで回り込み、転写パターンのつなぎ合わせ部分CにぼかしAが形成される。
その後、ブラックマトリックスの開口領域にR、G、Bの着色層を順次形成することによりカラーフィルタが製造される。
Claims (4)
- 基板上にブラックマトリックスが所定のパターンで形成されると共にブラックマトリックスの開口領域に複数の着色層が形成されたカラーフィルタにおいて、
ブラックマトリックスが、
所定の線幅の第1のラインと、
第1のラインと同じ線幅を有すると共に第1のラインよりずれて配置された第2のラインと、
第1のラインと第2のラインとをつなぐと共に第1のラインより広い線幅を有する第3のラインと、
第1のライン及び第2のラインの第3のラインとの境界部分に配置されると共に第1のライン及び第2のラインから第3のラインへ線幅をなだらかに変化させるぼかし部と
を備え、
第3のラインは、長手方向に沿う第1のラインの一端と第2のラインの一端とが、長手方向に沿って互いに重なりつつ幅方向に沿って互いにずれて配置されることで形成されていることを特徴とするカラーフィルタ。 - 各ぼかし部は、第1のライン及び第2のラインの長手方向に沿って1mm以上の長さを有する請求項1に記載のカラーフィルタ。
- 基板より小さな面積のフォトマスクを基板に対して相対的に移動させて複数回露光を行うことにより転写パターンをつなぎ合わせて基板上に所定のパターンのブラックマトリックスを形成すると共にブラックマトリックスの開口領域に複数の着色層を形成するカラーフィルタの製造方法において、
第1の露光によって所定の線幅の第1のラインを転写するとともに、第2の露光によって第1のラインと同じ線幅を有すると共に第1のラインよりずれて配置された第2のラインを転写する方法であって、
第1の露光において、転写パターンのつなぎ合わせ部分に位置するフォトマスクの開口部の一部を遮光板で遮蔽した状態で露光を行い、
第2の露光において、長手方向に沿う第1のラインの一端と第2ラインの一端とが長手方向に沿って互いに重なりつつ幅方向に沿って互いにずれて転写されることで第1のラインと第2のラインとをつなぐと共に第1のラインより広い線幅を有する第3のラインを形成するように、フォトマスクと基板とを相対的に移動させると共に前記つなぎ合わせ部分に位置するフォトマスクの開口部の一部を遮光板で遮蔽した状態で露光を行い、
露光時に遮光板と基板との間に所定の間隔を保持させることにより転写パターンのつなぎ合わせ部分にぼかしを形成する
ことを特徴とするカラーフィルタの製造方法。 - 露光量が変化しても基板上に転写されたブラックマトリックスの線幅がほとんど変化しないような飽和領域の露光量で露光を行う請求項3に記載のカラーフィルタの製造方法。
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JP2003311274A JP4478420B2 (ja) | 2003-09-03 | 2003-09-03 | カラーフィルタ及びその製造方法 |
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