JP3122499B2 - カラーフィルタの製造方法 - Google Patents
カラーフィルタの製造方法Info
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- JP3122499B2 JP3122499B2 JP28051491A JP28051491A JP3122499B2 JP 3122499 B2 JP3122499 B2 JP 3122499B2 JP 28051491 A JP28051491 A JP 28051491A JP 28051491 A JP28051491 A JP 28051491A JP 3122499 B2 JP3122499 B2 JP 3122499B2
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- Japan
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- photosensitive resin
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、液晶、例えばスーパ
ー・ツイステッド・ネマティック液晶と組み合わせてカ
ラー表示装置を構成する場合等に用いられるカラーフィ
ルタの製造方法、特に所定色の画素を基板上に形成する
方法の改良に関する。
ー・ツイステッド・ネマティック液晶と組み合わせてカ
ラー表示装置を構成する場合等に用いられるカラーフィ
ルタの製造方法、特に所定色の画素を基板上に形成する
方法の改良に関する。
【０００２】
【従来の技術】ネガ型感光性樹脂のフォトリソグラフィ
技術によって所定色の画素を基板上に形成するカラーフ
ィルタの製造方法は、例えば特開平１−１５２４４９号
公報等によって知られている。この工程は、 ガラス基板にネガ型感光性樹脂(以下、カラーレジス
トと記す)塗布 プリベーク 露光と現像 ポストベーク の４工程からなり、これを所定色、例えば赤(Ｒ)、緑
(Ｇ)、青(Ｂ)の３色について順次繰り返すものである。
技術によって所定色の画素を基板上に形成するカラーフ
ィルタの製造方法は、例えば特開平１−１５２４４９号
公報等によって知られている。この工程は、 ガラス基板にネガ型感光性樹脂(以下、カラーレジス
トと記す)塗布 プリベーク 露光と現像 ポストベーク の４工程からなり、これを所定色、例えば赤(Ｒ)、緑
(Ｇ)、青(Ｂ)の３色について順次繰り返すものである。
【０００３】従来、上記のにおける露光は所定の露光
パターンを備えたフォトマスクにより各色について１回
ずつ行われているが、フォトマスクの露光部に塵埃等が
付着しているとその部分が感光せず、重合不足となって
現像時に溶解されてしまうためにその部分に白抜けと称
されている画素欠陥が生じてしまう。そしてこの画素欠
陥は同一のフォトマスクを使用している間連続して発生
するため、歩留まりを低下させる大きな要因となってい
た。
パターンを備えたフォトマスクにより各色について１回
ずつ行われているが、フォトマスクの露光部に塵埃等が
付着しているとその部分が感光せず、重合不足となって
現像時に溶解されてしまうためにその部分に白抜けと称
されている画素欠陥が生じてしまう。そしてこの画素欠
陥は同一のフォトマスクを使用している間連続して発生
するため、歩留まりを低下させる大きな要因となってい
た。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】この発明はこのような
問題点に着目し、フォトマスクの露光部に付着した塵埃
等による画素欠陥をなくすことを課題としてなされたも
のである。
問題点に着目し、フォトマスクの露光部に付着した塵埃
等による画素欠陥をなくすことを課題としてなされたも
のである。
【０００５】
【課題を解決するための手段】上述の課題を解決するた
めに、この発明では、ネガ型感光性樹脂のフォトリソグ
ラフィ技術を用い、 （イ）基板の一方の面上にネガ型感光性樹脂を塗布する
工程。 （ロ）基板の感光性樹脂が塗布された面上にフォトマス
クを配置し、感光性樹脂の画素形成部に対する露光処理
を行う工程。 （ハ）上記フォトマスクとパターンが同一で露光部の線
幅を狭くした他のフォトマスクを基板の感光性樹脂が塗
布された面上に配置し、感光性樹脂の画素形成部に対す
る露光処理を行う工程。 （ニ）基板上の感光性樹脂を現像する工程。の各工程を
順次経ることにより、各所定色の画素をそれぞれ基板上
に形成するようにしている。
めに、この発明では、ネガ型感光性樹脂のフォトリソグ
ラフィ技術を用い、 （イ）基板の一方の面上にネガ型感光性樹脂を塗布する
工程。 （ロ）基板の感光性樹脂が塗布された面上にフォトマス
クを配置し、感光性樹脂の画素形成部に対する露光処理
を行う工程。 （ハ）上記フォトマスクとパターンが同一で露光部の線
幅を狭くした他のフォトマスクを基板の感光性樹脂が塗
布された面上に配置し、感光性樹脂の画素形成部に対す
る露光処理を行う工程。 （ニ）基板上の感光性樹脂を現像する工程。の各工程を
順次経ることにより、各所定色の画素をそれぞれ基板上
に形成するようにしている。
【０００６】
【作用】異なるフォトマスクの露光部の同一箇所にそれ
ぞれ塵埃が付着している確率は極めて小さいため、各色
の画素ごとに多重露光を行うことによって露光不足によ
る画素欠陥が発生しにくくなり、歩留まりが向上する。
なお、２回とも同一箇所に塵埃が付着していることは確
率的に極めて小さく、実用上は２回の露光で所期の目的
は達成される。また、２回目以降の露光部の線幅を１回
目より狭くすることにより、アライメントのずれや光漏
れのために画素形成部の線幅が太くなることが防止され
る。
ぞれ塵埃が付着している確率は極めて小さいため、各色
の画素ごとに多重露光を行うことによって露光不足によ
る画素欠陥が発生しにくくなり、歩留まりが向上する。
なお、２回とも同一箇所に塵埃が付着していることは確
率的に極めて小さく、実用上は２回の露光で所期の目的
は達成される。また、２回目以降の露光部の線幅を１回
目より狭くすることにより、アライメントのずれや光漏
れのために画素形成部の線幅が太くなることが防止され
る。
【０００７】
【実施例】次に、各色ごとに２回の露光を行うようにし
た一実施例について説明する。図１は工程のフローチャ
ート、図２は工程の説明図である。まず、図２の(a)に
示すように、ガラス基板１にネガ型感光性樹脂のカラー
レジスト２を均一に塗布し、必要ならプリベークを行
う。次に(b)に示すように位置を合わせて配置した第１
のフォトマスク３ａを介して１回目の露光を行い、露光
した部分を感光させて画素形成部２ａを形成する。続い
て(c)に示すように位置を合わせて配置した第２のフォ
トマスク３ｂを介して２回目の露光を行い、画素形成部
２ａを再度感光させる。この第２のフォトマスク３ｂは
第１のフォトマスク３ａに設けられている露光部４ａと
同一のパターンの露光部４ｂを備えたものであるが、露
光部４ｂの線幅Ｂを露光部４ａの線幅Ａよりも若干、例
えば５〜１０μm程度狭くしてある。次いで、現像を行
って(d)に示すように画素形成部２ａ以外の部分をガラ
ス基板１から除去し、必要ならポストベークを行って第
１の色の画素５の形成を終了する。以上の処理を第２の
色以下について繰り返すことにより、複数の色の画素を
備えたカラーフィルタが形成されるのである。なお、１
回目と２回目の露光を同一装置で連続して行うことによ
り、タクトを低下させることなく処理を行うことができ
る。
た一実施例について説明する。図１は工程のフローチャ
ート、図２は工程の説明図である。まず、図２の(a)に
示すように、ガラス基板１にネガ型感光性樹脂のカラー
レジスト２を均一に塗布し、必要ならプリベークを行
う。次に(b)に示すように位置を合わせて配置した第１
のフォトマスク３ａを介して１回目の露光を行い、露光
した部分を感光させて画素形成部２ａを形成する。続い
て(c)に示すように位置を合わせて配置した第２のフォ
トマスク３ｂを介して２回目の露光を行い、画素形成部
２ａを再度感光させる。この第２のフォトマスク３ｂは
第１のフォトマスク３ａに設けられている露光部４ａと
同一のパターンの露光部４ｂを備えたものであるが、露
光部４ｂの線幅Ｂを露光部４ａの線幅Ａよりも若干、例
えば５〜１０μm程度狭くしてある。次いで、現像を行
って(d)に示すように画素形成部２ａ以外の部分をガラ
ス基板１から除去し、必要ならポストベークを行って第
１の色の画素５の形成を終了する。以上の処理を第２の
色以下について繰り返すことにより、複数の色の画素を
備えたカラーフィルタが形成されるのである。なお、１
回目と２回目の露光を同一装置で連続して行うことによ
り、タクトを低下させることなく処理を行うことができ
る。
【０００８】このように多重露光を行っているので、画
素形成部２ａの一部が未感光のまま残ることは確率的に
非常に低く、仮に第１のフォトマスク３ａの露光部４ａ
に塵埃が付着していても、２回目には確実に感光させて
白抜けによる画素欠陥の発生を防止することができるの
である。また、第２のフォトマスク３ｂの露光部４ｂの
線幅Ｂを露光部４ａの線幅Ａよりも若干狭くしてあるの
で、アライメントのずれや光漏れのために画素形成部２
ａの線幅が太くなることが防止され、所定の線幅で画素
５を形成することができる。なお、この発明に直接の関
係がないので説明を省略してあるが、ガラス基板の洗
浄、マトリックス用遮光膜形成、その他の周知の処理も
必要に応じて適宜行われるものとする。
素形成部２ａの一部が未感光のまま残ることは確率的に
非常に低く、仮に第１のフォトマスク３ａの露光部４ａ
に塵埃が付着していても、２回目には確実に感光させて
白抜けによる画素欠陥の発生を防止することができるの
である。また、第２のフォトマスク３ｂの露光部４ｂの
線幅Ｂを露光部４ａの線幅Ａよりも若干狭くしてあるの
で、アライメントのずれや光漏れのために画素形成部２
ａの線幅が太くなることが防止され、所定の線幅で画素
５を形成することができる。なお、この発明に直接の関
係がないので説明を省略してあるが、ガラス基板の洗
浄、マトリックス用遮光膜形成、その他の周知の処理も
必要に応じて適宜行われるものとする。
【０００９】
【発明の効果】上述の実施例から明らかなように、この
発明は、各色の画素を形成する際に感光性樹脂に対する
露光処理を１回ごとに異なるフォトマスクを用いて２回
以上行うようにしたものである。従って、フォトマスク
の露光部に付着した塵埃等による画素欠陥を防止して歩
留まりを向上することが可能となる。なお、この発明に
よる多重露光は同一装置で連続して行うことができるの
で、タクトを低下させないで従来と同等の生産性を確保
することは容易である。また、１回目に使用するフォト
マスクの露光部の線幅よりも２回目以降に使用するフォ
トマスクの露光部の線幅を狭くすることにより、多重露
光を行うことによるアライメントのずれや光漏れのため
に画素形成部の線幅が太くなることが防止され、所定の
線幅で画素を形成することができる。
発明は、各色の画素を形成する際に感光性樹脂に対する
露光処理を１回ごとに異なるフォトマスクを用いて２回
以上行うようにしたものである。従って、フォトマスク
の露光部に付着した塵埃等による画素欠陥を防止して歩
留まりを向上することが可能となる。なお、この発明に
よる多重露光は同一装置で連続して行うことができるの
で、タクトを低下させないで従来と同等の生産性を確保
することは容易である。また、１回目に使用するフォト
マスクの露光部の線幅よりも２回目以降に使用するフォ
トマスクの露光部の線幅を狭くすることにより、多重露
光を行うことによるアライメントのずれや光漏れのため
に画素形成部の線幅が太くなることが防止され、所定の
線幅で画素を形成することができる。
【図１】この発明の一実施例の工程のフローチャートで
ある。
ある。
【図２】同実施例の工程の説明図である。
２ ネガ型感光性樹脂(カラーレジスト) ２ａ 画素形成部 ３ａ 第１のフォトマスク ３ｂ 第２のフォトマスク ４ａ，４ｂ 露光部 ５ 画素
Claims (1)
- 【請求項１】 ネガ型感光性樹脂のフォトリソグラフィ
技術を用い、順次下記（イ）（ロ）（ハ）（ニ）の各工
程を経ることにより各所定色の画素をそれぞれ基板上に
形成することを特徴とするカラーフィルタの製造方法。 （イ）基板の一方の面上にネガ型感光性樹脂を塗布する
工程。 （ロ）基板の感光性樹脂が塗布された面上にフォトマス
クを配置し、感光性樹脂の画素形成部に対する露光処理
を行う工程。 （ハ）上記フォトマスクとパターンが同一で露光部の線
幅を狭くした他のフォトマスクを基板の感光性樹脂が塗
布された面上に配置し、感光性樹脂の画素形成部に対す
る露光処理を行う工程。 （ニ）基板上の感光性樹脂を現像する工程。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28051491A JP3122499B2 (ja) | 1991-09-30 | 1991-09-30 | カラーフィルタの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28051491A JP3122499B2 (ja) | 1991-09-30 | 1991-09-30 | カラーフィルタの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0593810A JPH0593810A (ja) | 1993-04-16 |
| JP3122499B2 true JP3122499B2 (ja) | 2001-01-09 |
Family
ID=17626163
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP28051491A Expired - Fee Related JP3122499B2 (ja) | 1991-09-30 | 1991-09-30 | カラーフィルタの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3122499B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4519602B2 (ja) * | 2004-10-19 | 2010-08-04 | シャープ株式会社 | 液晶表示装置の製造方法と液晶表示装置 |
| CN103748489B (zh) * | 2011-08-31 | 2016-08-17 | 大日本印刷株式会社 | 图案相位差膜的制造方法、图案相位差膜及图像显示装置 |
-
1991
- 1991-09-30 JP JP28051491A patent/JP3122499B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0593810A (ja) | 1993-04-16 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
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Free format text: PAYMENT UNTIL: 20071020 Year of fee payment: 7 |
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| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081020 Year of fee payment: 8 |
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