JP7010279B2 - 電気光学装置、電気光学装置の製造方法、電子機器 - Google Patents
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Description
<電気光学装置>
本実施形態に係る電気光学装置について、図1から図4を参照して説明する。図1は第1実施形態に係る電気光学装置の構成を示す概略平面図、図2は第1実施形態に係る電気光学装置の電気的な構成を示す等価回路図、図3は画素におけるサブ画素及びカラーフィルターの配置を示す概略平面図、図4は図3のA-A’線に沿ったサブ画素の構造を示す概略断面図である。本実施形態に係る電気光学装置は、後述するヘッドマウントディスプレイ(HMD)の表示部に好適な自発光型のマイクロディスプレイである。
図2に示すように、電気光学装置100は、互いに交差する走査線12及びデータ線13と、電源線14とを有している。走査線12は走査線駆動回路16に電気的に接続され、データ線13はデータ線駆動回路15に電気的に接続されている。また、走査線12とデータ線13とで区画された領域にサブ画素18が設けられている。
次に、図3を参照して画素Pにおけるサブ画素18B,18G,18R及びカラーフィルター36の配置について説明する。上述したように、サブ画素18には有機EL素子30と画素回路20とが設けられることから、以降、サブ画素18Bに配置された有機EL素子30を有機EL素子30Bと呼び、サブ画素18Gに配置された有機EL素子30を有機EL素子30Gと呼び、サブ画素18Rに配置された有機EL素子30を有機EL素子30Rと呼ぶ。また、有機EL素子30Bの画素電極31を画素電極31Bと呼び、有機EL素子30Gの画素電極31を画素電極31Gと呼び、有機EL素子30Rの画素電極31を画素電極31Rと呼ぶ。
次に、図4を参照して、電気光学装置100におけるサブ画素18の構造について説明する。なお、図4は図3に示したA-A’線に沿った断面を示すものであり、A-A’線は、サブ画素18B、サブ画素18R、サブ画素18Gの順で、当該サブ画素18をY方向に横断する線分である。
本実施形態に係る電気光学装置100は、反射層25と対向電極33との間に光共振構造が取り入れられている。電気光学装置100において、発光機能層32が発した光は、反射層25と対向電極33との間で繰り返し反射され、反射層25と対向電極33との間の光学的な距離に対応する特定波長(共振波長)の光の強度が増幅され、カラーフィルター36を透過した光が表示光として対向基板40からZ方向に射出される。
次に、素子基板10と対向基板40との接着構造について、図5及び図6を参照して説明する。図5は素子基板における遮光部の配置を示す概略平面図、図6は図5のC-C’線に沿った電気光学装置の構造を示す概略断面図である。図5のC-C’線は、X方向に遮光部と表示領域E1とを横断する線分である。なお、図6では素子基板10における画素回路20や、画素回路20に繋がる走査線12、データ線13、電源線14、データ線駆動回路15、走査線駆動回路16の表示を省略している。
次に、電気光学装置100の製造方法について、図7~図11を参照して説明する。図7は第1実施形態の電気光学装置の製造方法を示すフローチャート、図8~図11は第1実施形態の電気光学装置の製造方法を示す概略断面図である。
(1)カラーフィルター36において、着色層36Bと着色層36Rとは、Y方向における境界部分で、双方の端部が重なるように形成される。また、着色層36B及び着色層36Rに対して着色層36Gは、X方向における境界部分で、双方の端部が重なるように形成される。このような素子基板10のカラーフィルター36に対して、Y方向に配列する着色層36Bと着色層36Rとに重なる位置にOC層50がパターニング形成される。これにより、カラーフィルター36上において接着剤41との接着面にY方向に延在するストライプ状の凹凸としての複数の溝50aが形成される。溝50aはサブ画素18Gにおける同じくY方向に延在する着色層36Gと重なった位置に形成される。つまり、溝50aの底部には段差が生じない。素子基板10と対向基板40とを貼り合せる接着工程では、素子基板10側に塗布された接着剤41を押し広げるように対向基板40を押し付けると、接着剤41は複数の溝50aに従って押し広がる。したがって、例えば3つの着色層36B,36G,36Rの膜厚が互いに異なり、且つOC層50が無く、カラーフィルター36上に複雑な段差が生じている場合に比べて、接着剤41の塗布むらが生じ難い。また、接着剤41は第1の方向としてのY方向に延在する底部に段差がない複数の溝50aに従って広がるので、溝50aにおいて気泡が生じ難い。つまり、表示に影響を及ぼす気泡が生じ難い電気光学装置100とその製造方法を提供できる。
次に、第2実施形態の電気光学装置とその製造方法について、図12及び図13を参照して説明する。図12は第2実施形態の電気光学装置の構造を示す概略断面図、図13は第2実施形態の電気光学装置におけるカラーフィルター及びオーバーコート層の構造を示す拡大断面図である。なお、図12は、上記第1実施形態の図6に対応する概略断面図である。
(1)カラーフィルター36を構成する3つの着色層36B,36G,36Rの膜厚の設定に関わらず、カラーフィルター36上の接着剤41との接着面に、第1のOC層51とパターニング形成された第2のOC層52とによって、Y方向に延在するストライプ状の凹凸としての複数の溝52aが形成されている。言い換えれば、3つの着色層36B,36G,36Rの膜厚が異なってカラーフィルター36上に複雑な段差が生じていたとしても、カラーフィルター36は第1のOC層51によって覆われているので、素子基板210と対向基板40とを貼り合わせる接着工程では、接着剤41の塗布むらが生じ難い。また、接着剤41は第1の方向としてのY方向に延在する底部に段差がない複数の溝52aに従って広がるので、溝52aにおいて気泡が生じ難い。つまり、表示に影響を及ぼす気泡が生じ難い電気光学装置200とその製造方法を提供できる。
次に、第3実施形態の電気光学装置とその製造方法について、図14及び図15を参照して説明する。図14は第3実施形態の電気光学装置の構造を示す概略断面図、図15は第3実施形態の電気光学装置におけるカラーフィルターの構造を示す拡大断面図である。なお、図14は、上記第1実施形態の図6に対応する概略断面図である。
(1)封止層34上のカラーフィルター36において、第2の方向としてのX方向に隣り合う着色層36B(着色層36R)と着色層36Gとの膜厚を異ならせ、着色層36B(着色層36R)の膜厚よりも着色層36Gの膜厚を小さくすることで、着色層36G上にY方向に延在する溝36aを形成する。つまり、カラーフィルター36上の接着剤41に対する接着面にストライプ状の凹凸としての複数の溝36aが形成される。素子基板310と対向基板40とを貼り合わせる接着工程では、接着剤41は第1の方向としてのY方向に延在する底部に段差がない溝36aに従って広がるので、溝36aにおいて気泡が生じ難い。つまり、表示に影響を及ぼす気泡が生じ難い電気光学装置300とその製造方法を提供できる。
<電子機器>
次に、本実施形態の電気光学装置が表示部に適用された電子機器の一例としてヘッドマウントディスプレイ(HMD)を例に挙げ、図16を参照して説明する。図16は、電子機器としてのヘッドマウントディスプレイの構成を示す模式図である。
図17に示すように、変形例1では、X方向に隣り合う画素Pにおいて、一方の画素Pのサブ画素18Gと、他方の画素Pのサブ画素18GとがX方向に隣り合うように配置されている。着色層36Gは、Y方向に配列する2列分のサブ画素18Gに対してストライプ状に配置されている。したがって、図18に示すように、着色層36B及び着色層36Rと重なるようにOC層50をパターニング形成すれば、X方向に隣り合う2つの画素Pに跨ってY方向に延在する溝50bが形成される。つまり、上記第1実施形態における溝50aよりも幅の広い溝50bが形成される。したがって、素子基板10と対向基板40とを貼り合わせる接着工程では、接着剤41は幅の広い溝50bに従って押し広げられ、溝50bに気泡が混じり難くなる。なお、上記第1実施形態で説明したように、画素Pにおけるサブ画素18B,18G,18Rの配置は、これに限定されるものではないので、OC層50をパターニング形成して得られる上記変形例1の溝50bがX方向に延在する形態もあり得る。
図19に示すように、変形例2では、画素Pは、例えば、2つのサブ画素18Bと、それぞれ1つのサブ画素18G、サブ画素18Rを有する。画素Pにおいて、サブ画素18Bとサブ画素18RとはY方向に配列している。サブ画素18Bに対してX方向に隣り合ってサブ画素18Gが配置されている。また、サブ画素18Rに対してX方向に隣り合ってもう一つのサブ画素18Bが配置されている。サブ画素18B,18G,18Rのそれぞれにおける開口部の大きさは同じであるが、画素Pには2つのサブ画素18Bが含まれているため、実質的に青色の発光が得られる領域は大きくなっている。このようなサブ画素18B,18G,18Rの配置に対応してカラーフィルター36の着色層36B,36G,36Rがそれぞれ独立して配置されている。このような着色層36B,36G,36Rの配置において、各着色層の膜厚を異ならせると、画素P内においてカラーフィルター36上に複雑な段差が生じてしまう。変形例2では、図20に示すように、上記第2実施形態と同様にして、カラーフィルター36を覆うように第1のOC層51を形成した後に、例えば、平面視で着色層36Bと着色層36Rとに重なる位置において、第1のOC層51上に第2のOC層52をパターニング形成する。そうすると、平面視で着色層36Gと着色層36Bとに重なる位置においてカラーフィルター36上にY方向に延在するストライプ状の凹凸としての複数の溝52aが形成される。したがって、変形例2の素子基板と対向基板40とを貼り合わせる接着工程では、接着剤41は複数の溝52aに従って押し広げられ、溝52aに気泡が混じり難くなる。なお、画素Pは3つのサブ画素18B,18G,18Rを含むことに限定されず、例えば、青色(B)、緑色(G)、赤色(R)以外に黄色(Y)のサブ画素18Yを含むとしてもよい。また、画素Pが合計で4つのサブ画素18を含む形態であっても、上記第2実施形態で説明したように、カラーフィルター36上に形成される複数の溝52aの延在方向はY方向に限定されず、X方向であってもよい。
この構成によれば、カラーフィルター上にオーバーコート層を設けることから着色層における膜厚の違いによって生ずる段差の影響を受け難くなる。すなわち、表示に影響を及ぼす気泡がより生じ難い電気光学装置を提供できる。
この構成によれば、少なくとも3色の着色層が設けられる画素ごとにオーバーコート層によってストライプ状の凹凸を実現できる。
この構成によれば、第1の方向配列した膜厚が異なる着色層をオーバーコート層によって覆うことで、第1基板と第2基板との接着時に当該膜厚が異なる着色層の影響を受けなくなる。
この構成によれば、第1の方向に配列した着色層に対して第2の方向に配列した着色層の膜厚を異ならせることにより、カラーフィルター上の接着面に第1の方向に延在するストライプ状の凹凸を構成できる。
この構成によれば、第1のオーバーコート層によってカラーフィルターを覆うことから、カラーフィルターを構成する着色層において例えば色ごとに膜厚が異なっていたとしても、着色層の段差の影響を受けずに、第1基板と第2基板とを接着剤を介して接着できる。
この構成によれば、発光領域の囲む位置に少なくとも3色の着色層を積層してなる遮光部が設けられているため、発光領域からの光漏れを遮光部で遮光して見栄えのよい表示を行える電気光学装置を提供できる。
この方法によれば、発光領域の囲む位置に少なくとも3色の着色層を積層してなる遮光部が形成されるため、発光領域からの光漏れを遮光部で遮光して見栄えのよい表示を行える電気光学装置を製造することができる。
この方法によれば、遮光部と発光領域に設けられたカラーフィルターとの間に生ずる段差をオーバーコート層で緩和することができる。したがって、接着工程では、接着剤は容易に遮光部を乗り越えて広がることができ、遮光部とカラーフィルターとの段差で接着剤に気泡が混じることを低減することができる。
本願の構成によれば、少なくとも発光領域に気泡を含み難い自発光型の電気光学装置を備えていることから、見栄えのよい表示が可能な電子機器を提供することができる。
Claims (7)
- 第1基板と、
第2基板と、
前記第1基板と前記第2基板との間に設けられるカラーフィルターと、
前記カラーフィルターと前記第2基板との間に設けられる接着剤と、
前記カラーフィルターと前記接着剤との間に設けられる第1オーバーコート層と、
前記カラーフィルターと前記接着剤との間に設けられ、前記第1オーバーコート層に沿
って設けられる第2オーバーコート層と、
を備え、
前記カラーフィルターは、少なくとも3色の着色層を含み、
前記第1オーバーコート層および前記第2オーバーコート層は、前記少なくとも3色の
着色層のうち、第1の方向に配置された着色層を覆い、
前記第1の方向に配置された着色層は、それぞれ異なる厚さを有する着色層である、
電気光学装置。 - 前記接着剤は、前記第2基板と接する第1面と、前記第1オーバーコート層と接する第
2面と、前記カラーフィルターと接する第3面と、を有し、
前記第1基板の厚み方向における、前記第1面と前記第2面との間の第1の距離は、前
記厚み方向における、前記第1面と前記第3面との間の第2の距離と異なる、
請求項1に記載の電気光学装置。 - 前記接着剤は、前記第2オーバーコート層と接する第4面を有し、
前記厚み方向における、前記第1面と前記第4面との間の第3の距離は、前記第1の距
離と等しい、
請求項2に記載の電気光学装置。 - 前記第2の距離は、前記第1の距離および前記第3の距離よりも長い、
請求項3に記載の電気光学装置。 - ストライプ状の凹凸は、前記第2面と、前記第3面と、前記第4面と、によって形成さ
れる、
請求項3または4に記載の電気光学装置。 - 前記カラーフィルターは、少なくとも3色の着色層を含み、
前記少なくとも3色の着色層を積層することで形成される遮光部は、複数の発光素子が
配置される表示領域を囲む位置に設けられる、
請求項1乃至5のいずれか1項に記載の電気光学装置。 - 請求項1乃至6のいずれか1項に記載の電気光学装置を備えた電子機器。
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