TWI391026B - 雙面顯示裝置及其製造方法 - Google Patents

Description

雙面顯示裝置及其製造方法

本發明是有關於一種雙面顯示裝置及其製造方法，且特別是有關於一種使用有機電激發光材料之雙面顯示裝置及其製造方法。

目前，普遍運用於小尺寸電子產品之有機發光二極體(Organic Light-emitting Diode，OLED)顯示裝置，由於其元件結構較為簡單、不需外加背光源的特點，且封裝後之顯示裝置其厚度很小，因此可充分表現攜帶產品所需的輕薄特性。

另外，為符合產品趨勢，例如手機具有內外螢幕以雙面顯示畫面，多種雙面顯示裝置之技術亦逐漸發展中。現行其中一種採用有機發光二極體之雙面顯示裝置中，為了使原本不透光之陰極電極透光以達到雙面顯示之效果，通常會將陰極電極之材料製作得相當薄。然而，當陰極電極之膜層過薄時，會造成阻抗增加，使雙面發光裝置之發光效率降低。另外，也會因為阻抗問題而產生亮度不均之MURA問題。

本發明係有關於一種雙面顯示裝置及其製造方法，係於陰極電極上設置輔助電極，此輔助電極對應可視區之周 邊或是列與列畫素之間設置，進而增加部分陰極電極之厚度，藉此以解決壓差過大之問題。

本發明提出一種雙面顯示裝置，此裝置包括：一第一透明基板、一陽極電極、一有機電激發光層、一陰極電極與一第一輔助電極。陽極電極設置於第一透明基板上。有機電激發光層設置於陽極電極上。陰極電極設置於有機電激發光層上，且陰極電極之面積係不小於第一透明基板上一可視區之範圍。第一輔助電極設置於陰極電極上，且第一輔助電極係對應該可視區之至少一邊側設置。

本發明再提出一種雙面顯示裝置之製造方法，此方法包括：提供一第一透明基板；形成一陽極電極於第一透明基板上；形成一有機電激發光層於陽極電極上；形成一陰極電極於有機電激發光層上，並使陰極電極之面積不小於第一透明基板上一可視區之範圍；以及，形成一第一輔助電極於陰極電極上，並使第一輔助電極對應於可視區之至少一邊側設置。

為讓本發明之上述內容能更明顯易懂，下文特舉較佳實施例，並配合所附圖式，作詳細說明如下：

實施例一

請參照第1圖，其繪示依照本發明實施例一之雙面顯示裝置之剖面圖。如第1圖所示，雙面顯示裝置100包括第一透明基板110、第二透明基板120、陽極電極130、陰 極電極140、有機電激發光層150、第一偏光板160、第二偏光板170與輔助電極。陽極電極130、陰極電極140、有機電激發光層150與輔助電極係封裝於第一透明基板110與第二透明基板120之間。其中，有機電激發光層150位於陽極電極130與陰極電極140之間，輔助電極則位於陰極電極140與第二透明基板120之間。第一偏光板160設置於第一透明基板110之外側，第二偏光板170則設置於第二透明基板120之外側。第一偏光板160與第二偏光板170是用以避免對向之光線穿透。輔助電極之配置與架構將於以下附圖說明。

第1圖係簡化之圖示，雙面顯示裝置100實際上包括多個畫素結構，每個畫素結構中包括一有機電激發光層150與陽極電極130，而陰極電極140則為分佈於雙面顯示裝置100上一可視區之整片電極。

請接著參照第2圖，其繪示第1圖雙面顯示裝置的單一畫素結構之剖面圖。為簡化圖示，第二透明基板120、第一偏光板160與第二偏光板170係省略。如第2圖所示，第一透明基板110是一薄膜電晶體(thin film transistor，TFT)基板，其上包括多個具驅動用途之薄膜電晶體。此畫素結構上之陽極電極130係耦接至薄膜電晶體112。有機電激發光層150設置於陽極電極130上，陰極電極140則設置於有機電激發光層150上。

陽極電極130係一透明電極，其材質可以是氧化銦錫(indium tin oxide，ITO)。陰極電極140之材質係為導電 材料中之鋁(Al)，其係整面蒸鍍於雙面顯示裝置100之可視區。為了達到雙面顯示之效果，必須控制陰極電極140之膜厚，使之成為可透光之電極。當陰極電極之膜層過薄時，會造成阻抗增加，使雙面發光裝置之發光效率降低。另外，也會因為阻抗問題而產生亮度不均之MURA問題。而為了降低因膜層過薄所導致之壓差(IR Drop)問題，於雙面顯示裝置100中之陰極電極140上可設置輔助電極(見第4A圖等)以降低壓差問題。另外，有機電激發光層150之材質係有機電激發光(organic electro-luminescence)材料。係可根據各畫素結構所要顯示之顏色以挑選合適之有機電激發光材料，以於有機電激發光層150因陰陽兩極之電位差被激發時，使畫素顯示對應之顏色。以下將附圖說明輔助電極之設計與製造。

本實施例提出雙面顯示裝置100之製造方法，其方法流程圖請參照第3圖。如第3圖所示，雙面顯示裝置100之製造方法包括步驟31~35：提供第一透明基板；形成陽極電極於第一透明基板上；形成有機電激發光層於陽極電極上；形成陰極電極於有機電激發光層上，並使陰極電極之面積係不小於第一透明基板上一可視區之範圍；及，形成輔助電極於陰極電極上，並使該輔助電極對應於可視區之至少一邊側。

於步驟31~32中，可以利用一玻璃基板作為第一透明基板110之底材，且薄膜電晶體112位於第一透明基板110上，如第2圖所示。至於陽極電極130之製造，其可利用 氧化銦錫(ITO)製作到第一透明基板110上，並使陽極電極130耦接至薄膜電晶體112。

如步驟33~34所示，接著便是依序製造有機電激發光層150與陰極電極140於陽極電極130之上。

於陽極電極130、有機電激發光層150與陰極電極140皆製作完成後，便是於陰極電極140上製造出輔助電極。值得注意的是，輔助電極於陰極電極140上之形狀具有多種變形，以下逐一說明之。

請先參照第4A~4B圖，第4A圖繪示根據第3圖方法流程製造之輔助電極之第一示意圖，第4B圖繪示形成第4A圖輔助電極之第一光罩之示意圖。如第4A圖所示，陰極電極140係整面覆蓋於第一透明基板110(1)之上，而輔助電極180設置於陰極電極140上，並對應於第一透明基板110(1)上之可視區VR之至少一邊側設置。

輔助電極180包括四個長條形電極181~184。四個長條形電極181~184分別對應於可視區VR之四邊側設置，且彼此之間不相連。其中長條形電極181、183係耦接至第一透明基板110上之二個接觸孔(contact hole)部C1、C2，接觸孔部C1、C2係用以供電荷流入的部分。

如第4B圖所示，用以製造四個長條形電極181~184之第一光罩300包括四個長形開口301~304。這四個長形開口301~304可於陰極電極140上製造出圍繞可視區VR設置之長條形電極181~184，其中長條形電極181~184之形狀係分別對應於長形開口301~304之形狀。

製造輔助電極180時，是先將第一光罩300設置於第一透明基板110(1)之陰極電極140上，並將第一光罩300上之長形開口301~304對應於可視區VR之四邊側設置。接著，便是蒸鍍輔助電極180之材料於陰極電極140上，使輔助電極140之電極材料填滿各個長形開口301~304。於蒸鍍完成後，便可去除第一光罩300。如此一來，便可以形成各個不相連之長條形電極181~184。

於陰極電極140上設置之輔助電極180是圍繞著可視區VR設置，並不會增加陰極電極140於可視區VR內之厚度，因此不會影響可視區VR中之畫素顯示。當供給電壓給可視區VR內之畫素時，由於輔助電極180圍繞可視區VR之設計，電荷可以直接透過周邊之輔助電極180快速地被帶到離接觸孔部C1、C2較遠的地方，如此一來，便可解決整個可視區VR上壓差不均與阻抗增加之問題。

由於第一光罩300之四個長形開口301~304之間具有適當之間隔設計，使第一光罩300之結構較為堅固。

接著請參照第5A~5B圖，第5A圖繪示根據第3圖方法流程製造之輔助電極之第二示意圖，第5B圖繪示形成第5A圖輔助電極之第二光罩之示意圖。如第5A圖所示，輔助電極190包括二個L形電極191、192與一長條形電極193，其中L形電極191、192分別對稱設置於可視區VR之二側，而長條形電極193則設置於可視區VR之下邊側，並位於二個L形電極191、192之間。

如第5B圖所示，第二光罩400上具有二個L形開口 401、402與一個長形開口403。於製造輔助電極190時，係將L形開口401、402與長形開口403對應於可視區VR之周圍設置，接著再進行蒸鍍輔助電極190材料之步驟。而於電極材料蒸鍍完畢，並將第二光罩400從第一透明基板110(2)上移走後，便可形成如第5A圖所示之輔助電極190架構。

輔助電極190於可視區VR之左上部分為連續之L形電極191，其與接觸孔部C1耦接；輔助電極190於可視區VR之右上部分亦為連續之L形電極192，其與接觸孔部C2耦接，因此可視區VR內離接觸孔部C1、C2最遠端之電荷亦可以由其二側之L形電極191、192被迅速地帶走，使壓差過大情形獲得改善。

另外，請參照第6A~6B圖，第6A圖繪示根據第3圖方法流程製造之輔助電極之第三示意圖，第6B圖繪示形成第6A圖輔助電極之第三光罩之示意圖。如第6A圖所示，輔助電極200包括二個ㄇ形電極201、202，其中ㄇ形電極201、202對稱設置於可視區VR之二側，且各別耦接至接觸孔部C1、C2。

如第6B圖所示，第三光罩500上具有二個ㄇ形開口501、502。於製造輔助電極200時，係將ㄇ形開口501、502對應於可視區VR之周圍設置，接著再進行蒸鍍輔助電極材料之步驟。而於電極蒸鍍完畢，並將第三光罩500從第一透明基板110(3)上移走後，便可形成如第6A圖所示之輔助電極架構。

輔助電極200之二個ㄇ形電極201、202皆為連續之電極，其分別與接觸孔部C1、C2耦接，並圍繞於可視區VR周圍，因此於可視區VR內離接觸孔部C1、C2最遠端之阻抗亦可獲得改善。第三光罩500之ㄇ形開口501、502之間隔大小必須經過適當之設計，以作為第三光罩500設置於第一透明基板110(3)上之支撐部分。

請參照第7A~7C圖，第7A圖繪示根據第3圖方法流程製造之輔助電極之第四示意圖，第7B圖繪示形成第7A圖輔助電極之第四光罩之示意圖，第7C圖繪示第7B圖之第四光罩設置於第一透明基板上之示意圖。如第7A圖所示，輔助電極210係一設置於陰極電極140上之連續電極，其連續不間斷地環繞於可視區VR設置，且整個輔助電極210係耦接至接觸孔部C1、C2。

如第7B圖所示，第四光罩600包括邊框610、板面620與多個支撐部630，邊框610與板面620之間是以支撐部630相連接，邊框610是藉由支撐部630以固定板面620之位置。而與邊框610與板面620之間具有多個開口640。這些開口640是由前述之支撐部630所分隔開來。製造第四光罩600時，其係可以利用半蝕刻的方式於邊框610與板面620之間形成多個支撐部630。

如第7C圖所示，製造輔助電極210時，是先將第四光罩600以反過來張網之方式設置於第一透明基板110(4)上，並接著進行蒸鍍的步驟。其中，第四光罩600之邊框610高度h約為100微米(μm)，支撐部630與第一透明 基板110(4)之間距d約為70微米，支撐部630之一寬度w約為20微米。藉由第一透明基板110(4)與支撐部630間之適當之間距設計，可使輔助電極210於蒸鍍完畢後形成一完整且連續之電極架構。

輔助電極210之材料係由第四光罩600側往第一透明基板110(4)之方向進行蒸鍍。為使第四光罩600上各開口640內之電極材料相連接，較佳是進行二次蒸鍍。輔助電極210之電極材料之蒸鍍角較佳是介於0~30度之間。對第一透明基板110(4)進行第一次的電極材料蒸鍍後，可以再次調整電極材料之蒸鍍角度，亦即，再從另一個角度將電極材料蒸鍍於第一透明基板110(4)上。如此一來，不僅第四光罩600上之各開口640內填滿輔助電極210之電極材料，且第一次蒸鍍時被多個支撐部630遮住而未有電極材料覆蓋於其上之陰極電極140區域，也因為蒸鍍角的改變，將電極材料覆蓋上去，如第7A圖所示，輔助電極210係一環繞可視區VR且設置於陰極電極140上之連續電極架構。當然，陰極電極140上之電荷便可以直接流向其鄰近之連續輔助電極210，並透過輔助電極210迅速地流到離接觸孔較遠的地方。

另外，除了可藉由第四光罩600製造如第7A圖所示之輔助電極架構，亦可利用其他之光罩製造連續之輔助電極210。

請接著參照第8A~8B圖，第8A圖繪示形成第7A圖輔助電極之第五光罩之示意圖，第8B圖繪示第8A圖之第 五光罩設置於第一透明基板上之示意圖。如第8A圖所示，第五光罩700包括邊框710、板面720與多個支撐部730，其中邊框710與板面720之間是以支撐部730相連接，且邊框710與板面720之間之多個開口740係由支撐部730所分隔開來。第五光罩700上之支撐部730可利用蝕刻之方式製造，其中支撐部730之部分較薄，於蒸鍍輔助電極210之材料時，亦需將第五光罩700以反過來張網之方式設置於第一透明基板110(4)上。

於製造輔助電極210時，是先將第五光罩700之板面720對應於第一透明基板110(4)之可視區VR設置，並使第五光罩700上之開口740對應於可視區VR之周圍設置。如第8B圖所示，第五光罩700之支撐部730與第一透明基板110(4)之間具有一間距，於蒸鍍電極材料時，此間距可使各開口740內之電極相連接。同樣地，輔助電極210之電極材料之蒸鍍角較佳是介於0~30度之間。當對第一透明基板110(4)進行第一次的電極材料之蒸鍍後，便可以再次調整電極材料之蒸鍍角度，亦即從另一個角度將電極材料蒸鍍於第一透明基板110(4)上。如此一來，便可以使輔助電極210連續成膜。

至於輔助電極180、190、200與210之材料，其係可與陰極電極140之材質相同或不相同。較佳地，輔助電極180、190、200與210之材質可為鋁或銀。

由於當可視區VR上之壓差不均與阻抗增加時，會影響畫素之顯示效果。當設置輔助電極於陰極電極140上 後，其有效地使壓差與阻抗降低，此時雙面顯示裝置100之亮度便得以提升。當雙面顯示裝置100之亮度較大時，顯示裝置100上之MURA情形亦不明顯；也就是說，當亮度較高時，MURA也較不容易被人眼觀察出來，當然，對於雙面顯示裝置100之顯示品質就相對的提高不少。另外，由於輔助電極之設置，使陰極電極140之厚度可以適當的變薄，使光穿透陰極電極140之比率增加。如此一來，除了可增加雙面顯示效果，亦可減少雙面顯示裝置100之厚度。

實施例二

請參照第9A~9C圖，第9A圖繪示依照本發明實施例二之輔助電極之示意圖，第9B圖繪示第9A圖的輔助電極之局部示意圖，第9C圖繪示形成第9A圖輔助電極之第六光罩之示意圖。由於實施例二與實施例一之不同之處在於輔助電極之架構與位置，因此於圖中相同之元件將沿用舊有標號，且在此不加以贅述。於實施例一中之輔助電極係設置於可視區VR之外側，而與本實施例二之輔助電極則除了設置於可視區VR外側，亦可設置於可視區VR內，只要不遮蓋到原本各畫素之發光區即可。

如第9A~9B圖所示，第一透明基板110(5)上設置有陰極電極140，而輔助電極220則設置於陰極電極140上。其中，第一透明基板110(5)於可視區VR內包括多個畫素P，這些畫素P成列排列，且相鄰之列畫素間具有一間隔。 輔助電極220包括長條形電極221~224與多個橫向電極225，其中長條形電極221~224係圍繞於可視區VR設置(如第9A圖所示)，而橫向電極225、226等係設置於可視區VR內，但係對應於列畫素之間的間隔設置(如第9B圖所示)，或是對應於畫素P與畫素P之間的絕緣層(未繪製)設置。

至於製作輔助電極220之第六光罩800之架構，如第9C圖所示，第六光罩800上包括數個尺寸較為寬大之長形開口801~804與多個橫向狹縫805。其中，長形開口801~804是用以製造輔助電極220之長條形電極221~224，而橫向狹縫805則用以製造橫向電極225、226等。

於製造輔助電極220時，是先將第六光罩800設置於第一透明基板110(5)之上，其必須使第六光罩800之長形開口801~804對應可視區VR之周邊，且橫向狹縫805必須精確對應於列畫素之間的間隔。如此一來，當蒸鍍輔助電極220之電極材料時，才可以使橫向電極225、226等精確對位於各列畫素之間。

由於實施例二之輔助電極220是接近於在可視區VR上整面塗佈，其有效地增加陰極電極140之厚度，使壓差確實降低，卻又不會影響各畫素P之穿透率。

本發明上述實施例所揭露之雙面顯示裝置及其製造方法，係利用可透光之陽極電極與陰極電極由兩面同時顯 示畫面，並於陰極電極上設計出適當之輔助電極以解決壓差問題。輔助電極係設置於雙面顯示裝置之可視區周圍，或是可視區內而不遮蓋於畫素之發光部分，其增加陰極電極之厚度以有效解決壓差過大之問題。藉此，亦可防止阻抗過大之情形發生，使雙面顯示裝置之亮度提高，進而降低MURA情形，使顯示效果更佳。當然，應用本發明之雙面顯示裝置之電子裝置，如手機等，亦具有較佳之顯示效果。

綜上所述，雖然本發明已以較佳實施例揭露如上，然其並非用以限定本發明。本發明所屬技術領域中具有通常知識者，在不脫離本發明之精神和範圍內，當可作各種之更動與潤飾。因此，本發明之保護範圍當視後附之申請專利範圍所界定者為準。

100‧‧‧雙面顯示裝置

110、110(1)~110(5)‧‧‧第一透明基板

112‧‧‧薄膜電晶體

120‧‧‧第二透明基板

130‧‧‧陽極電極

140‧‧‧陰極電極

150‧‧‧有機電激發光層

160‧‧‧第一偏光板

170‧‧‧第二偏光板

180、190、200、210、220‧‧‧輔助電極

181~184、193、221~224‧‧‧長條形電極

191、192‧‧‧L形電極

201、202‧‧‧ㄇ形電極

225‧‧‧橫向電極

300‧‧‧第一光罩

301~304、403、801~804‧‧‧長形開口

400‧‧‧第二光罩

401、402‧‧‧L形開口

500‧‧‧第三光罩

501、502‧‧‧ㄇ形開口

600‧‧‧第四光罩

610、710‧‧‧邊框

620、720‧‧‧板面

630、730‧‧‧支撐部

640、740‧‧‧開口

700‧‧‧第五光罩

800‧‧‧第六光罩

805‧‧‧橫向狹縫

C1、C2‧‧‧接觸孔部

P‧‧‧畫素

VR‧‧‧可視區

第1圖繪示依照本發明實施例一之雙面顯示裝置之剖面圖。

第2圖繪示第1圖雙面顯示裝置的單一畫素結構之剖面圖。

第3圖繪示製造雙面顯示裝置之方法流程圖。

第4A圖繪示根據第3圖方法流程製造之輔助電極之第一示意圖。

第4B圖繪示形成第4A圖輔助電極之第一光罩之示意圖。

第5A圖繪示根據第3圖方法流程製造之輔助電極之第二示意圖。

第5B圖繪示形成第5A圖輔助電極之第二光罩之示意圖。

第6A圖繪示根據第3圖方法流程製造之輔助電極之第三示意圖。

第6B圖繪示形成第6A圖輔助電極之第三光罩之示意圖。

第7A圖繪示根據第3圖方法流程製造之輔助電極之第四示意圖。

第7B圖繪示形成第7A圖輔助電極之第四光罩之示意圖。

第7C圖繪示第7B圖之第四光罩設置於第一透明基板上之示意圖。

第8A圖繪示形成第7A圖輔助電極之第五光罩之示意圖。

第8B圖繪示第8A圖之第五光罩設置於第一透明基板上之示意圖。

第9A圖繪示依照本發明實施例二之輔助電極之示意圖。

第9B圖繪示第9A圖的輔助電極之局部示意圖。

第9C圖繪示形成第9A圖輔助電極之第六光罩之示意圖。

110(1)‧‧‧第一透明基板

140‧‧‧陰極電極

180‧‧‧輔助電極

181~184‧‧‧長條形電極

C1、C2‧‧‧接觸孔部

VR‧‧‧可視區

Claims (25)

1. 一種雙面顯示裝置，包括：一第一透明基板，具有一可視區；一陽極電極，設置於該第一透明基板上；一有機電激發光層，設置於該陽極電極上；一陰極電極，設置於該有機電激發光層上，該陰極電極之面積係不小於該可視區之範圍；及一第一輔助電極，設置於該陰極電極上，且該第一輔助電極係對應該可視區之至少一邊側設置。
2. 如申請專利範圍第1項所述之雙面顯示裝置，其中該第一輔助電極係對應該可視區之周邊設置。
3. 如申請專利範圍第1項所述之雙面顯示裝置，其中該陽極電極係一透明電極。
4. 如申請專利範圍第3項所述之雙面顯示裝置，其中該透明電極之材質係為氧化銦錫(indium tin oxide，ITO)。
5. 如申請專利範圍第1項所述之雙面顯示裝置，其中該陰極電極之材質係為導電材料。
6. 如申請專利範圍第5項所述之雙面顯示裝置，其中該導電材料係為鋁(Al)。
7. 如申請專利範圍第1項所述之雙面顯示裝置，其中該第一輔助電極之材質係為導電材料。
8. 如申請專利範圍第7項所述之雙面顯示裝置，其中該導電材料係為銀(Ag)或鋁。
9. 如申請專利範圍第1項所述之雙面顯示裝置，其中該第一透明基板之該可視區內包括一第一列畫素與一第二列畫素，該雙面顯示裝置更包括：一第二輔助電極，設置於該陰極電極上，並對應該第一列畫素與該第二列畫素之一間隔設置。
10. 如申請專利範圍第9項所述之雙面顯示裝置，其中該第二輔助電極係一長條形電極。
11. 如申請專利範圍第9項所述之雙面顯示裝置，其中該第二輔助電極之材質係為導電材料。
12. 如申請專利範圍第11項所述之雙面顯示裝置，其中該導電材料係為銀或鋁。
13. 如申請專利範圍第1項所述之雙面顯示裝置，其中該第一透明基板係一薄膜電晶體(Thin Film Transistor，TFT)基板，該陽極電極係耦接至該薄膜電晶體基板。
14. 如申請專利範圍第1項所述之雙面顯示裝置，更包括：一第二透明基板，設置於該第一透明基板之上，用以將該陽極電極、該有機電激發光層、該陰極電極與該第一輔助電極封合於該第一透明基板與該第二透明基板之間。
15. 如申請專利範圍第14項所述之雙面顯示裝置，更包括：一第一偏光板，設置於該第一透明基板之外側；及一第二偏光板，設置於該第二透明基板之外側。
16. 一種雙面顯示裝置之製造方法，包括：(a)提供一第一透明基板；(b)形成一陽極電極於該第一透明基板上；(c)形成一有機電激發光層於該陽極電極上；(d)形成一陰極電極於該有機電激發光層上，並使該陰極電極之面積係不小於該第一透明基板上一可視區之範圍；及(e)形成一第一輔助電極於該陰極電極上，並使該第一輔助電極對應於該可視區之至少一邊側。
17. 如申請專利範圍第16項所述之製造方法，其中該第一輔助電極對應該可視區之周邊設置。
18. 如申請專利範圍第16項所述之製造方法，其中該步驟(e)包括：(e1)設置一光罩於該第一透明基板之上，該光罩具有至少一開口，使該開口對應該可視區之該邊側設置；(e2)蒸鍍形成該第一輔助電極之一電極材料於該陰極電極上，並使該電極材料填滿該開口；及(e3)去除該光罩，該第一輔助電極之形狀係實質上為該開口之形狀。
19. 如申請專利範圍第16項所述之製造方法，其中該第一透明基板之該可視區內包括一第一列畫素與一第二列畫素，該製造方法更包括：(f)形成一第二輔助電極於該陰極電極上，並使該第二輔助電極對應於該第一列畫素與該第二列畫素之一間隔 設置。
20. 如申請專利範圍第19項所述之製造方法，其中該第二輔助電極與該第一輔助電極係同時形成於該陰極電極上。
21. 如申請專利範圍第20項所述之製造方法，其中該步驟(f)包括：(f1)設置一光罩於該第一透明基板之上，該光罩具有至少一第一開口與至少一第二開口，使該第一開口對應該可視區之該邊側設置，並使該第二開口對應該第一列畫素與該第二列畫素之該間隔設置；(e2)蒸鍍形成該第一輔助電極與該第二輔助電極之電極材料於該陰極電極上，並使該電極材料填滿該第一開口與該第二開口；及(e3)去除該光罩，該第一輔助電極之形狀係實質上為該第一開口之形狀，該第二輔助電極之形狀係實質上為該第二開口之形狀。
22. 如申請專利範圍第19項所述之製造方法，其中該第二輔助電極係一長條形電極。
23. 如申請專利範圍第16項所述之製造方法，其中該第一透明基板係一薄膜電晶體基板，該步驟(b)包括：使該陽極電極耦接至該薄膜電晶體基板。
24. 如申請專利範圍第16項所述之製造方法，更包括：(g)設置一第二透明基板於該第一透明基板之上，以 將該陽極電極、該有機電激發光層、該陰極電極與該第一輔助電極封合於該第一透明基板與該第二透明基板之間。
25. 如申請專利範圍第24項所述之製造方法，更包括：(h)設置一第一偏光板於該第一透明基板外側；及(i)設置一第二偏光板於該第二透明基板外側。