JP6350384B2 - 研削用砥石 - Google Patents

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Description

本発明は、研削装置に装着して使用される研削用砥石に関する。
従来、半導体ウェーハなどの円板状のワークの精密加工において、同時に両面を研削する両頭研削といわれる研削方法がある。一般的に、両頭研削では、研削用砥石としてカップ型ホイールのものが用いられており、外周に砥石チップを複数有している。
この研削用砥石を用いた研削加工では、ワークを研削すると砥石チップが摩耗し、研削用砥石の交換が必要となる。このため、コスト増大を抑制する観点から、研削用砥石の寿命を延ばしたいという要望がある。
特開平11−156728 特開平9−248769 特開2009−279742
研削用砥石の寿命を延ばす方法として、砥石チップの寸法を高くすることが考えられる。しかし、特許文献1にあるような一般的な角柱の砥石チップの高さ寸法を単純に高くするだけでは、ワークを研削する際の曲げ応力に耐えられず砥石チップが破損してしまう。
そこで、砥石チップの高さ寸法が高い状態での破損を防ぐため、研削用砥石の回転方向に対して略平行に長辺をもった砥石形状にすることが考えられる。
また、回転方向に対して略平行に長辺をもった砥石の形状としては直方体に成型することが考えられる。しかしながら、直方体の砥石チップは、高さ方向から見て内角90°の稜部(すなわち、直方体の砥石チップにおいて、長方形の研削面に隣接する4つの側面同士の間の4つの稜部)がワーク中心に対して垂直に切り込み、かつ、回転方向に対する移動負荷が大きくなるため、ワーク中心部が激しく損傷し易く、ワーク中心付近の形状コントロールが困難である。
そこで、目的は異なるが、特許文献2や特許文献3にあるように、砥石チップの形状を正六角形にすることや、砥石チップの端を半円柱状にすることで、損傷を抑えることができるようになると考えられるが、回転方向に対して略平行に長辺をもてないことや成型が複雑になる問題がある。
本発明は前述のような問題に鑑みてなされたもので、研削時に破損せず、簡単な成型でワーク中心部への過度な切り込みによるワークの激しい損傷を抑えることが可能な研削用砥石を提供することを目的とする。
上記目的を達成するために、本発明は、円環状台金の外周にビトリファイドボンド砥石チップが複数配置されており、前記円環状台金を回転させながら前記砥石チップでワークを研削する研削用砥石であって、前記ビトリファイドボンド砥石チップは、前記円環状台金の反対側に位置して前記ワークを研削する長方形の研削面と該研削面に隣接する4つの側面を有する直方体において、前記側面同士間の4つの稜部がC面取りされているものであり、前記研削面の長辺が前記円環状台金の外周に沿うようにして配置されており、前記4つの稜部は、前記研削面の短辺の長さの1/5以上の範囲がC面取りされているものであることを特徴とする研削用砥石を提供する。
上記のような研削用砥石であれば、たとえビトリファイドボンド砥石チップ(以下、単に砥石チップともいう)の高さ(C面取りされている稜部の長さ)を高くしたとしても、研削時に破損するのを防ぐことができる。したがって、砥石チップの高さを高くして研削用砥石の寿命を延ばすことができる。
また、簡単な成型で、ワーク研削時のワーク中心部への過度な切り込みによるワークの激しい損傷を極めて効果的に抑えることが可能である。
このとき、前記研削面の長辺の長さは、前記C面取りされている稜部の長さの1/2以上のものとすることができる。
このようなものであれば、たとえ砥石チップの高さの寸法を高くしても、ワーク研削時の曲げ応力による砥石チップの破損をより効果的に防ぐことができる。
また、前記研削用砥石は、両頭研削用のものとすることができる。
本発明の研削用砥石は両頭研削に好適である。
以上のように、本発明によれば、たとえ砥石チップの高さの寸法を高くしたとしても、研削時に破損するのを防ぐことができるので、砥石チップの高さを高くして研削用砥石の寿命を延ばすことができる。また、簡単な成型でワーク中心部への過度な切り込みによるワークの激しい損傷を極めて効果的に抑えることが可能である。
本発明の研削用砥石の一例を示す正面図である。 本発明の研削用砥石の一例を示す側面図である。 面取りされた稜部の一例を示す説明図である(実施例1)。 面取りされた稜部の他の一例を示す説明図である(実施例2)。 両頭研削装置の一例を示す説明図である。 比較例1で用いた砥石チップにおける稜部を示す説明図である。 比較例2で用いた砥石チップにおける稜部を示す説明図である。 実施例1のWarp形状の測定結果を示すグラフである。 実施例2のWarp形状の測定結果を示すグラフである。 比較例1のWarp形状の測定結果を示すグラフである。 比較例2のWarp形状の測定結果を示すグラフである。 実施例1、2、比較例1、2の研削前後でのBowの平均変化量を示すグラフである。
以下、本発明について実施の形態を説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。
前述したように、研削用砥石の寿命を延ばす方法として、砥石チップの高さ寸法を高くすることが考えられるが、単純に高くすると砥石が破損することや、直方体に成型すると研削対象のワークの中心部が激しく損傷するという問題が見られた。そこで、本発明者は、研削用の砥石チップの形状および円環状台金への配置に着目し、種々実験を行った。
その結果、前述したように、直方体の砥石チップにおいて、その長方形の研削面の長辺が、円環状台金の外周に沿うようにして(すなわち、研削用砥石の回転方向に対して略平行になるように)配置することで、研削時の砥石チップの破損を防ぐことができる。
また、直方体の砥石チップの場合、高さ方向から見て内角90°の稜部(すなわち、直方体の砥石チップにおいて、長方形の研削面に隣接する4つの側面同士の間の4つの稜部)がワーク中心に対して垂直に切り込む、かつ、回転方向に対する移動負荷が大きくなるため、ワークの中心部が激しく損傷し易くなるが、さらに実験を重ね、それらの稜部を、長方形の研削面の短辺の1/5以上の範囲でC面取りすることで、上記のワーク中心部の激しい損傷を抑えられることを見出し、本発明を完成させた。
以下、本発明について、実施態様の一例として、図を参照しながら詳細に説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。
図1に本発明の研削用砥石の一例を示す。研削対象のワークと接する側から見た正面図である。また、図2は側面図である。本発明の研削用砥石1は、円環状台金(以下、単に台金ともいう)2と、複数のビトリファイドボンド砥石チップ3とを備えている。
台金2は砥石チップ3を配置することができ、研削時にモーター等により回転させることができるものであれば良い。なお、回転方向をRで示している。
また、各々の砥石チップ3の形状は直方体の一部が面取り加工されたものとなっている。図1、2では簡略化して面取りされている状態を省略して描いている。
この砥石チップ3の形状についてより具体的に説明する。まず、台金2に固定される側とは反対の位置に長方形の研削面4を有しており、また該研削面4に隣接する4つの長方形の側面5を有している。これらの4つの側面5の、隣り合う側面同士間の稜部がC面取りされている。
なお、ここでいう砥石チップ3の直方体、長方形の研削面4とは、それぞれ面取り加工前の状態の砥石チップ3や研削面4の形状を意味する。さらには、ここでいう長方形の研削面4の長辺および短辺とは、同様に面取り加工前の長方形の状態での長辺および短辺を意味する。
ここで、C面取りされた稜部の一例を図3、4に示す。図3、4は研削面4の側から見た砥石チップ3である。どちらも4つの稜部6がC面取りされているものである。
面取り量に関して本発明では、1つの稜部あたり、長方形の研削面4の短辺7の長さ(図3の実線の矢印参照)の1/5以上の範囲でC面取りされていればよく、特に限定されない。図3は、1つの稜部あたり、短辺7の長さの1/5がC面取りされている例であり、研削面4が八角形になっている。一方、図4は、1つの稜部あたり、短辺7の長さの1/2でC面取りされている例であり、六角形になっている。
上記のようにC面取りされているので、ワーク研削時においてワークの中心部を過度に切り込んでしまうこともなく、ワーク中心部が激しく損傷するのを防ぐことができる。しかも面取りするだけで良いので、成型も簡単である。
一方、面取り量が短辺7の長さの1/5未満であると、上記の過度な切り込みを効果的に防ぐことができず、ワークに損傷が生じてしまう。
また、本発明ではこの直方体の砥石チップ3の配置にも工夫がされている。複数の砥石チップ3は台金2の外周に沿って配置されている。配置数は特に限定されず、適宜決定することができる。このとき、研削面4の長辺8が台金2の外周に沿うようにして配置されている。すなわち、上記長辺8が研削用砥石1の回転方向に対して略平行になるように配置されているので、ワークを研削する際の曲げ応力に耐えることができ、砥石チップ3が破損するのを効果的に防ぐことができる。
従来品では、研削用砥石の寿命を延ばすために砥石チップの高さを高くすると上記曲げ応力のために破損してしまっていた。しかしながら、本発明では配置の仕方が工夫されており上記曲げ応力への耐性があるため、破損を防ぎつつ、砥石チップ3の高さを高くすることができ、研削用砥石1の寿命を延ばすことも可能になる。なお、砥石チップ3の高さ9とは、図2に示すようにC面取りされている稜部の長さをいう。
また、上記のような破損を防止するにあたって、研削面4の長辺8の長さ(図3の点線の矢印参照)が、砥石チップ3の高さ9の1/2以上であるとより効果的である。砥石チップ3の高さに対して研削面4の長辺8の長さが長いほど上記曲げ応力への耐性が高くなり好ましい。
次に、本発明の研削用砥石1を備えた研削装置について説明する。ここでは両頭研削装置について説明するが、本発明の研削用砥石1は両頭研削装置用のものに限定されない。研削用砥石1自体を回転させながら砥石チップ3でワークを研削することができるものであれば良く、どのような研削装置にも用いることができる。
図5に両頭研削装置10の一例を示す。両頭研削装置10は、主に、一対の研削用砥石1、ワーク11の径方向に沿って外周側から保持する自転可能なキャリア12と、該キャリア12を取り付けたホルダー部13を具備するものである。
キャリア12およびホルダー部13を自転させてワーク11を自転させつつ、一対の研削用砥石1を回転させることにより、ワーク11の両面を同時に研削することができる。本発明の研削用砥石1を用いることで、砥石チップ3が破損することもなく、かつ、ワーク11の中心部が激しく損傷することもなく品質高く研削することができる。
以下、実施例及び比較例を示して、本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
(実施例1、2、比較例1、2)
図5に示すような、ワークの両頭研削装置10を用いて、直径300mmのシリコンウェーハの両頭研削を行った。このシリコンウェーハは、CZ法(チョクラルスキー法)で製造されたインゴットから、切り出されたものである。
まず、図3に示す、C面取りの領域を研削面の短辺の1/5にした形状のビトリファイドボンド砥石チップを複数配置した研削用砥石を、図5に示すような両頭研削装置10に備え付け、シリコンウェーハを5枚研削した(実施例1)。
次に、図4に示す、C面取りの領域を研削面の短辺の1/2にした形状のビトリファイドボンド砥石チップを複数配置した研削用砥石を、図5に示すような両頭研削装置10に備え付け、シリコンウェーハを5枚研削した(実施例2)。
次に、図6に示す、面取りしていないビトリファイドボンド砥石チップを複数配置した研削用砥石を、図5に示すものと同様の両頭研削装置に備え付け、シリコンウェーハを5枚研削した(比較例1)。
最後に、図7に示す、C面取りの領域を研削面の短辺の1/8にした形状のビトリファイドボンド砥石チップを複数配置した研削用砥石を、図5に示すものと同様の両頭研削装置に備え付け、シリコンウェーハを5枚研削した(比較例2)。
上記説明した実施例1、2、比較例1、2の砥石チップの形状は、いずれも高さは10mm、回転方向に略平行な長辺の長さは5mm、短辺の長さは3mmである。
研削時において、実施例1、2、比較例1、2のいずれも砥石チップが破損することはなかった。
なお、実施例1、2、比較例1、2とは別に、高さ10mm、一辺が3mmの角柱形の砥石チップ(すなわち、研削面の各辺が同じ長さであり、辺の長さに差がないもの)についても評価を行った(比較例3)。
しかしながら、この比較例3では、いずれも破損してしまい、シリコンウェーハの研削には至らなかった。
研削したシリコンウェーハの評価としては、研削後のシリコンウェーハのWarp形状や研削前後のBow(反りの大きさ、向き)の変化量(ΔBow)を指標とすることができる。
研削後の中心部(半径約50mmの範囲)のWarp形状が急激な凸や凹形状をしている場合、表裏面のどちらかで激しい損傷が起きており、それに付随する残留応力のバランスが表裏面で崩れていることがわかる。
また、ΔBowにより、研削による表裏面の損傷やそれに付随する残留応力のバランスを数値として評価できる。表裏面の損傷やそれらに付随する残留応力が表裏面で等しいほど、ΔBowは0に近づく。
Warp形状やBowの測定には、SBW−330(株式会社コベルコ科研製)を使用した。
なお、ΔBowとしては、−5μm以上+5μm以下であることが好ましい。
図8−11に、実施例1、2、比較例1、2の砥石チップの形状でそれぞれシリコンウェーハを研削した後のWarp形状を示す。
実施例1、2では、中心部の急激なWarp形状の変化は見られないが、比較例1、2では中心部で急激な凸化が見られ、表裏面のどちらかで激しい損傷が起き、残留応力のバランスが表裏面で崩れていることがわかる。
図12に、実施例1、2、比較例1、2の砥石チップ形状でそれぞれシリコンウェーハを5枚研削した場合の、研削前後でのBowの平均変化量を示す。
エラーバーは偏差を示している。実施例1は、ΔBow=0.17μm、実施例2は、ΔBow=0.57μmであり、どちらも良好であった。一方、比較例1は、ΔBow=5.39μm、比較例2は、ΔBow=5.10μmで、残留応力のバランスが表裏面で崩れていることがわかる。
以上の結果から、砥石チップ形状に関して、本発明を実施した実施例1、2のようにC面取りの領域を長方形の研削面の短辺の1/5以上にすることで、ウエーハ面中心部での激しい損傷を抑えられることが分かる。一方で本発明を実施していない比較例1、2ではウエーハ面の中心部で激しい損傷が生じてWarp形状やBowに悪影響が生じてしまっている。
なお、本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。上記実施形態は、例示であり、本発明の特許請求の範囲に記載された技術的思想と実質的に同一な構成を有し、同様な作用効果を奏するものは、いかなるものであっても本発明の技術的範囲に包含される。
1…本発明の研削用砥石、 2…円環状台金、
3…ビトリファイドボンド砥石チップ、 4…研削面、 5…側面、
6…稜部、 7…研削面の短辺、 8…研削面の長辺、
9…砥石チップの高さ、 10…両頭研削装置、 11…ワーク、
12…キャリア、 13…ホルダー部、 R…回転方向。

Claims (3)

  1. 円環状台金の外周にビトリファイドボンド砥石チップが複数配置されており、前記円環状台金を回転させながら前記砥石チップでワークを研削する研削用砥石であって、
    前記ビトリファイドボンド砥石チップは、
    前記円環状台金の反対側に位置して前記ワークを研削する長方形の研削面と該研削面に隣接する4つの側面を有する直方体において、前記側面同士間の4つの稜部がC面取りされているものであり、
    前記研削面の長辺が前記円環状台金の外周に沿うようにして配置されており、
    前記4つの稜部は、前記研削面の短辺の長さの1/5以上の範囲がC面取りされているものであることを特徴とする研削用砥石。
  2. 前記研削面の長辺の長さは、前記C面取りされている稜部の長さの1/2以上であることを特徴とする請求項1に記載の研削用砥石。
  3. 前記研削用砥石は、両頭研削用のものであることを特徴とする請求項1または請求項2に記載の研削用砥石。
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Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP7115850B2 (ja) * 2017-12-28 2022-08-09 株式会社ディスコ 被加工物の加工方法および加工装置
CN110561272A (zh) * 2019-10-23 2019-12-13 无锡市兰天金刚石有限责任公司 一种修整砂轮用超硬工具及其制备方法
JP7429203B2 (ja) * 2021-03-16 2024-02-07 株式会社日立インダストリアルプロダクツ 回転機のメンテナンス装置及びメンテナンス方法
EP4329982A1 (en) * 2021-04-27 2024-03-06 GlobalWafers Co., Ltd. Double side grinding apparatus having convex polygon-shaped abrasive members

Family Cites Families (27)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
AT339169B (de) * 1975-09-25 1977-10-10 Voest Ag Verfahren zum reinigen austenitischer werkstoffoberflachen, insbesondere von ferritischen kontaminationen
US4947591A (en) * 1990-01-09 1990-08-14 Avonite, Inc. Dry paint stripping method
CA2090139C (en) * 1992-03-05 2006-01-24 Roger Grondin Glass material for treating hard surfaces, comprising particles of broken glass, and a process for making said particles
US5243790A (en) * 1992-06-25 1993-09-14 Abrasifs Vega, Inc. Abrasive member
US5308404A (en) * 1993-01-21 1994-05-03 Church & Dwight Co., Inc. Less aggressive blast media formed from compacted particles
US5607480A (en) * 1993-11-10 1997-03-04 Implant Innovations, Inc. Surgically implantable prosthetic devices
US5637030A (en) * 1994-02-17 1997-06-10 Minerals Research & Recovery, Inc. Abrasive formulation for waterjet cutting and method employing same
JP3683353B2 (ja) 1996-01-10 2005-08-17 豊田バンモップス株式会社 セグメント型砥石
US5964644A (en) * 1996-03-01 1999-10-12 Extrude Hone Corporation Abrasive jet stream polishing
DE19640945A1 (de) * 1996-10-04 1998-04-16 Polygram Manufacturing & Distr Verfahren und Vorrichtung zum mechanischen Entfernen einer Fremdstoffbeschichtung von einem Basismaterial
US5865620A (en) * 1997-06-12 1999-02-02 Kreativ, Inc. Abrasive dental composition and method for use
JPH11156728A (ja) 1997-12-02 1999-06-15 Tokyo Diamond Kogu Seisakusho:Kk ダイヤモンド砥石
US20030180537A1 (en) * 1998-01-30 2003-09-25 Black Diamond Granules, Inc. Spheroidal particles and apparatus and process for producing same
US20010023351A1 (en) * 1999-12-01 2001-09-20 Eilers George J. Skin abrasion system and method
JP4374740B2 (ja) * 2000-06-19 2009-12-02 三菱マテリアル株式会社 研削砥石およびその製造方法
JP4352588B2 (ja) * 2000-06-19 2009-10-28 三菱マテリアル株式会社 研削砥石
US6672943B2 (en) * 2001-01-26 2004-01-06 Wafer Solutions, Inc. Eccentric abrasive wheel for wafer processing
JP2003062740A (ja) * 2001-08-22 2003-03-05 Shin Etsu Handotai Co Ltd 鏡面ウェーハの製造方法
JP2006224201A (ja) * 2005-02-15 2006-08-31 Disco Abrasive Syst Ltd 研削ホイール
US20060219825A1 (en) * 2005-04-05 2006-10-05 United Materials International High pressure fluid/particle jet mixtures utilizing metallic particles
JP4969118B2 (ja) * 2006-03-15 2012-07-04 三菱重工業株式会社 成形体の前処理方法、接着物品及びその製造方法、並びに塗装物品及びその製造方法
JP4794602B2 (ja) 2008-05-26 2011-10-19 株式会社ノリタケカンパニーリミテド 砥石チップおよびこの砥石チップを使用した研削砥石
KR101220608B1 (ko) * 2010-06-09 2013-01-10 주식회사 포스코 스케일 제거장치
CN103370174B (zh) * 2010-12-31 2017-03-29 圣戈本陶瓷及塑料股份有限公司 具有特定形状的研磨颗粒和此类颗粒的形成方法
CN202123406U (zh) * 2011-06-16 2012-01-25 广州晶体科技有限公司 一种磨轮
US20130331015A1 (en) * 2012-06-11 2013-12-12 Goei Co., Ltd. Cup type grinding wheel
CN105899331A (zh) * 2012-12-31 2016-08-24 圣戈本陶瓷及塑料股份有限公司 研磨喷砂介质及其形成和使用方法

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