JP6044936B2 - 半導体素子搭載用基板の製造方法 - Google Patents
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- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims description 189
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims description 101
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 44
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 264
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 264
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 claims description 127
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 52
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 39
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 39
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 31
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 30
- 239000002280 amphoteric surfactant Substances 0.000 claims description 19
- 238000005323 electroforming Methods 0.000 claims description 19
- 238000005530 etching Methods 0.000 claims description 18
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 claims description 14
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 12
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 claims description 5
- 150000001413 amino acids Chemical class 0.000 claims description 5
- KWIUHFFTVRNATP-UHFFFAOYSA-N Betaine Natural products C[N+](C)(C)CC([O-])=O KWIUHFFTVRNATP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- KWIUHFFTVRNATP-UHFFFAOYSA-O N,N,N-trimethylglycinium Chemical group C[N+](C)(C)CC(O)=O KWIUHFFTVRNATP-UHFFFAOYSA-O 0.000 claims description 4
- 229960003237 betaine Drugs 0.000 claims description 4
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 claims 1
- 238000004806 packaging method and process Methods 0.000 claims 1
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 57
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 39
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 24
- 239000012670 alkaline solution Substances 0.000 description 19
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 19
- 235000011121 sodium hydroxide Nutrition 0.000 description 19
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 17
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 15
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 14
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 13
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 13
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 12
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 6
- 229910017709 Ni Co Inorganic materials 0.000 description 4
- 229910003267 Ni-Co Inorganic materials 0.000 description 4
- 229910003262 Ni‐Co Inorganic materials 0.000 description 4
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 3
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 3
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 3
- 235000001674 Agaricus brunnescens Nutrition 0.000 description 2
- 230000002159 abnormal effect Effects 0.000 description 2
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 2
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 2
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 2
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 2
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 2
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 2
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 239000002659 electrodeposit Substances 0.000 description 2
- JVTAAEKCZFNVCJ-UHFFFAOYSA-N lactic acid Chemical compound CC(O)C(O)=O JVTAAEKCZFNVCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 2
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 2
- CFRPSFYHXJZSBI-DHZHZOJOSA-N (E)-nitenpyram Chemical compound [O-][N+](=O)/C=C(\NC)N(CC)CC1=CC=C(Cl)N=C1 CFRPSFYHXJZSBI-DHZHZOJOSA-N 0.000 description 1
- YHMYGUUIMTVXNW-UHFFFAOYSA-N 1,3-dihydrobenzimidazole-2-thione Chemical compound C1=CC=C2NC(S)=NC2=C1 YHMYGUUIMTVXNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BUZICZZQJDLXJN-UHFFFAOYSA-N 3-azaniumyl-4-hydroxybutanoate Chemical compound OCC(N)CC(O)=O BUZICZZQJDLXJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000990 Ni alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000004913 activation Effects 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- 239000010960 cold rolled steel Substances 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- SYELZBGXAIXKHU-UHFFFAOYSA-N dodecyldimethylamine N-oxide Chemical group CCCCCCCCCCCC[N+](C)(C)[O-] SYELZBGXAIXKHU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005868 electrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 1
- 238000005304 joining Methods 0.000 description 1
- 239000004310 lactic acid Substances 0.000 description 1
- 235000014655 lactic acid Nutrition 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000007788 roughening Methods 0.000 description 1
- 229940045944 sodium lauroyl glutamate Drugs 0.000 description 1
- IWIUXJGIDSGWDN-UQKRIMTDSA-M sodium;(2s)-2-(dodecanoylamino)pentanedioate;hydron Chemical group [Na+].CCCCCCCCCCCC(=O)N[C@H](C([O-])=O)CCC(O)=O IWIUXJGIDSGWDN-UQKRIMTDSA-M 0.000 description 1
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
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-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/04—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
- H01L21/48—Manufacture or treatment of parts, e.g. containers, prior to assembly of the devices, using processes not provided for in a single one of the subgroups H01L21/06 - H01L21/326
- H01L21/4814—Conductive parts
- H01L21/4821—Flat leads, e.g. lead frames with or without insulating supports
- H01L21/4825—Connection or disconnection of other leads to or from flat leads, e.g. wires, bumps, other flat leads
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
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- H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
- H01L23/48—Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor
- H01L23/488—Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor consisting of soldered or bonded constructions
- H01L23/498—Leads, i.e. metallisations or lead-frames on insulating substrates, e.g. chip carriers
- H01L23/49866—Leads, i.e. metallisations or lead-frames on insulating substrates, e.g. chip carriers characterised by the materials
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/04—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
- H01L21/48—Manufacture or treatment of parts, e.g. containers, prior to assembly of the devices, using processes not provided for in a single one of the subgroups H01L21/06 - H01L21/326
- H01L21/4814—Conductive parts
- H01L21/4821—Flat leads, e.g. lead frames with or without insulating supports
- H01L21/4828—Etching
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/04—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
- H01L21/48—Manufacture or treatment of parts, e.g. containers, prior to assembly of the devices, using processes not provided for in a single one of the subgroups H01L21/06 - H01L21/326
- H01L21/4814—Conductive parts
- H01L21/4846—Leads on or in insulating or insulated substrates, e.g. metallisation
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/0001—Technical content checked by a classifier
- H01L2924/0002—Not covered by any one of groups H01L24/00, H01L24/00 and H01L2224/00
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Description
(1)第1の金属層上に実装用金属が拡散しにくい第2の金属層が形成されたベース基板を準備する工程、
(2)前記ベース基板の前記第2の金属層上に、パターニングされたレジストマスク層を形成する工程、
(3)前記レジストマスク層から露出した前記第2の金属層上に、再加工処理としてNi電解めっきまたはNiP電解めっきを施して再加工面を形成する工程、
(4)前記ベース基板の前記再加工面上に、両性界面活性剤の物性を示す成分を含む薬液により実装用金属層の前記再加工面に対する密着性を制御する有機性被膜を施す工程、
(5)前記ベース基板の前記再加工面上に、前記有機性被膜を介して前記実装用金属層を形成する工程、
(6)前記実装用金属層上に、電鋳により半導体素子搭載部および電極端子部を形成する工程、
(7)前記ベース基板の前記第2の金属層上の前記レジストマスクを除去する工程。
(1)第1の金属層上に実装用金属が拡散しにくい第2の金属層が形成されたベース基板を準備する工程、
(2)前記ベース基板の前記第2の金属層上に、パターニングされたレジストマスク層を形成する工程、
(3)前記レジストマスク層から露出した前記第2の金属層上に、再加工処理としてソフトエッチング,ソフトエッチング後にNi電解めっきまたはソフトエッチング後にNiP電解めっきのいずれかを施して再加工面を形成する工程、
(4)前記ベース基板の前記再加工面上に、両性界面活性剤の物性を示す成分を含む薬液により実装用金属層の前記再加工面に対する密着性を制御する有機性被膜を施す工程、
(5)前記ベース基板の前記再加工面上に、前記有機性被膜を介して前記実装用金属層を形成する工程、
(6)前記実装用金属層上に、電鋳により半導体素子搭載部および電極端子部を形成する工程、
(7)前記ベース基板の前記第2の金属層上の前記レジストマスクを除去する工程。
(1)第1の金属層上に実装用金属が拡散しにくい第2の金属層が形成されたベース基板を準備する工程、
(2)ベース基板の前記第2の金属層上に、パターニングされたレジストマスク層を形成する工程、
(3)レジストマスク層から露出した第2の金属層上に、再加工処理を施して再加工面を形成する工程、
(4)ベース基板の再加工面上に、両性界面活性剤の物性を示す成分を含む薬液により実装用金属層の再加工面に対する密着性を制御する有機性被膜を施す工程、
(5)ベース基板の再加工面上に、有機性被膜を介して実装用金属層を形成する工程、
(6)実装用金属層上に、電鋳により半導体素子搭載部および電極端子部を形成する工程、
(7)ベース基板の第2の金属層上のレジストマスクを除去する工程。
(1)第1の金属層上に実装用金属が拡散しにくい第2の金属層が形成されたベース基板を準備する工程、
(2)ベース基板の第2の金属層上に、パターニングされたレジストマスク層を形成する工程、
(3)ベース基板の前記第2の金属層上に、両性界面活性剤の物性を示す成分を含む薬液により実装用金属層の第2の金属層に対する密着性を制御する有機性被膜を施す工程、
(4)ベース基板の第2の金属層上に、有機性被膜を介して実装用金属層を形成する工程、
(5)実装用金属層上に、電鋳により半導体素子搭載部および電極端子部を形成する工程、
(6)ベース基板の第2の金属層上の前記レジストマスクを除去する工程。
成分; カルボキシベタイン 10.0wt%
テトラメチルチウラムモノスルフィッド 4.5wt%
メルカプトベンズイミダゾール 3.0wt%
純水 82.5wt%
pH; 10
なお、pHの調整は、pHを上げる場合は水酸化カリウムにより、下げる場合は乳酸を添加することにより調整した。
以下、図1の(a)〜(g)に基づいて説明する。
先ず、図1(a)に示すように第1の金属層1として、板厚0.15mmのCu材を用いた。そして、図1(b)に示すようにこれに第2の金属層2としてNi電解めっきを0.3μmおこないベース基板3を形成した。
以下、図1の(a)〜(g)に基づいて他例を説明する。本実施例はバリア金属層5をNiP面としたものである。
先ず、図1(a)に示すように第1の金属層1として、板厚0.15mmのCu材を用いた。そして、図1(b)に示すようにこれに第2の金属層2としてNi電解めっきを0.3μmおこないベース基板3を形成した。
以下、図1の(a)〜(g)に基づいて他例を説明する。本実施例は実施例1の電鋳物11を他の構成とした例を示したものである。
先ず、図1(a)に示すように第1の金属層1として、板厚0.15mmのCu材を用いた。そして、図1(b)に示すようにこれに第2の金属層2としてNi電解めっきを0.3μmおこないベース基板3を形成した。
以下、図1の(a)〜(g)に基づいて他例を説明する。本実施例は実施例1の電鋳物11を他の構成とした例を示したものである。
先ず、図1(a)に示すように第1の金属層1として、板厚0.15mmのCu材を用いた。そして、図1(b)に示すようにこれに第2の金属層2としてNi電解めっきを0.3μmおこないベース基板3を形成した。
以下、図1の(a)〜(g)に基づいて他例を説明する。本実施例は実施例1の電鋳物11を他の構成とした例を示したものである。
先ず、図1(a)に示すように第1の金属層1として、板厚0.15mmのCu材を用いた。そして、図1(b)に示すようにこれに第2の金属層2としてNi電解めっきを0.3μmおこないベース基板3を形成した。
以下、図1の(a)〜(g)に基づいて他例を説明する。本実施例は実施例1の電鋳物11を他の構成とした例を示したものである。
先ず、図1(a)に示すように第1の金属層1として、板厚0.15mmのCu材を用いた。そして、図1(b)に示すようにこれに第2の金属層2としてNi電解めっきを0.3μmおこないベース基板3を形成した。
以下、図1の(a)〜(g)に基づいて他例を説明する。本実施例は実施例1の電鋳物11について、電鋳層8にNi粗化めっきを行う例を示したものである。
先ず、図1(a)に示すように第1の金属層1として、板厚0.15mmのCu材を用いた。そして、図1(b)に示すようにこれに第2の金属層2としてNi電解めっきを0.3μmおこないベース基板3を形成した。
以下、図1の(a)〜(g)に基づいて他例を説明する。本実施例は実施例1で第1の金属層1としてSPCC材を用いた例を示したものである。
先ず、図1(a)に示すように第1の金属層1として、板厚0.15mmのSPCC材を用いた。そして、図1(b)に示すようにこれに第2の金属層2としてNi電解めっきを0.3μmおこないベース基板3を形成した。
以下、図1の(a)〜(g)に基づいて他例を説明する。本実施例は実施例1で第1の金属層1として42材を用いた例を示したものである。
先ず、図1(a)に示すように第1の金属層1として、板厚0.15mmの42材を用いた。そして、図1(b)に示すようにこれに第2の金属層2としてNi電解めっきを0.3μmおこないベース基板3を形成した。
以下、図2の(a)〜(g)に基づいて説明する。本実施例は再加工をソフトエッチング処理としたものである。
先ず、図2(a)に示すように第1の金属層1として、板厚0.15mmのCu材を用いた。そして、図2(b)に示すようにこれに第2の金属層2としてNi電解めっきを2.0μmおこないベース基板3を形成した。
以下、図3の(a)〜(g)に基づいて説明する。本実施例は再加工をソフトエッチング処理後にNi面を形成したものである。
先ず、図3(a)に示すように第1の金属層1として、板厚0.15mmのCu材を用いた。そして、図3(b)に示すようにこれに第2の金属層2としてNi電解めっきを0.3μmおこないベース基板3を形成した。
以下、図3の(a)〜(g)に基づいて他例を説明する。本実施例は再加工をソフトエッチング処理後にNiP面としたものである。
先ず、図3(a)に示すように第1の金属層1として、板厚0.15mmのCu材を用いた。そして、図3(b)に示すようにこれに第2の金属層2としてNi電解めっきを0.3μmおこないベース基板3を形成した。
以下、図4の(a)〜(f)に基づいて説明する。本実施例は再加工工程がない例を示したものである。
先ず、図4(a)に示すように第1の金属層1として、板厚0.15mmのCu材を用いた。そして、図4(b)に示すようにこれに第2の金属層2としてNi電解めっきを0.5μmおこないベース基板3を形成した。
以下、図5の(a)〜(g)に基づいて説明する。本実施例は電鋳物11で接合金属層9を設けない例を示したものである。
先ず、図5(a)に示すように第1の金属層1として、板厚0.15mmのCu材を用いた。そして、図5(b)に示すようにこれに第2の金属層2としてNi電解めっきを0.3μmおこないベース基板3を形成した。
以下、図5の(a)〜(g)に基づいて他例を説明する。本実施例は実施例14の電鋳物11を他の構成とした例を示したものである。
先ず、図5(a)に示すように第1の金属層1として、板厚0.15mmのCu材を用いた。そして、図5(b)に示すようにこれに第2の金属層2としてNi電解めっきを0.3μmおこないベース基板3を形成した。
以下、図5の(a)〜(g)に基づいて他例を説明する。本実施例は実施例14の電鋳物11を他の構成とした例を示したものである。
先ず、図5(a)に示すように第1の金属層1として、板厚0.15mmのCu材を用いた。そして、図5(b)に示すようにこれに第2の金属層2としてNi電解めっきを0.3μmおこないベース基板3を形成した。
以下、図6の(a)〜(g)に基づいて説明する。本実施例は電鋳物11を逆テーパー状でかつ平面視ギザギザ形状に形成した例を示したものである。
先ず、図6(a)に示すように第1の金属層1として、板厚0.15mmのCu材を用いた。そして、図6(b)に示すようにこれに第2の金属層2としてNi電解めっきを0.3μmおこないベース基板3を形成した。
以下、図7の(a)〜(g)に基づいて説明する。本実施例は電鋳物11をキノコ型に形成した例を示したものである。
先ず、図7(a)に示すように第1の金属層1として、板厚0.15mmのCu材を用いた。そして、図7(b)に示すようにこれに第2の金属層2としてNi電解めっきを0.3μmおこないベース基板3を形成した。
以下、図8の(a)〜(g)に基づいて説明する。本実施例は電鋳物11を平面視ギザギザ形状とした例を示したものである。
先ず、図8(a)に示すように第1の金属層1として、板厚0.15mmのCu材を用いた。そして、図8(b)に示すようにこれに第2の金属層2としてNi電解めっきを0.3μmおこないベース基板3を形成した。
2・・・第2の金属層
3・・・ベース基板
4・・・レジストマスク層
5・・・バリア金属層
6・・・有機性被膜
7・・・実装用金属層
8・・・電鋳層
9・・・接合金属層
10・・・半導体素子搭載層
11・・・電鋳物
12・・・電極端子部
Claims (6)
- 半導体素子搭載用基板の製造方法において、次の(1)〜(7)の工程を順次経ることを特徴とする半導体素子搭載用基板の製造方法。
(1)第1の金属層上に実装用金属が拡散しにくい第2の金属層が形成されたベース基板を準備する工程、
(2)前記ベース基板の前記第2の金属層上に、パターニングされたレジストマスク層を形成する工程、
(3)前記レジストマスク層から露出した前記第2の金属層上に、再加工処理としてNi電解めっきまたはNiP電解めっきを施して再加工面を形成する工程、
(4)前記ベース基板の前記再加工面上に、両性界面活性剤の物性を示す成分を含む薬液により実装用金属層の前記再加工面に対する密着性を制御する有機性被膜を施す工程、
(5)前記ベース基板の前記再加工面上に、前記有機性被膜を介して前記実装用金属層を形成する工程、
(6)前記実装用金属層上に、電鋳により半導体素子搭載部および電極端子部を形成する工程、
(7)前記ベース基板の前記第2の金属層上の前記レジストマスクを除去する工程。 - 半導体素子搭載用基板の製造方法において、次の(1)〜(7)の工程を順次経ることを特徴とする半導体素子搭載用基板の製造方法。
(1)第1の金属層上に実装用金属が拡散しにくい第2の金属層が形成されたベース基板を準備する工程、
(2)前記ベース基板の前記第2の金属層上に、パターニングされたレジストマスク層を形成する工程、
(3)前記レジストマスク層から露出した前記第2の金属層上に、再加工処理としてソフトエッチング,ソフトエッチング後にNi電解めっきまたはソフトエッチング後にNiP電解めっきのいずれかを施して再加工面を形成する工程、
(4)前記ベース基板の前記再加工面上に、両性界面活性剤の物性を示す成分を含む薬液により実装用金属層の前記再加工面に対する密着性を制御する有機性被膜を施す工程、
(5)前記ベース基板の前記再加工面上に、前記有機性被膜を介して前記実装用金属層を形成する工程、
(6)前記実装用金属層上に、電鋳により半導体素子搭載部および電極端子部を形成する工程、
(7)前記ベース基板の前記第2の金属層上の前記レジストマスクを除去する工程。 - 前記両性界面活性剤の物性を示す成分はベタイン型またはアミンオキシド型またはアミノ酸型であることを特徴とする請求項1または2に記載の半導体素子搭載用基板の製造方法。
- 前記第1の金属層は、Cu,SPCCまたは42材のいずれかであることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の半導体素子搭載用基板の製造方法。
- 前記第2の金属層は、NiまたはNiPであることを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載の半導体素子搭載用基板の製造方法。
- 前記実装用金属層はAu,PdまたはAu/Pdのいずれかであることを特徴とする請求項1〜5のいずれかに記載の半導体素子搭載用基板の製造方法。
Priority Applications (6)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013091556A JP6044936B2 (ja) | 2013-04-24 | 2013-04-24 | 半導体素子搭載用基板の製造方法 |
CN201480023450.0A CN105144372B (zh) | 2013-04-24 | 2014-03-11 | 半导体元件装配用基板的制造方法 |
US14/786,831 US9870930B2 (en) | 2013-04-24 | 2014-03-11 | Method for producing substrate for mounting semiconductor element |
PCT/JP2014/056307 WO2014174925A1 (ja) | 2013-04-24 | 2014-03-11 | 半導体素子搭載用基板の製造方法 |
KR1020157022250A KR102156811B1 (ko) | 2013-04-24 | 2014-03-11 | 반도체소자 탑재용 기판의 제조 방법 |
TW103111242A TWI608552B (zh) | 2013-04-24 | 2014-03-26 | Semiconductor element mounting substrate manufacturing method |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013091556A JP6044936B2 (ja) | 2013-04-24 | 2013-04-24 | 半導体素子搭載用基板の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2014216431A JP2014216431A (ja) | 2014-11-17 |
JP6044936B2 true JP6044936B2 (ja) | 2016-12-14 |
Family
ID=51791510
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2013091556A Active JP6044936B2 (ja) | 2013-04-24 | 2013-04-24 | 半導体素子搭載用基板の製造方法 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US9870930B2 (ja) |
JP (1) | JP6044936B2 (ja) |
KR (1) | KR102156811B1 (ja) |
CN (1) | CN105144372B (ja) |
TW (1) | TWI608552B (ja) |
WO (1) | WO2014174925A1 (ja) |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6555927B2 (ja) * | 2015-05-18 | 2019-08-07 | 大口マテリアル株式会社 | 半導体素子搭載用リードフレーム及び半導体装置の製造方法 |
CN106004075B (zh) * | 2016-05-24 | 2017-08-15 | 山东华菱电子股份有限公司 | 热敏打印头用发热基板的制造方法 |
JP6722568B2 (ja) * | 2016-11-17 | 2020-07-15 | サンコール株式会社 | 半導体素子取付用基板端子板の製造方法 |
JP6851239B2 (ja) * | 2017-03-29 | 2021-03-31 | エイブリック株式会社 | 樹脂封止型半導体装置およびその製造方法 |
JP6927634B2 (ja) * | 2017-09-20 | 2021-09-01 | 大口マテリアル株式会社 | 半導体素子搭載用基板及びその製造方法 |
JP7481865B2 (ja) | 2020-03-12 | 2024-05-13 | マクセル株式会社 | 半導体装置用基板、および半導体装置 |
Family Cites Families (22)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3821376A (en) * | 1969-07-03 | 1974-06-28 | Rohm & Haas | Fungicidal use of a 1,2,4-triazole nickel salt complex |
US4749449A (en) * | 1987-06-05 | 1988-06-07 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Metallization utilizing a catalyst which is removed or deactivated from undesired surface areas |
JP2850640B2 (ja) * | 1992-04-28 | 1999-01-27 | 株式会社デンソー | 混成集積回路装置 |
JP3335082B2 (ja) * | 1996-07-22 | 2002-10-15 | 日本板硝子株式会社 | 平板型マイクロレンズ |
WO1999038035A1 (fr) | 1996-07-22 | 1999-07-29 | Maikurooputo Co., Ltd. | Procede de fabrication d'une mini-lentille plate et mince; mini-lentille ainsi produite |
KR100243368B1 (ko) * | 1996-10-18 | 2000-02-01 | 유무성 | 리드프레임의 열처리 방법 |
JPH11138517A (ja) * | 1997-11-13 | 1999-05-25 | Hitachi Chem Co Ltd | セラミックグリーンシート製造用キャリアフィルム |
US6593643B1 (en) * | 1999-04-08 | 2003-07-15 | Shinko Electric Industries Co., Ltd. | Semiconductor device lead frame |
US6538210B2 (en) * | 1999-12-20 | 2003-03-25 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Circuit component built-in module, radio device having the same, and method for producing the same |
TWI312166B (en) * | 2001-09-28 | 2009-07-11 | Toppan Printing Co Ltd | Multi-layer circuit board, integrated circuit package, and manufacturing method for multi-layer circuit board |
JP2004214265A (ja) | 2002-12-27 | 2004-07-29 | Kyushu Hitachi Maxell Ltd | 半導体装置および半導体装置の製造方法 |
JP4341328B2 (ja) * | 2003-07-04 | 2009-10-07 | ソニー株式会社 | 半導体装置の製造方法 |
JP5600376B2 (ja) * | 2005-01-27 | 2014-10-01 | アドバンスド テクノロジー マテリアルズ,インコーポレイテッド | 半導体基材の処理のための組成物 |
US7923423B2 (en) * | 2005-01-27 | 2011-04-12 | Advanced Technology Materials, Inc. | Compositions for processing of semiconductor substrates |
JP5113346B2 (ja) | 2006-05-22 | 2013-01-09 | 日立電線株式会社 | 電子装置用基板およびその製造方法、ならびに電子装置およびその製造方法 |
JP4983616B2 (ja) | 2008-01-16 | 2012-07-25 | ソニー株式会社 | 熱転写記録媒体 |
US20110201159A1 (en) * | 2008-11-05 | 2011-08-18 | Mitsui High-Tec, Inc. | Semiconductor package and manufacturing method thereof |
EP2240005A1 (en) * | 2009-04-09 | 2010-10-13 | ATOTECH Deutschland GmbH | A method of manufacturing a circuit carrier layer and a use of said method for manufacturing a circuit carrier |
JP5578704B2 (ja) | 2010-03-09 | 2014-08-27 | Shマテリアル株式会社 | 半導体素子搭載用基板及びその製造方法 |
JP2011198977A (ja) * | 2010-03-19 | 2011-10-06 | Sumitomo Metal Mining Co Ltd | 半導体装置の製造方法 |
JP5891771B2 (ja) * | 2011-01-18 | 2016-03-23 | 富士通株式会社 | 表面被覆方法、並びに半導体装置、及び実装回路基板 |
TWI474449B (zh) * | 2013-09-27 | 2015-02-21 | Subtron Technology Co Ltd | 封裝載板及其製作方法 |
-
2013
- 2013-04-24 JP JP2013091556A patent/JP6044936B2/ja active Active
-
2014
- 2014-03-11 CN CN201480023450.0A patent/CN105144372B/zh active Active
- 2014-03-11 US US14/786,831 patent/US9870930B2/en active Active
- 2014-03-11 KR KR1020157022250A patent/KR102156811B1/ko active IP Right Grant
- 2014-03-11 WO PCT/JP2014/056307 patent/WO2014174925A1/ja active Application Filing
- 2014-03-26 TW TW103111242A patent/TWI608552B/zh active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR20160002682A (ko) | 2016-01-08 |
US20160079091A1 (en) | 2016-03-17 |
CN105144372B (zh) | 2018-01-09 |
KR102156811B1 (ko) | 2020-09-16 |
JP2014216431A (ja) | 2014-11-17 |
TW201507041A (zh) | 2015-02-16 |
WO2014174925A1 (ja) | 2014-10-30 |
CN105144372A (zh) | 2015-12-09 |
TWI608552B (zh) | 2017-12-11 |
US9870930B2 (en) | 2018-01-16 |
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Legal Events
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R350 | Written notification of registration of transfer |
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