JP5034913B2 - 半導体装置製造用基板とその製造方法 - Google Patents
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Description
また、ステンレス鋼を金属板とした場合は、形成しためっき層のステンレス鋼に対する密着性が得られず、封止樹脂がステンレス鋼とめっき層の間に回り込む問題や、逆に密着性を向上させるとステンレス鋼にめっき層が残るという問題があった。
また、特許文献1には、基材表面に凹凸を設けてめっき層の密着性を向上させると共に、剥離処理を施して引き剥がしたステンレス鋼にめっき層が残らないようにすることが記載されている。しかし、凹凸を設けるためのブラスト処理では、新たな工程が必要となり、また、基材の反りが発生するという問題がある。
図1は本発明に係る基板の構造を示す断面図、図2は本発明に係る基板の平面図とその一部拡大図、図3は本発明に係る基板の製造工程を示す説明図、図4は本発明に係る基板を用いた半導体装置の組立工程の一部を示す断面図である。
次に、この素材にめっきの前処理を行った後、金コバルトめっきを施して金コバルトめっき層1を形成し、更にその上に一般的な金めっきを施して金めっき層2を形成し、更にその上にニッケルめっきを施してニッケルめっき層3を形成し、更にその上に金めっきを施して金めっき層2を形成して、最後にめっきマスクとして使用したレジストを剥離し、所望の半導体装置製造用基板(リードフレーム)を得る(図1及び2参照)。
なお、基板材料としてはステンレス鋼に限定されるものではなく、他の適宜の金属板を用いることができる。
ステンレス鋼10として幅100mm、板厚0.2mmのSUS430を用いて、先ず脱脂処理と酸洗浄を行った。次に厚さ0.025mmの感光性ドライフィルムレジスト14をラミネートロールでステンレス鋼10の両面に貼り付けた(図3(A)参照)。
次に、所定のガラスマスクを感光性ドライフィルムレジスト14の上から被せて、その上から紫外光を照射して露光を行い、次に炭酸ナトリウム溶液を用いて、紫外光の照射が遮られて感光しなかった未硬化のドライフィルムレジスト14を溶かす現像処理を行って、めっきマスクとして使用するレジスト15を含むめっき用の材料を完成させた(図3(B))。
なお、この時めっき領域としては、図2に示すごとく、中央に3mm角のパッド部を、その周囲に0.3mm角のリード部を28個配置したものを、8組×5組のマトリックス状に作製した。
次に、めっきの前処理として、先ずアルカリ液に浸漬し、その後3mol/Lの塩酸液に浸漬した。
更に、この金コバルトめっき面の半田濡れ性を溶融半田で確認したところ、金コバルトめっき面全域にきれいに半田付けできた。
2 金めっき層
3 ニッケルめっき層
10 ステンレス鋼
11 金コバルトめっき層+金めっき層
12 ニッケルめっき層
13 金めっき層
14 ドライフィルムレジスト
15 めっきマスクとして使用するレジスト
16 半導体装置製造用基板
20 半導体装置
21 半導体素子
22 ボンディングワイヤ
23 封止樹脂
Claims (4)
- ステンレス鋼板上に厚さ0.05μm以下の金コバルトめっき層が形成され、その上に金めっき層が形成されているとともに、前記金コバルトめっき層はコバルトを0.1〜0.5%含有していることを特徴とする半導体装置製造用基板。
- 前記金めっき層の上に複数の別のめっき層が積層されていることを特徴とする請求項1に記載の半導体装置製造用基板。
- 前記金めっき層の上にニッケルめっき層とその上に金めっき層が形成されていることを特徴とする請求項1に記載の半導体装置製造用基板。
- ステンレス鋼板表面にめっき用マスクを形成する工程と、前記めっき用マスクから露出した前記ステンレス鋼板表面に厚さが0.05μm以下でコバルトを0.1〜0.5%含有している金コバルトめっき層を形成する工程と、前記金コバルトめっき層の上に金めっき層を形成する工程と、前記金めっき層の上にニッケルめっき層を形成する工程とを含むことを特徴とする半導体装置製造用基板の製造方法。
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