JP2011108818A - リードフレームの製造方法および半導体装置の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】リードフレームおよび半導体装置の製造に係るコストを低減でき、かつ生産性を向上させることができるとともに、製品としての半導体装置に不良が生じることを未然に防止し得る、リードフレームの製造方法および半導体装置の製造方法を提供する。
【解決手段】リードフレームの製造方法は、第1レジスト膜2が形成されたリードフレーム材1の、表面および裏面に形成したメッキ層3の表面に第2レジスト膜4を形成する工程において、上記第2レジスト層としてメッキ層3のみに選択的に形成される電着レジスト4を使用する。また、半導体装置の製造方法は、第1レジスト膜2が形成されたリードフレーム材1の、表面および裏面に形成したメッキ層3の表面に第2レジスト膜4を形成する第3工程において、上記第2レジスト層としてメッキ層3のみに選択的に形成される電着レジスト4を使用する。
【選択図】図1
【解決手段】リードフレームの製造方法は、第1レジスト膜2が形成されたリードフレーム材1の、表面および裏面に形成したメッキ層3の表面に第2レジスト膜4を形成する工程において、上記第2レジスト層としてメッキ層3のみに選択的に形成される電着レジスト4を使用する。また、半導体装置の製造方法は、第1レジスト膜2が形成されたリードフレーム材1の、表面および裏面に形成したメッキ層3の表面に第2レジスト膜4を形成する第3工程において、上記第2レジスト層としてメッキ層3のみに選択的に形成される電着レジスト4を使用する。
【選択図】図1
Description
本発明は、半導体装置の生産に用いられるリードフレームの製造方法、および上記リードフレームを用いた半導体装置の製造方法に関する。
半導体装置の構造において、該半導体装置のパッケージ(封止樹脂)の底面と、実装基板における実装表面との距離をいう「スタンドオフ」は、実装基板に対して半導体装置を実装する際の“容易さ”や“信頼性”を考慮して設定されている。
上記「スタンドオフ」を有する半導体装置としては、図6に示す如く、ICチップ(半導体素子)Eおよび所定個数の導体端子T、T…を、ボンディングワイヤW、W…を介して電気的に接続し、これらをパッケージ(封止樹脂)Pによって樹脂封止するとともに、上記パッケージPの底面Pbから導体端子Tの実装外部端子部Tbを突出させた、所謂CSP(チップサイズドパッケージ)タイプの半導体装置Aが提供されている(例えば、特許文献1参照)。
上述の如き構成の半導体装置Aを製造するには、先ず、図7(a)に示す如く、リードフレーム材Lにおける表面Laと裏面Lbとの、後の工程において導体端子T、T…が形成される所定の部位にメッキ層M、M…を形成する。
次いで、図7(b)に示す如く、リードフレーム材Lの裏面Lbに耐エッチングレジスト膜Rを設けた状態で、リードフレーム材Lの表面Laをエッチング(ハーフエッチング)し、上記メッキ層M、M…をレジストとすることによって、導体端子T、T…のワイヤボンディング端子部Ta、Ta…を形成したのち、エッチングレジスト膜Rを除去する。
次いで、図7(c)に示す如く、リードフレーム材Lの所定位置にICチップEを接着固定し、ボンディングワイヤW、W…を介してICチップEとワイヤボンディング端子部Ta、Ta…とを繋いだのち、リードフレーム材Lの表面側から樹脂封止を行ってパッケージPを形成する。
次いで、図7(d)に示す如く、リードフレーム材Lの裏面Lbをエッチング(ハーフエッチング)し、上記メッキ層M、M…をレジストとすることによって、導体端子T、T…の外部端子部Tb、Tb…を形成し、こののち、パッケージP外周の外枠Lfを切断除去することで、図6に示す製品としての半導体装置Aが完成することとなる。
ところで、上述した如き半導体装置の製造方法においては、リードフレーム材Lに導体端子T、T…を形成するためのエッチングに際して、リードフレーム材Lの表面Laおよび裏面Lbに形成したメッキ層M、M…を、エッチング液のレジストとして使用しているために、エッチング液に浸食されない貴金属のメッキ層M、M…を一定の厚さ以上に形成する必要があり、もって貴金属の使用量が嵩むことによって、半導体装置の製造に係るコストが高騰する不都合があった。
一方、他の半導体装置の製造方法、言い換えればリードフレームの製造方法としては、リードフレーム材の表面/裏面の所定箇所にメッキ層を形成し、個々のメッキ層の表面をドライフィルムから成るレジスト膜で覆って、エッチングを行う方法が提供されている(例えば、特許文献2参照)。
しかし、上述した如き製造方法においては、リードフレーム材の所定箇所にメッキ層を形成したのち、リードフレーム材の表面/裏面の全体をドライフィルムで覆い、ガラスマスク(露光マスク)を介して露光することにより、ドライフィルムの不要箇所を除去しているために、リードフレーム材に対するガラスマスクの位置合わせ等が難しく、生産性に大きな問題があった。
また、さらに半導体装置の製造方法、言い換えればリードフレームの製造方法としては、ドライフィルム等のレジストを用い、エッチング(ハーフエッチング)によってリードパターンの間を貫通形成し、上記リードパターンの側面に形成した電着被膜をレジストとして、上記ドライフィルム等のレジストを除去したのち、リードパターンの表面に部分メッキを形成する方法が提供されている(例えば、特許文献2参照)。
しかし、上述の如き方法を、図6および図7に示した半導体装置Aの製造に適用した場合、ワイヤボンディング端子部Ta、Ta…を形成するべく、リードフレーム材Lにエッチング(ハーフエッチング)を施した際に、リードフレーム材Lの表面Laに形成される複雑な凹部には、レジストとしての電着被膜が均一に形成されないばかりか、表面積が大きいために電着被膜を構成する高価なレジスト電着液を大量に使用する問題が生じ、さらに上記凹部に形成された電着被膜を除去する工程において、完全に除去することが困難であるために電着被膜が残存し、これが異物となって製品としての半導体装置に不良を生じさせる虞れがある。
本発明の目的は、上記実状に鑑みてリードフレームおよび半導体装置の製造に係るコストを低減でき、かつ生産性を向上させることができるとともに、製品としての半導体装置に不良が生じることを未然に防止し得る、リードフレームの製造方法および半導体装置の製造方法を提供することにある。
上記目的を達成するべく、請求項1の発明に係るリードフレームの製造方法は、リードフレーム材の表面と裏面とに、ドライフィルムレジスト、液体レジストまたはソルダーレジストの何れか1つから成る第1レジスト膜を形成し、該第1レジスト膜にメッキパターンの開口を形成する工程と、リードフレーム材の表面および裏面に、第1レジスト膜のメッキパターンの開口を介してメッキ層を形成する工程と、メッキ層の表面に電着レジストから成る第2レジスト膜を形成する工程と、第1レジスト膜を除去する工程と、第1レジスト膜を除去した領域を、リードフレーム材の表面からエッチングして上側端子を突出させる工程とを含んで成ることを特徴としている。
請求項2の発明に係るリードフレームの製造方法は、リードフレーム材の表面と裏面とに、ドライフィルムレジスト、液体レジストまたはソルダーレジストの何れか1つから成る第1レジスト膜を形成し、該第1レジスト膜にメッキパターンの開口を形成する工程と、リードフレーム材の表面および裏面に、第1レジスト膜のメッキパターンの開口を介してメッキ層を形成する工程と、メッキ層の表面に電着レジストから成る第2レジスト膜を形成する工程と、第1レジスト膜を除去する工程と、第1レジスト膜を除去した領域を、エッチングして導体端子を分離させる工程とを含んで成ることを特徴としている。
また、上記目的を達成するべく、請求項3の発明に係る半導体装置の製造方法は、リードフレーム材の表面と裏面とに、ドライフィルムレジスト、液体レジストまたはソルダーレジストの何れか1つから成る第1レジスト膜を形成し、該第1レジスト膜にメッキパターンの開口を形成する第1工程と、リードフレーム材の表面および裏面に、第1レジスト膜のメッキパターンの開口を介してメッキ層を形成する第2工程と、メッキ層の表面に電着レジストから成る第2レジスト膜を形成する第3工程と、第1レジスト膜を除去する第4工程と、第1レジスト膜を除去した領域を、リードフレーム材の表面からエッチングし、上側端子を突出させてリードフレームを形成する第5工程と、リードフレームに半導体素子を搭載し、該半導体素子と上側端子とを電気的に接続して樹脂封止する第6工程と、リードフレーム材の裏面からエッチングし、下側端子を形成するとともに導体端子を分離する第7工程とを含んで成ることを特徴としている。
請求項4の発明に係る半導体装置の製造方法は、リードフレーム材の表面と裏面とに、ドライフィルムレジスト、液体レジストまたはソルダーレジストの何れか1つから成る第1レジスト膜を形成し、該第1レジスト膜にメッキパターンの開口を形成する第1工程と、リードフレーム材の表面および裏面に、第1レジスト膜のメッキパターンの開口を介してメッキ層を形成する第2工程と、メッキ層の表面に電着レジストから成る第2レジスト膜を形成する第3工程と、第1レジスト膜を除去する第4工程と、第1レジスト膜を除去した領域をエッチングし、導体端子を分離してリードフレームを形成する第5工程と、リードフレームに半導体素子を搭載し、該半導体素子と上側端子とを電気的に接続して樹脂封止する第6工程とを含んで成ることを特徴としている。
請求項1の発明に係るリードフレームの製造方法によれば、第1レジスト膜が形成されたリードフレーム材の、表面および裏面に形成したメッキ層の表面に第2レジスト膜を形成する工程において、上記第2レジスト層としてメッキ層のみに選択的に形成される電着レジストを使用し、電着レジストによってメッキ層をカバーしていることにより、メッキ層をレジストとしてエッチングする従来技術に対し、メッキ金属とエッチング液との組み合わせに制限を受けることがなく、エッチング液の選定範囲が広がることと併せ、エッチング液に浸食されない貴金属のメッキ層を一定の厚さ以上に形成する必要がなく、貴金属の使用量を削減できることにより、リードフレームの製造に関わるコストを低減させることが可能となる。
また、電着塗装法による電着レジストは、選択的にメッキ層のみに形成されるため、メッキ層のマスキングにパターン用マスクを必要とすることがなく、またメッキ層に対してパターン用マスクを高精度に位置合わせする必要もないため、リードフレームの製造に関わる生産性を向上させることができる。
さらに、リードフレーム材のエッチング工程前に電着レジストを形成するため、平面であるメッキ層に電着レジストが均一に形成され、必要最小限の領域のみで良いためコストの削減を可能とし、その後の電着レジスト除去工程においても確実に行うことができる。
また、凹凸のない平面に電着レジストを形成するため、ピンホールが発生し難く、高精度のエッチングマスクとして機能する。
また、電着塗装法による電着レジストは、選択的にメッキ層のみに形成されるため、メッキ層のマスキングにパターン用マスクを必要とすることがなく、またメッキ層に対してパターン用マスクを高精度に位置合わせする必要もないため、リードフレームの製造に関わる生産性を向上させることができる。
さらに、リードフレーム材のエッチング工程前に電着レジストを形成するため、平面であるメッキ層に電着レジストが均一に形成され、必要最小限の領域のみで良いためコストの削減を可能とし、その後の電着レジスト除去工程においても確実に行うことができる。
また、凹凸のない平面に電着レジストを形成するため、ピンホールが発生し難く、高精度のエッチングマスクとして機能する。
請求項2の発明に係るリードフレームの製造方法によれば、上述した請求項1の発明に係る作用効果と併せて、リードフレーム材における表面と裏面との両方からエッチングを行うことで、所望する形態(例えば、QFNのような表面実装タイプの半導体装置)に応じた最適な方法でリードフレームを製造することができる。
請求項3の発明に係る半導体装置の製造方法によれば、リードフレーム材の表面および裏面に形成したメッキ層の表面に第2レジスト膜を形成する第3工程において、上記第2レジスト層としてメッキ層のみに選択的に形成される電着レジストを使用し、電着レジストによってメッキ層をカバーしていることにより、メッキ層をレジストとしてエッチングする従来技術に対し、メッキ金属とエッチング液との組み合わせに制限を受けることがなく、エッチング液の選定範囲が広がることと併せ、エッチング液に浸食されない貴金属のメッキ層を一定の厚さ以上に形成する必要がなく、貴金属の使用量を削減できることにより、半導体装置の製造に関わるコストを低減させることが可能となる。
また、メッキ層の表面をドライフィルムから成るレジスト膜で覆ってエッチングを行う従来技術に対し、メッキ層のマスキングにパターン用マスクを必要とすることがなく、またメッキ層に対してパターン用マスクを高精度に位置合わせする必要もないため、半導体装置の製造に関わる生産性を向上させることができる。
さらに、メッキ層を電着レジストでカバーしてリードフレーム材をエッチングすることにより複数の端子を形成しているため、メッキ層を形成する部位以外を電着被膜によってマスキングしている従来技術における「リードフレーム材の表面に形成される複雑な凹部に電着被膜が均一に形成されない」、「表面積が大きいために電着被膜を構成する高価な金属を大量に必要とする」、「完全に除去することが困難であるために残存した電着被膜が異物となって不良を生じさせる」等の不都合を未然に防止することができる。
また、メッキ層の表面をドライフィルムから成るレジスト膜で覆ってエッチングを行う従来技術に対し、メッキ層のマスキングにパターン用マスクを必要とすることがなく、またメッキ層に対してパターン用マスクを高精度に位置合わせする必要もないため、半導体装置の製造に関わる生産性を向上させることができる。
さらに、メッキ層を電着レジストでカバーしてリードフレーム材をエッチングすることにより複数の端子を形成しているため、メッキ層を形成する部位以外を電着被膜によってマスキングしている従来技術における「リードフレーム材の表面に形成される複雑な凹部に電着被膜が均一に形成されない」、「表面積が大きいために電着被膜を構成する高価な金属を大量に必要とする」、「完全に除去することが困難であるために残存した電着被膜が異物となって不良を生じさせる」等の不都合を未然に防止することができる。
請求項4の発明に係る半導体装置の製造方法によれば、リードフレーム材の表面および裏面に形成したメッキ層の表面に第2レジスト膜を形成する第3工程において、上記第2レジスト層としてメッキ層のみに選択的に形成される電着レジストを使用し、電着レジストによってメッキ層をカバーしていることにより、メッキ層をレジストとしてエッチングする従来技術に対し、メッキ金属とエッチング液との組み合わせに制限を受けることがなく、エッチング液の選定範囲が広がることと併せ、エッチング液に浸食されない貴金属のメッキ層を一定の厚さ以上に形成する必要がなく、貴金属の使用量を削減できることにより、半導体装置の製造に関わるコストを低減させることが可能となる。
また、メッキ層の表面をドライフィルムから成るレジスト膜で覆ってエッチングを行う従来技術に対し、メッキ層のマスキングにパターン用マスクを必要とすることがなく、またメッキ層に対してパターン用マスクを高精度に位置合わせする必要もないため、半導体装置の製造に関わる生産性を向上させることができる。
さらに、メッキ層を電着レジストでカバーしてリードフレーム材をエッチングすることにより複数の端子を形成しているため、メッキ層を形成する部位以外を電着被膜によってマスキングしている従来技術における「リードフレーム材の表面に形成される複雑な凹部に電着被膜が均一に形成されない」、「表面積が大きいために電着被膜を構成する高価な金属を大量に必要とする」、「完全に除去することが困難であるために残存した電着被膜が異物となって不良を生じさせる」等の不都合を未然に防止することができる。
また、メッキ層の表面をドライフィルムから成るレジスト膜で覆ってエッチングを行う従来技術に対し、メッキ層のマスキングにパターン用マスクを必要とすることがなく、またメッキ層に対してパターン用マスクを高精度に位置合わせする必要もないため、半導体装置の製造に関わる生産性を向上させることができる。
さらに、メッキ層を電着レジストでカバーしてリードフレーム材をエッチングすることにより複数の端子を形成しているため、メッキ層を形成する部位以外を電着被膜によってマスキングしている従来技術における「リードフレーム材の表面に形成される複雑な凹部に電着被膜が均一に形成されない」、「表面積が大きいために電着被膜を構成する高価な金属を大量に必要とする」、「完全に除去することが困難であるために残存した電着被膜が異物となって不良を生じさせる」等の不都合を未然に防止することができる。
以下、本発明に係るリードフレームの製造方法、および半導体装置の製造方法について、実施例を示す図面を参照しながら詳細に説明する。
本発明に則ってリードフレームを製造するには、先ず、図1(a)に示す如く、金属材料(例えば、CuまたはCu合金)の薄板から成るリードフレーム材1の表面1aと裏面1bとに、それぞれドライフィルムレジスト(第1レジスト膜)2を貼着し、メッキパターンを有するガラスマスク(図示せず)等を介して露光したのち、現像によってドライフィルムレジスト2の所定位置のみを除去して開口2o、2o…を形成する。
なお、第1レジスト膜について、本実施の形態ではドライフィルムレジストを用いたが、その他、液体レジストやソルダーレジスト等の、電着レジスト以外のレジスト膜を選択することができる。
次いで、上記リードフレーム材1をメッキ槽に浸漬させる等の既存の処理により、図1(b)に示す如く、上記ドライフィルムレジスト2の開口2o、2o…を介して、リードフレーム材1における表面1aと裏面1bとの所定位置にメッキ層3、3…を形成する。
ここで、上記メッキ層3、3…は、例えばNiメッキを施した上にAuメッキを施したり、またはNiメッキの上にPdメッキ、Auメッキを順に施す等、適宜Ni、Sn、Pb、Ag、Au等の金属メッキを単体、または複数を組み合わせて施すことができる。
また、“リードフレーム材1における表面1aと裏面1bとの所定位置”とは、後述する半導体装置の製造工程において形成される導電端子1T(図3参照)の、ワイヤボンディング端子部(上側端子)1Taの頂面に対応する位置、実装外部端子部(下側端子)1Tbの頂面に対応する位置、およびダイパッド1D(図3参照)の裏面に対応する位置を指している。
次いで、図1(c)に示す如く、リードフレーム材1の裏面1bに形成したメッキ層3、3…を、ドライフィルムレジスト2とともに保護フィルム5で覆ったのち、電着塗装装置を用いる等の既存の処理により、リードフレーム材1の表面1aに形成されたメッキ層3、3…の表面に、電着塗装法による電着レジスト(第2レジスト膜)4、4…を形成し、これら電着レジスト4、4…によって、メッキ層3、3…の表面をマスキングする。
ここで、リードフレーム材1の裏面1bに保護フィルム5を覆うことで、電着レジストを必要な箇所のみに形成することができ、コストを削減することができる。
なお、電着塗装法を用いた電着レジストの工程は、例えば、電着液として水溶性アクリル樹脂液に浸漬し、80〜200Vの電圧をかける電気泳動法で電着塗膜を形成する。その後、露光・現像処理を行うことで、電着レジスト4となる。
因みに、上記電着レジスト4は、ドライフィルムレジスト2の開口2o、2o…から露出している、導電材料から成るメッキ層3、3…の表面のみに、選択的に形成されることは言うまでもない。
次いで、図1(d)に示す如く、上記保護フィルム5を剥がしたのち、炭酸ソーダ等の薬品を用いる等の既存の処理により、リードフレーム材1における表面1aと裏面1bとから、それぞれドライフィルムレジスト2、2を除去する。
次いで、図1(e)に示す如く、リードフレーム材1の裏面1bに形成したメッキ層3、3…を、ドライフィルムレジスト2とともに保護フィルム5で覆ったのち、上記リードフレーム材1の表面1aにおける所定領域をエッチング(ハーフエッチング)することにより、複数の導電端子1T、1T…(図3参照)におけるワイヤボンディング端子部(上側端子)1Ta、1Ta…を形成する。
このとき、上記エッチング(ハーフエッチング)に際して、メッキ層3の表面に形成された電着レジスト4、4…が、マスキングと成ってエッチングを阻止することにより、リードフレーム材1の表面1aにワイヤボンディング端子部(上側端子)1Ta、1Ta…が形成されることとなる。
次いで、上記保護フィルム5を剥がしたのち、有機酸等の薬品を用いる等の既存の処理により、ワイヤボンディング端子部(上側端子)1Ta、1Ta…の頂面に形成されたメッキ層3、3…の表面から、電着レジスト4、4…を除去することによって、図1(f)に示す如く、各々メッキ層3の形成されたワイヤボンディング端子部(上側端子)1Ta、1Ta…が、表面側の所定位置に突出形成されているとともに、裏面1bの所定位置にメッキ層3、3…が形成されている、製品としてのリードフレーム10が完成することとなる。
上述したリードフレームの製造方法によれば、メッキ層3を電着レジスト4によってカバーしていることで、メッキ層をレジストとしてエッチングする従来技術に対し、メッキ金属とエッチング液との組み合わせに制限を受けることがなく、エッチング液の選定範囲が広がることと併せ、エッチング液に浸食されない貴金属のメッキ層を一定の厚さ以上に形成する必要がなく、貴金属の使用量を削減できることにより、リードフレームの製造に関わるコストを低減させることが可能となる。
また、上述したリードフレームの製造方法によれば、電着塗装法を用いることで、選択的に導電材料であるメッキ層3、3…のみに電着レジスト4を形成できるため、メッキ層3のマスキングにパターン用マスクを必要とすることがなく、またメッキ層3に対してパターン用マスクを高精度に位置合わせする必要もなく、もってリードフレームの製造に関わる生産性を向上させることが可能となる。
さらに、上述したリードフレームの製造方法によれば、リードフレーム材1をエッチングする前に電着レジスト4を形成するため、平面であるメッキ層3に電着レジスト4が均一に形成され、必要最小限の領域にのみ電着レジストが形成されるため、コストの削減を可能とし、図1(f)での電着レジスト4の除去においても確実に行うことができる。
なお、上述した実施例においては、図1(e)に示す如く、リードフレーム材1の表面1aからエッチングを行っているが、所望するリードフレームの形態によっては、リードフレーム材1の裏面1bからエッチングを行う、あるいはリードフレーム材1の表面1aと裏面1bとの両方からエッチングを行う等、様々な製造方法を採用することが可能である。
また、上述の実施例では、リードフレーム材1の表面1aにのみ電着レジストを形成したが、必要に応じて、リードフレーム材1の裏面1bにも電着レジストを形成しても良い。
以下では、本発明に係る半導体装置の製造方法について説明する。
なお、図2および図3に示す半導体装置の製造方法において、図1に示したリードフレームと同一の要素には、図2および図3において図1と同一の符号を用いることとする。
なお、図2および図3に示す半導体装置の製造方法において、図1に示したリードフレームと同一の要素には、図2および図3において図1と同一の符号を用いることとする。
本発明に則って半導体装置を製造するには、先ず、図2(a)に示す如く、金属材料の薄板から成るリードフレーム材1を準備したのち、図2(b)に示す如く、上記リードフレーム材1の表面1aと裏面1bとに、それぞれドライフィルムレジスト(第1レジスト膜)2を貼着し、メッキパターンを有するガラスマスク(図示せず)等を介して露光したのち、現像によってドライフィルムレジスト2の所定位置のみを除去して開口2o、2o…を形成する(第1工程)。
次いで、上記リードフレーム材1をメッキ槽に浸漬させる等の既存の処理により、図2(c)に示す如く、上記ドライフィルムレジスト2の開口2o、2o…を介して、リードフレーム材1における表面1aと裏面1bとの所定位置にメッキ層3、3…を形成する(第2工程)。
ここで、“リードフレーム材1における表面1aと裏面1bとの所定位置”とは、後述する工程において形成される導電端子1T(図3参照)の、ワイヤボンディング端子部(上側端子)1Taの頂面に対応する位置、実装外部端子部(下側端子)1Tbの頂面に対応する位置、およびダイパッド1D(図3参照)の裏面に対応する位置を指している。
次いで、図2(d)に示す如く、電着塗装装置を用いる等の既存の処理により、リードフレーム材1の表面1aおよび裏面1bに形成されたメッキ層3、3…の表面に、電着塗装法による電着レジスト(第2レジスト膜)4、4…を形成し、これら電着レジスト4、4…によって、メッキ層3、3…の表面をマスキングする(第3工程)。
因みに、上記電着レジスト4は、ドライフィルムレジスト2の開口2o、2o…から露出している、導電材料から成るメッキ層3、3…の表面のみに、選択的に形成されることは言うまでもない。
次いで、図2(e)に示す如く、薬品を用いる等の既存の処理により、リードフレーム材1における表面1aと裏面1bとから、それぞれドライフィルムレジスト2、2を除去する(第4工程)。
次いで、図3(a)に示す如く、リードフレーム材1の裏面1bをメッキ層3、3…、および電着レジスト4、4…とともに保護フィルム5で覆ったのち、上記リードフレーム材1の表面1aにおける所定領域をエッチング(ハーフエッチング)して、複数の導電端子1T(図3参照)におけるワイヤボンディング端子部(上側端子)1Ta、1Ta…を突出させたリードフレーム10を形成する(第5工程)。
このとき、上記エッチング(ハーフエッチング)に際して、メッキ層3の表面に形成された電着レジスト4、4…が、マスキングと成ってエッチングを阻止することにより、リードフレーム材1の表面1aにワイヤボンディング端子部(上側端子)1Ta、1Ta…が突出形成されることとなる。
次いで、図3(b)に示す如く、薬品を用いる等の既存の処理により、ワイヤボンディング端子部1Ta、1Ta…の頂面に形成されたメッキ層3、3…から電着レジスト4、4…を除去したのち、図3(c)に示す如く、リードフレーム10の所定位置にICチップ(半導体素子)20を接着固定し、ボンディングワイヤ30、30…を介してICチップ20とワイヤボンディング端子部1Ta、1Ta…とを電気的に接続し、リードフレーム10の表面側から樹脂封止を行ってパッケージ40を形成する(第6工程)。
次いで、図3(d)に示す如く、リードフレーム材1の裏面1bにおける所定領域をエッチング(ハーフエッチング)し、実装外部端子部(下側端子)1Tb、1Tb…を突出させて導体端子1T、1T…を形成するとともに、個々の導体端子1T、1T…を分離する(第7工程)。
このとき、上記エッチング(ハーフエッチング)に際して、メッキ層3の表面に形成された電着レジスト4、4…が、マスキングと成ってエッチングを阻止することにより、リードフレーム材1の裏面1bに実装外部端子部1Tb、1Tb…が突出形成され、かつ導体端子1T、1T…を分離されることとなる。
次いで、図3(d)に示した半導体装置の中間製品に対して、実装外部端子部1Tb、1Tb…の頂面に形成された電着レジスト4、4…を、薬品を用いる等の既存の処理によって除去することで、パッケージ40の底面から突出した実装外部端子部1Tb、1Tb…の頂面に、それぞれメッキ層3、3…が形成されて成る、製品としての半導体装置100が完成することとなる。
上述した半導体装置の製造方法によれば、メッキ層3を電着レジスト4によってカバーしていることで、メッキ層をレジストとしてエッチングする従来技術に対し、メッキ金属とエッチング液との組み合わせに制限を受けることがなく、エッチング液の選定範囲が広がることと併せ、エッチング液に浸食されない貴金属のメッキ層を一定の厚さ以上に形成する必要がなく、貴金属の使用量を削減できることにより、半導体装置の製造に関わるコストを低減させることが可能となる。
また、上述した半導体装置の製造方法によれば、電着塗装法を用いることで、選択的に導電材料であるメッキ層3、3…のみに電着レジスト4を形成できるため、メッキ層3のマスキングにパターン用マスクを必要とすることがなく、またメッキ層3に対してパターン用マスクを高精度に位置合わせする必要もなく、もって半導体装置の製造に関わる生産性を向上させることが可能となる。
さらに、上述した半導体装置の製造方法によれば、リードフレーム材1をエッチングする前に電着レジスト4を形成するため、平面であるメッキ層3に電着レジスト4が均一に形成され、必要最小限の領域にのみ電着レジストが形成されるため、コストの削減を可能とし、電着レジスト4の除去工程においても確実に行うことができる。
以下では、本発明に係る半導体装置の製造方法の他の実施例、詳しくはQFN(クワッドフラットノンリード)タイプの半導体装置の製造方法について説明する。
本発明に則って半導体装置を製造するには、先ず、図4(a)に示す如く、金属材料の薄板から成るリードフレーム材1′を準備したのち、図4(b)に示す如く、上記リードフレーム材1′の表面1a′と裏面1b′とに、それぞれドライフィルムレジスト(第1レジスト膜)2′を貼着し、メッキパターンを有するガラスマスク(図示せず)等を介して露光したのち、現像によってドライフィルムレジスト2′の所定位置のみを除去して開口2o′、2o′…を形成する(第1工程)。
次いで、上記リードフレーム材1′をメッキ槽に浸漬させる等の既存の処理により、図4(c)に示す如く、上記ドライフィルムレジスト2′の開口2o′、2o′…を介して、リードフレーム材1′における表面1a′と裏面1b′との所定位置にメッキ層3′、3′…を形成する(第2工程)。
ここで、“リードフレーム材1′における表面1a′と裏面1b′との所定位置”とは、後述する工程において形成される導電端子1T′(図5参照)の表面と裏面とに対応する位置、およびダイパッド1D′(図5参照)の表面と裏面とに対応する位置を指している。
次いで、図4(d)に示す如く、電着塗装装置を用いる等の既存の処理により、リードフレーム材1′の表面1a′および裏面1b′に形成されたメッキ層3′、3′…の表面に、電着塗装法による電着レジスト(第2レジスト膜)4′、4′…を形成し、これら電着レジスト4′、4′…によって、メッキ層3′、3′…の表面をマスキングする(第3工程)。
因みに、上記電着レジスト4′は、ドライフィルムレジスト2′の開口2o′、2o′…から露出している、導電材料から成るメッキ層3′、3′…の表面のみに、選択的に形成されることは言うまでもない。
次いで、図4(e)に示す如く、薬品を用いる等の既存の処理により、リードフレーム材1′における表面1a′と裏面1b′とから、それぞれドライフィルムレジスト2′、2′を除去する(第4工程)。
次いで、図5(a)に示す如く、リードフレーム材1′の表面1a′における所定領域をエッチング(ハーフエッチング)するとともに、リードフレーム材1′の裏面1b′における所定領域をエッチング(ハーフエッチング)することにより、中央のダイパッド1D′と、該ダイパッド1D′から分離された導体端子1T′、1T′…とを有するリードフレーム10′を形成する(第5工程)。
このとき、上記エッチング(ハーフエッチング)に際して、メッキ層3′の表面に形成された電着レジスト4′、4′…が、マスキングと成ってエッチングを阻止することにより、ダイパッド1D′と導体端子1T′、1T′…とが分離されることとなる。
次いで、図5(b)に示す如く、薬品を用いる等の既存の処理により、全てのメッキ層3′、3′…の表面から電着レジスト4′、4′…を除去したのち、図5(c)に示す如く、リードフレーム10′のダイパッド1D′にICチップ(半導体素子)20′を接着固定し、ボンディングワイヤ30′、30′…を介してICチップ20′と導体端子1T′、1T′…とを電気的に接続し、樹脂封止を行ってパッケージ40′を形成することにより(第6工程)、製品としてのQFNタイプの半導体装置100′が完成することとなる。
上述したQFNタイプの半導体装置の製造方法においても、図2および図3に示した半導体装置の製造方法と同様に、半導体装置の製造に関わるコストを低減させることができ、また半導体装置の製造に関わる生産性を向上させることができるとともに、メッキ層を形成する部位以外を電着被膜によってマスキングしている従来技術における諸問題を解消することができる。
ここで、QFNタイプの半導体装置を製造する従来の方法では、エッチングの後にメッキ層を形成しているため、ダイパッドやリード(導体端子)の側面にまでメッキ層が形成されてしまい、メッキ金属と封止樹脂との密着性が悪いことから、パッケージ内に湿気が侵入する等、半導体装置としての信頼性を低下させる問題が生じていた。
これに対して、図4および図5に示したQFNタイプの半導体装置の製造方法によれば、上述した如く、メッキ層を形成してからエッチングを行うため、ダイパッド1D′や導体端子1T′、1T′…の側面にメッキ層が形成されることがなく、リードフレーム材のCu材と封止樹脂との接触面積が増大し、樹脂密着性が向上することによって、半導体装置としての信頼性も向上することとなり、さらにメッキ層を形成する領域が最小限で良いことから、メッキ金属の使用量が削減されることとなり、もって半導体装置の製造に関わるコストを低減することが可能となる。
1、1′…リードフレーム材、
1a、1a′…表面、
1b、1b′…裏面、
1T、1T′…導体端子、
1Ta…ワイヤボンディング端子部(上側端子)、
1Tb…実装外部端子部(下側端子)、
1D、1D′…ダイパッド、
2、2′…ドライフィルムレジスト(第1レジスト膜)、
2o、2o′…開口、
3、3′…メッキ層、
4、4′…電着レジスト(第2レジスト膜)、
5、5′…保護フィルム、
10、10′…リードフレーム、
20、20′…ICチップ(半導体素子)、
30、30′…ボンディングワイヤ、
40、40′…パッケージ、
100、100′…半導体装置。
1a、1a′…表面、
1b、1b′…裏面、
1T、1T′…導体端子、
1Ta…ワイヤボンディング端子部(上側端子)、
1Tb…実装外部端子部(下側端子)、
1D、1D′…ダイパッド、
2、2′…ドライフィルムレジスト(第1レジスト膜)、
2o、2o′…開口、
3、3′…メッキ層、
4、4′…電着レジスト(第2レジスト膜)、
5、5′…保護フィルム、
10、10′…リードフレーム、
20、20′…ICチップ(半導体素子)、
30、30′…ボンディングワイヤ、
40、40′…パッケージ、
100、100′…半導体装置。
Claims (4)
- リードフレーム材の表面と裏面とに、ドライフィルムレジスト、液体レジストまたはソルダーレジストの何れか1つから成る第1レジスト膜を形成し、該第1レジスト膜にメッキパターンの開口を形成する工程と、
前記リードフレーム材の表面および裏面に、前記第1レジスト膜のメッキパターンの開口を介してメッキ層を形成する工程と、
前記メッキ層の表面に電着レジストから成る第2レジスト膜を形成する工程と、
前記第1レジスト膜を除去する工程と、
前記第1レジスト膜を除去した領域を、前記リードフレームの表面からエッチングして上側端子を突出させる工程と、
を含んで成ることを特徴とするリードフレームの製造方法。 - リードフレーム材の表面と裏面とに、ドライフィルムレジスト、液体レジストまたはソルダーレジストの何れか1つから成る第1レジスト膜を形成し、該第1レジスト膜にメッキパターンの開口を形成する工程と、
前記リードフレーム材の表面および裏面に、前記第1レジスト膜のメッキパターンの開口を介してメッキ層を形成する工程と、
前記メッキ層の表面に電着レジストから成る第2レジスト膜を形成する工程と、
前記第1レジスト膜を除去する工程と、
前記第1レジスト膜を除去した領域を、エッチングして導体端子を分離させる工程と、
を含んで成ることを特徴とするリードフレームの製造方法。 - リードフレーム材の表面と裏面とに、ドライフィルムレジスト、液体レジストまたはソルダーレジストの何れか1つから成る第1レジスト膜を形成し、該第1レジスト膜にメッキパターンの開口を形成する第1工程と、
前記リードフレーム材の表面および裏面に、前記第1レジスト膜のメッキパターンの開口を介してメッキ層を形成する第2工程と、
前記メッキ層の表面に電着レジストから成る第2レジスト膜を形成する第3工程と、
前記第1レジスト膜を除去する第4工程と、
前記第1レジスト膜を除去した領域を、前記リードフレーム材の表面からエッチングし、上側端子を突出させてリードフレームを形成する第5工程と、
前記リードフレームに半導体素子を搭載し、該半導体素子と前記上側端子とを電気的に接続して樹脂封止する第6工程と、
前記リードフレーム材の裏面からエッチングし、下側端子を形成するとともに導体端子を分離する第7工程と、
を含んで成ることを特徴とする半導体装置の製造方法。 - リードフレーム材の表面と裏面とに、ドライフィルムレジスト、液体レジストまたはソルダーレジストの何れか1つから成る第1レジスト膜を形成し、該第1レジスト膜にメッキパターンの開口を形成する第1工程と、
前記リードフレーム材の表面および裏面に、前記第1レジスト膜のメッキパターンの開口を介してメッキ層を形成する第2工程と、
前記メッキ層の表面に電着レジストから成る第2レジスト膜を形成する第3工程と、
前記第1レジスト膜を除去する第4工程と、
前記第1レジスト膜を除去した領域をエッチングし、導体端子を分離してリードフレームを形成する第5工程と、
前記リードフレームに半導体素子を搭載し、該半導体素子と前記上側端子とを電気的に接続して樹脂封止する第6工程と、
を含んで成ることを特徴とする半導体装置の製造方法。
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