JP5996846B2 - 窒化物半導体発光素子およびその製造方法 - Google Patents
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Description
超格子層は、2層以上のドープ層を有することが好ましい。
ドープ層における第1導電型不純物の濃度は1×1017cm-3以上であれば良い。
障壁層の厚みは、7nm以下であることが好ましい。
条件2:ドープ層における第1導電型不純物の濃度は、障壁層における第1導電型不純物の濃度よりも高い
条件3:超格子層の1周期当たりの厚みに対するアンドープ層の1層当たりの厚みの割合は、活性層の1周期当たりの厚みに対する井戸層の1層当たりの厚みの割合よりも低い
条件4:超格子層(好ましくはアンドープ層)の成長速度は井戸層の成長速度よりも速い。
なお、以下では、特許請求の範囲における「第1導電型」および「第2導電型」をそれぞれ「n型」および「p型」としているが、特許請求の範囲における「第1導電型」および「第2導電型」をそれぞれ「p型」および「n型」としても良い。
図1は、本発明の第1の実施形態に係る窒化物半導体発光素子1の概略断面図である。本実施形態に係る窒化物半導体発光素子1では、長周期超格子層13の平均キャリア濃度は活性層15の平均キャリア濃度よりも高い。
本実施形態に係る窒化物半導体発光素子1は、基板3の上面上に、バッファ層5と、下地層7と、n型窒化物半導体層9と、短周期超格子層11と、長周期超格子層13と、活性層15と、p型窒化物半導体層17とがこの順に積層されて構成されている。n型窒化物半導体層9の上面の一部分は、短周期超格子層11などから露出しており、その露出部分の上には、n側電極21が設けられている。p型窒化物半導体層17の上には、透明電極23を介してp側電極25が設けられている。
基板3は、たとえば、サファイヤのような絶縁性基板であっても良いし、GaN、SiC、またはZnOなどのような導電性基板であっても良い。基板3の厚みは、特に限定されず、60μm以上300μm以下であれば良い。基板3の上面は、平坦であっても良いし、凹凸を有していても良い。
バッファ層5は、たとえばAlsoGatoN(0≦s0≦1、0≦t0≦1、s0+t0≠0)層であれば良く、好ましくはAlN層である。これにより、基板3の成長面の法線方向に伸長するようにバッファ層5が形成されるので、結晶粒の揃った柱状結晶の集合体からなるバッファ層5が得られる。
下地層7は、たとえばAls1Gat1Inu1N(0≦s1≦1、0≦t1≦1、0≦u1≦1、s1+t1+u1≠0)層であれば良く、好ましくはAls1Gat1N(0≦s1≦1、0≦t1≦1、s1+t1≠0)層であり、より好ましくはGaN層である。これにより、バッファ層5中に存在する結晶欠陥(たとえば転位など)がバッファ層5と下地層7との界面付近でループされ易くなり、よって、その結晶欠陥がバッファ層5から下地層7へ引き継がれることを防止できる。
<n型窒化物半導体層>
n型窒化物半導体層9は、たとえばAls2Gat2Inu2N(0≦s2≦1、0≦t2≦1、0≦u2≦1、s2+t2+u2≠0)層にn型不純物がドーピングされた層であれば良く、好ましくはAls2Ga1-s2N(0≦s2≦1、好ましくは0≦s2≦0.5、より好ましくは0≦s2≦0.1)層にn型不純物がドーピングされた層である。
超格子層とは、複数の種類の結晶格子の重ね合わせにより、その周期構造が基本単位格子よりも長い結晶格子からなる層を意味する。短周期超格子層11では、第1半導体層11Aと第2半導体層11Bとが交互に積層されて超格子構造を構成しており、その周期構造が第1半導体層11Aを構成する半導体材料の基本単位格子および第2半導体層11Bを構成する半導体材料の基本単位格子よりも長くなっている。なお、短周期超格子層11は、第1半導体層11Aと、第2半導体層11Bと、第1半導体層11Aおよび第2半導体層11Bとは異なる1層以上の半導体層とが順に積層されて超格子構造を構成していても良い。また、短周期超格子層11の1周期当たりの厚みは、後述の長周期超格子層13の1周期当たりの厚みよりも薄く、具体的には1nm以上7nm以下である。
長周期超格子層13は、特許請求の範囲における「超格子層」である。ここで、超格子層の定義は、上記<短周期超格子層>で示したとおりである。長周期超格子層13では、ドープ層13Aとアンドープ層13Bとが交互に積層されて超格子構造を構成しており、その周期構造がドープ層13Aを構成する半導体材料の基本単位格子およびアンドープ層13Bを構成する半導体材料の基本単位格子よりも長くなっている。なお、長周期超格子層13は、短周期超格子層11と同じく、ドープ層13Aと、アンドープ層13Bと、ドープ層13Aおよびアンドープ層13Bとは異なる1層以上の半導体層とが順に積層されて超格子構造を構成していても良い。また、長周期超格子層13の1周期当たりの長さは、前述の短周期超格子層11よりも長く、具体的には4nm以上20nm以下である。
活性層15は、単一量子井戸(SQW)構造を有していても良いし、図1に示すように多重量子井戸(MQW)構造を有していても良い。活性層15がMQW構造を有する場合には、活性層15は、障壁層15Aが井戸層15Bを挟むようにして障壁層15Aと井戸層15Bとが積層されて構成されていれば良い。
p型窒化物半導体層17は、たとえばAls4Gat4Inu4N(0≦s4≦1、0≦t4≦1、0≦u4≦1、s4+t4+u4≠0)層にp型不純物がドーピングされた層であれば良く、好ましくはAls4Ga1-s4N(0<s4≦0.4、好ましくは0.1≦s4≦0.3)層にp型ドーパントをドーピングした層である。
p型窒化物半導体層17におけるp型不純物濃度は、特に限定されないが、1×1018cm-3以上2×1020cm-3以下であれば良い。
n側電極21およびp側電極25は、窒化物半導体発光素子1に駆動電力を供給するための電極であり、たとえばニッケル層、プラチナ層、および金層がこの順序で積層されて構成されていれば良く、合計で300nm以上3000nm以下の厚みを有していれば良い。透明電極23は、たとえば金、パラジウム、ニッケル、ITO(Indium Tin Oxide)またはIZO(Indium Zinc Oxide)からなれば良く、50nm以上500nm以下の厚みを有していれば良い。透明電極23のかわりに、アルミニウムまたは銀などの反射電極を積層しても良いし、この反射電極をフリップチップ実装しても良い。
長周期超格子層13の平均キャリア濃度は、活性層15の平均キャリア濃度よりも高く、好ましくは活性層15の平均キャリア濃度の1.1倍以上であり、より好ましくは活性層15の平均キャリア濃度の1.2倍以上100倍以下である。長周期超格子層13の平均キャリア濃度が活性層15の平均キャリア濃度の1.2倍未満であれば、大電流駆動時における発光効率の低下を防止できないことがある。一方、長周期超格子層13の平均キャリア濃度が活性層15の平均キャリア濃度の100倍を超えると、長周期超格子層13の平坦性の低下を招くので、活性層15の結晶品質の低下を招き、よって、窒化物半導体発光素子1の発光効率が低下することがある。
式1において、xは空乏層の厚み(cm)であり、ε0は真空の誘電率(8.9×10-14(F/cm))である。εrは窒化物半導体材料の比誘電率(単位は無次元)であり、本実施形態ではGaNの比誘電率で近似できる。Cは測定された空乏層容量(F/cm2)である。
式2において、Nは空乏層の底面におけるキャリア濃度(1/cm3)であり、qは点電荷量(C)であり、ΔCは窒化物半導体発光素子1に印加される電圧Vの大きさを変えたときの空乏層容量の変化量であり、ΔVは窒化物半導体発光素子1に印加される電圧Vの変化量である。式2におけるC、ε0、およびεrはいずれも式1と同様である。
第1の変形例では、アンドープ層13Bおよび井戸層15Bがともにn型不純物を含んでいないとき、長周期超格子層13の1周期当たりの厚みに対するアンドープ層13Bの1層当たりの厚みの割合を活性層15の1周期当たりの厚みに対する井戸層15Bの1層当たりの厚みの割合よりも低くする。これにより、長周期超格子層13の全体積に対するアンドープ層13Bの合計体積の割合は、活性層15の全体積に対する井戸層15Bの合計体積の割合よりも低くなる。つまり、長周期超格子層13の全体積に対するn型不純物を含まない層の合計体積の割合は、活性層15の全体積に対するn型不純物を含まない層の合計体積の割合よりも低くなる。その結果、長周期超格子層13の全体積に対するn型不純物を含む層の合計体積の割合は、活性層15の全体積に対するn型不純物を含む層の合計体積の割合よりも高くなる。したがって、ドープ層13Aにおけるn型不純物濃度が障壁層15Aにおけるn型不純物濃度と略同一であっても、長周期超格子層13の平均キャリア濃度は活性層15の平均キャリア濃度よりも高くなる。よって、上記第1の実施形態と同じく、ドープ層13Aの平坦性を維持できるので、活性層15の結晶性の低下を防止でき、したがって、活性層15での発光効率の低下を防止できる。
第2の変形例では、ドープ層13Aにおけるn型不純物濃度は、障壁層15Aにおけるn型不純物濃度よりも高い。これにより、イオン化した不純物の割合は、ドープ層13Aの方が障壁層15Aよりも高くなる。よって、長周期超格子層13の平均キャリア濃度は、活性層15の平均キャリア濃度よりも高くなる。
本発明の第2の実施形態では、製造条件が長周期超格子層13と活性層15とで異なるので、平均キャリア濃度が長周期超格子層13と活性層15とで異なる。以下では、長周期超格子層13および活性層15の成長方法を主に示す。
このとき、ドープ層13Aの成長速度は、10nm/hour以上300nm/hour以下であれば良い。ドープ層13Aの成長速度が10nm/hour未満であれば、ドープ層13Aの成長時間が長時間化し、よって、ドープ層13Aを成長させるために使用する材料の量が増大するために、窒化物半導体発光素子1の生産性が低下することがある。一方、ドープ層13Aの成長速度が300nm/hourを超えれば、ドープ層13Aの結晶品質の低下による窒化物半導体発光素子1の発光効率の低下を招くおそれがある。アンドープ層13Bの成長速度は、10nm/hour以上300nm/hour以下であれば良く、好ましくはドープ層13Aの成長速度と同じである。
このとき、障壁層15Aの成長速度は、10nm/hour以上300nm/hour以下であれば良く、ドープ層13Aの成長速度と同じであっても良い。障壁層15Aの成長速度が10nm/hour未満であれば、障壁層15Aの成長時間が長時間化し、よって、障壁層15Aを成長させるために使用する材料の量が増大するので、窒化物半導体発光素子1の生産性が低下するおそれがある。一方、障壁層15Aの成長速度が300nm/hourを超えれば、障壁層15Aの結晶品質の低下による窒化物半導体発光素子1の発光効率の低下を招くおそれがある。
第3の変形例では、0.3体積%以上30体積%以下の水素ガスを含むキャリアガスを用いて長周期超格子層13のドープ層13Aを成長させる。以下では、上記第2の実施形態とは異なる点を主に示す。
第4の変形例では、長周期超格子層13の成長温度を活性層15の成長温度よりも高くして長周期超格子層13を成長させる。以下では、上記第2の実施形態とは異なる点を主に示す。
<窒化物半導体発光素子の作製>
<実施例1>
まず、凹凸加工が上面に施されたサファイア基板を準備し、その上面上に、AlNからなるバッファ層と、ノンドープGaNからなる下地層と、n型GaNからなるn型コンタクト層と、n型GaNからなるn型クラッド層とを順に結晶成長させた。このとき、n型クラッド層の厚みは1μmであり、n型クラッド層におけるn型不純物濃度は6×1018cm-3であった。
<実施例2>
長周期超格子層の1周期当たりの厚みに対するSiドープGaNからなるドープ層の1層当たりの厚みの割合を高くすることを除いては上記実施例1と同様の方法にしたがって、実施例2に係る窒化物半導体発光素子を製造した。以下では、上記実施例1とは異なる点を主に示す。
長周期超格子層の成長温度を低くする、長周期超格子層の1周期当たりの厚みに対するノンドープGaNからなるアンドープ層の1層当たりの厚みの割合を低くする、および活性層の障壁層におけるSi濃度を低くすることを除いては上記実施例1と同様の方法にしたがって、実施例3に係る窒化物半導体発光素子を製造した。以下では、上記実施例1とは異なる点を主に示す。
キャリアガスの材料を変更して長周期超格子層のドープ層を結晶成長させたことを除いては上記実施例1と同様の方法にしたがって、実施例4に係る窒化物半導体発光素子を製造した。以下では、上記実施例1とは異なる点について主に示す。
成長温度を高くして長周期超格子層を結晶成長させたこと、長周期超格子層の1周期当たりの厚みに対するSiドープGaNからなるドープ層の1層当たりの厚みの割合を高くしたこと、InGaNからなる長周期超格子層のアンドープ層におけるInとGaとの組成比を変更すること、およびSiドープGaNからなる活性層の障壁層の1層当たりの厚みを小さくすることを除いては上記実施例1と同様の方法にしたがって、実施例5に係る窒化物半導体発光素子を製造した。以下では、上記実施例1とは異なる点について主に示す。
活性層の障壁層がn型不純物を含んでいないことを除いては上記実施例1の方法にしたがって、実施例6における窒化物半導体発光素子を作製した。本実施例では、上記実施例1に記載の方法にしたがって短周期超格子層の作製工程まで行なったのち、以下に示す方法にしたがって長周期超格子層および活性層を作製した。
特許文献1に記載の方法にしたがって、長周期超格子層および短周期超格子層を設けず、且つノンドープInGaN層3nmからなる井戸層とSiが1×1017cm-3ドープされたGaN層18nmからなる障壁層とで構成された活性層を含む窒化物半導体発光素子を作製した。作製された窒化物半導体発光素子の光出力は、30mAで37mW、3.8Vであった。
実施例1に係る窒化物半導体発光素子および比較例1に係る窒化物半導体発光素子に対して駆動電流を変えて外部量子効率を測定した。具体的には、各駆動電流を流した時の光出力を測定し、光出力から外部量子効率を計算した。すると、図2に示す結果が得られた。ここで、図2は、駆動電流IFに対する外部量子効率ηexの変化を示すグラフである。
Claims (20)
- 第1導電型窒化物半導体層と、
前記第1導電型窒化物半導体層の上に設けられた超格子層と、
前記超格子層の上に設けられた活性層と、
前記活性層の上に設けられた第2導電型窒化物半導体層とを備え、
前記超格子層の平均キャリア濃度は、前記活性層の平均キャリア濃度よりも高く、
前記超格子層は、第1導電型不純物を含むドープ層を有し、
前記活性層は、障壁層を有し、
前記超格子層の1周期当たりの厚みに対する前記ドープ層の1層当たりの厚みの割合は、前記活性層の1周期当たりの厚みに対する前記障壁層の1層当たりの厚みの割合以上である窒化物半導体発光素子。 - 前記超格子層の平均キャリア濃度は、前記活性層の平均キャリア濃度に対して1.2倍以上である請求項1に記載の窒化物半導体発光素子。
- 前記ドープ層における第1導電型不純物の濃度は、前記障壁層における第1導電型不純物の濃度以上である請求項1または2に記載の窒化物半導体発光素子。
- 前記超格子層は、第1導電型不純物を含まないアンドープ層をさらに有し、
前記活性層は、前記第1導電型不純物を含まない井戸層をさらに有し、
前記超格子層の1周期当たりの厚みに対する前記アンドープ層の1層当たりの厚みの割合は、前記活性層の1周期当たりの厚みに対する前記井戸層の1層当たりの厚みの割合以下である請求項1〜3のいずれかに記載の窒化物半導体発光素子。 - 前記アンドープ層は、前記活性層の下面に接している請求項4に記載の窒化物半導体発光素子。
- 前記超格子層は、2層以上の前記ドープ層を有する請求項1〜5のいずれかに記載の窒化物半導体発光素子。
- 前記ドープ層の1層当たりの厚みは、1.5nm以上である請求項1〜6のいずれかに記載の窒化物半導体発光素子。
- 前記ドープ層における第1導電型不純物の濃度は、1×1017cm-3以上である請求項1〜7のいずれかに記載の窒化物半導体発光素子。
- 前記障壁層は前記第1導電型不純物を含んでいない、または前記障壁層における第1導電型不純物の濃度は8×1017cm-3以下である請求項1〜8のいずれかに記載の窒化物半導体発光素子。
- 前記活性層は、2層以上の前記井戸層を有する請求項4〜9のいずれかに記載の窒化物半導体発光素子。
- 前記障壁層の1層当たりの厚みは、7nm以下である請求項1〜10のいずれかに記載の窒化物半導体発光素子。
- 前記第1導電型窒化物半導体層と前記超格子層との間には、1周期当たりの厚みが前記超格子層の1周期当たりの厚みよりも薄い短周期超格子層が設けられており、
前記短周期超格子層における第1導電型不純物の濃度は、1×1018cm-3以上5×1019cm-3以下である請求項1〜11のいずれかに記載の窒化物半導体発光素子。 - 前記超格子層は、前記ドープ層と前記アンドープ層とが積層されて構成されており、
前記ドープ層は、前記第1導電型不純物とAlaGabIn(1-a-b)N(0≦a<1、0<b≦1)とを含み、
前記アンドープ層は、IncGa(1-c)N(0<c≦1)からなる請求項4〜12のいずれかに記載の窒化物半導体発光素子。 - 前記活性層は、前記障壁層と前記井戸層とが積層されて構成されており、
前記障壁層は、前記第1導電型不純物とAlxGayIn(1-x-y)N(0≦x<1、0<y≦1)を含み、
前記井戸層は、InzGa(1-z)N(0<z≦1)からなる請求項4〜13のいずれかに記載の窒化物半導体発光素子。 - 前記超格子層および前記活性層は、それぞれ、Inを含み、
前記超格子層がフォトルミネッセンスにより発する光の波長は、前記活性層が発する光の波長以下である請求項1〜14のいずれかに記載の窒化物半導体発光素子。 - 請求項1〜15のいずれかに記載の窒化物半導体発光素子の製造方法であって、
基板の上に、前記第1導電型の窒化物半導体層を成長させる工程と、
前記第1導電型の窒化物半導体層の上に、前記超格子層を成長させる工程と、
前記超格子層の上に、前記活性層を成長させる工程と、
前記活性層の上に、前記第2導電型の窒化物半導体層を設ける工程とを備え、
前記超格子層の成長速度は、前記活性層の一部である井戸層の成長速度以上である窒化物半導体発光素子の製造方法。 - 前記超格子層を構成する層のうち第1導電型不純物を含まない層の成長速度は、前記井戸層の成長速度以上である請求項16に記載の窒化物半導体発光素子の製造方法。
- 第1原料ガスと第1キャリアガスとを用いて、前記超格子層を構成する層のうち第1導電型不純物を含む層を成長させ、
前記第1キャリアガスは、0.3体積%以上30体積%以下の水素ガスを含む請求項16または17に記載の窒化物半導体発光素子の製造方法。 - 前記超格子層の成長温度は、前記活性層の成長温度と同じ、または前記活性層の成長温度よりも高い請求項16〜18のいずれかに記載の窒化物半導体発光素子の製造方法。
- 前記井戸層の成長速度は、10nm/h以上150nm/h以下である請求項16〜19のいずれかに記載の窒化物半導体発光素子の製造方法。
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