JP5697345B2 - インプリント装置、及び物品の製造方法 - Google Patents

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Families Citing this family (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2013098181A (ja) * 2011-10-27 2013-05-20 Canon Inc インプリント装置、インプリント方法、インプリントシステム及びデバイス製造方法
JP6188382B2 (ja) * 2013-04-03 2017-08-30 キヤノン株式会社 インプリント装置および物品の製造方法
JP6333039B2 (ja) 2013-05-16 2018-05-30 キヤノン株式会社 インプリント装置、デバイス製造方法およびインプリント方法
JP6315904B2 (ja) * 2013-06-28 2018-04-25 キヤノン株式会社 インプリント方法、インプリント装置及びデバイスの製造方法
KR102215539B1 (ko) * 2015-11-20 2021-02-16 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이. 리소그래피 장치 및 리소그래피 장치를 작동시키는 방법
JP6671160B2 (ja) 2015-11-30 2020-03-25 キヤノン株式会社 インプリント装置、物品製造方法および位置合わせ方法
JP6821414B2 (ja) * 2016-12-13 2021-01-27 キヤノン株式会社 インプリント装置、及び物品の製造方法
JP7262939B2 (ja) * 2018-07-20 2023-04-24 キヤノン株式会社 クリーニング装置、インプリント装置、リソグラフィ装置、および、クリーニング方法
JP7129259B2 (ja) * 2018-07-24 2022-09-01 キヤノン株式会社 検査方法、インプリント装置、および物品製造方法
JP7117955B2 (ja) * 2018-09-18 2022-08-15 キヤノン株式会社 インプリント方法、インプリント装置及び物品の製造方法
JP2022034165A (ja) * 2020-08-18 2022-03-03 Ｔｏｗａ株式会社 検査装置、樹脂成形装置及び樹脂成形品の製造方法

Family Cites Families (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH04355350A (ja) * 1991-05-31 1992-12-09 Dainippon Printing Co Ltd 欠陥検査装置
JP2647051B2 (ja) * 1995-03-09 1997-08-27 日本電気株式会社 外観検査装置
US20050037143A1 (en) * 2000-07-18 2005-02-17 Chou Stephen Y. Imprint lithography with improved monitoring and control and apparatus therefor
JP2005191444A (ja) * 2003-12-26 2005-07-14 Bussan Nanotech Research Institute Inc パターン転写装置、型の洗浄方法、パターン転写方法
US7019835B2 (en) * 2004-02-19 2006-03-28 Molecular Imprints, Inc. Method and system to measure characteristics of a film disposed on a substrate
JP2005214980A (ja) * 2005-01-31 2005-08-11 Miyazaki Oki Electric Co Ltd ウエハのマクロ検査方法および自動ウエハマクロ検査装置
JP2006228843A (ja) * 2005-02-16 2006-08-31 Renesas Technology Corp 半導体デバイスのプロセス制御方法および製造方法
JP4594833B2 (ja) * 2005-09-09 2010-12-08 株式会社堀場製作所 欠陥検査装置
JP2008194838A (ja) * 2007-02-08 2008-08-28 Sii Nanotechnology Inc ナノインプリントリソグラフィーのモールド検査方法及び樹脂残渣除去方法
JP2008276920A (ja) * 2007-03-30 2008-11-13 Pioneer Electronic Corp インプリント装置およびインプリント方法
JP2008302519A (ja) * 2007-06-05 2008-12-18 Hitachi Maxell Ltd ナノインプリント装置及びナノインプリント方法
JP2009143089A (ja) * 2007-12-13 2009-07-02 Hitachi Industrial Equipment Systems Co Ltd 微細構造転写用モールド及びその製造方法
WO2009153926A1 (ja) * 2008-06-18 2009-12-23 株式会社ニコン テンプレートの製造方法、テンプレートの検査方法及び検査装置、ナノインプリント装置、ナノインプリントシステム、並びにデバイス製造方法

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