JP5173944B2 - インプリント装置及び物品の製造方法 - Google Patents
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Description
図1は、実施例1に係るインプリント装置の構成図で、図2は、各実施例に係るインプリント装置の制御ブロック図である。基板であるウエハ1は、基板チャック(ウエハチャック)2に保持されている。微動ステージ3は、ウエハ1のθ(z軸回りの回転)方向位置の補正機能、ウエハ1のz位置の調整機能、及びウエハ1の傾きを補正するためのチルト機能を有し、ウエハ1を所定の位置に位置決めするためのXYステージ4上に配置される。以下、微動ステージ3とXYステージ4を合せて、基板ステージ(ウエハステージ)と総称する。XYステージ4はベース定盤5に載置されている。微動ステージ3の位置を計測するために、レーザ干渉計7からの光を反射する参照ミラー6が、微動ステージ3上にx及びy方向(y方向は不図示)に取り付けられている。8及び8'はベース定盤5上に屹立し、天板9を支える支柱である。モールド10は、ウエハ1に転写される凹凸のパターンがその表面に形成され、図示しない機械的保持機構によってモールドチャック11に保持される。モールドチャック11は、図示しない機械的保持機構によって、モールドチャックステージ12に載置される。モールドチャックステージ12は、モールド10及びモールドチャック11のθ(z軸回りの回転)方向位置の補正機能及びモールド10の傾きを補正するためのチルト機能を有する。モールドチャック11は、そのx及びy方向の位置を計測するために、レーザ干渉計7'からの光を反射する反射面を有する(y方向は不図示)。モールドチャック11及びモールドチャックステージ12は、UV光源16からコリメータレンズ17を通して照射されるUV光をモールド10へと通過させる、図示しない開口をそれぞれ有する。ガイドバープレート13は、その一端がモールドチャックステージ12に固定され、天板9を貫通するガイドバー14及び14'の他端を固定する。
次に、図7を参照して、実施例2におけるインプリント装置の動作及び作用等について説明する。図1と同じ機能を有するものは同じ番号を付し、その説明を省略する。図7において、41はUV光源16からの光路中に置かれ、モールド10を介してウエハ1側からの反射光を折り曲げてCCDカメラ40に導くビームスプリッタである。ここで、簡略化のために、図7ではTTMアライメントスコープの一方である30'は、その表示を省略している。複数枚のウエハに同じモールドを使用して、あるレイヤのパターンの転写を行う場合のフローチャートは図3と同じである。図8は、実施例2のインプリント装置を用いて1枚のウエハにパターンを転写するフローチャートで、図3のS7に相当する。図4と同じ動作をするものは同じ番号を付し、その説明を省略する。
物品としてのデバイス(半導体集積回路素子、液晶表示素子等)の製造方法は、上述したインプリント装置を用いて基板(ウエハ、ガラスプレート、フィルム状基板)にパターンを転写(形成)する工程を含む。さらに、該製造方法は、パターンを転写された基板をエッチングする工程を含みうる。なお、パターンドメディア(記録媒体)や光学素子などの他の物品を製造する場合には、該製造方法は、エッチングの代わりに、パターンを転写された基板を加工する他の処理を含みうる。
Claims (9)
- 基板に供給された樹脂のモールドによる成形を含むインプリント動作を行って基板上の複数のショットにパターンを転写するインプリント装置であって、
前記モールドによって成形された前記樹脂を撮像する撮像部と、
前記基板上に樹脂を供給する樹脂供給部と、
前記インプリント動作を制御する制御部と、を備え、
前記撮像部は、前記モールドのパターンを転写する位置に対して前記樹脂供給部が配置されている側と、同じ側に配置されており、
前記制御部は、前記複数のショットのそれぞれにパターンを転写する毎に、前記撮像部により撮像された画像の少なくとも一部の領域を、予め取得された基準状態の画像と比較して、ショットに転写されたパターンの良否を判定する、
ことを特徴とするインプリント装置。 - 前記制御部は、前記少なくとも一部の領域の画像のヒストグラムを前記基準状態の画像のヒストグラムと比較して、前記ショットに転写されたパターンの良否を判定することを特徴とする請求項1に記載のインプリント装置。
- 前記制御部は、前記少なくとも一部の領域の画像と前記基準状態の画像との差分が基準値を超える画素の数に基づいて、前記ショットに転写されたパターンの良否を判定することを特徴とする請求項1に記載のインプリント装置。
- 前記制御部は、前記画像の少なくとも一部の領域と前記基準状態の画像との差が許容範囲外である前記ショットに転写されたパターンが予め定められた回数だけ連続したならば、前記パターンの転写を不良と判定することを特徴とする請求項1乃至請求項3のいずれか1項に記載のインプリント装置。
- 前記制御部は、前記撮像部により撮像された画像の少なくとも一部の領域を、予め取得された基準状態の画像と比較した結果から、基板の回収又はモールドの交換を指令する信号を出力することを特徴とする請求項1乃至請求項4のいずれか1項に記載のインプリント装置。
- 前記樹脂を硬化させる波長域の第1の光と、当該波長域とは異なる波長域の第2の光と、を切り替えて射出しうる光源をさらに備え、
前記撮像部は、前記第2の光が照射された状態で前記樹脂を撮像することを特徴とする請求項1乃至請求項5のいずれか1項に記載のインプリント装置。 - 前記光源は、前記モールドと硬化した前記樹脂とを引き離した直後に前記基板上に転写されたパターンに前記第2の光を照射し、
前記撮像部は、前記基板上に転写されたパターンから反射した光を、転写後のショットの画像として撮像することを特徴とする請求項6に記載のインプリント装置。 - 前記撮像部は、前記モールドの離型後、次にパターンを転写するショットを前記樹脂供給部の下に来るように前記基板を保持する基板ステージが移動中に、前記モールドによって成形された前記樹脂を撮像することを特徴とする請求項1に記載のインプリント装置。
- 請求項1乃至請求項8のいずれか1項に記載のインプリント装置を用いてパターンを基板に形成する工程と、
前記工程で前記パターンを形成された基板を加工する工程と、
を含むことを特徴とする物品の製造方法。
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