KR102454787B1 - 몰드 자동 교체형 나노 임프린팅 리소그래피 장치 및 그 방법 - Google Patents

몰드 자동 교체형 나노 임프린팅 리소그래피 장치 및 그 방법 Download PDF

Info

Publication number
KR102454787B1
KR102454787B1 KR1020220055890A KR20220055890A KR102454787B1 KR 102454787 B1 KR102454787 B1 KR 102454787B1 KR 1020220055890 A KR1020220055890 A KR 1020220055890A KR 20220055890 A KR20220055890 A KR 20220055890A KR 102454787 B1 KR102454787 B1 KR 102454787B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
mold
unit
resin
pressing
lithography apparatus
Prior art date
Application number
KR1020220055890A
Other languages
English (en)
Inventor
신태식
Original Assignee
주식회사피에스디이
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 주식회사피에스디이 filed Critical 주식회사피에스디이
Priority to KR1020220055890A priority Critical patent/KR102454787B1/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR102454787B1 publication Critical patent/KR102454787B1/ko

Links

Images

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/0002—Lithographic processes using patterning methods other than those involving the exposure to radiation, e.g. by stamping
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
    • G03F7/7085—Detection arrangement, e.g. detectors of apparatus alignment possibly mounted on wafers, exposure dose, photo-cleaning flux, stray light, thermal load
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B82—NANOTECHNOLOGY
    • B82Y—SPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
    • B82Y40/00—Manufacture or treatment of nanostructures

Abstract

본 발명은 몰드 자동 교체형 나노 임프린팅 리소그래피 장치 및 그 방법에 관한 것으로, 몰드의 오염도 및 마모도를 검사하는 검사부 및 폐기 몰드를 신규 몰드로 교체하는 교체부;를 포함하는 것을 특징으로 하는 나노 임프린팅 리소그래피 장치 및 그를 이용한 리소그래피 방법을 제공한다. 본 발명에 따르면, 검사부가 몰드의 오염도 및 마모도 중 적어도 하나를 검사하여 폐기 여부를 결정하므로 몰드의 상태를 지속적으로 모니터링할 수 있어 몰드에 의한 불량률을 최소화할 수 있으며, 교체부가 오염 또는 손상된 몰드를 자동으로 교체하므로 몰드의 상태를 최상으로 유지할 수 있어 공정의 정확도와 생산성을 극대화할 수 있고, 서로 다른 색상으로 구비되는 복수개의 몰드를 이용하여 작은 크기의 몰드를 균일하게 가압할 수 있어, 가압 시 발생하는 기포를 최소화할 수 있을 뿐만 아니라, 길이가 신장되는 복수개의 다단부 및 다단부의 일단을 중심으로 양 방향으로 길이가 신장되는 복수개의 접촉부를 포함하는 가압부가 구비되므로, 몰드의 상면을 균일하게 가압하여 기포 발생을 최소화하고 발생한 기포를 용이하게 제거할 수 있다.

Description

몰드 자동 교체형 나노 임프린팅 리소그래피 장치 및 그 방법 {AUTOMATIC MOLD REPLACEMENT TYPE NANO-IMPRINITING LITHOGRAPHY APPARATUS AND METHOD THEREFOR}
본 발명은 나노 임프린팅을 위한 리소그래피 장치 및 그 방법에 관한 것이다. 보다 자세하게는 몰드가 자동으로 교체되는 나노 임프린팅을 위한 리소그래피 장치 및 그를 이용한 리소그래피 방법에 관한 것이다.
나노임프린트 리소그래피(Nanoimprint lithography) 공정은 몰드를 이용하여 나노 패턴을 생성하는 공정으로, 포토 리소그래피 공정을 대체할 수 있는 기술로 주목받고 있다. 이러한 나노임프린트 리소그래피는 몰드를 레진의 상면에 접촉시켜 가압하는 방식으로 패턴을 형성하기 때문에, 반복적인 공정 시 몰드 내부가 레진으로 인해 오염되고 압력에 의해 마모되는 등 내구도가 떨어져 공정의 정확도와 생산성이 저하되는 문제점이 있었다.
이러한 문제점을 해결하기 위해, 본 발명에서는 몰드의 상태를 지속적으로 점검하고 오염 또는 마모가 발생한 몰드를 자동으로 교체함으로써 공정의 정확도와 생산성을 극대화 하는 몰드 자동 교체형 나노 임프린팅 리소그래피 장치 및 그를 이용한 리소그래피 방법을 제공하고자 한다.
선행문헌 1 : 대한민국 등록특허 제10-0827741호 (2008.04.29. 등록) 선행문헌 2 : 대한민국 등록특허 제10-1073976호 (2011.10.10. 등록)
본 발명의 기술적 과제는 몰드의 상태를 지속적으로 점검하는 몰드 자동 교체형 나노 임프린팅 리소그래피 장치 및 그를 이용한 리소그래피 방법을 제공하는 것이다.
본 발명의 다른 기술적 과제는 오염 또는 손상된 몰드를 자동으로 교체하는 나노 임프린팅 리소그래피 장치 및 그를 이용한 리소그래피 방법을 제공하는 것이다.
상기한 과제를 해결하기 위해 본 발명은 서로 다른 색상으로 구비된 하나 이상의 몰드를 이용하여 소정의 패턴을 형성하는 나노 임프린팅 리소그래피 장치에 있어서, 미리 설정된 소정의 색상을 기판의 상면에 표시하는 도색부; 도색부에 의해 소정의 색상이 표시된 기판의 상면에 레진을 도포하는 디스펜서; 기판의 상면에 표시된 색상을 감지하는 센서부; 센서부가 감지한 색상과 대응되는 색상으로 구비되는 몰드를 레진의 상면에 공급하는 몰드공급부; 몰드공급부에 의해 상기 레진의 상면에 공급된 몰드를 가압하는 가압부; 가압부에 의해 레진의 상면에 밀착된 몰드를 레진으로부터 분리하는 분리부; 분리부에 의해 분리된 몰드의 오염도 및 마모도를 확인하고, 오염도 및 마모도가 미리 설정된 소정의 기준치 이상인 것으로 판단하면 몰드를 폐기 몰드로 분류하는 검사부; 및 검사부에 의해 분류된 폐기 몰드를 신규 몰드로 교체하여 몰드공급부에 제공하는 교체부;를 포함하는 것을 특징으로 하는 몰드 자동 교체형 나노 임프린팅 리소그래피 장치를 제공한다.
또한, 본 발명은, 가압부가 몰드의 중심부로부터 몰드의 변 방향으로 길이가 신장되는 복수개의 다단부; 및 다단부의 일단에 다단부와 같은 평면 상에서 직교하도록 구비되어, 다단부의 길이가 신장됨에 따라 다단부의 일단을 중심으로 양 방향으로 길이가 신장되는 복수개의 접촉부;를 포함하는 것을 특징으로 하는 몰드 자동 교체형 나노 임프린팅 리소그래피 장치를 제공한다.
본 발명에 따르면, 검사부가 몰드의 오염도 및 마모도 중 적어도 하나를 검사하여 폐기 여부를 결정하므로, 몰드의 상태를 지속적으로 모니터링할 수 있어 몰드에 의한 불량률을 최소화할 수 있다.
본 발명에 따르면, 교체부가 오염 또는 손상된 몰드를 자동으로 교체하므로, 몰드의 상태를 최상으로 유지할 수 있어 공정의 정확도와 생산성을 극대화할 수 있다.
본 발명에 따르면, 서로 다른 색상으로 구비되는 복수개의 몰드를 이용하여 임프린팅을 수행하므로, 종래 기술 대비 상대적으로 작은 크기의 몰드를 균일하게 가압할 수 있어, 몰드 가압 시 발생하는 기포를 최소화할 수 있다.
본 발명에 따르면, 길이가 신장되는 복수개의 다단부 및 다단부의 일단을 중심으로 양 방향으로 길이가 신장되는 복수개의 접촉부를 포함하는 가압부가 구비되므로, 몰드의 상면을 균일하게 가압하여 기포 발생을 최소화하고 발생한 기포를 용이하게 제거할 수 있다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 몰드 자동 교체형 나노 임프린팅 리소그래피 장치의 전면도이다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 몰드 자동 교체형 나노 임프린팅 리소그래피 장치의 정면도이다.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 몰드 자동 교체형 나노 임프린팅 리소그래피 장치의 사시도이다.
도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 몰드 자동 교체형 나노 임프린팅 리소그래피 장치의 일 구성 요소인 가압부의 전면도 및 사시도이다.
도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 몰드 자동 교체형 나노 임프린팅 리소그래피 장치를 이용한 리소그래피 방법을 나타내는 순서도이다.
도 6은 본 발명의 일 실시예에 따른 몰드 자동 교체형 나노 임프린팅 리소그래피 방법을 이용하여 레진에 패턴을 임프린팅하는 과정을 나타내는 순서도이다.
본 발명의 목적 및 효과는 다음의 상세한 설명을 통하여 보다 분명해질 것이나 하기의 기재만으로 본 발명의 목적 및 효과가 제한되는 것은 아니다. 또한, 본 발명을 설명함에 있어서 본 발명과 관련된 공지 기술에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있다고 판단되는 경우에는 그 상세한 설명을 생략하기로 한다.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예에 대하여 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 상세히 설명한다. 그러나 본 발명은 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으며 이하에서 개시되는 실시 예에 한정되지 않는다. 또한 도면에서 본 발명을 명확하게 개시하기 위해서 본 발명과 관계없는 부분은 생략하였으며, 도면에서 동일하거나 유사한 부호들은 동일하거나 유사한 구성요소들을 나타낸다.
도 1 및 도 2는 각각 본 발명의 일 실시예에 따른 몰드 자동 교체형 나노 임프린팅 리소그래피 장치의 전면도 및 정면도이고, 도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 몰드 자동 교체형 나노 임프린팅 리소그래피 장치의 사시도이다.
도 1 내지 도 3을 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 몰드 자동 교체형 나노 임프린팅 리소그래피 장치는 도색부, 디스펜서, 센서부, 몰드공급부, 가압부, 분리부, 검사부 및 교체부를 포함하도록 실시될 수 있다.
도색부는 미리 설정된 소정의 색상을 기판의 상면에 표시하는 구성이다. 상세하게, 도색부는 노란색, 자홍색 및 남색의 염료를 미리 설정된 값에 따라 혼합하여 기판의 상면에 색상을 표시한다.
디스펜서는 도색부에 의해 소정의 색상이 표시된 기판의 상면에 레진을 도포하는 구성이다. 본 발명의 일 실시예에 따른 디스펜서의 바람직한 예는 후술하도록 한다.
센서부는 기판의 상면에 표시된 색상을 감지하는 구성이다. 이를 위해, 센서부는 색상센서, 광센서, 비주얼센서 등으로 구비될 수 있다. 또한, 센서부는 후술할 몰드공급부의 개수에 따라 하나 이상 구비되도록 실시될 수 있다. 구체적으로, 리소그래피 장치의 작업 효율을 극대화하기 위해 센서부는 도색부가 도색한 색상의 개수와 일대일 대응되는 개수로 구비되도록 실시되는 것이 바람직할 것이다.
몰드공급부는 센서부가 감지한 색상과 대응되는 색상으로 구비되는 몰드를 레진의 상면에 공급하는 구성이다. 본 발명의 일 실시예에 따른 나노 임프린팅 리소그래피 장치는, 서로 다른 색상으로 구비된 하나 이상의 몰드를 이용하여 소정의 패턴을 형성하도록 구비된다. 또한, 가압 및 분리를 용이하게 하기 위해 몰드는 연질의 재질로 구비되도록 실시된다. 리소그래피 장치의 작업 효율을 극대화하기 위해, 몰드공급부는 도색부가 도색한 색상의 개수와 일대일 대응되는 개수로 구비되도록 실시되는 것이 바람직할 것이다.
가압부는 몰드공급부에 의해 레진의 상면에 공급된 몰드를 가압하는 구성이다. 가압부는 래진의 상면에 공급된 몰드의 개수와 비례하도록 구비되는 것이 바람직할 것이다. 가압부에 대한 구체적인 실시예는 이하 도 4를 참조하여 후술하도록 한다.
분리부는 몰드를 레진으로부터 분리하는 구성이다. 구체적으로, 가압부에 의해 몰드의 형상대로 가공이 완료된 레진으로부터 몰드를 분리하는 구성이다. 보다 바람직한 실시예로, 도 1 내지 도 3에 도시된 바와 같이 분리부에 의해 분리된 몰드가 몰드공급부로 전달되도록 분리부와 몰드공급부를 연결하는 컨베이어가 더 구비될 수 있다. 이 때, 분리된 몰드를 세척할 수 있도록 컨베이어의 이동 경로에 세척수단이 더 구비되는 것이 바람직할 것이다.
검사부는 몰드의 오염도 및 마모도를 검사하여 오염 또는 마모된 몰드를 폐기 몰드로 분류하는 구성이다. 구체적으로, 몰드 내측이 레진 등으로 인해 오염되었는지 여부 또는 몰드의 내 외부에 가압부의 압력 등으로 인해 마모되거나 손상된 부분이 있는지 등을 검사하여, 미리 설정된 소정의 기준치 이상 오염 또는 마모된 것으로 판단하면 해당 몰드를 폐기 몰드로 분류하는 구성이다. 이를 위해, 검사부는 비전카메라, 세척부, 에어공급부 및 압력측정부를 포함하도록 구비될 수 있다. 상세하게, 비전카메라를 통해 몰드 내부의 오염물질을 시각적으로 확인하고, 몰드 내부에 세척부를 통해 공급되는 유체에 의해 제거되지 않는 오염물질이 기준치 이상 잔존하는 경우 이를 폐기 몰드로 분류하도록 실시될 수 있다. 또한, 몰드에 에어공급부를 통해 공기를 공급하고, 압력측정부를 통해 측정함으로써 몰드의 마모도를 검사하도록 실시될 수 있다.
교체부는 폐기 몰드를 신규 몰드로 교체하는 구성이다. 구체적으로, 검사부에 의해 폐기 몰드로 분류된 몰드의 자리에 신규 몰드를 공급함으로써 몰드공급부에 신규 몰드가 공급되도록 하는 구성이다. 이를 위해, 교체부는 도 3에 도시된 바와 같이 복수개의 신규 몰드를 내부에 적층하여, 몰드공급부를 향해 이동하는 컨베이어의 상면에 신규 몰드를 공급하도록 구비될 수 있다. 보다 바람직한 실시예로, 교체부는 센서를 포함하도록 구비되어, 컨베이어의 상면에 미리 설정된 소정의 간격으로 배치되는 복수개의 몰드 간의 간격을 감지하고, 해당 위치에 몰드가 위치하지 않은 것으로 파악되면 신규 몰드를 공급하도록 실시될 수 있다.
이와 같이 검사부 및 교체부가 구비됨으로써, 레진에 패턴을 전사한 후 분리된 몰드가 오염 또는 손상되는 경우 이를 즉각적으로 파악하여 신규 몰드로 교체함으로써, 공정의 정확도와 생산성, 품질 및 수율을 향상시킬 수 있다.
도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 몰드 자동 교체형 나노 임프린팅 리소그래피 장치의 일 구성 요소인 가압부의 전면도 및 사시도이다. 도 4를 참조하면, 가압부는 다단부 및 접촉부를 포함하도록 실시될 수 있다.
다단부는 몰드의 중심부로부터 몰드의 변 방향으로 길이가 신장되는 구성이고, 접촉부는 다단부의 일단에 다단부와 같은 평면 상에서 직교하도록 구비되어, 다단부의 길이가 신장됨에 따라 다단부의 일단을 중심으로 양 방향으로 길이가 신장되는 구성이다. 이와 같이 가압부에 복수개의 다단부 및 접촉부가 구비됨으로써, 가압부가 몰드를 중심부에서부터 엣지부에 이르기까지 균일한 압력을 제공할 수 있어 레진과 몰드 사이에 존재하는 기포를 효과적으로 제거할 수 있다.
도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 몰드 자동 교체형 나노 임프린팅 리소그래피 장치를 이용한 리소그래피 방법을 나타내는 순서도이고, 도 6은 본 발명의 일 실시예에 따른 몰드 자동 교체형 나노 임프린팅 리소그래피 방법을 이용하여 레진에 패턴을 임프린팅하는 과정을 나타내는 순서도이다.
도 5 및 도 6을 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 나노 임프린팅 리소그래피 장치를 이용한 리소그래피 방법은 도색단계; 센싱단계; 도포단계; 몰드공급단계; 가압단계; 및 분리단계;를 포함하도록 실시될 수 있다.
도색단계는 도색부가 미리 설정된 소정의 색상을 기판의 상면에 표시하는 단계이고, 센싱단계는 센서부가 기판의 상면에 표시된 소정의 색상을 감지하는 단계이다.
도포단계는 디스펜서가 도색부에 의해 소정의 색상이 표시된 기판의 상면에 레진을 도포하는 단계이다. 이 때, 레진이 투명한 재질로 구비되는 경우 센싱부가 레진을 투과하여 기판의 상면에 도포된 색상을 감지할 수 있으므로 도포단계가 센싱단계보다 먼저 실시될 수 있다.
몰드공급단계는 몰드공급부가 센서부가 감지한 색상과 대응되는 색상으로 구비되는 몰드를 레진의 상면에 공급하는 단계이다.
가압단계는 가압부가 몰드공급부에 의해 레진의 상면에 공급된 몰드를 가압하는 단계이다. 구체적으로, 가압부의 일단이 몰드의 상면에 접촉한 이후, 지속적으로 압력이 가해지는 상태에서 복수개의 다단부가 몰드의 중심부로부터 몰드의 변 방향으로 신장되며 이동하고, 다단부가 신장되는 동시에 다단부의 일단에 구비된 접촉부가 다단부의 일단을 중심으로 양 방향으로 길이가 신장되어 몰드의 상면을 배제되는 부분 없이 골고루 밀착하여 압박함으로써 레진을 몰드의 형상대로 임프린팅하며 기포를 제거하게 된다.
분리단계는 분리부가 몰드를 레진으로부터 분리하는 단계이다. 바람직한 실시예로, 분리된 몰드를 세척하는 세척단계; 및 세척된 몰드를 몰드공급부로 이동시키는 회수단계;를 더 포함하도록 실시될 수 있다.
검사단계는 검사부가 몰드의 오염도 및 마모도 중 적어도 하나를 검사하여 폐기 몰드를 분류하는 단계이다. 바람직한 실시예로, 검사단계가 구비되는 경우 분리단계에서 세척단계가 생략되고, 검사단계에서 수행되도록 실시될 수 있다.
교체단계는 교체부가 폐기 몰드를 신규 몰드로 교체하는 단계이다. 바람직한 실시예로 교체단계가 구비되는 경우 분리단계에서 회수단계가 생략되고, 교체단계에서 수행되도록 실시될 수 있다.
이하, 본 발명의 일 실시예에 따른 몰드 자동 교체형 나노 임프린팅 리소그래피 장치의 디스펜서에 대해 보다 상세히 설명하도록 한다. 가장 바람직한 실시예로, 본 발명의 일 실시예에 따른 나노 임프린팅 리소그래피 장치의 일 구성 요소인 디스펜서는 제판, 토출구, 수용부 및 압출부를 포함하여 구성된다.
제판은 유리(SiO2), 사파이어(Al2O3) 및 규소(Si) 중 적어도 하나의 재질로 구비되고, 후술할 수용부의 바닥면을 형성하는 구성이다.
토출구는 레진을 기판 위에 도포하는 통로가 되는 구성이다. 이를 위해, 토출구는 제판을 관통하여 형성된다. 이 때, 토출되는 레진의 양을 일정하게 유지할 수 있도록 토출구의 직경이 3㎛ 이하가 되도록 형성되는 것이 바람직할 것이다. 가장 바람직한 실시예로, 토출구는 직경이 1㎛ 이하가 되도록 형성될 수 있다.
수용부는 내부에 레진을 수용하는 구성이다. 이 때, 수용부는 내부에 수용되는 레진과 화학적으로 반응하지 않고, 압력 등 물리적인 외부 충격에 강한 재질로 구비되는 것이 바람직할 것이다.
압출부는 수용부에 수용된 레진을 가압하여 토출구를 통해 배출시키는 구성이다. 바람직한 실시예로, 압출부는 마이크로 단위로 높이가 조절되는 정밀한 액추에이터(actuator), 특히 모터(motor) 또는 실린지 펌프(syringe pump)로 구비될 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따른 몰드 자동 교체형 나노 임프린팅 리소그래피 장치의 일 구성 요소인 디스펜서는 제1 가공단계, 도포단계 및 제2 가공단계를 포함하는 방법으로 제조된다.
우선, 준비된 제판의 상면에 도 3의 <b>에 도시된 바와 같이 하나 이상의 홈을 형성하는 제1 가공단계가 수행된다. 이 때, 홈은 직경이 500㎛ 이하가 되도록 형성되는 것이 바람직하므로, 제1 가공단계에서 홈을 형성하는 수단은 정밀한 가공을 수행할 수 있는 레이저로 구비되는 것이 가장 바람직할 것이다. 특히, 제판의 손상 없이 정밀한 가공을 수행하기 위해 펨토(Femto)초 레이저를 이용하는 것이 바람직할 것이다. 펨토(Femto)초 레이저는 1000조분의 1초인 펨토초 영역의 시간 폭을 갖는 파동의 레이저로, 열이 발생하기도 전에 아주 강한 에너지로 물체를 깎기 대문에 열에 의한 변형을 최소화하고, 미세 갈라짐을 방지할 수 있어 매우 정밀하고 깨끗한 절단면을 얻을 수 있다. 그러나, 홈을 형성하는 수단은 레이저, 특히 펨토초 레이저에 한정되지 않고 제판의 손상 없이 홈을 형성할 수 있으면 족하다.
상기와 같이 제판의 상면에 홈이 형성된 이후, 하나 이상의 홈을 제외한 제판의 상면에 감광액(感光液, Photoresist)을 도포하는 도포단계가 수행된다. 감광액은 빛에 노출되면 화학적 성질이 변하는 액체로, 후술할 습식 식각 단계에서 홈을 제외한 제판의 상면을 보호하는 기능을 수행한다.
도포단계 이후, 제판을 습식 식각(Wet etching)하는 제2 가공단계를 수행함으로써 토출직경이 3㎛ 이하인 토출구를 갖는 디스펜서가 제조된다. 상세하게, 제1 가공단계에서 형성된 홈 부분에 제2 가공단계에서 습식 식각을 수행함에 따라, 홈이 제판을 관통하도록 식각되어 토출구를 형성하게 된다.
이와 같이, 본 발명의 일 실시예에 따른 디스펜서는 토출직경이 3㎛ 이하인 토출구를 가지므로, 토출량을 소정의 범위 내로 일정하게 유지하게 된다. 상세하게, 본 발명의 일 실시예에 따른 디스펜서는 레진의 토출량이 0.01cc 이하가 되도록 유지하게 된다. 이로써, 레진을 기판에 도포할 때 발생하는 오버플로우(Overflow) 현상을 최소화할 수 있어 양품의 생산량을 극대화하게 된다.
상기한 본 발명의 바람직한 실시예는 예시의 목적으로 개시된 것이고, 본 발명에 대해 통상의 지식을 가진 당업자라면 본 발명의 사상과 범위 안에서 다양한 수정, 변경 및 부가가 가능할 것이며 이러한 수정, 변경 및 부가는 상기의 특허청구 범위에 속하는 것으로 보아야 할 것이다. 또한 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자라면, 본 발명의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범위 내에서 여러 가지 치환, 변형 및 변경이 가능하므로 본 발명은 전술한 실시예 및 첨부된 도면에 의해 한정되는 것이 아니다.
상술한 예시적인 시스템에서, 방법들은 일련의 단계 또는 블록으로써 순서도를 기초로 설명되고 있지만, 본 발명은 단계들의 순서에 한정되는 것은 아니며, 어떤 단계는 상술한 바와 다른 단계와 다른 순서로 또는 동시에 발생할 수 있다. 또한, 당업자라면 순서도에 나타낸 단계들이 배타적이지 않고, 다른 단계가 포함되거나 순서도의 하나 또는 그 이상의 단계가 본 발명의 범위에 영향을 미치지 않고 삭제될 수 있음을 이해할 수 있을 것이다.
100 : 도색부 200 : 디스펜서
300 : 센서부 400 : 몰드공급부
500 : 가압부 510 : 다단부
520 : 접촉부 600 : 분리부
700 : 검사부 800 : 교체부
10 : 기판 20 : 제판
11 : 토출구 12 : 수용부
13 : 압출부 M : 몰드
H : 홈 P : 감광액
D : 토출직경 R : 레진

Claims (7)

  1. 서로 다른 색상으로 구비된 하나 이상의 몰드를 이용하여 소정의 패턴을 형성하는 나노 임프린팅 리소그래피 장치에 있어서,
    미리 설정된 소정의 색상을 기판의 상면에 표시하는 도색부;
    상기 도색부에 의해 상기 소정의 색상이 표시된 상기 기판의 상면에 레진을 도포하는 디스펜서;
    상기 기판의 상면에 표시된 색상을 감지하는 센서부;
    상기 센서부가 감지한 상기 색상과 대응되는 색상으로 구비되는 상기 몰드를 상기 레진의 상면에 공급하는 몰드공급부;
    상기 몰드공급부에 의해 상기 레진의 상면에 공급된 상기 몰드를 가압하는 가압부;
    상기 가압부에 의해 상기 레진의 상면에 밀착된 상기 몰드를 상기 레진으로부터 분리하는 분리부;
    상기 분리부에 의해 분리된 상기 몰드의 오염도 및 마모도를 확인하고, 상기 오염도 및 마모도가 미리 설정된 소정의 기준치 이상인 것으로 판단하면 상기 몰드를 폐기 몰드로 분류하는 검사부; 및
    상기 검사부에 의해 분류된 상기 폐기 몰드를 신규 몰드로 교체하여 상기 몰드공급부에 제공하는 교체부;를 포함하고,
    상기 가압부는,
    상기 몰드의 중심부로부터 상기 몰드의 변 방향으로 길이가 신장되는 복수개의 다단부; 및
    상기 다단부의 일단에 상기 다단부와 같은 평면 상에서 직교하도록 구비되어, 상기 다단부의 길이가 신장됨에 따라 상기 다단부의 일단을 중심으로 양 방향으로 길이가 신장되는 복수개의 접촉부;를 포함하는 것을 특징으로 하는 몰드 자동 교체형 나노 임프린팅 리소그래피 장치.
  2. 삭제
  3. 제 1 항에 있어서,
    상기 몰드를 상기 레진으로부터 분리하는 분리부;를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 몰드 자동 교체형 나노 임프린팅 리소그래피 장치.
  4. 제 1 항에 있어서,
    상기 몰드는 연질의 재질로 구비되는 것을 특징으로 하는 몰드 자동 교체형 나노 임프린팅 리소그래피 장치.
  5. 제 1 항에 있어서,
    상기 디스펜서는,
    글라스, 사파이어 및 규소 중 적어도 하나의 재질로 구비되는 제판;
    상기 제판을 관통하여 형성되되, 그 직경이 3㎛ 이하인 토출구;
    상기 제판의 상측에 형성되고, 내부에 상기 레진을 수용하는 수용부; 및
    상기 수용부에 수용된 상기 레진을 가압하여 상기 토출구를 통해 배출시키는 압출부;를 포함함으로써 상기 토출구의 토출량을 소정의 범위 내로 일정하게 유지하는 것을 특징으로 하는 몰드 자동 교체형 나노 임프린팅 리소그래피 장치.
  6. 제 5 항에 있어서,
    상기 토출구는,
    상기 제판의 상면에 레이저를 이용하여 하나 이상의 홈을 형성하는 제1 가공단계;
    상기 하나 이상의 홈을 제외한 상기 제판의 상면에 감광액을 도포하는 도포단계; 및
    상기 감광액을 도포한 상기 제판을 습식 식각하여 상기 토출구를 형성하는 제2 가공단계;를 포함하는 방법으로 제조되는 것을 특징으로 하는 몰드 자동 교체형 나노 임프린팅 리소그래피 장치.
  7. 도색부가 미리 설정된 소정의 색상을 기판의 상면에 표시하는 도색단계;
    센서부가 상기 기판의 상면에 표시된 상기 소정의 색상을 감지하는 센싱단계;
    디스펜서가 상기 도색부에 의해 상기 소정의 색상이 표시된 상기 기판의 상면에 레진을 도포하는 도포단계;
    몰드공급부가 상기 센서부가 감지한 상기 색상과 대응되는 색상으로 구비되는 몰드를 상기 레진의 상면에 공급하는 몰드공급단계;
    상기 몰드공급부에 의해 상기 레진의 상면에 공급된 상기 몰드의 상면에 가압부의 일단이 접촉한 상태에서, 상기 가압부에 구비된 복수개의 다단부가 몰드의 중심부로부터 몰드의 변 방향으로 신장되며 이동하고, 상기 다단부가 신장되는 동시에 상기 다단부의 일단에 구비된 접촉부가 다단부의 일단을 중심으로 양 방향으로 길이가 신장되어 몰드의 상면 전체를 가압하는 가압단계;
    분리부가 상기 몰드를 상기 레진으로부터 분리하는 분리단계;
    검사부가 상기 몰드의 오염도 및 마모도 중 적어도 하나를 검사하여 폐기 몰드를 분류하는 검사단계; 및
    교체부가 상기 폐기 몰드를 신규 몰드로 교체하는 교체단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 몰드 자동 교체형 나노 임프린팅 리소그래피 방법.

KR1020220055890A 2022-05-06 2022-05-06 몰드 자동 교체형 나노 임프린팅 리소그래피 장치 및 그 방법 KR102454787B1 (ko)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020220055890A KR102454787B1 (ko) 2022-05-06 2022-05-06 몰드 자동 교체형 나노 임프린팅 리소그래피 장치 및 그 방법

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020220055890A KR102454787B1 (ko) 2022-05-06 2022-05-06 몰드 자동 교체형 나노 임프린팅 리소그래피 장치 및 그 방법

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR102454787B1 true KR102454787B1 (ko) 2022-10-14

Family

ID=83599800

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020220055890A KR102454787B1 (ko) 2022-05-06 2022-05-06 몰드 자동 교체형 나노 임프린팅 리소그래피 장치 및 그 방법

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR102454787B1 (ko)

Citations (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1096627C (zh) * 1999-09-10 2002-12-18 朱纪军 基于电子网板和丝网印刷的化合物微阵列芯片制备方法
KR100827741B1 (ko) 2000-07-17 2008-05-07 보드 오브 리전츠, 더 유니버시티 오브 텍사스 시스템 임프린트 리소그래피 공정을 위한 자동 유체 분배 방법 및시스템
JP2010282995A (ja) * 2009-06-02 2010-12-16 Toshiba Corp インプリントパターン形成方法
JP2011061165A (ja) * 2009-09-14 2011-03-24 Canon Inc インプリント装置及び物品の製造方法
KR101073976B1 (ko) 2009-06-29 2011-10-17 주식회사 프로텍 체적 감지형 디스펜서 제어 방법
CN103472682A (zh) * 2013-09-03 2013-12-25 南昌航空大学 基于掩模光刻技术和注塑成型制作衍射微光学元件的方法
KR101390246B1 (ko) * 2009-06-16 2014-04-30 캐논 가부시끼가이샤 임프린트 장치 및 물품의 제조 방법
KR20200107804A (ko) * 2019-03-08 2020-09-16 캐논 가부시끼가이샤 임프린트 장치의 제어 방법, 임프린트 장치, 및 물품 제조방법
JP2020173395A (ja) * 2019-04-12 2020-10-22 キヤノン株式会社 ステージ装置、リソグラフィ装置、および物品製造方法
US20220043338A1 (en) * 2020-08-07 2022-02-10 Canon Kabushiki Kaisha Imprint apparatus, imprint method, and method of manufacturing article
KR102390720B1 (ko) * 2015-10-08 2022-04-26 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이. 리소그래피 장치의 제어 방법 및 디바이스의 제조 방법, 리소그래피 장치를 위한 제어 시스템 및 리소그래피 장치

Patent Citations (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1096627C (zh) * 1999-09-10 2002-12-18 朱纪军 基于电子网板和丝网印刷的化合物微阵列芯片制备方法
KR100827741B1 (ko) 2000-07-17 2008-05-07 보드 오브 리전츠, 더 유니버시티 오브 텍사스 시스템 임프린트 리소그래피 공정을 위한 자동 유체 분배 방법 및시스템
JP2010282995A (ja) * 2009-06-02 2010-12-16 Toshiba Corp インプリントパターン形成方法
KR101390246B1 (ko) * 2009-06-16 2014-04-30 캐논 가부시끼가이샤 임프린트 장치 및 물품의 제조 방법
KR101073976B1 (ko) 2009-06-29 2011-10-17 주식회사 프로텍 체적 감지형 디스펜서 제어 방법
JP2011061165A (ja) * 2009-09-14 2011-03-24 Canon Inc インプリント装置及び物品の製造方法
CN103472682A (zh) * 2013-09-03 2013-12-25 南昌航空大学 基于掩模光刻技术和注塑成型制作衍射微光学元件的方法
KR102390720B1 (ko) * 2015-10-08 2022-04-26 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이. 리소그래피 장치의 제어 방법 및 디바이스의 제조 방법, 리소그래피 장치를 위한 제어 시스템 및 리소그래피 장치
KR20200107804A (ko) * 2019-03-08 2020-09-16 캐논 가부시끼가이샤 임프린트 장치의 제어 방법, 임프린트 장치, 및 물품 제조방법
JP2020173395A (ja) * 2019-04-12 2020-10-22 キヤノン株式会社 ステージ装置、リソグラフィ装置、および物品製造方法
US20220043338A1 (en) * 2020-08-07 2022-02-10 Canon Kabushiki Kaisha Imprint apparatus, imprint method, and method of manufacturing article

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI624349B (zh) 用於壓印裝置的調整方法、壓印方法、及物品製造方法
KR102099196B1 (ko) 액체 토출 장치, 임프린트 장치, 및 부품 제조 방법
KR101657485B1 (ko) 잉크젯 헤드의 토출 상태 검사 방법 및 잉크젯 헤드의 토출 상태 검사 장치
JP6537243B2 (ja) 液体吐出装置、液体吐出装置の制御方法、インプリント装置および部品の製造方法
KR101085845B1 (ko) 다이 코터의 도공방법 및 이 방법에 의해 제작된포토리소그래피용 펠리클
CN105700291A (zh) 压印装置、压印方法和制造物品的方法
KR102454787B1 (ko) 몰드 자동 교체형 나노 임프린팅 리소그래피 장치 및 그 방법
JP2016111367A (ja) 塗布装置、インプリント装置、および物品の製造方法
TW201337253A (zh) 用於測量玻璃表面之表面順應性的設備與方法
JP2021519226A (ja) 自動障害復旧および／または障害回避ユニットを有する積層造形装置およびシステム
JP6827713B2 (ja) 液体吐出装置、インプリント装置および部品の製造方法
JP6420571B2 (ja) インプリント装置、インプリント方法及び物品の製造方法
CN112420487A (zh) 清洗方法、半导体制造方法及其系统
JP2007256808A (ja) インクジェット装置及び吐出検査装置
JP2015028978A (ja) 異物検出方法、インプリント方法及びインプリントシステム
JP6299910B2 (ja) 異物検査方法、インプリント方法及び異物検査装置
JPS6323539B2 (ko)
US10022900B2 (en) Application device, imprinting apparatus, and method for manufacturing object
JP6643022B2 (ja) インプリント装置、インプリント方法、異物検出方法および物品製造方法
JP2017050482A (ja) インプリント装置、インプリント方法、および物品の製造方法
JP6668714B2 (ja) インプリント用モールドの離型性検査方法
WO2016052345A1 (ja) インプリント装置、インプリント方法およびインプリント装置の制御方法
CN105974731A (zh) 一种压印板、检测方法及检测装置
JP2021086936A (ja) 液体吐出装置、インプリント装置、および物品の製造方法
KR102474000B1 (ko) 나노 임프린팅을 위한 디스펜서 및 그 제조 방법

Legal Events

Date Code Title Description
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant