JP5538723B2 - 泡を含まない方法で溶融ガラスを輸送、均質化およびコンディショニングするための方法および装置 - Google Patents
泡を含まない方法で溶融ガラスを輸送、均質化およびコンディショニングするための方法および装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5538723B2 JP5538723B2 JP2008551698A JP2008551698A JP5538723B2 JP 5538723 B2 JP5538723 B2 JP 5538723B2 JP 2008551698 A JP2008551698 A JP 2008551698A JP 2008551698 A JP2008551698 A JP 2008551698A JP 5538723 B2 JP5538723 B2 JP 5538723B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- melt
- diffusion barrier
- barrier layer
- layer
- glass
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 71
- 230000003750 conditioning effect Effects 0.000 title claims abstract description 54
- 239000006060 molten glass Substances 0.000 title 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 claims abstract description 217
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 claims abstract description 178
- 239000000155 melt Substances 0.000 claims abstract description 178
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims abstract description 87
- 239000000156 glass melt Substances 0.000 claims abstract description 76
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims abstract description 73
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims abstract description 73
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 55
- 230000036961 partial effect Effects 0.000 claims abstract description 23
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims description 321
- 229910052741 iridium Inorganic materials 0.000 claims description 132
- GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N iridium atom Chemical compound [Ir] GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 132
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims description 63
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims description 63
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 62
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 claims description 43
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims description 37
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims description 27
- 230000002829 reductive effect Effects 0.000 claims description 22
- 238000007670 refining Methods 0.000 claims description 22
- 239000012530 fluid Substances 0.000 claims description 21
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 claims description 18
- 238000000265 homogenisation Methods 0.000 claims description 15
- 238000002844 melting Methods 0.000 claims description 15
- 230000008018 melting Effects 0.000 claims description 15
- 239000011819 refractory material Substances 0.000 claims description 13
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 239000011148 porous material Substances 0.000 claims description 9
- 230000007423 decrease Effects 0.000 claims description 8
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 claims description 5
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 239000001307 helium Substances 0.000 claims description 5
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 238000003723 Smelting Methods 0.000 claims description 4
- 230000008569 process Effects 0.000 abstract description 9
- 239000005304 optical glass Substances 0.000 abstract description 7
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical group [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 155
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 74
- 239000000463 material Substances 0.000 description 39
- 230000006870 function Effects 0.000 description 25
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 22
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 22
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 21
- 229910001260 Pt alloy Inorganic materials 0.000 description 19
- 230000035699 permeability Effects 0.000 description 19
- 229910000575 Ir alloy Inorganic materials 0.000 description 17
- 239000006260 foam Substances 0.000 description 17
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 14
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 14
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 12
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 12
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 12
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 12
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 12
- 229910000510 noble metal Inorganic materials 0.000 description 11
- 239000002241 glass-ceramic Substances 0.000 description 10
- 239000010948 rhodium Substances 0.000 description 10
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 230000001603 reducing effect Effects 0.000 description 9
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 7
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 7
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 7
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 7
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 6
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 6
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 description 6
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000011449 brick Substances 0.000 description 5
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 5
- 210000003205 muscle Anatomy 0.000 description 5
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 5
- 238000005240 physical vapour deposition Methods 0.000 description 5
- 239000000047 product Substances 0.000 description 5
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 5
- 239000003870 refractory metal Substances 0.000 description 5
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 5
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 5
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 5
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 5
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000005354 aluminosilicate glass Substances 0.000 description 4
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 description 4
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 4
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 238000010494 dissociation reaction Methods 0.000 description 4
- 230000005593 dissociations Effects 0.000 description 4
- 238000005538 encapsulation Methods 0.000 description 4
- CJNBYAVZURUTKZ-UHFFFAOYSA-N hafnium(iv) oxide Chemical compound O=[Hf]=O CJNBYAVZURUTKZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000002401 inhibitory effect Effects 0.000 description 4
- 229910001092 metal group alloy Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 4
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000000523 sample Substances 0.000 description 4
- 239000005368 silicate glass Substances 0.000 description 4
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 4
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 4
- 239000003570 air Substances 0.000 description 3
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 3
- 239000005388 borosilicate glass Substances 0.000 description 3
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 3
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 3
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 3
- 229910052735 hafnium Inorganic materials 0.000 description 3
- VBJZVLUMGGDVMO-UHFFFAOYSA-N hafnium atom Chemical compound [Hf] VBJZVLUMGGDVMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 3
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 3
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 3
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010955 niobium Substances 0.000 description 3
- GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N niobium atom Chemical compound [Nb] GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 3
- -1 oxygen ions Chemical class 0.000 description 3
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 3
- 230000009993 protective function Effects 0.000 description 3
- 239000011214 refractory ceramic Substances 0.000 description 3
- 229910052702 rhenium Inorganic materials 0.000 description 3
- WUAPFZMCVAUBPE-UHFFFAOYSA-N rhenium atom Chemical compound [Re] WUAPFZMCVAUBPE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N rhodium atom Chemical compound [Rh] MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 3
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 3
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum atom Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000008646 thermal stress Effects 0.000 description 3
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 description 3
- LEONUFNNVUYDNQ-UHFFFAOYSA-N vanadium atom Chemical group [V] LEONUFNNVUYDNQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N Ruthenium Chemical compound [Ru] KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WGLPBDUCMAPZCE-UHFFFAOYSA-N Trioxochromium Chemical compound O=[Cr](=O)=O WGLPBDUCMAPZCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000013019 agitation Methods 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 description 2
- WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N antimony atom Chemical compound [Sb] WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052785 arsenic Inorganic materials 0.000 description 2
- RQNWIZPPADIBDY-UHFFFAOYSA-N arsenic atom Chemical compound [As] RQNWIZPPADIBDY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BRPQOXSCLDDYGP-UHFFFAOYSA-N calcium oxide Chemical compound [O-2].[Ca+2] BRPQOXSCLDDYGP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ODINCKMPIJJUCX-UHFFFAOYSA-N calcium oxide Inorganic materials [Ca]=O ODINCKMPIJJUCX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000292 calcium oxide Substances 0.000 description 2
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 2
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 2
- 229910000420 cerium oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910000423 chromium oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 2
- 238000006731 degradation reaction Methods 0.000 description 2
- KZHJGOXRZJKJNY-UHFFFAOYSA-N dioxosilane;oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Si]=O.O=[Si]=O.O=[Al]O[Al]=O.O=[Al]O[Al]=O.O=[Al]O[Al]=O KZHJGOXRZJKJNY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 2
- 230000005670 electromagnetic radiation Effects 0.000 description 2
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 description 2
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 2
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 2
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 2
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 2
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 2
- 238000007733 ion plating Methods 0.000 description 2
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052746 lanthanum Inorganic materials 0.000 description 2
- FZLIPJUXYLNCLC-UHFFFAOYSA-N lanthanum atom Chemical compound [La] FZLIPJUXYLNCLC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N magnesium oxide Inorganic materials [Mg]=O CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000395 magnesium oxide Substances 0.000 description 2
- AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N magnesium;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[Mg+2] AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 2
- 239000012778 molding material Substances 0.000 description 2
- 239000004570 mortar (masonry) Substances 0.000 description 2
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 2
- 229910052863 mullite Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 2
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoceriooxy)cerium Chemical compound [Ce]=O.O=[Ce]=O BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 2
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 2
- 239000010970 precious metal Substances 0.000 description 2
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 2
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 2
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 2
- 230000002441 reversible effect Effects 0.000 description 2
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 2
- 239000011029 spinel Substances 0.000 description 2
- 229910052596 spinel Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000007480 spreading Effects 0.000 description 2
- 238000003892 spreading Methods 0.000 description 2
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 2
- 238000005979 thermal decomposition reaction Methods 0.000 description 2
- 238000007751 thermal spraying Methods 0.000 description 2
- 230000000930 thermomechanical effect Effects 0.000 description 2
- ZCUFMDLYAMJYST-UHFFFAOYSA-N thorium dioxide Chemical compound O=[Th]=O ZCUFMDLYAMJYST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052727 yttrium Inorganic materials 0.000 description 2
- VWQVUPCCIRVNHF-UHFFFAOYSA-N yttrium atom Chemical compound [Y] VWQVUPCCIRVNHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910001928 zirconium oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052684 Cerium Inorganic materials 0.000 description 1
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052693 Europium Inorganic materials 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 239000005407 aluminoborosilicate glass Substances 0.000 description 1
- 239000012080 ambient air Substances 0.000 description 1
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- 238000007664 blowing Methods 0.000 description 1
- 239000013590 bulk material Substances 0.000 description 1
- GWXLDORMOJMVQZ-UHFFFAOYSA-N cerium Chemical compound [Ce] GWXLDORMOJMVQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 1
- 238000004040 coloring Methods 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 230000001276 controlling effect Effects 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 238000010411 cooking Methods 0.000 description 1
- 230000006378 damage Effects 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 238000002845 discoloration Methods 0.000 description 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
- 239000003814 drug Substances 0.000 description 1
- 238000005485 electric heating Methods 0.000 description 1
- OGPBJKLSAFTDLK-UHFFFAOYSA-N europium atom Chemical compound [Eu] OGPBJKLSAFTDLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004299 exfoliation Methods 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 239000012467 final product Substances 0.000 description 1
- 239000005357 flat glass Substances 0.000 description 1
- 239000005350 fused silica glass Substances 0.000 description 1
- 230000036541 health Effects 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 230000006698 induction Effects 0.000 description 1
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 1
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 1
- 230000002452 interceptive effect Effects 0.000 description 1
- 238000011835 investigation Methods 0.000 description 1
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 1
- 229910021645 metal ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 description 1
- 238000007750 plasma spraying Methods 0.000 description 1
- 230000001737 promoting effect Effects 0.000 description 1
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 1
- 230000008439 repair process Effects 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 1
- 230000035882 stress Effects 0.000 description 1
- 230000001629 suppression Effects 0.000 description 1
- 229910052714 tellurium Inorganic materials 0.000 description 1
- PORWMNRCUJJQNO-UHFFFAOYSA-N tellurium atom Chemical compound [Te] PORWMNRCUJJQNO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003053 toxin Substances 0.000 description 1
- 231100000765 toxin Toxicity 0.000 description 1
- 108700012359 toxins Proteins 0.000 description 1
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 1
- 238000011179 visual inspection Methods 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B5/00—Melting in furnaces; Furnaces so far as specially adapted for glass manufacture
- C03B5/16—Special features of the melting process; Auxiliary means specially adapted for glass-melting furnaces
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B5/00—Melting in furnaces; Furnaces so far as specially adapted for glass manufacture
- C03B5/16—Special features of the melting process; Auxiliary means specially adapted for glass-melting furnaces
- C03B5/42—Details of construction of furnace walls, e.g. to prevent corrosion; Use of materials for furnace walls
- C03B5/43—Use of materials for furnace walls, e.g. fire-bricks
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B5/00—Melting in furnaces; Furnaces so far as specially adapted for glass manufacture
- C03B5/16—Special features of the melting process; Auxiliary means specially adapted for glass-melting furnaces
- C03B5/167—Means for preventing damage to equipment, e.g. by molten glass, hot gases, batches
- C03B5/1672—Use of materials therefor
- C03B5/1675—Platinum group metals
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Manufacture And Refinement Of Metals (AREA)
- Glass Compositions (AREA)
- Glass Melting And Manufacturing (AREA)
Description
A1の概略の詳細図をそれぞれ示す。区域A1は、均質化装置6の壁8の区域として示されるが、壁8、溶融ルツボ2の底または蓋、第1チャネル3、精錬槽4、第2チャネル5、撹拌機7、コンディショニング装置12および/または個々の装置間の連結部品(ここには示されていない)は、そのように構成されうる。
1a 溶融体表面
1b 溶融体流れ
2 溶融ルツボ
3 第1チャネル
4 精錬槽
5 第2チャネル
6 均質化装置
7 撹拌機
7a イリジウム含有区域
7b ジャケット
7c 芯部
8 壁
8a 溶融体接触表面
9 拡散障壁層
9a 溶融体に面している側
9b 溶融体に面していない側
9c イリジウム含有(壁)区域
9d 低イリジウム(壁)区域
9e イリジウムなし(壁)区域
10 担体層
11 保護層
12 コンディショニング装置
13 コイルシステム
14 溶融体表面1aと壁8との間の空間
15 カプセル化
15a 画定された雰囲気
16 流体カーテン
17 配管系
18 ノズル
19 多孔質材料
30 水分子
31 酸素原子
32 水素原子
33 内部
34 外部
35 イリジウム含有壁
36 白金壁
A1 図2からの壁8の区域
Claims (33)
- ガラス溶融体(1)を輸送、均質化および/またはコンディショニングするための方法であって、
輸送装置および/または均質化装置(6)および/またはコンディショニング装置(12)におけるガラス溶融体の滞留時間が少なくともガラス溶融体(1)の流速によって調節され、輸送装置および/または均質化装置(6)および/またはコンディショニング装置(12)の壁(8)の少なくとも1つの、イリジウム含有拡散障壁層(9)を備えた、区域を用いることによって、輸送装置および/または均質化装置(6)および/またはコンディショニング装置(12)における700℃から1700℃の温度でのガラス溶融体(1)の滞留時間が、壁(8)を通り抜ける水素の拡散が少なくとも低減され、ガラス溶融体1における酸素分圧が、1バール未満の値を有するように調節されることを特徴とする方法。 - 拡散障壁層(9)が、10〜100重量%のイリジウム含有量を備えていることを特徴とする、請求項1に記載の方法。
- 拡散障壁層(9)が、拡散障壁層(9)の溶融体に面している側(9a)から出発して、溶融体に面していない拡散障壁層(9)の側(9b)の方向に、特に徐々に減少するイリジウムの含有量を備えていることを特徴とする、請求項1に記載の方法。
- 拡散障壁層(9)が、拡散障壁層(9)の溶融体に面している側(9a)から出発して、溶融体に面していない拡散障壁層(9)の側(9b)の方向に、特に徐々に増加するイリジウム含有量を備えていることを特徴とする、請求項1に記載の方法。
- 輸送装置および/または均質化装置(6)および/またはコンディショニング装置(12)の壁(8)が、拡散障壁層(9)により形成されることを特徴とする、請求項1に記載の方法。
- 壁(8)が、個々の層の配置により形成されることを特徴とする、請求項1に記載の方法。
- 壁(8)が、少なくとも1つの担体層(10)を備えていることを特徴とする、請求項6に記載の方法。
- 担体層(10)が、拡散障壁層(9)により形成されることを特徴とする、請求項7に記載の方法。
- 担体層(10)が、少なくとも1種の耐火材料により形成されることを特徴とする、請求項7に記載の方法。
- 拡散障壁層(9)が、担体層(10)の上に与えられることを特徴とする、請求項7に記載の方法。
- 壁(8)が、少なくとも1つの保護層(11)を備えていることを特徴とする、請求項7に記載の方法。
- 保護層(11)が、少なくとも1種の耐火材料により形成されることを特徴とする、請求項11に記載の方法。
- 画定された雰囲気(15a)が、少なくとも拡散障壁層(9)の領域において供給されることを特徴とする、請求項1に記載の方法。
- 画定された雰囲気(15a)が、窒素、アルゴンおよび/またはヘリウム気体を用いて製造されることを特徴とする、請求項13に記載の方法。
- 画定された雰囲気(15a)が、ガスカーテン(16)を用いて供給されることを特徴とする、請求項14に記載の方法。
- 前記流体が、配管システム(17)および/または多孔質材料(19)の中を運ばれることを特徴とする、請求項14に記載の方法。
- ガラスを製造するための装置が、
バッチを溶融するための溶融ルツボ(2)、
ガラス溶融体(1)を精錬するための装置(4)、および
輸送(5)および/または均質化(6)および/またはコンディショニング(12)するための装置からなり、
輸送装置、均質化装置(6)および/またはコンディショニング装置(12)の壁(8)の少なくとも1つの区域が、水素の拡散を低減させるイリジウム含有拡散障壁層(9)を有し、
輸送および/または均質化および/またはコンディショニングするための前記装置におけるガラス溶融体(1)の滞留時間が、壁(8)を通り抜ける水素の拡散が少なくとも低減され、ガラス溶融体(1)における酸素分圧が1バール未満の値を有し、かつ精錬後の泡の新たな形成を減少させるように、調節される、
ここで、拡散障壁層(9)は、拡散障壁層の溶融体に面している側(9a)から、拡散障壁層の溶融体に面していない側(9b)の方向に増加するイリジウム含有量を備えている、
または、拡散障壁層(9)は、拡散障壁層の溶融体に面している側(9a)から、拡散障壁層の溶融体に面していない側(9b)の方向に減少するイリジウム含有量を有するように提供される
ことを特徴とする装置。 - 拡散障壁層(9)が、10〜100重量%のイリジウム含有量を有することを特徴とする、請求項17に記載の装置。
- 拡散障壁層(9)が、拡散障壁層(9)の溶融体に面している側(9a)から出発して、溶融体に面していない拡散障壁層(9)の側(9b)の方向に、徐々に減少するイリジウムの含有量を有することを特徴とする、請求項17に記載の装置。
- 拡散障壁層(9)が、拡散障壁層(9)の溶融体に面している側(9a)から出発して、溶融体に面していない拡散障壁層(9)の側(9b)の方向に、徐々に増加するイリジウム含有量を備えていることを特徴とする、請求項17に記載の装置。
- 壁(8)が、拡散障壁層(9)により形成されることを特徴とする、請求項17に記載の装置。
- 壁(8)が、個々の層の配置により形成されることを特徴とする、請求項17に記載の装置。
- 壁(8)が、少なくとも1つの担体層(10)を有することを特徴とする、請求項22に記載の装置。
- 担体層(10)が、拡散障壁層(9)を含むことを特徴とする、請求項23に記載の装置。
- 担体層(10)が、少なくとも1種の耐火材料を有することを特徴とする、請求項23に記載の装置。
- 拡散障壁層(9)が、担体層(10)の上に配置されることを特徴とする、請求項24に記載の装置。
- 壁(8)が、少なくとも1つの保護層(11)を有することを特徴とする、請求項22に記載の装置。
- 保護層(11)が、少なくとも1種の耐火材料により形成されることを特徴とする、請求項27に記載の装置。
- 拡散障壁層(9)が、画定された雰囲気(15a)中に配置されることを特徴とする、請求項17に記載の装置。
- 画定された雰囲気(15a)が、窒素、アルゴンおよび/またはヘリウム気体を含むことを特徴とする、請求項29に記載の装置。
- 画定された雰囲気(15a)が、ガスカーテン(16)を含むことを特徴とする、請求項30に記載の装置。
- 前記流体が、配管システム(17)および/または多孔質材料(19)の中を運ばれることを特徴とする、請求項30に記載の装置。
- 輸送装置および/または均質化装置(6)および/またはコンディショニング装置(12)におけるガラス溶融体(1)の滞留時間が、ガラス溶融体における酸素分圧が、1バール未満の値を有するように調節される、ガラス溶融体(1)を輸送、均質化および/またはコンディショニングするための装置および/または方法において、拡散障壁層(9)は、拡散障壁層の溶融体に面している側(9a)から、拡散障壁層の溶融体に面していない側(9b)の方向に徐々に増加するイリジウム含有量を備えていることを特徴とする、壁(8)の少なくとも1つの区域の拡散障壁層(9)の少なくとも1種の成分としてのイリジウムの使用。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE102006003531.3 | 2006-01-24 | ||
DE102006003531A DE102006003531A1 (de) | 2006-01-24 | 2006-01-24 | Verfahren und Vorrichtung zum blasenfreien Transportieren, Homogenisieren und Konditionieren von geschmolzenem Glas |
PCT/EP2007/000407 WO2007085374A1 (de) | 2006-01-24 | 2007-01-18 | Verfahren und vorrichtung zum blasenfreien transportieren, homogenisieren und konditionieren von geschmolzenem glas |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2009523696A JP2009523696A (ja) | 2009-06-25 |
JP2009523696A5 JP2009523696A5 (ja) | 2010-01-21 |
JP5538723B2 true JP5538723B2 (ja) | 2014-07-02 |
Family
ID=37903557
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008551698A Expired - Fee Related JP5538723B2 (ja) | 2006-01-24 | 2007-01-18 | 泡を含まない方法で溶融ガラスを輸送、均質化およびコンディショニングするための方法および装置 |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20090165500A1 (ja) |
EP (2) | EP2184264B1 (ja) |
JP (1) | JP5538723B2 (ja) |
KR (2) | KR101474957B1 (ja) |
AT (1) | ATE461155T1 (ja) |
DE (2) | DE102006003531A1 (ja) |
WO (1) | WO2007085374A1 (ja) |
Families Citing this family (19)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8256951B2 (en) | 2006-12-21 | 2012-09-04 | Corning Incorporated | Stirrers for minimizing erosion of refractory metal vessels in a glass making system |
JP5326329B2 (ja) * | 2008-04-03 | 2013-10-30 | 旭硝子株式会社 | 白金構造体およびその製造方法 |
DE102009000785B4 (de) * | 2009-02-11 | 2015-04-02 | Schott Ag | Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung von Glas |
JP2011037244A (ja) * | 2009-08-18 | 2011-02-24 | Furuya Kinzoku:Kk | 複合構造体及びその製造方法 |
DE102010053992B4 (de) * | 2010-12-09 | 2016-09-22 | Schott Ag | Verfahren zur Herstellung von Zinn-haltigen Gläsern |
JP5796731B2 (ja) * | 2011-03-02 | 2015-10-21 | 日本電気硝子株式会社 | ガラス物品製造装置及びガラス物品製造方法 |
DE102011105145B4 (de) | 2011-06-09 | 2013-06-27 | Schott Ag | Vorrichtung zum Transportieren, Homogenisieren und/oder Konditionieren einer anorganischen nichtmetallischen Schmelze, Verfahren zur Herstellung eines Glases und/oder einer Glaskeramik sowie Verfahren zur Herstellung einer Sicke in Iridiumblech |
FR2978140B1 (fr) * | 2011-07-20 | 2013-07-05 | Saint Gobain Ct Recherches | Canal d'alimentation de verre en fusion |
JP6533221B2 (ja) * | 2013-10-18 | 2019-06-19 | コーニング インコーポレイテッド | ガラス製造装置および方法 |
CN105683099B (zh) * | 2013-10-23 | 2017-09-26 | 旭硝子株式会社 | 玻璃熔融物用导管、玻璃熔融物用容器、其制造方法、玻璃物品制造装置及玻璃物品制造方法 |
JP6275533B2 (ja) * | 2014-04-11 | 2018-02-07 | 株式会社フルヤ金属 | ガラス溶解用スターラー及びガラス溶解炉 |
JP6489414B2 (ja) * | 2014-12-16 | 2019-03-27 | 日本電気硝子株式会社 | ガラスの製造方法 |
JP6051239B2 (ja) * | 2015-01-27 | 2016-12-27 | 株式会社フルヤ金属 | ガラス製造装置の成形部 |
JP5936724B2 (ja) * | 2015-01-27 | 2016-06-22 | 株式会社フルヤ金属 | ガラス製造装置の成形部 |
JP2016179925A (ja) * | 2015-03-24 | 2016-10-13 | 旭硝子株式会社 | ガラス製造用の白金構造体、ガラス製造装置、およびガラスの製造方法 |
DE102016109974A1 (de) * | 2016-05-31 | 2017-11-30 | Schott Ag | Verfahren zur Herstellung eines Glasproduktes sowie verfahrensgemäß erhaltenes Glasprodukt |
KR102307128B1 (ko) * | 2016-12-22 | 2021-09-30 | 니폰 덴키 가라스 가부시키가이샤 | 교반 스터러 및 유리판의 제조 방법 |
KR102522821B1 (ko) * | 2017-09-04 | 2023-04-18 | 니폰 덴키 가라스 가부시키가이샤 | 유리 물품의 제조 방법 및 제조 장치 |
US11760678B2 (en) * | 2018-04-20 | 2023-09-19 | Corning Incorporated | Apparatus and method for controlling an oxygen containing atmosphere in a glass manufacturing process |
Family Cites Families (29)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB1222248A (en) | 1968-03-11 | 1971-02-10 | Pilkington Brothers Ltd | Improvements in or relating to containers for molten glass |
US3871853A (en) * | 1971-09-01 | 1975-03-18 | Owens Illinois Inc | Method of melting glass in a platinum container in a controlled atmosphere |
US3918965A (en) | 1974-04-26 | 1975-11-11 | Us Energy | Iridium-hafnium alloy |
US3970450A (en) | 1975-07-16 | 1976-07-20 | The United States Of America As Represented By The United States Energy Research And Development Administration | Modified iridium-tungsten alloy |
US4253872A (en) | 1977-02-16 | 1981-03-03 | The United States Of America As Represented By The United States Department Of Energy | Thorium doped iridium alloy for radioisotope heat sources |
US4444728A (en) | 1982-01-21 | 1984-04-24 | Engelhard Corporation | Iridium-rhenium crucible |
JPH01219028A (ja) * | 1988-02-29 | 1989-09-01 | Hoya Corp | ガラスの溶融方法 |
JPH0222132A (ja) * | 1988-07-07 | 1990-01-25 | Furuya Kinzoku:Kk | 高品位ガラスの溶解装置 |
US5080862A (en) | 1990-04-25 | 1992-01-14 | General Electric Company | Iridium silicon alloy |
US6071470A (en) | 1995-03-15 | 2000-06-06 | National Research Institute For Metals | Refractory superalloys |
JP3135224B2 (ja) | 1996-05-10 | 2001-02-13 | 株式会社フルヤ金属 | イリジウム基合金 |
US5785726A (en) * | 1996-10-28 | 1998-07-28 | Corning Incorporated | Method of reducing bubbles at the vessel/glass interface in a glass manufacturing system |
UA28129C2 (uk) | 1998-10-05 | 2000-10-16 | Товариство З Обмеженою Відповідальністю "Нікос-Еко" | Матеріал для катода електронних приладів |
DE10032596C2 (de) * | 1999-07-10 | 2003-07-17 | Schott Rohrglas Gmbh | Glasschmelze führender Kanal |
DE19955827B4 (de) * | 1999-11-20 | 2005-03-31 | Schott Ag | Verfahren zur Unterdrückung der Bildung von O2-Gasblasen an der Kontaktfläche zwischen einer Glasschmelze und Edelmetall |
DE10003948B4 (de) * | 2000-01-29 | 2006-03-23 | Schott Ag | Verfahren zum Erschmelzen, Läutern und Homogenisieren von Glasschmelzen |
JP3611511B2 (ja) * | 2000-09-27 | 2005-01-19 | 三菱電機株式会社 | マトリクス型表示装置及び画像データ表示方法並びに携帯情報端末装置 |
WO2002044115A2 (de) * | 2000-11-30 | 2002-06-06 | Schott Glas | Beschichtetes metallteil in der glasherstellung |
JP4646395B2 (ja) * | 2000-12-19 | 2011-03-09 | 株式会社フルヤ金属 | ガラス溶融処理用金属材料及びその製造方法 |
DE10141585C2 (de) * | 2001-08-24 | 2003-10-02 | Schott Glas | Edelmetallrohr zum Führen einer Glasschmelze |
DE10231847B4 (de) * | 2002-07-12 | 2006-04-13 | Schott Ag | Verfahren zum Erzeugen einer blasenarmen oder blasenfreien Glasschmelze |
GB0216323D0 (en) | 2002-07-13 | 2002-08-21 | Johnson Matthey Plc | Alloy |
US7032412B2 (en) * | 2003-03-13 | 2006-04-25 | Corning Incorporated | Methods of manufacturing glass sheets with reduced blisters |
US20050022560A1 (en) * | 2003-07-03 | 2005-02-03 | Engelhard Corporation | Tank for melting solder glass |
DE10362074B4 (de) * | 2003-10-14 | 2007-12-06 | Schott Ag | Hochschmelzendes Glas oder Glaskeramik sowie der Verwendung |
JP2006076871A (ja) * | 2003-12-26 | 2006-03-23 | Nippon Electric Glass Co Ltd | 硼珪酸板ガラス物品の製造装置、製造方法及び硼珪酸板ガラス物品 |
US20060242996A1 (en) * | 2005-04-27 | 2006-11-02 | Gilbert Deangelis | System and method for controlling the environment around one or more vessels in a glass manufacturing system |
US7584632B2 (en) * | 2005-07-28 | 2009-09-08 | Corning Incorporated | Method of increasing the effectiveness of a fining agent in a glass melt |
JP2008022132A (ja) | 2006-07-11 | 2008-01-31 | Pioneer Electronic Corp | 画像表示装置、画像表示方法、画像表示プログラムおよびコンピュータに読み取り可能な記録媒体 |
-
2006
- 2006-01-24 DE DE102006003531A patent/DE102006003531A1/de not_active Ceased
-
2007
- 2007-01-18 KR KR1020137032549A patent/KR101474957B1/ko active IP Right Grant
- 2007-01-18 US US12/161,903 patent/US20090165500A1/en not_active Abandoned
- 2007-01-18 JP JP2008551698A patent/JP5538723B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2007-01-18 WO PCT/EP2007/000407 patent/WO2007085374A1/de active Application Filing
- 2007-01-18 AT AT07702855T patent/ATE461155T1/de active
- 2007-01-18 EP EP10002098.1A patent/EP2184264B1/de not_active Not-in-force
- 2007-01-18 DE DE502007003137T patent/DE502007003137D1/de active Active
- 2007-01-18 EP EP07702855A patent/EP1979275B1/de not_active Not-in-force
- 2007-01-18 KR KR1020087020301A patent/KR101371575B1/ko active IP Right Grant
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP1979275B1 (de) | 2010-03-17 |
ATE461155T1 (de) | 2010-04-15 |
KR101371575B1 (ko) | 2014-03-07 |
WO2007085374A1 (de) | 2007-08-02 |
KR20140002088A (ko) | 2014-01-07 |
JP2009523696A (ja) | 2009-06-25 |
DE502007003137D1 (de) | 2010-04-29 |
KR20080096558A (ko) | 2008-10-30 |
DE102006003531A1 (de) | 2007-08-02 |
EP1979275A1 (de) | 2008-10-15 |
EP2184264A1 (de) | 2010-05-12 |
KR101474957B1 (ko) | 2014-12-22 |
US20090165500A1 (en) | 2009-07-02 |
EP2184264B1 (de) | 2018-10-31 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5538723B2 (ja) | 泡を含まない方法で溶融ガラスを輸送、均質化およびコンディショニングするための方法および装置 | |
KR101538747B1 (ko) | 고순도 요건의 유리의 연속 청징 장치 및 방법 | |
TWI601702B (zh) | 用於熔融玻璃中抑制氣泡之整體容器 | |
JP2006522001A (ja) | 膨れの減少したガラスシートの製造方法 | |
JP2017100941A (ja) | ガラスの清澄化方法およびシステム | |
US11505487B2 (en) | Method for decreasing bubble lifetime on a glass melt surface | |
JP5763538B2 (ja) | ガラス板を製造するための方法および装置 | |
JPH0435425B2 (ja) | ||
US20050109062A1 (en) | Device and method for the production of high-melting glass materials or glass ceramic materials or glass material or glass ceramic material | |
GB2450588A (en) | Apparatus for production of high-melting glass materials having an iridium outlet | |
JP2012046415A (ja) | ガラス製作装置用の白金具有構成要素の炭素汚染除去方法 | |
JP2008266092A (ja) | ガラス製造装置および製造方法 | |
KR20160016681A (ko) | 유리 기판의 제조 방법 및 유리 기판의 제조 장치 | |
WO2010041305A1 (ja) | ガラス製造装置および製造方法 | |
KR102386231B1 (ko) | 용융 유리 교반 챔버 | |
US20230120775A1 (en) | Apparatus and method for reducing defects in glass melt systems | |
KR102205156B1 (ko) | 유리 용융물용 도관, 유리 용융물용 용기, 그들의 제조 방법, 유리 물품 제조 장치 및 유리 물품 제조 방법 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20091125 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20091125 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20121101 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20130201 |
|
A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20130208 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20130501 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20130521 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20130801 |
|
A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20130808 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20131119 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20131217 |
|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20140227 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20140317 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20140403 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5538723 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20140430 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |